WO2010086377A2 - Procede de mesure et procede de visualisation d'une surface d'onde par spectrophotometrie - Google Patents

Procede de mesure et procede de visualisation d'une surface d'onde par spectrophotometrie Download PDF

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Definitions

  • the present invention relates to a method for measuring the wave surface of an optical component, and to a method for visualizing the wave surface of an optical component.
  • the measuring method according to the invention makes it possible in particular to measure the deformations of the wave surface of a treated optical component, related to the heterogeneities of the surface treatments applied to this optical component during its functionalization, whereas the method of visualization of the wave surface makes it possible in particular to locate said deformations.
  • the control of the wave surface of an optical component, treated or not, is conventionally done using an interferometer, which is often of the Fizeau type. With this interferometer, a reference wave surface is compared with the wave surface to be measured.
  • the wave area measured by the interferometer corresponds to a factor of:
  • the optical component is processed, that is to say if it comprises a surface treatment such as an antireflection or a filter, such as a mirror, a separator, a dichroic or a polarizer, then it is necessary to in addition to the treatment response that corresponds to a phase slide.
  • a surface treatment such as an antireflection or a filter, such as a mirror, a separator, a dichroic or a polarizer
  • the inventor has therefore set himself the goal of developing a method for measuring, and a method for visualizing, the wave surface of a treated optical component, and in particular the deformation of the bound wave surface. the treatment deposited on the optical component, for most optical treatments that can be deposited on an optical component.
  • a method of measuring a wave surface coming from an area of a face of an optical component formed of a stack comprising a substrate and at least one layer having different refractive indices comprising the steps of: a) measuring, at a reference point M 0 located in the area of the face of the optical component, the spectral response of said reference point as a function of the wavelength of a light passing through said reference point and grouping the measurements thus obtained in a spectrum representing the spectral response as a function of the wavelength; b) in the spectrum obtained in step a), determine which portion of this spectrum for which the difference between a minimum and a maximum successive or between a maximum and a minimum of the spectrum is maximal and select a length of wave, called wavelength measurement ⁇ mes , among the wavelengths corresponding to this portion of the spectrum; c) measuring the spectral response (hereinafter referred to as RSP) of n measurement points M 1 located in said area, n being an integer greater than or equal to 1, at the measurement wavelength
  • RSP spectral
  • O 1 ⁇ Ml x ⁇ centering / (2 ⁇ ).
  • the centering wavelength is the wave number at which the spectrum represented in wave numbers is approximately symmetrical.
  • the centering wavelength corresponds to the inverse number of the centering wave (l / ⁇ cen tration) •
  • the spectrum obtained in step a) is carried out over a range of wavelengths such that the difference between the lowest wavelength and the highest wavelength of this range of wavelengths is at least 0.2 times the centering wavelength of the optical component .
  • the stack comprises m layers, m being an integer greater than or equal to 2, the adjacent layers among the m layers having different refractive indices. It is to highlight that each layer of the stack may have a different thickness.
  • Calculating the difference ⁇ Ml existing phase between the real centering phase ⁇ ( ⁇ D) and the theoretical centering phase ⁇ ( ⁇ cen tration) in step 6) of the process may be obtained by any method of calculation stack of thin layers.
  • ⁇ ( ⁇ C input) in step 6) is carried out using a matrix method, such as for example the Abelès formalism.
  • the calculation of the phase difference ⁇ M1 existing between the real centering phase ⁇ ( ⁇ D ) and the theoretical centering phase ⁇ ( ⁇ C entering) in step 6) is carried out using a method vector, such as the Schmith method.
  • a method vector such as the Schmith method.
  • Schmith are respectively a matrix method and a vector method well known to those skilled in the art, which make it possible to establish, from the parameters of thickness and refractive indices of the different layers of a stack of layers, to determine the reflection, the transmission, the phase variations and the absorption of this stack.
  • the spectral response RPS is a reflection.
  • the spectral response RPS is a transmission.
  • the invention also relates to a method for visualizing a wave surface of an area of a face of an optical component comprising a substrate and at least one layer having different refractive indices.
  • the visualization method comprises the steps of the measurement method described above and furthermore comprises a step g), located following the steps of the measurement method, consisting in placing the n differences in the path O 1 of the n points M 1. according to the spatial coordinates (X 1 , Y 1 ) of said n points in the zone.
  • a mapping of the gait differences is thus obtained, which corresponds, to a factor of 2 ⁇ / ⁇ , to a mapping of the wave surface.
  • This visualization method therefore comprises measuring the difference in the path in each of the points M 1 located in the area of the face of the optical component to be studied and the placement of these measurements at the locations of the zone where they were taken.
  • FIG. 4 represents a reflection spectral response map after a median filtering of order 5;
  • FIG. 5 represents the phase variation as a function of the wavelength of a mirror
  • FIG. 6 represents the wave surface mapping resulting from the reflection mapping illustrated in FIG. 4 expressed in "mechanical thickness" in nm.
  • the principle of the measuring method according to the invention is based on the observation that any spatial heterogeneity of an optical component constituted of a stack of layers can result in a variation of the local centering wavelength of the stack, which produces a phase variation.
  • the dielectric mirror chosen to illustrate this example is composed of a substrate supporting 23 layers of alternating refractive indices n H and n B , where n H is the index of the high index layers and n B is the index of the layers of low index. It may for example be a bandpass filter in the near-infrared range consisting of a stack of an alternation of dielectric thin layers of high refractive index and low refractive index layers deposited on a glass support.
  • the substrate is for example made of borosilicate and has a refractive index of 1.51
  • the layers of index n H are zirconia layers with a refractive index of 1.68
  • the layers of index n B are silica layers having a refractive index of 1.22.
  • the layers are deposited here by a sol-gel process.
  • spectral reference reflection R ref (MB) and is shown in Figure 2.
  • the optical behavior (reflection, transmission, phase variation) of such an optical component can be simulated by a stack of formula S (HB) 11 H, where S represents the substrate, H represents a refractive index layer n H and B represents a refractive index layer n B , calculated, for example, from the Abel eggs formulas.
  • S represents the substrate
  • H represents a refractive index layer n H
  • B represents a refractive index layer n B
  • the formalism of Abelès will be particularly useful for calculating the phase variations of the optical component, as we will see below.
  • FIG. 2 shows a reflection mapping carried out at a wavelength of 900 nm over an area of 79 ⁇ 26 mm 2 of the test dielectric mirror of formula S (HB) 11 H.
  • linear or non-linear filters for example an averaging type filter. or a median-type filter, in order to eliminate real residual local defects (scratches, pits, etc.) or due to the presence of dust on the surface of the optical component.
  • O 1 IA 1 the differences between the wave numbers O 1 and the average wave number ⁇ av are calculated:
  • Ao 1 O 1 - ⁇ avg
  • the methods according to the invention can be applied to optical components other than that described above, for example stacks of general formula S (H k Bi) m where H k are high refractive index layers. having a thickness e k , the Bi are low refractive index layers having a thickness ei, S the substrate and m the number of layers of the stack. It is sufficient for the optical component to be tested to be a stack of alternating optical layers of two different refractive indices, a matrix formalism, such as, for example, the Abeles formalism, which can then be used to calculate the phase variations of the optical component.
  • a matrix formalism such as, for example, the Abeles formalism
  • the originality of the method according to the invention is that it provides information in terms of wave surface by means of spectrophotometric measurements, that is, by means of reflection or transmission measurements.
  • Such a measurement method is particularly useful for controlling optical components undergoing dielectric treatments and comprising many layers, such as filters (polarizers or mirrors), whose proper functioning requires the presence of a homogeneous wave surface.

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Abstract

L' invention concerne un procédé de mesure d'une surface d'onde d'un composant optique formé d'un empilement d'au moins deux couches d'indices de réfraction différents à partir de mesures de réflexion ou de transmission de points situés sur une face dudit composant optique.

Description

PROCEDE DE MESURE ET PROCEDE DE VISUALISATION D'UNE SURFACE D'ONDE PAR SPECTROPHOTOMETRIE
DESCRIPTION
DOMAINE TECHNIQUE
La présente invention est relative à un procédé de mesure de la surface d'onde d'un composant optique, ainsi qu'à un procédé de visualisation de la surface d'onde d'un composant optique. Le procédé de mesure selon l'invention permet en particulier de mesurer les déformations de la surface d'onde d'un composant optique traité, liées aux hétérogénéités des traitements de surface appliqués sur ce composant optique lors de sa fonctionnalisation, tandis que le procédé de visualisation de la surface d'onde permet en particulier de localiser lesdites déformations .
ÉTAT DE LA TECHNIQUE ANTÉRIEURE
Le contrôle de la surface d'onde d'un composant optique, traité ou non, se fait classiquement à l'aide d'un interféromètre, qui est souvent de type Fizeau. Avec cet interféromètre, on compare une surface d'onde de référence avec la surface d'onde à mesurer.
Si le composant optique est non traité, la surface d'onde mesurée par l' interféromètre correspond à un facteur près :
- soit à la déformation de la surface du composant optique, lorsqu'on effectue une mesure en réflexion ; - soit à la mesure de la différence de chemin optique, liée au composant optique traversé (hétérogénéité d'épaisseur et/ou d'indice de réfraction), dans le cas d'une mesure en transmission. Si le composant optique est traité, c'est- à-dire s'il comprend un traitement de surface tel qu'un antireflet ou un filtre, comme par exemple un miroir, une séparatrice, une dichroïque ou un polariseur, il faut alors en outre tenir compte de la réponse du traitement qui correspond à une lame de phase.
Or, il existe peu d' interféromètres qui permettent de mesurer la surface d'onde d'un composant optique traité si ce traitement n'est pas centré sur 633 nm ou 1064 nm. Il en résulte que le type de composants optiques traités dont il est possible de mesurer la surface d'onde (et en particulier la déformation de la surface d'onde) par interférométrie est très limité.
Par ailleurs, l' interférométrie est limitée en précision aux plans de référence utilisés, soit une précision comprise entre λ/10 et λ/50.
De plus, l' interférométrie tient compte de la qualité du substrat initial, ainsi que des contraintes induites par les traitements et subies par le composant optique.
L'inventeur s'est donc fixé comme but d'élaborer un procédé permettant de mesurer, et un procédé permettant de visualiser, la surface d'onde d'un composant optique traité, et en particulier la déformation de la surface d'onde liée au traitement déposé sur le composant optique, , pour la plupart des traitements optiques pouvant être déposés sur un composant optique.
EXPOSÉ DE L'INVENTION
Ce but est atteint par un procédé de mesure d'une surface d'onde issue d'une zone d'une face d'un composant optique formé d'un empilement comprenant un substrat et au moins une couche ayant des indices de réfraction différents, le procédé comprenant les étapes suivantes : a) mesurer, en un point de référence M0 situé dans la zone de la face du composant optique, la réponse spectrale dudit point de référence en fonction de la longueur d'onde d'une lumière passant par ledit point de référence et regrouper les mesures ainsi obtenues dans un spectre représentant la réponse spectrale en fonction de la longueur d' onde ; b) dans le spectre obtenu à l'étape a), déterminer quelle est la portion de ce spectre pour laquelle l'écart entre un minimum et un maximum successifs ou entre un maximum et un minimum successifs du spectre est maximal et sélectionner une longueur d'onde, appelée longueur d'onde de mesure λmes, parmi les longueurs d' onde correspondant à cette portion du spectre ; c) mesurer la réponse spectrale (appelée ci-dessous RSP) de n points de mesure M1 situés dans ladite zone, n étant un nombre entier supérieur ou égal à 1, à la longueur d'onde de mesure λmes : RSP <Mi) (λmes) : d) parmi les mesures obtenues à l'étape c) , déterminer la réponse spectrale moyenne à la longueur d'onde de mesure : RSPmoy(λmes) ; e) dans le spectre du point M0 de référence obtenu à l'étape a), déterminer la longueur d'onde moyenne λmoy telle que RSPRéf(Mo) (λmoy) = RSPmθy(λmes) ; f) pour chacun des n points M1, avec i=l à n :
1) déterminer la longueur d'onde X1 telle que la réponse spectrale au point M1 à la longueur d'onde de mesure soit égale à la réponse spectrale au point M0 de référence à la longueur d' onde X1 :
RSPMl (λmes) = RSPRéf(Mo) (λj 2) calculer l'écart entre le nombre d'onde O1 (O1 = 1/X1) et le nombre d'onde moyen
Umoy ( Oiαoy ~~ -L / 'Wnoy / •
Ao1 = O1 - σmoy
3) déterminer le nombre d'onde de centrage réel σD au point M1 :
O3 = Outrage + Δσx ave c OCentrage = 1 / ^-centrage S t A, centrage é t ant la longueur d'onde de centrage du composant optique ; 4) calculer la longueur d'onde λD correspondant au nombre d' onde de centrage réel au point M1 : λD = l/σD 5) calculer la différence de phase ΔΦMl existant entre la phase de centrage réel Φ(λD) et la phase de centrage théorique Φ(λcentrage) à la longueur d' onde de centrage : ΔΦMl = Φ(λD) - Φ(λcentrage)
6) calculer la différence de marche O1 existant au point M1 à la longueur d'onde de centrage :
O1 = ΔΦMl x λcentrage / ( 2π) . L'homme du métier sait comment déterminer la longueur d'onde de centrage d'un composant optique comprenant un substrat et au moins une couche. En fait, on réalise le spectre en transmission ou en réflexion du composant optique en fonction du nombre d' onde et le nombre d'onde de centrage est le nombre d'onde au niveau duquel le spectre représenté en nombres d' onde est approximativement symétrique. La longueur d'onde de centrage correspond alors à l'inverse du nombre d'onde de centrage (l/σcentrage) • De préférence, le spectre obtenu à l'étape a) est réalisé sur une gamme de longueurs d'onde telle que l'écart entre la longueur d'onde la plus basse et la longueur d' onde la plus élevée de cette gamme de longueurs d'onde est au moins égal à 0,2 fois la longueur d'onde de centrage du composant optique.
Avantageusement, l'empilement comprend m couches, m étant un nombre entier supérieur ou égal à 2, les couches adjacentes parmi les m couches ayant des indices de réfraction différents. Il est à noter que chaque couche de l'empilement peut avoir une épaisseur différente .
Le calcul de la différence de phase ΔΦMl existant entre la phase de centrage réel Φ(λD) et la phase de centrage théorique Φ(λcentrage) à l'étape 6) du procédé peut être obtenu par toute méthode de calcul d'empilement de couches minces.
Selon une première variante, le calcul de la différence de phase ΔΦMl existant entre la phase de centrage réel Φ(λD) et la phase de centrage théorique
Φ(λCentrage) à l'étape 6) est réalisé en utilisant une méthode matricielle, comme par exemple le formalisme d' Abelès.
Selon une seconde variante, le calcul de la différence de phase ΔΦMl existant entre la phase de centrage réel Φ(λD) et la phase de centrage théorique Φ(λCentrage) à l'étape 6) est réalisé en utilisant une méthode vectorielle, comme par exemple la méthode de Schmith. Le formalisme d'Abelès et la méthode de
Schmith sont respectivement une méthode matricielle et une méthode vectorielle bien connues de l'homme du métier, qui permettent d'établir, à partir des paramètres d'épaisseur et d'indices de réfraction des différentes couches d'un empilement de couches, de déterminer la réflexion, la transmission, les variations de phase et l'absorption de cet empilement.
Avantageusement, la longueur d'onde de mesure λmes est la longueur d'onde pour laquelle la portion dudit spectre obtenu à l'étape a) présente un point d'inflexion.
Selon une première variante, la réponse spectrale RPS est une réflexion. Selon une seconde variante, la réponse spectrale RPS est une transmission.
Avantageusement, les n points de mesure M1 sont répartis de manière homogène dans la zone à mesurer. De préférence, les n points de mesure M1 sont équidistants .
L' invention concerne également un procédé de visualisation d'une surface d'onde d'une zone d'une face d'un composant optique comprenant un substrat et au moins une couche ayant des indices de réfraction différents. Le procédé de visualisation comprend les étapes du procédé de mesure décrit ci-dessus et comprend en outre une étape g) , située à la suite des étapes du procédé de mesure, consistant à placer les n différences de marche O1 des n points M1 en fonction des coordonnées spatiales (X1, Y1) desdits n points dans la zone. On obtient ainsi une cartographie des différences de marche, ce qui correspond, à un facteur 2π / λ près, à une cartographie de la surface d'onde. Ce procédé de visualisation comprend donc la mesure de la différence de marche en chacun des points M1 situés dans la zone de la face du composant optique à étudier et le placement de ces mesures aux endroits de la zone où elles ont été prises. BREVE DESCRIPTION DES DESSINS
L'invention sera mieux comprise et d'autres avantages et particularités apparaîtront à la lecture de la description qui va suivre, donnée à titre d'exemple non limitatif, accompagnée des figures annexées parmi lesquelles :
- la figure 1 représente la réponse spectrale en transmission d'un miroir de formule S(HB)11H en fonction du nombre d'onde ; - la figure 2 représente la réponse spectrale en réflexion d'un miroir de formule S(HB)11H en fonction de la longueur d' onde ;
- la figure 3 représente la cartographie en réflexion du miroir de formule S (HB) 11H sur une zone de 79x26 mm2 à 900 nm ;
- la figure 4 représente une cartographie de réponse spectrale de réflexion après un filtrage médian d' ordre 5 ;
- la figure 5 représente la variation de phase en fonction de la longueur d'onde d'un miroir
S(HB)11H ayant un rapport d'indice de 1,37 pour un centrage à 1052 nm et pour un centrage à 1022 nm ;
- la figure 6 représente la cartographie de surface d'onde issue de la cartographie en réflexion illustrée dans la figure 4 exprimée en « épaisseur mécanique » en nm.
EXPOSÉ DÉTAILLÉ DE MODES DE RÉALISATION PARTICULIERS
Le principe du procédé de mesure selon l'invention est basé sur le constat que toute hétérogénéité spatiale d'un composant optique constitué d'un empilement de couches peut se traduire par une variation de la longueur d' onde de centrage local de l'empilement, ce qui produit une variation de phase.
Nous allons illustrer le principe de l'invention en réalisant la cartographie de surface d'onde d'un composant optique qui est un miroir diélectrique (par exemple un miroir de Bragg) .
Le miroir diélectrique choisi pour illustrer cet exemple est composé d'un substrat supportant 23 couches d'indices de réfraction alternés nH et nB, nH étant l'indice des couches de haut indice et nB étant l'indice des couches de bas indice. Il peut par exemple s'agir d'un filtre passe-bande dans le domaine du proche infrarouge, constitué d'un empilement d'une alternance de couches minces diélectriques de couches de haut indice de réfraction et de bas indice de réfraction, déposé sur un support en verre.
Ici, le substrat est par exemple en borosilicate et a un indice de réfraction de 1,51, les couches d'indice nH sont des couches en zircone d'indice de réfraction de 1,68 et les couches d'indice nB sont des couches en silice d' indice de réfraction de 1,22. On précise par ailleurs que les couches sont ici déposées par un procédé sol-gel. On commence par mesurer la réponse spectrale (en réflexion ou en transmission, au choix) du composant optique à tester en un point du composant, pris comme point de référence M0, sur un domaine de longueurs d'onde assez large. Le spectre ainsi obtenu va nous permettre de déterminer la longueur d'onde de centrage et la largeur de bande du composant optique. On précise que, pour déterminer la longueur d'onde de centrage et la largeur de bande du composant optique, on peut indifféremment étudier le spectre en réflexion ou en transmission du composant optique (si le substrat est transparent) : on obtiendra les mêmes valeurs.
A titre d'exemple, la réponse spectrale en transmission du composant optique à tester sur une gamme de nombres d'onde allant de 5000 à 35000 cm"1 (soit de 286 nm à 2000 nm en longueur d'onde) est représentée dans la figure 1.
A partir de ce spectre en transmission, on en déduit que le composant optique à tester a un nombre d'onde de centrage σcentrage égal à 9500 cm"1 (soit une longueur d'onde de centrage λcentrage de 1052 nm) . On constate également que ce composant a un rapport d'indice nH/nB égal à 1,37 et qu'il comporte bien 23 couches .
Dans notre exemple, on choisit de réaliser la réponse spectrale en réflexion d'un point du composant optique à tester sur une gamme de longueurs d'onde allant de 400 nm à 950 nm : cette réponse spectrale en réflexion va être considérée comme étant la réponse spectrale de réflexion de référence Rref(Mo) et est représentée dans la figure 2. Le comportement optique (réflexion, transmission, variation de phase) d'un tel composant optique peut être simulé par un empilement de formule S(HB)11H, où S représente le substrat, H représente une couche d' indice de réfraction nH et B représente une couche d'indice de réfraction nB, calculé, par exemple, à partir des formules d'Abelès. Le formalisme d'Abelès sera particulièrement utile pour calculer les variations de phase du composant optique, comme nous le verrons ci-dessous.
Dans le spectre en réflexion réalisé au point de référence M0 (figure 2), on détermine quel est l'écart entre un minimum (creux de l'oscillation) et un maximum (sommet de l'oscillation) successifs ou entre un maximum et un minimum successifs du spectre qui est le plus grand. En fait, on détermine l'écart maximal entre deux extremas successifs du spectre, les deux extremas étant un minimum et un maximum. On choisit alors une longueur d' onde parmi les longueurs d' onde correspondant à la portion de spectre comprise entre le minimum et le maximum ou le maximum et le minimum de cet écart maximal ainsi déterminé. Cette longueur d'onde (appelée longueur d'onde de mesure) sera par la suite utilisée pour réaliser la cartographie de la réponse spectrale d'une zone du composant optique, cette zone comprenant le point de référence et pouvant par exemple représenter l'ensemble d'une face du composant optique.
Afin d'obtenir une bonne précision sur la mesures des hétérogénéités du composant optique, la longueur d'onde de mesure est choisi de préférence sur les fronts de montée ou de descente de la réponse spectrale du composant optique, le plus souvent au point d'inflexion.
Dans la figure 2, on constate que, parmi les points d'inflexion du spectre, celui situé à 900 nm est situé sur un front de montée dont la pente semble être la plus abrupte. De plus, à 900 nm, la réflexion est moyenne et est égale à 40%. En fait, ce qui est important pour le choix de la longueur d' onde de mesure, c'est d'avoir le plus grand domaine spectral où le coefficient de réflexion ou de transmission varie linéairement avec la longueur d'onde, avec une variation non nulle. Dans le spectre représenté dans la figure 2, on constate ainsi que 900 nm peut donc être une longueur d'onde de mesure λmes adéquate pour représenter la surface d'onde du composant optique. Après avoir choisi la longueur d'onde de mesure, on réalise ensuite une cartographie en réflexion à la longueur d'onde de mesure λmes de la zone du composant optique sur laquelle on souhaite mesurer la surface d'onde. Dans la figure 3 est représentée une cartographie en réflexion réalisée à une longueur d'onde de 900 nm sur une zone de 79x26 mm2 du miroir diélectrique à tester de formule S(HB)11H.
Avant de transformer les mesures de réflexion de cette cartographie de réflexion en des mesures de surface d'onde, il peut être nécessaire de traiter les mesures de réflexion à l'aide de filtres linéaires ou non-linéaires, par exemple un filtre de type moyenneur ou un filtre de type médian, afin d'éliminer les défauts locaux résiduels réels (rayures, piqûres...) ou dus à la présence de poussières en surface du composant optique.
Le principe du filtre moyenneur consiste à remplacer une mesure prise en un point A par une moyenne pondérée des mesures prises au niveau des points adjacents au point A. Le principe du filtre médian consiste à remplacer une mesure prise en un point A par la valeur médiane de toutes les mesures prises au niveau des points situés dans une fenêtre centrée sur le point A. Par exemple, la figure 4 représente la cartographie de réflexion de la figure 3 après un filtrage médian d'ordre 5.
La transformation de la cartographie de réflexion en cartographie de surface d' onde est obtenue en déterminant, pour chaque point M1 du composant optique, son écart par rapport au centrage théorique. Cet écart par rapport au centrage théorique est ensuite transformé en déphasage Φ. Ce déphasage Φ est à son tour transformé en différence de marche δ. La différence de marche δ peut être transformée en épaisseur mécanique, en multipliant la différence de marche δ par un facteur égal à 0,5 (s'il s'agit d'une réponse spectrale en réflexion) ou à 1 (s'il s'agit d'une réponse spectrale en transmission). La cartographie de la surface d'onde du composant optique peut être visualisée en réalisant une cartographie de marche ou « d'épaisseur mécanique ».
Le déphasage Φ peut être obtenu en utilisant le formalisme matriciel d'Abelès. En effet, le formalisme d'Abelès permet d'obtenir la réflexion, la transmission, l'absorption, ainsi que la phase d'un empilement de couches optiques. Ce formalisme consiste en de simples multiplications de matrices 2x2, à raison d'une matrice par couche optique considérée. A titre d'illustration, la figure 5 montre l'évolution spectrale de la phase théorique en réflexion d'un miroir diélectrique de formule S(HB)11H ayant un rapport d'indice de 1,37, lorsque le miroir a une longueur d'onde de centrage à 1052 nm et lorsqu'il a une longueur d'onde de centrage à 1022 nm (ligne en pointillés) . A partir de ces données, on peut déduire la différence de phase ΔΦ existant lorsque le miroir est hétérogène et, qu'au lieu d'avoir une longueur d'onde de centrage à 1052 nm, a en fait une longueur d'onde de centrage réelle de 1022 nm. Un miroir ayant une telle hétérogénéité spatiale présentera une variation de phase à la longueur d'onde d'utilisation, par exemple 1054 nm, ΔΦ(1054) = Φ1052(1054) -
Φi022(1054) = 11°35, cette valeur pouvant être exprimée en différence de marche (ou différence de chemin optique) par la relation ΔΦ = 360 X δ / λ, soit ici 33 nm, et cette valeur étant équivalente à une « épaisseur mécanique » de 16,5 nm.
La procédure pour mesurer et visualiser une surface d'onde selon l'invention est récapitulée ci- dessous .
Tout d'abord, on réalise un spectre en réflexion [en transmission] en fonction de la longueur d'onde en un point M0, situé dans la zone du composant optique dont on souhaite connaître l'effet d'un traitement sur la surface d' onde ; ce point M0 est choisi comme point de référence. On sélectionne ensuite dans ce spectre une longueur d' onde de mesure λmes et on mesure la réflexion en n points de mesure M1 situés dans la zone à étudier du composant optique à la longueur d'onde de mesure λmes (n étant un nombre entier supérieur ou égal à 1 et i=l à n) : R<Mi) (λmes) . Par exemple, pour une zone ayant une surface de 79x26 mm2, on réalise ici 179 points sur 105 points de mesure.
On fait la moyenne de tous ces points de mesure et on détermine ainsi la réflexion [la transmission] moyenne à la longueur d'onde de mesure dans la zone de mesure : Rmoy(λmes) [Tmoy (λmes) ] •
On recherche ensuite dans le spectre en réflexion [en transmission] de référence au point M0 pour quelle longueur d'onde (appelée longueur d'onde moyenne λmoy) la réflexion [la transmission] moyenne à la longueur d'onde de mesure est égale à la réflexion
[transmission] de référence au point M0 à la longueur d'onde moyenne, c'est-à-dire Rmoy(λmes) = RRéf(Mo) (λmoy) [ Tmoy ( λme s ) = T Réf (Mo) ( λmOy) ] •
Cela permet alors d' obtenir le nombre d'onde moyen : σmoy = l/λmoy.
A partir de là, pour chacun des n points M1, on réalise les étapes suivantes : - on détermine à partir du spectre de référence au point M0 quelle est la longueur d'onde λ± pour laquelle la réflexion [transmission] au point M1 à la longueur d'onde de mesure est égale à la réflexion
[transmission] de référence au point M0 à la longueur d' onde X1 :
Figure imgf000016_0001
( ^1 ) [ Tf4i ( λme s ) = TRéf (Mo ) ( ^1 ) ]
- on calcule les nombre s d' ondes O1 correspondant aux longueurs d' ondes λx : O1 = I A1 - on calcule les écarts entre les nombres d' onde O1 et le nombre d' onde moyen σmoy :
Ao1 = O1 - σmoy
- on détermine le nombre d' onde de centrage réel σD au point M1 par rapport au nombre d' onde de centrage σcentrage :
O3 = Outrage + Δσx
- on calcule la longueur d' onde de centrage réel λj correspondant au nombre d'onde de centrage réel au point M1 : λD = l/σD
- on calcule la différence de phase théorique ΔΦMl existant entre la phase de centrage réel Φ(λD) et la phase de centrage théorique Φ(λcentrage) : ΔΦMl = Φ (λD ) - Φ (λcentrage )
- on calcule la différence de marche O1 existant au point M1 :
O1 = ΔΦMl x λcentrage / (2π) Les différences de marche O1 obtenues pour chacun des points M1 peuvent ensuite être multipliées par un facteur F, selon que l'onde est réfléchie
(F = 0,5) ou transmise (F = 1), ce qui nous permet d'obtenir « l'épaisseur mécanique équivalente » en chaque point M1. En disposant ces différences de marche O1 ou ces « épaisseurs mécaniques équivalentes » selon les coordonnées géographiques des points M1 auxquels elles sont liées, il est possible de réaliser une cartographie représentant la surface d'onde. Il est ainsi possible de visualiser la surface d'onde. Une telle cartographie de surface d'onde exprimée en épaisseur mécanique est représentée dans la figure 6. Dans cette figure 6, les épaisseurs mécaniques sont exprimées en nanomètres (voir l'échelle de gris sur la droite) .
Il est à noter que les exemples ci-dessus sont relatifs à des réponses spectrales en réflexion. Néanmoins, il est tout à fait possible de réaliser, selon le même principe, une cartographie de la surface d'onde d'un composant optique à partir d'une réponse spectrale en transmission (voir les passages ci-dessus mis entre crochets) .
Par ailleurs, les procédés selon l'invention peuvent être appliqués sur des composants optiques autres que celui décrit ci-dessus, par exemple des empilements de formule générale S(HkBi)m où les Hk sont des couches à haut indice de réfraction ayant une épaisseur ek, les Bi sont des couches à bas indice de réfraction ayant une épaisseur ei, S le substrat et m le nombre de couches de l'empilement. Il suffit que le composant optique à tester soit un empilement de couches optiques alternées de deux indices de réfraction différents, un formalisme matriciel, comme par exemple le formalisme d'Abelès, pouvant alors être utilisé pour calculer les variations de phase du composant optique.
L'originalité du procédé selon l'invention est qu' il fournit des informations en termes de surface d'onde au moyen de mesures spectrophotomètriques, c'est-à-dire au moyen de mesures de réflexion ou de transmission .
Le procédé de mesure de la surface d' onde d'un composant optique selon l'invention permet de mesurer la déformation de la surface d'onde d'un composant optique liée à l'hétérogénéité du traitement déposé sur le composant et ainsi, de visualiser les modifications de la surface d'onde d'un composant optique quelque soit sa longueur d'onde d'utilisation. Cela permet en particulier de repérer la présence d'hétérogénéités provoqués par le dépôt physique ou chimique d'une ou de plusieurs couches minces sur le composant. Le procédé selon l'invention permet ainsi de contrôler la déformation de la surface d'onde liée uniquement aux traitements optiques du composant optique en étudiant la surface d'onde issue de ce composant après une réflexion ou une transmission, indépendamment de la nature du polissage du composant et des contraintes du traitement optique réalisé sur le composant.
Un tel procédé de mesure est particulièrement utile pour contrôler des composants optiques subissant des traitements diélectriques et comprenant de nombreuses couches, comme par exemple les filtres (polariseurs ou miroirs) , dont le bon fonctionnement nécessite la présence d'une surface d'onde homogène.

Claims

REVENDICATIONS
1. Procédé de mesure d'une surface d'onde issue d'une zone d'une face d'un composant optique formé d'un empilement comprenant un substrat et au moins une couche ayant des indices de réfraction différents, le procédé comprenant les étapes suivantes : a) mesurer, en un point de référence M0 situé dans la zone de la face du composant optique, la réponse spectrale dudit point de référence en fonction de la longueur d'onde d'une lumière passant par ledit point de référence et regrouper les mesures ainsi obtenues dans un spectre représentant la réponse spectrale en fonction de la longueur d'onde ; b) dans le spectre obtenu à l'étape a), déterminer quelle est la portion de ce spectre pour laquelle l'écart entre un minimum et un maximum successifs ou entre un maximum et un minimum successifs du spectre est maximal et sélectionner une longueur d'onde, appelée longueur d'onde mesure λmes, parmi les longueurs d' onde correspondant à cette portion du spectre ; c) mesurer la réponse spectrale de n points de mesure M1 situés dans ladite zone, n étant un nombre entier supérieur ou égal à 1, à la longueur d'onde de mesure λmes : RSP(Mi) (λmes) : d) parmi les mesures obtenues à l'étape c) , déterminer la réponse spectrale moyenne à la longueur d'onde de mesure : RSPmoy(λmes) ; e) dans le spectre du point M0 de référence obtenu à l'étape a), déterminer la longueur d'onde moyenne λmoy telle que RSPRéf(Mo) (λmoy) = RSPmθy(λmes) ; f) pour chacun des n points M1, avec i=l à n :
1) déterminer la longueur d'onde X1 telle que la réponse spectrale au point M1 à la longueur d'onde de mesure soit égale à la réponse spectrale au point M0 de référence à la longueur d'onde X1 :
RSPMl (λmes) = RSPRéf(Mo) (λj
2) calculer l'écart entre le nombre d'onde O1 (O1 = 1/X1) et le nombre d'onde moyen
Umoy (Oiαoy ~~ -L/'Wnoy/ • Ao1 = O1 - σmoy
3) déterminer le nombre d'onde de centrage réel O1 au point M1 :
O3 = Outrage + Δσx avec OCentrage = 1
Figure imgf000021_0001
St A, centrage étant la longueur d'onde de centrage du composant optique ;
4) calculer la longueur d'onde λD correspondant au nombre d' onde de centrage réel au point M1 : X1 = l/σ3
5) calculer la différence de phase ΔΦMl existant entre la phase de centrage réel Φ (X11) et la phase de centrage théorique Φ(λcentrage) à la longueur d' onde de centrage : ΔΦMl = Φ (λD ) - Φ (λcentrage )
6) calculer la différence de marche O1 existant au point M1 à la longueur d'onde de centrage : O1 = ΔΦMl x λcentrage / (2π) .
2. Procédé de mesure d'une surface d'onde selon la revendication 1, dans lequel l'empilement comprend m couches, m étant un nombre entier supérieur ou égal à 2, les couches adjacentes parmi les m couches ayant des indices de réfraction différents.
3. Procédé de mesure d'une surface d'onde selon la revendication 1 ou 2, dans lequel le calcul de la différence de phase ΔΦMl existant entre la phase de centrage réel Φ(λD) et la phase de centrage théorique
Φ(λCentrage) à l'étape 6) est réalisé en utilisant une méthode matricielle, comme par exemple le formalisme d'Abelès.
4. Procédé de mesure d'une surface d'onde selon la revendication 1 ou 2, dans lequel le calcul de la différence de phase ΔΦMl existant entre la phase de centrage réel Φ(λD) et la phase de centrage théorique Φ(λCentrage) à l'étape 6) est réalisé en utilisant une méthode vectorielle, comme par exemple le formalisme de Schmith.
5. Procédé de mesure d'une surface d'onde selon la revendication 1 ou 2, dans lequel la longueur d'onde de mesure λmes est la longueur d'onde pour laquelle la portion dudit spectre obtenu à l'étape a) présente un point d'inflexion.
6. Procédé de mesure d'une surface d'onde selon l'une quelconque des revendications 1 à 5, dans lequel la réponse spectrale RPS est une réflexion.
7. Procédé de mesure d'une surface d'onde selon l'une quelconque des revendications 1 à 5, dans lequel la réponse spectrale RPS est une transmission.
8. Procédé de mesure d'une surface d'onde selon la revendication 1 ou 2, dans lequel les n points de mesure M1 sont répartis de manière homogène dans la zone à mesurer.
9. Procédé de visualisation d'une surface d'onde d'une zone d'une face d'un composant optique comprenant un substrat et au moins une couche ayant des indices de réfraction différents, caractérisé en ce qu' il comprend les étapes du procédé de mesure selon l'une quelconque des revendications 1 à 8 et comprend en outre une étape g) consistant à placer les n différences de marche O1 des n points M1 en fonction des coordonnées spatiales (X1, V1) desdits n points dans la zone .
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20170322792A1 (en) * 2016-05-04 2017-11-09 Microsoft Technology Licensing, Llc Updating of operating system images
US11592392B2 (en) 2017-12-22 2023-02-28 European Space Agency Wave front reconstruction for dielectric coatings at arbitrary wavelength

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4458323A (en) * 1980-04-18 1984-07-03 Hewlett-Packard Company Method of performing measurements and error analysis of the measurements
US4779216A (en) * 1986-03-07 1988-10-18 The Perkin-Elmer Corporation System for calibrating a monochromator
JPH07111482B2 (ja) * 1986-11-21 1995-11-29 日本板硝子株式会社 多層反射防止膜
JP2004108876A (ja) * 2002-09-17 2004-04-08 Canon Inc 多層膜ミラーの検査修正装置
EP1664932B1 (fr) * 2003-09-15 2015-01-28 Zygo Corporation Procedes et systemes d'analyse interferometrique de surfaces et applications associees
JP4522137B2 (ja) * 2004-05-07 2010-08-11 キヤノン株式会社 光学系の調整方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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