WO2007126012A1

WO2007126012A1 - 導電性被膜の製造方法

Info

Publication number: WO2007126012A1
Application number: PCT/JP2007/059085
Authority: WO
Inventors: Kinya Shiraishi; Kaori Sakaguchi
Original assignee: Toyo Ink Mfg Co Ltd
Current assignee: Artience Co Ltd
Priority date: 2006-04-28
Filing date: 2007-04-26
Publication date: 2007-11-08
Anticipated expiration: 2008-10-28
Also published as: EP2017016A1; JP4983150B2; CN101432081A; CN101432081B; EP2017016A4; EP2017016B1; KR20090008361A; US8313800B2; JP2007317632A; US20090258241A1; KR101404305B1

Abstract

基材上に、陰イオン交換能を有する物質を含む陰イオン交換層を形成した後、前記陰イオン交換層上に、保護物質によって被覆された導電性物質を含む層を形成する、あるいは基材上に、保護物質によって被覆された導電性物質を含む層を形成した後、前記導電性物質を含む層上に、陰イオン交換能を有する物質を含む陰イオン交換層を形成するなど、保護物質によって被覆された導電性物質と、陰イオン交換能を有する物質とを接触させることにより、基材上に導電性被膜を形成する。前記陰イオン交換層、導電性物質を含む層は、塗布、印刷などにより設けられればよく、この方法により、通常の紙基材やプラスチック基材、ガラス基材上に、低温かつ短時間で、基材との密着性に優れた導電性被膜を製造することができる。

Description

明細書

導電性被膜の製造方法

技術分野

[0001] 本発明は、導電性物質を含んでなる導電性被膜の製造方法、該製造方法により製造された導電性被膜、および該導電性被膜を有する積層体に関する。

背景技術

[0002] 導電性被膜は、ブラウン管、プラズマディスプレイパネル等の電磁波遮蔽、建材または自動車の赤外線遮蔽、電子機器や携帯電話の静電気帯電防止被膜、ガラスの曇り止め用熱線、回路基板等の配線、榭脂に導電性を付与するためのコーティング、回路そのもの等の広い範囲に用途を有する。これらの導電性被膜を形成する方法としては、金属の真空蒸着、化学蒸着、イオンスパッタリング等による方法、あるいは金属粒子を分散媒に分散させた金属コロイド溶液を塗布し、加熱焼成する方法などが従来知られている。これらの方法は操作が煩雑である、量産性に乏しい、高温での加熱が必要であるなどの問題点を含んでいる。

[0003] 一方、プリント基板等の配線を、導電膜のエッチングにより形成する方法も行われているが、エッチングは操作が煩雑で、高コストである上、廃液処理等の問題もあり、環境面からも好ましくない。また、使用できる基材力プラスチックフィルム等のエツチング耐性のあるものに限定されるという欠点があった。また、導電性ペーストによる場合は、スクリーン印刷により配線等の導電回路を作成することが必要とされ、良好な導電性を得るためには、印刷後高温で加熱する必要があり、その体積抵抗値は、 10— ⁵ Ω 'cmオーダーが限界であった (特許文献 1、 2参照)。

[0004] これに対して、最近では、銀ナノ粒子を用いることによって、 0. l〜5 /z m程度の比較的薄い膜厚で 10— ⁶ Ω 'cmオーダーの体積抵抗値が得られることが知られている（非特許文献 1、 2参照)。しかし、この抵抗値を発現させるためには、ペーストを 200°C 程度の高温で数十分間加熱して焼結させる必要があり、コート紙などの通常の紙基材ゃ、ポリエステル等のプラスチックフィルム基材に使用することは困難である。また、この方法は、形成された導電回路、導電性被膜と基材との密着性が劣り、クラックが入りやすい欠点がある (特許文献 3、 4参照)。

[0005] 特許文献 1：特開 2000— 260224号公報

特許文献 2 :特開 2003— 16836号公報

特許文献 3：特開 2004 - 273205号公報

特許文献 4：特開 2005— 81501号公報

非特許文献 1 :エレクトロニクス実装学会誌、 Vol. 5、 No. 6 (2002年）、 523〜528 頁

非特許文献 2 :曰経ナノビジネス、 Vol. 22 (2005. 9. 26)、 2〜7頁

発明の開示

発明が解決しょうとする課題

[0006] 従って、本発明は、上記従来の問題を有しない導電性被膜の製造方法、該製造方法により製造された導電性被膜、および該導電性被膜を有する積層体を提供することを目的とする。

より具体的には、本発明は、通常の紙やプラスチック、繊維、ガラス等、任意の基材上に、低温かつ短時間で導電性被膜を製造でき、上記特性に加えて、例えば、 10— ⁶ Ω ' cmオーダーの低い体積抵抗値を有し、基材との密着性の優れた導電性被膜を製造する方法、この方法により製造された導電性被膜、およびこの導電性被膜を有する積層体を提供することを目的とするものである。

課題を解決するための手段

[0007] 本発明は以下の導電性被膜の製造方法、導電性被膜、および積層体に関する。

(1)保護物質によって被覆された導電性物質と、陰イオン交換能を有する物質とを接触させることを特徴とする導電性被膜の製造方法。

[0008] (2)上記保護物質が分散剤を含んでなることを特徴とする上記 1項に記載の導電性被膜の製造方法。

[0009] (3)分散剤が脂肪酸を含むことを特徴とする上記 2項に記載の導電性被膜の製造方法。

[0010] (4)脂肪酸が、炭素数 3〜22である飽和または不飽和の脂肪酸を含む上記 3項に記載の導電性被膜の製造方法。 [0011] (5)導電性物質が、平均粒子径 0. 001〜： LO mの導電性微粒子である上記 1項に記載の導電性被膜の製造方法に関する。

[0012] (6)導電性物質が、金、銀、銅、ニッケル、白金、ノラジウム、および鉄力も選ばれた金属、またはこれら金属の合金の少なくとも 1種である、上記 5項に記載の導電性被膜の製造方法。

[0013] (7)導電性物質が銀である、上記 5項に記載の導電性被膜の製造方法。

[0014] (8)基材上に、陰イオン交換能を有する物質を含む陰イオン交換層を形成した後、該陰イオン交換層上に、保護物質によって被覆された導電性物質を含む被膜層を形成する上記 1〜7項のいずれかに記載の導電性被膜の製造方法。

[0015] (9)基材上に、保護物質によって被覆された導電性物質を含む被膜層を形成した後

、該被膜層上に、陰イオン交換能を有する物質を含む陰イオン交換層を形成する上記 1〜7項のいずれかに記載の導電性被膜の製造方法。

[0016] (10)上記 1〜9項のいずれかに記載の方法によって製造されてなる導電性被膜。

[0017] (11)基材上に、陰イオン交換能を有する物質を含む陰イオン交換層、保護物質によつて被覆された導電性物質を含む被膜層の順に積層されてなる積層体。

[0018] (12)基材上に、保護物質によって被覆された導電性物質を含む被膜層、陰イオン交換能を有する物質を含む陰イオン交換層の順に積層されてなる積層体。

[0019] (13)保護物質が、炭素数 3〜22である飽和または不飽和の脂肪酸を含む上記 11または 12項に記載の積層体。

発明の効果

[0020] 本発明の導電性被膜の製造方法により、低温かつ短時間で、優れた導電性、例えば 10— ⁶ Ω · cmオーダーの体積抵抗値を有してヽる導電性被膜を形成することができる。また、本発明の導電性被膜は、紙、各種プラスチックフィルム、ガラス、繊維等に対する密着性に優れているため、基材の種類を問わずあらゆる基材上に容易に本発明の導電性被膜を形成することができる。

また、本発明の導電性被膜を形成するために用いられる被膜形成用組成物は、グラビア印刷、フレキソ印刷、インクジェット印刷を始めとする各種印刷方式、あるいは各種塗布方式に適した特性を有する組成物、例えば印刷インキある、は塗料であることから、基材上に適宜の印刷方式、あるいは塗布方式により、量産性良ぐ低コストで導電回路や導電膜を形成することができる。

本発明の導電性被膜は、薄膜でも優れた導電特性を有することから、非接触型 IC メディアのアンテナ回路や、プリント基板の導電回路、印刷工レクト口-タス用導電材料、各種電極材、電磁波シールド用メッシュ形成、電磁波シールド用導電性薄膜、静電気帯電防止膜、非導電性物への導電性付与膜、例えば導電布等に使用できる。発明を実施するための最良の形態

[0021] 以下、本発明を更に詳しく説明する。しかし、本発明は本発明の技術的思想を逸脱しない限り、以下の説明ある、は実施の形態に限定されるものではな、。

[0022] 先ず、本発明の導電性被膜の製造方法は、保護物質によって被覆された導電性物質と陰イオン交換能を有する物質とを接触させることを特徴としてヽる。これら保護物質によって被覆された導電性物質と陰イオン交換能を有する物質とを接触させる態様としては、（I)保護物質で被覆された導電性物質を含んだ層と陰イオン交換能を有する物質を含んだ層（陰イオン交換層）とを隣接層として設ける、あるいは (Π)保護物質で被覆された導電性物質と陰イオン交換能を有する物質を同一層内に互いに接触させるような状態で含ませる方法がある。 (I)の方法での導電性被膜の製造方法としては、例えば、（I 1)基材上に、陰イオン交換能を有する物質を含んだ陰イオン交換層を形成し、次に、上記陰イオン交換層上に、保護物質で被覆された導電性物質を含んだ被膜層を形成して導電性被膜を形成する方法、および、（I 2)基材上に、保護物質で被覆された導電性物質を含んだ被膜層を形成し、次に、該被膜層上に、陰イオン交換能を有する物質を含んだ陰イオン交換層を形成して導電性被膜を形成する方法が挙げられる。また (Π)の方法での導電性被膜の製造方法としては、例えば、基材上に、保護物質で被覆された導電性物質と陰イオン交換能を有する物質を含んだ被膜形成用組成物力もなる層を形成する方法が挙げられる。これらの層は、保護物質で被覆された導電性物質を含む被膜形成用組成物、陰イオン交換能を有する物質を含む被膜形成用組成物、ある!ヽは保護物質で被覆された導電性物質と陰イオン交換能を有する物質を含む被膜形成用組成物を、基材に例えば塗布、印刷などにより被覆し、導電性被膜層とする方法が挙げられる。しかし、本発明の導電性被膜の製造方法では、保護物質によって被覆された導電性物質と陰イオン交換能を有する物質とが何らかの方法により接触していればよいのであり、保護物質によつて被覆された導電性物質と陰イオン交換能を有する物質とを接触させる方法が、上記例示方法に限られるものではな、。

[0023] 以下、本発明で用いられる保護物質によって被覆された導電性物質 (A)、陰イオン交換能を有する物質 (B)、これらを含む被膜形成用組成物 (C)、導電性被膜の形成方法 (D)、導電性被膜を有する積層体 (E)、導電性被膜の各種用途 (F)について順次詳細に説明する。

[0024] (A)保護物質によって被覆された導電性物質

先ず、本発明で用いられる、保護物質によって被覆された導電性物質における導電性物質について説明する。本発明で用いられる導電性物質は、被膜に導電性を与えるために用いられるものであり、被膜に導電性を与えるものである限りどのようなものであってもよい。このような導電性物質としては、代表的なものとして導電性の金属物質が挙げられる。このような金属物質としては、導電性の金属単体、例えば、金、銀、銅、ニッケル、白金、パラジウム、鉄、コノレト、タングステン、チタン、インジウム、イリジウム、ロジウム、アモルファス銅等の金属；これら金属の合金、例えば銀—銅合金など;これら金属の金属複合体、例えば銀銅複合体など;金属を更に他の導電性金属で被覆したもの、例えば、銀めつき銅などが挙げられる。導電性金属としては、なかでも、金、銀、銅、ニッケル、白金、パラジウム、鉄が好ましぐ金、銀、銅、二ッケルが更に好ましぐ導電性、コストの点力も銀が更に好ましい。その他の導電性物質としては、例えば、上記金属物質で被覆した無機物粉末、酸化銀、酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化亜鉛、酸化スズ、アンチモンドープ酸化スズ、インジウム—スズ複合酸化物等の金属酸化物、カーボンブラック、グラフアイト、金属錯体、有機導電性物質等を用いることもできる。導電性物質は、 1種を単独で用いてもよいし、 2種類以上を組み合わせて用いてもよ!、。 2種以上の導電性物質を組み合わせて用いる場合、これら複数の物質は、混合物、混融物、分散物、被覆物など任意の形態であつてよい。また、これら導電性物質は、微粒子、例えば平均粒子径が 0. 001〜： LO mの範囲の微粒子であるものが、本発明では好ましく用いられる。この範囲の導電性微粒子を用いることにより、低温かつ短時間で優れた導電性能を有する導電性被膜の形成が可能となる。一方、平均粒子径が前記範囲の上限値を超える場合、導電性が低下するば力りでなぐ低温での融着性が劣ることがあり好ましくない。

[0025] 上記平均粒子径範囲の導電性金属物質として、例えば、湿式法、アトマイズ法、電解法等の従来周知あるいは公知の製法によって得られる粉末状の導電性金属物質 (A— 1)が挙げられる。この導電性金属物質 (A—1)の形状としては、例えば、フレーク状、鱗片状、板状、球状、略球状、凝集球状、樹枝状、箔状等種々の形状が知られているが、いずれの形状のものをも本発明では使用することができる。またこれら製法により製造されたものは、通常平均粒子径が 1 m以上であるが、上記理由から平均粒子径が 1〜： L 0 mのものが好ましい。

[0026] 更に、上記平均粒子径範囲の導電性金属物質の他のものとして、例えば、ガス中蒸発法等の気相法、液相中で超音波、紫外線や還元剤を用いて金属化合物を還元する液相法 (例えば、特許文献 5、 6参照）、あるいは溶融法、電解法等により得られる平均粒子径 0. 001-0.： mの導電性微粒子 (A— 2)が挙げられる。本発明においては、導電性被膜層形成方法にもよるが、平均粒子径が 0. 001-0. 05 /z mの導電性微粒子を用いることが更に好ましい。この導電性微粒子 (A— 2)は、上記導電性金属物質 (A— 1)に比べてより好ましいものである。この導電性微粒子 (A— 2)中では、製造コスト、工数を考慮すると、金属化合物を液相中で超音波、紫外線や還元剤を用いて還元する液相法によって得られる導電性微粒子が好まし、。

[0027] 上記導電性微粒子 (A— 1)および (A— 2)は、各々 1種を単独で用いてもよ!、し、 2 種以上を組み合わせて用いてもょ、。

[0028] 特許文献 5 :特開平 11 80647号公報

特許文献 6：特開昭 61 - 276907号公報

[0029] なお、本発明における導電性物質の平均粒子径は、動的光散乱法を利用した粒子径分布測定装置 (例えば、日機装株式会社製、マイクロトラックまたはナノトラック等）により測定された値である。

[0030] また、本発明においては、導電性物質は、保護物質によって被覆されているものが用いられる。該保護物質は、導電性微粒子の凝集を防ぎ、例えば、導電性インキ、導電性塗料などの導電性物質を含む被膜層形成用組成物とした際に、該組成物中での導電性物質の分散安定性を高めるために用いられているものであり、このような目的を達成できる物質であれば、保護物質としてどのようなものでも用いることができる。このような目的を達成する保護物質として、例えば導電性物質に対する親和性基を化合物中に 1個または複数個有する化合物が挙げられる。導電性物質に対する親和性基としては、導電性物質の種類によっても異なるが、一般的には、アミノ基、 4級ァンモニゥム、水酸基、シァノ基、カルボキシル基、チオール基、スルホン酸基、リン酸、リン酸エステル等の極性基が挙げられる。しかし、導電性物質に対する親和性基が、これらに限定されるものではない。これらの親和性基は、化合物の主鎖に含まれていても、側鎖もしくは側鎖と主鎖の双方に含まれていてもよい。導電性物質に対する親和性基をィ匕合物中に 1個または複数個有する化合物としては、例えば、顔料分散剤、界面活性剤、カップリング剤、脂肪酸等が挙げられる。本発明においては、保護物質は分散剤を含むものが好ましぐさらには分散剤としては脂肪酸が好ましい。これは、脂肪酸を含んだ保護物質によって被覆された導電性微粒子が用いられると、より低温かつ短時間での導電性被膜の製造が可能となるからである。なお、本発明で「分散剤を含む」あるいは「脂肪酸を含む」とは、分散剤ある!ヽは脂肪酸が単独で用いられる場合と、分散剤あるいは脂肪酸と他の保護剤とが併用される場合との両者を含むものである。以下、保護物質として用いられる顔料分散剤、界面活性剤、カツプリング剤、脂肪酸等の分散剤について更に具体的に説明する。

本発明において保護物質として用いることができる顔料分散剤としては、導電性物質に対する親和性基をィ匕合物中に 1個または複数個有するものであればよぐ特に限定されるものではない。顔料分散剤は既に多種、多様のものが市販されており、これら市販の顔料分散剤の何れのものをも、本発明にお、て導電性物質の保護物質として用いることができる。本発明にお、て保護物質として用いることができる市販の顔料分散剤としては、例えば、ソルスノース 3000、ソルスノース 9000、ソルスパース 17000、ソノレスノース 24000、ソノレスノース 28000、ソノレスノース 32000、ソノレスノース 35100、ソルスノース 36000、ソルスパース 41000 (いずれも日本ルーブリゾ一ル株式会社製）、 SMA1000、 SMA2000, SMA3000、 SMA1440、 SMA1735 2、 SMA2625, SMA3840 (いずれも川原油ィ匕株式会社製）、 EFKA4009、 EFK A4046、 EFKA4047、 EFKA4080、 EFKA4010、 EFKA4015、 EFKA4020, EFKA4050、 EFKA4055、 EFKA4060、 EFKA4080、 EFKA4400、 EFKA4 401、 EFKA4402, EFKA4403、 EFKA4300、 EFKA4330、 EFKA4340、 EF KA6220、 EFKA6225, EFKA6230, EFKA6525, EFKA6700, EFKA6745 、 EFKA6780, EFKA6782, EFKA6903、 EFKA6906, EFKA6950, EFKA 7462、 EFKA8502, EFKA8503, EFKA8511, EFKA8512, EFKA8580, E FKA8590 (いずれもエフ力アディティブズ社製）、ァジスパー PB821、ァジスパー P B711、ァジスパー PB822、ァジスパー PN411、ァジスパー PA111 (いずれも味の素ファインテクノ株式会社製）、 TEXAPHOR— UV20、 TEXAPHOR— UV21、 T EXAPHOR-UV61 (いずれもコグニスジャパン株式会社製）、 Disperbyk— 101、 Disperbyk— 102、 Disperbyk— 103、 Disperbyk— 106、 Disperbyk— 110、 Dis perbyk— 111、 Disperbyk— 140、 Disperbyk— 142、 Disperbyk— 145、 Disper byk— 161、 Disperbyk— lfc>2、 Disperbyk— 163、 Disperbyk— 164、 Disperby k— 166、 Disperbyk— 167、 Disperbyk— lfc>8、 Disperbyk— 170、 Disperbyk— 171、 Disperbyk— 174、 Disperbyk— 180、 Disperbyk— 182、 Disperbyk— 20 00、 Disperbyk— 2001、 Disperbyk— 2050、 Disperbyk— 2070、 Disperbyk - 2090 (いずれもビックケミ一'ジャパン株式会社製）、ディスパロン KS— 860、デイスパロン KS— 873N、ディスノロン 7004、ディスパロン 1831、ディスパロン 1850、ディスノロン 1860、ディスパロン 2150、ディスパロン DA— 400N、ディスパロン PW36、ディスパロン DA— 703— 50、ディスパロン DA— 725、ディスパロン DA— 705、ディスパロン DA— 7301、ディスパロン DA— 325、ディスパロン DA— 375、ディスパロン DA— 234、ディスパロン DN— 900、ディスパロン DA— 1200 (いずれも楠本化成株式会社製)等が挙げられる。これら顔料分散剤は、 1種類を単独で、または 2種類以上を組み合わせて使用してもよぐまた、顔料分散剤と顔料分散剤以外の本発明の保護物質を組み合わせて使用してもよい。

また、界面活性剤は一般に、陰イオン系、非イオン系、両性イオン系、陽イオン系のものが知られている力本発明においては、保護物質としてこれらのいずれのものをも用いることができる。本発明において用いられる界面活性剤は、界面活性剤として知られたィ匕合物であればよぐ特に限定されるものではないが、入手が容易である点力もは、界面活性剤として市販されている化合物を使用することが好ましい。以下に、陰イオン系、非イオン系、両性イオン系、陽イオン系界面活性剤の例を具体的に示す力本発明において用いることのできる界面活性剤力下記のものに限定されるものではない。

[0033] 陰イオン界面活性剤としては、例えば、高級脂肪酸塩、アルファスルホ脂肪酸メチルエステル塩、アルキルスルホン酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキル硫酸エステル塩、アルキルエーテル硫酸エステル塩、モノアルキルリン酸エステル塩、アルファォレインスルホン酸塩、アルカンスルホン酸塩、スルホコハク酸エステル塩、アルキルエーテルスルホン酸塩、アルキルエーテルカルボン酸塩、メチルタウリン酸塩等が挙げられる。

[0034] 非イオン界面活性剤としては、例えば、グリセリン脂肪酸エステル、しょ糖脂肪酸ェステル、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリエチレングリコールアルキルエーテル、ポリエチレングリコールアルキルフエニルエーテル、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、脂肪酸アル力ノールアミド、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、アルキルグルコシド、ポリオキシエチレンアルキルフエ-ルエーテル、脂肪酸モノグリセリド等が挙げられる。

[0035] 両性イオン界面活性剤としては、例えば、アミノ酸、アルキルアミノ脂肪酸塩、アルキルべタイン、アルキルアミンォキシド、ポリアクリルアミド等が挙げられる。

[0036] 陽イオン界面活性剤としては、例えば、アルキルトリメチルアンモ -ゥム塩、ジアルキルジメチルアンモ -ゥム塩、アルキルジメチルベンジルアンモ -ゥム塩、 N—メチルビスヒドロキシェチルァミン脂肪酸エステル塩酸塩、ハロゲン化アルキルピリジ-ゥム等が挙げられる。

[0037] また、これらとは分類形態が異なるものとして、フッ素系界面活性剤、ァリル系反応性界面活性剤等の反応性界面活性剤、カチオン性セルロース誘導体、ポリカルボン酸、ポリスチレンスルホン酸等の高分子界面活性剤も知られている。これらは湿潤分散剤としても市販されているが、このような湿潤分散剤をも含め、前記いずれの界面活性剤も本発明にお、ては保護物質として用いることができる。これらの界面活性剤の市販品の一例を示せば、 EFKA5010, EFKA5044, EFKA5244, EFKA505 4、 EFKA5055, EFKA5063, EFKA5064、 EFKA5065、 EFKA5066、 EFK A5070、 EFKA5071、 EFKA5207 (いずれもエフ力アディティブズ社製）、 Disper byk— 101、 Disperbyk— 108、 Disperbyk— 130 (いずれもビックケミ^ ~ ·ジャパン株式会社製)等が挙げられる。

[0038] これら界面活性剤は、 1種類を単独で用いることも、また 2種類以上を組み合わせて用いることもできる。また、本発明においては、界面活性剤と界面活性剤以外の本発明の保護物質を組み合わせて導電性物質の保護物質として用いることもできる。

[0039] また、カップリング剤としては、一般に、シランカップリング剤、チタネート系カツプリング剤、アルミニウム系カップリング剤等が知られている力これらのいずれのものをも本発明の保護物質として使用することができる。以下に、本発明において用いることのできる市販のカップリング剤をいくつか例示する力本発明で用いられるカツプリング剤が下記のものに限定されるものではない。

[0040] シランカップリング剤としては、例えば、 ΚΑ- 1003、 ΚΒΜ— 1003、 ΚΒΕ— 1003 、 ΚΒΜ— 303、 ΚΒΜ— 403、 ΚΒΕ— 402、 ΚΒΕ403、 ΚΒΜ— 1403、 ΚΒΜ— 50

2、 ΚΒΜ— 503、 ΚΒΕ— 502、 ΚΒΕ— 503、 ΚΒΜ— 5103、 ΚΒΜ— 602、 ΚΒΜ — 603、 ΚΒΕ— 603、 ΚΒΜ— 903、 ΚΒΕ— 903、 ΚΒΕ— 9103、 ΚΒΜ— 573、 Κ ΒΜ— 575、 ΚΒΜ— 6123、 ΚΒΕ— 585、 ΚΒΜ— 703、 ΚΒΜ— 802、 ΚΒΜ— 80

3、 ΚΒΕ— 846、 ΚΒΕ— 9007 (いずれも信越ィ匕学工業株式会社製)等が挙げられる

[0041] また、チタネート系カップリング剤としては、例えば、プレンァクト KR—TTS、プレンァクト KR— 46B、プレンァクト KR— 55、プレンァクト KR— 41B、プレンァクト KR— 3 8S、プレンァクト KR— 138S、プレンァクト KR— 238S、プレンァクト 338X、プレンァタト KR— 44、プレンァクト KR— 9SA (V、ずれも味の素ファインテクノ株式会社製)等が挙げられる。

[0042] ァノレミ-ゥム系カップリング剤としては、プレンァクト AL— M (味の素ファインテクノ株式会社製)等が挙げられる。

これらのカップリング剤は、 1種類を単独で、または 2種類以上を組み合わせて使用してもよく、また、カップリング剤とカップリング剤以外の本発明の保護物質を組み合わせて使用してもよい。

[0043] 本発明において使用される脂肪酸としては、特に限定されず、一般に脂肪酸として知られているものを使用することができ、例えば直鎖飽和脂肪酸、直鎖不飽和脂肪酸、分岐脂肪酸、 3級脂肪酸などを挙げることができる。

[0044] 直鎖飽和脂肪酸としては、例えば、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カブロン酸、ェナント酸、力プリル酸、ペラルゴン酸、力プリン酸、ゥンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、ァラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラタセル酸等が挙げられる。

[0045] 直鎖不飽和脂肪酸としては、例えば、アクリル酸、クロトン酸、イソクロトン酸、ゥンデシレン酸、ォレイン酸、エライジン酸、セトレイン酸、エル力酸、ブラシジン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、ァラキドン酸、プロピオール酸、ステアロール酸等があげられる。中でも、安定性や低温分解性を考慮するとカブロン酸、ェナント酸、力プリル酸、ミリスチン酸、ォレイン酸、ステアリン酸等が挙げられる。

[0046] 分岐脂肪酸としては、例えば、イソ酪酸、イソ吉草酸、 2—ェチルへキサン酸、 2— ェチルイソへキサン酸、 2—プロピルヘプタン酸、 2—ブチルオクタン酸、 2—イソブチルイソオクタン酸、 2—ペンチルノナン酸、 2—イソペンチルノナン酸、 2—へキシルデカン酸、 2—へキシルイソデカン酸、 2—ブチルドデカン酸、 2—イソブチルドデカン酸、 2—へプチルゥンデカン酸、 2—イソへプチルゥンデカン酸、 2—イソべプチルイソゥンデカン酸、 2—ドデシルへキサン酸、 2—イソドデシルへキサン酸、 2—オタチルドデカン酸、 2—イソオタチルドデカン酸、 2—ォクチルイソドデカン酸、 2—ノ-ルトリデカン酸、 2—イソノ-ルイソトリデカン酸、 2—デシルドデカン酸、 2—イソデシルドデカン酸、 2—デシルイソドデカン酸、 2—デシルテトラデカン酸、 2—ォクチルへキサデカン酸、 2—イソォクチルへキサデカン酸、 2—ゥンデシルペンタデカン酸、 2—イソゥンデシルペンタデカン酸、 2—ドデシルヘプタデカン酸、 2—イソドデシルイソへプタデ力ン酸、 2—デシルォクタデカン酸、 2—デシルイソォクタデカン酸、 2—トリデシルヘプタデカン酸、 2—イソトリデシルイソへプタデカン酸、 2—テトラデシルォクタデカン酸、 2—イソテトラデシルォクタデカン酸、 2—へキサデシルへキサデカン酸、 2—へキサデシルテトラデカン酸、 2—へキサデシルイソへキサデカン酸、 2—イソへキサデシルイソへキサデカン酸、 2—ペンタデシルノナデカン酸、 2—イソペンタデシルイソノナデカン酸、 2—テトラデシルべヘン酸、 2—イソテトラデシルべヘン酸、 2—テトラデシルイソべヘン酸、 2—イソテトラデシルイソべヘン酸、イソヘプタン酸、イソミリスチン酸、イソパルミチン酸、イソステアリン酸、ィソアラキン酸等が挙げられる。

[0047] 3級脂肪酸としては、例えば、ビバリン酸、ネオノナン酸、ネオデカン酸、エタァシッド 9 (出光石油化学株式会社製)、エタアシッド 13 (出光石油化学株式会社製)などが挙げられる。

[0048] これらの脂肪酸は、炭素数 3〜22のものが好ましく用いられる。また、 1種類を単独で使用しても、 2種類以上を組み合わせて使用してもよぐまた、脂肪酸と脂肪酸以外の本発明の保護物質を組み合わせて使用してもよい。

[0049] これら保護物質を導電性物質に被覆する方法としては、予め製造された導電性物質と保護物質とを乾式、または湿式で混合するなどして導電性物質を保護物質により被覆する方法、導電性物質を製造する際保護物質の存在下に導電性物質を形成して、保護物質で被覆された導電性物質を得る方法、脂肪酸金属塩など保護物質として機能する物質の金属塩を還元剤などを用いて還元することにより保護物質で被覆された導電性物質を得る方法などが知られて、る。これら方法はヽずれも公知の方法であり、適宜の方法が用いられればよい。

[0050] また、本発明では、液体媒体中、下記式（1)で示されるカルポジヒドラジドまたは下記式（2)で示される多塩基酸ポリヒドラジドを用いて、金属化合物を還元することによつて得られた金属微粒子分散体を好ましく用いることができる（詳しくは PCTZJP20 06Z320493を参照）。この方法においては、還元反応が高温に加熱しなくても迅速に進行するため、反応後の金属微粒子の凝集が抑えられ、微小で粒子径の揃つた金属微粒子を得ることができる。このため、この方法で得られた金属微粒子分散物は流動性や安定性に優れており、例えば、インキとして用いた場合、低温での乾燥でも、低い体積抵抗値を有する導電性回路パターンを形成することができる。この方法では、金属塩として例えば脂肪酸金属塩を用いることにより、脂肪酸を含む保護物質で被覆された金属微粒子を直接製造することができ、またこの方法で得られた金属微粒子は諸特性が優れてヽることから、本発明では該方法で得られた金属微粒子を導電性物質として好ましく用いることができる。

[0051] [化 1]

H₂NHN— C— NHNH

(式中、 Rは n価の多塩基酸残基を表す。 )

[0052] 上記式（2)で示される多塩基酸ポリヒドラジドとしては、例えば、二塩基酸ジヒドラジド、三塩基酸トリヒドラジド、四塩基酸テトラヒドラジド等が挙げられ、二塩基酸ジヒドラジドとしては、例えば、マロン酸ジヒドラジド、コハク酸ジヒドラジド、ダルタル酸ジヒドラジド、アジピン酸ジヒドラジド、セバチン酸ジヒドラジド、ドデカン酸ジヒドラジド、イソフタル酸ジヒドラジド、テレフタル酸ジヒドラジド、タルタロジヒドラジド、ピメリン酸ジヒドラジド、スベリン酸ジヒドラジド、ァゼライン酸ジヒドラジド、へキサデカン酸ジヒドラジド、 2 , 6 ナフトェ酸ジヒドラジド、 1, 4 ナフトェ酸ジヒドラジド、酒石酸ジヒドラジド、リンゴ酸ジヒドラジド、イミノジ酢酸ジヒドラジド、ィタコン酸ジヒドラジド等が挙げられる。

[0053] また三塩基酸トリヒドラジドとしては、例えば、クェン酸トリヒドラジド、トリメリット酸トリヒドラジド、ユトリロ酢酸トリヒドラジド、シクロへキサントリカルボン酸トリヒドラジド等があげられる。四塩基酸テトラヒドラジドとしては、エチレンジァミン四酢酸テトラヒドラジド、ピロメリット酸テトラヒドラジド等があげられる。上記以外の多塩基酸ポリヒドラジドとしては、ポリアクリル酸ポリヒドラジド等が挙げられる。

[0054] この導電性微粒子製造方法の一例を挙げると、例えば、金属化合物として脂肪酸の金属塩を用い、これをトルエンなどの水と相分離する非水系溶剤に溶解し、この溶解溶液に上記式（1)で示されるカルポジヒドラジドまたは上記式（2)で示される多塩基酸ポリヒドラジドの水溶液を滴下して前記脂肪酸金属塩を還元し、反応後の微粒子非水系微粒子分散体から水相を分離、除去し、その後非水系溶剤相を、水を用いて洗浄することにより、不純物の分離された脂肪酸で被覆された金属微粒子分散体が製造される。

[0055] 本発明では、保護物質は、導電性物質 100重量部に対する保護物質の総量で 1 〜2000重量部の範囲で用いることが好ましいが、 10〜： LOO重量部の範囲で用いることが更に好ましい。保護物質の使用量が 1重量部未満の場合、保護物質の効果が得られず、導電性微粒子の凝集を生じるためである。また、 2000重量部を超える場合、安定ィ匕に寄与しない余剰の保護物質の存在が、導電性インキなどとして用いた場合の導電性や、物性に悪影響を与えるため好ましくな、。

[0056] (B)陰イオン交換能を有する物質

次に、保護物質によって被覆された導電性物質と接触される陰イオン交換能を有する物質について説明する。

本発明におヽて陰イオン交換能を有する物質とは、陰イオン交換反応を示す物質をいう。イオン交換反応とは、一般に、固体または液体中のイオンが、それと接する外部溶液中にある同符号のイオンと交換する現象である。本発明で用いられる陰イオン交換能を有する物質としては、分子中に陰イオン交換にあず力るイオン性基、陰ィォン交換基を有するものが挙げられる。陰イオン交換にあずカゝるイオン性基、陰イオン交換基としては、例えば、アンモニゥム基、ホスホニゥム基、スルホニゥム基、アミノ基や、第 1級ァミン、第 2級ァミン、第 3級ァミンが挙げられる。

[0057] 本発明におヽて、導電性物質は本発明の保護物質で被覆され分散安定化して!/ヽるが、前記陰イオン交換能を有する物質と接触することにより、保護物質が陰イオン交換能を有する物質によって導電性物質の表面力も奪われたり、あるいは保護物質が、例えば、 F―、 Cl—、 Br―、 Γ、 CIO―、 CIO―、 SO ²—、 NO―、 CrO―、 CO ²—、 PO ³—、 H

4 3 4 3 4 3 4

PO ² H PO―、 OH—等のイオンに交換されたりすることにより、活性エネルギーの高

4 2 4

い導電性物質の表面が露出する。これにより導電性物質は、分散安定性を失い凝集して、融着しゃすくなるため、室温等低温での被膜形成時においても、導電性物質の被膜ィ匕が速やかに進行して導電性発現が可能となったと考えられる。

[0058] 本発明の陰イオン交換能を有する物質としては、例えば陰イオン交換榭脂、カチォン活性剤等のカチオン性ィ匕合物、無機陰イオン交換体等が挙げられる。陰イオン交換榭脂は、一般に、スチレン Zジビュルベンゼン共重合体力なる橋かけ高分子母体を、クロロメチルイ匕後ァミノ化することにより作ることができる。クロロメチル基は、無水塩化アルミニウム触媒の存在下、クロロメチルエーテルを反応させることで容易に導入される。アミノ化は、クロロメチル基をァミンで処理する反応である力ァミンの種類により各種の陰イオン交換樹脂ができる。陰イオン交換樹脂には、強塩基性陰イオン交換榭脂および弱塩基性イオン交換樹脂があり、トリメチルァミンを用いて第 4アンモ-ゥム基を導入したものは強塩基性 I型、ジメチルエタノールアミンを用いて 4級化したものは強塩基性 II型といわれている。また、第 1級ないし第 3級ァミンを導入すると弱塩基性イオン榭脂となる。また、上記スチレン Zジビニルベンゼン共重合体は、懸濁重合により得られるが、透明で均質な橋かけ球状粒子のものを一般にゲル型と呼び、他方、水不溶性の芳香族炭化水素等の高沸点有機溶媒を加えて多孔質ィ匕したものはマクロポーラス型、生成した重合体をほとんど膨潤させな、2—ブタノール等の有機溶媒を添加して得られた多孔体は MR型榭脂と呼ばれてヽる。本発明においては、これらの陰イオン交換榭脂を含め陰イオン交換榭脂であれば何れのものでも陰イオン交換能を有する物質として用いることができる。

[0059] 一方、カチオン性ィ匕合物としては、例えば、第 4アンモ-ゥム塩、または第 4アンモ -ゥム塩を有する化合物などが挙げられる。第 4アンモ-ゥム塩は、一般に、第 3アミンにハロゲン化アルキルを作用させて作ることができる。この第 4アンモ-ゥム塩としては、例えば、窒素原子を環内に持つ N—メチルビペリジンメチォジドや、キノリンメチォジド等の環状第 4アンモ-ゥム塩、塩ィ匕ベンザルコ-ゥム、塩ィ匕べンゼトニゥム、ハロゲン化アルキルトリメチルアンモ-ゥム、ハロゲン化アルキルピリジ-ゥム、高級ァミンのハロゲン酸塩等のカチオン活性剤が挙げられ、これらのいずれをも本発明の陰イオン交換能を有する物質として使用することができる。

[0060] また、これらの第 4アンモ-ゥム塩基を導入した榭脂化合物や、アンモ-ゥム基、ホスホ -ゥム基、スルホ -ゥム基、アミノ基や、第 1級ァミン、第 2級ァミン、第 3級ァミンを導入した榭脂ィ匕合物も同様に使用することができる。榭脂化合物としては、例えば、アクリル系榭脂や、ウレタン系榭脂、ポリアミン系榭脂、アクリルアミド系榭脂、ァリルァミン重合榭脂、ジァリルアミン重合樹脂等が挙げられる。更に、ジシアンジアミジンやジシアンジアミドの重合榭脂等や、榭脂を直接カチオン変性したカチオン変性榭脂や、例えばァリルアミン重合榭脂を架橋させた榭脂ビーズ等も挙げられ、これらも使用することができる。

[0061] また、第 4アンモ-ゥム塩の酸基としては、例えば、 F―、 Cl—、 Br―、 Γ、 CIO―、 CIO―、

4 3

SO ²—、 NO―、 CrO―、 CO ²—、 PO ³—、 HPO ²—、 H PO―、 OH—等いずれの酸基も用い

4 3 4 3 4 4 2 4

ることがでさる。

[0062] 無機イオン交換体、いわゆる固体塩基としては、例えば、活性炭や、酸化スズ、酸ィ匕マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウム、酸化アルミニゥム、酸化ジルコニウム、二酸化チタン等の金属酸化物、炭酸マグネシウム、炭酸カルシゥム等の金属炭酸塩、 ZnO/ZrO、 MgO/TiO、 CaO/P O、 SiO /CaO/

2 2 2 5 2

MgO、 SiO /Al O、 SiO ZSrO、 SiO /BaO、 ZnO/SiO、 TiO /ZrO、 Al O

2 2 3 2 2 2 2 2 2

/TiO、 SiO /ZrO、 Al O +ZrO、 SiO /TiO、 MoO /SiO、 MoO /Al O

3 2 2 2 2 3 2 2 2 3 2 3 2

、 Al O ZMgO等の複合酸化物、ゼォライト、 Na/MgO, K/MgO, Na/Al O

3 2 3 2 3 等の金属蒸着金属酸化物、 KNH ZA1 O、 EuNHZK— Y等のイミン担持金属酸

2 2 3

化物、 KFZA1 O、 LiCO /SiO等のアルカリ金属塩類等が挙げられる。更に、無

2 3 3 2

機イオン交換体としては、例えばシリカ、コロイダルシリカ、チタニア上に、例えば酸ィ匕アルミニウム等で被覆して、表面の電荷をカチオンィ匕したものなども使用することができる。

[0063] 上記陰イオン交換能を有する物質は、 1種類を単独で使用しても、 2種類以上を組み合わせて使用してもよい。

[0064] (C)被膜形成用組成物

(C 1)導電性物質を含む被膜層形成用組成物

まず、本発明の保護物質によって被覆された導電性物質を含む被膜層を形成するために用いられる導電性物質を含む被膜層形成用組成物から説明する。

本発明で用いる保護物質によって被覆された導電性物質は前記したとおり種々の方法で製造することができる。このとき、利用した製造方法により保護物質によって被覆された導電性物質が溶媒分散液として直接得られる場合には、これを導電性物質を含む被膜層形成用組成物として用いてもよい。しかし、保護物質によって被覆された導電性物質が溶媒分散物として得られな!/ヽ場合は、導電性物質を被覆して!/ヽる保護物質の溶解性を損なわない範囲で、各種の液状媒体を使用して、導電性物質分散体とすることができる。更に組成物の特性を向上させたい場合には、保護物質によつて被覆された導電性物質に、必要に応じて、榭脂および Zまたはその前駆体、その他の添加剤等を添加して、導電性物質を含む被膜層形成用組成物とされてもよ!、。前記する「その他の添加剤」としては、例えば消泡剤、レべリング剤、滑剤、分散剤等が挙げられる。被膜形成用組成物は、使用される被覆方法によって、例えば、塗料あるいはインキなどと呼称されている。例えば、コーター、浸漬、噴霧などにより塗布される場合には、被膜形成用組成物は塗料あるいは場合によってはインキといわれ、印刷機、プリンターなどにより印刷される場合にはインキあるいはインクといわれている。そして、これら被膜形成用組成物は被覆方法に適した組成とするベぐ液状媒体、榭脂および Zまたはその前駆体、その他の添加剤等が適宜選定されている。本発明においても、保護物質によって被覆された導電性物質、液状媒体、榭脂および Zまたはその前駆体、その他の添加剤等を選定することにより、使用する被覆方法に最適の特性の特性を有する組成物とすることができる。

得られた導電性物質を含む被膜層形成用組成物導電性微粒子分散体は、導電性インキ、導電性塗料として、グラビア印刷、フレキソ印刷、インクジェット印刷などの各種印刷方式、各種塗布形式への適用が可能である。

[0065] 本発明の導電性物質を含む被膜層形成用組成物で用いられる液状媒体としては、例えば、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、グリコールエーテル系溶剤、脂肪族系溶剤、芳香族系溶剤、アルコール系溶剤、グリコール系溶剤、エーテル系溶剤、環状ェ一テル系溶剤、水等が挙げられる。これら溶剤は、 1種類を単独で使用しても、 2種類以上を組み合わせて用いてもよい。以下、これら各溶剤について、更に詳細に説明する。

[0066] 上記エステル系溶剤としては、例えば、ギ酸ェチル、ギ酸プロピル、ギ酸ブチル、ギ酸イソブチル、ギ酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸ェチル、酢酸 n—プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸 n—ブチル、酢酸イソブチル、酢酸 sec—ブチル、酢酸（イソ）ァミル、酢酸シクロへキシル、乳酸ェチル、酢酸 3—メトキシブチル、酢酸 sec へキシル、酢酸 2—ェチルブチル、酢酸 2—ェチルへキシル、酢酸ベンジル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸ェチル、モノクロ口酢酸メチル、モノクロ口酢酸ェチル、モノクロ口酢酸ブチル、ァセト酢酸メチル、ァセト酢酸ェチル、プロピオン酸ブチル、プロピオン酸ィソァミル、 γ—プチ口ラタトン等が挙げられ、ケトン系溶剤としては、例えば、アセトン、ァセトフエノン、メチルェチルケトン、メチルプロピルケトン、ジェチルケトン、メチル η ーブチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソプチルケトン、メチルアミルケトン、ァセトニルアセトン、イソホロン、シクロへキサノン、メチルシクロへキサノン、 2—（1ーシクロへキセ -ル）シクロへキサノン等が挙げられる。

[0067] また、グリコールエーテル系溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノェチルエーテノレ、エチレングリコーノレモノイソプロピノレエーテノレ、エチレングリコーノレモノブチノレエーテノレ、ジエチレングリコーノレモノェチノレエーテノレ、ジエチレングリコーノレモノ η—ブチノレエーテル、プロピレングリコーノレモノメチノレエーテル、プロピレングリコーノレモノェチルエーテル、プロピレングリコールモノ _η—プロピルエーテル、プロピレングリコーノレモノ η—ブチノレエーテノレ、ジプロピレングリコーノレモノメチノレエーテノレ、ジプロピレングリコーノレモノェチノレエーテル、ジプロピレングリコーノレモノ η プロピノレエーテル、ジプロピレングリコールモノ η ブチルエーテル、トリエチレングリコーノレモノメチノレエーテノレ、トリエチレングリコールモノェチルエーテル、トリエチレングリコールモノ η プロピルエーテル、トリエチレングリコールモノ _η—ブチルエーテル、トリプロピレングリコーノレモノェチノレエーテル、トリプロピレングリコーノレモノ _η—プロピノレエ一テル、トリプロピレングリコールモノ η ブチルエーテル、およびこれらモノエーテル類の酢酸エステル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジェチルェ一テル、ジエチレングリコールメチルイソブチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジェチルエーテル等のジアルキルエーテル類が挙げられる。

[0068] 脂肪族系溶剤としては、例えば、ノルマルパラフィン系溶剤として、 η—へキサン、 η —ヘプタン、 η オクタン、 η—ノナン、 η—デカン、 η—ドデカン、 0号ソルベント L、 M 、 H (V、ずれも新日本石油株式会社製）、ノルマルパラフィン SL、 L、 M (V、ずれも新日本石油株式会社製）、イソパラフィン系溶剤として、イソへキサン、 2, 2, 3 トリメチルペンタン、イソオクタン、 2, 2, 5 卜リメチルへキサン、アイソゾール 200、 300、 40 0 (いずれも新日本石油株式会社製）、スーパゾル FP2、 25、 30、 38 (いずれも出光興産株式会社製）、シクロパラフィン系溶剤としては、シクロペンタン、メチルシクロべンタン、シクロへキサン、メチルシクロへキサン、ェチルシクロへキサン、ナフテゾール 160、 200、 220 (いずれも新日本石油株式会社製）、 AFソルベント 4号、 5号、 6号、 7号 (いずれも新日本石油株式会社製)、テトラヒドロナフタリン、デカヒドロナフタリン、テレビン油、リモネン、工業用揮発油 1号、 2号、 3号、 4号、 5号、リグ口イン等が挙げられる。

[0069] 芳香族系溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン、ェチルベンゼン、ナフタレン、テトラリン、ソルベントナフサ、芳香族混合炭化水素等が挙げられる。

[0070] アルコール系溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、 _n—プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、 n—ブチルアルコール、イソブチルアルコール、 sec— ブチルアルコール、 t ブチルアルコール、ヘプタノール、 n—ァミルアルコール、 sec ーァミルアルコール、 n—へキシルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、フルフリルアルコール、ァリルアルコール、エチレンクロロヒドリン、オタチルドデカノール、 1ーェチルー 1 プロパノール、 2—メチルー 1ーブタノール、イソアミルアルコール、 tーァミルアルコール、 sec イソアミルアルコール、ネオアミルアルコール、へキシルアルコール、 2—メチルー 1 ペンタノール、 4ーメチルー 2 ペンタノール、へプチルアルコール、 _n—ォクチルアルコール、 2—ェチルへキシルアルコール、ノ-ルアルコール、デシルアルコール、ゥンデシルアルコール、ラウリルアルコール、ベンジルァルコール、 _a テルピネオール、シクロへキサノール、 3—メトキシブタノール、ジァセトンアルコール、 1, 4 ブタンジオール、オクタンジオール等や、ファインォキソコール 140N、ファインォキソコール 1600、ファインォキソコール 180、ファインォキソコール 180N、ファインォキソコール 2000 (いずれも日産化学工業株式会社製)等の側鎖高級アルコール等が挙げられる。

[0071] グリコール系溶剤としては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコーノレ、プロピレングリコール、 1, 3 ブチレングリコーノレ、へキシレングリコール、ポリエチレングリコール、ジプロピレングリコール等が挙げられる。

[0072] エーテル系溶剤としては、例えば、ェチルエーテル、イソプロピルエーテル、ジォキサン、ジブチルエーテル、メチルー t ブチルエーテル等が挙げられる。

[0073] 環状エーテル系溶剤としては、例えば、テトラヒドロフラン、 1, 3 ジォキソラン、が挙げられる。また、その他の液状媒体として、ジメチルカーボネート、ェチルメチルカーボネート、ジー n ブチルカーボネート、フルフラールが挙げられる。

[0074] 導電性物質を含む被膜層形成用組成物に用いられている材料や、被膜形成方法など種々の条件で異なるものの、これら液体媒体は、導電性物質を含む被膜層形成用組成物 100重量％中、通常 0. 01〜99重量％、好ましくは 0. 1〜95重量％となるように添加して用いることができる。

[0075] 本発明の導電性物質を含む被膜層形成用組成物において用いられる榭脂および Zまたはその前駆体は、使用する基材に対する密着性や、導電性インキ、導電性塗料などの陰イオン交換能を有する物質を含む被膜形成用組成物との密着性を高める、あるいは導電性インキ、導電性塗料などの成膜性を向上させるために用いられるもので、例えば、ポリウレタン榭脂、（不飽和）ポリエステル榭脂、アルキッド榭脂、プチラール榭脂、ァセタール榭脂、ポリアミド榭脂、（メタ)アクリル榭脂、スチレン Z (メタ）アクリル榭脂、ポリスチレン榭脂、ニトロセルロース、ベンジルセルロース、セルロース (トリ）アセテート、カゼイン、シェラック、ゼラチン、ギノレソナイト、ロジン、ロジンエステル、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、ヒドロキシェチルセノレロース、ヒドロキシプロピノレセノレロース、メチノレセノレロース、ェチノレセノレロース、ヒドロキシェチノレメチノレセノレロース、ヒドロキシプロピノレメチノレセノレロース、カノレボキシメチノレセノレロース、カノレボキシメチノレエチノレセノレロース、カノレボキシメチノレニトロセノレ口ース、エチレン Zビュルアルコール榭脂、スチレン Z無水マレイン酸榭脂、ポリブタジェン榭脂、ポリ塩化ビニル榭脂、ポリ塩ィ匕ビニリデン榭脂、ポリフッ化ビニリデン榭脂、ポリ酢酸ビニル榭脂、エチレン,酢酸ビニル榭脂、塩化ビニル,酢酸ビニル榭脂、塩ィ匕ビュル Z酢酸ビュル Zマレイン酸榭脂、フッ素榭脂、シリコン榭脂、エポキシ榭脂、フヱノキシ榭脂、フエノール榭脂、マレイン酸榭脂、尿素樹脂、メラミン榭脂、ベンゾグアナミン榭脂、ケトン樹脂、石油榭脂、塩素化ポリオレフイン榭脂、変性塩素化ポリオレフイン榭脂、塩素化ポリウレタン榭脂等が挙げられる。

[0076] 榭脂の前駆体としては、例えば、（メタ)アクリル酸、（メタ）アタリレートイ匕合物、ビ- ルエーテルィ匕合物等のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物が挙げられる。これらエチレン性不飽和二重結合を有する化合物は、単官能であっても、多官能であつてもよい。これらの化合物は、 1種を単独で用いることもできるし、 2種以上を組み合わせて用いることもできる。なお、本発明において「(メタ)アクリル酸」という場合、ァクリル酸およびメタクリル酸を含む意味で使用される。また「(メタ)アタリレート」という場合にも、同様に、アタリレートとメタタリレートを含む意味で用いられる。その他 (メタ）ァクリロイルなどでも、同様である。

[0077] (メタ）アタリレートイ匕合物のうち、単官能 (メタ)アタリレートイ匕合物としては、例えば、メチル (メタ）アタリレート、ェチル (メタ）アタリレート、 n—ブチル (メタ）アタリレート、イソブチル (メタ）アタリレート、 t—ブチル (メタ）アタリレート、ブタンジオールモノアクリレート、 2— (ジメチルァミノ）ェチル (メタ）アタリレート、 2- (ジェチルァミノ）ェチルメタタリレート、 2—ヒドロキシェチル (メタ）アタリレート、 2—ヒドロキシプロピル (メタ）アタリレート、 4ーヒドロキシブチル (メタ）アタリレート、 2—メトキシェチルアタリレート、 N ビ二ルカプロラタタム、 N—ビニルピロリドン、アタリロイルモルフォリン、 N ビニルホルムアミド、シクロへキシル (メタ）アタリレート、ジシクロペンタ-ル (メタ）アタリレート、グリシジル (メタ）アタリレート、イソボ-ル (メタ）アタリレート、フエノキシ (メタ）アタリレート、イソデシル (メタ）アタリレート、ラウリル (メタ）アタリレート、テトラヒドロフルフリル (メタ）アタリレート、 2—フエノキシェチル (メタ）アタリレート、イソオタチル (メタ）アタリレート、メトキシトリエチレングリコールアタリレート、 2 エトキシェチルアタリレート、 3—メトキシブチルアタリレート、ベンジル (メタ）アタリレート、 2— (2—エトキシエトキシ）ェチルアタリレート、ブトキシェチルアタリレート、エトキシジエチレングリコールアタリレート、メトキシジプロピレングリコールアタリレート、メチルフエノキシェチルアタリレート、ジプロピレンダリコール (メタ）アタリレート、（メタ）アタリロイ口キシェチルサクシネート、 2— (メタ）アタリロイロキシェチル 2—ヒドロキシプロピルフタレート、 2 アタリロイロキシェチルへキサヒドロフタレート、 2 -ヒドロキシ 3 アタリロイロキシプロピル (メタ）アタリレート、 2—メタクリロイ口キシェチノレイソシァネート等が挙げられる。 [0078] また、多官能の (メタ)アタリレートイ匕合物としては、例えば、エチレングリコールジ (メタ）アタリレート、ジエチレングリコールジ (メタ）アタリレート、 1, 6 へキサンジオールジ（メタ）アタリレート、エトキシ化 1, 6 へキサンジオールジアタリレート、ネオペンチルグリコールジ (メタ）アタリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アタリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ (メタ）アタリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アタリレート、ポリプロピレングリコールジアタリレート、 1, 4 ブタンジォールジ（メタ）アタリレート、 1, 9ーノナンジオールジアタリレート、テトラエチレングリコールジアタリレート、 2—n—ブチルー 2 ェチルー 1, 3 プロパンジオールジアタリレート、ジメチロールートリシクロデカンジアタリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアタリレート、 1, ₃—ブチレングリコールジ (メタ）アタリレート、エトキシ化ビスフエノール Aジ (メタ）アタリレート、プロポキシ化ビスフエノール Aジ (メタ）アタリレート、シクロへキサンジメタノールジ (メタ）アタリレート、ジメチロールジシクロペンタンジアタリレート、トリメチロールプロパントリアタリレート、エトキシ化トリメチロールプロノントリアタリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリアタリレート、ペンタエリスリトールトリアタリレート、テトラメチロールプロパントリアタリレート、テトラメチロールメタントリアタリレート、ペンタエリスリトールテトラアタリレート、力プロラタトン変性トリメチロールプロパントリアタリレート、エトキシ化イソシァヌール酸トリアタリレート、トリ（2—ヒドロキシェチルイソシァヌレート）トリアタリレート、プロポキシレートグリセリルトリアタリレート、テトラメチロールメタンテトラアタリレート、ペンタエリスリトールテトラアタリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアタリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアタリレート、ジペンタエリスリトールへキサアタリレート、ネオペンチルグリコールオリゴアタリレート、 1, 4 ブタンジオールオリゴアタリレート、 1, 6 へキサンジオールオリゴァクリレート、トリメチロールプロパンオリゴアタリレート、ペンタエリスリトールオリゴアタリレート、ウレタンアタリレート、エポキシアタリレート、ポリエステルアタリレート、ロジン変性アタリレート等が挙げられる。

[0079] ビュルエーテル化合物のうち、単官能のビュルエーテル化合物として、ヒドロキシェチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、シクロへキサンジメタノールモノビュルエーテル、シクロへキシルビ-ルエーテル等が挙げられる。また、多官能のビュルエーテル化合物としては、例えば、エチレングリコールジビュルエーテル、ジエチレングリコールジビニノレエーテル、トリエチレングリコールジビニノレエーテル、ペンタエリスリトールジビニノレエーテル、プロピレングリコールジビニノレエーテル、ジプロピレングリコールジビュルエーテル、ネオペンチルグリコールジビュルエーテル、 1 , 4 ブタンジオールジビニノレエーテル、 1, 6 へキサンジオールジビニノレエーテノレ、トリメチロールプロパンジビニルエーテル、 1, 4ージヒドロキシシクロへキサンジビニノレエーテノレ、 1, 4ージヒドロキシメチルシクロへキサンジビニルエーテル、ビスフエノール Aジエトキシジビニルエーテル、グリセロールトリビニルエーテル、ソルビトールテトラビニノレエーテノレ、トリメチローノレプロパントリビニノレエーテノレ、ペンタエリスリトーノレトリビュルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビュルエーテル、ジペンタエリスリトールへキサビュルエーテル、ジトリメチロールプロパンテトラビュルエーテル等が挙げられる。

[0080] さらに、上記化合物以外のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、例えば、 N—ビニルァセトアミド、トリス（アタリ口キシェチル)イソシァヌレート、ポリェチレングリコールジメタタリレート、メトキシポリエチレングリコールメタタリレート、トリブロモフエ-ル（メタ）アタリレート、ペンタエリスリトールジァクリレートモノステアレート、 2 メタリロイ口キシェチルへキサヒドロフタレート、ステアリルアタリレート、テトラメチルピぺジリルメタタリレート等が挙げられる。

[0081] これらの榭脂および Zまたはその前駆体は、保護物質によって被覆された導電性物質の導電性を阻害しない範囲で用いればよぐ使用される被覆された導電性物質として何が用いられるか、被膜形成する基材の種類や隣接層の組成、被膜形成方法、榭脂またはその前駆体として何が用いるかなど種々の条件によって異なるものの、導電性物質を含む被膜層形成用組成物 100重量％中、通常 0. 01〜99重量％、好ましくは 0. 1〜95重量％となるように添カ卩して用いることができる。

[0082] 本発明の導電性物質を含む被膜層形成用組成物において用いられる消泡剤としては、例えば、サーフィノール DF— 70、サーフィノール DF— 75、サーフィノール DF 210、サーフィノール DF— 695 (いずれもエアープロダクツジャパン株式会社製）、 EFKA2022, EFKA2023, EFKA2025, EFKA2028, EFKA2035, EFKA 2038、 EFKA2040, EFKA2048、 EFKA2527, EFKA2550, EFKA2721, E FKA2722, EFKA2723 (いずれもエフ力アディティブズ社製）、 BYK— 051、 BY K— 052、 BYK— 053、 BYK— 054、 BYK— 055、 BYK— 057、 BYK— 1752、 B YK— 1790、 BYK— 060N、 BYK— 063、 BYK— 065、 BYK— 067A、 BYK— 0 70、 BYK— 077、 BYK— 080A、 BYK— 088、 BYK— 141、 BYK— 354、 BYK

— 392、 BYK— 011、 BYK— 012、 BYK— 017、 BYK— 018、 BYK— 019、 BYK

— 020、 BYK— 021、 BYK— 022、 BYK— 023、 BYK— 024、 BYK— 025、 BYK

— 028、 BYK— 038、 BYK— 044、 BYK— 080A、 BYK— 094、 BYK— 1610、 B YK— 1615、 BYK— 1650、 BYK— 1730、 BYK— 1770 (いずれもビックケミ^ ~.ジャパン株式会社製）、ディスパロン OX— 880EF、ディスパロン OX— 881、デイスパロン OX— 883、ディスパロン OX— 77EF、ディスパロン OX— 710、ディスパロン OX— 8040、ディスノ Pン 1922、ディスノ Pン 1927、ディスノ Pン 1950、ディスノ Pン 195 1、ディスパロン P— 410EF、ディスパロン P— 420、ディスパロン P— 425、デイスパロン PD— 7 (いずれも楠本ィ匕成株式会社製)等が挙げられる。消泡剤は、導電性物質を含む被膜層形成用組成物 100重量％中、通常 0. 005〜10重量％、好ましくは 0. 01〜5重量％となるように添加して用いることができる。

本発明の導電性物質を含む被膜層形成用組成物において用いられるレべリング剤としては、例えば、サーフィノール 104PA、サーフィノール 420、サーフィノール 440 、サーフィノール 465、サーフィノール 485、サーフィノール 504、サーフィノール SE F (いずれもエアープロダクツジャパン株式会社製）、 EFKA3030、 EFKA3031 、 EFKA3033, EFKA3034, EFKA3035, EFKA3232, EFKA3236, EFKA 3239、 EFKA3299, EFKA3522, EFKA3523, EFKA3580, EFKA3835, E FKA3883、 EFKA3886、 EFKA3888、 EFKA3277, EFKA3500、 EFKA35 70、 EFKA3600, EFKA3650, EFKA3772, EFKA3777, EFKA3778 (いずれもエフ力アディティブズ社製）、 BYK- 300、 BYK- 302、 BYK- 306、 BYK- 3

07、 BYK— 310、 BYK— 315、 BYK- 320、 BYK- 322、 BYK- 323、 BYK- 3

25、 BYK— 330、 BYK— 331、 BYK- 333、 BYK- 337、 BYK- 340、 BYK- 3

44、 BYK— 370、 BYK— 375、 BYK- 377、 BYK- 350、 BYK- 352、 BYK- 3 54、 BYK- 355, BYK— 358N、 BYK— 361N、 BYK— 392、 BYK— UV3500、 BYK— UV3510、 BYK-UV3570, BYK— Siclean3700、 BYK— 301、 BYK

— 302、 BYK— 307、 BYK— 325、 BYK— 331、 BYK— 333、 BYK— 341、 BYK

— 345、 BYK— 346、 BYK— 347、 BYK— 348、 BYK— 375、 BYK— 380N、 B YK— 381、 Byketol— OK、 Byketol- Special, Byketol— WS (いずれもビックケミ一'ジャパン株式会社製）、ディスパロン 1970、ディスノロン 230、ディスパロン LF 1970、ディスパロン LF— 1982、ディスパロン LF— 1983、ディスパロン LF— 198 4、ディスパロン LF— 1985 (いずれも楠本ィ匕成株式会社製)等が挙げられる。レベリング剤は、導電性物質を含む被膜層形成用組成物 100重量％中、通常 0. 005〜1 0重量％、好ましくは 0. 01〜5重量％となるように添カ卩して用いることができる。

[0084] 本発明の導電性物質を含む被膜層形成用組成物において用いられる滑剤としては、例えば、 CERAFLOUR914、 CERAFLOUR915、 CERAFLOUR916、 CE RAFLOUR950、 CERAFLOUR970、 CERAFLOUR980、 CERAFLOUR98

8、 CERAFLOUR990、 CERAFLOUR991、 CERAFLOUR994、 CERAFLO UR995、 CERAFLOUR996、 CERAFLOUR998、 AQUACER498, AQUAC ER515、 AQUACER526, AQUACER531, AQUACER537, AQUACER53

9、 AQUACER593, AQUAMAT263, AQUAMAT270, CERACOL79, CE RACOL601、 CERAFAK103, CERAFAK106, CERAFAK110、 CERATIX 8461、 CERATIX8463 (いずれもビックケミ一 ·ジャパン株式会社製）等が挙げられる。滑剤は、導電性物質を含む被膜層形成用組成物 100重量％中、通常 0. 005〜 10重量％、好ましくは 0. 01〜5重量％となるように添カ卩して用いることができる。

[0085] 本発明の導電性物質を含む被膜層形成用組成物において用いられる分散剤としては、先に保護物質としてあげた顔料分散剤、界面活性剤などを挙げることができる。分散剤は導電性物質を含む被膜層形成用組成物 100重量％中、通常 0. 01〜99 重量％、好ましくは 0. 1〜95重量％となるように添加して用いることができる。

[0086] 本発明の導電性物質を含む被膜層形成用組成物を製造するには、保護物質によつて被覆された導電性物質を、必要に応じて、液体媒体、消泡剤、レべリング剤、滑剤、分散剤、榭脂および Zまたはその前駆体等と混合し、従来公知の方法、例えばボールミル、アトライター、サンドミル、ジェットミル、 3本ロールミル、ペイントシエ一力一等を用いて分散するか、または、従来公知の方法、例えば、ミキサー、ディソルバ一を用いて撹拌、混合するればよい。

[0087] (C 2)陰イオン交換能を有する物質を含む被膜形成用組成物（陰イオン交換層形成用組成物）

次に、陰イオン交換能を有する物質を含む被膜形成用組成物（陰イオン交換層形成用組成物）について説明する。

陰イオン交換層形成用組成物は、用いられる陰イオン交換能を有する物質、被覆対象となる基材、陰イオン交換層形成用組成物が導電性物質を含む被膜層形成用組成物膜上に被覆される場合には、該組成物膜の特性、あるいは陰イオン交換層形成用組成物の塗布または印刷方法などに応じて適宜の液状媒体を使用することができる。そして、陰イオン交換層形成用組成物は、前記した陰イオン交換能を有する物質を液状媒体と混合し、更に必要に応じて消泡剤、レべリング剤、滑剤、分散剤、陰イオン交換能を有する榭脂以外のその他の榭脂および Zまたはその前駆体、陰ィオン交換能を有するまたは有さない、無機または有機微粒子等を混合し、導電性物質を含む被膜層形成用組成物を製造する際に用いた方法と同様の方法、例えばボールミル、アトライター、サンドミル、ジェットミル、 3本ロールミル、ペイントシェーカー等を用いて分散するか、または、例えば、ミキサー、ディソルバーを用いて撹拌、混合すること〖こより製造することができる。

[0088] 陰イオン交換層形成用組成物は、上記方法によって製造が可能であるが、陰ィォン交換能を有する物質が、液状媒体に可溶の物質である場合は、液状媒体と混合撹拌しながら溶解して用いることができ、また、液状媒体に不溶の物質である場合は、上記分散機を用いて、陰イオン交換能を有する物質を分散した後、必要に応じて上記添加剤、その他の榭脂等を加えて陰イオン交換層形成用組成物とすることができる。得られた陰イオン交換層形成用組成物は、導電性物質を含む被膜層形成用組成物同様、塗料、インキ等として用いられて、基材等に被覆される。

[0089] 陰イオン交換層形成用組成物を製造する際に用いられる液状媒体としては、導電性物質を含む被膜層形成用組成物を製造する際に挙げられた液状媒体と同様の液状媒体、例えば、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、グリコールエーテル系溶剤、脂肪族系溶剤、芳香族系溶剤、アルコール系溶剤、グリコール系溶剤、エーテル系溶剤

、水等を使用することができ、これらは 2種類以上を混合して使用することもできる。これら各溶剤の具体例も導電性物質を含む被膜層形成用組成物を製造する際に挙げられたものと同様のものが使用できるが、本発明ではイオン交換能を有する榭脂に対する溶解性の理由から、水、アルコール系溶剤、グリコールエーテル系溶剤、グリコール系溶剤、あるいはこれらの溶剤と水の混合溶剤等が、陰イオン交換層形成用組成物の溶剤として好ましく用いられる。また、必要に応じて用いられる消泡剤、レベリング剤、滑剤、分散剤なども導電性物質を含む被膜層形成用組成物を製造する際に挙げられたものと同様のものが用いられる。

一方、陰イオン交換能を有する物質として用いられる榭脂以外のその他の榭脂および Zまたはその前駆体は、陰イオン交換能を有する物質を含む被膜形成用組成物が塗布あるいは印刷される基材に対する密着性や、保護物質によって被覆された導電性物質を含んだ被膜との密着性を高める、ある!/ヽは形成された導電性被膜を保護する目的で添加される。このような目的で添加されるその他の榭脂としては、例えばポリウレタン榭脂、飽和または不飽和ポリエステル榭脂、アルキッド榭脂、プチラール榭脂、ァセタール榭脂、ポリアミド榭脂、（メタ)アクリル榭脂、スチレン Z (メタ)アタリル榭脂、ポリスチレン榭脂、ニトロセルロース、ベンジルセルロース、セルロース（トリ）アセテート、カゼイン、シェラック、ゼラチン、ギルソナイト、ロジン、ロジンエステル、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、ヒドロキシェチルセル口ース、ヒドロキシプロピノレセノレロース、メチノレセノレロース、ェチノレセノレロース、ヒドロキシェチノレメチノレセノレロース、ヒドロキシプロピノレメチノレセノレロース、カノレボキシメチノレセノレロース、カノレボキシメチノレエチノレセノレロース、カノレボキシメチノレニトロセノレロース、エチレン zビュルアルコール榭脂、スチレン Z無水マレイン酸榭脂、ポリブタジエン榭脂、ポリ塩化ビニル榭脂、ポリ塩ィ匕ビニリデン榭脂、ポリフッ化ビニリデン榭脂、ポリ酢酸ビニル榭脂、エチレン z酢酸ビニル榭脂、塩化ビニル Z酢酸ビニル榭脂、塩ィ匕ビュル z酢酸ビュル zマレイン酸榭脂、フッ素榭脂、シリコン榭脂、エポキシ榭脂、フエノキシ榭脂、フエノール榭脂、マレイン酸榭脂、尿素樹脂、メラミン榭脂、ベンゾグァナミン榭脂、ケトン樹脂、石油榭脂、塩素化ポリオレフイン榭脂、変性塩素化ポリオレフィン榭脂、塩素化ポリウレタン榭脂等が挙げられる。これらの榭脂は上記添カ卩目的を達成するべぐ基材、被膜形成方法、導電性被膜特性などに応じ適宜のものが選定される。これらの中では、陰イオン交換層被膜の基材に対する密着性、被膜強度の理由から、ポリビュルアルコール、ポリビュルホルマール、ポリビュルァセタール、ポリビュルプチラール、（メタ)アクリル榭脂、スチレン Z (メタ)アクリル榭脂、ポリエステル榭脂、ポリウレタン榭脂等が好ましいものとして挙げられる。これらその他の榭脂は

1種を単独で用いてもょ、し、 2種以上を組み合わせて用いてもょ、。

[0091] 上記樹脂のうち、フエノール榭脂、エポキシ榭脂、メラミン榭脂、尿素樹脂、ポリエステル榭脂、アルキッド榭脂等に、アミン類、酸無水物類、メルカプト類、イミダゾール類、イソシァネート類、ジシアンジアミド類、ジヒドラジド類等の硬化剤を組み合わせて用いることによって、得られた被膜の耐溶剤性ゃ耐薬品性等の物性を高めることができる。

[0092] また、榭脂の前駆体としては、例えば、（メタ)アクリル酸、（メタ)アタリレートイ匕合物、ビニルエーテルィ匕合物等のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物が挙げられる。これらエチレン性不飽和二重結合を有する化合物は、単官能であっても、多官能であってもよい。これらの化合物は、 1種を単独で用いることもできるし、 2種以上を組み合わせて用いることもできる。

[0093] (メタ）アタリレートイ匕合物のうち、単官能 (メタ)アタリレートイ匕合物としては、例えば、メチル (メタ）アタリレート、ェチル (メタ）アタリレート、 n—ブチル (メタ）アタリレート、イソブチル (メタ）アタリレート、 t—ブチル (メタ）アタリレート、ブタンジオールモノアクリレート、 2— (ジメチルァミノ）ェチル (メタ）アタリレート、 2- (ジェチルァミノ）ェチルメタタリレート、 2—ヒドロキシェチル (メタ）アタリレート、 2—ヒドロキシプロピル (メタ）アタリレート、 4ーヒドロキシブチル (メタ）アタリレート、 2—メトキシェチルアタリレート、 N—ビ二ルカプロラタタム、 N—ビニルピロリドン、アタリロイルモルフォリン、 N—ビニルホルムアミド、シクロへキシル (メタ）アタリレート、ジシクロペンタ-ル (メタ）アタリレート、グリシジル (メタ）アタリレート、イソボ-ル (メタ）アタリレート、フエノキシ (メタ）アタリレート、イソデシル (メタ）アタリレート、ラウリル (メタ）アタリレート、テトラヒドロフルフリル (メタ）アタリレート、 2—フエノキシェチル (メタ）アタリレート、イソオタチル (メタ）アタリレート、メトキシトリエチレングリコールアタリレート、 2 エトキシェチルアタリレート、 3—メトキシブチルアタリレート、ベンジル (メタ）アタリレート、 2— (2—エトキシエトキシ）ェチルアタリレート、ブトキシェチルアタリレート、エトキシジエチレングリコールアタリレート、メトキシジプロピレングリコールアタリレート、メチルフエノキシェチルアタリレート、ジプロピレンダリコール (メタ）アタリレート、（メタ）アタリロイ口キシェチルサクシネート、 2— (メタ）アタリロイロキシェチル 2—ヒドロキシプロピルフタレート、 2 アタリロイロキシェチルへキサヒドロフタレート、 2 -ヒドロキシ 3 アタリロイロキシプロピル (メタ）アタリレート、 2—メタクリロイ口キシェチノレイソシァネート等が挙げられる。

また、多官能の (メタ)アタリレートイ匕合物としては、例えば、エチレングリコールジ (メタ）アタリレート、ジエチレングリコールジ (メタ）アタリレート、 1, 6 へキサンジオールジ（メタ）アタリレート、エトキシ化 1, 6 へキサンジオールジアタリレート、ネオペンチルグリコールジ (メタ）アタリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アタリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ (メタ）アタリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アタリレート、ポリプロピレングリコールジアタリレート、 1, 4 ブタンジォールジ（メタ）アタリレート、 1, 9ーノナンジオールジアタリレート、テトラエチレングリコールジアタリレート、 2—n—ブチルー 2 ェチルー 1, 3 プロパンジオールジアタリレート、ジメチロールートリシクロデカンジアタリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアタリレート、 1, ₃—ブチレングリコールジ (メタ）アタリレート、エトキシ化ビスフエノール Aジ (メタ）アタリレート、プロポキシ化ビスフエノール Aジ (メタ）アタリレート、シクロへキサンジメタノールジ (メタ）アタリレート、ジメチロールジシクロペンタンジアタリレート、トリメチロールプロパントリアタリレート、エトキシ化トリメチロールプロノントリアタリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリアタリレート、ペンタエリスリトールトリアタリレート、テトラメチロールプロパントリアタリレート、テトラメチロールメタントリアタリレート、ペンタエリスリトールテトラアタリレート、力プロラタトン変性トリメチロールプロパントリアタリレート、エトキシ化イソシァヌール酸トリアタリレート、トリ（2—ヒドロキシェチルイソシァヌレート）トリアタリレート、プロポキシレートグリセリルトリアタリレート、テトラメチロールメタンテトラアタリレート、ペンタエリスリトールテトラアタリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアタリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアタリレート、ジペンタエリスリトールへキサアタリレート、ネオペンチルグリコールオリゴアタリレート、 1, 4 ブタンジオールオリゴアタリレート、 1, 6 へキサンジオールオリゴァクリレート、トリメチロールプロパンオリゴアタリレート、ペンタエリスリトールオリゴアタリレート、ウレタンアタリレート、エポキシアタリレート、ポリエステルアタリレート、ロジン変性アタリレート等が挙げられる。

[0095] ビュルエーテル化合物のうち、単官能のビュルエーテル化合物として、ヒドロキシェチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、シクロへキサンジメタノールモノビュルエーテル、シクロへキシルビ-ルエーテル等が挙げられる。また、多官能のビュルエーテル化合物としては、例えば、エチレングリコールジビュルエーテル、ジエチレングリコールジビニノレエーテル、トリエチレングリコールジビニノレエーテル、ペンタエリスリトールジビニノレエーテル、プロピレングリコールジビニノレエーテル、ジプロピレングリコールジビュルエーテル、ネオペンチルグリコールジビュルエーテル、 1 , 4 ブタンジオールジビニノレエーテル、 1, 6 へキサンジオールジビニノレエーテノレ、トリメチロールプロパンジビニルエーテル、 1, 4ージヒドロキシシクロへキサンジビニノレエーテノレ、 1, 4ージヒドロキシメチルシクロへキサンジビニルエーテル、ビスフエノール Aジエトキシジビニルエーテル、グリセロールトリビニルエーテル、ソルビトールテトラビニノレエーテノレ、トリメチローノレプロパントリビニノレエーテノレ、ペンタエリスリトーノレトリビュルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビュルエーテル、ジペンタエリスリトールへキサビュルエーテル、ジトリメチロールプロパンテトラビュルエーテル等が挙げられる。

[0096] さらに、上記化合物以外のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、例えば、 N—ビニルァセトアミド、トリス（アタリ口キシェチル)イソシァヌレート、ポリェチレングリコールジメタタリレート、メトキシポリエチレングリコールメタタリレート、トリブロモフエ-ル（メタ）アタリレート、ペンタエリスリトールジァクリレートモノステアレート、 2 メタリロイ口キシェチルへキサヒドロフタレート、ステアリルアタリレート、テトラメチルピぺジリルメタタリレート等が挙げられる。

[0097] 榭脂の前駆体を含む陰イオン交換層形成用組成物を、電子線照射により硬化する場合には、榭脂の前駆体 (エチレン性不飽和二重結合を有する化合物)の分子鎖切断によってラジカル重合が起こる。これに対し、紫外線を照射して硬化する場合は、前記被膜形成用組成物に光重合開始剤を添加するのが一般的である。

[0098] 光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフエノン系、チォキサントン系、ァセトフエノン系、ベンゾイン系、ァシルフォスフィンオキサイド系、ビスイミダゾール系、アタリジン系、カルバゾールーフエノン系、トリアジン系、ォキシム系等の光重合開始剤を使用することができる。光重合開始剤は、榭脂の前駆体 100重量部に対して、 1〜20重量部の量で用いることができる。

[0099] 前記光重合開始剤について更に具体的に説明すると、前記べンゾフエノン系光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフエノン、ベンゾィル安息香酸、 4 フエ-ルペンゾフエノン、 4, 4ージェチルァミノべンゾフエノン、 3, 3—ジメチルー 4ーメトキシベンゾフエノン、 4—ベンゾィル—4—メチルジフエ-ルサルファイド等が挙げられる。また、チォキサントン系光重合開始剤としては、例えば、チォキサントン、 2—クロ口ォキサントン、 2, 4 ジェチルチオキサントン、 1 クロロー 4 プロポキシチォキサントン、ィソプロピルキサントン等が挙げられる。ァセトフエノン系光重合開始剤としては、例えば、 2 メチル 1 [ (4 メチルチオ）フエニル] 2 モルフォリノプロパン 1ーォン、 2—ベンジル一 2—ジメチルァミノ一 1— (4—モルフォリノフエ-ル）一ブタノン一 1 、 1— [4— (2 ヒドロキシエトキシ） -フエ-ル] 2 ヒドロキシ - 2 メチル 1 プ口パン一 1—オン、 2—ヒドロキシ一 2—メチル 1—フエ-ルプロパン一 1—オン、 1— ヒドロキシーシクロへキシルーフエ二ルーケトン、 2, 2—ジメチルー 2—ヒドロキシァセエトフエノン、 2, 2 ジメトキシー 2 フエ-ルァセトフエノン、 4ーフエノキシジクロロアセトフエノン、ジエトキシァセトフエノン、 1—ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン等が挙げられる。ベンゾイン系光重合開始剤としては、例えば、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルメチルケタール等が挙げられる。ァシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤としては、例えば、 2, 4, 6 トリメチルベンゾィルジフエ-ルホスフィンオキサイド、ビス（2, 4, 6 トリメチルベンゾィル）ァシルフォスフインオキサイド等が挙げられる。ビスイミダゾール系開始剤としては、例えば、 2, 2 ，一ビス（o クロ口フエ-ル）一 4, 5, 4，， 5，一テトラフエ-ル一 1, 2，一ビイミダゾール、 2, 2，一ビス（o クロ口フエ-ル）一 4, 5, 4，， 5，一テトラ（4—メチルフエ-ル）一 1, 2'—ビイミダゾール等が挙げられる。アタリジン系開始剤としては、例えば、 1, 7 ビス（9—アタリジル）ヘプタン、カルバゾールーフエノン系開始剤としては、例えば、 3, 6 ビス（1ーケトー 2—メチルー 2 モルホリノプロピル）ー9ーォクチルカルバゾール、トリアジン系光開始剤としては、例えば、 2, 4, 6 トリクロ口一 s トリアジン、 2 —フエ-ル一 4, 6 ビス（トリクロロメチル） s トリァジン、 2— (p—メトキシフエ-ル )—4, 6 ビス（トリクロロメチル）—s トリアジン、 2— (p トリル）— 4, 6 ビス（トリク口ロメチル） s トリァジン、 2 ピぺ口-ルー 4, 6 ビス（トリクロロメチル） s トリァジン、 2, 4 ビス（トリクロロメチル） 6—スチリル一 s トリァジン、 2— (ナフト一 1 —ィル） 4, 6 ビス（トリクロロメチル） s トリァジン、 2— (4—メトキシ一ナフト一 1 ィル） 4, 6 ビス（トリクロロメチル） s トリァジン、 2, 4 トリクロロメチル一（ピぺロニル） 6 トリァジン、 2, 4 トリクロロメチル（4'—メトキシスチリル） 6 トリアジン等が挙げられる。その他、ォキシム系開始剤等が挙げられる。

[0100] 榭脂の前駆体を含む本発明の陰イオン交換膜形成用組成物には、光重合開始剤と共に、光重合促進剤、増感剤を含ませることができる。光重合促進剤および増感剤としては、例えば、トリエタノールァミン、トリイソプロパノールァミン、 4, 4—ジメチルァミノべンゾフエノン、 2 ジメチルァミノ安息香酸ェチル、 4ージメチルァミノ安息香酸（ n—ブトキシ)ェチル等の脂肪族や芳香族のアミン類が挙げられる。

[0101] また、榭脂の前駆体を含む陰イオン交換層形成用組成物には、組成物の安定性を高める目的で、（熱)重合禁止剤を含ませることができる。（熱)重合禁止剤としては、例えば、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、 p べンゾキノン、 2, 6— tーブチルー p クレゾール、 2, 3 ジメチルー 6— t—ブチルフエノール、アンスラキノン、フエノチアジン、 N -トロソフエ-ルヒドロキシルァミンアルミニウム塩等が挙げられる。

[0102] その他の榭脂またはその前駆体は、陰イオン交換層形成用組成物 100重量％中、通常 0. 01〜99重量％、好ましくは 0. 1〜95重量％となるように添カ卩して用いることができる。

[0103] 更に、本発明の陰イオン交換層形成用組成物には、必要に応じて陰イオン交換能を有するまたは有さない、有機または無機微粒子を含ませることができる。例えば、上記被膜形成用組成物中に上記有機微粒子および Zまたは無機微粒子が含まれることによって、陰イオン交換能を有する物質が陰イオン交換層中に均一に存在することとなり、これによつて陰イオン交換能を有する物質が導電性微粒子と接触した際に、陰イオン交換反応が更に効率良く行われる。

[0104] また、用いる上記陰イオン交換能を有するまたは有さな、微粒子の平均粒子径は、 0. 001〜20. 0 mであることが好ましい。平均粒子径が 20. O /z mを超える微粒子を用いると、導電性発現効果が劣るだけでなぐ被膜形成用組成物の安定性、物性等も低下するため好ましくない。前記微粒子は、陰イオン交換層形成用組成物 100 重量％中、通常 1〜99重量％、好ましくは 5〜95重量％となるように添カ卩して用いることができる。

[0105] 上記陰イオン交換能を有するまたは有さな、無機微粒子としては、例えば、クレー、珪藻土、珪酸アルミニウム、珪酸カルシウム、珪酸マグネシウム、ノ、イド口タルサイト、タルク、カオリン、焼成カオリン、サボナイト、モルデナイト、硫酸バリウム、硫酸マグネシゥム、硫酸鉄 (Π)、硫酸カルシウム、水酸化マグネシウム、酸化亜鉛、水酸化亜鉛、硫化亜鉛、酸化鉛、リン酸マグネシウム、塩ィ匕アルミニウム、合成非晶質シリカ、コロイダルシリカ、水酸ィ匕アルミニウム、リトボン、ゼォライト、モンモリロナイト等が挙げられる。これらの無機微粒子のなかでも、非晶質シリカ、コロイダルシリカが好ましい。

[0106] 一方、有機微粒子としては、例えば、デンプン等の天然物、ポリメチルメタタリレート等のアクリル系、ポリスチレン系、スチレン/アクリル系、ナイロン 6、ナイロン 12、ナイロン 6— 12等のナイロン系、高密度ポリエチレン、低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、 4フッ化工チレン等のォレフィン系、ポリエステル系、フエノール系、ベンゾグァナミン系の樹脂微粒子が挙げられる。

これらの微粒子は、 1種を単独で、または 2種以上を組み合わせて使用することができる。

[0107] (C 3)保護物質によって被覆された導電性物質および陰イオン交換能を有する物質を含む被膜形成用組成物

保護物質によって被覆された導電性物質および陰イオン交換能を有する物質を含む被膜形成用組成物は、保護物質によって被覆された導電性物質および陰イオン交換能を有する物質を必要に応じ液状媒体、消泡剤、レべリング剤、滑剤、分散剤、陰イオン交換能を有する榭脂以外のその他の榭脂および Zまたはその前駆体、陰ィオン交換能を有するまたは有さな、無機または有機微粒子等と共に、従来公知の方法、例えばボールミル、アトライター、サンドミル、ジェットミル、 3本ロールミル、ペイントシエーカー等を用いて分散する力、または、従来公知の方法、例えば、ミキサー、デイソルバ一を用いて撹拌、混合することにより製造することができる。その際必要に応じ用いられる液状媒体、消泡剤、レべリング剤、滑剤、分散剤、陰イオン交換能を有する榭脂以外のその他の榭脂および Zまたはその前駆体、陰イオン交換能を有するまたは有さな!/、無機または有機微粒子等は、保護物質によって被覆された導電性物質を含む被膜形成用組成物あるいは陰イオン交換能を有する物質を含む被膜形成用組成物を製造する際に用いられるものと同様のものの中から、この組成物が被覆される基材、塗布または印刷方法、塗布後の膜特性、導電特性等に応じて適宜選択して用いればよい。

(D)導電性被膜の製造方法

本発明の導電性被膜の製造方法は、保護物質で被覆された導電性物質と、陰ィォン交換能を有する物質とを接触させることを特徴としているため、接触させることが可能であれば導電性被膜の製造方法や基材、導電性被膜の膜形状等は、特に限定されるものではない。この保護物質で被覆された導電性物質と、陰イオン交換能を有する物質とを接触させる態様として、 (I)保護物質で被覆された導電性物質を含んだ層と陰イオン交換能を有する物質を含んだ層とを隣接層として設ける、あるいは (II) 保護物質で被覆された導電性物質と陰イオン交換能を有する物質を同一層内に互いに接触させた状態で設ける方法があり、また (I)の態様には、（1—1)基材上に、陰イオン交換能を有する物質を含んだ陰イオン交換層を形成し、次に、上記陰イオン交換層上に、保護物質で被覆された導電性物質を含んだ被膜層を形成して導電性被膜を形成する方法、（I 2)基材上に、保護物質で被覆された導電性物質を含んだ被膜層を形成し、次に、該被膜層上に、陰イオン交換能を有する物質を含んだ陰イオン交換層を形成して導電性被膜を形成する方法があることは、既に述べたとおりである。本発明においては、これらいずれの方法を用いても、低温かつ短時間で導電性被膜の形成が可能であり、基材の種類や被覆形態、使用する材料、得られる膜の使用目的、導電性被膜に要求される導電特性等に合わせて接触態様を選択すればよい。なお、本発明の導電性被膜の製造方法が上記記載のものに限定されないことは既に述べたとおりである。

[0109] 導電性被膜を形成するための基材としては、紙、プラスチックフィルム、ガラス、繊維等、通常基材として知られたものの何れをも使用することができる。基材はフィルム状、あるいはシート状でなくてもよい。また、基材上に被膜が形成されたものを基材として使用してもよい。使用する基材は、これら従来知られた基材の中から用途に応じて適宜選択、使用すればよい。以下、これら基材を更に詳細に説明する。紙基材としては、例えば、コート紙、非コート紙の他、合成紙、ポリエチレンコート紙、含浸紙、耐水加工紙、絶縁加工紙、伸縮力卩工紙等の各種カ卩工紙が使用できる。これらの中では、導電性被膜として安定した導電性を得る観点からは、コート紙、加工紙が好ましい。コート紙の場合は、平滑度の高いものほど導電性被膜の抵抗値が安定するため好ましい。

[0110] プラスチック基材としては、例えば、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロハン、塩化ビニル、塩化ビ-リデン、ポリスチレン、ポリビュルアルコール、エチレン zビニルアルコール共重合体、ナイロン、ポリイミド、ポリカーボネート等の通常使用されるプラスチック力もなる基材を使用することができる。プラスチックフィルムの表面には、形成される導電性被膜の密着性を高めたり、塗布、印刷される導電性被膜や導電性回路等の印刷再現性等を高める目的で、必要に応じて、コロナ放電処理やブラズマ処理を施したり、ポリウレタン、ポリイソシァネート、有機チタネート、ポリエチレンィミン、ポリブタジエン等の榭脂コーティング剤を塗布したりすることができる。

[0111] ガラス基材としては、一般に基板用ガラスとして使用されているものは、いずれも使用することができる。例えば、ソーダライムガラス、マイクロシートガラス、無アルカリガラス、ノィレックスガラス、バイコールガラス、石英ガラス等が挙げられる。

[0112] 繊維基材としては、例えば、綿、麻等の植物繊維、絹、羊毛等の動物繊維、ポリエステル、アクリル、ナイロン、ビニロン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビュル、ポリエチレン、ポリ塩ィ匕ビユリデン、ポリウレタン等の化学繊維、レーヨン、ポリノジック、キュプラ等の再生繊維が挙げられる。また、繊維の構造体としては、例えば、織物、ニット、不織布等、ずれのものも用いることができる。

[0113] 本発明においては、被覆手段としては、通常グラビア印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、インクジェット印刷などによる印刷、コーター、浸漬、スプレーなどによる塗布など何れの手段によってもょ、。また塗布あるいは印刷形態も面状であってもよ、し、回路など図形状であってもよい。

[0114] 本発明の導電性被膜の製造方法について、上記 (1—1)の方法力も具体的に説明する。

先ず、基材上に、従来公知の方法で、本発明の陰イオン交換層形成用組成物を塗布または印刷する。塗布または印刷方法は、基材、用途に応じて適宜選択すればよぐ例えば、グラビア印刷、フレキソ印刷、インクジェット印刷、ディスペンサー印刷、スプレーコート、スピンコート、ダイコート、リップコート、ナイフコート、ディップコート、力一テンコート、ロールコート、バーコート等の従来公知の方法が用いられればよい。その後、基材に応じ、 50〜150°C程度の乾燥温度で数秒〜数 10分間乾燥させることで、陰イオン交換膜を基材上に形成する。陰イオン交換膜の厚さは、特に限定されないが、一般的には 0. 1〜200 m、好ましくは 1〜100 m rn程度とされる。

[0115] 次に、上記陰イオン交換膜層上に、本発明の保護物質で被覆された導電性物質を含んだ導電性物質を含む被膜層形成用組成物を塗布または印刷する。塗布または印刷方法としては、例えば、グラビア印刷、フレキソ印刷、インクジェット印刷、スプレ一コート、スピンコート、ダイコート、リップコート、ナイフコート、ディップコート、カーテンコート、ロールコート、バーコート等の方法を用いて塗布または印刷後、使用する基材に応じて、 50〜150°C程度の温度で、数秒力も数 10分程度乾燥することによって、低抵抗値を有する導電性被膜、例えば導電回路、導電膜等を得ることができる。例えば室温 25°Cで数時間、放置あるいは真空乾燥することにより溶剤を除去することによっても導電性被膜が得られるが、十分な導電性を得るためには、前記した温度での乾燥が好ましい。乾燥方法は、熱風乾燥、遠赤外線乾燥等いずれの方法も用いることができる。基材としてシュリンクフィルム等を使用した場合のように、どうしても上記のごとき温度がかけられな!/ヽ場合は、導電性物質を含む被膜層上にイオン交換塗料被膜を形成した後、例えば 40°Cで一晩、オーブン中で加熱することで十分な導電性を得ることができる。導電性物質を含む被膜の厚さ (すなわち、導電性被膜の厚さ) は、特に限定されないが、一般的には、 0. 01〜20 /ζ πι程度、好ましくは 0. 05-10 m程度とされる。例えば、導電性被膜が電磁波シールド被膜として用いられる場合には、一般には 0. 05〜5 /ζ πι程度とされ、また、導電回路として用いられる場合には、一般〖こは 0. 5〜20 /ζ πι程度とされる。

[0116] 上記において、被膜の乾燥は、熱風乾燥、遠赤外線乾燥等いずれの方法も用いることができる。

以上の方法によって、基材に対する密着性、導電性に優れた導電性被膜を得ることがでさる。

[0117] 導電性被膜製造法 (I 2)については、保護物質で被覆された導電性物質を含んだ導電性物質を含む被膜層形成用組成物、および陰イオン交換層形成用組成物を塗布または印刷する順を、方法 (1—1)と逆にすればよい。即ち、基材上に、導電性物質を含んだ導電性物質を含む被膜層形成用組成物を、上記方法 (I 1)と同様の方法で塗布または印刷後、乾燥して導電物質を含む膜、回路などを形成し、次に、陰イオン交換層形成用組成物を、方法 (I 1)と同様の方法で塗布または印刷後、乾燥して陰イオン交換膜層を形成することにより、方法 (I 1)と同様に基材に対する密着性、導電性に優れた導電性被膜を得ることができる。また、陰イオン交換層を導電性物質を含む被膜層上に形成する場合には、該陰イオン交換層を導電性被膜層の保護層として機能させることもできる。

[0118] 導電性被膜製造法 (Π)につヽては、前記で得られた保護物質で被覆された導電性物質と陰イオン交換能を有する物質を含む被膜形成用組成物を、前記したとおりの従来公知の方法で基材上に塗布または印刷後、乾燥して導電性被膜を得ることができる。

[0119] なお、本発明において、被膜が基材上に形成される場合には、基材全面を覆う必要はなぐ部分的に覆うものであったり、ノターン状であったり、回路であったりしてもよい。 [0120] 本発明の方法によって形成された導電回路などの導電性被膜は、加熱処理または加熱加圧処理を施すことにより、導電性被膜層の融着、金属化が促進されて、更に抵抗値を低減することが可能である。より高い導電性を得るためには、加熱加圧処理が好まヽが、使用する基材等の種類に応じて！/ヽずれかの方法を選択すればょヽ。加熱加圧処理は、プレスロール機、プレス機、ラミネーター等で行うことができる。カロ熱処理または加熱加圧処理の際の処理条件は、基材に影響のな!、範囲で行えばよいが、処理温度は 50〜150°C、加圧条件は、 0. 5〜2. OMPa、加圧時間は 10秒〜 10分間の範囲で行うことが好ましい。プレスロール機を用いる場合、ロールの線圧は l〜25kgZcmの範囲が好ましい。また、プレス時の基材搬送速度は l〜30mZ分の範囲で行うことができる。

[0121] また、導電回路などの導電性被膜形成後に、更にその保護を目的として、オーバ一プリントワニス、各種コーティング剤等を塗工してもよい。これらの各種ワニス、コーティング剤としては、従来印刷分野で用いられているものを利用すればよい。これらヮニスやコーティング剤は通常の熱乾燥型、

、ずれも使用できる。

[0122] また、導電性被膜上に接着剤を塗布した後、紙基材ゃプラスチックフィルムを接着、またはプラスチックの溶融押出し等によりラミネートして回路、被膜を保護することもできる。勿論、あらかじめ粘着剤、接着剤が塗布された基材を接着することによって保護層を形成することもできる。

[0123] (E)導電性物質を含む被膜を有する積層体

上記のとおり、本発明においては、基材上に導電性物質を含む被膜が形成されることにより導電性物質を含む被膜を有する積層体が形成される。積層体の具体的態様は、基材としてどのようなものが用いられるか、また導電性物質を含む被膜、陰ィォン交換膜の形成順序、保護層が更に設けられるかどうか、用途などによって異なる。本発明における代表的な積層形態としては、必要に応じ接着性向上層等が設けられたあるいは紫外線処理、コロナ放電処理、プラズマ処理などの前処理が施された基材上に、陰イオン交換膜層、導電性物質を含む被膜層、必要に応じ設けられる保護膜層が順次形成されたもの、および前記積層体の陰イオン交換膜層と導電性物質を含む被膜層の積層順序を入れ替えたものが挙げられる。なお、前記保護膜層とその下層となる導電性物質を含む被膜層または陰イオン交換膜層との間には、接着剤層等の機能層が設けられてもよい。

[0124] (F)導電性被膜の各種用途

本発明の導電性被膜は、低温での形成が可能であること、また種々の基材との密着性が良好なことから、従来基材として知られているどのような基材の上にも形成可能である。また、低温、短時間で特性の優れた導電性被膜を形成することができ、膜厚も薄、ものから厚、ものまで任意の膜厚を有するものを形成することができることから、従来導電膜が用いられているあらゆる分野の用途の導電膜、導電回路等として適用することができる。中でも本発明の導電性被膜が好ましく適用される用途としては、例えば、非接触型 ICメディアのアンテナ回路や、プリント基板の導電回路、印刷エレクトロニクス用導電材料、各種電極材、電磁波シールド用メッシュ形成、電磁波シ一ルド用導電性薄膜、静電気帯電防止膜、非導電性物への導電性付与膜、例えば導電布等が挙げられる。そして、本発明の導電性被膜は、 0. 1〜5 ;ζ ΐη程度の比較的薄い膜厚で 10— ⁶ Ω 'cmオーダーの体積抵抗値が得られることから、特に非接触型 ICメディアのアンテナ回路用の導電膜などとして好ましく用いることができる。

実施例

[0125] 以下、本発明を実施例に基づいて更に具体的に説明する力本発明はこれらに限定されるものではない。実施例中、「部」は「重量部」を、「％」は「重量％」を表す。

[0126] [導電性微粒子合成例 1]

セパラブル 4口フラスコに冷却管、温度計、窒素ガス導入管、撹拌装置を取り付け、窒素雰囲気下、室温で撹拌しながらトルエン 200部およびォレイン酸銀 38. 9部を仕込み、 0. 5Mの溶液とした後に、分散剤としてジェチルァミノエタノール 2. 3部（金属 lmolに対し 0. 2mol倍)を添加し溶解させた。その後、 20%コハク酸ジヒドラジド (以降 SUDHと略記する）水溶液 73. 1部 (金属 lmolに対しヒドラジド基 2mol倍)を滴下すると液色が淡黄色力も濃茶色に変化した。更に反応を促進させるために 40°Cに昇温し、反応を進行させた。静置、分離した後、水層を取り出すことで過剰の還元剤や不純物を除去し、更にトルエン層に数回蒸留水を加え、洗浄'分離を繰り返し、銀微粒子分散体トルエン溶液を得た。得られた銀微粒子分散体の、銀微粒子の平均粒子径は 7± 2nmであり、銀濃度は 73%であり、 40°Cで一ヶ月保存した後でも粒子径に変化はなく安定であった。

[0127] [導電性微粒子合成例 2]

セパラブル 4口フラスコに冷却管、温度計、窒素ガス導入管、撹拌装置を取り付け、窒素雰囲気下、室温で撹拌しながらトルエン 200部およびプロピオン酸銀 18. 1部を仕込み、 0. 5Mの溶液とした後に、分散剤としてジェチルァミノエタノール 2. 3部 (金属 lmolに対し 0. 2mol倍）、ォレイン酸 2. 8部（金属 lmolに対し 0. lmol倍）を添カロし溶解させた。その後、 20%SUDH水溶液 73. 1部 (金属 lmol〖こ対しヒドラジド基 2 mol倍)を添加すると液色が淡黄色から濃茶色に変化した。更に反応を促進させるために 40°Cに昇温し、反応を進行させた。静置、分離した後、水層を取り出すことで過剰の還元剤や不純物を除去し、更にトルエン層に数回蒸留水を加え、洗浄'分離を繰り返し、銀微粒子分散体トルエン溶液を得た。得られた銀微粒子分散体の、銀微粒子の平均粒子径は 5 ± 2nmであり、銀濃度は 75%であり、 40°Cで一ヶ月保存した後でも粒子径に変化はなく安定であった。

[0128] [導電性微粒子合成例 3]

原料の金属塩をペンタン酸銀 20. 9部に変更した以外は、合成例 2と同様にして銀微粒子分散体を得た。得られた銀微粒子分散体の、銀微粒子の平均粒子径は 5 ± 1 nmであり、銀濃度は 82%であり、 40°Cで一ヶ月保存した後でも粒子径に変化はなく女疋 ζ·、あった。

[0129] [導電性微粒子合成例 4]

原料の金属塩をへキサン酸銀 22. 3部に変更した以外は、合成例 2と同様にして銀微粒子分散体を得た。得られた銀微粒子分散体の、銀微粒子の平均粒子径は 5 ± 2 nmであり、銀濃度は 80%であり、 40°Cで一ヶ月保存した後でも粒子径に変化はなく女疋 ζ·、あった。

[0130] [導電性微粒子合成例 5]

原料の金属塩をオクタン酸銀 25. 1部に変更した以外は、合成例 2と同様にして銀微粒子分散体を得た。得られた銀微粒子分散体の銀微粒子の平均粒子径は 6士 2η mであり、銀濃度は 70%であり、 40°Cで一ヶ月保存した後でも粒子径に変化はなく女疋 ζ·、あった。

[0131] [導電性微粒子合成例 6]

原料の金属塩をミリスチン酸銀 33. 5部に変更した以外は、合成例 2と同様にして銀微粒子分散体を得た。得られた銀微粒子分散体の銀微粒子の平均粒子径は 8士 2nmであり、銀濃度は 72%であり、 40°Cで一ヶ月保存した後でも粒子径に変化はなく安定であった。

[0132] [導電性微粒子合成例 7]

原料の金属塩をステアリン酸銀 39. 1部に変更した以外は、合成例 2と同様にして銀微粒子分散体を得た。得られた銀微粒子分散体の銀微粒子の平均粒子径は 8士 2nmであり、銀濃度は 65%であり、 40°Cで一ヶ月保存した後でも粒子径に変化はなく安定であった。

[0133] [導電性微粒子合成例 8]

原料の金属塩をブタン酸銀 19. 5部に変更した以外は合成例 2と同様にして銀微粒子分散体を得た。得られた銅微粒子分散体の銅微粒子の平均粒子径は 5士 2nm であり、銀濃度は 75%であり、 40°Cで一ヶ月保存した後でも粒子径に変化はなく安疋であつ 7こ。

[0134] [導電性微粒子合成例 9]

セパラブル 4口フラスコに冷却管、温度計、窒素ガス導入管、撹拌装置を取り付け、窒素雰囲気下、室温で撹拌しながらトルエン 200部およびプロピオン酸銀 18. 1部を仕込み、 0. 5Mの溶液とした後に、分散剤としてジェチルァミノエタノール 2. 3部 (金属 lmolに対し 0. 2mol倍）、ァジスパー PB821 (味の素ファインテクノ株式会社製） 1 . 1部 (金属に対し 10重量％)を 20%トルエン溶液として添加し溶解させた。その後、 20%SUDH水溶液 73. 1部（金属 lmolに対しヒドラジド基 2mol倍）を添加すると液色が淡黄色力も濃茶色に変化した。更に反応を促進させるために 40°Cに昇温し、反応を進行させた。静置、分離した後、水層を取り出すことで過剰の還元剤や不純物を除去し、更にトルエン層に数回蒸留水を加え、洗浄'分離を繰り返し、銀微粒子分散体トルエン溶液を得た。得られた銀微粒子分散体の、銀微粒子の平均粒子径は 5士 2nmであり、銀濃度は 68%であり、 40°Cで一ヶ月保存した後でも粒子径に変化はなく安定であった。

[0135] [導電性微粒子合成例 10]

セパラブル 4口フラスコに冷却管、温度計、窒素ガス導入管、撹拌装置を取り付け、窒素雰囲気下、室温で撹拌しながらトルエン 200部およびペンタン酸銀 20. 9部を仕込み、 0. 5Mの溶液とした後に、分散剤としてジェチルァミノエタノール 2. 3部（金属 lmolに対し 0. 2mol倍）、ディスパロン PW36 (固形分 50%、楠本ィ匕成株式会社製） 2. 2部 (金属に対し 10重量％)を、 20%濃度にトルエンで希釈した溶液として添加し溶解させた。その後、 20%SUDH水溶液 73. 1部（金属 lmolに対しヒドラジド基 2m ol倍)を添加すると液色が淡黄色力濃茶色に変化した。更に反応を促進させるために 40°Cに昇温し、反応を進行させた。静置、分離した後、水層を取り出すことで過剰の還元剤や不純物を除去し、更にトルエン層に数回蒸留水を加え、洗浄'分離を繰り返し、銀微粒子分散体トルエン溶液を得た。得られた銀微粒子分散体の、銀微粒子の平均粒子径は 6± 2nmであり、銀濃度は 80%であり、 40°Cで一ヶ月保存した後でも粒子径に変化はなく安定であった。

[0136] [導電性微粒子合成例 11]

セパラブル 4口フラスコに冷却管、温度計、窒素ガス導入管、撹拌装置を取り付け、窒素雰囲気下、室温で撹拌しながらトルエン 200部およびへキサン酸銀 22. 3部を仕込み、 0. 5Mの溶液とした後に、分散剤としてジェチルァミノエタノール 2. 3部 (金属 lmolに対し 0. 2mol倍）、 EFKA5010 (固形分 50%、エフ力アディティブズ社製） 2. 2部 (金属に対し 10重量％)を、 20%濃度にトルエンで希釈した溶液として添加し溶解させた。その後、 20%SUDH水溶液 73. 1部（金属 lmolに対しヒドラジド基 2m ol倍)を添加すると液色が淡黄色力濃茶色に変化した。更に反応を促進させるために 40°Cに昇温し、反応を進行させた。静置、分離した後、水層を取り出すことで過剰の還元剤や不純物を除去し、更にトルエン層に数回蒸留水を加え、洗浄'分離を繰り返し、銀微粒子分散体トルエン溶液を得た。得られた銀微粒子分散体の、銀微粒子の平均粒子径は 5± 2nmであり、銀濃度は 82%であり、 40°Cで一ヶ月保存した後でも粒子径に変化はなく安定であった。 [0137] [導電性微粒子合成例 12]

セパラブル 4口フラスコに冷却管、温度計、窒素ガス導入管、攪拌装置を取り付け、窒素ガスを導入しながら 1M硝酸銀水溶液を 100部仕込み、攪拌しながらソルスパース 32000 (曰本ループ!;ゾール株式会社製、重量平均分子量約 50000) 1. 9部を、トルエン 10. 8部中に溶解させた溶液を滴下した。室温で 30分攪拌した後、ジメチルアミノエタノール 38. 1部を滴下し、そのまま室温で一晩攪拌し反応を進行させた。水層を取り出し、数回蒸留水で洗浄'分離を繰返すことで過剰の還元剤と不純物の洗浄を行い、銀微粒子分散体を得た。得られた銀微粒子分散体は、ペースト状であり、銀微粒子の平均粒子径は 25± 10nmであり、銀濃度は 50%であった。

[0138] [実施例 1]

陰イオン交換能を有する物質としてカチオン性榭脂 (三菱ィ匕学株式会社製「サフトマー ST— 3000」、固形分 25%) 60部、液状媒体（水 Zイソプロピルアルコール = 1 /1、重量比) 40部を混合し、ディソルバーを用いて 20分間撹拌して陰イオン交換能を有する物質を含んだ塗料を得た。次に、この陰イオン交換能を有する塗料を用いて、ポリエステルフィルム（東洋紡績株式会社製「エステル E5100」、厚さ 100 μ m) 上にバーコ一ターを用いて塗工した後、 75°Cで 5分間乾燥することにより、乾燥後の塗膜厚さ 6 μ mの陰イオン交換層を得た。

次に、導電性微粒子合成例 1に示される銀微粒子分散体を用いて、上記陰イオン交換層上に、ディスペンサー法によって幅 3mmの回路パターンを印刷した後、熱風乾燥オーブン中、 120°Cで 10分間乾燥させて、導電性被膜を得た。

[0139] [実施例 2]

その他の榭脂としてポリビュルアルコール榭脂 (株式会社クラレ製「ポバール PVA 117」） 7. 5部、陰イオン交換能を有する物質として第 4アンモ-ゥム塩 (花王株式会社製「コータミン 24P」）2. 5部、液状媒体 (水 Zイソプロピルアルコール = 1Z1) 9 0部を混合し、ディソルバーを用いて 60分間撹拌して陰イオン交換能を有する物質を含んだ塗料を得た。次に、この陰イオン交換能を有する塗料を用いて、スピンコート法でガラス基板上に塗工、 75°Cで 5分間乾燥することにより、乾燥後の塗膜厚さ 6 μ mの陰イオン交換層を得た。次に、導電性微粒子合成例 2に示される銀微粒子分散体を用いて、上記陰イオン交換層上に、スピンコート法によって塗布、熱風乾燥オーブン中、 150°Cで 10分間乾燥させて、導電性被膜を得た。

[0140] [実施例 3]

陰イオン交換能を有する物質としてカチオン性榭脂（明成化学工業株式会社製「パルセット JK— 510」、固形分 20%) 15部、陰イオン交換能を有さない物質としてコロイダルシリカ（日産化学工業株式会社製「スノーテックス 0」、固形分 20%) 60部、液状媒体（水 Zイソプロピルアルコール = 1/1) 25部を混合し、ディソルバーを用いて 20 分間撹拌して陰イオン交換能を有する物質を含んだ印刷インキを得た。この陰イオン交換能を有する印刷インキを用いて、小型グラビア印刷機でポリエステルフィルム (東洋紡績株式会社製「エステル E5100」、厚さ 100 m)に、全面ベタ印刷して乾燥後、塗膜厚さ 5 /z mの陰イオン交換層を得た。なお、印刷機の乾燥温度は 60°Cに設定した。

次に、導電性微粒子合成例 3に示される銀微粒子分散体を用いて、上記陰イオン交換層上に、小型グラビア印刷機を用いて幅 3mmの導電回路パターンをグラビア印刷し、乾燥して導電性被膜を得た。なお、印刷機の乾燥温度は実測値で 100°Cに設し 7こ。

[0141] [実施例 4]

次に、導電性微粒子合成例 3に示される銀微粒子分散体 100部に対して、その他の榭脂としてポリエステル榭脂（ュ-チカ株式会社製、「エリーテル UE— 3220」 ) 5 部（導電性インキ 100重量部中 4. 3重量％)、液状媒体 (メチルェチルケトン） 10部を混合し、ディソルバーを用いて 30分間撹拌して導電性インキを得た。次に、この導電性インキを用いて、上記陰イオン交換層上に、小型グラビア印刷機を用いて幅 3mm の導電回路パターンをグラビア印刷し、乾燥して導電性被膜を得た。なお、印刷機の乾燥温度は実測値で 100°Cに設定した。

[0142] [実施例 5]

次に、導電性微粒子合成例 3に示される銀微粒子分散体 100部に対して、その他の添加剤としてレべリング剤（ビックケミー'ジャパン株式会社製「BYK— 051」、固形分 20%) 0. 5部（導電性インキ 100重量部中 0. 1重量％)を混合し、ディソルバーを用いて 10分間撹拌して導電性インキを得た。次に、この導電性インキを用いて、上記陰イオン交換層上に、小型グラビア印刷機を用いて幅 3mmの導電回路パターンをグラビア印刷し、乾燥して導電性被膜を得た。なお、印刷機の乾燥温度は実測値で 100°Cに設定した。

[0143] [実施例 6]

その他の榭脂としてポリアセタール榭脂 (積水化学工業株式会社製「エスレック KW 1」、固形分 20%) 15部、陰イオン交換能を有する物質としてコロイダルシリカ（日産化学工業株式会社製「スノーテックス AK」、固形分 20%) 60部、液状媒体 (水 Z ジエチレングリコールモノェチルエーテルアセテート =4/6) 25部を混合し、デイソルバ一を用いて 20分間撹拌して陰イオン交換能を有する物質を含んだインクジエツト用インクを得た。次に、この陰イオン交換能を有するインクを用いて、インクジェット法により、ポリエステルフィルム (東洋紡績株式会社製「エステル E5100」、厚さ 100 μ m)上に陰イオン交換能を有するインクを印刷し、熱風乾燥オーブン中 100°Cで 1 0分間乾燥して、塗膜厚さ 5 mの陰イオン交換層を得た。

次に、導電性微粒子合成例 3に示される銀微粒子分散体を用いて、上記陰イオン交換層上に、インクジェット法により幅 3mmの導電回路パターンを印刷し、熱風乾燥オーブン中、 150°Cで 10分間乾燥して、導電性被膜を得た。

[0144] [実施例 7]

銀微粒子分散体として、導電性微粒子合成例 1に示される分散体を使用した以外は、実施例 6と同様にして導電性被膜を得た。

[0145] [実施例 8]

銀微粒子分散体として、導電性微粒子合成例 2に示される分散体を使用した以外は、実施例 6と同様にして導電性被膜を得た。

[0146] [実施例 9]

銀微粒子分散体として、導電性微粒子合成例 4に示される分散体を使用した以外は、実施例 6と同様にして導電性被膜を得た。

[0147] [実施例 10]

陰イオン交換能を有する物質としてカチオン性榭脂 (セン力株式会社製「パピォゲン P— 105」、固形分 60%) 5部、陰イオン交換能を有さない物質としてコロイダルシリ力（日産化学工業株式会社製「スノーテックス 0」、固形分 20%) 20部、陰イオン交換能を有する物質としてカチオン性コロイダルシリカ（日産化学工業株式会社製「スノーテックス A ：」、固形分 20%) 40部、液状媒体 (水 Zイソプロピルアルコール = 1/1) 35部を混合し、ディソルバーを用いて 20分間撹拌して陰イオン交換能を有する物質を含んだ印刷インキを得た。次にこの陰イオン交換能を有するインキを用いて、 CI型フレキソ印刷機（W&H製「SOLOFLEX」、ァ-ロックス 100線 Zインチ）でポリエステルフィルム (東洋紡績株式会社製「エステル E5100」、厚さ 100 μ m)に全面ベタ印刷を行い、乾燥後の塗膜厚さ 5 mの陰イオン交換層を得た。なお、乾燥温度は実測値で 70°Cに設定した。

次に、導電性微粒子合成例 3に示される銀微粒子分散体を用いて、上記陰イオン交換層上に、フレキソ印刷機を用いて幅 3mmの導電回路パターンを印刷し、導電性被膜を得た。なお、印刷機の乾燥温度は実測値で 100°Cに設定した。

[0148] [実施例 11]

導電性インキ印刷時の、フレキソ印刷機の乾燥温度を 50°Cに設定した以外は、実施例 10と同様にして導電性被膜を得た。

[0149] [実施例 12]

陰イオン交換能を有する物質としてカチオン性榭脂（明成化学工業株式会社製「パルセット JK— 510」、固形分 20%) 15部、陰イオン交換能を有さない物質としてコロイダルシリカ（日産化学工業株式会社製「スノーテックス 0」、固形分 20%) 60部、液状媒体（水 Zイソプロピルアルコール = 1/1) 25部を混合し、ディソルバーを用いて 20 分間撹拌して陰イオン交換能を有する物質を含んだ印刷インキを得た。次に、この陰イオン交換能を有するインキを用いて、小型グラビア印刷機でポリエステル繊維に全面ベタ印刷して乾燥後、陰イオン交換層を得た。なお、印刷機の乾燥温度は 60°Cに設疋した。

次に、導電性微粒子合成例 3に示される銀微粒子分散体を用いて、上記陰イオン交換層上に、小型グラビア印刷機を用いて全面ベタ印刷し、乾燥して導電性被膜を得た。なお、印刷機の乾燥温度は実測値で 100°Cに設定した。

[0150] [実施例 13]

銀微粒子分散体として、導電性微粒子合成例 5に示される分散体を使用した以外は、実施例 3と同様にして導電性被膜を得た。

[0151] [実施例 14]

銀微粒子分散体として、導電性微粒子合成例 6に示される分散体を使用した以外は、実施例 3と同様にして導電性被膜を得た。

[0152] [実施例 15]

銀微粒子分散体として、導電性微粒子合成例 7に示される分散体を使用した以外は、実施例 3と同様にして導電性被膜を得た。 [0153] [実施例 16]

銀微粒子分散体として、導電性微粒子合成例 8に示される分散体を使用した以外は、実施例 3と同様にして導電性被膜を得た。

[0154] [実施例 17]

銀微粒子分散体として、導電性微粒子合成例 9に示される分散体を使用した以外は、実施例 3と同様にして導電性被膜を得た。

[0155] [実施例 18]

その他の榭脂としてポリアセタール榭脂 (積水化学工業株式会社製「エスレック KW 1」、固形分 20%) 15部、陰イオン交換能を有する物質としてコロイダルシリカ（日産化学工業株式会社製「スノーテックス AK」、固形分 20%) 60部、液状媒体 (水 Z ジエチレングリコールモノェチルエーテルアセテート =4/6) 25部を混合し、デイソルバ一を用いて 20分間撹拌して陰イオン交換能を有する物質を含んだインクジエツト用インクを得た。次に、この陰イオン交換能を有するインクを用いて、インクジェット法により、ポリエステルフィルム (東洋紡績株式会社製「エステル E5100」、厚さ 100 m)上に陰イオン交換能を有するインクを印刷し、熱風乾燥オーブン中、 100°Cで 10分間乾燥して、塗膜厚さ 5 μ mの陰イオン交換層を得た。

次に、導電性微粒子合成例 10に示される銀微粒子分散体を用いて、上記陰イオン交換層上に、インクジェット法により幅 3mmの導電回路パターンを印刷し、熱風乾燥オーブン中、 150°Cで 10分間乾燥して、導電性被膜を得た。

[0156] [実施例 19]

銀微粒子分散体として、導電性微粒子合成例 11に示される分散体を使用した以外は、実施例 18と同様にして導電性被膜を得た。

[0157] [実施例 20]

銀微粒子分散体として、導電性微粒子合成例 12に示される分散体を使用した以外は、実施例 3と同様にして導電性被膜を得た。

[0158] [実施例 21]

銀微粒子分散体として、導電性微粒子合成例 12に示される分散体を使用した以外は、実施例 18と同様にして導電性被膜を得た。 [0159] [実施例 22]

銀微粒子分散体として、導電性微粒子合成例 12に示される分散体を使用した以外は、実施例 1と同様にして導電性被膜を得た。

[0160] [実施例 23]

導電性物質として、ォレイン酸で表面処理したフレーク状銀粉 (平均粒子径 4. Ο μ m) 49. 5部、陰イオン交換能を有する物質としてカチオン性榭脂 (三菱ィ匕学株式会社製「サフトマ一 ST— 3000」、固形分 25%) 36部、その他の榭脂としてポリアセタール榭脂 (積水化学工業株式会社製「エスレック KW—1」、固形分 20%) 5部、液状媒体（ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート） 9. 5部を混合し、プラネタリ一ミキサーを用いて 30分間撹拌して陰イオン交換能を有する物質を含んだ印刷インキを得た。

次に、ポリエステルフィルム (東洋紡績株式会社製「エステル E5100」、厚さ 100 m)上に、上記塗料を用いてスクリーン印刷により幅 3mmの導電回路パターンを印刷し、熱風乾燥オーブン中、 100°Cで 10分間乾燥させて、導電性被膜を得た。

[0161] [実施例 24]

導電性物質として、導電性微粒子合成例 1に示される銀微粒子分散体を用いて、ポリエステルフィルム (東洋紡績株式会社製「エステル E5100」、厚さ 100 μ m)上に、ディスペンサー法によって幅 3mmの回路パターンを印刷した後、熱風乾燥オーブン中、 100°Cで 10分間乾燥させて導電性物質を含む被膜層を得た。

次に、陰イオン交換能を有する物質としてカチオン性榭脂 (三菱化学株式会社製「サフトマ一 ST— 3000」、固形分 25%) 60部、液状媒体（水 Zイソプロピルアルコール= 1/1) 40部を混合し、ディソルバーを用いて 20分間撹拌して陰イオン交換能を有する物質を含んだ塗料を得た。次に、このイオン交換能を有する塗料を用いて、上記被膜層上にバーコ一ターを用いて塗工し、 70°Cで 5分間乾燥することにより導電性被膜を得た。

[0162] [実施例 25]

導電性物質として、導電性微粒子合成例 2に示される銀微粒子分散体を用いて、ガラス基板上に、スピンコート法によって塗布、熱風乾燥オーブン中、 100°Cで 10分間乾燥させて導電性物質を含む被膜層を得た。

次に、その他の榭脂としてポリビュルアルコール榭脂 (株式会社クラレ製「ポバール

PVA- 117j ) 7. 5部、陰イオン交換能を有する物質として第 4アンモ-ゥム塩 (花王株式会社製「コータミン 24P」）2. 5部、液状媒体 (水 Zイソプロピルアルコール = 1Z 1) 90部を混合し、ディソルバーを用いて 60分間撹拌してイオン交換能を有する物質を含んだ塗料を得た。このイオン交換能を有する塗料を用いて、スピンコート法で上記被膜層上に塗工し、 100°Cで 5分間乾燥することにより導電性被膜を得た。

[0163] [実施例 26]

導電性物質として、導電性微粒子合成例 3に示される銀微粒子分散体を用いて、ポリエステルフィルム (東洋紡績株式会社製「エステル E5100」、厚さ 100 μ m)上に、小型グラビア印刷機を用いて幅 3mmの導電回路パターンを印刷し、乾燥して導電性物質を含む被膜層を得た。なお、印刷機の乾燥温度は実測値で 90°Cに設定した次に、陰イオン交換能を有する物質としてカチオン性榭脂（明成化学工業株式会社製「パルセット JK— 510」、固形分 20%) 15部、陰イオン交換能を有さない物質としてコロイダルシリカ（日産化学工業株式会社製「スノーテックス 0」、固形分 20%) 6 0部、液状媒体 (水 Zイソプロピルアルコール = 1Z1) 25部を混合し、ディソルバーを用いて 20分間撹拌して陰イオン交換能を有する物質を含んだ印刷インキを得た。次に、この陰イオン交換能を有するインキを用いて、小型グラビア印刷機で上記被膜層上に全面ベタ印刷を行った後、乾燥して導電性被膜を得た。なお、印刷機の乾燥温度は実測値で 60°Cに設定した。

[0164] [実施例 27]

導電性物質として導電性微粒子合成例 3に示される銀微粒子分散体 100部に対して、その他の榭脂としてポリエステル榭脂（ュ-チカ株式会社製、「エリーテル UE— 3 220」）5部（導電性インキ 100重量部中 4. 3重量％)、液状媒体 (メチルェチルケトン ) 10部を混合し、ディソルバーを用いて 30分間撹拌して導電性インキを得た。次に、この導電性インキを用いて、ポリエステルフィルム (東洋紡績株式会社製「エステル E 5100」、厚さ 100 μ m)上に、小型グラビア印刷機を用いて幅 3mmの導電回路パターンを印刷し、乾燥して導電性物質を含む被膜層を得た。なお、印刷機の乾燥温度は実測値で 90°Cに設定した。

次に、陰イオン交換能を有する物質としてカチオン性榭脂（明成化学工業株式会社製「パルセット JK— 510」、固形分 20%) 15部、陰イオン交換能を有さない物質としてコロイダルシリカ（日産化学工業株式会社製「スノーテックス 0」、固形分 20%) 6 0部、液状媒体 (水 Zイソプロピルアルコール = 1Z1) 25部を混合し、ディソルバーを用いて 20分間撹拌して陰イオン交換能を有する物質を含んだ印刷インキを得た。次に、この陰イオン交換能を有するインキを用いて、小型グラビア印刷機で上記被膜層上に全面ベタ印刷を行った後、乾燥して導電性被膜を得た。なお、印刷機の乾燥温度は実測値で 60°Cに設定した。

[0165] [実施例 28]

導電性物質として導電性微粒子合成例 3に示される銀微粒子分散体 100部に対して、その他の添加剤としてレべリング剤（ビックケミー'ジャパン株式会社製「BYK— 0 51」、固形分 20%) 0. 5部（導電性インキ 100重量部中 0. 1重量％)を混合し、ディソルバーを用いて 10分間撹拌して導電性インキを得た。次に、この導電性インキを用いて、ポリエステルフィルム (東洋紡績株式会社製「エステル E5100」、厚さ 100 m)上に、小型グラビア印刷機を用いて幅 3mmの導電回路パターンを印刷し、乾燥して導電性物質を含む被膜層を得た。なお、印刷機の乾燥温度は実測値で 90°Cに設疋した。

[0166] [実施例 29] 導電性物質として、導電性微粒子合成例 3に示される銀微粒子分散体を用いて、ポリエステルフィルム (東洋紡績株式会社製「エステル E5100」、厚さ 100 μ m)上に、インクジェット法により幅 3mmの導電回路パターンを印刷し、熱風乾燥オーブン中、 100°Cで 10分間乾燥して導電性物質を含む被膜層を得た。

次に、その他の榭脂としてポリアセタール榭脂 (積水化学工業株式会社製「エスレツク KW— 1」、固形分 20%) 15部、陰イオン交換能を有する物質としてコロイダルシリ力（日産化学工業株式会社製「スノーテックス AK」、固形分 20%) 60部、液状媒体（水 Zジエチレングリコールモノェチルエーテルアセテート =4Z6) 25部を混合し、デイソルバ一を用いて 20分間撹拌して陰イオン交換能を有する物質を含んだ塗料を得た。次に、この陰イオン交換能を有する塗料を用いて、インクジェット法により上記皮膜層上に印刷、熱風乾燥オーブン中、 100°Cで 5分間乾燥して導電性被膜を得た。

[0167] [実施例 30]

銀微粒子分散体として、導電性微粒子合成例 1に示される分散体を使用した以外は、実施例 29と同様にして導電性被膜を得た。

[0168] [実施例 31]

銀微粒子分散体として、導電性微粒子合成例 2に示される分散体を使用した以外は、実施例 29と同様にして導電性被膜を得た。

[0169] [実施例 32]

銀微粒子分散体として、導電性微粒子合成例 4に示される分散体を使用した以外は、実施例 29と同様にして導電性被膜を得た。

[0170] [実施例 33]

導電性物質として、導電性微粒子合成例 3に示される銀微粒子分散体を用いて、ポリエステルフィルム (東洋紡績株式会社製「エステル E5100」、厚さ 100 μ m)上に、 CI型フレキソ印刷機 (W&H製「SOLOFLEX」、ァ-ロックス 100線 Zインチ）を用いて幅 3mmの導電回路パターンを印刷し、導電性物質を含む被膜層を得た。なお、印刷機の乾燥温度は実測値で 100°Cに設定した

次に、陰イオン交換能を有する物質としてカチオン性榭脂 (セン力株式会社製「パピオゲン P— 105」、固形分 60%) 5部、陰イオン交換能を有さない物質としてコロイダルシリカ（日産化学工業株式会社製「スノーテックス 0」、固形分 20%) 20部、陰ィオン交換能を有する物質としてカチオン性コロイダルシリカ（日産化学工業株式会社製「スノーテックス A ：」、固形分 20%) 40部、液状媒体 (水 Zイソプロピルアルコール = 1/1) 35部を混合し、ディソルバーを用いて 20分間撹拌して陰イオン交換能を有する物質を含んだ印刷インキを得た。次に、この陰イオン交換能を有するインキを用い、フレキソ印刷機で全面ベタ印刷を行って導電性被膜を得た。なお、乾燥温度は実測値で 70°Cに設定した。

[0171] [実施例 34]

フレキソ印刷機の乾燥温度を全工程で 50°Cに設定した以外は、実施例 33と同様にして導電性被膜を得た。

[0172] [実施例 35]

導電性物質として、導電性微粒子合成例 3に示される銀微粒子分散体を用いて、ポリエステル繊維上に、小型グラビア印刷機を用いて全面ベタ印刷して乾燥後、導電性物質を含む被膜層を得た。なお、印刷機の乾燥温度は実測値で 90°Cに設定した。

次に、陰イオン交換能を有する物質としてカチオン性榭脂（明成化学工業株式会社製「パルセット JK— 510」、固形分 20%) 15部、陰イオン交換能を有さない物質としてコロイダルシリカ（日産化学工業株式会社製「スノーテックス 0」、固形分 20%) 6 0部、液状媒体 (水 Zイソプロピルアルコール = 1Z1) 25部を混合し、ディソルバーを用いて 20分間撹拌して陰イオン交換能を有する物質を含んだ印刷インキを得た。次に、この陰イオン交換能を有するインキを用いて、小型グラビア印刷機で上記被膜層上に全面ベタ印刷して乾燥後、導電性被膜を得た。なお、印刷機の乾燥温度は実測値で 60°Cに設定した。

[0173] [実施例 36]

銀微粒子分散体として、導電性微粒子合成例 5に示される分散体を使用した以外は、実施例 26と同様にして導電性被膜を得た。

[0174] [実施例 37]

銀微粒子分散体として、導電性微粒子合成例 6に示される分散体を使用した以外は、実施例 26と同様にして導電性被膜を得た。

[0175] [実施例 38]

銀微粒子分散体として、導電性微粒子合成例 7に示される分散体を使用した以外は、実施例 26と同様にして導電性被膜を得た。

[0176] [実施例 39]

銀微粒子分散体として、導電性微粒子合成例 8に示される分散体を使用した以外は、実施例 26と同様にして導電性被膜を得た。

[0177] [実施例 40]

銀微粒子分散体として、導電性微粒子合成例 9に示される分散体を使用した以外は、実施例 26と同様にして導電性被膜を得た。

[0178] [実施例 41]

銀微粒子分散体として、導電性微粒子合成例 10に示される分散体を使用した以外は、実施例 29と同様にして導電性被膜を得た。

[0179] [実施例 42]

銀微粒子分散体として、導電性微粒子合成例 11に示される分散体を使用した以外は、実施例 29と同様にして導電性被膜を得た。

[0180] [実施例 43]

銀微粒子分散体として、導電性微粒子合成例 12に示される分散体を使用した以外は、実施例 29と同様にして導電性被膜を得た。

[0181] [実施例 44]

銀微粒子分散体として、導電性微粒子合成例 12に示される分散体を使用した以外は、実施例 24と同様にして導電性被膜を得た。

[0182] [実施例 45]

銀微粒子分散体として、導電性微粒子合成例 12に示される分散体を使用した以外は、実施例 26と同様にして導電性被膜を得た。

[0183] [比較例 1]

基材としてポリエステルフィルム (東洋紡績株式会社製「エステル E5100」、厚さ 10 O /z m)を用いて、導電性微粒子合成例 12に示される銀微粒子分散体を用いて、該ポリエステルフィルム上に、ディスペンサー法によって幅 3mmの回路パターンを印刷した後、熱風乾燥オーブン中、 120°Cで 10分間乾燥させて、導電性被膜を得た。

[0184] [比較例 2]

その他の榭脂としてポリビュルアルコール榭脂 (株式会社クラレ製「ポバール PVA

— 117」） 15部、液状媒体 (水 Zイソプロピルアルコール = 1Z1) 85部を混合し、ディソルバーを用いて 60分間撹拌して塗料を得た。次に、上記塗料を用いて、ポリエステルフィルム（東洋紡績株式会社製「エステル E5100」、厚さ 100 μ m)上にバーコータ一を用いて塗工、 75°Cで 5分間乾燥することにより、乾燥後の塗膜厚さ 7 mの塗料被膜層を得た。

次に、導電性微粒子合成例 12に示される銀微粒子分散体を用いて、上記塗料被膜層上に、ディスペンサー法によって幅 3mmの回路パターンを印刷した後、熱風乾燥オーブン中、 120°Cで 10分間乾燥させて、導電性被膜を得た。

[0185] [比較例 3]

その他の榭脂としてポリアセタール榭脂 (積水化学工業株式会社製「エスレック KW

— 1」、固形分 20%) 15部、陰イオン交換能を有さない物質としてコロイダルシリカ（日産化学工業株式会社製「スノーテックス 0」、固形分 20%) 60部、液状媒体 (水 Z ジエチレングリコールモノェチルエーテルアセテート =4/6) 25部を混合し、デイソルバ一を用いて 20分間撹拌してインクジェット用インクを得た。次に、このインクを用いて、インクジェット法により、ポリエステルフィルム (東洋紡績株式会社製「エステル E 5100」、厚さ 100 m)上に印刷し、熱風乾燥オーブン中、 100°Cで 10分間乾燥させて、塗膜厚さ 5 μ mの塗料被膜層を得た。

次に、導電性微粒子合成例 2に示される銀微粒子分散体を用いて、上記塗料被膜層上に、インクジェット法により幅 3mmの導電回路パターンを印刷し、熱風乾燥ォーブン中、 150°Cで 10分間乾燥させて、導電性被膜を得た。

[0186] [比較例 4]

— 1」、固形分 20%) 15部、陰イオン交換能を有さない物質としてコロイダルシリカ（日産化学工業株式会社製「スノーテックス 0」、固形分 20%) 60部、液状媒体 (水 Z イソプロピルアルコール = 1/1) 25部を混合し、ディソルバーを用いて 20分間撹拌して印刷インキを得た。次に、このインキを用いて、 CI型フレキソ印刷機 (W&H製「S OLOFLEXJ、ァ-ロックス 100線 Zインチ）でポリエステルフィルム（東洋紡績株式会社製「エステル E5100」、厚さ 100 m)に全面ベタ印刷を行い、乾燥後の塗膜厚さ 5 mの塗料被膜層を得た。なお、乾燥温度は実測値で 70°Cに設定した。

次に、導電性微粒子合成例 3に示される銀微粒子分散体を用いて、上記塗料被膜層上に、フレキソ印刷機を用いて幅 3mmの導電回路パターンを印刷し、導電性被膜を得た。なお、印刷機の乾燥温度は実測値で 50°Cに設定した。

[0187] [比較例 5]

その他の榭脂としてポリアセタール榭脂 (積水化学工業株式会社製「エスレック KW — 1」、固形分 20%) 15部、陰イオン交換能を有さない物質としてコロイダルシリカ（日産化学工業株式会社製「スノーテックス 0」、固形分 20%) 60部、液状媒体 (水 Z イソプロピルアルコール = 1/1) 25部を混合し、ディソルバーを用いて 20分間撹拌して印刷インキを得た。このインキを用いて、小型グラビア印刷機でポリエステルフィルム (東洋紡績株式会社製「エステル E5100」、厚さ 100 μ m)に、全面ベタ印刷して乾燥後、塗膜厚さ 5 mの塗料被膜層を得た。なお、印刷機の乾燥温度は 60°Cに設疋した。

次に、導電性微粒子合成例 8に示される銀微粒子分散体を用いて、上記塗料被膜層上に、小型グラビア印刷機を用いて幅 3mmの導電回路パターンをグラビア印刷し、乾燥して導電性被膜を得た。なお、印刷機の乾燥温度は実測値で 100°Cに設定した。

[0188] [比較例 6]

銀微粒子分散体として、導電性微粒子合成例 9に示される分散体を使用した以外は、比較例 5と同様にして導電性被膜を得た。

[0189] [比較例 7]

導電性物質として、導電性微粒子合成例 12に示される銀微粒子分散体を用いて、ポリエステルフィルム (東洋紡績株式会社製「エステル E5100」、厚さ 100 μ m)上に、ディスペンサー法によって幅 3mmの回路パターンを印刷した後、熱風乾燥オーブン中、 100°Cで 10分間乾燥させて導電性物質を含む被膜層を得た。

PVA— 117」） 15部、液状媒体（水 Zイソプロピルアルコール = 1/1) 85部を混合し、ディソルバーを用いて 60分間撹拌して塗料を得た。次に、この塗料を用いて、上記被膜層上にバーコ一ターを用いて塗工した後、 70°Cで 5分間乾燥することにより、導電性被膜を得た。

[0190] [比較例 8]

導電性物質として、導電性微粒子合成例 2に示される銀微粒子分散体を用いて、ポリエステルフィルム (東洋紡績株式会社製「エステル E5100」、厚さ 100 μ m)上に、インクジェット法により幅 3mmの導電回路パターンを印刷し、熱風乾燥オーブン中、 100°Cで 10分間乾燥して導電性物質を含む被膜層を得た。

次に、その他の榭脂としてポリアセタール榭脂 (積水化学工業株式会社製「エスレツク KW— 1」、固形分 20%) 15部、陰イオン交換能を有さない物質としてコロイダルシリカ（日産化学工業株式会社製「スノーテックス 0」、固形分 20%) 60部、液状媒体（水 Zジエチレングリコールモノェチルエーテルアセテート =4Z6) 25部を混合し、デイソルバ一を用いて 20分間撹拌してインクジヱット用インクを得た。次に、このインクを用いて、インクジェット法により、上記被膜層上に印刷した後、熱風乾燥オーブン中、 100°Cで 5分間乾燥して、導電性被膜を得た。

[0191] [比較例 9]

導電性物質として、導電性微粒子合成例 3に示される銀微粒子分散体を用いて、ポリエステルフィルム (東洋紡績株式会社製「エステル E5100」、厚さ 100 μ m)上に、 CI型フレキソ印刷機 (W&H製「SOLOFLEX」、ァ-ロックス 100線 Zインチ）を用いて幅 3mmの導電回路パターンを印刷し、導電性物質を含む被膜層を得た。なお、印刷機の乾燥温度は実測値で 50°Cに設定した

次に、その他の榭脂としてポリアセタール榭脂 (積水化学工業株式会社製「エスレツク KW— 1」、固形分 20%) 15部、陰イオン交換能を有さない物質としてコロイダルシリカ（日産化学工業株式会社製「スノーテックス 0」、固形分 20%) 60部、液状媒体（水 Zイソプロピルアルコール = 1/1) 25部を混合し、ディソルバーを用いて 20分間撹拌して印刷インキを得た。次に、このインキを用いて、上記被膜上にフレキソ印刷機で全面ベタ印刷した後、乾燥して導電性被膜を得た。なお、乾燥温度は実測値で

50°Cに設定した。

[0192] [比較例 10]

導電性物質として、導電性微粒子合成例 8に示される銀微粒子分散体を用いて、ポリエステルフィルム (東洋紡績株式会社製「エステル E5100」、厚さ 100 μ m)上に、小型グラビア印刷機を用いて幅 3mmの導電回路パターンを印刷し、乾燥して導電性物質を含む被膜層を得た。なお、印刷機の乾燥温度は実測値で 90°Cに設定した次に、その他の榭脂としてポリアセタール榭脂 (積水化学工業株式会社製「エスレツク KW— 1」、固形分 20%) 15部、陰イオン交換能を有さない物質としてコロイダルシリカ（日産化学工業株式会社製「スノーテックス 0」、固形分 20%) 60部、液状媒体（水 Zイソプロピルアルコール = 1/1) 25部を混合し、ディソルバーを用いて 20分間撹拌して塗料を得た。

次に、この塗料を用いて、小型グラビア印刷機で上記被膜層上に全面ベタ印刷して乾燥後、導電性被膜を得た。なお、印刷機の乾燥温度は実測値で 60°Cに設定した。

[0193] [比較例 11]

銀微粒子分散体として、導電性微粒子合成例 9に示される分散体を使用した以外は、比較例 10と同様にして導電性被膜を得た。

[0194] [比較例 12]

導電性物質として、導電性微粒子合成例 3に示される銀微粒子分散体を用いて、ポリエステル繊維上に、小型グラビア印刷機を用いて全面ベタ印刷して乾燥後、導電性被膜を得た。なお、印刷機の乾燥温度は実測値で 90°Cに設定した。

[0195] 実施例および比較例で得られた導電回路、導電膜の密着性、体積抵抗値、表面抵抗値、および耐折り曲げ性について、以下の方法で評価した。結果を表 1〜5に示す。

[基材密着性] ポリエステルフィルム (東洋紡績株式会社製「E5100」、厚さ 100 μ m)、ガラス基板、またはポリエステル繊維上に形成された導電回路、導電性被膜に、セロハン粘着テープ (ニチバン株式会社製、幅 12mm)を貼り付け、セロハン粘着テープを急激に引き剥がした時、剥離した塗膜の程度を、下記評価基準により評価した。

[0196] (評価基準）

〇：ほとんど剥離しな!、 (剥離面積 10%未満）

△:部分的に剥離した (剥離面積 10%以上 50%未満）

X：ほとんど剥離した (剥離面積 50%以上）

[0197] [体積抵抗値]

得られた幅 3mmの導電回路パターンを、 30mm間隔で 4箇所はさみ、その抵抗値を四探針抵抗測定器 (三和電気計器株式会社製「DR— 1000CU型」）で測定した。導電回路の膜厚を膜厚計 (株式会社仙台-コン製「MH—15M型」）で測定し、得られた抵抗値と膜厚から体積抵抗値を算出した。また、導電性被膜の場合は、被膜を 3 mm幅に加工した後、上記と同様にして体積抵抗値（Ω 'cm)を測定した。

なお、導電性物質を含む被膜層、陰イオン交換層の順に積層した場合は、一部陰イオン交換層を剥離、導電性被膜層を露出させて抵抗値、膜厚を測定して体積抵抗値を算出した。

[0198] [表面抵抗値]

基材としてポリエステル繊維を用いて導電性物質を含む被膜を全面にベタ印刷、塗布した場合、導電性被膜を 3mm X 10cmにカ卩ェして、その 2点間（10cm)の抵抗値（Ω )を、上記四探針抵抗測定器を用いて測定した。なお、導電性物質を含む被膜層、陰イオン交換層の順に積層した場合は、一部陰イオン交換層を剥離、導電性被膜層を露出させて抵抗値を測定した。

[0199] [耐折り曲げ性]

導電性物質を含む被膜層形成用組成物、例えば導電性インキまたは導電性塗料塗工物の体積抵抗値を測定した後、塗工面を内側にして 180° 折り曲げた後、今度は塗工面を外側にして 180° 折り返し、その後、再び体積抵抗値、または表面抵抗値を測定して折り曲げ前後での抵抗値の変化の度合いを、下記評価基準により評価した。

[0200] (評価基準）

〇：体積抵抗値の変化が 20%未満

△：体積抵抗値の変化が 20%以上 30%未満

X：体積抵抗値の変化が 30%以上

[0201] [表 1]

表 1 導電性被膜の構成（部)および i平価結果

*表面抵抗値（Ω)

s〔〕^0203w

表 2 導電性被膜の構成（部)および評価結果

表 3 導電性被膜の構成（部)および評価結果

*表面抵（Ω)

〔M0

表 4 導電性被膜の構成（部)および評価結果

〔〕0206

表 5 導電性被膜の構成（部)および評価結果

覆された導電性物質と、陰イオン交換能を有する物質を接触させることにより、従来法では成し得なカゝつた導電性が得られることを示している。特に、実施例 8、実施例 1 1、実施例 16を、比較例 3、比較例 4、比較例 5と比較した場合、同様に、実施例 31、実施例 34、実施例 39を、比較例 8、比較例 9、比較例 10と比較した場合、印刷方法や低温での乾燥条件にも関わらず、良好な導電性が得られることが判明した。保護物質としてプロピオン酸、ペンタン酸、ブタン酸、あるいはへキサン酸等の低分子量脂肪酸を用いると、陰イオン交換能を有する物質による陰イオン交換反応が速やかに行われ、導電性微粒子が融着、金属化し易くなるため、良好な導電性が得られると考えることができる。

[0207] また、上記実施例で得られた導電性被膜は、層の構成、導電性被膜の製造方法によらず、基材に対する密着性も良好であり、折り曲げ後の抵抗値変化も小さく安定していた。

実施例 17〜22、実施例 40〜45では、保護物質として脂肪酸と顔料分散剤の組合せ、および顔料分散剤のみを用いた導電性物質を使用したが、比較例 2、比較例 6、比較例 11と比較すると、導電性は良好であり、明らかに陰イオン交換能を有する物質と接触させた効果が得られた。

[0208] 比較例の結果力もも明らかなように、導電性微粒子を単独で用いる、または、陰ィオン交換能を有する物質と組み合わせて用いなヽ場合は、得られた導電性被膜は十分な性能を得ることができな力つた。

産業上の利用可能性

[0209] 本発明の導電性被膜は、従来導電膜が用いられているあらゆる分野の用途の導電膜、導電回路、例えば非接触型 ICメディアのアンテナ回路や、プリント基板の導電回路、印刷工レクト口-タス用導電材料、各種電極材、電磁波シールド用メッシュ形成、電磁波シールド用導電性薄膜、静電気帯電防止膜、非導電性物への導電性付与膜等として利用が可能であり、特に非接触型 ICメディアのアンテナ回路用の導電膜などとして好ましく用いられる。

Claims

請求の範囲

[I] 保護物質によって被覆された導電性物質と、陰イオン交換能を有する物質とを接触させることを特徴とする導電性被膜の製造方法。

[2] 保護物質が、分散剤を含んでなる請求項 1記載の導電性被膜の製造方法。

[3] 分散剤が、脂肪酸を含む請求項 2記載の導電性被膜の製造方法。

[4] 脂肪酸が、炭素数 3〜22である飽和または不飽和の脂肪酸を含む請求項 3記載の導電性被膜の製造方法。

[5] 導電性物質が、平均粒子径 0. 001〜10 μ mの導電性微粒子である請求項 1に記載の導電性被膜の製造方法。

[6] 導電性物質が、金、銀、銅、ニッケル、白金、パラジウム、および鉄から選ばれた金属、またはこれら金属の合金の少なくとも 1種である、請求項 5に記載の導電性被膜の製造方法。

[7] 導電性物質が銀である、請求項 5に記載の導電性被膜の製造方法。

[8] 基材上に、陰イオン交換能を有する物質を含む陰イオン交換層を形成した後、該陰イオン交換層上に、保護物質によって被覆された導電性物質を含む被膜層を形成する請求項 1〜7のいずれかに記載の導電性被膜の製造方法。

[9] 基材上に、保護物質によって被覆された導電性物質を含む被膜層を形成した後、該被膜層上に、陰イオン交換能を有する物質を含む陰イオン交換層を形成する請求項 1〜7のいずれかに記載の導電性被膜の製造方法。

[10] 請求項 1〜9のいずれかに記載の方法によって製造されてなる導電性被膜。

[II] 基材上に、陰イオン交換能を有する物質を含む陰イオン交換層、保護物質によつて被覆された導電性物質を含む被膜層の順に積層されてなる積層体。

[12] 基材上に、保護物質によって被覆された導電性物質を含む被膜層、陰イオン交換能を有する物質を含む陰イオン交換層の順に積層されてなる積層体。

[13] 保護物質が、炭素数 3〜22である飽和または不飽和の脂肪酸を含む請求項 11または 12記載の積層体。