WO2004106853A1 - Anordnung und ein verfahren zur erkennung von schichten, die auf oberflächen von bauteilen angeordnet sind, und bestimmung deren eigenschaften - Google Patents

Anordnung und ein verfahren zur erkennung von schichten, die auf oberflächen von bauteilen angeordnet sind, und bestimmung deren eigenschaften Download PDF

Info

Publication number
WO2004106853A1
WO2004106853A1 PCT/EP2004/005446 EP2004005446W WO2004106853A1 WO 2004106853 A1 WO2004106853 A1 WO 2004106853A1 EP 2004005446 W EP2004005446 W EP 2004005446W WO 2004106853 A1 WO2004106853 A1 WO 2004106853A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
layer
examined
detector unit
detector
imaging
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/EP2004/005446
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Manfred Fritsch
Nico Correns
Felix Kerstan
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jenoptik AG
Carl Zeiss Jena GmbH
Original Assignee
VEB Carl Zeiss Jena GmbH
Carl Zeiss Jena GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by VEB Carl Zeiss Jena GmbH, Carl Zeiss Jena GmbH filed Critical VEB Carl Zeiss Jena GmbH
Priority to JP2006508185A priority Critical patent/JP2006526769A/ja
Priority to US10/559,175 priority patent/US7502108B2/en
Priority to EP04734224A priority patent/EP1629254A1/de
Publication of WO2004106853A1 publication Critical patent/WO2004106853A1/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Ceased legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/30—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces
    • G01B11/306—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces for measuring evenness
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
    • G01B11/06—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
    • G01B11/0616—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/02—Details
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/02—Details
    • G01J3/0205—Optical elements not provided otherwise, e.g. optical manifolds, diffusers, windows
    • G01J3/0208—Optical elements not provided otherwise, e.g. optical manifolds, diffusers, windows using focussing or collimating elements, e.g. lenses or mirrors; performing aberration correction
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/02—Details
    • G01J3/0205—Optical elements not provided otherwise, e.g. optical manifolds, diffusers, windows
    • G01J3/024—Optical elements not provided otherwise, e.g. optical manifolds, diffusers, windows using means for illuminating a slit efficiently (e.g. entrance slit of a spectrometer or entrance face of fiber)
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/02—Details
    • G01J3/0262—Constructional arrangements for removing stray light
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/28—Investigating the spectrum
    • G01J3/2803—Investigating the spectrum using photoelectric array detector
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/8422—Investigating thin films, e.g. matrix isolation method
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/94—Investigating contamination, e.g. dust
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/02—Details
    • G01J3/04—Slit arrangements slit adjustment
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/8422—Investigating thin films, e.g. matrix isolation method
    • G01N2021/8427—Coatings
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/94—Investigating contamination, e.g. dust
    • G01N2021/945—Liquid or solid deposits of macroscopic size on surfaces, e.g. drops, films, or clustered contaminants
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N21/958—Inspecting transparent materials or objects, e.g. windscreens
    • G01N2021/9586—Windscreens

Definitions

  • the invention relates to an arrangement and a method for recognizing layers which are arranged on surfaces of components, and determining their properties, in particular water, ice and dirt layers on surfaces, preferably in the case of components of vehicles. Above all, the chemical properties and the surface properties of the layers, in particular the roughness, are to be determined.
  • these layers are usually irradiated or irradiated with optical radiation and the radiation reflected or transmitted by these layers is measured and evaluated in different spectral ranges. These measurements can then be used to infer the presence of layers and, if such layers are present, their properties, in particular also their chemical properties, can be determined.
  • DE 199 27 015 A1 discloses a method and a device for determining the thickness and growth rate of an ice layer on components of aircraft, in which the layer on the component surface before falling radiation is broken down into wavelength ranges by a holographic grating connected to a photoelectric line receiver and the measured radiation is compared with the line receiver with a stored reflection curve of the component surface without coating.
  • the growth rate of such a layer can also be determined in several temporally staggered measuring intervals.
  • a disadvantage of this method is the fact that the mechanical appearance of these layers cannot be distinguished. Only total thickness or concentration are determined. In particular, layers of ice, snow or hoarfrost cannot be distinguished spectroscopically or only with great effort. The roughness of a layer cannot be determined in this way.
  • a spectrometer with a two-dimensional detector is known from FR 2 810 732 AI.
  • the signal of several, one of which is perpendicular to the dispersion direction of the spectrometer, is Chen wavelength associated detector elements added.
  • the spectrum obtained is evaluated.
  • CCD or CMOS elements are provided as detector elements.
  • the object of the invention is to create an arrangement and a method for recognizing layers and determining their properties on components, with which, in addition to the thickness and the chemical composition, the surface shape of such layers with a little can also be achieved in a simple manner complex detector can be determined.
  • the detector arrangement consists of detector elements arranged in a matrix. These can advantageously be CCD or CMOS elements.
  • the particular feature of the arrangement according to the invention and of the method carried out with it in contrast to the state of the art, is that the entrance slit is not completely illuminated by the light scattered or reflected by the layer, in particular by its surface. Thus, if there is no layer or a layer with a smooth surface on the component in question, only a relatively small part of the entrance slit is illuminated.
  • the mapping of the gap through the imaging grid onto the flat, two-dimensionally resolved Transmitting detector arrangement creates a spectrum in the form of a narrow strip.
  • the light that is no longer reflected or scattered at it will illuminate a more or less large area of the entrance slit depending on the degree of roughness, which is imaged by the imaging grating on the two-dimensionally resolving detector arrangement.
  • the spectrum is created there in the form of a broad strip. From the signals supplied by the areally arranged detector elements, u. a. the roughness of the examined layer can be determined.
  • the wavelength-dependent imaging of the illuminated part of the entrance slit takes place, in particular, by means of an imaging hologitter on the detector elements of the detector unit such that, depending on the roughness of the surface to be examined, a more or less wide area of the detector unit is irradiated.
  • the holographic grating also spectrally decomposes the light influenced by the layer.
  • the evaluation of the signals of the exposed detector elements and the determination and output of measured values relating to the properties of the layer under investigation are carried out in an evaluation unit.
  • measured values for the roughness of the layer surface are determined from the width of the exposed area of the detector unit. From the spectral distribution z. B. the chemical composition of the layer can be determined.
  • the invention will be explained in more detail below using an exemplary embodiment. In the drawing show in
  • Fig. 2 simplifies an arrangement according to the invention
  • Incident light illumination of the layer and Fig. 3 an arrangement, which on a transparent
  • Disc is arranged.
  • the arrangement shown in FIG. 1 for the detection of layers and the determination of their properties on surfaces, in particular water, ice and dirt layers on objects and components of vehicles basically represents a spectrometer.
  • This arrangement comprises a housing 1, in which to illuminate an object or object 2, for example on a transparent or non-transparent object.
  • the light source 4 is collimated with the optical element 5 ', that is, imaged to infinity.
  • the other optical link 5 "then focuses the beam path onto the entrance slit 7. Both lenses and mirrors can be provided as optical links 5 'and 5".
  • a flat detector unit 8 which is composed of matrix-like detector elements 9, for example CCD or CMOS elements, an imaging grating 10, e.g. B. a holographic grid, also arranged in the housing 1.
  • the detector unit 8 is connected to an evaluation unit 11 such that the signals of each individual detector element 9 can be processed in this unit 11.
  • the layer 3 to be examined is illuminated through the object 2 carrying it.
  • 1 shielding elements 13 are arranged within the housing.
  • the arrangement shown in simplified form in FIG. 2 has the same components and assemblies as the arrangement according to FIG. 1. The same reference numerals are also used for elements with the same function.
  • a layer 14 located on the object 2 is illuminated in incident light. The light reflected from the surface 14 'is directed to the entrance slit 7 as in the arrangement according to FIG. 1 and is imaged onto the detector unit 8 by a holographic grating (not shown in FIG. 2 for the sake of simplicity).
  • the signals of the detector elements (pixels) 9 belonging to a wavelength ⁇ are added as usual.
  • the width and position of the spectra strips on the detector unit 8 are additionally calculated, e.g. B. by adding the signal values of all detector elements 9 in the dispersion direction. Then the width and position (position) of the center of gravity are calculated transversely to Dispersion direction and thus the determination of values for the roughness of the surface 3 'or 14' of the layer 3 or 14 to be examined.
  • the output signals of each individual detector element 9 are fed to the evaluation unit 11, and by adding the signal values belonging to a wavelength ⁇ in the direction of dispersion, the chemical composition and the thickness of the layer 3 'or 14' are obtained according to known methods.
  • a narrow distribution of this sum is a characteristic of a smooth layer surface and a broad distribution of the sum characterizes the measure for a rough surface.
  • the position of the layer 3 to be examined ie the actual measurement object, can also be determined from the position and position of the strip imaged on the detector unit 8.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Abstract

Die Erfindung betrifft eine Anordnung zur Erkennung von Schichten (3; 14), die auf Oberflächen von Bauteilen bzw. Gegenständen (2) angeordnet sind, und Bestimmung der chemischen Eigenschaften und der Oberflächenbeschaffenheit dieser Schichten (3; 14). Sie umfasst eine Lichtquelle (4) zur Beleuchtung der zu untersuchenden Schicht (3; 14) auf der Bauteiloberfläche und Mittel zur Abbildung der Lichtquelle (4) über die zu untersuchende Oberfläche (3') der Schicht (3; 14) auf einen Eintrittsspalt (7). Der Eintrittsspalt (7) wird wellenlängenabhängig durch ein Gitter (10) auf eine zweidimensionale Detektoreinheit (8) abgebildet. Eine Auswerteeinheit (11), die mit der Detektoreinheit (8) elektrisch verbunden ist, dient zur Auswertung und Verarbeitung der von den belichteten Detektorelementen (9) der Detektoreinheit (8) gelieferten Signale.

Description

Anordnung und ein Verfahren zur Erkennung von Schichten, die auf Oberflächen von Bauteilen angeordnet sind, und Bestimmung deren Eigenschaften
Die Erfindung betrifft eine Anordnung und ein Verfahren zur Erkennung von Schichten die auf Oberflächen von Bauteilen angeordnet sind, und Bestimmung deren Eigenschaften, insbesondere von Wasser-, Eis- und Schmutzschichten auf Oberflächen, vorzugsweise bei Bauteilen von Fahrzeugen. Dabei sollen vor allem die chemischen Eigenschaften und die Oberflächenbeschaffenheit der Schichten, insbesondere die Rauheit ermittelt werden.
Um solche Beläge auf Oberflächen derartiger Fahrzeugteile zu erkennen und deren Eigenschaften zu bestimmen, werden diese Schichten meist mit optischer Strahlung be- oder durchstrahlt und die von diesen Schichten reflektierte oder durchgelassene Strahlung wird in unterschiedlichen Spektralbereichen gemessen und ausgewertet . Aus diesen Messungen kann dann auf das Vorhandensein von Schichten geschlossen und, bei Vorhandensein solcher Schichten, können deren Eigenschaften, insbesondere auch deren chemische Eigenschaften, bestimmt werden.
So gibt es unterschiedliche Verfahren und Einrichtungen zur Bestimmung des Oberflächenzustandes von Bauteilen an Fahrzeugen.
Aus der DE 199 27 015 AI sind ein Verfahren und eine Vor- richtung zur Bestimmung der Dicke und Wachstumsgeschwindigkeit einer Eisschicht auf Bauteilen von Luftfahrzeugen bekannt, bei welchen die auf eine Schicht der Bauteiloberflä- ehe fallende Strahlung durch ein mit einem fotoelektrischen Zeilenempfänger verbundenes holographisches Gitter in Wellenlängenbereiche zerlegt wird und mit dem Zeilenempfänger die gemessene Strahlung mit einer gespeicherten Reflexions- kurve der Bauteiloberfläche ohne Belag verglichen wird. In mehreren zeitlich versetzten Meßintervallen kann so auch die Wachstumsgeschwindigkeit einer solchen Schicht ermittelt werden.
Die Vorrichtung zur Durchführung der Messungen besitzt ein Fenster, durch das die von der Oberfläche beeinflußte Strahlung über ein optisches Abbildungssystem und einen vollständig beleuchteten Eingangsspalt auf das Gitter gelangt, dort nach Wellenlängen spektral zerlegt und durch das Gitter auf den Zeilenempf nger abgebildet wird. Mittels einer Steuer- und Auswerteeinheit, die mit dem Zeilenempfänger verbunden ist, werden die Signale der Elemente des Zeilenempfängers ausgewertet. Die Ergebnisse der Messungen werden durch eine Anzeige sichtbar gemacht .
Nachteilig bei diesem Verfahren ist jedoch die Tatsache, daß eine Unterscheidung der mechanischen Erscheinungsform dieser Schichten nicht erreicht wird. Es werden nur Summendicke bzw. Konzentration ermittelt. Insbesondere Eis-, Schnee- bzw. Raureifschichten sind spektroskopisch nicht oder nur mit sehr hohem Aufwand unterscheidbar. Die Rauheit einer Schicht kann so nicht ermittelt werden.
Es ist aus der FR 2 810 732 AI ein Spektrometer mit einem zweidimensionalen Detektor bekannt. Bei den zweidimensiona- len Detektoren wird das Signal mehrerer senkrecht zur Dispersionsrichtung des Spektrometers liegender, einer glei- chen Wellenlänge zugeordneter Detektorelemente aufaddiert. Das erhaltene Spektrum wird ausgewertet. Als Detektorelemente sind CCD- oder CMOS-Elemente vorgesehen.
Der Erfindung liegt davon ausgehend die Aufgabe zu Grunde, eine Anordnung und ein Verfahren zur Erkennung von Schichten und Bestimmung deren Eigenschaften auf Bauteilen zu schaffen, mit welchen in einfacher Weise neben der Dicke und der chemischen Zusammensetzung auch die Oberflächenge- stalt derartiger Schichten mit einem wenig aufwendigen Detektor ermittelt werden kann.
Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe bei einer Anordnung mit den Mitteln des ersten Patentanspruches gelöst . Weitere Ausgestaltungen und Einzelheiten der erfindungsgemäßen Anordnung gehen aus den Unteransprüchen hervor.
So ist es vorteilhaft, wenn die Detektoranordnung aus matrixartig angeordneten Detektorelementen besteht. Diese kön- nen vorteilhaft CCD- oder CMOS-Elemente sein.
Das besondere der erfindungsgemäßen Anordnung und des damit durchgeführten Verfahrens besteht entgegen dem dargelegten Stand der Technik vor allem darin, daß der Eintrittsspalt durch das von der Schicht, insbesondere von deren Oberfläche, gestreute oder reflektierte Licht nicht vollständig beleuchtet wird. So wird, wenn auf dem betreffenden Bauteil keine oder eine Schicht mit einer glatten Oberfläche vorhanden ist, nur ein relativ kleiner Teil des Eintrittsspal- tes beleuchtet. Die Abbildung des Spaltes durch das abbildende Gitter auf die flächenhafte, zweidimensional auflö- sende Detektoranordnung läßt ein Spektrum in Form eines schmalen Streifens entstehen.
Bei einer rauhen Oberfläche der untersuchten Schicht wird das an ihr nicht mehr gerichtet reflektierte bzw. gestreute Licht je nach dem Grad der Rauheit einen mehr oder weniger großen Bereich des Eintrittsspaltes beleuchten, der durch das abbildende Gitter auf die zweidimensional auflösende Detektoranordnung abgebildet wird. Es entsteht dort das Spektrum in Form eines breiten Streifens. Aus den von den flächenhaft angeordneten Detektorelementen gelieferten Signalen kann durch die Auswerteeinheit u. a. die Rauheit der untersuchten Schicht bestimmt werden.
Nach einem Verfahren zur Erkennung von Schichten, die auf Oberflächen von Bauteilen angeordnet sind, sowie zur Bestimmung der Eigenschaften dieser Schichten und deren Oberflächenbeschaffenheit werden mit der Anordnung nach Anspruch 1 die folgenden Verfahrensschritte vorgenommen:
Beleuchtung der zu untersuchenden, auf der Bauteiloberfläche befindlichen Schicht durch eine Beleuchtungsquelle,
Abbildung der Beleuchtungsquelle auf dem Wege über die zu untersuchende, das Licht reflektierende und/oder streuende Oberfläche der Schicht auf einen Eintritts- spalt , wellenlängenabhängige Abbildung des belichteten Eintrittsspaltes durch ein abbildendes Gitter auf eine zweidimensionale, aus matrixartig angeordneten Detektorelementen bestehende Detektoreinheit derart, daß in Abhängigkeit von der Beschaffenheit oder Rauheit der Oberfläche der Schicht ein mehr oder weniger breiter Flächenbereich der Detektoreinheit bestrahlt wird und Auswertung der Signale der belichteten Detektorelemente der Detektoreinheit und Ermittlung und Ausgabe von die Eigenschaften der untersuchten Schicht betreffenden Meßwerten.
Mit dieser Abbildung der Beleuchtungsquelle auf den Spalt wird je nach der Oberflächenbeschaffenheit der Schicht ein mehr oder weniger breiter (großer) Teil dieses Spaltes beleuchtet. Die wellenlängenabhängige Abbildung des beleuchteten Teils des Eintrittsspaltes erfolgt insbesondere durch ein abbildendes, sogenanntes Hologitter auf die Detektorelemente der Detektoreinheit derart, daß je nach Rauheit der zu untersuchenden Oberfläche ein mehr oder weniger breiter Flächenbereich der Detektoreinheit bestrahlt wird. Durch das holographische Gitter erfolgt auch eine spektrale Zerlegung des von der Schicht beeinflußten Lichtes. Die Auswertung der Signale der exponierten Detektorelemente und die Ermittlung und Ausgabe von die Eigenschaften der untersuchten Schicht betreffenden Meßwerten erfolgt in einer Auswerteeinheit .
Dabei kann in vorteilhafter Weise je nach dem zu untersu- chenden Objekt die Beleuchtung der Schicht im Durch- oder auch im Auflicht folgen.
Vorteilhaft ist es ferner, wenn aus der Breite des exponierten Bereiches der Detektoreinheit Meßwerte für die Rau- heit der Schichtoberfläche ermittelt werden. Aus der spektralen Verteilung kann z. B. die chemische Zusammensetzung der Schicht bestimmt werden. Die Erfindung soll nachstehend an einem Ausführungsbeispiel näher erläutert werden. In der Zeichnung zeigen in
Fig. 1 vereinfacht eine erfindungsgemäße Anordnung,
Fig. 2 vereinfacht eine erfindungsgemäße Anordnung mit
Auflichtbeleuchtung der Schicht und Fig. 3 eine Anordnung, welche an einer transparenten
Scheibe angeordnet ist.
Die in Fig. 1 dargestellte Anordnung zur Erkennung von Schichten und Bestimmung ihrer Eigenschaften auf Oberflächen, insbesondere von Wasser-, Eis- und Schmutzschichten auf Gegenständen und bei Bauteilen von Fahrzeugen, stellt dem Grunde nach ein Spektrometer dar. Diese Anordnung umfaßt ein Gehäuse 1, in welchem zur Beleuchtung einer sich auf einem transparenten oder nicht transparenten Objekt o- der Gegenstand 2, z. B. einer Frontscheibe eines Fahrzeuges oder einer Fensterscheibe, befindlichen Schicht 3 eine Strahlung aussendende Lichtquelle 4 und eine vorteilhaft aus mehreren getrennten optischen Gliedern 5' und 5" bestehende Abbildungsoptik zur Abbildung der Lichtquelle 4 auf dem Wege über die zu untersuchende Schicht 3 auf einen mehr oder weniger großen, begrenzten Teil 6 des Eintrittsspaltes 7 angeordnet sind.
Wenn sich der Abstand zwischen der Schicht 3 und der Anordnung ändert, was in der Praxis meist der Fall ist, ist es erforderlich, die Lichtquelle 4 mittels mehrerer optischer Glieder 5' und 5" in einem telezentrischen Strahlengang auf den Eintrittsspalt 7 abzubilden. Andernfalls können die Änderungen des Abstandes und damit auch Änderungen der Abbil- dungsschärfe eine Rauheit der Schicht 3 vortäuschen. So wird bei den Anordnungen nach Fig. 1 und 2 die Lichtquelle 4 mit dem optischen Glied 5' kollimiert, d. h. nach Unendlich abgebildet. Mit dem anderen optischen Glied 5" erfolgt dann eine Fokussierung des Strahlenganges auf den Eintrittsspalt 7. Als optische Glieder 5' und 5" können sowohl Linsen als auch Spiegel vorgesehen werden.
Zur Abbildung des Eintrittsspaltes 7 auf eine flächenhafte Detektoreinheit 8, welche aus matrixartig angeordneten Detektorelementen 9, beispielsweise CCD- oder CMOS-Elementen, zusammengesetzt ist, ist ein abbildendes Gitter 10, z. B. ein holographisches Gitter, ebenfalls im Gehäuse 1 angeordnet. Die Detektoreinheit 8 ist mit einer Auswerteeinheit 11 derart verbunden, daß die Signale jedes einzelnen Detektorelementes 9 in dieser Einheit 11 be- und verarbeitet werden können.
Wie aus Fig. 1 zu entnehmen ist, wird die zu untersuchende Schicht 3 durch den sie tragenden Gegenstand 2 hindurch beleuchtet. Das von der Oberfläche 3' reflektierte Licht gelangt durch ein Eintrittsfenster 12 des Gehäuses 1 und wird durch die Abbildungsoptik 5 auf den Eintrittsspalt 7 abgebildet.
Um eine Beeinflussung der Abbildung des Eintrittsspaltes 7 durch das Gitter 10 auf die Detektoreinheit 8 durch Licht der Lichtquelle 4 sicher zu vermeiden und um einer Verfälschung der Meßergebnisse vorzubeugen, sind innerhalb des Gehäuses 1 Abschirmelemente 13 angeordnet. Die in Fig. 2 vereinfacht dargestellte Anordnung besitzt die gleichen Bauelemente und Baugruppen wie die Anordnung nach Fig. 1. So werden auch die gleichen Bezugszeichen für funktionsgleiche Elemente verwendet. Mit der in Fig. 2 ge- zeigten Anordnung wird eine auf dem Gegenstand 2 befindliche Schicht 14 im Auflicht beleuchtet . Das von der Oberfläche 14' reflektierte Licht wird wie bei der Anordnung nach Fig. 1 auf den Eintrittsspalt 7 geleitet und durch ein holographisches Gitter auf die Detektoreinheit 8 (in Fig. 2 der Einfachheit halber nicht dargestellt) abgebildet.
Zur Erkennung und Bestimmung der Eigenschaften von Schichten mit den Anordnungen gemäß den Fig. 1 bis 3 wird die Lichtquelle 4 durch die aus den Gliedern 5'; 5" bestehende Abbildungsoptik bzw. durch die Linse 16 (Fig. 3) auf dem Wege über die zu untersuchende Schicht 3; 14 (Fig. 2) auf den Eintrittsspalt 7 abgebildet. Dabei wird das Licht durch die Oberfläche 3' bzw. 14' der jeweiligen Schicht 3 bzw. 14 beeinflußt. Je nach Beschaffenheit (Rauheit) der exponier- ten Oberfläche 3' bzw. 14' der Schicht 3 bzw. 14 wird nur der Teil 6 des Eintrittsspaltes 7 oder, bei einer vorhandenen Rauheit ein weiterer Teil 6'; 6" beiderseits des Teiles 6 beleuchtet. Bei glatter Oberfläche 3' bzw. 14' wird nur der Teil 6 des Eintrittsspaltes 7 beleuchtet.
Um das Spektrum zu erhalten, werden wie üblich die zu einer Wellenlänge λ gehörenden Signale der Detektorelemente (Pixel) 9 aufaddiert. Breite und Position der Spektrenstreifen auf der Detektoreinheit 8 werden zusätzlich berechnet, z. B. durch Addition der Signalwerte aller Detektorelemente 9 in Dispersionsrichtung. Danach erfolgt die Berechnung der Breite und der Position (Lage) des Schwerpunktes quer zur Dispersionsrichtung und damit die Bestimmung von Werten für die Rauheit der Oberfläche 3' bzw. 14' der zu untersuchenden Schicht 3 bzw. 14.
Mit der Anordnung und dem damit durchgeführten Verfahren ist es durch eine entsprechende Auswertung und Weiterverarbeitung der durch die Detektorelemente 9 erzeugten Signale in der Auswerteeinheit 11 möglich, nicht nur die Zusammensetzung und die Dicke der Schicht 3' ; 14' zu bestimmen, sondern es kann auch die Rauheit der Oberfläche 3' bzw. 14' der Schicht 3 bzw. 14 auf Grund der unterschiedlichen Streuungen des Lichtes oder Reflexionen getestet und ermittelt werden.
Die AusgangsSignale jedes einzelnen Detektorelementes 9 werden der Auswerteeinheit 11 zugeführt, und durch Addition der zu einer Wellenlänge λ gehörenden Signalwerte in Dispersionsrichtung ergeben sich nach bekannten Verfahren die chemische Zusammensetzung und die Dicke der Schicht 3' bzw. 14'. Eine Addition der Signalwerte der Detektorelemente 9 in Richtung der Wellenlänge X, also quer zur Dispersionsrichtung, ergibt Anhaltspunkte und Meßwerte für die Rauheit der Oberfläche 3' bzw. 14' der untersuchten Schicht 3 bzw. 14. Eine schmale Verteilung dieser Summe ist ein Merkmal für eine glatte Schichtoberfläche und eine breite Verteilung der Summe kennzeichnet das Maß für eine rauhe Oberfläche.
In Fig. 3 ist stark vereinfacht eine weitere Ausführungs- form der Anordnung dargestellt, welche beispielsweise an einer transparenten Frontscheibe 17 eines Fahrzeuges angeordnet ist. Die Beleuchtung eines scharf begrenzten Berei- ches der zu untersuchenden Schicht 3 durch die Lichtquelle 4 und die Abbildung der Lichtquelle 4 auf den Eintritts- spalt 7 (gestrichelt dargestellt) im Innern des Gehäuses 1 der Anordnung erfolgt dabei durch eine gemeinsame Linse 16. Das von der Lichtquelle 4 ausgesendete Lichtbündel durchläuft die Frontscheibe 15 und die Schicht 3 und wird an deren Oberfläche 3' reflektiert und durch die Linse 16 auf den Eintrittsspalt 7 abgebildet. Kollimation und Fokussie- rung des Abbildungsstrahlenganges erfolgen hier durch die gemeinsame Linse 16. Durch den Eintrittsspalt 7 gelangt das Licht auf das abbildende Gitter 10 und wird von dort auf die Detektoreinheit 8 abgebildet . Die von der Detektoreinheit 8 gelieferten Daten werden der Auswerteeinheit 11 zugeführt und dort weiterverarbeitet. Um eine Beeinflussung des Abbildungsstrahlenganges durch den Beleuchtungsstrahlengang zu verhindern ist auch hier, wie bereits im Zusammenhang mit der Beschreibung der Fig. 1 und 2 dargelegt, ein Abschirmelement 13 vorgesehen.
Mit der erfindungsgemäßen Anordnung kann zusätzlich auch die Position der zu untersuchenden Schicht 3, also des eigentlichen Meßobjektes, aus der Position und Lage des auf die Detektoreinheit 8 abgebildeten Streifens ermittelt werden.
Bezugszeichenliste
I Gehäuse
5 2 Gegenstand
3 Schicht
3' Oberfläche
4 Lichtquelle
5 Abbildungsoptik 10 5'; 5" optisches Glied
6 Teil 6'; 6" Teil
7 Eintrittsspalt
8 Detektoreinheit 15 9 Detektorelement
10 Gitter
II Auswerteeinheit
12 Eintrittsfenster
13 Abschirmelement 20 14 Schicht
15 Frontscheibe
16 Linse
25

Claims

Patentansprüche
1. Anordnung zur Erkennung von Schichten, die auf Oberflächen von Bauteilen angeordnet sind, und Bestimmung der chemischen Eigenschaften und der Oberflächenbeschaffenheit dieser Schichten, umfassend eine Lichtquelle (4) zur Beleuchtung einer zu untersuchenden Schicht (3; 14) auf der Bauteiloberfläche, Mittel zur Abbildung der Lichtquelle (4) über die zu untersuchende Oberfläche (3') der Schicht (3; 14) auf einen Eintrittsspalt (7) , ein den Eintrittsspalt (7) wellenlängenabhängig auf eine zweidimensionale Detektoreinheit (8) abbildendes Gitter (10) und eine Auswerteeinheit (11) , die mit der Detektoreinheit (8) elektrisch verbunden ist, zur Auswertung und Verarbeitung der von den belichteten Detektorelementen (9) der Detektoreinheit (8) gelieferten Signale.
2. Anordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Detektoreinheit (8) aus matrixartig angeordneten Detektorelementen (9) besteht.
3. Anordnung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Detektorelemente (9) CCD- oder CMOS-Elemente sind.
4. Verfahren zur Erkennung von Schichten, die auf Oberflächen von Bauteilen angeordnet sind, und Bestimmung der chemischen Eigenschaften und der Oberflächenbeschaffenheit der Schichten mit der Anordnung nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch folgende Verfahrensschritte : Beleuchtung einer zu untersuchenden, auf der Bauteil- Oberfläche befindlichen Schicht (3; 14) mit einer Lichtquelle (4) ,
Abbildung der Lichtquelle (4) über die zu untersuchende, das Licht reflektierende und/oder streuende Oberfläche (3') der Schicht (3; 14) auf einen Eintrittsspalt (7) , wellenlängenabhängige Abbildung des belichteten Eintrittsspaltes (7) durch ein abbildendes Gitter (10) auf eine zweidimensionale, aus matrixartig angeordneten Detektorelementen (9) bestehende Detektoreinheit (8) derart, daß in Abhängigkeit von der Beschaffenheit oder der Rauheit der Oberfläche (3') der Schicht (3; 14) ein mehr oder weniger breiter Flächenbereich der Detektoreinheit (8) bestrahlt wird und
Auswertung der Signale der belichteten Detektorelemente (9) und Ermittlung und Ausgabe von die Eigenschaften der untersuchten Schicht (3; 14) betreffenden Meßwerten.
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Beleuchtung der zu untersuchenden Schicht (3; 14) im Durchlicht oder im Auflicht erfolgt.
6. Verfahren nach Anspruch 4 und 5, dadurch gekennzeichnet, daß aus der Breite des exponierten Bereiches auf der Detektoreinheit (8) Meßwerte für die Rauheit der Oberfläche (3') der untersuchten Schicht (3; 14) ermittelt werden.
PCT/EP2004/005446 2003-06-03 2004-05-21 Anordnung und ein verfahren zur erkennung von schichten, die auf oberflächen von bauteilen angeordnet sind, und bestimmung deren eigenschaften Ceased WO2004106853A1 (de)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006508185A JP2006526769A (ja) 2003-06-03 2004-05-21 構成部材の表面に形成された成層の同定およびその特性の測定のための装置および方法。
US10/559,175 US7502108B2 (en) 2003-06-03 2004-05-21 Assembly and method for identifying coatings lying on the surface of components and for determining their characteristics
EP04734224A EP1629254A1 (de) 2003-06-03 2004-05-21 Anordnung und ein verfahren zur erkennung von schichten, die auf oberfl chen von bauteilen angeordnet sind, und bestimmung de ren eigenschaften

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10324934A DE10324934A1 (de) 2003-06-03 2003-06-03 Anordnung und ein Verfahren zur Erkennung von Schichten, die auf Oberflächen von Bauteilen angeordnet sind, und Bestimmung deren Eigenschaften
DE10324934.6 2003-06-03

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2004106853A1 true WO2004106853A1 (de) 2004-12-09

Family

ID=33482387

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/EP2004/005446 Ceased WO2004106853A1 (de) 2003-06-03 2004-05-21 Anordnung und ein verfahren zur erkennung von schichten, die auf oberflächen von bauteilen angeordnet sind, und bestimmung deren eigenschaften

Country Status (5)

Country Link
US (1) US7502108B2 (de)
EP (1) EP1629254A1 (de)
JP (1) JP2006526769A (de)
DE (1) DE10324934A1 (de)
WO (1) WO2004106853A1 (de)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2882590B1 (fr) * 2005-02-28 2007-05-11 Airbus France Sas Sonde pour la mesure de l'epaisseur d'une accretien de givre sur une surface
DE102005050432A1 (de) * 2005-10-21 2007-05-03 Rap.Id Particle Systems Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur Charakterisierung von Gleitmittel und Hydrophobierungsfilmen in pharmazeutischen Behältnissen bezüglich Dicke und Homogenität
DE102005050795A1 (de) * 2005-10-24 2007-04-26 Leopold Kostal Gmbh & Co. Kg Meßvorrichtung zur Bestimmung der Dicke und/oder der optischen Transmissionseigenschaften einer Scheibe, vorzugsweise einer Fahrzeugscheibe
DE102010041749A1 (de) 2010-09-30 2012-04-05 Carl Zeiss Microlmaging Gmbh Messeinrichtungen und Vorrichtungen zur spektroskopischen Untersuchung von Proben
DE102010041748A1 (de) 2010-09-30 2012-04-05 Carl Zeiss Microimaging Gmbh Vorrichtungen und Verfahren zur spektroskopischen Untersuchung von Proben
JP5838466B2 (ja) * 2011-03-11 2016-01-06 ナノフォトン株式会社 光学顕微鏡、及び分光測定方法
US10126560B2 (en) * 2016-02-18 2018-11-13 National Engineering Research Center for Optical Instrumentation Spectrum-generation system based on multiple-diffraction optical phasometry
DE102019100615A1 (de) * 2019-01-11 2020-07-16 NoKra Optische Prüftechnik und Automation GmbH Verfahren und Vorrichtung zur Erfassung einer Beschichtung auf einer Oberfläche

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4544271A (en) * 1981-11-28 1985-10-01 Shimadzu Corporation Densitometer
DE4413758A1 (de) * 1993-04-21 1994-12-08 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren und Vorrichtung für die Topographieprüfung von Oberflächen
WO1999024786A1 (en) * 1997-11-06 1999-05-20 Stil S.A. Optoelectronic system using spatiochromatic triangulation
US6052188A (en) * 1998-07-08 2000-04-18 Verity Instruments, Inc. Spectroscopic ellipsometer
DE19927015A1 (de) * 1999-06-07 2000-12-14 Zeiss Carl Jena Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung der Dicke und Wachstumsgeschwindigkeit einer Eisschicht

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5166752A (en) * 1990-01-11 1992-11-24 Rudolph Research Corporation Simultaneous multiple angle/multiple wavelength ellipsometer and method
US5424827A (en) * 1993-04-30 1995-06-13 Litton Systems, Inc. Optical system and method for eliminating overlap of diffraction spectra
US5412473A (en) * 1993-07-16 1995-05-02 Therma-Wave, Inc. Multiple angle spectroscopic analyzer utilizing interferometric and ellipsometric devices
US5517032A (en) * 1994-07-01 1996-05-14 Transoptics, Inc. Thin film thickness measuring system
DE19506550A1 (de) * 1995-02-24 1996-08-29 Inst Chemo Biosensorik Verfahren zur verzugsfreien Feststellung von und zur Warnung vor durch Glättebildung bedingte Gefahren und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
DE19615366B4 (de) * 1996-04-19 2006-02-09 Carl Zeiss Jena Gmbh Verfahren und Einrichtung zum Nachweis physikalischer, chemischer, biologischer oder biochemischer Reaktionen und Wechselwirkungen
FR2810732B1 (fr) * 2000-06-27 2003-04-18 Jobin Yvon S A Procede de mesure spectroscopique a definition spectrale amelioree
US6952260B2 (en) * 2001-09-07 2005-10-04 Jian Ming Xiao Double grating three dimensional spectrograph
DE10205142B4 (de) * 2002-02-07 2004-01-15 Gesellschaft zur Förderung angewandter Optik, Optoelektronik, Quantenelektronik und Spektroskopie e.V. Anordnung und Verfahren zur Wellenlängenkalibration bei einem Echelle-Spektrometer
JP4416522B2 (ja) * 2004-01-26 2010-02-17 キヤノン株式会社 分光器

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4544271A (en) * 1981-11-28 1985-10-01 Shimadzu Corporation Densitometer
DE4413758A1 (de) * 1993-04-21 1994-12-08 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren und Vorrichtung für die Topographieprüfung von Oberflächen
WO1999024786A1 (en) * 1997-11-06 1999-05-20 Stil S.A. Optoelectronic system using spatiochromatic triangulation
US6052188A (en) * 1998-07-08 2000-04-18 Verity Instruments, Inc. Spectroscopic ellipsometer
DE19927015A1 (de) * 1999-06-07 2000-12-14 Zeiss Carl Jena Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung der Dicke und Wachstumsgeschwindigkeit einer Eisschicht

Also Published As

Publication number Publication date
US7502108B2 (en) 2009-03-10
EP1629254A1 (de) 2006-03-01
DE10324934A1 (de) 2004-12-23
US20070195323A1 (en) 2007-08-23
JP2006526769A (ja) 2006-11-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE102018114860A1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur optischen Vermessung eines Messobjekts
DE102004034167A1 (de) Vorrichtung zur goniometrischen Untersuchung optischer Oberflächeneigenschaften
DE102013114244B3 (de) ATR-Infrarotspektrometer
DE102014226827A1 (de) Verfahren, Vorrichtung und Sensor zum Bestimmen eines Absorptionsverhaltens eines Mediums
EP1507137B1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur polarisationsabhängigen und ortsaufgelösten Untersuchung einer Oberfläche oder einer Schicht
DE69404643T2 (de) Goniophotometer
EP1629254A1 (de) Anordnung und ein verfahren zur erkennung von schichten, die auf oberfl chen von bauteilen angeordnet sind, und bestimmung de ren eigenschaften
WO2000075606A1 (de) Verfahren und vorrichtung zur bestimmung der dicke und wachstumsgeschwindigkeit einer eisschicht
DE10314424A1 (de) Warnsystem zum Zwecke einer ortsaufgelösten Feststellung von vereisten Oberflächenstellen
DE102017127122B4 (de) Spektrometrisches Messgerät
EP2619551B1 (de) Sensor zur überwachung eines mediums
DE102011103253B4 (de) Anordnung zur optischen Bestimmung einer Probe und entsprechendes Verfahren
DE102011015478B4 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Erfassung und Analyse von Laserstrahlung
DE102004058408B4 (de) Vorrichtung zur Bestimmung von Oberflächeneigenschaften
DE102004005019A1 (de) Verfahren zur Bestimmung der Tiefe eines Fehlers in einem Glasband
DE3706458A1 (de) Einrichtung zur untersuchung von chemischen substanzen und deren truebung durch fremdkoerper mit hilfe von licht
DE102010020622A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung des Umhüllungsgrades von Bindemittel in bindemittelumhülltem gebrochenem, zum Bindemittel optisch unterschiedlich reflektierendem Festmaterial
DE3814606C2 (de)
DE19816359A1 (de) Fasersensor zum Erkennen von Oberflächenstrukturen
DE19506192A1 (de) Edelstein-Absorbtionsspektralphotometer
EP2013642A1 (de) Vorrichtung und verfahren zur aufnahme von entfernungsbildern
DE102010041141A1 (de) Sensor zur Überwachung eines Mediums
DE102004037040A1 (de) Vorrichtung zur quantifizierten Bewertung von Oberflächeneigenschaften
DE102006032404B4 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Bestimmung von Oberflächeneigenschaften
DE102023000154B3 (de) Vorrichtung für das Recycling diffuser elektromagnetischer Strahlung

Legal Events

Date Code Title Description
AK Designated states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): AE AG AL AM AT AU AZ BA BB BG BR BW BY BZ CA CH CN CO CR CU CZ DK DM DZ EC EE EG ES FI GB GD GE GH GM HR HU ID IL IN IS JP KE KG KP KR KZ LC LK LR LS LT LU LV MA MD MG MK MN MW MX MZ NA NI NO NZ OM PG PH PL PT RO RU SC SD SE SG SK SL SY TJ TM TN TR TT TZ UA UG US UZ VC VN YU ZA ZM ZW

AL Designated countries for regional patents

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): BW GH GM KE LS MW MZ NA SD SL SZ TZ UG ZM ZW AM AZ BY KG KZ MD RU TJ TM AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HU IE IT LU MC NL PL PT RO SE SI SK TR BF BJ CF CG CI CM GA GN GQ GW ML MR NE SN TD TG

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2004734224

Country of ref document: EP

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2006508185

Country of ref document: JP

WWP Wipo information: published in national office

Ref document number: 2004734224

Country of ref document: EP

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 10559175

Country of ref document: US

Ref document number: 2007195323

Country of ref document: US

WWW Wipo information: withdrawn in national office

Ref document number: 2004734224

Country of ref document: EP

WWP Wipo information: published in national office

Ref document number: 10559175

Country of ref document: US