WO2011064897A1 - ビスベンゾオキサジノン化合物 - Google Patents

Abstract

　本発明の目的は、アルカリ金属塩を実質的に含有することなく純度が高く、樹脂に含有させたとき耐加水分解性に優れた樹脂組成物となるビスベンゾオキサジノン化合物を提供することにある。　本発明は、下記式（４）で表され、（式中、Ｒ^１およびＲ^２はそれぞれ独立に、水素原子、水酸基、炭素数１～３のアルキル基などである。）　（ｉ）純度が９８％以上であり、　（ｉｉ）下記式（７）で表される化合物の含有量が０．１５重量％未満であり、　（ｉｉｉ）パウダー状での可視光線領域の光線反射率測定において最大ピークが３８０～４８０ｎｍの範囲にあり、かつ最大光線反射率が１００～１２０％であり、　（ｉｖ）ナトリウム金属の含有量が５０ｐｐｍ未満であり、　（ｖ）ＹＩ値が－１０～１０である、ビスベンゾオキサジノン化合物、その製造方法および該化合物を含有する樹脂組成物である。

Description

ビスベンゾオキサジノン化合物

　本発明は、ビスベンゾオキサジノン化合物、その製造方法および該化合物を含有する樹脂組成物に関する。

　ポリカーボネート樹脂は、透明性、耐熱性、機械的強度に優れ各種用途に使用されている。しかし、ポリカーボネート樹脂は長期に屋外で使用する際やランプ光源のカバーなどに使用される場合、耐候性が問題となることがある。そのためポリカーボネート樹脂に紫外線吸収剤を含有させることが提案されている。しかし、添加する紫外線吸収剤の種類によっては、ポリカーボネート樹脂の色相、耐湿熱性が低下することがある。
　樹脂用の紫外線吸収剤としてビスベンゾオキサジノン化合物が知られている。ビスベンゾオキサジノン化合物は、アントラニル酸とジカルボン酸ジハロゲン化物とを反応させて製造することができる（特許文献１~３）。また無水イサト酸とジカルボン酸ジハロゲン化物とを反応させて製造することができる（特許文献４）。
　アントラニル酸を原料とする特許文献１~３のいずれの方法も、反応の脱ハロゲン化水素剤として炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウムなどのようなアルカリ金属化合物を用いる。そのため得られるビスベンゾオキサジノン化合物中に塩化ナトリウムなどの微量のハロゲン化アルカリ金属塩を含有する。このアルカリ金属塩を含有するビスベンゾオキサジノン化合物を紫外線吸収剤としてポリカーボネート樹脂に添加すると、アルカリ金属により、ポリカーボネート樹脂の耐湿熱性が低下する。
　一方、特許文献４には精製した無水イサト酸とジカルボン酸ジハロゲン化物とを、ピリジン中で反応させ、黄色インデックスやナトリウム濃度の低いビスベンゾオキサジノン化合物を製造する方法が提案されている。しかし、この文献には精製の具体的手段は明らかにされていない。またジカルボン酸ジハロゲン化物の量についても詳細な規定が無く、実施例に記載された量ではジカルボン酸ジハロゲン化物が過剰となり、不純物が生成する原因となる。また無水イサト酸を原料とする方法は、アントラニル酸を原料とする方法に比べ原料の無水イサト酸が高価である。そのためアントラニル酸を原料とし、ポリカーボネート樹脂の色相、耐湿熱性を低下させないビスベンゾオキサジノン化合物が望まれている。
特開昭５８−１９４８５４号公報 特開昭６１−２９１５７５号公報 特開２００３−１５５４６８号公報 国際公開第２００３／０３５７３５号

　そこで本発明の目的は、ポリカーボネート樹脂に優れた色相、耐湿熱性および耐候性を付与することができるビスベンゾオキサジノン化合物を提供することにある。
　また本発明の目的は、脱ハロゲン化水素剤として水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウムなどのアルカリ金属化合物を用いることなく、アントラニル酸誘導体からビスベンゾオキサジノン化合物を製造する方法を提供することにある。
　さらに本発明の目的は、芳香族ポリカーボネートを含有し、色相、耐湿熱性および耐候性に優れた樹脂組成物およびその成形品を提供することにある。
　本発明者らは、上記問題点を解決するために鋭意検討した結果、下記反応式で表される、アントラニル酸誘導体（１）と芳香族ジカルボン酸ジハロゲン化物（２）との反応を、反応に関与しない有機溶媒中で行い、かつ、反応液中もしくは反応容器内に窒素などの不活性ガスを導入して、反応で生成するハロゲン化水素（式中ＨＸ）を除去すると、反応が円滑に進行し中間体のアミド化合物（３）が高収率で得られ、その後、得られたアミド化合物を脱水剤と反応させると、アルカリ金属化合物を用いることなく、純度の高いビスベンゾオキサジノン化合物（４）を製造できることを見出し、本発明を完成した。

　即ち本発明は、以下の発明を包含する。
１．　下記式（４）で表され、

（式中、Ｒ^１およびＲ^２はそれぞれ独立に、水素原子、水酸基、炭素数１~３のアルキル基、炭素数１~３のアルコキシ基、炭素数１~３のアシル基、炭素数１~３のアシルオキシ基、炭素数１~３のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基を表す。）
（ｉ）純度が９８％以上であり、
（ｉｉ）下記式（７）で表される化合物の含有量が０．１５％未満であり、

（ｉｉｉ）パウダー状での可視光線領域の光線反射率測定において最大ピークが３８０~４８０ｎｍの範囲にあり、かつ最大光線反射率が１００~１２０％であり、
（ｉｖ）ナトリウム金属の含有量が５０ｐｐｍ未満であり、
（ｖ）ＹＩ値が−１０~１０、であるビスベンゾオキサジノン化合物。
２．　式（４）のＲ^１が水素原子、Ｒ^２が水素原子である前項１記載のビスベンゾオキサジノン化合物。
３．　下記式（１）で表されるアントラニル酸誘導体と下記式（２）で表される芳香族ジカルボン酸ジハロゲン化物とを、不活性ガス気流下、有機溶媒中で反応させ、下記式（３）で表されるアミド化合物を製造した後、

（式中、Ｒ^１およびＲ^２はそれぞれ独立に、水素原子、水酸基、炭素数１~３のアルキル基、炭素数１~３のアルコキシ基、炭素数１~３のアシル基、炭素数１~３のアシルオキシ基、炭素数１~３のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基を表す。Ｘはハロゲン原子を表す。）
得られた式（３）で表されるアミド化合物を脱水剤と反応させることからなる前項１記載のビスベンゾオキサジノン化合物の製造方法。
４．　有機溶媒は、ケトン類、芳香族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類およびエーテル類からなる群より選ばれる少なくとも一種である前項３記載の製造方法。
５．　不活性ガスが窒素である前項４記載の製造方法。
６．　脱水剤が無水酢酸である前項４記載の製造方法。
７．　式（１）~式（４）の、Ｒ^１が水素原子、Ｒ^２が水素原子、Ｘが塩素原子である前項４記載の製造方法。
８．　芳香族ポリカーボネート（Ａ成分）１００重量部および前項１の化合物（Ｂ成分）０．０１~５重量部を含有する樹脂組成物。
９．　さらにリン系安定剤（Ｃ１成分）およびヒンダードフェノール系安定剤（Ｃ２成分）から選ばれる少なくとも１種の安定剤（Ｃ成分）を含有する前項８記載の樹脂組成物。
１０．　厚さ２ｍｍの成形板にしたときの全光線透過率が７０％以上である前項８記載の樹脂組成物。
１１．　厚さ２ｍｍの成形板にしたときの湿熱試験前後のΔＨａｚｅが２．０以下である前項８記載の樹脂組成物。
１２．　厚さ２ｍｍの成形板の耐候促進試験前後のΔＨａｚｅが１．０以下である前項８記載の樹脂組成物。
１３．　厚さ２ｍｍの成形板に白色標準板を重ねて測定した３８０~４８０ｎｍの範囲の光線反射率の最大ピークが６０~８０％である前項８記載の樹脂組成物。
１４．　前項８~１３のいずれか１項に記載の樹脂組成物からなる成形品。
１５．　車両用透明部材である前項１４に記載の成形品。

〈ビスベンゾオキサジノン化合物〉
　本発明のビスベンゾオキサジノン化合物は下記式（４）で表される。

　式中、Ｒ^１およびＲ^２はそれぞれ独立に、水素原子、水酸基、炭素数１~３のアルキル基、炭素数１~３のアルコキシ基、炭素数１~３のアシル基、炭素数１~３のアシルオキシ基、炭素数１~３のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基を表す。
　炭素数１~３のアルキル基として、メチル基、エチル基、プロピル基などが挙げられる。炭素数１~３のアルコキシ基として、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基などが挙げられる。炭素数１~３のアシル基（Ｒ−ＣＯ−）としてアセチル基、アクリロイル基などが挙げられる。炭素数１~３のアシルオキシ基（Ｒ−ＣＯ−Ｏ−）として、Ｒがメチル基、エチル基のものが挙げられる。炭素数１~３のアルコキシカルボニル基（−ＣＯ−ＯＲ）として、Ｒがメチル基、エチル基のものが挙げられる。ハロゲン原子として、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などが挙げられる。より好ましくは、Ｒ^１は、水素原子である。式（４）のＲ^１が水素原子、Ｒ^２が水素原子であるビスベンゾオキサジノン化合物が好ましい。
（純度）
　本発明のビスベンゾオキサジノン化合物は、純度が９８％以上、好ましくは９８．２％以上、より好ましくは９８．５％以上である。なお、ビスベンゾオキサジノン化合物の純度は、ＨＰＬＣ（高速液体クロマトグラフィー）法により測定する。
（式（７）で表される化合物）
　本発明のビスベンゾオキサジノン化合物は、下記式（７）で表される化合物の含有量が０．１５重量％未満、好ましくは０．１２重量％未満、より好ましくは０．１重量％未満である。式（７）で表される化合物の含有量は、ＨＰＬＣ（高速液体クロマトグラフィー）法により測定する。

（光線反射率測定）
　本発明のビスベンゾオキサジノン化合物は、パウダー状での可視光線領域の光線反射率測定において最大ピークが３８０~４８０ｎｍの範囲、好ましくは４００~４６０ｎｍの範囲、より好ましくは４４０~４６０ｎｍの範囲にある。
　本発明のビスベンゾオキサジノン化合物は、パウダー状での可視光線領域の光線反射率測定において最大光線反射率が１００~１２０％、好ましくは１００~１１０％である。
　光線反射率は、ビスベンゾオキサジノン化合物のパウダーを直径３０ｍｍ、高さ１３ｍｍの円筒型ガラス容器に詰め、東京電色株式会社製ＴＲ−１８００ＭＫ−ＩＩを使用して３８０~４８０ｎｍの範囲にある最大ピーク値を測定する。測定は反射法（２度視野、Ｃ光源）にて実施する。
（ナトリウム金属の含有量）
　本発明のビスベンゾオキサジノン化合物は、ナトリウム金属の含有量が５０ｐｐｍ未満、好ましくは４０ｐｐｍ未満、より好ましくは２５ｐｐｍ未満である。ナトリウム金属の含有量は、フレーム原子吸光光度法により測定する。
（ＹＩ値）
　本発明のビスベンゾオキサジノン化合物は、ＹＩ値が−１０~１０、好ましくは−５~５、より好ましくは０~３である。ＹＩ値は、ビスベンゾオキサジノン化合物のパウダーを東京電色株式会社製ＴＲ−１８００ＭＫ−ＩＩを使用して測定する。測定は反射法（２度視野、Ｃ光源）にて実施する。
〈ビスベンゾオキサジノン化合物の製造方法〉
　本発明のビスベンゾオキサジノン化合物は、以下に示す方法で製造することができる。該方法は、アミド化合物（３）を得る工程１とアミド化合物を脱水し環化しビスベンゾオキサジノン化合物（４）を得る工程２からなる。
（工程１）
　工程１は、アントラニル酸誘導体（１）と芳香族ジカルボン酸ジハロゲン化物（２）とを、不活性ガスの気流下、有機溶媒中で反応させアミド化合物（３）を得る工程である。
　アントラニル酸誘導体は、下記式（１）で表される。

　式中、Ｒ^１は、水素原子、水酸基、炭素数１~３のアルキル基、炭素数１~３のアルコキシ基、炭素数１~３のアシル基、炭素数１~３のアシルオキシ基、炭素数１~３のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基を表す。
　炭素数１~３のアルキル基として、メチル基、エチル基、プロピル基などが挙げられる。炭素数１~３のアルコキシ基として、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基などが挙げられる。炭素数１~３のアシル基（Ｒ−ＣＯ−）としてアセチル基、アクリロイル基などが挙げられる。炭素数１~３のアシルオキシ基（Ｒ−ＣＯ−Ｏ−）として、Ｒがメチル基、エチル基のものが挙げられる。炭素数１~３のアルコキシカルボニル基（−ＣＯ−ＯＲ）として、Ｒがメチル基、エチル基のものが挙げられる。ハロゲン原子として、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などが挙げられる。より好ましくは、Ｒ^１は、水素原子である。具体的には、アントラニル酸が挙げられる。
　芳香族ジカルボン酸ジハロゲン化物は、下記式（２）で表される。

　式中、Ｘはハロゲン原子を表す。ハロゲン原子として、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。好ましくは塩素原子である。
　Ｒ^２は、水素原子、水酸基、炭素数１~３のアルキル基、炭素数１~３のアルコキシ基、炭素数１~３のアシル基、炭素数１~３のアシルオキシ基、炭素数１~３のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基を表す。これらの具体例は式（１）と同じである。より好ましくは、Ｒ^２は、水素原子である。具体的には、テレフタル酸ジクロライドが挙げられる。
　上記反応において、化合物（３）は芳香族ジカルボン酸ジハロゲン化物１モルに対し、アントラニル酸誘導体２モルが反応することにより得られるが、芳香族ジカルボン酸ジハロゲン化物１モルに対しアントラニル酸誘導体１モルが反応した下記式（５）で表わされる副生成物の生成を抑制するためにアントラニル酸誘導体を化学量論量より若干過剰に用いることが好ましい。すなわち反応に用いる芳香族ジカルボン酸ジハロゲン化物の量は、１モルのアントラニル酸誘導体に対し、好ましくは０．４３~０．５モル、より好ましくは０．４７~０．５モルである。

　式中、Ｒ^１およびＲ^２は上記式（１）および（２）で定義されるものと同じであり、より好ましくはＲ^１およびＲ^２は水素原子である。
　また特許文献４にあるようにイサト酸無水物と芳香族ジカルボン酸ジハロゲン化物の反応では有機塩基としてピリジンのような第三級アミンを使用しているが、これらは嵩高いために式（６）で表されるような反応中間体が不安定になり、その結果として式（７）で表される不純物が増加しやすい。式（７）の化合物についてはＨＰＬＣならびにＬＣ（液体クロマトグラフィー）／ＭＳ（マススペクトル）にて確認した。

　有機溶媒は、原料のアントラニル酸誘導体（１）と芳香族ジカルボン酸ジハロゲン化物（２）が可溶かつ、反応に関与しない溶媒をいう。具体的にはアセトン、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、シクロヘキサノンなどのケトン類、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類、１，２−ジクロロエタン、１，１，１−トリクロロエタン、クロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素類が好ましい。このなかでも特にケトン類が原料の溶解性、反応のしやすさの面から好ましい。
　反応に用いる有機溶媒の量は特に限定されないが、アントラニル酸誘導体１００重量部に対し、好ましくは３５０~３，５００重量部、より好ましくは８００~１，２００重量部である。
　本発明は、反応系内に不活性ガスを導入し、反応を不活性ガス気流下に進行させ、ハロゲン化水素を除去することを特徴とする。
　本発明で用いる不活性ガスとしては、窒素、アルゴンなどが挙げられ、特に窒素が好ましい。反応に用いる不活性ガスの量は、アントラニル酸誘導体１モルに対して、好ましくは１~５０Ｌ／時間であり、これを超えると不活性ガスの気流により蒸散する量が多大となり、少ない場合は反応が極めて遅くなる。より好ましくは５~１５Ｌ／時間である。なお、不活性ガスは、有機溶媒中に吹き込んでも良いし、反応容器の気相中に吹き込んでも良い。
　反応装置は不活性ガス導入部、ガス導出部および環流装置を有する、通常のスラリー状態の反応液を攪拌することが可能な物であればよい。ただし通気した不活性ガス中に含まれるハロゲン化水素を除去する設備が必要である。また反応温度は室温~１４０℃とするのが好ましくこれ以上の温度になると着色する傾向が強くなる。より好ましくは５０~９０℃である。また反応時間は不活性ガスの流量と反応温度により変化するが、０．５~２０時間とするのが好ましく、より好ましくは８~１２時間である。また式（３）で表されるアミド化合物は特に精製することなく次工程に用いることができる。
　工程１では、下記式（３）で表されるアミド化合物が結晶として得られる。

　式中、Ｒ^１およびＲ^２は式（１）~（３）と同じである。
（工程２）
　工程２は、工程１で得られた式（３）で表されるアミド化合物を脱水剤と反応させ、環化させ下記式（４）

で表されるビスベンゾオキサジノン化合物を得る工程である。式中、Ｒ^１およびＲ^２は式（１）~（３）と同じである。より好ましくは、Ｒ^１およびＲ^２は、水素原子である。具体的には、２，２’−フェニレンビス（３，１−ベンズオキサジン−４−オン）が挙げられる。
　脱水剤として、無水酢酸、五酸化リン、三酸化硫黄などが挙げられ、取り扱い易さより無水酢酸が好ましい。脱水剤は、式（３）で表されるアミド化合物１当量に対して、少なくとも２当量以上必要であり、好ましくは５当量以上、より好ましくは２０当量以上である。好ましい態様として溶媒として用いることもできる。
　反応装置は、還流装置を有して、スラリー状態の反応液を攪拌することが可能な物であればよい。ただし排気口には反応時に生成した酸性ガスが一部出てくるので、これを除去する設備が必要である。また反応温度は用いる溶媒の沸点によって異なるが、８０℃以上とするのが好ましく、より好ましくは１２０~１４０℃である。また、脱水反応時に副生する酸性成分を取り除く為に水洗を行うことが好ましい。また反応時間は脱水剤の当量、種類により異なるが、１~２４時間とするのが好ましく、より好ましくは８~１６時間である。
　本発明の製造方法において、式（１）~式（４）の、Ｒ^１が、水素原子、Ｒ^２が水素原子、Ｘが塩素原子であることが好ましい。
　本発明の製造方法によれば、アルカリ金属を使用することなく不活性ガスにより反応を進めるので、アルカリ金属の含有量の少ないビスベンゾオキサジノン化合物を得ることができる。また不活性ガス雰囲気下で反応が進むので、反応時において、酸化などの副反応が起こりにくく、高純度で色相に優れたビスベンゾオキサジノン化合物が得られる。
〈樹脂組成物〉
　本発明の樹脂組成物は、芳香族ポリカーボネート（Ａ成分）１００重量部、本発明のビスベンゾオキサジノン化合物（Ｂ成分）０．０１~５重量部を含有する。ビスベンゾオキサジノン化合物（Ｂ成分）の含有量は、芳香族ポリカーボネート（Ａ成分）１００重量部に対し、好ましくは０．０１~３重量部、より好ましくは０．１~１重量部である。
（芳香族ポリカーボネート：Ａ成分）
　本発明でＡ成分として使用される芳香族ポリカーボネートは、二価フェノールとカーボネート前駆体とを反応させて得られるものである。反応方法の一例として界面重合法、溶融エステル交換法、カーボネートプレポリマーの固相エステル交換法、および環状カーボネート化合物の開環重合法などを挙げることができる。
　ここで使用される二価フェノールの代表的な例としては、ハイドロキノン、レゾルシノール、４，４’−ビフェノール、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（通称ビスフェノールＡ）、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタン、４，４’−（ｐ−フェニレンジイソプロピリデン）ジフェノール、４，４’−（ｍ−フェニレンジイソプロピリデン）ジフェノール、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−４−イソプロピルシクロヘキサン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）オキシド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホキシド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ケトン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）エステル、２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）スルフィド、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンおよび９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレンなどが挙げられる。好ましい二価フェノールは、ビス（４−ヒドロキシフェニル）アルカンであり、なかでも耐衝撃性の点からビスフェノールＡが特に好ましい。
　カーボネート前駆体としてはカルボニルハライド、炭酸ジエステルまたはハロホルメートなどが使用され、具体的にはホスゲン、ジフェニルカーボネートまたは二価フェノールのジハロホルメートなどが挙げられる。
　上記二価フェノールとカーボネート前駆体を界面重合法によって芳香族ポリカーボネート樹脂を製造するに当っては、必要に応じて触媒、末端停止剤、二価フェノールが酸化するのを防止するための酸化防止剤などを使用してもよい。また芳香族ポリカーボネートは三官能以上の多官能性芳香族化合物を共重合した分岐ポリカーボネートであっても、芳香族または脂肪族の二官能性カルボン酸を共重合したポリエステルカーボネート樹脂であってもよく、また、得られたポリカーボネート樹脂の２種以上を混合した混合物であってもよい。
　三官能以上の多官能性芳香族化合物としては、１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１，１−トリス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）エタンなどが使用できる。
　分岐ポリカーボネートを生ずる多官能性化合物を含む場合、かかる割合は、芳香族ポリカーボネート全量中、好ましくは０．００１~１モル％、より好ましくは０．００５~０．５モル％、さらに好ましくは０．０１~０．３モル％である。また特に溶融エステル交換法の場合、副反応として分岐構造が生ずる場合があるが、かかる分岐構造量についても、芳香族ポリカーボネート全量中、好ましくは０．００１~１モル％、より好ましくは０．００５~０．５モル％、さらに好ましくは０．０１~０．３モル％である。尚、かかる割合については^１Ｈ−ＮＭＲ測定により算出することが可能である。
　脂肪族の二官能性のカルボン酸は、α，ω−ジカルボン酸が好ましい。脂肪族の二官能性のカルボン酸としては例えば、セバシン酸（デカン二酸）、ドデカン二酸、テトラデカン二酸、オクタデカン二酸、イコサン二酸などの直鎖飽和脂肪族ジカルボン酸が好ましく挙げられる。
　更にポリオルガノシロキサン単位を共重合した、ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体の使用も可能である。
　界面重合法による反応は、通常、二価フェノールとホスゲンとの反応であり、酸結合剤および有機溶媒の存在下に反応させる。酸結合剤としては例えば水酸化ナトリウムや水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物、ピリジンなどが用いられる。
　有機溶媒としては、例えば塩化メチレン、クロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素が用いられる。
　また、反応促進のために、例えば第三級アミンや第四級アンモニウム塩などの触媒を用いることができ、分子量調節剤として例えばフェノール、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、ｐ−クミルフェノールなどの単官能フェノール類を用いるのが好ましい。更に単官能フェノール類としては、デシルフェノール、ドデシルフェノール、テトラデシルフェノール、ヘキサデシルフェノール、オクタデシルフェノール、エイコシルフェノール、ドコシルフェノールおよびトリアコンチルフェノールなどを挙げることができる。これらの比較的長鎖のアルキル基を有する単官能フェノール類は、流動性や耐加水分解性の向上が求められる場合に有効である。
　反応温度は通常０~４０℃、反応時間は数分~５時間、反応中のｐＨは通常１０以上に保つのが好ましい。
　溶融法による反応は、通常二価フェノールと炭酸ジエステルとのエステル交換反応であり、不活性ガスの存在下に二価フェノールと炭酸ジエステルを混合し、減圧下通常１２０~３５０℃で反応させる。減圧度は段階的に変化させ、最終的には１３３Ｐａ以下にして生成したフェノール類を系外に除去させる。反応時間は通常１~４時間程度である。
　炭酸ジエステルとしては、例えばジフェニルカーボネート、ジナフチルカーボネート、ビス（ジフェニル）カーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネートおよびジブチルカーボネートなどが挙げられる。なかでもジフェニルカーボネートが好ましい。
　重合速度を速めるために重合触媒を使用することができる。重合触媒としては、水酸化ナトリウムや水酸化カリウムなどのアルカリ金属やアルカリ土類金属の水酸化物、ホウ素やアルミニウムの水酸化物、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、第４級アンモニウム塩、アルカリ金属やアルカリ土類金属のアルコキシド、アルカリ金属やアルカリ土類金属の有機酸塩、亜鉛化合物、ホウ素化合物、ケイ素化合物、ゲルマニウム化合物、有機錫化合物、鉛化合物、アンチモン化合物、マンガン化合物、チタン化合物、ジルコニウム化合物などの通常エステル化反応やエステル交換反応に使用される触媒が挙げられる。触媒は単独で使用しても良いし、二種類以上を併用して使用しても良い。これらの重合触媒の使用量は、原料の二価フェノール１モルに対し、好ましくは１×１０^−８~１×１０^−３当量、より好ましくは１×１０^−７~５×１０^−４当量の範囲で選ばれる。
　また、重合反応において、フェノール性の末端基を減少するために、重縮反応の後期あるいは終了後に、例えば２−クロロフェニルフェニルカーボネート、２−メトキシカルボニルフェニルフェニルカーボネートおよび２−エトキシカルボニルフェニルフェニルカーボネートなどの化合物を加えることができる。
　さらに溶融エステル交換法では触媒の活性を中和する失活剤を用いることが好ましい。かかる失活剤の量としては、残存する触媒１モルに対して０．５~５０モルの割合で用いるのが好ましい。また失活剤は、重合後の芳香族ポリカーボネートに対し、好ましくは０．０１~５００ｐｐｍの割合、より好ましくは０．０１~３００ｐｐｍ、さらに好ましくは０．０１~１００ｐｐｍの割合で使用する。失活剤としては、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩などのホスホニウム塩、テトラエチルアンモニウムドデシルベンジルサルフェートなどのアンモニウム塩などが好ましく挙げられる。
　芳香族ポリカーボネートの粘度平均分子量は、好ましくは１３，０００~４０，０００であり、より好ましくは１４，０００~３０，０００であり、更に好ましくは１５，０００~２７，０００である。かかる粘度平均分子量を有する芳香族ポリカーボネートを使用した場合、本発明の樹脂組成物は十分な強度および成形時の良好な溶融流動性を有する。かかる良好な溶融流動性は、成形歪みの更なる低減を可能にするため好ましい。また上記範囲内の場合には、ハードコート処理などの２次加工への耐性も十分となる。尚、芳香族ポリカーボネートは、その粘度平均分子量が上記範囲外のものを混合して得られたものであってもよい。
　芳香族ポリカーボネートの粘度平均分子量（Ｍ）は塩化メチレン１００ｍｌにポリカーボネート樹脂０．７ｇを溶解した溶液から２０℃で求めた比粘度（η_ｓｐ）を次式に挿入して求めたものである。
　η_ｓｐ／ｃ＝［η］＋０．４５×［η］^２ｃ（但し［η］は極限粘度）
　［η］＝１．２３×１０^−４Ｍ^０．８３
　ｃ＝０．７
（安定剤：Ｃ成分）
　本発明の樹脂組成物は、安定剤（Ｃ成分）を含有していても良い。安定剤（Ｃ成分は、好ましくはリン系安定剤（Ｃ１成分）およびヒンダードフェノール系安定剤（Ｃ２成分）から選ばれる少なくとも１種である。
　リン系安定剤（Ｃ１成分）としては、ホスファイト化合物、ホスフェート化合物、ホスホナイト化合物、ホスホネイト化合物などが例示される。
　ホスファイト化合物としては、トリフェニルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリデシルホスファイト、トリオクチルホスファイト、トリオクタデシルホスファイト、ジデシルモノフェニルホスファイト、ジオクチルモノフェニルホスファイト、ジイソプロピルモノフェニルホスファイト、モノブチルジフェニルホスファイト、モノデシルジフェニルホスファイト、モノオクチルジフェニルホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト、トリス（ジエチルフェニル）ホスファイト、トリス（ジ−ｉｓｏ−プロピルフェニル）ホスファイト、トリス（ジ−ｎ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−エチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、フェニルビスフェノールＡペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジシクロヘキシルペンタエリスリトールジホスファイトなどが挙げられる。
　他のホスファイト化合物としては二価フェノール類と反応し環状構造を有するものも使用できる。例えば、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ホスファイト、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ホスファイト、２，２’−エチリデンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ホスファイトなどを挙げることができる。
　ホスフェート化合物としては、トリブチルホスフェート、トリメチルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリフェニルホスフェート、トリクロルフェニルホスフェート、トリエチルホスフェート、ジフェニルクレジルホスフェート、ジフェニルモノオルソキセニルホスフェート、トリブトキシエチルホスフェート、ジブチルホスフェート、ジオクチルホスフェート、ジイソプロピルホスフェートなどを挙げることができる。好ましくはトリフェニルホスフェート、トリメチルホスフェートである。
　ホスホナイト化合物としては、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，３’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３，３’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，３’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３，３’−ビフェニレンジホスホナイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス（２，６−ジ−ｎ−ブチルフェニル）−３−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３−フェニル−フェニルホスホナイトなどが挙げられる。テトラキス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−ビフェニレンジホスホナイト、ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−フェニル−フェニルホスホナイトが好ましく、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−ビフェニレンジホスホナイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−フェニル−フェニルホスホナイトがより好ましい。かかるホスホナイト化合物は上記アルキル基が２以上置換したアリール基を有するホスファイト化合物との併用可能であり好ましい。
　ホスホネイト化合物としては、ベンゼンホスホン酸ジメチル、ベンゼンホスホン酸ジエチル、およびベンゼンホスホン酸ジプロピルなどが挙げられる。
　リン系安定剤（Ｃ１成分）は、１種のみならず２種以上を混合して用いることができる。リン系安定剤（Ｃ１成分）として、ホスファイト化合物またはホスホナイト化合物が好ましい。殊にトリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイトおよびビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−フェニル−フェニルホスホナイトが好ましい。またこれらとホスフェート化合物との併用も好ましい態様である。
　リン系安定剤（Ｃ１成分）の含有量は、芳香族ポリカーボネート（Ａ成分）１００重量部に対して、好ましくは０．０００１~１重量部、より好ましくは０．００１~０．１重量部、さらに好ましくは０．００５~０．１重量部である。リン系安定剤（Ｃ１成分）の含有量が上記範囲よりも少なすぎる場合には良好な安定化効果を得ることが難しく、上記範囲を超えて多すぎる場合は、組成物の物性低下を起こす場合がある。
　ヒンダードフェノール系安定剤（Ｃ２成分）としては、α−トコフェロール、ブチルヒドロキシトルエン、シナピルアルコール、ビタミンＥ、ｎ−オクタデシル−β−（４’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）プロピオネート、２−ｔｅｒｔ−ブチル−６−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチル−２’−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチル）フェノール、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネートジエチルエステル、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−ジメチレン−ビス（６−α−メチル−ベンジル−ｐ−クレゾール）、２，２’−エチリデン−ビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−ブチリデン−ビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデン−ビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、トリエチレングリコール−Ｎ−ビス−３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート、１，６−ヘキサンジオールビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ビス［２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチル６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）フェニル］テレフタレート、３，９−ビス｛２−［３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ］−１，１−ジメチルエチル｝−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン、４，４’−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−ｍ−クレゾール）、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−チオビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、４，４’−ジ−チオビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４’−トリ−チオビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２−チオジエチレンビス−［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２，４−ビス（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナミド）、Ｎ，Ｎ’−ビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル］ヒドラジン、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）イソシアヌレート、トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス２［３（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］エチルイソシアヌレート、およびテトラキス［メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタンなどが例示される。これらはいずれも入手容易である。上記ヒンダードフェノール系酸化防止剤は、単独でまたは２種以上を組合せて使用することができる。
　ヒンダードフェノール系安定剤（Ｃ２成分）の含有量は、芳香族ポリカーボネート（Ａ成分）１００重量部に対して、好ましくは０．０００１~１重量部、より好ましくは０．００１~０．１重量部、さらに好ましくは０．００５~０．１重量部である。ヒンダードフェノール系安定剤（Ｃ２成分）の含有量が上記範囲よりも少なすぎる場合には良好な安定化効果を得ることが難しく、上記範囲を超えて多すぎる場合は、組成物が着色し成形品外観を低下させる場合がある。
（光安定剤）
　また本発明の樹脂組成物は、ヒンダードアミン系の光安定剤を含有していても良い。ヒンダードアミン系の光安定剤として、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、テトラキス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、ポリ｛［６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル］［（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）イミノ］ヘキサメチレン［（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）イミノ］｝、およびポリメチルプロピル３−オキシ−［４−（２，２，６，６−テトラメチル）ピペリジニル］シロキサンなどが挙げられる。
　上記光安定剤は、単独であるいは２種以上の混合物を用いてもよい。光安定剤の含有量は、芳香族ポリカーボネート（Ａ成分）１００重量部に対して、好ましくは０．０００５~３重量部、より好ましくは０．０１~２重量部、さらに好ましくは０．０２~１重量部である。
＜アントラキノン系染料：Ｄ成分＞
　本発明の樹脂組成物は、骨格にＯＨ官能基を有さないアントラキノン系染料を含有していても良い。染料として使用される骨格にＯＨ官能基を有さないアントラキノン系染料としては、当該業者で一般的にブルーイング剤として使用するものも含まれるが、青色に限定されるものではなく、赤色、橙色、緑色、黄色、紫色など数多くの種類が使用可能であり、一種または複数の染料の組合せにより多彩な色彩を達成可能である。
　骨格にＯＨ官能基を有さないアントラキノン系染料（Ｄ成分）としては、バイエル社のＭＡＣＲＯＬＥＸ　Ｖｉｏｌｅｔ　Ｂ（式（ａ）の化合物）、バイエル社製ＭＡＣＲＯＬＥＸ　Ｂｌｕｅ　ＲＲ（式（ｂ）の化合物）、有本化学工業社製ＰＬＡＳＴ　Ｂｌｕｅ　８５２０（式（ｃ）の化合物）、ＰＬＡＳＴ　Ｖｉｏｌｅｔ　８８５５（式（ｄ）の化合物）、ＰＬＡＳＴ　Ｒｅｄ　８３５０、ＰＬＡＳＴ　Ｒｅｄ　８３４０、ＰＬＡＳＴ　Ｒｅｄ　８３２０、ＯＩＬ　Ｇｒｅｅｎ　５６０２、三菱化学社製ＤＩＡＲＥＳＩＮ　Ｂｌｕｅ　Ｎ、住友化学工業社製ＳＵＭＩＰＬＡＳＴ　Ｖｉｏｌｅｔ　ＲＲ等が挙げられる。好ましくは式（ａ）、式（ｂ）、式（ｃ）、式（ｄ）の化合物が使用される。
　アントラキノン系染料（Ｄ成分）の含有量は、１００重量部の芳香族ポリカーボネート（Ａ成分）に対して、好ましくは１×１０^−６~１，０００×１０^−６重量部、より好ましくは５×１０^−６~５００×１０^−６重量部であり、さらに好ましくは１０×１０^−６~１５０×１０^−６重量部であり、特に好ましくは１０×１０^−６~１００×１０^−６重量部である。
　アントラキノン系以外の染料も併用可能であるが、染料の５０％以上は骨格にＯＨ官能基を有さないアントラキノン系染料であることが望ましく、他の染料と併用した場合の添加量も、染料全体の添加量で１００重量部の芳香族ポリカーボネート（Ａ成分）に対して、１×１０^−６~１，０００×１０^−６重量部である。

（染顔料）
　本発明の樹脂組成物には、発明の目的を損なわない範囲でアントラキノン系染料（Ｄ成分）以外にも各種の染顔料を使用することができる。特に透明性を維持する点から、染料が好適である。好ましい染料としてはペリレン系染料、クマリン系染料、チオインジゴ系染料、アンスラキノン系染料、チオキサントン系染料、紺青などのフェロシアン化物、ペリノン系染料、キノリン系染料、キナクリドン系染料、ジオキサジン系染料、イソインドリノン系染料、およびフタロシアニン系染料などを挙げることができる。染顔料の含有量は、芳香族ポリカーボネート（Ａ成分）１００重量部あたり、好ましくは０．０００１~１重量部、より好ましくは０．０００５~０．５重量部である。
（離型剤）
　本発明の樹脂組成物は離型剤を含んでいても良い。離型剤としてはアルコールと脂肪族カルボン酸とのエステル（脂肪酸エステル）が好ましい。
　アルコールとしては一価アルコールおよび二価以上の多価アルコールのいずれでもよい。多価アルコールを主体とすることがより好ましい。一価アルコールとしては、ドデカノール、テトラデカノール、ヘキサデカノール、オクタデカノール、エイコサノール、テトラコサノール、セリルアルコールおよびトリアコンタノールなどが例示される。多価アルコールの具体例としては、グリセリン、ジグリセリン、ポリグリセリン（例えばデカグリセリンなど）、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、ジエチレングリコール、およびプロピレングリコールなどが挙げられる。中でもペンタエリスリトールが好ましい。
　一方、脂肪族カルボン酸は炭素数３~３２であることが好ましく、特に炭素数１０~２２の脂肪族カルボン酸が好ましい。該脂肪族カルボン酸として、デカン酸、ウンデカン酸、ドデカン酸、トリデカン酸、テトラデカン酸、ペンタデカン酸、ヘキサデカン酸（パルミチン酸）、ヘプタデカン酸、オクタデカン酸（ステアリン酸）、ノナデカン酸、イコサン酸、およびドコサン酸（ベヘン酸）などの飽和脂肪族カルボン酸が挙げられる。またパルミトレイン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、エイコセン酸、エイコサペンタエン酸、およびセトレイン酸などの不飽和脂肪族カルボン酸が挙げられる。上記の中でも脂肪族カルボン酸は、炭素原子数１４~２０であるものが好ましい。なかでも飽和脂肪族カルボン酸が好ましい。
　かかる脂肪族カルボン酸は通常、動物性油脂（牛脂および豚脂など）や植物性油脂（パーム油など）などの天然油脂類から製造されるため、これらの脂肪族カルボン酸は、通常炭素原子数の異なる他のカルボン酸成分を含む混合物である。従って、脂肪族カルボン酸は、天然油脂類から製造される他のカルボン酸成分を含む混合物の形態からなる。
　脂肪酸エステルにおける酸価は、２０以下（実質的に０を取り得る）であることが好ましい。しかしながら全エステル（フルエステル）の場合には、離型性を向上させるため、少なからず遊離の脂肪酸を含有することが好ましく、この点においてフルエステルにおける酸価は３~１５の範囲が好ましい。また脂肪酸エステルのヨウ素価は、１０以下（実質的に０を取り得る）が好ましい。これらの特性はＪＩＳ　Ｋ　００７０に規定された方法により求めることができる。
　脂肪酸エステルは、部分エステルおよびフルエステルのいずれであってもよいが、本発明においてより好ましくは良好な離型性および耐久性の点で部分エステルである。中でもグリセリンモノエステルが好ましい。グリセリンモノエステルは、グリセリンと脂肪酸のモノエステルが主成分である。好適な脂肪酸としてはステアリン酸、パルチミン酸、ベヘン酸、アラキン酸、モンタン酸、ラウリン酸等の飽和脂肪酸が挙げられる。またオレイン酸、リノール酸、ソルビン酸等の不飽和脂肪酸が挙げられる。特にステアリン酸、ベヘン酸、およびパルチミン酸のグリセリンモノエステルを主成分としたものが好ましい。尚、かかる脂肪酸は、天然の脂肪酸から合成されたものであり、上述のとおり混合物となる。グリセリンモノエステルは、他の離型剤、殊に脂肪酸フルエステルとの併用が可能であるが、併用した場合でもグリセリンモノエステルを主成分とすることが好ましい。即ち、離型剤１００重量％中、６０重量％以上とすることが好ましく、８０％以上がより好ましく、８５％以上が更に好ましい。よって離型剤は、多価アルコールと脂肪族カルボン酸とのフルエステルが好ましい。但し、本発明においてフルエステルとは、そのエステル化率が必ずしも１００％である必要はなく、８０％以上であればよく、好ましくは８５％以上である。
（帯電防止剤）
　本発明の樹脂組成物は帯電防止剤を含んでいても良い。帯電防止剤としては、例えば（ｉ）ドデシルベンゼンスルホン酸ホスホニウム塩に代表されるアリールスルホン酸ホスホニウム塩、アルキルスルホン酸ホスホニウム塩などの有機スルホン酸ホスホニウム塩が挙げられる。有機スルホン酸ホスホニウム塩の含有量は、芳香族ポリカーボネート（Ａ成分）１００重量部あたり、好ましくは５重量部以下、より好ましくは０．０５~５重量部、さらに好ましくは１~３．５重量部、特に好ましくは１．５~３重量部の範囲である。
　帯電防止剤としては、（ｉｉ）有機スルホン酸リチウム、有機スルホン酸ナトリウム、有機スルホン酸カリウム、有機スルホン酸セシウム、有機スルホン酸ルビジウム、有機スルホン酸カルシウム、有機スルホン酸マグネシウム、有機スルホン酸バリウムなどの有機スルホン酸アルカリ（土類）金属塩が挙げられる。具体的には例えばドデシルベンゼンスルホン酸の金属塩やパーフルオロアルカンスルホン酸の金属塩などが例示される。有機スルホン酸アルカリ（土類）金属塩の含有量は、芳香族ポリカーボネート（Ａ成分）１００重量部あたり、好ましくは０．５重量部以下、より好ましくは０．００１~０．３重量部、さらに好ましくは０．００５~０．２重量部である。特にカリウム、セシウム、およびルビジウムなどのアルカリ金属塩が好適である。
　帯電防止剤としては、（ｉｉｉ）アルキルスルホン酸アンモニウム塩、およびアリールスルホン酸アンモニウム塩などの有機スルホン酸アンモニウム塩が挙げられる。該アンモニウム塩の含有量は、芳香族ポリカーボネート（Ａ成分）１００重量部あたり、好ましくは０．０５重量部以下である。
　帯電防止剤としては、例えば（ｉｖ）グリセリンモノステアレート、無水マレイン酸モノグリセライドおよび無水マレイン酸ジグリセライドなどのグリセリン誘導体エステルが挙げられる。該エステルの含有量は、芳香族ポリカーボネート（Ａ成分）１００重量部あたり、好ましくは０．５重量部以下である。
　帯電防止剤としては、（ｖ）ポリエーテルエステルアミドなどのポリ（オキシアルキレン）グリコール成分をその構成成分として含有するポリマーが挙げられる。該ポリマーの含有量は、芳香族ポリカーボネート（Ａ成分）１００重量部あたり、好ましくは５重量部以下である。
　他の帯電防止剤としては、例えば、（ｖｉ）カーボンブラック、カーボンファイバー、カーボンナノチューブ、グラファイト、金属粉末、金属酸化物粉末などの非有機化合物が挙げられる。該非有機化合物の含有量は、芳香族ポリカーボネート（Ａ成分）１００重量部あたり、好ましくは０．０５重量部以下である。
（難燃剤）
　本発明の樹脂組成物には、本発明の目的が損なわれない量の難燃剤を使用することができる。難燃剤としては、ハロゲン化ビスフェノールＡのポリカーボネート型難燃剤、有機塩系難燃剤、芳香族リン酸エステル系難燃剤、ハロゲン化芳香族リン酸エステル型難燃剤などが挙げられる。それらを一種以上使用することができる。
　ハロゲン化ビスフェノールＡのポリカーボネート型難燃剤として、テトラブロモビスフェノールＡのポリカーボネート型難燃剤、テトラブロモビスフェノールＡとビスフェノールＡとの共重合ポリカーボネート型難燃剤などが挙げられる。
　有機塩系難燃剤として、ジフェニルスルホン−３，３’−ジスルホン酸ジカリウム、ジフェニルスルホン−３−スルホン酸カリウム、２，４，５−トリクロロベンゼンスルホン酸ナトリウム、２，４，５−トリクロロベンゼンスルホン酸カリウム、ビス（２，６−ジブロモ−４−クミルフェニル）リン酸カリウム、ビス（４−クミルフェニル）リン酸ナトリウム、ビス（ｐ−トルエンスルホン）イミドカリウム、ビス（ジフェニルリン酸）イミドカリウム、ビス（２，４，６−トリブロモフェニル）リン酸カリウム、ビス（２，４−ジブロモフェニル）リン酸カリウム、ビス（４−ブロモフェニル）リン酸カリウム、ジフェニルリン酸カリウム、ジフェニルリン酸ナトリウム、パーフルオロブタンスルホン酸カリウム、ラウリル硫酸ナトリウムあるいはカリウム、ヘキサデシル硫酸ナトリウムあるいはカリウムなどが挙げられる。
　ハロゲン化芳香族リン酸エステル型難燃剤として、トリス（２，４，６−トリブロモフェニル）ホスフェート、トリス（２，４−ジブロモフェニル）ホスフェート、トリス（４−ブロモフェニル）ホスフェートなどが挙げられる。
　芳香族リン酸エステル系難燃剤として、トリフェニルホスフェート、トリス（２，６−キシリル）ホスフェート、テトラキス（２，６−キシリル）レゾルシンジホスフェート、テトラキス（２，６−キシリル）ヒドロキノンジホスフェート、テトラキス（２，６−キシリル）−４，４’−ビフェノールジホスフェート、テトラフェニルレゾルシンジホスフェート、テトラフェニルヒドロキノンジホスフェート、テトラフェニル−４，４’−ビフェノールジホスフェート、芳香環ソースがレゾルシンとフェノールでありフェノール性ＯＨ基を含まない芳香族ポリホスフェート、芳香環ソースがレゾルシンとフェノールでありフェノール性ＯＨ基を含む芳香族ポリホスフェート、芳香環ソースがヒドロキノンとフェノールでありフェノール性ＯＨ基を含まない芳香族ポリホスフェート、同様のフェノール性ＯＨ基を含む芳香族ポリホスフェート（以下に示す「芳香族ポリホスフェート」は、フェノール性ＯＨ基を含む芳香族ポリホスフェートと含まない芳香族ポリホスフェートの両方を意味するものとする）、芳香環ソースがビスフェノールＡとフェノールである芳香族ポリホスフェート、芳香環ソースがテトラブロモビスフェノールＡとフェノールである芳香族ポリホスフェート、芳香環ソースがレゾルシンと２，６−キシレノールである芳香族ポリホスフェート、芳香環ソースがヒドロキノンと２，６−キシレノールである芳香族ポリホスフェート、芳香環ソースがビスフェノールＡと２，６−キシレノールである芳香族ポリホスフェート、芳香環ソースがテトラブロモビスフェノールＡと２，６−キシレノールである芳香族ポリホスフェートなどが挙げられる。
（その他）
　本発明の樹脂組成物には、他の樹脂やエラストマーを本発明の目的が損なわれない範囲で少割合使用することもできる。
　かかる他の樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、シリコーン樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル／スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、アクリロニトリル／ブタジエン／スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、ポリメタクリレート樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂などの樹脂が挙げられる。
　また、エラストマーとしては、例えばイソブチレン／イソプレンゴム、スチレン／ブタジエンゴム、エチレン／プロピレンゴム、アクリル系エラストマー、ポリエステル系エラストマー、ポリアミド系エラストマー、コアシェル型のエラストマーであるＭＢＳ（メタクリル酸メチル／ステレン／ブタジエン）ゴム、ＭＡＳ（メタクリル酸メチル／アクリロニトリル／スチレン）ゴムなどが挙げられる。
　本発明の樹脂組成物には、各種無機充填材、流動改質剤、抗菌剤、光触媒系防汚剤、赤外線吸収剤、およびフォトクロミック剤などを配合することができる。
（樹脂組成物の特性）
　本発明の樹脂組成物は、厚さ２ｍｍの成形板にしたときの全光線透過率が７０％以上である。
　本発明の樹脂組成物は、厚さ２ｍｍの成形板にしたときの湿熱試験前後のΔＨａｚｅが好ましくは２．０以下、より好ましくは１．５以下、さらに好ましくは１．０以下である。
　本発明の樹脂組成物は、厚さ２ｍｍの成形板にしたときの耐候促進試験前後のΔＨａｚｅが好ましくは１．０以下、より好ましくは０．８以下、さらに好ましくは０．６以下である。
　本発明の樹脂組成物は、厚さ２ｍｍの成形板に白色標準板を重ねて測定した３８０~４８０ｎｍの範囲の光線反射率の最大ピークが、好ましくは６０~８０％、より好ましくは６５~７５％、さらに好ましくは６５~７２％である。
（樹脂組成物の製造）
　本発明の樹脂組成物を製造するには、任意の方法が採用される。例えば芳香族ポリカーボネート（Ａ成分）およびビスベンゾオキサジノン化合物（Ｂ成分）、並びに任意に他の添加剤を、Ｖ型ブレンダー、ヘンシェルミキサー、メカノケミカル装置、押出混合機などの予備混合手段を用いて充分に混合した後、場合により押出造粒器やブリケッティングマシーンなどにより造粒を行い、その後ベント式二軸押出機に代表される溶融混練機で溶融混練、およびペレタイザーなどの機器によりペレット化する方法が挙げられる。
　他に、各成分をそれぞれ独立にベント式二軸押出機に代表される溶融混練機に供給する方法や、各成分の一部を予備混合した後、残りの成分と独立に溶融混練機に供給する方法なども挙げられる。各成分の一部を予備混合する方法としては例えば、芳香族ポリカーボネート（Ａ成分）以外を予め予備混合した後、芳香族ポリカーボネート（Ａ成分）に混合する方法が挙げられる。
　また予備混合する方法としては例えば、Ａ成分としてパウダーの形態を有するものを含む場合、かかるパウダーの一部と配合する添加剤とをブレンドして、パウダーで希釈した添加剤のマスターバッチとする方法が挙げられる。更に一成分を独立に溶融押出機の途中から供給する方法なども挙げられる。尚、配合する成分に液状のものがある場合には、溶融押出機への供給にいわゆる液注装置、または液添装置を使用することができる。
　押出機としては、原料中の水分や、溶融混練樹脂から発生する揮発ガスを脱気できるベントを有するものが好ましく使用できる。ベントからは発生水分や揮発ガスを効率よく押出機外部へ排出するための真空ポンプが好ましく設置される。また押出原料中に混入した異物などを除去するためのスクリーンを押出機ダイス部前のゾーンに設置し、異物を樹脂組成物から取り除くことも可能である。かかるスクリーンとしては金網、スクリーンチェンジャー、焼結金属プレート（ディスクフィルターなど）などを挙げることができる。
　溶融混練機としては二軸押出機の他にバンバリーミキサー、混練ロール、単軸押出機、３軸以上の多軸押出機などを挙げることができる。
　上記の如く押出された樹脂は、直接切断してペレット化するか、またはストランドを形成した後かかるストランドをペレタイザーで切断してペレット化される。ペレット化に際して外部の埃などの影響を低減する必要がある場合には、押出機周囲の雰囲気を清浄化することが好ましい。
〈成形品〉
　本発明によれば、本発明の樹脂組成物からなる成形品が提供される。本発明の成形品は、樹脂組成物のペレットを射出成形して得ることができる。かかる射出成形においては、通常の成形方法だけでなく、射出圧縮成形、射出プレス成形、ガスアシスト射出成形、インサート成形、インモールドコーティング成形、断熱金型成形、急速加熱冷却金型成形、二色成形、サンドイッチ成形、および超高速射出成形などを挙げることができる。また成形はコールドランナー方式およびホットランナー方式のいずれも選択することができる。
　また本発明の成形品には、シート、フィルムなどの押出成形品を包含する。シート、フィルムの成形にはインフレーション法や、カレンダー法、キャスティング法なども使用可能である。更に特定の延伸操作をかけることにより熱収縮チューブとして成形することも可能である。また回転成形やブロー成形などにより中空成形品とすることも可能である。
　本発明の成形品は、透明性、色相、離型性、耐乾熱性、耐候性に優れることから、各種の高い品質が要求される各種の透明部材に好適である。
　かかる透明部材としては、ヘッドランプレンズ、ウインカーランプレンズ、テールランプレンズ、樹脂窓ガラス、メーターカバーなどの車両用透明部材が挙げられる。特にヘッドランプレンズ、更に詳しくは素通し型のヘッドランプレンズが好適に挙げられる。尚、ここで素通し型のヘッドランプレンズは、集光作用をリフレクターで行うランプのカバー、ランプユニットを一体として有するランプユニットのカバーおよびこれらに類するものを含む。また、照明灯カバー、建築用樹脂窓ガラス、太陽電池カバー、太陽電池基材、ディスプレー装置用レンズ、タッチパネルなどが挙げられる。またパチンコ機など遊技機の前面カバー、回路カバー、シャーシ、パチンコ玉搬送ガイドなどが挙げられる。
　本発明の成形品には、各種の表面処理を行うことができる。表面処理としては、ハードコート、撥水・撥油コート、親水性コート、帯電防止コート、紫外線吸収コート、赤外線吸収コート、並びにメタライジング（蒸着など）などの各種の表面処理を行うことができる。
　本発明の成形品は、初期色相、成形耐熱性、耐湿熱性および耐候性に優れ、また成形後に劣悪な環境下に曝された場合に生ずる成形品の割れへの耐性が改善されていることから、かかる表面処理を行うのに極めて適している。殊に溶剤などポリカーボネート樹脂に悪影響を与える因子を含む表面処理に本発明の樹脂組成物は適し、特にハードコートに適している。
　ここでハードコート処理としては各種のハードコート剤が使用可能である。ハードコート剤としては、シリコーン樹脂系ハードコート剤や有機樹脂系ハードコート剤などが挙げられる。
　シリコーン樹脂系ハードコート剤は、シロキサン結合をもった樹脂である。例えば、トリアルコキシシランおよびテトラアルコキシシランまたはそれらのアルキル化物の部分加水分解物、メチルトリアルコキシシランおよびフェニルトリアルコキシシランの混合物を加水分解したもの、コロイド状シリカ充填オルガノトリアルコキシシランの部分加水分解縮合物などが挙げられる。これらには縮合反応時に発生するアルコールなどが含まれているが、更に必要に応じて任意の有機溶剤、水、あるいはこれらの混合物に溶解ないしは分散させてもよい。そのための有機溶剤としては、低級脂肪酸アルコール類、多価アルコールとそのエーテル、エステル類などが挙げられる。なお、ハードコート層には平滑な表面状態を得るため各種界面活性剤、例えば、シロキサン系、フッ化アルキル系界面活性剤などを添加してもよい。
　有機樹脂系ハードコート剤としては、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂、アクリル樹脂、多官能アクリル樹脂などが挙げられる。ここで多官能アクリル樹脂としてはポリオールアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ホスファゼンアクリレートなどの樹脂が挙げられる。これらハードコート剤のうち長期間の耐候性に優れ、かつ表面硬度が比較的高いシリコーン樹脂系ハードコート剤が好ましく、特に各種の樹脂からなるプライマー層を形成した後、その上にシリコーン樹脂系ハードコート剤から調整された硬化層を形成したものが好ましい。
　かかるプライマー層を形成する樹脂としては、各種ブロックイソシアネート成分およびポリオール成分からなるウレタン樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、アミノ樹脂、およびポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ホスファゼンアクリレート、メラミンアクリレート、アミノアクリレートなどの各種多官能アクリル樹脂を挙げることができる。これらは単独でも２種以上を併用して使用することもできる。これらの中でも特に好ましくはアクリル樹脂、多官能アクリル樹脂が５０重量％、より好ましくは６０重量％以上含有するものを挙げることができ、特にアクリル樹脂からなるものが好ましい。
　更に、シリコーン樹脂系ハードコート剤のプライマー層を形成する樹脂には、前述した光安定剤や紫外線吸収剤、シリコーン樹脂ハードコート剤の触媒、熱・光重合開始剤、重合禁止剤、シリコーン消泡剤、レベリング剤、増粘剤、沈殿防止剤、垂れ防止剤、難燃剤、有機・無機顔料・染料の各種添加剤および添加助剤を含むことができる。

　以下に実施例を挙げて本発明をさらに説明する。なお、評価は下記の方法によって実施した。
〈ビスベンゾオキサジノン化合物〉
（１）ＨＰＬＣ（高速液体クロマトグラフィー）純度
（ｉ）アントラニル酸およびイサト酸無水物
　島津製作所ＬＣ１０システムにて下記の条件で行った。
　カラム：ＧＬサイエンス社製
　　　　　Ｉｎｅｒｔｓｉｌ　ＯＤＳ−３（４．６ｍｍφ×２５０ｍｍ）
　カラム温度：４０℃
　溶離液：１０ｍＭリン酸ナトリウム緩衝溶液ｐＨ＝２．６／アセトニト
　リル＝５０／５０（Ｖ／Ｖ）
　流量　：０．５ｍｌ／ｍｉｎ
　検出器：２６５ｎｍ
　サンプル注入量：１０μｌ
（ｉｉ）２，２’−フェニレンビス（３，１−ベンズオキサジン−４−オン）
　島津製作所ＬＣ１０システムにて下記の条件で行った。
　カラム：アジレントテクノロジー社製
　　　　　ＺＯＲＢＡＸ　ＳＢ−Ｃ１８（４．６ｍｍφ×２５０ｍｍ）
　カラム温度：４０℃
　検出器：２４０ｎｍ
　溶離液Ａ：１０ｍＭリン酸ナトリウム緩衝溶液ｐＨ＝２．６／アセトニト
　　　　　　リル＝５０／５０（Ｖ／Ｖ）
　溶離液Ｂ：アセトニトリル
　流量：１ｍｌ／ｍｉｎ
　グラジエント条件
　　時間（ｍｉｎ）　　　　０　１５　４０　５０　　６０　　８０
　　Ａ（％）　　　　　１００　２０　２０　１０　１００　１００
　　Ｂ（％）　　　　　　　０　８０　８０　９０　　　０　　　０
　サンプル注入量　５μｌ
　サンプル溶解溶媒約５ｍｇをＴＨＦ約１５ｍｌにて溶解し、これに溶離液Ａ（アセトニトリル／リン酸緩衝液）を加えて２５ｍｌにし、シリンジフィルターにて不溶分をろ過して分析した。
　ＨＰＬＣのピーク面積を重量％に換算して求めた。
（２）パウダー状での最大光線反射率
　２，２’−フェニレンビス（３，１−ベンズオキサジン−４−オン）（化合物Ｂ１~Ｂ３、比較品１~２）のパウダーを直径３０ｍｍ、高さ１３ｍｍの円筒型ガラス容器に詰め、東京電色株式会社製ＴＲ−１８００ＭＫ−ＩＩを使用してパウダー反射率の測定を行った。測定条件は、反射法（２度視野、Ｃ光源）にて実施し、３８０~７８０ｎｍにおける最大波長を測定した。
（３）パウダーの粒度分布、平均粒径
　パウダーの粒度分布、平均粒径は、（株）堀場製作所製レーザ回折／散乱式粒子径分布測定装置ＬＡ−９２０にて下記の条件で測定した。
　測定方法：フロー式
　分散媒：イソプロピルアルコール
　超音波：１０分間（強度７）
　相対屈折率：１１６ａ０００Ｉ
　循環速度：７
（４）ナトリウム金属の含有量
　ナトリウム金属の含有量は、バリアン製　フレーム原子吸光光度計　ＡＡ−２２０ＦＳにて試料に硫酸を加えて加熱し灰化し、残渣を塩酸で溶解したものを試料溶液とし測定した。
（５）ＹＩ値
　ＹＩ値は、２，２’−フェニレンビス（３，１−ベンズオキサジン−４−オン）（化合物Ｂ１~Ｂ３、比較品１~２）のパウダーを直径３０ｍｍ、高さ１３ｍｍの円筒型ガラス容器に詰め、日本電色株式会社製ＴＲ−１８００ＭＫ−ＩＩを使用し下記式より求めた。測定条件は、反射法（２度視野、Ｃ光源）にて実施した。
　ＹＩ＝［１００−（１．２８Ｘ−１．０６Ｚ）］／Ｙ
　（視覚による色の相違を三刺激値Ｘ，Ｙ，Ｚから数量的に算出する。）
実施例１：化合物Ｂ１
（工程１：アミド化）
　温度計、攪拌機、環流冷却器、滴下ロート、窒素ガス導入部、およびハロゲン化水素除去設備へ接続されたガス導出部を備えた、５００ｍｌ４つ口フラスコ中で、アントラニル酸（東京化成工業株式会社製　ＨＰＬＣ純度９９．９％，Ｎａ量　６０ｐｐｍ）２５ｇをメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）１５０ｇに溶解した。次に溶液の温度を５５~６０℃の範囲とし、テレフタル酸ジクロライド（東京化成工業株式会社製）１８ｇをＭＩＢＫ７２ｇに溶解したものを３０分間で滴下した。その後、反応フラスコの気相部に窒素を１００ｍｌ／ｍｉｎ（６Ｌ／ｈ）で流しながら８０~８５℃の範囲で１２時間反応させた。反応後、溶液の温度を３０℃以下まで冷却し、濾過し、得られた結晶をＭＩＢＫ１００ｍｌで洗浄した。
（工程２：脱水）
　温度計、攪拌機、環流冷却器、滴下ロート、還流液抜き取り口および酸性ガス除去設備へ接続されたガス導出部を備えた、５００ｍｌ４つ口フラスコに得られた結晶と無水酢酸３００ｇを入れ、１時間に１０ｇ程度ずつ還流液を留出させながら１２時間加熱還流した。温度は徐々に上昇し最終的に１３０℃を超えた。その後３０℃以下まで冷却し、濾過した。
　この結晶とメタノール１２０ｇを温度計、攪拌機、環流冷却器、滴下ロート、および酸性ガス除去設備へ接続されたガス導出部を備えた、５００ｍｌ４つ口フラスコに入れ５０~６０℃の範囲で３０分間撹拌洗浄した。これにイオン交換水１２０ｇを滴下し、３０℃以下まで冷却したのち濾過し、得られた結晶をメタノール１２０ｇで洗浄した。得られた結晶を６０℃で乾燥し２９ｇの微黄色結晶の２，２’−フェニレンビス（３，１−ベンズオキサジン−４−オン）を得た（化合物Ｂ１）。
　得られた化合物Ｂ１のＨＰＬＣ純度は９８．９％、式（７）の化合物の含有量は０．０５重量％であり、光線反射率測定において最大ピークは４５０ｎｍ、最大光線反射率は１０５％、ナトリウム金属の含有量は１ｐｐｍ未満、ＹＩ値は−４．３であった。また収率は、８９．０％であった。
実施例２：化合物Ｂ２
（工程１：アミド化）
　温度計、攪拌機、環流冷却器、滴下ロート、窒素ガス導入部、およびハロゲン化水素除去設備へ接続されたガス導出部を備えた、５００ｍｌ４つ口フラスコ中で、アントラニル酸（扶桑化学工業株式会社製　ＨＰＬＣ純度９８．５％，Ｎａ量　５９０ｐｐｍ）２５ｇをメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）１５０ｇに溶解した。次に溶液の温度を５５~６０℃の範囲とし、テレフタル酸ジクロライド（イハラニッケイ化学工業株式会社製）１８ｇをＭＩＢＫ７２ｇに溶解したものを３０分間で滴下した。その後、反応フラスコの気相部に窒素を１２０ｍｌ／ｍｉｎ（７．２Ｌ／ｈ）で流しながら８０~８５℃の範囲で１０時間反応させた。反応後、溶液の温度を３０℃以下まで冷却し、濾過し、得られた結晶をＭＩＢＫ１００ｍｌで洗浄した。
（工程２：脱水）
　温度計、攪拌機、環流冷却器、滴下ロート、還流液抜き取り口および酸性ガス除去設備へ接続されたガス導出部を備えた、５００ｍｌ４つ口フラスコに得られた結晶と無水酢酸３００ｇを入れ、１時間に１０ｇ程度ずつ還流液を留出させながら１２時間加熱還流した。温度は徐々に上昇し最終的に１３０℃を超えた。その後３０℃以下まで冷却し、濾過した。
　この結晶とメタノール１２０ｇを温度計、攪拌機、環流冷却器、滴下ロート、および酸性ガス除去設備へ接続されたガス導出部を備えた、５００ｍｌ４つ口フラスコに入れ５０~６０℃の範囲で３０分間撹拌洗浄した。これにイオン交換水６０ｇを滴下し、３０℃以下まで冷却したのち濾過し、得られた結晶をメタノール６０ｇで洗浄した。得られた結晶を６０℃で乾燥し３０．３ｇの微黄色結晶の２，２’−フェニレンビス（３，１−ベンズオキサジン−４−オン）を得た（化合物Ｂ２）。
　得られた化合物Ｂ２のＨＰＬＣ純度は９８．６％、式（７）の化合物の含有量は０．０５重量％であり、光線反射率測定において最大ピークは４５０ｎｍ、最大光線反射率は１０３％、ナトリウム金属の含有量は２３ｐｐｍ、ＹＩ値は−５．９であった。また収率は、９３．１％であった。
実施例３：化合物Ｂ３
（工程１：アミド化）
　温度計、攪拌機、環流冷却器、滴下ロート、窒素ガス導入部、およびハロゲン化水素除去設備へ接続されたガス導出部を備えた、５００ｍｌ４つ口フラスコ中で、アントラニル酸（三星化学工業社製　ＨＰＬＣ純度９９．２％，Ｎａ量　１００ｐｐｍ）２５ｇをメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）１５０ｇに溶解した。次に溶液の温度を５５~６０℃の範囲とし、テレフタル酸ジクロライド（イハラニッケイ化学工業株式会社製）１８ｇをＭＩＢＫ７２ｇに溶解したものを３０分間で滴下した。その後、反応フラスコの気相部に窒素を３３ｍｌ／ｍｉｎ（２Ｌ／ｈ）で流しながら８０~８５℃の範囲で２０時間反応させた。反応後、溶液の温度を３０℃以下まで冷却し、濾過し、得られた結晶をＭＩＢＫ１００ｍｌで洗浄した。
（工程２：脱水）
　温度計、攪拌機、環流冷却器、滴下ロート、還流液抜き取り口および酸性ガス除去設備へ接続されたガス導出部を備えた、５００ｍｌ４つ口フラスコに得られた結晶と無水酢酸３００ｇを入れ、１時間に１０ｇ程度ずつ還流液を留出させながら１２時間加熱還流した。温度は徐々に上昇し最終的に１３０℃を超えた。その後３０℃以下まで冷却し、濾過した。
　この結晶とメタノール１２０ｇを温度計、攪拌機、環流冷却器、滴下ロート、および酸性ガス除去設備へ接続されたガス導出部を備えた、５００ｍｌ４つ口フラスコに入れ５０~６０℃の範囲で３０分間撹拌洗浄した。これにイオン交換水１２０ｇを滴下し、３０℃以下まで冷却したのち濾過し、得られた結晶をメタノール１２０ｇで洗浄した。得られた結晶を６０℃で乾燥し２９ｇの微黄色結晶の２，２’−フェニレンビス（３，１−ベンズオキサジン−４−オン）を得た（化合物Ｂ３）。
　得られた化合物Ｂ３のＨＰＬＣ純度は９９．４％、式（７）の化合物の含有量は０．０８重量％であり、光線反射率測定において最大ピークは４５０ｎｍ、最大光線反射率は１０１％、ナトリウム金属の含有量は１ｐｐｍ未満、ＹＩ値は０．５であった。また収率は、８９．６％であった。
比較例１：比較品１
（工程１：アミド化）
　温度計、攪拌機、環流冷却器、滴下ロート、窒素ガス導入部、およびハロゲン化水素除去設備へ接続されたガス導出部を備えた、１，０００ｍｌ４つ口フラスコ中で、アシトラニル酸（三星化学工業社製　ＨＰＬＣ純度９９．２％，Ｎａ量１００ｐｐｍ）２５ｇおよび炭酸ナトリウム２０．９ｇを水４４６ｇに溶解してアルカリ水溶液を調整しこのアルカリ水溶液に攪拌下で、テレフタル酸ジクロライド（東京化成工業株式会社製）１８ｇをアセトン１０７ｇに溶解した有機溶媒溶液を２０~３０℃で滴下し、滴下後室温下で２時間、さらにアセトン還流下で１時間混合し反応させた。次いで濃塩酸を加えて反応系を酸性にしてろ過、乾燥し、３４．１ｇのＮ，Ｎ’−ビス（Ｏ−カルボキシフェニル）テレフタルアミドを得た。
（工程２：脱水）
　温度計、攪拌機、環流冷却器、滴下ロート、還流液抜き取り口および酸性ガス除去設備へ接続されたガス導出部を備えた、１，０００ｍｌ４つ口フラスコに得られた結晶と無水酢酸１７８．６ｇを加え無水酢酸の還流下で２時間反応させた。反応物を冷却した後ろ過、乾燥して２７．７ｇの微黄色結晶の２，２’−フェニレンビス（３，１−ベンズオキサジン−４−オン）を得た（比較品１）。
　得られた比較品１のＨＰＬＣ純度は９９．９％、式（７）の化合物の含有量は、０．０４％であり、光線反射率測定において最大ピークは４５０ｎｍ、最大光線反射率は８０％、ナトリウム金属の含有量は２００ｐｐｍ、ＹＩ値は１３．０であった。また収率は、８９．０％であった。
比較例２：比較品２
　温度計、攪拌機、環流冷却器、滴下ロート、窒素ガス導入部、およびハロゲン化水素除去設備へ接続されたガス導出部を備えた、５００ｍｌ４つ口フラスコ中で、市販のイサト酸（ＢＡＳＦ社製　ＨＰＬＣ純度９７．５％，Ｎａ量　２０００ｐｐｍ）をジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）中に６０℃の温度で溶解することによりそれを再結晶した。混合物を放置冷却し、結晶をろ過し、乾燥して、精製イサト酸無水物を得た。
　次に精製乾燥イサト酸無水物２５ｇを約６０℃の温度で乾燥ピリジン２５０ｇに溶解した。Ｅ．Ｉ．ｄｕ．Ｐｏｎｔ　ｄｅ　Ｎｅｍｏｕｒｓ　ａｎｄ　Ｃｏｍｐａｎｙ　からのテレフタロイルジクロリド１５．８を、温度を維持するために僅かに冷却しながら、イサト酸無水物混合物に攪拌しながら緩徐に添加した。沈殿生成物をろ過し、洗浄し、乾燥して４３．８６ｇの微黄色結晶の２，２’−フェニレンビス（３，１−ベンズオキサジン−４−オン）を得た（比較品２）。
　得られた比較品２のＨＰＬＣ純度は９６．７％、式（７）の化合物の含有量は０．２６％であり、光線反射率測定において最大ピークは４５０ｎｍ、最大光線反射率は９１％、ナトリウム金属の含有量は１３ｐｐｍ、ＹＩ値は−５．８であった。また収率は、８５．０％であった。
〈樹脂組成物〉
　成形品の各特性は以下の方法で測定した。
（１）反射率最大ピーク
　算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０３μｍであるキャビティ面を持つ金型を使用し、最大型締め力が１５０Ｔｏｎの射出成形機にて、シリンダー温度３２０℃、金型温度８０℃の条件で、成形サイクル６０秒にて厚さ２ｍｍの５０ｍｍ角板を作成し評価を行った。得られた成形品に、白色標準板を重ねて日本電色株式会社製ＴＲ−１８００ＭＫ−ＩＩを使用して反射率最大ピークを測定した。
（２）全光線透過率
　（１）で得られた成形品を株式会社平山製作所ＰＣ−３０５ＳＩＩＩ／Ｖにて全光線透過率を測定した（条件；Ｃ光源、２度視野）。
（３）成形品色相
　（１）で得られた成形品を東京電色株式会社製ＴＲ−１８００ＭＫ−ＩＩを使用して次式によりＹＩ（条件；Ｃ光源、２度視野）を測定した。
　ＹＩ＝［１００−（１．２８Ｘ−１．０６Ｚ）］／Ｙ
（視覚による色の相違を三刺激値Ｘ，Ｙ，Ｚから数量的に算出する。）
（６）耐湿熱性
　（１）で得られた成形品を株式会社平山製作所ＰＣ−３０５ＳＩＩＩ／Ｖにて１２０℃、相対湿度９５％，で２４時間処理した後のＨａｚｅと処理前のＨａｚｅとの差をΔＨａｚｅとして示した。
　ΔＨａｚｅ＝処理後のＨａｚｅ−処理前のＨａｚｅ
（７）耐候性（耐候促進試験）
　（１）で得られた成形品をサンシャイン・ウェザー・メーター（スガ試験機（株）製：ＷＥＬ−ＳＵＮ−ＨＣ）を使用しブラックパネル温度６３℃、湿度５０％、１８分間水噴霧と１０２分間噴霧無しの計１２０分を１サイクルとして、１，０００時間処理した後のＨａｚｅと処理前のＨａｚｅ差をΔＨａｚｅとして記載した。
　ΔＨａｚｅ＝処理後のＨａｚｅ−処理前のＨａｚｅ
〈実施例４~７、比較例３~６〉
　ビスフェノールＡとホスゲンから界面縮重合法により製造された芳香族ポリカーボネート１００重量部に、表２記載の各種添加剤を各配合量で、さらにアントラキノン系染料（バイエル社製：マクロレックスバイオレットＢ）を０．０００５重量部配合し、ブレンダーにて混合した後、ベント式二軸押出機を用いて溶融混練しペレットを得た。
　芳香族ポリカーボネートに添加する添加剤はそれぞれ配合量の１０~１００倍の濃度を目安に予め芳香族ポリカーボネートとの予備混合物を作成した後、ブレンダーによる全体の混合を行った。ベント式二軸押出機は（株）日本製鋼所製：ＴＥＸ３０α（完全かみ合い、同方向回転、２条ネジスクリュー）を使用した。混練ゾーンはベント口手前に１箇所のタイプとした。押出条件は吐出量２５ｋｇ／ｈ、スクリュー回転数１４０ｒｐｍ、ベントの真空度３ｋＰａであり、また押出温度は第１供給口からダイス部分まで２８０℃とした。
　得られたペレットを１２０℃で５時間、熱風循環式乾燥機にて乾燥した後、射出成形機を用いて、シリンダー温度３２０℃および金型温度８０℃の条件で、厚さ２ｍｍの５０ｍｍ角の角板を成形した。射出成形機は住友重機械工業（株）製ＳＧ２６０Ｍ−ＨＰを使用した。得られた成形板の各評価結果を表２に示した。
　表２中記号表記の各成分は下記の通りである。
（Ａ成分：芳香族ポリカーボネート）
ＰＣ：ビスフェノールＡとホスゲンから界面縮重合法により製造された粘度平均分子量２２，４００の芳香族ポリカーボネートパウダー（帝人化成（株）製：パンライトＬ−１２２５ＷＰ）
（Ｃ成分：安定剤）
Ｃ１：ホスファイト系安定剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製：Ｉｒｇａｆｏｓ１６８）
Ｃ２：ヒンダードフェノール系安定剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製：Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６）
（Ｄ成分：アントラキノン系染料）
Ｄ１：バイエル社のマクロレックスバイオレットＢ
（その他の成分）
離型剤：ペンタエリスリトールと脂肪族カルボン酸からなる分子量９２５のフルエステル（理研ビタミン（株）製：リケスターＥＷ−４００）

発明の効果
　本発明のビスベンゾオキサジノン化合物は、優れた紫外線吸収能を有し、ポリカーボネート樹脂の耐候性を向上させることができる。また本発明のビスベンゾオキサジノン化合物は、純度が高く、ナトリウム金属の含有量が低いので、アルカリ金属によるポリカーボネート樹脂の湿熱下における加水分解を防止することができる。本発明のビスベンゾオキサジノン化合物は、蛍光を発し最大光線反射率が高く、良好なＹＩ値を示すので、ポリカーボネート樹脂の色相を向上させることができる。
　本発明の製造方法によれば、上記反応式に示したように、アミド化合物（３）を製造する際に副生するハロゲン化水素の除去に、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウムなどのようなアルカリ金属化合物を使用しないので、得られるビスベンゾオキサジノン化合物はアルカリ金属塩を実質的に含有することなく純度が高い。また本発明の製造方法によれば、高い収率でビスベンゾオキサジノン化合物を製造することができる。本発明の樹脂組成物は、色相、耐湿熱性、耐候性に優れる。

　本発明の成形品は、車両用透明部材に利用することができる。

Claims (15)

1. 　下記式（４）で表され、
   

   

   （式中、Ｒ^１およびＲ^２はそれぞれ独立に、水素原子、水酸基、炭素数１~３のアルキル基、炭素数１~３のアルコキシ基、炭素数１~３のアシル基、炭素数１~３のアシルオキシ基、炭素数１~３のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基を表す。）
   （ｉ）純度が９８％以上であり、
   （ｉｉ）下記式（７）で表される化合物の含有量が０．１５重量％未満であり、
   

   

   （ｉｉｉ）パウダー状での可視光線領域の光線反射率測定において最大ピークが３８０~４８０ｎｍの範囲にあり、かつ最大光線反射率が１００~１２０％であり、
   （ｉｖ）ナトリウム金属の含有量が５０ｐｐｍ未満であり、
   （ｖ）ＹＩ値が−１０~１０、であるビスベンゾオキサジノン化合物。
2. 　式（４）のＲ^１が水素原子、Ｒ^２が水素原子である請求項１記載のビスベンゾオキサジノン化合物。
3. 　下記式（１）で表されるアントラニル酸誘導体と下記式（２）で表される芳香族ジカルボン酸ジハロゲン化物とを、不活性ガス気流下、有機溶媒中で反応させ、下記式（３）で表されるアミド化合物を製造した後、
   

   

   （式中、Ｒ^１およびＲ^２はそれぞれ独立に、水素原子、水酸基、炭素数１~３のアルキル基、炭素数１~３のアルコキシ基、炭素数１~３のアシル基、炭素数１~３のアシルオキシ基、炭素数１~３のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基を表す。Ｘはハロゲン原子を表す。）
   得られた式（３）で表されるアミド化合物を脱水剤と反応させることからなる請求項１記載のビスベンゾオキサジノン化合物の製造方法。
4. 　有機溶媒は、ケトン類、芳香族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類およびエーテル類からなる群より選ばれる少なくとも一種である請求項３記載の製造方法。
5. 　不活性ガスが窒素である請求項４記載の製造方法。
6. 　脱水剤が無水酢酸である請求項４記載の製造方法。
7. 　式（１）~式（４）の、Ｒ^１が、水素原子、Ｒ^２が水素原子、Ｘが塩素原子である請求項４記載の製造方法。
8. 　芳香族ポリカーボネート（Ａ成分）１００重量部および請求項１の化合物（Ｂ成分）０．０１~５重量部を含有する樹脂組成物。
9. 　さらにリン系安定剤（Ｃ１成分）およびヒンダードフェノール系安定剤（Ｃ２成分）から選ばれる少なくとも１種の安定剤（Ｃ成分）を含有する請求項８記載の樹脂組成物。
10. 　厚さ２ｍｍの成形板にしたときの全光線透過率が７０％以上である請求項８記載の樹脂組成物。
11. 　厚さ２ｍｍの成形板にしたときの湿熱試験前後のΔＨａｚｅが２．０以下である請求項８記載の樹脂組成物。
12. 　厚さ２ｍｍの成形板の耐候促進試験前後のΔＨａｚｅが１．０以下である請求項８記載の樹脂組成物。
13. 　厚さ２ｍｍの成形板に白色標準板を重ねて測定した３８０~４８０ｎｍの範囲の光線反射率の最大ピークが６０~８０％である請求項８記載の樹脂組成物。
14. 　請求項８~１３のいずれか１項に記載の樹脂組成物からなる成形品。
15. 　車両用透明部材である請求項１４に記載の成形品。