WO2006016475A1 - 超解像顕微鏡 - Google Patents

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Yoshinori Iketaki
Masaaki Fujii
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Tokyo Institute of Technology NUC
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    • G01N21/6428Measuring fluorescence of fluorescent products of reactions or of fluorochrome labelled reactive substances, e.g. measuring quenching effects, using measuring "optrodes"
    • G01N2021/6439Measuring fluorescence of fluorescent products of reactions or of fluorochrome labelled reactive substances, e.g. measuring quenching effects, using measuring "optrodes" with indicators, stains, dyes, tags, labels, marks

Definitions

  • the present invention is a high performance and high performance super resolution microscope which obtains a high spatial resolution by illuminating a microscope, particularly a stained sample with light of a plurality of wavelengths, such as a highly functional laser light source. It is about
  • FIG. 12 shows the electronic structure of the valence electron orbit of the molecules constituting the sample.
  • S state ground state
  • the linear absorption coefficient is defined by the absorption cross section per molecule and the number of molecules per unit volume. Since it is given by the product, in the excitation process as shown in FIG. 14, the linear absorption coefficient for the resonance wavelength ⁇ 2 to be irradiated subsequently depends on the intensity of the light of the wavelength ⁇ 1 which is irradiated first. That is, the linear absorption coefficient for the wavelength ⁇ 2 can be controlled by the intensity of the light of the wavelength ⁇ 1. This indicates that if the sample is irradiated with light of two wavelengths ⁇ 1 and ⁇ 2 and the transmission image at wavelength ⁇ 2 is taken, the contrast of the transmission image can be completely controlled by the light of wavelength ⁇ 1 ing.
  • the emission intensity is proportional to the number of molecules in the S state. Therefore, control of the image contrast is possible even when used as a fluorescence microscope.
  • FIG. 16 is a conceptual diagram of a double resonance absorption process in a molecule, in which the molecule in the ground state S is a wave.
  • FIG. 17 is a conceptual view of the double resonance absorption process as in FIG. 16, and the X axis of the horizontal axis represents the spread of the spatial distance, and the space region ⁇ and the light of wavelength ⁇ 2 irradiated with the light of wavelength ⁇ 2 Indicates a non-irradiated space area ⁇ .
  • the fluorescence itself is suppressed by 2 1 (fluorescence suppression effect), and the fluorescence is emitted only from the spatial region A
  • the laser beam is condensed to a micro beam by a condensing lens and scanned on the observation sample, but the size of the micro beam at that time is the numerical aperture and wavelength of the condensing lens.
  • the diffraction limit is determined by and, and in principle no further spatial resolution can be expected.
  • two types of light of wavelength ⁇ 1 and wavelength ⁇ 2 are spatially well superimposed, and the fluorescence region is suppressed by irradiation of light of wavelength 2
  • the fluorescent region can be narrower than the diffraction limit determined by the numerical aperture of the condensing lens and the wavelength, and the spatial resolution can be substantially improved.
  • light of wavelength ⁇ 1 is referred to as pump light
  • light of wavelength ⁇ 2 is referred to as erase light. Therefore, by utilizing this principle, it becomes possible to realize a super resolution microscope using double resonance absorption process exceeding the diffraction limit, for example, a super resolution fluorescence microscope.
  • Patent Document 1 JP-A-8-184552
  • Patent Document 2 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-1000100
  • the laser intensity of the erase light greatly affects the expression of super resolution. Furthermore, according to the experimental studies of the present inventors, it has been found that the two-dimensional point spread function obtained by the super resolution microscope, that is, the intensity profile of the fluorescent spot is greatly different from that of the conventional optical microscope.
  • PSF point spread function
  • (Jl (z)) is a first-order Bessel function
  • (Cpo) is the center intensity
  • ke is the wave number of the light source.
  • the imaging theory based on the PSF of equation (1) has been constructed and its performance has been evaluated.
  • the same evaluation using equation (1) is made, assuming that the fluorescence intensity from the sample is proportional to the irradiation intensity of the excitation light source.
  • the PSF in the super resolution microscope has a shape similar to the Loren-Tian type, which is greatly different from the intensity distribution given by the above equation (1).
  • the PSF in the super resolution microscope has a shape similar to the Loren-Tian type, which is greatly different from the intensity distribution given by the above equation (1).
  • the object of the present invention which was made in view of the strong circumstances, is to make it easy to select a light source for pump light and erase light, and to achieve super resolution reliably with a simple and inexpensive configuration. It is in providing a resolution microscope.
  • the invention according to claim 1 for achieving the above object is characterized in that, for a sample containing a molecule having at least three ground states, the first electron having an excitation lifetime of the above-mentioned molecules from the ground state.
  • a first light source for emitting a first coherent light excited to an excited state; a second coherent light for exciting the molecule from the first electron excited state to a second electron excited state having a higher energy level A second light source to emit light;
  • a scanning means for relatively moving the light condensed by the optical system and the sample to move the sample
  • a super resolution microscope having a detection means for detecting a light response signal generated from the sample by light irradiation from the optical system
  • the wavelength of the first coherent light is ⁇ ⁇
  • the wavelength of the second coherent light is e
  • the maximum photon flux of the first coherent light at the sample surface of the first coherent light is Ip
  • the sample of the second coherent light Ie is the maximum photon flux in the plane
  • is the absorption cross section when the molecule is excited from the ground state to the first electron excited state
  • the invention according to claim 2 is the super-resolution microscope according to claim 1, further comprising:
  • the present invention by satisfying the above conditions, it is possible to easily select the light source of pump light and erase light, and it is difficult to handle, for example, the reliability without using a short pulse laser light source. For example, it is possible to easily realize a super resolution microscope capable of reliably expressing super resolution with a simple and inexpensive configuration, such as being able to use a high CW laser.
  • FIG. 1 is a view showing a system configuration of a super resolution microscope according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a view showing the configuration of a phase plate shown in FIG.
  • FIG. 3 is a view schematically showing a beam shape of an erase light and a pump light, and a fluorescent area and a fluorescent area on a sample surface.
  • FIG. 4 is a diagram showing a phase distribution in the beam cross section of the interlaced light.
  • FIG. 5 is a graph showing the intensity distribution of pump light and erase light on the sample surface.
  • FIG. 6 is a diagram showing an excitation diagram of two-wavelength fluorescence dip spectroscopy.
  • FIG. 7 is a graph showing the relationship between dip ratio and photon flux of erase light when using rhodamine 6G.
  • FIG. 8 is a graph showing PSF when the photon flux of the peak value of the erase light is 2.1 ⁇ 10 25 photons Zsec Zcm 2 .
  • FIG. 9 is a graph showing PSF when a fluorescence spot image of super resolution microscopy is measured using a fluorescent bead having a diameter of 175 ⁇ m.
  • FIG. 10 A graph showing the profile of photon flux of interlace light.
  • FIG. 11 A graph showing the half width of the same part.
  • FIG. 12 is a conceptual view showing an electronic structure of valence electron orbits of molecules constituting a sample.
  • FIG. 13 A conceptual view showing a first excited state of the molecule of FIG.
  • FIG. 14 is a conceptual diagram showing the same second excited state.
  • FIG. 15 A conceptual view showing a state in which the second excited state force returns to the same ground state.
  • FIG. 16 is a conceptual diagram for explaining a double resonance absorption process in a molecule.
  • FIG. 17 is a conceptual diagram for explaining the same double resonance absorption process.
  • FIG. 1 is a view showing a system configuration of a super resolution microscope according to an embodiment of the present invention.
  • This super resolution microscope is premised on a normal laser scanning fluorescent microscope, and mainly comprises three independent units, ie, a light source unit 30, a scanning unit 40 and a microscope unit 50.
  • the light source unit 30 includes, for example, an LD-pumped mode-locked Nd: YAG laser 2 as a first light source that emits pump light having a wavelength of 532 nm as the first coherent light, and a second coherent light, for example. It has a Kr laser 1 which is a second light source for emitting an erase beam of wavelength 647 nm, a phase plate 3 for spatial modulation of the erase beam, and a beam combiner 4 for fusing the erase beam and the pump beam. . As shown in FIG. 2, the phase plate 3 is vapor-deposited with an optical thin film adjusted so that the phase of the erase light passing at the position of optical axis symmetry is reversed. In FIG. 2, there are four independent regions around the optical axis, which are out of phase by one-quarter with respect to the wavelength of the laser light. When the light passing through the phase plate 3 is collected, the electric field is canceled on the optical axis to generate hollow erase light.
  • YAG laser 2 as a first light source that emits pump light
  • the scanning unit 40 has two galvanic mirrors 6 and 7 as scanning means after passing the half mirror 5 through pump light and erase light sharing the same optical axis supplied from the light source unit 30.
  • the laser beam is oscillated in a two-dimensional direction and emitted to a microscope unit 50 described later, and the fluorescence detected by the microscope unit 50 is branched by a half mirror 5 along a path reverse to the forward path.
  • the branched fluorescence is received by the photomultiplier tube 16 as a detection means through the projection lens 12, the pinhole 13, and the notch filters 14 and 15.
  • the galvano mirrors 6 and 7 are shown swingable in the same plane.
  • the notch filters 14 and 15 are for removing the pump light and the erase light mixed in the fluorescence. Also, the pinhole 13 is a confocal optical system These are important optical elements that make up only the fluorescence emitted at a specific cross section in the observation sample.
  • the microscope unit 50 is a so-called ordinary fluorescence microscope that reflects pump light and erase light incident from the scan unit 40 by the half mirror 8, and at least three ground states are obtained by the objective lens 9.
  • the light is collected on the observation sample 10 containing molecules having an electronic state, and the fluorescence emitted from the observation sample 10 is collimated again by the objective lens 9 and reflected by the half mirror 8, so that the scanning unit 40 is again made.
  • a part of the fluorescence passing through the half mirror 18 is guided to the eyepiece lens 11 so that it can be visually observed as a fluorescence image.
  • phase plate 3, the beam combiner 4 and the objective lens 9 constitute an optical system for partially overlapping the pump light and the erase light and collecting the light on the observation sample 10.
  • the wavelength of the pump light for exciting the molecules contained in the observation sample 10 to the first electron excited state having the excitation lifetime from the ground state is ⁇ .
  • the wavelength of the erase light that excites the molecule from the first electron excited state to the second electron excited state with a higher energy level is ⁇ e
  • the maximum photon flux on the observation sample surface of the pump light is Ip
  • the maximum photon flux in the sample surface for light observation is Ie
  • the absorption cross section when the above molecule is excited from the ground state to the first electron excited state is ⁇
  • the fluorescence other than the vicinity of the optical axis at which the intensity of the erase light becomes zero is suppressed on the condensing point of the observation sample 10, and as a result, the region ( ⁇ Only the fluorescent labeler molecules that exist in ⁇ 0.61 ⁇ ⁇ 1 ⁇ and ⁇ are the numerical aperture of objective lens 9 will be observed, and as a result, super resolution will be expressed. Therefore, By measuring the fluorescence signal while scanning the pump light and the erase light with the scan unit 40, a super-resolution two-dimensional fluorescence image can be obtained.
  • the intensity distribution (H (r)) of pump light on the sample surface the intensity distribution (G (r)) of erase light, and simultaneous irradiation of pump and erase light It is determined by the fluorescence suppression property of the sample in A, that is, dip ratio (P (Ie)).
  • Ie is the photon flux of the erase light
  • the dip ratio specifically indicates the fluorescence intensity ratio between the non-irradiation and the irradiation of the erase light.
  • the fluorescence intensity profile (F (r)) at the time of simultaneous irradiation with erase light is the product of the fluorescence suppression characteristic and the pump light intensity, ie It is given by (2).
  • a hollow Bessel primary beam having no light intensity on the optical axis is used as the erase light.
  • the shape H (r) of the pump light is given by the equation (1).
  • the Bessel beam used in the interlaced light is continuous from 0 to 2 ⁇ so as to orbit around the central axis of the beam as viewed from the cross section (pupil plane) of the beam.
  • ⁇ and k are the wavelength and the wave number of the erase light.
  • J n (z) is the n th e
  • FIG. 6 shows an excitation diagram of dual-wavelength fluorescence dip spectroscopy. Generally, as shown in Fig. 6, when molecules in the ground state (S 1) are excited to the state S by pump light, the molecules
  • the molecule is excited to a high quantum state (S 1), causing nonradiative relaxation to S and Tm triplet states n 0
  • the dip ratio can be analyzed by determining this population. That is, since the amount obtained by integrating the population at observation time (T) is the observed fluorescence intensity, dip ratio P (Ie) is given by equation (4).
  • n (t, Ie) is a population of the S state, which is a function of the photon flux of the erase light and the observation time. Furthermore, n (t, Ie) can be in S state (n (t, Ie)) and S state (n
  • This rate equation is a linear, one-time differential equation and generally has a solution of the form
  • n l (t, I e ) D 2 y t + D 22 e ⁇ + D 23 e ⁇ t , (6)
  • n 2 (t, I e ) D 3 y '+ D 32 e r 2 ' + D 33 e '
  • D ⁇ is a coefficient that determines the initial condition force
  • is the 3 ⁇ 3 coefficient matrix of equation (5)
  • equation (6) is expressed as follows.
  • the component of the exponent part of the equation (8) shows the change of population due to the transient transition immediately after the start of the pump light and erase light irradiation, and the other D continues the light irradiation and becomes steady state n3
  • the inverse number of I ⁇ I corresponds to the time when the transition period ends, and in the case of most molecules, lnsec
  • the population of S state can be represented in a specific form as follows.
  • numerator of the formula (12) In order to efficiently induce fluorescence suppression, it is better for the numerator of the formula (12) to be as small as possible with respect to the denominator. S force S necessary to excite S into a sufficiently small flux
  • equation (12) can be approximated to the simpler practical equation (13) below.
  • the amount is the total cross-sectional area that relaxes from the S state outside of the fluorescence process at the time of the erase light irradiation, that is, it is a very important spectroscopic parameter that determines the degree of the onset of fluorescence suppression along with the fluorescence lifetime.
  • the microscope system can be constructed using the relationship of dip ratio of equation (14). Assuming that the optical system of the microscope has no aberration, the theoretically expected PSF can be calculated from the following equations (1), (2), (3), (12), (13) and (14). It can be obtained from equation (15).
  • ⁇ and ⁇ are photon energy of pump light and erase light
  • the Bessel beam is a non-spatial modulated ordinary light beam. In comparison with the mu, it has spread to double size.
  • the light of the wavelength band longer than the pump light is used as the erase light in order to block the fluorescence emission due to the irradiation of the erase light, the light collection size becomes larger. Therefore, when the pump light and the erase light are condensed coaxially on the sample surface, most of the intensity distribution of the pump light is present inside the hole of the erase light. Therefore, Eq. (3) can be expanded approximately to the power of r near the optical axis, and the intensity profile of this hole can be approximated by a simple function to obtain Eq. (16) below.
  • equation (14) As apparent from the equation (14), higher order terms of r 3 or more can be ignored as compared with the first term. In fact, the profile inside the hole can be approximately expressed by a quadratic function of r, as shown in FIG. Using this result, equation (15) can be simplified as equation (17) below.
  • F (r) is not limited to one obtained by modulating PSF of pump light with the Lorentian function L (r) of half width (g) represented by the following equation (19) ,.
  • the numerator in order to efficiently induce the fluorescence suppression, it is advantageous in the equation (12) that the numerator be as small as possible with respect to the denominator.
  • the fluorescence lifetime is unique to the sample molecule, in formula (12), the molecule is necessarily
  • Equation (17) the improvement in resolution can be confirmed by super resolution microscopy because the half-width g of the Lorenian function, which is a modulation function represented by Equation (18), It is essential to be smaller than the half-width of the focused beam size of pump light given in 1).
  • the half width ( ⁇ ) of the condensed beam size of the pump light is generally given by the following equation (21) according to Rayleigh's standard equation.
  • the wavelength of the pump light is 532 nm
  • the wavelength of the erase light is 599 nm
  • the experimental results using the rhodamine 6G molecule are considered.
  • analysis of experimental data on measurement of dip ratio of rhodamine 6G in a methanol solution was performed first using Formula (13).
  • FIG. 7 shows the relationship between dip ratio and photon flux of scattered light, with dip cross section ( ⁇ ) as parameter when using rhodamine 6G with fluorescence lifetime ⁇ of 3.75 nsec in methanol solution. It is a thing. According to FIG. 7, choose the ⁇ 0. 7 X 10- 16 cm 2 before and after, the experiment results
  • Rhodamine 6G since the absorption cross section to S force S and the stimulated emission cross section overlap in the wavelength 599 nm region, the exact ⁇ is unknown
  • Figure 8 is a full Dad flux peak value of Iresu light 2. 1 X 10 25 photons / sec / cm 2 i.e. The PSF is shown for an electric field strength of 7 MWZ cm 2 .
  • the solid thin lines and thick lines are PSFs in Eqs. (15) and (17), respectively. In the approximate formula, slight deviations are observed at the side lobes, but the profiles match well. According to Fig.
  • FIG. 9 shows PSF when fluorescence spot images of super resolution microscopy were measured under the same conditions using fluorescent beads having a diameter of 175 ⁇ m.
  • the measured profile indicated by the thick line is also in the low wrench ann type with the side lobes broadened as predicted by theoretical analysis.
  • thin lines indicate the results of convolution of PSF according to the theoretical formula obtained in FIG. 8 with bead size. This theoretical calculation almost reproduces the experimental results.
  • the approximate equation (17) is a rational function expressing PSF, and at the same time the physical model is a very clear and practical equation.
  • Fig. 10 and Fig. 11 show the calculated profile and its half width.
  • the photon flux of the start value of the condensed erase light reaches 5 ⁇ 10 25 photons / sec, it shrinks to the diffraction limit size of 1Z4.
  • the half width is 70 nm, and a spatial resolution exceeding 100 nm which can not be achieved by the conventional optical microscope can be expected.
  • the energy average intensity of the erase light at that time is about 20 mW when calculated.
  • the ability to configure a system using such a simple laser is expected to reduce the cost of the system, and to control the laser wavefront unique to the present technology and the effects of the invention involved in practical application.
  • This super-resolution microscope can be used to observe a sample with spatial resolution that exceeds the diffraction limit of the optical system.

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Description

明 細 書
超解像顕微鏡
技術分野
[0001] 本発明は、顕微鏡、特に染色した試料を機能性の高いレーザ光源力ゝらの複数の波 長の光により照明して、高い空間分解能を得る高性能かつ高機能の超解像顕微鏡 に関するものである。
背景技術
[0002] 光学顕微鏡の技術は古ぐ種々のタイプの顕微鏡が開発されてきた。また、近年で は、レーザ技術および電子画像技術をはじめとする周辺技術の進歩により、さらに高 機能の顕微鏡システムが開発されている。
[0003] このような背景の中、複数波長の光で試料を照明することにより発する二重共鳴吸 収過程を用いて、得られる画像のコントラストの制御のみならずィ匕学分析も可能にし た高機能な顕微鏡が提案されている (例えば、特許文献 1参照)。
[0004] この顕微鏡は、二重共鳴吸収を用いて特定の分子を選択して、特定の光学遷移に 起因する吸収および蛍光を観測するものである。この原理について、図 12〜図 15を 参照して説明する。図 12は、試料を構成する分子の価電子軌道の電子構造を示す もので、先ず、図 12に示す基底状態 (S状態)の分子力もつ価電子軌道の電子を波
0
長 λ 1の光により励起して、図 13に示す第 1電子励起状態 (S状態)とする。次に、別 の波長 λ 2の光により同様に励起して、図 14に示す第 2電子励起状態 (S状態)とす
2 る。この励起状態により、分子は蛍光あるいは燐光を発光して、図 15に示すように基 底状態に戻る。
[0005] 二重共鳴吸収過程を用いた顕微鏡法では、図 13の吸収過程や図 15の蛍光や燐 光の発光を用いて、吸収像や発光像を観察する。この顕微鏡法では、最初にレーザ 光等により共鳴波長 λ 1の光で図 13のように試料を構成する分子を S状態に励起さ せるが、この際、単位体積内での S状態の分子数は、照射する光の強度が増加する に従って増加する。
[0006] ここで、線吸収係数は、分子一個当りの吸収断面積と単位体積当たりの分子数との 積で与えられるので、図 14のような励起過程においては、続いて照射する共鳴波長 λ 2に対する線吸収係数は、最初に照射した波長 λ 1の光の強度に依存することに なる。すなわち、波長 λ 2に対する線吸収係数は、波長 λ 1の光の強度で制御できる ことになる。このことは、波長 λ 1および波長 λ 2の 2波長の光で試料を照射し、波長 λ 2による透過像を撮影すれば、透過像のコントラストは波長 λ 1の光で完全に制御 できることを示している。
[0007] また、図 14の励起状態での蛍光または燐光による脱励起過程が可能である場合に は、その発光強度は S状態にある分子数に比例する。したがって、蛍光顕微鏡とし て利用する場合にも画像コントラストの制御が可能となる。
[0008] さらに、二重共鳴吸収過程を用いた顕微鏡法では、上記の画像コントラストの制御 のみならず、化学分析も可能にする。すなわち、図 12に示される最外殻価電子軌道 は、各々の分子に固有なエネルギー準位を持つので、波長 λ 1は分子によって異な ることになり、同時に波長え 2も分子固有のものとなる。
[0009] ここで、従来の単一波長で照明する場合でも、ある程度特定の分子の吸収像ある いは蛍光像を観察することが可能である力 一般にはいくつかの分子における吸収 帯の波長領域は重複するので、試料の化学組成の正確な同定までは不可能である
[0010] これに対し、二重共鳴吸収過程を用いた顕微鏡法では、波長 λ 1および波長 λ 2 の 2波長により吸収ある!/ヽは発光する分子を限定するので、従来法よりも正確な試料 の化学組成の同定が可能となる。また、価電子を励起する場合、分子軸に対して特 定の電場ベクトルをもつ光のみが強く吸収されるので、波長 λ 1および波長 λ 2の偏 光方向を決めて吸収または蛍光像を撮影すれば、同じ分子でも配向方向の同定ま で可能となる。
[0011] また、最近では、二重共鳴吸収過程を用いて回折限界を超える高い空間分解能を もつ蛍光顕微鏡も提案されている (例えば、特許文献 2参照)。
[0012] 図 16は、分子における二重共鳴吸収過程の概念図で、基底状態 Sの分子が、波
0
長 λ 1の光で第 1電子励起状態である Sに励起され、さらに波長 λ 2の光で第 2電子 励起状態である Sに励起されている様子を示している。なお、図 16はある種の分子 の s力 の蛍光が極めて弱いことを示している。
2
[0013] 図 16に示すような光学的性質を持つ分子の場合には、極めて興味深い現象が起 きる。図 17は、図 16と同じく二重共鳴吸収過程の概念図で、横軸の X軸は空間的距 離の広がりを表わし、波長 λ 2の光を照射した空間領域 Αと波長 λ 2の光が照射さ れない空間領域 Αとを示している。
0
[0014] 図 17において、空間領域 Aでは波長 λ 1の光の励起により S状態の分子が多数
0 1
生成され、その際に空間領域 Α力 は波長え 3で発光する蛍光が見られる。しかし、
0
空間領域 Aでは、波長え 2の光を照射したため、 S状態の分子のほとんどが即座に 高位の S状態に励起されて、 S状態の分子は存在しなくなる。このような現象は、幾
2 1
つかの分子により確認されている。これにより、空間領域 Aでは、波長え 3の蛍光は 完全になくなり、しかも S状態力 の蛍光はもともとないので、空間領域 Aでは完全
2 1 に蛍光自体が抑制され (蛍光抑制効果)、空間領域 Aからのみ蛍光が発することに
0
なる。
[0015] このことは、顕微鏡の応用分野から考察すると、極めて重要な意味を持って 、る。
すなわち、従来の走査型レーザ顕微鏡等では、レーザ光を集光レンズによりマイクロ ビームに集光して観察試料上を走査するが、その際のマイクロビームのサイズは、集 光レンズの開口数と波長とで決まる回折限界となり、原理的にそれ以上の空間分解 能は期待できない。
[0016] ところ力 図 17の場合には、波長 λ 1と波長 λ 2との 2種類の光を空間的に上手く 重ね合わせて、波長え 2の光の照射により蛍光領域を抑制することで、例えば波長 λ 1の光の照射領域に着目すると、蛍光領域を集光レンズの開口数と波長とで決ま る回折限界よりも狭くでき、実質的に空間分解能を向上させることが可能となる。以下 、波長 λ 1の光をポンプ光、波長 λ 2の光をィレース光と呼ぶ。したがって、この原理 を利用することで、回折限界を超える二重共鳴吸収過程を用いた超解像顕微鏡、例 えば超解像蛍光顕微鏡を実現することが可能となる。
特許文献 1 :特開平 8— 184552号公報
特許文献 2:特開 2001— 100102号公報
発明の開示 発明が解決しょうとする課題
[0017] ところで、超解像蛍光顕微鏡において、その性能を有効に発現させるためには、分 子の光学物性を十分に考慮して、ポンプ光とィレース光との照射強度を十分注意し て最適化する必要がある。特に、ィレース光のレーザ強度は、超解像性の発現に大 きく影響を与える。さらに、本発明者らの実験検討によると、超解像顕微鏡で得られる 2次元点像分布関数すなわち蛍光スポットの強度プロファイルは、従来の光学顕微 鏡のそれとは大きく異なることが判明した。
[0018] ここで、光学顕微鏡の光学性能を評価する最も基本的な物理量として、点像分布 関数 (PSF)がある。これが判明すると、顕微鏡の分解能を決定する 2点分解能や画 質を総合評価するのに不可欠な光学伝達関数 (OTF)を算出することができる。
[0019] 一般の顕微鏡システムでは、円形開口をもつレンズや絞り等を組み合わせた光学 系が用いられており、このような光学系の PSFは、良く知られた円形開口の場合のフ ラウンホーファー回折像で与えられる。ここで、光源波長を(λ ρ)、光学系の開口数を (ΝΑ)とすると、光軸力 の像面内の距離 (r)における強度すなわち点像分布関数( H(r))は、下記の式(1)で与えられる。
[0020] [数 1]
Figure imgf000006_0001
[0021] ここで、 (Jl(z))は 1次のベッセル関数であり、 (Cpo)は中心強度、 keは光源の波数 を示す。大体の顕微鏡システムの場合、式(1)の PSFを基本とした結像理論が構築 され、その性能評価が行われている。蛍光顕微鏡の場合にも、試料からの蛍光強度 が励起光源の照射強度に比例するものとして、式(1)を用いた同様の評価がなされ ている。
[0022] しカゝながら、超解像顕微鏡の場合、試料に異なる 2波長の光を共鳴吸収させるため
、もはや光源の照射強度と蛍光強度との比例関係は成り立たない。
[0023] 仮に、ポンプ光の照射強度が一定であっても、ィレース光の照射強度を増力!]させる と蛍光強度が非線形的に減衰することが報告されている。このような、試料の光応答 特性は、当然、 PSFに強い影響を与える。事実、最近の文献 (Opt.Express 11(2003)
3271)によれば、超解像顕微鏡における PSFは、上記式(1)が与える強度分布とは 大きく異なったローレンチアン型に近い形状を持っている。一般の光学システムでは
、このよう形が現れることは極めて稀である。
[0024] このような理由で、従来は、超解像顕微鏡システムを具現ィ匕するときのポンプ光お よびィレース光の最適な条件が不明であったため、ポンプ光およびィレース光の光 源選定が困難となっていた。
[0025] したがって、力かる事情に鑑みてなされた本発明の目的は、ポンプ光およびィレー ス光の光源選定を容易にでき、簡単かつ安価な構成で超解像性を確実に発現でき る超解像顕微鏡を提供することにある。
課題を解決するための手段
[0026] 上記目的を達成する請求項 1に係る発明は、少なくとも基底状態を含む 3つの電子 状態を有する分子を含む試料に対して、上記分子を基底状態から励起寿命てをも つ第 1電子励起状態に励起する第 1のコヒーレント光を出射する第 1の光源と、 上記分子を上記第 1電子励起状態から、よりエネルギー準位の高い第 2電子励起 状態に励起する第 2のコヒーレント光を出射する第 2の光源と、
上記第 1のコヒーレント光と上記第 2のコヒーレント光とを一部重ね合わせて上記試 料に集光する光学系と、
上記光学系により集光される光と上記試料とを相対的に移動させて上記試料を走 查する走査手段と、
上記光学系からの光照射により上記試料から発生する光応答信号を検出する検出 手段とを有する超解像顕微鏡にぉ ヽて、
上記第 1のコヒーレント光の波長を λ ρ、上記第 2のコヒーレント光の波長を e、上 記第 1のコヒーレント光の上記試料面における最大フォトンフラックスを Ip、上記第 2の コヒーレント光の上記試料面における最大フォトンフラックスを Ie、上記分子が基底状 態から上記第 1電子励起状態に励起するときの吸収断面積を σ 、および蛍光抑制
01
断面積を σ とするとき、 σ 01 I p τ < 1、 0. 65 ( λ e/ λ p) < t σ d i p I e
を満足するように構成したことを特徴とするものである。
[0027] 請求項 2に係る発明は、請求項 1に記載の超解像顕微鏡において、さらに、
τ σ dl p I e > 1
を満足するように構成したことを特徴とするものである。
発明の効果
[0028] 本発明によれば、上記の条件を満たすようにすることで、ポンプ光およびィレース光 の光源選定を容易にでき、例えば取り扱 ヽが難 、短パルスレーザ光源を用いること なぐ信頼性の高い CWレーザを用いることができるなど、簡単かつ安価な構成で超 解像性を確実に発現できる超解像顕微鏡を容易に実現することができる。
図面の簡単な説明
[0029] [図 1]本発明の一実施の形態に係る超解像顕微鏡のシステム構成を示す図である。
[図 2]図 1に示す位相板の構成を示す図である。
[図 3]ィレース光およびポンプ光のビーム形状と、試料面における蛍光領域および蛍 光消失領域とを模式的に示す図である。
[図 4]ィレース光のビーム断面における位相分布を示す図である。
[図 5]ポンプ光およびィレース光の試料面上での強度分布を示すグラフである。
[図 6]2波長蛍光 Dip分光法の励起ダイヤグラムを示す図である。
[図 7]ローダミン 6Gを用いた場合の dip ratioとィレース光のフォトンフラックスとの関係 を示すグラフである。
[図 8]ィレース光のピーク値のフォトンフラックスが 2. 1 X 1025photonsZsecZcm2の場 合の PSFを示すグラフである。
[図 9]直径 175 μ mの蛍光ビーズを用いて超解像顕微鏡法の蛍光スポット像を測定し た場合の PSFを示すグラフである。
[図 10]ィレース光のフォトンフラックスのプロファイルを示すグラフである。
[図 11]同じぐその半値幅を示すグラフである。
[図 12]試料を構成する分子の価電子軌道の電子構造を示す概念図である。
[図 13]図 12の分子の第 1励起状態を示す概念図である。 [図 14]同じぐ第 2励起状態を示す概念図である。
[図 15]同じぐ第 2励起状態力 基底状態に戻る状態を示す概念図である。
[図 16]分子における二重共鳴吸収過程を説明するための概念図である。
[図 17]同じぐ二重共鳴吸収過程を説明するための概念図である。
発明を実施するための最良の形態
[0030] 以下、本発明に係る超解像顕微鏡の一実施の形態について説明する。
[0031] 図 1は、本発明の一実施の形態に係る超解像顕微鏡のシステム構成を示す図であ る。この超解像顕微鏡は、通常のレーザ走査型蛍光顕微鏡を前提としたもので、主 に 3つの独立したユニット、すなわち、光源ユニット 30、スキャンユニット 40および顕 微鏡ユニット 50からなつて 、る。
[0032] 光源ユニット 30は、第 1のコヒーレント光として例えば波長 532nmのポンプ光を出 射する第 1の光源である LD励起型モードロック Nd:YAGレーザ 2と、第 2のコヒーレ ント光として例えば波長 647nmのィレース光を出射する第 2の光源である Krレーザ 1 と、ィレース光空間変調用の位相板 3と、ィレース光およびポンプ光を融合させるため のビームコンパイナ 4とを有している。位相板 3は、図 2に示すように、光軸対称の位 置で通過したィレース光の位相が反転するように調整された光学薄膜が蒸着されて いる。図 2では、光軸の周りに独立した 4領域を有し、ィレース光波長に対して 4分 1 ずつ位相が異なっている。この位相板 3を通過した光を集光すれば、光軸上で電場 が相殺され中空状のィレース光が生成される。
[0033] スキャンユニット 40は、光源ユニット 30から供給される同じ光学軸を共有するポンプ 光とィレース光とを、ハーフミラー 5を通過させた後、走査手段である 2枚のガルバノミ ラー 6および 7により 2次元方向に揺動走査して、後述の顕微鏡ユニット 50に出射す るようになっていると共に、顕微鏡ユニット 50で検出された蛍光を、往路と逆の経路を 迪つてハーフミラー 5で分岐し、その分岐された蛍光を投影レンズ 12、ピンホール 13 、ノッチフィルタ 14および 15を経て検出手段である光電子増倍管 16で受光するよう になっている。図 1では、図面を簡略ィ匕するため、ガルバノミラー 6, 7を同一平面内 で揺動可能に示している。なお、ノッチフィルタ 14および 15は、蛍光に混入したボン プ光およびィレース光を除去するものである。また、ピンホール 13は、共焦点光学系 を成す重要な光学素子で、観察試料内の特定の断層面で発光した蛍光のみを通過 さ ·¾:るちのである。
[0034] 顕微鏡ユニット 50は、 、わゆる通常の蛍光顕微鏡で、スキャンユニット 40から入射 するポンプ光およびィレース光をハーフミラー 8で反射させて、対物レンズ 9により少 なくとも基底状態を含む 3つの電子状態を有する分子を含む観察試料 10上に集光さ せると共に、観察試料 10で発光した蛍光を、再び対物レンズ 9でコリメートしてハーフ ミラー 8で反射させることにより、再び、スキャンユニット 40に戻すと同時に、ハーフミラ 一 8を通過する蛍光の一部を接眼レンズ 11に導 、て、蛍光像として目視観察できる ようになっている。
[0035] ここで、位相板 3、ビームコンパイナ 4および対物レンズ 9は、ポンプ光とィレース光 とを一部重ね合わせて観察試料 10に集光する光学系を構成している。
[0036] 本実施の形態では、図 1に示す超解像顕微鏡において、観察試料 10に含まれる 分子を基底状態から励起寿命てをもつ第 1電子励起状態に励起するポンプ光の波 長を λ ρ、上記分子を第 1電子励起状態から、よりエネルギー準位の高い第 2電子励 起状態に励起するィレース光の波長を λ e、ポンプ光の観察試料面における最大フ オトンフラックスを Ip、ィレース光の観察試料面における最大フオトンフラックスを Ie、上 記分子が基底状態から第 1電子励起状態に励起するときの吸収断面積を σ 、およ
01 び蛍光抑制断面積を σ とするとき、
σ I p て < 1
および
0. 65 ( λ e/ λ. ρ) < て σ d i p I e、
さらに好ましくは
て σ d i p I e ≥ 1
を満足するように構成する。
[0037] このように構成すれば、観察試料 10の集光点上においてィレース光の強度がゼロ となる光軸近傍以外の蛍光が抑制されて、結果的にポンプ光の広がりより狭い領域( Δ <0. 61 · λ 1ΖΝΑ、 ΝΑは対物レンズ 9の開口数)に存在する蛍光ラベラー分子 のみが観察されることになり、結果的に超解像性が発現することになる。したがって、 ポンプ光およびィレース光をスキャンユニット 40で走査しながら蛍光信号を測定すれ ば、超解像の 2次元蛍光像を得ることができる。
[0038] 以下、上記のように構成する根拠、すなわち本発明による超解像顕微鏡の原理に ついて説明する。
[0039] 超解像顕微鏡法における PSFは、試料面上におけるポンプ光の強度分布 (H(r))と 、ィレース光の強度分布 (G(r))と、ポンプおよびィレース光の同時照射時における試 料の蛍光抑制特性すなわち dip ratio (P(Ie))とによって決定される。ここで、 Ieはィレ ース光のフォトンフラックスであり、 dip ratioとは具体的にはィレース光無照射時と照 射時との蛍光強度比を示す。ポンプ光単独照射時の蛍光強度は H(r)に比例するの で、ィレース光同時照射時における蛍光強度プロファイル (F(r))は、蛍光抑制特性と ポンプ光強度との積すなわち下記の式(2)で与えられる。
[0040] [数 2]
F {r ) = P [G (r )] ( r ) ( 2 )
[0041] 実際の超解像顕微鏡法では、図 3に示すように、ィレース光として光軸上で光強度 が存在しない中空状のベッセル 1次ビームを用いる。ここで、顕微鏡の対物レンズが 無収差光学系であれば、ポンプ光の形状 H(r)は式(1)で与えられる。これに対し、ィ レース光で用いるベッセルビームは、図 4に示すように、ビームの断面(瞳面)〖こおい て、ビームの中心軸に対して周回するように 0から 2 πまで連続的に変化する位相分 布を持っている。したがって、すべての動径方向について中心軸に対して πだけ位 相が異なっているため、集光すると光軸上で電場強度が相殺され、その強度分布は 、ビーム最大強度値 (C )を用いて、式(3)に示すように表される。
e0
[0042] [数 3] (keNAr) ( 3 )
Figure imgf000011_0001
ke =—— NAr
[0043] ここで、 λおよび kは、ィレース光の波長および波数である。また、 Jn(z)は、 n次の e e
ベッセル関数で、 n > 2
で r2以上の次数を持っため、 r= 0で G(0) = Oとなることが容易に判る。式(3)を、極大 値を 1とし、 λ ΖΝΑを 1にとつてプロットすると、図 5に太線で示すようになり、 r= 0で 強度が 0となるィレース光として理想的な中空状のプロファイルが得られる。なお、図 5には、比較のために、均一波面のポンプ光を集光したときのビームプロファイルを細 線でプロットしてある。図 5から明らかなように、ィレース光として理想的な中空状のプ 口ファイルが得られれば、中心部分の蛍光強度を損なうことなぐドーナツの周辺部に おいて効率的に蛍光抑制でき、回折限界より小さい蛍光スポットが形成できる。
[0044] ィレース光のビーム形状とならんで、 dip ratioも超解像効果の発現の程度を決める 重要な要素である。これは、分子構造に起因するところの分子固有の光応答特性で ある。図 6に、 2波長蛍光 Dip分光法の励起ダイヤグラムを示す。一般に、図 6に示す ように、ポンプ光で基底状態 (S )の分子を状態 Sに励起すると、分子は S状態より
0 1 1 蛍光を発して s状態に緩和する。ここで、ィレース光を照射すると、ィレース光により
0
分子は高い量子状態 (S )に励起されて、 Sや Tm3重項状態への無輻射緩和が起 n 0
こる。もし、ィレース光の波長が蛍光波長帯域に重複していれば誘導放出過程も起こ る。したがって、ィレース光照射時に、この蛍光量が減少し、その変化が窪み (Dip)と して観測される。
[0045] 一般に、蛍光強度は、 S状態のポピュレーションに比例するので、 dip ratioはこの ポピュレーションを求めることにより解析することができる。すなわち、ポピュレーション を観測時間 (T)で積分した量が観測された蛍光強度であるので、 dip ratio P(Ie)は 式 (4)で与えられる。
[0046] [数 4]
Figure imgf000012_0001
[0047] ここで、 n (t,Ie)は S状態のポピュレーションであり、ィレース光のフォトンフラックス と観測時間との関数となる。さらに、 n (t,Ie)は、 S状態 (n (t,Ie) )および S状態 (n
1 0 0 n 2
(t,Ie) )のポピュレーションを加えた 3準位のレート方程式により決定される。
[0048] [数 5] _"0 , )
-+び Λ20
dt
dnx(t,Ie) " )
び -<
dt ffIe—び l2 Λ21 , (5)
び, 21 - 20
dt
[0049] ここで、使用した分光パラメータを図 6に示す。このレート方程式は、線形の 1回の 微分方程式であり、一般に下記のような形式の解をもつ。
[0050] [数 6] nl(t,Ie) = D2yt + D22e^ + D23e^t, (6)
n2(t,Ie) = D3y' + D32er2' + D33e '
[0051] ここで、 D應は初期条件力 決まる係数であり、 γ は式(5)の 3 X 3係数行列の
1,2,3
固有値であり、具体的には下記の根をもつ。
[0052] [数 7] ρ土 β2 _4ϋ
2 = (7)
,3=0
1
Q =—[び 01·^ + +び 12 ) + _ + ^21 + k20
1 1
R = (0> + -) (k2<J0lI P ) + k2l (び。 +(Jf +-) + *20 (び 12 + a p )
[0053] したがって、式(6)は、以下のように表される。
[0054] [数 8]
Figure imgf000013_0001
η,(ί,Ιβ) = 021€"1 +D21e^ +D23, (8)
Figure imgf000013_0002
[0055] 式 (8)の指数部の成分は、ポンプ光およびィレース光照射開始直後の過渡的な遷 移によるポピュレーションの変化を示し、それ以外の D は光照射が続き定常状態に n3
至った場合の各状態のポピュレーションを示す。ここで、根 γ
1,2は負の値持ち、下記 の関係が成り立つ。 [0056] [数 9]
Figure imgf000014_0001
[0057] ここで、 I γ Iの逆数は過渡期が終了する時間に対応し、大体の分子では lnsec
1,2
以内で定常状態になる。したがって、多くの場合、ナノ秒のレーザ光源を用いた蛍光 抑制過程の場合、式 (8)おける指数項を無視でき、以下のように表すことができる。
[0058] [数 10]
"。 , ) ¾ ^ !3
, ) - D23 , (10 )
n2(t,Ie) * D33
[0059] したがって、 S状態のポピュレーションは、下記のような具体的な形で表すことがで きる。
[0060] [数 11] n,it = - σ°1'Ρ k +σ j ^ , り
1 , 20 十び 01 >、 r
- + σοιΙρ +/ +σι2 )/e
τ ft21 Λ20
[0061] この式(11)を式 (4)に代入すれば、超解像顕微鏡法で重要な dip ratioを算出する ことができる。
[0062] [数 12]
( )
Figure imgf000014_0002
[0063] 蛍光抑制を効率的に誘起させるためには、式(12)の分子が分母に対してできるだ け小さい方が良ぐ S力 Sに励起させるのに要するフオトンフラックスが十分小さい
0 1
場合には、式(12)は、さらに簡単な下記の実用的な式(13)に近似できる。
[0064] [数 13]
Figure imgf000015_0001
[0065] ここで、式(13)の分母に注目すると、 k
20 Z(k +k )は分子が S状態より S状態を 21 20 n 1 迂回して基底状態に緩和する分岐比であることを考えると、 σ k / (k +k )は3
12 20 21 20 1 から snへの励起により無輻射過程で緩和する断面積と解釈できる。さらに、下記の式 (14)で定義されるような分光パラメータ(σ )すなわち「dip断面積」を定義する。この dip
量は、ィレース光照射時において蛍光過程以外で S状態から緩和する総断面積で あり、 すなわち蛍光寿命と並び、蛍光抑制の発現の程度を決定する大変重要な分 光パラメータである。
[0066] [数 14]
^= σ12 -^— (14)
[0067] 超解像顕微鏡の光源としては、汎用性の高い商業用のナノ秒パルスレーザを用い る。これらのレーザ光源は、 lOnsec前後のパルス幅をもっている。したがって、実用 的には、式(14)の dip ratioの関係式を用いて顕微鏡システムを構築できる。顕微鏡 の光学系が無収差であると仮定すれば、理論的に期待できる PSFは、式(1)、(2)、 (3)、(12)、(13)および(14)より、下記の式(15)から求められる。
[0068] [数 15]
(15) k NAr
2 ∞ τ 1
1 + 15.380) — Α 2∑ +1 ( eNA ) +—― J2 (ke^Ar)
se
[0069] ここで、 ε および ε は、ポンプ光およびィレース光の光子エネルギーであり、ポン
P e
プ光およびィレース光の照射強度をそれぞれの光子エネルギーで割るとフォトンフラ ックスとなる。原理的には、ポンプ光とィレース光との照射条件および試料の分子が 決まると、式(15)を用いて超解像顕微鏡法の PSFを決定できる。しかし、実用的に は式(15)を近似して、さらに単純ィ匕できる。
[0070] 図 5から明らかなように、ベッセルビームは、空間変調されていない通常の集光ビー ムと比較すると、倍のサイズに広がっている。カロえて、実際の現場では、ィレース光の 照射による蛍光発光を阻止するために、ポンプ光より長い波長帯域の光をィレース 光として用いるので、その集光サイズはさらに大きくなる。したがって、ポンプ光とィレ ース光とを試料面に同軸で集光すると、ポンプ光の強度分布の大半はィレース光の 穴の内側に存在することになる。そこで、式(3)を近似的に光軸近傍で rのべき乗に 展開し、この穴の強度プロファイルを簡単な関数で近似すると、下記の式(16)が得ら れる。
[0071] [数 16]
C 1
G(JC) = 15.38 -^[-k„NAr keNAr Ϋ +0(r5)]2, (16)
ε。 6 385
[0072] 式(14)から明らかなように、第 1項と比較して r3以上の高次項は無視できる。事実、 穴の内側のプロファイルは、図 5に示すように、 rに関する 2次関数でほぼ表現できる 。この結果を用いれば、式(15)は下記の式(17)のように単純ィ匕することができる。
[0073] [数 17]
1 CPO
2Jx kpNAr ) 2
(17 )
1 σ ώΡ6 kpNAr
-(ke-NAr)2
τ 2.34ε.
[0074] ここで、ローレンチアン関数 L(r)を式(18)で示すよう
[数 18] C_ P
S P
(18 )
σ dip e 0
+ つ -( NA r)
T 2.34 ε a とおくと、 F(r)はポンプ光の PSFを、下記の式(19)で表される半値幅(g)のローレン チアン関数 L(r)で変調したものに他ならな 、。
[0075] [数 19]
Figure imgf000016_0001
[0076] 式(15)によれば、超解像顕微鏡法で得られる PSFの半値幅は、ィレース光の強度 が増すにつれて、式(17)のようなローレンチアン関数に変化して行くことが分かる。 よって、式(19)で示される蛍光スポットを小さくするための必要条件は、 σ C を大
dip e0 きくすればよいことが分かる。特に、実用性を鑑みると、ィレース光の強度はできるだ け小さいことが望ましいので、試料分子としては蛍光寿命ておよび dip断面積ができ るだけ大きいものを選定することが有利であることが分かる。
[0077] ここで、式(12)に立ち戻って考察すると、蛍光抑制を効率的に誘起させるためには 、式(12)において、分子が分母に対してできるだけ小さい方が有利である。一般に、 蛍光寿命ては試料分子固有なものであるので、式(12)において、分子は必然的に
を満たす必要がある。すなわち、整理すると、下記の式(20)を満たす必要がある。
[0078] [数 20]
( 2 0 )
[0079] また、式(17)を考察すると、超解像顕微鏡法により分解能の向上が確認できるの は、式(18)で示される変調関数であるローレンチアン関数の半値幅 gが、式(1)で与 えられるポンプ光の集光ビームサイズの半値幅よりも小さくなることが不可欠である。 ここで、ポンプ光の集光ビームサイズの半値幅(Γ)は、一般にレイリーの規範式によ り、下記の式(21)で与えられる。
[0080] [数 21]
Γ = 0 .61 ( 21 )
NA
[0081] したがって、 gが Γより小さくなる条件は、式(21)および(19)から、下記の式(22) のようになる。
[0082] [数 22]
Figure imgf000017_0001
[0083] 具体的には、下記の式(23)を満たすことが条件となる。
[0084] [数 23]
0. 65 ( λ e/ X p) < τ σ d i p I e ( 23 )
[0085] さらに、式(13)の分母は、分子に対してできるだけ大きいことが望ましいことから、ィ レース光のフォントンフラックスに関しては、 τが試料分子固有であることを考えると di P断面積を用いて下記の式(24)を満たすようにするのが望ま 、。
[0086] [数 24] 丄≤(び/ +び〗2 ^^) (24)
て +
[0087] この式(23)を整理すると、下記の式(25)が得られる。
[0088] [数 25]
τ σ d i p I e > 1 ( 25 )
[0089] 以上の考察から、図 1に示す超解像顕微鏡を、式 (20)および (23)、さらに好ましく は式 (25)を満足するように構成することで、その性能を向上させることができる。
[0090] 次に、図 1に示す構成の超解像顕微鏡において、ポンプ光の波長を 532nm、ィレ ース光の波長を 599nmとして、ローダミン 6G分子を用いた実験結果にっ 、て考察 する。先ず、最初に、式(13)を用いて、メタノール溶液中のローダミン 6Gの dip ratio の測定に関する実験データの解析を行なった。
[0091] 図 7は、メタノール溶液中の蛍光寿命 τが 3. 75nsecのローダミン 6Gを用いた場合 の dip断面積( σ )をパラメータとする dip ratioとィレース光のフォトンフラックスとの関 係を示すものである。図 7によれば、 σ を 0. 7 X 10—16cm2前後に選ぶと、実験結果
dip
をほぼ再現できることが分かる。ローダミン 6Gに関しては、波長 599nmの領域では S 力 Sへの吸収断面と誘導放出断面とが重複するので、正確な σ は不明である
I n dip
力 S力 Sへの吸収断面積および誘導放出断面積が 10—16cm2オーダーであること が報告されおり、本解析結果は妥当なものであると判断できる。
[0092] 次に、本発明者らは、 σ を 0. 7 X 10— 16cm2、 τを 3. 75nsecと仮定して、式(15) およびその近似系である式(17)により超顕微鏡法における PSFを求めた。図 8は、 ィレース光のピーク値のフオトンフラックスが2. 1 X 1025photons/sec/cm2すなわち 電場強度にして 7MWZcm2の場合の PSFを示す。実線の細線および太線は、それ ぞれ式(15)および(17)の PSFであり、近似式ではサイドローブの部分で僅かな解 離が見られるが、プロファイルの一致は良い。図 8によれば、フオトンフラックスが 1025 photons/sec/cm2のオーダーで顕著な超解像性が発現し、本計算の場合には蛍 光プロファイルの半値幅は、ポンプ光の回折限界の 1Z3サイズである 200nmに収 縮する。
[0093] 以上の条件を考察してみると、ポンプ光のフォトンフラックス Ipを 1023photonsZcm2 Zsecとすると、これは十分に蛍光発生できる光量である。例えば、 E. Sahara and D. Treves, IEEE. J. Quantum Electron. 13, 962 (1977)のデータ、 σ =4 X 10— 16cmお
01
よび τ = 3. 75nsecを用いれば、 Ιρ σ τ = 0. 15となり、式(20)を満たしている。ま
01
た、 Ie = 1025photons/cm2/sec、 σ = 0. 6 X 10— 16cm2とすれば、 Ie σ τ = 2. 6
dipl dip
となり、式(23)および(25)を同時に満たし、請求項の条件を具体的に満たしている ことが確認できる。
[0094] 図 9は、直径 175 μ mの蛍光ビーズを用いて同じ条件で超解像顕微鏡法の蛍光ス ポット像を測定した場合の PSFを示すものである。図 9において、太線で示す測定し たプロファイルも、理論解析で予想されたようにサイドローブが広がったローレンチア ン型をしている。なお、図 9において、細線は、図 8で得られた理論式による PSFをビ ーズサイズでコンボリューシヨンした結果を示す。この理論的計算は、実験結果をほ ぼ再現している。この結果、近似式(17)は、 PSFを表現する合理的な関数であると 同時に、物理的なモデルがきわめて明快な、実用的な式であることが分かる。
[0095] さらに、ローダミン 6Gを用いた場合の PSFの結像特性を考察するため、式(17)を 用いて、ィレース光のフォトンフラックスに関する依存性を計算した。図 10および図 1 1は、計算したプロファイルおよびその半値幅を示す。図 10および図 11から明らかな ように、集光したィレース光の先頭値のフォトンフラックスが 5 X 1025photons/secとな ると、回折限界サイズの 1Z4まで収縮することが分かる。例えば、開口数 1. 4の油浸 対物レンズを用いた場合、その半値幅は 70nmとなり、従来の光学顕微鏡では不可 能あった lOOnmを上回る空間分解能が期待できる。その時の、ィレース光のエネル ギ一時間平均強度を計算すると、ほぼ 20mW程度となる。このことは、低出力のレー ザ光源で対応できることを意味しており、取り扱いが難しい短パルスレーザ光源を用 いることなぐ信頼性の高い CWレーザをベースに、複雑な構成をとらない顕微鏡シス テムが構成できる可能性を示して 、る。このような簡単なレーザを用いてシステムを構 成できることは、システムの価格の低減、また本技術特有のレーザ波面の管理といつ た実用化に伴う発明の効果が期待できる。
産業上の利用可能性
この超解像顕微鏡は、光学系の回折限界を超える空間分解能で試料を観察する のに用いることができる。

Claims

請求の範囲
[1] 少なくとも基底状態を含む 3つの電子状態を有する分子を含む試料に対して、上記 分子を基底状態から励起寿命てをもつ第 1電子励起状態に励起する第 1のコヒーレ ント光を出射する第 1の光源と、
上記分子を上記第 1電子励起状態から、よりエネルギー準位の高い第 2電子励起 状態に励起する第 2のコヒーレント光を出射する第 2の光源と、
上記第 1のコヒーレント光と上記第 2のコヒーレント光とを一部重ね合わせて上記試 料に集光する光学系と、
上記光学系により集光される光と上記試料とを相対的に移動させて上記試料を走 查する走査手段と、
上記光学系からの光照射により上記試料から発生する光応答信号を検出する検出 手段とを有する超解像顕微鏡にぉ ヽて、
上記第 1のコヒーレント光の波長を λ ρ、上記第 2のコヒーレント光の波長を e、上 記第 1のコヒーレント光の上記試料面における最大フォトンフラックスを Ip、上記第 2の コヒーレント光の上記試料面における最大フォトンフラックスを Ie、上記分子が基底状 態から上記第 1電子励起状態に励起するときの吸収断面積を σ 、および蛍光抑制
01
断面積を σ とするとき、
αιρ
σ 01 I ρ τ≤ 1 、
0. 65 ( λ e λ p) < て σ d i p I e
を満足するように構成したことを特徴とする超解像顕微鏡。
[2] 請求項 1に記載の超解像顕微鏡において、
さらに、
τ σ d i p I e > 1
を満足するように構成したことを特徴とする超解像顕微鏡。 要 約 書
[課題]ポンプ光およびィレース光の光源選定を容易にでき、簡単かつ安価な構成で超解像性 を確実に発現できる超解像顕微鏡を提供する。
[解決手段]第 1の光源 2からの第 1のコヒーレント光と第 2の光源 1からの第 1のコヒーレント光と を、光学系 3 4, 9により一部重ね合わせて試料 10に集光して走査手段 6, 7により走査し、試 料 10からの光応答信号を検出手段 16で検出する超解像顕微鏡において、第 1のコヒーレント 光の波長を l p、第 2のコヒーレント光の波長を; e、第 1のコヒーレント光の試料面における最 大フオトンフラックスを Ip、第 2のコヒーレント光の試料面における最大フオトンフラックスを le、分 子が基底状態力ゝら第 1電子励起状態に励起するときの吸収断面積を σ 、および蛍光抑制断
01
面積を σ とするとき、
dip
σ I P 1
および
を満足するように構成する。
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