WO2009084696A1 - 有害物質除去方法 - Google Patents

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Definitions

  • the present invention relates to a method for removing harmful substances, and more specifically, removes harmful substances such as carbon monoxide, carbon dioxide and particulate matter from a gas discharged from an internal combustion engine or an incinerator without using a catalyst made of a rare metal. It relates to a method for removing harmful substances.
  • an oxidation catalyst in which a filtration device is formed of a rare metal such as platinum or vanadium has been conventionally known.
  • a gas is passed through the filtration device and is oxidized by a rare metal to convert carbon monoxide in the gas into carbon dioxide.
  • gas discharged from diesel engines and incinerators contains a lot of particulate matter as harmful substances.
  • Patent Document 1 discloses a technique for capturing the particulate matter with a filtration device including a heat-resistant plate having a large number of holes.
  • the object of the present invention is to solve the above problems and remove harmful substances such as carbon monoxide, carbon dioxide and particulate matter from a gas discharged from an internal combustion engine or an incinerator without using a catalyst made of a rare metal. It is to provide a method for removing harmful substances.
  • the technical means made by the present invention in order to achieve the above object is a method for removing harmful substances in a gas, comprising at least a microorganism comprising a group of bacteria containing photosynthetic bacteria and a group of bacteria containing yeast
  • a harmful substance removal method for releasing harmful substances in the gas by releasing a gas containing harmful substances into a liquid containing microorganisms consisting of is there.
  • a method for removing harmful substances in a gas comprising at least a microorganism comprising a group of bacteria containing photosynthetic bacteria, a microorganism comprising a group of bacteria containing yeast, and a microorganism comprising a group of bacteria containing lactic acid bacteria
  • a secondary step of further removing harmful substances remaining in the gas by bringing the gas that has passed through the primary step into contact with a fired body containing a microorganism consisting of a group and a microorganism consisting of a group of bacteria containing lactic acid bacteria;
  • the method for removing harmful substances is characterized by having the following.
  • a method for removing harmful substances in a gas comprising at least a microorganism comprising a group of bacteria containing photosynthetic bacteria, a microorganism comprising a group of bacteria comprising yeast, and a microorganism comprising a group of bacteria containing lactic acid bacteria
  • a secondary step of further removing harmful substances remaining in the gas by bringing the gas that has passed through the primary step into contact with a fired body containing a microorganism consisting of a group and a microorganism consisting of a group of bacteria containing lactic acid bacteria;
  • There may be a method of removing a harmful substance characterized by further comprising a residual harmful substance removing step of further removing a harmful substance
  • a method for removing harmful substances in a gas comprising at least a microorganism comprising a group of bacteria containing photosynthetic bacteria, a microorganism comprising a group of bacteria comprising yeast, and a microorganism comprising a group of bacteria containing lactic acid bacteria
  • a primary step of releasing a gas containing a harmful substance into the liquid containing the gas to remove the harmful substance in the gas; and a harmful substance remaining in the gas from the gas passed through the primary step In a fired body containing a residual harmful substance removing step to be removed, a microorganism consisting of a group of bacteria containing at least photosynthetic bacteria, a microorganism consisting of a group of bacteria containing yeast, and a microorganism consisting of a group of bacteria containing lactic acid bacteria And a secondary process of further removing a harmful substance remaining in the gas by contacting the gas that has passed through the residual harmful substance removing process.
  • a method for removing harmful substances in a gas comprising at least a microorganism comprising a group of bacteria containing photosynthetic bacteria, a microorganism comprising a group of bacteria containing yeast, and a microorganism comprising a group of bacteria containing lactic acid bacteria
  • the baked product containing lysate is disposed in a liquid containing at least a microorganism comprising a group of bacteria containing photosynthetic bacteria, a microorganism comprising a group of bacteria containing yeast, and a microorganism comprising a group of bacteria containing lactic acid bacteria.
  • a harmful substance removing method is characterized in that a gas containing a harmful substance is released into the liquid to remove the harmful substance in the gas.
  • a method for removing harmful substances in a gas comprising at least a microorganism comprising a group of bacteria containing photosynthetic bacteria, a microorganism comprising a group of bacteria comprising yeast, and a microorganism comprising a group of bacteria containing lactic acid bacteria
  • the baked product containing lysate is disposed in a liquid containing at least a microorganism comprising a group of bacteria containing photosynthetic bacteria, a microorganism comprising a group of bacteria containing yeast, and a microorganism comprising a group of bacteria containing lactic acid bacteria.
  • a primary step of releasing a gas containing a harmful substance in the liquid to remove the harmful substance in the gas, and further removing a harmful substance remaining in the gas from the gas that has passed through the primary process There may be a method for removing harmful substances characterized by having a residual harmful substance removing step.
  • each of the harmful substance removal methods described above may have a deodorization step of deodorizing from the gas as a final treatment, and when releasing the gas into the liquid, the gas is released in the form of fine bubbles. May be.
  • a hazardous substance removal method for removing harmful substances such as carbon monoxide, carbon dioxide and particulate matter from a gas discharged from an internal combustion engine or an incinerator without using a catalyst made of a rare metal. I was able to do it.
  • “removal” is a concept that includes not only the case where all harmful substances are removed, but also the state where only some of the harmful substances are removed (a state in which the emission amount of harmful substances is reduced). is there.
  • examples of harmful substances include carbon monoxide, carbon dioxide, and particulate substances.
  • the present invention is not limited to these, and other well-known substances may be used within the scope of the present invention.
  • the concept includes harmful substances, and in each example described below, the concept of harmful substances that can be removed in each step may be different.
  • the particulate matter is a concept including dust, soot and dust if it is very fine particles floating in the air.
  • FIG. 1A is a flowchart showing the steps of the harmful substance removal method according to the first embodiment.
  • FIG.1 (b) shows schematic structure by the present Example of the processing apparatus which removes a harmful substance.
  • the gas containing harmful substances such as carbon monoxide, carbon dioxide, and particulate matter discharged from the internal combustion engine and the incinerator (A) is introduced into the hazardous substance processing step B and processed.
  • the method of discharging (F) is adopted.
  • the harmful substance processing step B the microorganisms contained in the liquid S are reacted with gas to perform the processing.
  • the liquid S contains at least a microorganism consisting of a group of bacteria containing photosynthetic bacteria, a microorganism consisting of a group of bacteria containing yeast, and a microorganism consisting of a group of bacteria containing lactic acid bacteria. These microorganisms react with the gas passing through the liquid, thereby removing harmful substances such as carbon monoxide, carbon dioxide, and particulate matter contained in the gas.
  • the processing apparatus employed in the present embodiment includes an introduction hole 2d for introducing a gas to be processed and a discharge hole 2e for discharging the processed gas to the outside, and other than the introduction hole and the discharge hole are sealed. It consists of the formed hazardous substance treatment tank 2a and the above-described liquid S contained in the hazardous substance treatment tank 2a, and the above-described harmful substance treatment step B is processed inside this treatment apparatus. .
  • the introduction hole 2d is provided in the lower region 2c of the hazardous substance treatment tank 2a, and the gas discharged from the internal combustion engine or the incinerator (A) is introduced into the introduction hole 2d into the harmful substance treatment tank 2a.
  • Pipe AP to be connected is connected.
  • the discharge hole 2e is provided in the upper region 2b of the hazardous substance treatment tank 2a, and is a pipe BP that discharges the gas from which harmful substances have been removed through the liquid S in the hazardous substance treatment tank 2a to the outside. Is connected.
  • the liquid S stored in the hazardous substance treatment tank 2a is filled so as to leave a space in the upper region 2b of the hazardous substance treatment tank 2a.
  • the pipe AP is configured as follows.
  • the pipe AP is inserted into the lower area 2c inside the hazardous substance treatment tank 2a from the outside of the hazardous substance treatment tank 2a through the introduction hole 2d, and covers the bottom surface of the hazardous substance treatment tank 2a in the lower area 2c.
  • the extending portion PE is formed.
  • a large number of fine holes are formed in the extending portion PE. If formed in this way, at the deepest part of the liquid S, the gas becomes fine bubbles H from a large number of holes and is released into the liquid S. At this time, the fine bubbles H are preferred to the bubbles larger than the large bubbles because the contact between the microorganisms contained in the liquid S and the bubbles H is active, and the gas treatment is promoted.
  • a plurality of pipes AP can be provided in the lower region 2c.
  • the pipe AP is formed in a straight tubular shape, but it is also possible to provide the pipe AP in the lower region 2c in a spiral shape.
  • the pipe AP is not construed as being limited to the form employed in the present embodiment, and may be, for example, a form that is simply tightly fitted from the outside into the introduction hole 2d, and the design is changed within the scope of the present invention. Is possible.
  • the exhaust gas from the internal combustion engine and the incinerator (A) is discharged into the liquid S inside the harmful substance processing tank 2a through the pipe AP.
  • the gas released into the liquid S is subjected to the removal treatment of carbon monoxide and carbon dioxide in the gas by the microorganisms contained in the liquid S, and the particulate matter is separated from the gas.
  • FIG. 2A is a flowchart showing the steps of the harmful substance removal method according to the second embodiment.
  • a primary process B and a secondary process D are provided. That is, a gas containing harmful substances such as carbon monoxide, carbon dioxide, and particulate matter discharged from the internal combustion engine and the incinerator (A) is introduced into the primary process B and subjected to a removal process of the harmful substances. Furthermore, a method is employed in which residual harmful substances that could not be removed by the primary process are discharged (F) to the outside after being removed in the secondary process D. In the secondary process D, when harmful substances such as carbon monoxide and carbon dioxide that could not be removed in the primary process B remain, the carbon monoxide and carbon dioxide are further removed.
  • the primary process B of the present embodiment is a process having the same contents as the harmful substance treatment process B described in the first embodiment, the description thereof is omitted in this embodiment. Therefore, the secondary process D will be described here.
  • the fired body L is mainly composed of ceramics, and includes a microorganism consisting of a group of bacteria containing at least photosynthetic bacteria, a microorganism consisting of a group of bacteria containing yeast, and a microorganism consisting of a group of bacteria containing lactic acid bacteria. It contains and is comprised.
  • the through-hole through which gas can pass is formed in the sintered body L employ
  • These microorganisms react with the gas that has undergone the primary process B on the surface of the fired body L, thereby removing harmful substances such as carbon monoxide and carbon dioxide that are contained (residual) in the gas. It is processed.
  • FIG. 2B An outline of a configuration example of the processing apparatus used in the harmful substance removing method according to the present embodiment will be described (FIG. 2B).
  • the processing apparatus of the primary process B of a present Example is the same structure as the processing apparatus of the hazardous
  • the description will focus on the configuration of the processing apparatus of the secondary process D.
  • the hazardous substance treatment tank 2a described in the first embodiment is referred to as a primary process treatment tank 2a in this embodiment.
  • the processing apparatus employed in this embodiment includes an introduction hole 4d for introducing the gas discharged from the primary process B through the pipe BP, and a discharge hole 4e for discharging the processed gas to the outside.
  • the secondary process treatment tank 4a formed in a sealed manner except for the discharge hole, and the above-described fired body L accommodated in the secondary process treatment tank 4a.
  • the introduction hole 4d is provided in the lower region 4c of the secondary process treatment tank 4a, and a pipe BP for introducing the gas from the hazardous substance treatment tank 2a into the inside of the secondary process treatment tank 4a. Is connected.
  • the discharge hole 4e is provided in the upper region 4b of the secondary process treatment tank 4a, and a pipe DP for discharging the gas from which harmful substances have been removed by the fired body L in the secondary process treatment tank 4a to the outside. It is connected.
  • the fired body L is installed inside the secondary process treatment tank 4a so as to leave a space in the upper region 4b and the lower region 4c. Moreover, the through hole of the fired body L is arranged in accordance with the direction in which the hole passes through in the direction in which the gas in the secondary process treatment tank 4a flows, that is, in the vertical direction in this embodiment. Thereby, gas can pass through the through hole of the fired body L.
  • the gas discharged from the primary process treatment tank 2a is discharged to the upper region 4b inside the secondary process treatment layer 4a through the pipe BP.
  • the gas continuously flows into the secondary process treatment tank 4a through the primary process treatment tank 2a.
  • gas flows toward the lower area
  • the gas passes while contacting the outer surface of the fired body L or while contacting the inner surface of the through hole, so that the microorganism and gas contained in the fired body L react with each other in the gas. Residual harmful substances such as carbon monoxide and carbon dioxide are removed.
  • the gas which the secondary process process was completed is discharged
  • the fired body L is arranged so that the direction of the through hole matches the direction in which the gas flows.
  • the present invention is not limited to this, and the direction of the through hole is changed from the direction in which the gas flows. You may arrange it.
  • the gas flowing in the through hole of the fired body L flows more slowly than the gas flowing on the outer surface of the fired body, so that the time for the gas to react with the microorganisms is relatively long in the through hole. Longer and promotes removal of harmful substances.
  • FIG. 3A is a flowchart showing the steps of the harmful substance removal method according to the third embodiment.
  • a residual harmful substance removal process C for further removing harmful substances remaining in the gas is provided. That is, the gas in the internal combustion engine or the incinerator (A) is treated to remove carbon monoxide, carbon dioxide, or harmful substances such as particulate matter in the primary process B, and further removed from the gas in the primary process B.
  • Residual harmful substances such as carbon monoxide and carbon dioxide that were not removed were removed in the secondary process D, and further, residual harmful substances such as particulate substances that could not be removed from the gas even after passing through the secondary process D Is used after being removed in the residual harmful substance removal step C and then discharged (F) to the outside.
  • this residual harmful substance removal step C if a harmful substance such as particulate matter that could not be removed in the primary step B remains, the particulate matter is further removed. Therefore, even in the present embodiment, there may be a case where all harmful substances can be removed at the stage of removal treatment in the primary process B as in the first embodiment.
  • the primary process B of the present example has the same contents as the process by the hazardous substance treatment process B described in the first example, and the secondary process D of the present example is the same as the process described in the second example. Since the contents are the same, the description of the primary process B and the secondary process D is omitted here, and the configuration of the residual harmful substance removal process C will be mainly described.
  • the residual harmful substance removal step C the residual particulate matter removal means J is reacted with the gas that has passed through the secondary step D to remove the particulate matter remaining in the gas, thereby removing the gaseous particulate matter. The process to do is performed.
  • FIG. 3B An outline of a configuration example of the processing apparatus used in the harmful substance removing method according to the present embodiment will be described (FIG. 3B).
  • a present Example is a structure provided with the processing apparatus of the residual harmful substance removal process C after the processing apparatus of the primary process B, and the processing apparatus of the secondary process D, the processing apparatus and the secondary process D of the primary process B Since this processing apparatus has been described in the second embodiment, the configuration of the processing apparatus in the residual harmful substance removal step C will be mainly described here.
  • the processing apparatus employed in the present embodiment includes an introduction hole 3d for introducing the gas discharged from the secondary process D through the pipe DP, and a discharge hole 3e for discharging the processed gas to the outside.
  • the remaining harmful substance removal tank 3a is formed in a sealed manner except for the holes and the discharge holes, and the above-described fired body L accommodated in the residual harmful substance removal tank 3a.
  • Process C is processed inside the processing apparatus.
  • the introduction hole 3d is provided in the lower region 3c of the residual harmful substance removal tank 3a, and a pipe for introducing the gas from the secondary process treatment tank 4a into the residual harmful substance removal tank 3a.
  • DP is connected.
  • the discharge hole 3e is provided in the upper region 3b of the residual harmful substance removal tank 3a, and discharges the gas from which the harmful substances have been removed by the residual harmful substance removal means J in the residual harmful substance removal tank 3a to the outside.
  • Pipe CP is connected.
  • the residual harmful substance removal means J is installed inside the residual harmful substance removal tank 3a so as to leave a space in the upper region 3b and the lower region 3c.
  • the residual harmful substance removing means J of this embodiment includes an internal space through which gas can pass, and the internal space of the residual harmful substance removing means J is charged by a power source K provided outside. Negative ions are generated inside. At this time, the positively charged particulate matter is adsorbed by negative ions and taken out from the gas.
  • the gas discharged from the secondary process processing tank 4a is discharged to the lower region 3c inside the residual harmful substance removal tank 3a through the pipe PD.
  • the internal combustion engine and the incinerator (A) continuously discharge the gas
  • the gas continuously flows into the residual harmful substance removal tank 3a through the secondary process treatment tank 4a.
  • the gas flows from the lower region 3c toward the upper region 3b. Since the gas passes through the internal space of the residual harmful substance removing means J when the gas flows, the negative ions react to remove the particulate matter remaining positively charged in the gas.
  • the gas that has been subjected to the residual harmful substance removal process is discharged from the pipe CP of the residual harmful substance removal tank 3a to the outside of the residual harmful substance removal tank 3a. Accordingly, the gas discharged (F) from the upper region 3b through the pipe CP to the outside is a clean gas from which harmful substances have been removed as described above.
  • the residual harmful substance removal process C is adopted after the primary process B and the secondary process D, and the residual harmful substance removal process C is performed.
  • a method performed between the primary process B and the secondary process D is adopted as shown in the flowchart of FIG. That is, the gas of the internal combustion engine or the incinerator (A) has carbon monoxide, carbon dioxide, and particulate matter removed, and, among the harmful substances remaining in the gas that cannot be removed in the primary step B, In the case where carbon monoxide and carbon dioxide remain in the gas, the residual substances are removed in the residual harmful substance removal step C and further passed through the residual harmful substance removal step C. The carbon monoxide and carbon dioxide being removed are removed (F) after being removed in the secondary process D. Even in this case, the same effect as in the third embodiment can be obtained.
  • the processing apparatus used for the hazardous substance removal method in the present embodiment is the same as that of the third embodiment in its configuration.
  • the pipe BP of the processing apparatus used in the primary process B is a residual harmful substance removal tank.
  • a pipe CP connected to the introduction hole of the processing apparatus used in the secondary process D is connected to the introduction hole 3a. Since the configuration and operational effects of the processing apparatus in each process are the same as those in the first to third aspects, the description thereof is omitted.
  • the process using the fired body L described in the second embodiment is performed. That is, as shown in the flowchart of FIG. 5A, a method of removing harmful substances such as carbon monoxide, carbon dioxide, and particulate matter contained in the gas is adopted. That is, as shown in the flow chart of FIG. 5 (a), the gas discharged from the internal combustion engine or the incinerator (A) is subjected to the simultaneous processing step (G) with the liquid S and the fired body L to the outside. It is discharged (F). Even in this case, the same effect as in the second embodiment can be obtained.
  • FIG. 5B shows an outline of a configuration example of a processing apparatus that is processed along the flowchart of FIG. 5A according to the harmful substance removal method of the present embodiment.
  • the simultaneous processing step (G) with the liquid S containing microorganisms and the fired body L containing microorganisms is processed inside the hazardous substance treatment tank 2a. That is, the processing apparatus of the present embodiment is configured by arranging the fired body L used in the secondary process D in the hazardous substance processing tank 2a containing the liquid S used in the primary process B of the above-described second embodiment. Has been.
  • a pipe AP for introducing exhaust gas from the internal combustion engine or the incinerator (A) is connected to the introduction hole 2d provided in the lower region 2c of the hazardous substance treatment tank 2a.
  • the discharge hole 2e provided in the upper region 2b of the hazardous substance treatment tank 2a is provided with a pipe BP for discharging the gas after the treatment in the simultaneous treatment step (G).
  • the fired product L has a through-hole through which gas can pass, as in the second embodiment.
  • a configuration a configuration of the pipe AP including the extending portion PE
  • the gas is simultaneously processed in both the liquid S containing microorganisms and the fired product L containing microorganisms.
  • Other configurations and functions and effects are the same as those of the second embodiment described above, and thus the description thereof is omitted.
  • the residual harmful substance removal process C demonstrated in Example 3 may be processed.
  • the processing apparatus in this case, in addition to the hazardous substance treatment tank 2a, the residual harmful substance removal tank 3a described in the third embodiment may be provided.
  • the simultaneous processing step (G) according to the present embodiment may be replaced with the primary step (B) of the second to fourth embodiments described above. In this case, since the processing by the fired body L is performed in duplicate, the efficiency of removing harmful substances is further improved.
  • a deodorizing step E is further provided as a final processing (see the flowchart in FIG. 6A). That is, the gas in the internal combustion engine or the incinerator (A) is treated to remove carbon monoxide, carbon dioxide, or harmful substances such as particulate matter in the primary process B, and further removed from the gas in the primary process B.
  • Residual harmful substances such as particulate matter that have not been removed are removed in the residual harmful substance removal step C, and residual harmful substances such as carbon monoxide and carbon dioxide that could not be removed from the gas in the primary step B
  • a method is adopted in which the removal process is performed in the next process D, and the deodorization process is performed in the deodorization process E and then discharged (F) to the outside.
  • the primary process B of this example has the same content as the process by the hazardous substance treatment process B described in Example 1, and the residual harmful substance removal process C of this example has been described in Example 3. Since the same content as the process by the residual harmful substance removal process C and the secondary process D of the present embodiment is the same as the process described in the second embodiment, the primary process B and the residual harmful substance removal process C are here.
  • the deodorizing means M is reacted with the gas that has passed through the residual harmful substance removing step C to perform a deodorizing process for an unpleasant odor in the gas.
  • FIG. 6B An outline of one configuration example of the processing apparatus used in the harmful substance removing method according to the present embodiment will be described (FIG. 6B).
  • a present Example is a structure provided with the processing apparatus of the deodorizing process E after the processing apparatus of the primary process B, the residual harmful substance removal process C, and the processing apparatus of the secondary process D, The processing apparatus of the primary process B, and Since the processing apparatus of the secondary process D has been described in the second embodiment and the processing apparatus of the residual harmful substance removal process C has been described in the third embodiment, here, the configuration of the processing apparatus of the deodorizing process E will be mainly described. .
  • the processing apparatus employed in this example includes an introduction hole 5d for introducing the gas discharged from the secondary process D through the pipe DP, and a discharge hole 5e for discharging the processed gas to the outside.
  • the deodorizing process treatment tank 5a is formed in a sealed manner except for the holes and the discharge holes, and the above-described deodorizing means M accommodated in the deodorizing process treatment tank 5a. Processed inside the processor.
  • the introduction hole 5d is provided in the lower region 5c of the deodorization process treatment tank 5a, and a pipe DP for introducing the gas from the secondary process treatment tank 4a into the inside of the deodorization process treatment tank 5a is provided in the introduction hole 5d. It is connected.
  • the discharge hole 5e is provided in the upper region 5b of the deodorizing process treatment tank 5a, and a pipe EP for discharging the gas deodorized by the deodorizing means M in the deodorizing process treatment tank 5a to the outside is connected. Has been.
  • the deodorizing means M is installed in the deodorizing process treatment tank 5a so as to leave a space in the upper region 5b and the lower region 5c.
  • the deodorizing means M of the present embodiment includes an internal space through which gas can pass, and deodorizes an unpleasant odor in the gas when the gas passes through the space.
  • a means is adopted in which odor molecules are adsorbed in fine pores of a porous body such as activated carbon and deodorized.
  • emitted from the secondary process process tank 4a is discharge
  • the gas continuously flows into the deodorizing process processing tank 5a through the secondary process processing tank 4a.
  • gas flows toward the upper area
  • gas flows since it passes the internal space of the said deodorizing means M, it deodorizes.
  • the gas which the deodorizing process process completed is discharged
  • microorganisms which consist of a microbial cell group containing the photosynthetic bacteria used in the primary process B and secondary process D of each Example mentioned above the microorganisms which consist of a microbial cell group containing yeast, and the microbial cell group containing lactic acid bacteria It is sufficient that the microorganism consisting of is contained at least, and other microorganisms may be added thereto. In that case, it can be expected that the activity of microorganisms is further activated.
  • the ratio of each fungus shall be arbitrarily set according to the expected concentration of harmful substances.
  • the processing tanks are arranged side by side, but the processing tanks may be arranged in other forms. For example, it may be arranged vertically according to the order of the processing steps. Moreover, the form which a gas flows through each processing tank may be sufficient as each processing tank is not connected with a pipe and processing tanks are directly adjacently connected. Furthermore, the some processing apparatus may be comprised collectively in one processing tank.
  • the fired body L of the secondary treatment process D may be arranged in the space of the upper region 2b of the primary process treatment tank 2a of Example 2.
  • (A) is a flowchart showing the steps of the hazardous substance removal method according to the first embodiment
  • (b) is an explanatory diagram of a schematic configuration of one configuration example of the processing apparatus used in the harmful substance removal method according to the first embodiment. is there.
  • (A) is a flowchart showing the steps of the hazardous substance removal method according to the second embodiment
  • (b) is an explanatory diagram of a schematic configuration of one configuration example of the processing apparatus used in the hazardous substance removal method according to the second embodiment. is there.
  • (A) is a flowchart showing the steps of the hazardous substance removal method according to Example 3
  • (b) is an explanatory diagram of a schematic configuration of one configuration example of a processing apparatus used in the hazardous substance removal method according to Example 3. is there.
  • (A) is a flowchart showing the steps of the hazardous substance removal method according to Example 4, and (b) is an explanatory diagram of a schematic configuration of one configuration example of the processing apparatus used in the harmful substance removal method according to Example 4. is there.
  • (A) is a flowchart showing the steps of the harmful substance removal method according to the fifth embodiment, and (b) is an explanatory diagram of a schematic configuration of one configuration example of the processing apparatus used in the harmful substance removal method according to the fifth embodiment. is there.
  • (A) is a flowchart showing the steps of the hazardous substance removal method according to Example 6, and (b) is an explanatory diagram of a schematic configuration of one configuration example of the processing apparatus used in the harmful substance removal method according to Example 6. is there.

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Abstract

【課題】内燃機関や焼却炉が排出した気体から、レアメタルによる触媒を使用することなく、一酸化炭素、二酸化炭素及び粒子状物質などの有害物質を除去する有害物質除去方法を提供する。 【解決手段】少なくとも光合成菌を含む菌体群からなる微生物と、酵母菌を含む菌体群からなる微生物と、乳酸菌を含む菌体群からなる微生物とを含有した液体Ｓ中に、内燃機関や焼却炉（Ａ）が排出した気体を放出し、気体中の二酸化炭素と一酸化炭素と粒子状物質を除去する一次工程Ｂと、粒子状物質をさらに取り出しして除去する残留有害物質除去工程Ｃと、少なくとも光合成菌を含む菌体群からなる微生物と、酵母菌を含む菌体群からなる微生物と、乳酸菌を含む菌体群からなる微生物とを含有した焼成体Ｌを接触させて、該気体中の二酸化炭素及び一酸化炭素をさらに除去する二次工程Ｄと、気体から脱臭手段Ｍで脱臭する脱臭工程Ｅを有する。

Description

有害物質除去方法
　本発明は、有害物質除去方法に関し、詳しくは、内燃機関や焼却炉が排出した気体から、レアメタルによる触媒を使用することなく、一酸化炭素、二酸化炭素及び粒子状物質などの有害物質を除去する有害物質除去方法に関する。
　内燃機関や焼却炉のように、燃料やゴミを燃焼したことによって排出される気体には、有害物質として一酸化炭素が含まれている。その一酸化炭素を除去させる技術として、従来から、白金やバナジウム等のレアメタルで濾過装置を形成した酸化触媒が周知である。このような酸化触媒では、気体を前記濾過装置に通して、レアメタルによって酸化反応させて、気体中の一酸化炭素を二酸化炭素に変換している。
　また、ディーゼルエンジンや焼却炉から排出される気体には、有害物質として粒子状物質が多く含まれている。その粒子状物質を除去する技術として、特許文献1には、多数の孔をあけた耐熱板からなる濾過装置で粒子状物質を捕捉する技術が開示されている。
　しかし、前記酸化触媒による排気の浄化レベルを、益々厳しくなる環境保護の基準に合わせるためには、白金やバナジウム等のレアメタルを大量に使用する必要がある。このため、レアメタルが枯渇しつつあり高騰傾向にあることが社会問題となっている。
　さらに、酸化反応によって生み出される二酸化炭素は、地球規模の温暖化を招く温室効果ガスであり、この二酸化炭素の放出量を減量することが国際的な課題となっている。
　また、粒子状物質は大気中に浮遊し易く、人間の気道や肺に沈着して健康を損ねるので、大気汚染の主要因とされており、さらなる除去が望まれている。
特開平１１－２５７０４８号公報
　本発明の目的は、上記問題を解決して、内燃機関や焼却炉が排出した気体から、レアメタルによる触媒を使用することなく、一酸化炭素、二酸化炭素及び粒子状物質などの有害物質を除去する有害物質除去方法を提供することである。
　上記課題を達成するために本発明がなした技術的手段は、気体中の有害物質を除去する方法であって、少なくとも光合成菌を含む菌体群からなる微生物と、酵母菌を含む菌体群からなる微生物と、乳酸菌を含む菌体群からなる微生物とを含有した液体中に、有害物質を含んだ気体を放出して、該気体中の有害物質を除去する有害物質除去方法としたことである。
　また、気体中の有害物質を除去する方法であって、少なくとも光合成菌を含む菌体群からなる微生物と、酵母菌を含む菌体群からなる微生物と、乳酸菌を含む菌体群からなる微生物とを含有した液体中に、有害物質を含んだ気体を放出して、該気体中の有害物質を除去する一次工程と、少なくとも光合成菌を含む菌体群からなる微生物と、酵母菌を含む菌体群からなる微生物と、乳酸菌を含む菌体群からなる微生物とを含有した焼成体に、前記一次工程を通過した気体を接触させて、気体中に残留する有害物質をさらに除去する二次工程とを有することを特徴とする有害物質除去方法とする場合もある。
　さらに、気体中の有害物質を除去する方法であって、少なくとも光合成菌を含む菌体群からなる微生物と、酵母菌を含む菌体群からなる微生物と、乳酸菌を含む菌体群からなる微生物とを含有した液体中に、有害物質を含んだ気体を放出して、該気体中の有害物質を除去する一次工程と、少なくとも光合成菌を含む菌体群からなる微生物と、酵母菌を含む菌体群からなる微生物と、乳酸菌を含む菌体群からなる微生物とを含有した焼成体に、前記一次工程を通過した気体を接触させて、気体中に残留する有害物質をさらに除去する二次工程と、前記二次工程を通過した気体から、該気体中に残留する有害物質をさらに除去する残留有害物質除去工程とを有することを特徴とする有害物質除去方法とする場合もある。
　さらに、気体中の有害物質を除去する方法であって、少なくとも光合成菌を含む菌体群からなる微生物と、酵母菌を含む菌体群からなる微生物と、乳酸菌を含む菌体群からなる微生物とを含有した液体中に、有害物質を含んだ気体を放出して、該気体中の有害物質を除去する一次工程と、前記一次工程を通過した気体から、該気体中に残留する有害物質をさらに除去する残留有害物質除去工程と、少なくとも光合成菌を含む菌体群からなる微生物と、酵母菌を含む菌体群からなる微生物と、乳酸菌を含む菌体群からなる微生物とを含有した焼成体に、前記残留有害物質除去工程を通過した気体を接触させて、気体中に残留する有害物質をさらに除去する二次工程とを有することを特徴とする有害物質除去方法とする場合もある。
　また、気体中の有害物質を除去する方法であって、少なくとも光合成菌を含む菌体群からなる微生物と、酵母菌を含む菌体群からなる微生物と、乳酸菌を含む菌体群からなる微生物とを含有した焼成体を、少なくとも光合成菌を含む菌体群からなる微生物と、酵母菌を含む菌体群からなる微生物と、乳酸菌を含む菌体群からなる微生物とを含有した液体中に配し、該液体中に有害物質を含んだ気体を放出して、該気体中の有害物質を除去することを特徴とする有害物質除去方法とする場合もある。
　さらに、気体中の有害物質を除去する方法であって、少なくとも光合成菌を含む菌体群からなる微生物と、酵母菌を含む菌体群からなる微生物と、乳酸菌を含む菌体群からなる微生物とを含有した焼成体を、少なくとも光合成菌を含む菌体群からなる微生物と、酵母菌を含む菌体群からなる微生物と、乳酸菌を含む菌体群からなる微生物とを含有した液体中に配し、該液体中に有害物質を含んだ気体を放出して、該気体中の有害物質を除去する一次工程と、前記一次工程を通過した気体から、該気体中に残留する有害物質をさらに除去する残留有害物質除去工程とを有することを特徴とする有害物質除去方法とする場合もある。
　また、上述した各有害物質除去方法は、最終処理として、気体から脱臭する脱臭工程を有しても良く、さらに、液体中に気体を放出する際に、気体を微細な泡状にして放出しても良い。
　本発明によれば、内燃機関や焼却炉が排出した気体から、レアメタルによる触媒を使用することなく、一酸化炭素、二酸化炭素及び粒子状物質などの有害物質を除去する有害物質除去方法を提供することができるようになった。
　以下、本発明にかかる有害物質除去方法について、詳細に説明する。なお、本発明において除去とは、有害物質が全部除去される場合のみならず、有害物質の一部のみが除去されている状態（有害物質の排出量が軽減された状態）をも含む概念である。また、本発明において有害物質とは、一酸化炭素、二酸化炭素、粒子状物質などを一例として挙げることができるが、何等これらに限定解釈されるものではなく、本発明の範囲内で他の周知有害物質をも含む概念であり、また、以下に説明する各実施例では、それぞれの工程で除去し得る有害物質の概念が異なる場合もある。また、粒子状物質は、空気中に浮遊する非常に細かい粒子であれば、塵埃や煤塵や粉塵も含む概念である。
　図１（ａ）は、実施例１による有害物質除去方法の工程を表すフロー図である。また、図１（ｂ）は、有害物質を除去する処理装置の本実施例による概略構成を示す。
　本実施例では、内燃機関や焼却炉（Ａ）から排出された一酸化炭素、二酸化炭素、粒子状物質などの有害物質を含んだ気体が、有害物質処理工程Ｂに導入されて処理された後に排出（Ｆ）される方法を採用している。
　有害物質処理工程Ｂでは、液体Ｓに含有された微生物に気体を反応させて処理を行なう。
　前記液体Ｓは、少なくとも光合成菌を含む菌体群からなる微生物と、酵母菌を含む菌体群からなる微生物と、乳酸菌を含む菌体群からなる微生物とを含有している。
　これらの微生物は、液体中を通過する前記気体と反応することによって、その気体中に含まれている一酸化炭素、二酸化炭素、粒子状物質などの有害物質が除去処理される。
　次に、本実施例による有害物質除去方法に使用される処理装置の一構成例の概略を説明する。
　本実施例にて採用した処理装置は、処理対象となる気体を導入する導入孔２ｄと、処理済の気体を外部に排出する排出孔２ｅを備え、その導入孔と排出孔以外は密閉状に形成された有害物質処理槽２ａと、その有害物質処理槽２ａ内に収容される上述した液体Ｓとで構成されており、上述した有害物質処理工程Ｂは、この処理装置の内部で処理される。
　導入孔２ｄは、有害物質処理槽２ａの下部領域２ｃに設けられており、この導入孔２ｄには、有害物質処理槽２ａの内部に内燃機関や焼却炉（Ａ）から排出された気体を導入するパイプＡＰが接続されている。
　排出孔２ｅは、有害物質処理槽２ａの上部領域２ｂに設けられており、この有害物質処理槽２ａ内の液体Ｓ中を通過して有害物質が除去された気体を外部へと排出するパイプＢＰが接続されている。
　また、本実施例において有害物質処理槽２ａ中に収容される前記液体Ｓは、有害物質処理槽２ａの上部領域２ｂに空間を残すように満たされている。
　本実施例では、前記パイプＡＰを次のように構成している。
パイプＡＰは、有害物質処理槽２ａ外部から、導入孔２ｄを介して有害物質処理槽２ａの内部の下部領域２ｃ内に挿入され、その下部領域２ｃにおいて、有害物質処理槽２ａの底面を覆うように形成された延設部ＰＥを備えている。
　そして、その延設部ＰＥには、多数の微細な孔が形成されている。このように形成すれば、液体Ｓの最深部で、気体が多数の孔から微細な泡Ｈになって液体Ｓに放出される。このとき、大きな泡よりも微細な泡Ｈの方が、液体Ｓに含有する微生物と泡Ｈとの接触が活発であるので、気体の処理が促進されるため好ましい。
　また、このパイプＡＰは、前記下部領域２ｃ内に複数本備えることも可能である。
　さらに本実施例では、パイプＡＰをストレートな管状をもって形成しているが、スパイラル状に前記下部領域２ｃ内に備えることも可能である。
　なお、パイプＡＰは、本実施例で採用した形態に限定解釈されるものではなく、例えば導入孔２ｄに単に外部から緊密に嵌め込まれる形態などであってもよく、本発明の範囲内で設計変更可能である。
　上述した処理装置によれば、内燃機関や焼却炉（Ａ）からの排気は、パイプＡＰを通して、有害物質処理槽２ａの内部の液体Ｓ中に放出される。
　そして、前記液体Ｓ中に放出された気体は、液体Ｓが含有する微生物によって、気体中の一酸化炭素と二酸化炭素が除去処理されるとともに、粒子状物質が気体から分離処理されて、液体Ｓ中に取り込まれるようにして、有害物質処理槽２ａの底部に沈殿する（有害物質処理工程Ｂ）。すなわち、有害物質処理工程Ｂで処理され、液体Ｓ中を通過し、有害物質処理槽２ａの上部領域２ｂに一旦貯溜された気体は、一酸化炭素と二酸化炭素と、粒子状物質が除去されている。
　従って、上部領域２ｂからパイプＢＰを通って外部へと排出（Ｆ）される気体は、上述した通り有害物質が除去されたクリーンな気体である。
　図２（ａ）は、実施例２による有害物質除去方法の工程を表すフロー図である。
　本実施例では、一次工程Ｂと二次工程Ｄを備えている。すなわち、内燃機関や焼却炉（Ａ）から排出された一酸化炭素、二酸化炭素、粒子状物質などの有害物質を含んだ気体は、一次工程Ｂに導入されて有害物質の除去処理が施され、さらに、前記一次工程によって除去され得なかった残留有害物質が二次工程Ｄで除去処理された後に外部に排出（Ｆ）される方法を採用している。
　この二次工程Ｄでは、一次工程Ｂにて除去しきれなかった一酸化炭素や二酸化炭素などの有害物質が残留していた場合、その一酸化炭素や二酸化炭素をさらに除去する。従って、本実施例であっても、実施例１と同様に一次工程Ｂにて除去処理した段階で有害物質が全て除去し得る場合もある。
　なお、本実施例の一次工程Ｂは、前記実施例１で説明した有害物質処理工程Ｂと同一内容による工程であるため本実施例ではその説明を省略する。従って、ここでは、二次工程Ｄについて説明する。
　二次工程Ｄでは、焼成体Ｌに含有された微生物に、一次工程Ｂを経た気体を反応させて処理を行なう。
　前記焼成体Ｌは、セラミックスを主成分とし、これに、少なくとも光合成菌を含む菌体群からなる微生物と、酵母菌を含む菌体群からなる微生物と、乳酸菌を含む菌体群からなる微生物とを含有して構成されている。
　また、本実施例で採用する焼成体Ｌには、気体が通過することが可能な貫通孔が形成されている。このように形成されていれば、気体が焼成体Ｌに接触する面積が増加するので、微生物による処理が促進されるため好ましい。
　これらの微生物は、焼成体Ｌの表面で、一次工程Ｂを経た気体と反応することによって、その気体中に含まれている（残留している）一酸化炭素、二酸化炭素などの有害物質が除去処理される。
　次に、本実施例による有害物質除去方法に使用される処理装置の一構成例の概略を説明する（図２（ｂ））。
　なお、本実施例の一次工程Ｂの処理装置は、前記実施例１で説明した有害物質処理工程Ｂの処理装置と同じ構成であるので、ここでは、一次工程Ｂの処理装置の説明を省略し、二次工程Ｄの処理装置の構成を中心に説明する。なお、前記実施例１で説明した有害物質処理槽２ａは、本実施例では一次工程処理槽２ａと称する。
　本実施例にて採用した処理装置は、一次工程ＢからパイプＢＰを介して排出された気体を導入する導入孔４ｄと、処理済の気体を外部に排出する排出孔４ｅを備え、その導入孔と排出孔以外は密閉状に形成された二次工程処理槽４ａと、その二次工程処理槽４ａ内に収容される上述した焼成体Ｌとで構成されており、上述した二次工程Ｄは、この処理装置の内部で処理される。
　導入孔４ｄは、二次工程処理槽４ａの下部領域４ｃに設けられており、この導入孔４ｄには、二次工程処理槽４ａの内部に有害物質処理槽２ａからの気体を導入するパイプＢＰが接続されている。
　排出孔４ｅは、二次工程処理槽４ａの上部領域４ｂに設けられており、この二次工程処理槽４ａ内の焼成体Ｌによって有害物質が除去された気体を外部へと排出するパイプＤＰが接続されている。
　前記焼成体Ｌは、前記二次工程処理槽４ａの内部に、上部領域４ｂおよび下部領域４ｃに空間を残すように設置されている。
　また、焼成体Ｌの貫通穴は、穴が貫通する方向を二次工程処理槽４ａの気体が流れる方向、すなわち、本実施例では上下方向に合わせて配置される。これにより、気体が焼成体Ｌの貫通穴を通過することができる。
　上述した処理装置によれば、一次工程処理槽２ａから排出された気体は、パイプＢＰを通して、二次工程処理層４ａの内部の上部領域４ｂに放出される。このとき、内燃機関や焼却炉（Ａ）は、気体を連続的に排出しているので、その気体は、一次工程処理槽２ａを経て、二次工程処理槽４ａに連続的に流入する。これにより、二次工程処理槽４ａでは、気体が上部領域４ｂから下部領域４ｃに向けて流動する。そして、気体が流動する際に前記焼成体Ｌ外表面に接触しながら、あるいは貫通穴の内表面に接触しながら通過するので、焼成体Ｌが含有する微生物と気体が反応して、気体中に残留していた一酸化炭素と二酸化炭素などの有害物質が除去処理される。
　そして、二次工程処理が完了した気体は、二次工程処理槽４ａのパイプＤＰから二次工程処理槽４ａの外部へと排出される。
　従って、下部領域４ｂからパイプＤＰを通って外部へと排出（Ｆ）される気体は、上述した通り有害物質が除去されたクリーンな気体である。
　なお、本実施例による処理装置では、焼成体Ｌは、その貫通孔の向きを気体が流れる方向にあわせて配置したが、これに限定されず、貫通孔の向きを気体が流れる方向から角度を持たせて配置しても良い。この場合には、焼成体Ｌの貫通孔内を流動する気体は、焼成体の外表面を流動する気体よりもゆっくりと流動するので、貫通孔内では、気体が微生物と反応する時間が比較的長くなり、有害物質の除去処理が促進される。
　図３（ａ）は、実施例３による有害物質除去方法の工程を表すフロー図である。
　本実施例では、一次工程Ｂと二次工程Ｄに加えて、気体中に残留する有害物質をさらに除去する残留有害物質除去工程Ｃを備えている。すなわち、内燃機関や焼却炉（Ａ）の気体は、一次工程Ｂで一酸化炭素や二酸化炭素、あるいは粒子状物質などの有害物質が除去処理され、さらに、一次工程Ｂで気体中から除去しきれなかった一酸化炭素や二酸化炭素などの残留有害物質が二次工程Ｄで除去処理され、そしてさらに、その二次工程Ｄを経ても気体中から除去しきれなかった粒子状物質などの残留有害物質が残留有害物質除去工程Ｃで除去処理された後に外部に排出（Ｆ）される方法を採用している。
　この残留有害物質除去工程Ｃでは、一次工程Ｂにて除去しきれなかった粒子状物質など有害物質が残留していた場合、その粒子状物質をさらに除去する。従って、本実施例であっても、実施例１と同様に一次工程Ｂにて除去処理した段階で有害物質が全て除去し得る場合もある。
　なお、本実施例の一次工程Ｂは、前記実施例１で説明した有害物質処理工程Ｂによる工程と同一内容であり、本実施例の二次工程Ｄは、前記実施例２で説明した工程と同一内容なので、ここでは、一次工程Ｂと二次工程Ｄの説明を省略し、残留有害物質除去工程Ｃの構成を中心に説明する。
　残留有害物質除去工程Ｃでは、残留有害物質除去手段Ｊに、二次工程Ｄを経た気体を反応させて、気体中に残留している粒子状物質を取り出すことにより、気体の粒子状物質を除去する処理を行なう。
　次に、本実施例による有害物質除去方法に使用される処理装置の一構成例の概略を説明する（図３（ｂ））。
　なお、本実施例は、一次工程Ｂの処理装置および二次工程Ｄの処理装置の後に残留有害物質除去工程Ｃの処理装置を備える構成であり、その一次工程Ｂの処理装置および二次工程Ｄの処理装置は、前記実施例２で説明したので、ここでは残留有害物質除去工程Ｃの処理装置の構成を中心に説明する。
　本実施例にて採用した処理装置は、二次工程ＤからパイプＤＰを介して排出された気体を導入する導入孔３ｄと、処理済の気体を外部に排出する排出孔３ｅを備え、その導入孔と排出孔以外は密閉状に形成された残留有害物質除去槽３ａと、その残留有害物質除去槽３ａ内に収容される上述した焼成体Ｌとで構成されており、上述した残留有害物質除去工程Ｃは、この処理装置の内部で処理される。
　導入孔３ｄは、残留有害物質除去槽３ａの下部領域３ｃに設けられており、この導入孔３ｄには、残留有害物質除去槽３ａの内部に二次工程処理槽４ａからの気体を導入するパイプＤＰが接続されている。
　排出孔３ｅは、残留有害物質除去槽３ａの上部領域３ｂに設けられており、この残留有害物質除去槽３ａ内の残留有害物質除去手段Ｊによって有害物質が除去された気体を外部へと排出するパイプＣＰが接続されている。
　前記残留有害物質除去手段Ｊは、前記残留有害物質除去槽３ａの内部に、上部領域３ｂおよび下部領域３ｃに空間を残すように設置されている。
　本実施例の残留有害物質除去手段Ｊは、気体が通過することが可能な内部空間を備え、該空間を外部に備えた電源Ｋで電荷することによって、前記残留有害物質除去手段Ｊの内部空間内にマイナスイオンを発生させる。このとき、マイナスイオンにより、プラス帯電している粒子状物質が吸着されて気体から取り出される。
　上述した処理装置によれば、二次工程処理槽４ａから排出された気体は、パイプＰＤを通して、残留有害物質除去槽３ａの内部の下部領域３ｃに放出される。このとき、内燃機関や焼却炉（Ａ）は、気体を連続的に排出しているので、その気体は、二次工程処理槽４ａを経て、残留有害物質除去槽３ａに連続的に流入する。こにより、残留有害物質除去槽３ａでは、気体が下部領域３ｃから上部領域３ｂに向けて流動する。そして、気体が流動する際に前記残留有害物質除去手段Ｊの内部空間を通過するので、マイナスイオンが反応して、気体中にプラス帯電して残留していた粒子状物質が除去処理される。
　そして、残留有害物質除去工程処理が完了した気体は、残留有害物質除去槽３ａのパイプＣＰから残留有害物質除去槽３ａの外部へと排出される。
　従って、上部領域３ｂからパイプＣＰを通って外部へと排出（Ｆ）される気体は、上述した通り有害物質が除去されたクリーンな気体である。
　上記実施例３では、一次工程Ｂと二次工程Ｄの後に残留有害物質除去工程Ｃを採用して残留有害物質の除去処理を施したが、本実施例では、残留有害物質除去工程Ｃを図４（ａ）に示すフロー図のように、一次工程Ｂと二次工程Ｄの間にて行なう方法を採用している。すなわち、内燃機関や焼却炉（Ａ）の気体は、一酸化炭素や二酸化炭素、及び粒子状物質が除去され、さらに、一次工程Ｂで除去しきれず、気体中に残留した有害物質のうち、粒子状物質を残留有害物質除去工程Ｃで除去処理され、そしてさらに、この残留有害物質除去工程Ｃを経たが、気体中に一酸化炭素や二酸化炭素が残留していた場合、その気体中に残留している一酸化炭素や二酸化炭素が二次工程Ｄで除去処理された後に外部に排出（Ｆ）される。
　この場合であっても、上記実施例３と同様の効果を得ることができる。
　本実施例における有害物質除去方法に使用される処理装置としては、その構成において実施例３と同様であり、本実施例では、一次工程Ｂで用いられる処理装置のパイプＢＰが残留有害物質除去槽３ａの導入孔に接続され、排出孔には二次工程Ｄに用いられる処理装置の導入孔に接続されるパイプＣＰが接続されている。
　各工程による処理装置の構成および作用効果は、前述した請求項１乃至請求項３と同様なのでその説明を省略する。
　本実施例では、実施例２で説明した焼成体Ｌによる処理が行なわれる。すなわち、図５（ａ）のフロー図に示すように、気体中に含まれる一酸化炭素や二酸化炭素、及び粒子状物質などの有害物質を除去処理する方法を採用している。すなわち、図５（ａ）のフロー図に示すように、内燃機関や焼却炉（Ａ）から排出されたの気体は、液体Ｓと焼成体Ｌによる同時処理工程（Ｇ）が行なわれて外部に排出（Ｆ）される。
　この場合であっても、上記実施例２と同様の効果を得ることができる。
　次に、本実施例による有害物質除去方法による図５（ａ）のフロー図に沿って処理される処理装置の一構成例の概略を図５（ｂ）に示す。
　微生物を含有した液体Ｓと微生物を含有した焼成体Ｌによる同時処理工程（Ｇ）は、有害物質処理槽２ａの内部で処理される。
　すなわち、本実施例の処理装置は、上述した実施例２の一次工程Ｂで用いられる液体Ｓを収容した有害物質処理槽２ａ内に、二次工程Ｄで用いられる焼成体Ｌを配置して構成されている。
　この場合、有害物質処理槽２ａの下部領域２ｃに設けた導入孔２ｄには、有害物質処理槽２ａの内部に内燃機関や焼却炉（Ａ）からの排気を導入するパイプＡＰが接続され、さらに、有害物質処理槽２ａの上部領域２ｂに設けた排出孔２ｅには、同時処理工程（Ｇ）による処理後の気体を排出するパイプＢＰが備えられている。
　なお、本実施例の場合であっても、前記実施例２と同様に、焼成物Ｌは気体が通過可能な貫通孔を有していることが好ましい。さらに、前記実施例１と同様に、気体を液体Ｓ中に微細な泡Ｈとして放出し得る構成（延設部ＰＥを備えたパイプＡＰの構成）を採用するのが好ましい。
　これにより、同時処理工程（Ｇ）の処理において、気体は、微生物を含有した液体Ｓと、微生物を含有した焼成物Ｌの両方で同時に処理される。その他の構成および作用効果は、前述した実施例２と同様なのでその説明を省略する。
　なお、本実施例による同時処理工程（Ｇ）が処理された後に、実施例３で説明した残留有害物質除去工程Ｃが処理されても良い。
　この場合の処理装置では、有害物質処理槽２ａの他に、実施例３で説明した残留有害物質除去槽３ａを備えれば良い。
　また、本実施例による同時処理工程（Ｇ）は、上述した実施例２乃至実施例４の一次工程（Ｂ）と置き換えられても良い。この場合には、焼成体Ｌによる処理が重複して行なわれるので、さらに、有害物質の除去される効率が向上する。
　上記実施例１乃至実施例５で説明した処理工程の最後に、最終処理として消臭工程Ｅを備えても良い。
　本実施例では、一例として、前記実施例４で説明した処理工程に加えて、さらに、最終処理として消臭工程Ｅを備えている（図６（ａ）のフロー図参照）。すなわち、内燃機関や焼却炉（Ａ）の気体は、一次工程Ｂで一酸化炭素や二酸化炭素、あるいは粒子状物質などの有害物質が除去処理され、さらに、一次工程Ｂで気体中から除去しきれなかった粒子状物質などの残留有害物質が残留有害物質除去工程Ｃで除去処理され、そしてさらに、一次工程Ｂで気体中から除去しきれなかった一酸化炭素や二酸化炭素などの残留有害物質が二次工程Ｄで除去処理され、さらに、脱臭工程Ｅで脱臭処理された後に外部に排出（Ｆ）される方法を採用している。
　なお、本実施例の一次工程Ｂは、前記実施例１で説明した有害物質処理工程Ｂによる工程と同一内容であり、本実施例の残留有害物質除去工程Ｃは、前記実施例３で説明した残留有害物質除去工程Ｃによる工程と同一内容であり、本実施例の二次工程Ｄは、前記実施例２で説明した工程と同一内容なので、ここでは、一次工程Ｂと残留有害物質除去工程Ｃと二次工程Ｄの説明を省略し、脱臭工程Ｅの構成を中心に説明する。
　脱臭工程Ｅでは、脱臭手段Ｍに、残留有害物質除去工程Ｃを経た気体を反応させて、気体中の不快な臭いの脱臭処理行なう。
　次に、上記図６（ａ）のフロー図に沿って処理される処理装置の一構成例の概略を図６（ｂ）に示し、図に従って説明する。
本実施例による有害物質除去方法に使用される処理装置の一構成例の概略を説明する（図６（ｂ））。
　なお、本実施例は、一次工程Ｂの処理装置および残留有害物質除去工程Ｃおよび二次工程Ｄの処理装置の後に脱臭工程Ｅの処理装置を備える構成であり、その一次工程Ｂの処理装置および二次工程Ｄの処理装置は前記実施例２で説明し、残留有害物質除去工程Ｃの処理装置は前記実施例３で説明したので、ここでは脱臭工程Ｅの処理装置の構成を中心に説明する。
　本実施例にて採用した処理装置は、二次工程ＤからパイプＤＰを介して排出された気体を導入する導入孔５ｄと、処理済の気体を外部に排出する排出孔５ｅを備え、その導入孔と排出孔以外は密閉状に形成された脱臭工程処理槽５ａと、その脱臭工程処理槽５ａ内に収容される上述した脱臭手段Ｍとで構成されており、上述した脱臭工程Ｅは、この処理装置の内部で処理される。
　導入孔５ｄは、脱臭工程処理槽５ａの下部領域５ｃに設けられており、この導入孔５ｄには、脱臭工程処理槽５ａの内部に二次工程処理槽４ａからの気体を導入するパイプＤＰが接続されている。
　排出孔５ｅは、脱臭工程処理槽５ａの上部領域５ｂに設けられており、この脱臭工程処理槽５ａ内の脱臭手段Ｍによって不快な臭いが脱臭された気体を外部へと排出するパイプＥＰが接続されている。
　前記脱臭手段Ｍは、前記脱臭工程処理槽５ａの内部に、上部領域５ｂおよび下部領域５ｃに空間を残すように設置されている。
　本実施例の脱臭手段Ｍは、気体が通過することが可能な内部空間を備え、該空間を気体が通過する際に気体中の不快な臭いを脱臭処理する。脱臭手段Ｍとして、本実施例では、活性炭のような多孔質体の微細な孔に臭いの分子が吸着されて脱臭される手段が採用される。
　上述した処理装置によれば、二次工程処理槽４ａから排出された気体は、パイプＤＰを通して、脱臭工程処理槽５ａの内部の下部領域５ｃに放出される。このとき、内燃機関や焼却炉（Ａ）は、気体を連続的に排出しているので、その気体は、二次工程処理槽４ａを経て、脱臭工程処理槽５ａに連続的に流入する。こにより、脱臭工程処理槽５ａでは、気体が下部領域５ｃから上部領域５ｂに向けて流動する。そして、気体が流動する際に前記脱臭手段Ｍの内部空間を通過するので、脱臭処理される。
　そして、脱臭処理工程処理が完了した気体は、脱臭工程処理槽５ａのパイプＥＰから脱臭工程処理槽５ａの外部へと排出される。
　従って、上部領域５ｂからパイプＥＰを通って外部へと排出（Ｆ）される気体は、上述した通り有害物質が除去されたクリーンな気体である。
　なお、上述した各実施例の一次工程Ｂおよび二次工程Ｄで使用される光合成菌を含む菌体群からなる微生物と、酵母菌を含む菌体群からなる微生物と、乳酸菌を含む菌体群からなる微生物は、少なくとも含有していれば良く、他の微生物が付加されても良い。その場合には、さらに微生物の活動を活発化させることが期待できる。また、各菌類の比率は、期待の有害物質の濃度等に応じて任意に設定されるものとする。
　上述した実施例２乃至実施例４で説明した処理装置では、各処理槽を横に並べて配置しているが、処理槽の配置形態は他の配置形態であってもよい。例えば、処理工程の順序にあわせて、縦に並べて配されていてもよい。また、各処理槽がパイプで接続されず、処理槽同士が直接隣接して接続されることによって、気体が各処理槽を流れる形態であっても良い。
　さらに、複数の処理装置が一つの処理槽にまとめて構成されていても良い。例えば、実施例２の一次工程処理槽２ａの上部領域２ｂの空間に、二次処理工程Ｄの焼成体Ｌが配されていても良い。
（ａ）は、実施例１による有害物質除去方法の工程を表すフロー図、（ｂ）は、実施例１による有害物質除去方法に使用される処理装置の一構成例の概略構成の説明図である。 （ａ）は、実施例２による有害物質除去方法の工程を表すフロー図、（ｂ）は、実施例２による有害物質除去方法に使用される処理装置の一構成例の概略構成の説明図である。 （ａ）は、実施例３による有害物質除去方法の工程を表すフロー図、（ｂ）は、実施例３による有害物質除去方法に使用される処理装置の一構成例の概略構成の説明図である。 （ａ）は、実施例４による有害物質除去方法の工程を表すフロー図、（ｂ）は、実施例４による有害物質除去方法に使用される処理装置の一構成例の概略構成の説明図である。 （ａ）は、実施例５による有害物質除去方法の工程を表すフロー図、（ｂ）は、実施例５による有害物質除去方法に使用される処理装置の一構成例の概略構成の説明図である。 （ａ）は、実施例６による有害物質除去方法の工程を表すフロー図、（ｂ）は、実施例６による有害物質除去方法に使用される処理装置の一構成例の概略構成の説明図である。
符号の説明
Ａ　内燃機関や焼却炉
Ｂ　一次工程
Ｃ　残留有害物質除去工程
Ｄ　二次工程
Ｅ　脱臭工程
Ｌ　焼成体
Ｍ　脱臭手段
Ｓ　液体

Claims (12)

  1. 　気体中の有害物質を除去する方法であって、
    　少なくとも光合成菌を含む菌体群からなる微生物と、酵母菌を含む菌体群からなる微生物と、乳酸菌を含む菌体群からなる微生物とを含有した液体中に、有害物質を含んだ気体を放出して、該気体中の有害物質を除去する有害物質除去方法。
  2. 　気体中の有害物質を除去する方法であって、
    　少なくとも光合成菌を含む菌体群からなる微生物と、酵母菌を含む菌体群からなる微生物と、乳酸菌を含む菌体群からなる微生物とを含有した液体中に、有害物質を含んだ気体を放出して、該気体中の有害物質を除去する一次工程と、
    　少なくとも光合成菌を含む菌体群からなる微生物と、酵母菌を含む菌体群からなる微生物と、乳酸菌を含む菌体群からなる微生物とを含有した焼成体に、前記一次工程を通過した気体を接触させて、気体中に残留する有害物質をさらに除去する二次工程と、
    を有することを特徴とする有害物質除去方法。
  3. 　気体中の有害物質を除去する方法であって、
    　少なくとも光合成菌を含む菌体群からなる微生物と、酵母菌を含む菌体群からなる微生物と、乳酸菌を含む菌体群からなる微生物とを含有した液体中に、有害物質を含んだ気体を放出して、該気体中の有害物質を除去する一次工程と、
    　少なくとも光合成菌を含む菌体群からなる微生物と、酵母菌を含む菌体群からなる微生物と、乳酸菌を含む菌体群からなる微生物とを含有した焼成体に、前記一次工程を通過した気体を接触させて、気体中に残留する有害物質をさらに除去する二次工程と、
    　前記二次工程を通過した気体から、該気体中に残留する有害物質をさらに除去する残留有害物質除去工程と、
    を有することを特徴とする有害物質除去方法。
  4. 　気体中の有害物質を除去する方法であって、
    　少なくとも光合成菌を含む菌体群からなる微生物と、酵母菌を含む菌体群からなる微生物と、乳酸菌を含む菌体群からなる微生物とを含有した液体中に、有害物質を含んだ気体を放出して、該気体中の有害物質を除去する一次工程と、
    　前記一次工程を通過した気体から、該気体中に残留する有害物質をさらに除去する残留有害物質除去工程と、
    　少なくとも光合成菌を含む菌体群からなる微生物と、酵母菌を含む菌体群からなる微生物と、乳酸菌を含む菌体群からなる微生物とを含有した焼成体に、前記残留有害物質除去工程を通過した気体を接触させて、気体中に残留する有害物質をさらに除去する二次工程と、
    を有することを特徴とする有害物質除去方法。
  5. 　気体中の有害物質を除去する方法であって、
    　少なくとも光合成菌を含む菌体群からなる微生物と、酵母菌を含む菌体群からなる微生物と、乳酸菌を含む菌体群からなる微生物とを含有した焼成体を、少なくとも光合成菌を含む菌体群からなる微生物と、酵母菌を含む菌体群からなる微生物と、乳酸菌を含む菌体群からなる微生物とを含有した液体中に配し、該液体中に有害物質を含んだ気体を放出して、該気体中の有害物質を除去することを特徴とする有害物質除去方法。
  6. 　気体中の有害物質を除去する方法であって、
    　少なくとも光合成菌を含む菌体群からなる微生物と、酵母菌を含む菌体群からなる微生物と、乳酸菌を含む菌体群からなる微生物とを含有した焼成体を、少なくとも光合成菌を含む菌体群からなる微生物と、酵母菌を含む菌体群からなる微生物と、乳酸菌を含む菌体群からなる微生物とを含有した液体中に配し、該液体中に有害物質を含んだ気体を放出して、該気体中の有害物質を除去する一次工程と、
    　前記一次工程を通過した気体から、該気体中に残留する有害物質をさらに除去する残留有害物質除去工程と、
    を有することを特徴とする有害物質除去方法。
  7. 　最終処理として、気体から脱臭する脱臭工程を有することを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれかに記載の有害物質除去方法。
  8. 　液体中に気体を放出する際に、気体を微細な泡にして放出することを特徴とする請求項１乃至請求項７のいずれかに記載の有害物質除去方法。
  9. 　除去される有害物質は、二酸化炭素と一酸化炭素と粒子状物質であることを特徴とする請求項１又は請求項５に記載の有害物質除去方法。
  10. 　一次工程で除去される有害物質は、二酸化炭素と一酸化炭素と粒子状物質であることを特徴とする請求項２乃至請求項４のいずれかに記載の有害物質除去方法。
  11. 　二次工程で除去される有害物質は、二酸化炭素と一酸化炭素であることを特徴とする請求項３又は請求項４に記載の有害物質除去方法。
  12. 　残留有害物質除去工程で除去される有害物質は、粒子状物質であることを特徴とする請求項３又は請求項４に記載の有害物質除去方法。
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