WO2012141015A1 - マンデロニトリル化合物の製造方法 - Google Patents
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- C07C255/32—Carboxylic acid nitriles having cyano groups bound to acyclic carbon atoms having cyano groups bound to acyclic carbon atoms of a carbon skeleton containing at least one six-membered aromatic ring
- C07C255/37—Carboxylic acid nitriles having cyano groups bound to acyclic carbon atoms having cyano groups bound to acyclic carbon atoms of a carbon skeleton containing at least one six-membered aromatic ring the carbon skeleton being further substituted by etherified hydroxy groups
Definitions
- the present invention relates to a method for producing a mandelonitrile compound.
- Formula (2) such as 2- (2,5-dimethylphenoxymethyl) mandelonitrile
- Q has an optionally substituted hydrocarbon group having 1 to 14 carbon atoms, an optionally substituted heterocyclic group having 3 to 12 carbon atoms, and a substituent.
- X represents A hydrogen atom, a halogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or an optionally protected hydroxyl group
- M represents an oxy group (—O—), a thio group (—S -), A sulfinyl group (—SO—), a sulfonyl group (—SO 2 —), —NR 1 — or a single bond, wherein R 1 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or 1 to 9 carbon atoms. (Wherein n represents 0, 1 or 2). Is useful, for example, as a raw material or intermediate for producing pharmaceuticals and agricultural chemicals.
- Patent Document 2 discloses that by mixing 2- (4-chloro- ⁇ -methylbenzylideneaminooxymethyl) benzaldehyde, sodium cyanide and sodium bisulfite in a mixed solvent of methanol and water, 2 A method for obtaining-(4-chloro- ⁇ -methylbenzylideneaminooxymethyl) benzaldehyde cyanohydrin is described.
- the present invention is as follows.
- the present invention provides at least one selected from the group consisting of a benzaldehyde compound represented by formula (1) (hereinafter sometimes referred to as “compound (1)”), a metal cyanide and hydrogen cyanide in a solvent (hereinafter referred to as “cyano”). And a process of reacting in the presence of a phase transfer catalyst (hereinafter sometimes referred to as “the present reaction”), the mandelonitrile represented by the formula (2) This is a method for producing a compound (hereinafter sometimes referred to as “compound (2)”).
- Group P2 Lower alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl and butyl groups; lower alkenyl groups such as ethenyl group, 2-propenyl group and crotyl group; lower alkynyl groups such as ethynyl group, 2-propynyl group and 3-butynyl group A halo-lower alkyl group such as a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a chloromethyl group, a 2-bromoethyl group or a 2,3-dichloropropyl group; a lower alkanoyl group such as an acetyl group, a propionyl group or a butyryl group; a phenyl group Aryl group; lower alkoxyphenyl group such as 3-methoxyphenyl and 4-ethoxyphenyl; nitrophenyl group such as 3-nitrophenyl group and 4-nitrophenyl group; phenyl such as
- the aryl group having 6 to 14 carbon atoms which may have a substituent is preferably a phenyl group which may have a substituent, and more preferably a compound of the formula (3) (In the formula, U, V and W are each independently a hydrogen atom or a group selected from the aforementioned group P1.) It is group represented by these.
- U, V and W are preferably each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkyl group, a halo lower alkyl group, a lower alkyl group having a lower alkoxy group, a group represented by -OR, A lower alkylthio group, an optionally protected amino group, a mono-lower alkylamino group or a di-lower alkylamino group;
- Examples of the alkyl group having 1 to 14 carbon atoms in the hydrocarbon group having 1 to 14 carbon atoms which may have a substituent represented by Q include, for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, Examples thereof include a butyl group, an isobutyl group, a t-butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a nonyl group and a decyl group, preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a carbon number. 1 to 4 alkyl groups.
- Examples of the halogen atom, lower alkylthio group and amino group which may be protected are exemplified, and examples thereof include a lower alkylsulfinyl group and a lower alkylsulfonyl group in R 4 and R 5 described later.
- Examples thereof include aryl groups having 6 to 14 carbon atoms which may have substituents as exemplified, and examples thereof include heterocyclic groups having 3 to 12 carbon atoms which may have substituents described later.
- the monocyclic or polycyclic ring which may contain a hetero atom formed by combining R 4 and R 5 is formed together with R 4 and R 5 and the carbon atom and nitrogen atom to which they are bonded, respectively. It is a 4- to 8-membered ring which may contain a hetero atom (for example, an oxygen atom, a nitrogen atom or a sulfur atom), and the ring may form a condensed ring.
- a hetero atom for example, an oxygen atom, a nitrogen atom or a sulfur atom
- Each of the rings or polycycles may have a lower alkyl group, an acyl group, a lower alkylthio group, a lower alkylsulfinyl group, a lower alkylsulfonyl group, a protective group, which may have a substituent represented by R 4 or R 5 described above.
- Q is preferably a phenyl group which may have a substituent or a heterocyclic group which may have a substituent, X is a hydrogen atom, and M is an oxy group ( A compound in which n is 0 or 1; or Q is a group represented by the formula (3) (R 2 is a lower alkyl group, and R 3 has a substituent).
- R 2 is a lower alkyl group, and R 3 has a substituent.
- X is a hydrogen atom
- M is an acylamino group
- n is 1.
- Q is The compound is a phenyl group which may have a substituent, X is a hydrogen atom, M is an oxy group (—O—), and n is 1.
- the pH of the solvent during this reaction is adjusted, for example, by adding an acid and / or a base.
- the acid include organic acids such as formic acid, acetic acid, butyric acid, citric acid, methanesulfonic acid, and p-toluenesulfonic acid; hydrochloric acid (aqueous hydrogen chloride solution), sulfuric acid, phosphoric acid, sodium hydrogensulfate, ammonium chloride, and the like.
- Inorganic acids Two or more acids can be used as necessary.
- the acid is preferably an organic acid with low acidity, and more preferably acetic acid, in terms of easy pH adjustment.
- the reaction temperature of this reaction is, for example, a temperature selected from the range of ⁇ 20 ° C. to 50 ° C., preferably a temperature selected from the range of 0 ° C. to 30 ° C.
- the mixture is preferably kept warm for 0.5 hours to 20 hours, more preferably 1 hour to 10 hours. To do.
- the mandelonitrile compound is useful, for example, as a production raw material or production intermediate for medical and agricultural chemicals. According to the present invention, since a mandelonitrile compound can be produced with an excellent yield, the present invention is industrially applicable as a method for producing a mandelonitrile compound.
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Abstract
溶媒中、下式（１）で示されるベンズアルデヒド化合物と、金属シアン化物及びシアン化水素からなる群より選ばれる少なくとも一種とを、相間移動触媒の存在下で反応させる工程を含むことを特徴とする下式（２）で示されるマンデロニトリル化合物の製造方法。
Description
本発明は、マンデロニトリル化合物の製造方法に関する。
２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）マンデロニトリル等の式（２）
（式中、Ｑは、置換基を有していてもよい炭素数１~１４の炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素数３~１２の複素環基、置換基を有していてもよいメチレンアミノ基、置換基を有していてもよい炭素数２~１５のアシル基、置換基を有していてもよい炭素数１~１４の置換スルホニル基を表す。Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数１~８のアルキル基又は保護されていてもよい水酸基を表す。Ｍは、オキシ基（−Ｏ−）、チオ基（−Ｓ−）、スルフィニル基（−ＳＯ−）、スルホニル基（−ＳＯ２−）、−ＮＲ１−又は単結合を表し、Ｒ１は水素原子、炭素数１~８のアルキル基又は炭素数１~９のアシル基を表す。ｎは、０、１又は２を表す。）
で示されるマンデロニトリル化合物は、例えば、医農薬の製造原料又は製造中間体として有用である。
で示されるマンデロニトリル化合物は、例えば、医農薬の製造原料又は製造中間体として有用である。
マンデロニトリル化合物の製造方法として、例えば、特許文献１には、エーテルと水との混合溶媒中、２−（２，４−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒドとシアン化カリウムと塩化アンモニウムとを混合することにより、２−（２，４−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒドシアンヒドリンを得る方法が記載されている。また、特許文献２には、メタノールと水との混合溶媒中、２−（４−クロロ−α−メチルベンジリデンアミノオキシメチル）ベンズアルデヒドと、シアン化ナトリウムと亜硫酸水素ナトリウムとを混合することにより、２−（４−クロロ−α−メチルベンジリデンアミノオキシメチル）ベンズアルデヒドシアンヒドリンを得る方法が記載されている。
特許文献１及び２記載の方法は、マンデロニトリル化合物の収率が低い点で、必ずしも充分満足できる製造方法ではなかった。
本発明者は鋭意検討し、本発明に至った。
即ち本発明は、以下の通りである。
〔１〕 溶媒中、式（１）
（式中、Ｑは、置換基を有していてもよい炭素数１~１４の炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素数３~１２の複素環基、置換基を有していてもよいメチレンアミノ基、置換基を有していてもよい炭素数２~１５のアシル基、置換基を有していてもよい炭素数１~１４の置換スルホニル基を表す。Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数１~８のアルキル基又は保護されていてもよい水酸基を表す。Ｍは、オキシ基（−Ｏ−）、チオ基（−Ｓ−）、スルフィニル基（−ＳＯ−）、スルホニル基（−ＳＯ２−）、−ＮＲ１−又は単結合を表し、Ｒ１は水素原子、炭素数１~８のアルキル基又は炭素数１~９のアシル基を表す。ｎは、０、１又は２を表す。）
で示されるベンズアルデヒド化合物と、金属シアン化物及びシアン化水素からなる群より選ばれる少なくとも一種とを、相間移動触媒の存在下で反応させる工程を含むことを特徴とする式（２）
（式中、Ｑ、Ｘ、Ｍ及びｎはそれぞれ前記と同じ意味を表す。）
で示されるマンデロニトリル化合物の製造方法。
で示されるベンズアルデヒド化合物と、金属シアン化物及びシアン化水素からなる群より選ばれる少なくとも一種とを、相間移動触媒の存在下で反応させる工程を含むことを特徴とする式（２）
で示されるマンデロニトリル化合物の製造方法。
〔２〕 溶媒が、アルコールを含む前記〔１〕記載の製造方法。
〔３〕 溶媒が、芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素及びハロゲン化炭化水素からなる群より選ばれる少なくとも一種と、水と、アルコールとの混合溶媒である前記〔１〕記載の製造方法。
〔４〕 溶媒が、ｐＨ６~８に調整されたものである前記〔３〕記載の製造方法。
〔５〕 溶媒が、酢酸又は塩酸と混合することによりｐＨ６~８に調整されたものである前記〔４〕記載の製造方法。
〔３〕 溶媒が、芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素及びハロゲン化炭化水素からなる群より選ばれる少なくとも一種と、水と、アルコールとの混合溶媒である前記〔１〕記載の製造方法。
〔４〕 溶媒が、ｐＨ６~８に調整されたものである前記〔３〕記載の製造方法。
〔５〕 溶媒が、酢酸又は塩酸と混合することによりｐＨ６~８に調整されたものである前記〔４〕記載の製造方法。
〔６〕 相間移動触媒が、四級アンモニウム塩、四級ホスホニウム塩又はクラウンエーテルである前記〔１〕~〔５〕のいずれか記載の製造方法。
〔７〕 相間移動触媒が、臭化テトラｎ−ブチルアンモニウム、塩化ベンジルトリエチルアンモニウム及び塩化メチルトリブチルアンモニウムからなる群より選ばれる少なくとも一種である前記〔１〕~〔５〕のいずれか記載の製造方法。
〔８〕 金属シアン化物及びシアン化水素からなる群より選ばれる少なくとも一種の使用量が、前記式（１）で示されるベンズアルデヒド化合物１モルに対して、１．２モル~３．０モルの範囲である前記〔１〕~〔７〕のいずれか記載の製造方法。
〔９〕 式（１）および式（２）において、Ｑが置換基を有していてもよいフェニル基であり、Ｘが水素原子であり、Ｍがオキシ基（−Ｏ−）であり、ｎが１である前記〔１〕~〔８〕のいずれか記載の製造方法。
〔１０〕前記式（１）で示されるベンズアルデヒド化合物と、金属シアン化物及びシアン化水素からなる群より選ばれる少なくとも一種と、相間移動触媒と、芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素及びハロゲン化炭化水素からなる群より選ばれる少なくとも一種と、水と、アルコールとを混合する混合工程、並びに、前記混合工程で得られる混合液に酸を加え、該混合液の水層のｐＨを６~８に保持する工程を含むことを特徴とする前記式（２）で示されるマンデロニトリル化合物の製造方法。
〔１１〕酸が、酢酸又は塩酸である前記〔１０〕記載の製造方法。
〔１２〕相間移動触媒が、四級アンモニウム塩、四級ホスホニウム塩又はクラウンエーテルである前記〔１０〕記載の製造方法。
〔１３〕相間移動触媒が、臭化テトラｎ−ブチルアンモニウム、塩化ベンジルトリエチルアンモニウム及び塩化メチルトリブチルアンモニウムからなる群より選ばれる少なくとも一種である前記〔１１〕記載の製造方法。
〔１４〕金属シアン化物及びシアン化水素からなる群より選ばれる少なくとも一種の使用量が、前記式（１）で示されるベンズアルデヒド化合物１モルに対して、１．２モル~３．０モルの範囲である前記〔１０〕~〔１３〕のいずれか記載の製造方法。
〔１５〕式（１）および式（２）において、Ｑが置換基を有していてもよいフェニル基であり、Ｘが水素原子であり、Ｍがオキシ基（−Ｏ−）であり、ｎが１である前記〔１０〕~〔１４〕のいずれか記載の製造方法。
〔７〕 相間移動触媒が、臭化テトラｎ−ブチルアンモニウム、塩化ベンジルトリエチルアンモニウム及び塩化メチルトリブチルアンモニウムからなる群より選ばれる少なくとも一種である前記〔１〕~〔５〕のいずれか記載の製造方法。
〔８〕 金属シアン化物及びシアン化水素からなる群より選ばれる少なくとも一種の使用量が、前記式（１）で示されるベンズアルデヒド化合物１モルに対して、１．２モル~３．０モルの範囲である前記〔１〕~〔７〕のいずれか記載の製造方法。
〔９〕 式（１）および式（２）において、Ｑが置換基を有していてもよいフェニル基であり、Ｘが水素原子であり、Ｍがオキシ基（−Ｏ−）であり、ｎが１である前記〔１〕~〔８〕のいずれか記載の製造方法。
〔１０〕前記式（１）で示されるベンズアルデヒド化合物と、金属シアン化物及びシアン化水素からなる群より選ばれる少なくとも一種と、相間移動触媒と、芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素及びハロゲン化炭化水素からなる群より選ばれる少なくとも一種と、水と、アルコールとを混合する混合工程、並びに、前記混合工程で得られる混合液に酸を加え、該混合液の水層のｐＨを６~８に保持する工程を含むことを特徴とする前記式（２）で示されるマンデロニトリル化合物の製造方法。
〔１１〕酸が、酢酸又は塩酸である前記〔１０〕記載の製造方法。
〔１２〕相間移動触媒が、四級アンモニウム塩、四級ホスホニウム塩又はクラウンエーテルである前記〔１０〕記載の製造方法。
〔１３〕相間移動触媒が、臭化テトラｎ−ブチルアンモニウム、塩化ベンジルトリエチルアンモニウム及び塩化メチルトリブチルアンモニウムからなる群より選ばれる少なくとも一種である前記〔１１〕記載の製造方法。
〔１４〕金属シアン化物及びシアン化水素からなる群より選ばれる少なくとも一種の使用量が、前記式（１）で示されるベンズアルデヒド化合物１モルに対して、１．２モル~３．０モルの範囲である前記〔１０〕~〔１３〕のいずれか記載の製造方法。
〔１５〕式（１）および式（２）において、Ｑが置換基を有していてもよいフェニル基であり、Ｘが水素原子であり、Ｍがオキシ基（−Ｏ−）であり、ｎが１である前記〔１０〕~〔１４〕のいずれか記載の製造方法。
本発明によれば、マンデロニトリル化合物を優れた収率で製造できる方法を提供することができる。
以下、本発明を詳細に説明する。本発明は、溶媒中、式（１）で示されるベンズアルデヒド化合物（以下、「化合物（１）」ということがある）と、金属シアン化物及びシアン化水素からなる群より選ばれる少なくとも一種（以下、「シアノ化剤」ということがある）とを、相間移動触媒の存在下で反応させる工程（以下、「本反応」ということがある）を有することを特徴とする式（２）で示されるマンデロニトリル化合物（以下、「化合物（２）」ということがある）の製造方法である。
式（１）及び式（２）において、Ｑで表される置換基を有していてもよい炭素数１~１４の炭化水素基における、炭素数１~１４の炭化水素基としては、例えば、炭素数６~１４のアリール基、炭素数１~１４のアルキル基、炭素数２~１４のアルケニル基、炭素数２~１４のアルキニル基が挙げられる。
炭素数６~１４のアリール基としては、例えばフェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基が挙げられ、かかる炭素数６~１４のアリール基は、置換可能な位置に、例えば、１~５個の本反応に不活性な置換基を有していてもよく、好ましくは、１~４個の置換基を有していてもよく、より好ましくは、１~３個の置換基を有していてもよい。複数の置換基を有する場合、それら置換基はそれぞれ独立であり、複数の置換基が同一のものであってもよいし、異なるものであってもよい。炭素数６~１４のアリール基が任意で有する置換基としては、例えば、以下の群Ｐ１から選ばれる少なくとも一種の基が挙げられる。
ここで、以下において、低級とは、その基に含まれる炭素数が１~８であることを意味し、好ましくは、その基に含まれる炭素数は６以下であり、より好ましくは、その基に含まれる炭素数は４以下である。
ここで、以下において、低級とは、その基に含まれる炭素数が１~８であることを意味し、好ましくは、その基に含まれる炭素数は６以下であり、より好ましくは、その基に含まれる炭素数は４以下である。
群Ｐ１：
メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等の低級アルキル基；エテニル基、２−プロペニル基、クロチル等の低級アルケニル基；エチニル基、プロパルギル基、ブチニル基等の低級アルキニル基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の低級シクロアルキル基；メトキシメチル基、エトキシメチル基、２−メトキシエチル基等の、低級アルコキシ基を有する低級アルキル基；シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基等の低級シクロアルケニル基；アセチル基、プロピオニル基、イソブチリル基等の低級アルカノイル基；トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリプロピルシリル基、トリブチルシリル基等のトリ−低級アルキルシリル基；ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、２−ブロモエチル基、２，３−ジクロロプロピル等のハロ低級アルキル基；ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等のジ−低級アルキルアミノ基；フェニル基；ベンジル基、フェネチル基等の、フェニル基を有する低級アルキル基；スチリル基、シンナミル基等の、フェニル基を有する低級アルケニル基；３−フリルメチル基、２−フリルエチル基等の、フリル基を有する低級アルキル基；３−フリルビニル基、２−フリルアリル基等のフリル基を有する低級アルケニル基；フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子；ニトロ基；シアノ基；メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基等の低級アルキルチオ基；メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基等の低級アルコキシカルボニル基；ホルミル基；ホルミル基等で保護されていてもよいアミノ基；メチルアミノ基、エチルアミノ基等のモノ−低級アルキルアミノ基；メチルカルボニルアミノ基等の低級アルキルカルボニル基でモノ置換されているアミノ基；−ＯＲで示される基（Ｒは、水素原子又は以下の群Ｐ２から選ばれる基を表す。）並びに−ＣＨ２−Ｇ−Ｒ’［Ｇは、オキシ基（−Ｏ−）、チオ基（−Ｓ−）又は−ＮＲ’’−（ここで、Ｒ’’は水素原子又は低級アルキル基を表す）を表し、Ｒ’は、フェニル基；２−クロロフェニル基、４−フルオロフェニル基等のハロフェニル基；２−メトキシフェニル基、４−エトキシフェニル基等の低級アルコキシフェニル基；ピリジル基又はピリミジニル基を表す。］
メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等の低級アルキル基；エテニル基、２−プロペニル基、クロチル等の低級アルケニル基；エチニル基、プロパルギル基、ブチニル基等の低級アルキニル基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の低級シクロアルキル基；メトキシメチル基、エトキシメチル基、２−メトキシエチル基等の、低級アルコキシ基を有する低級アルキル基；シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基等の低級シクロアルケニル基；アセチル基、プロピオニル基、イソブチリル基等の低級アルカノイル基；トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリプロピルシリル基、トリブチルシリル基等のトリ−低級アルキルシリル基；ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、２−ブロモエチル基、２，３−ジクロロプロピル等のハロ低級アルキル基；ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等のジ−低級アルキルアミノ基；フェニル基；ベンジル基、フェネチル基等の、フェニル基を有する低級アルキル基；スチリル基、シンナミル基等の、フェニル基を有する低級アルケニル基；３−フリルメチル基、２−フリルエチル基等の、フリル基を有する低級アルキル基；３−フリルビニル基、２−フリルアリル基等のフリル基を有する低級アルケニル基；フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子；ニトロ基；シアノ基；メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基等の低級アルキルチオ基；メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基等の低級アルコキシカルボニル基；ホルミル基；ホルミル基等で保護されていてもよいアミノ基；メチルアミノ基、エチルアミノ基等のモノ−低級アルキルアミノ基；メチルカルボニルアミノ基等の低級アルキルカルボニル基でモノ置換されているアミノ基；−ＯＲで示される基（Ｒは、水素原子又は以下の群Ｐ２から選ばれる基を表す。）並びに−ＣＨ２−Ｇ−Ｒ’［Ｇは、オキシ基（−Ｏ−）、チオ基（−Ｓ−）又は−ＮＲ’’−（ここで、Ｒ’’は水素原子又は低級アルキル基を表す）を表し、Ｒ’は、フェニル基；２−クロロフェニル基、４−フルオロフェニル基等のハロフェニル基；２−メトキシフェニル基、４−エトキシフェニル基等の低級アルコキシフェニル基；ピリジル基又はピリミジニル基を表す。］
群Ｐ２：
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の低級アルキル基；エテニル基、２−プロペニル基、クロチル基等の低級アルケニル基；エチニル基、２−プロピニル基、３−ブチニル基等の低級アルキニル基；ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、２−ブロモエチル基、２，３−ジクロロプロピル基等のハロ低級アルキル基；アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基等の低級アルカノイル基；フェニル基等のアリール基；３−メトキシフェニル、４−エトキシフェニル等の低級アルコキシフェニル基；３−ニトロフェニル基、４−ニトロフェニル基等のニトロフェニル基；ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基等の、フェニル基を有する低級アルキル基；３−シアノフェニルメチル基、４−シアノフェニルエチル基等の、シアノフェニル基を有する低級アルキル基；ベンゾイル基；テトラヒドロピラニル基；ピリジル基；トリフルオロメチルピリジル基；ピリミジニル基；ベンゾチアゾリル基；キノリル基；ベンゾイルメチル基、ベンゾイルエチル基等の、ベンゾイル基を有する低級アルキル基 並びにベンゼンスルホニル基、トルエンスルホニル基等の、低級アルキル基を有するベンゼンスルホニル基
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の低級アルキル基；エテニル基、２−プロペニル基、クロチル基等の低級アルケニル基；エチニル基、２−プロピニル基、３−ブチニル基等の低級アルキニル基；ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、２−ブロモエチル基、２，３−ジクロロプロピル基等のハロ低級アルキル基；アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基等の低級アルカノイル基；フェニル基等のアリール基；３−メトキシフェニル、４−エトキシフェニル等の低級アルコキシフェニル基；３−ニトロフェニル基、４−ニトロフェニル基等のニトロフェニル基；ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基等の、フェニル基を有する低級アルキル基；３−シアノフェニルメチル基、４−シアノフェニルエチル基等の、シアノフェニル基を有する低級アルキル基；ベンゾイル基；テトラヒドロピラニル基；ピリジル基；トリフルオロメチルピリジル基；ピリミジニル基；ベンゾチアゾリル基；キノリル基；ベンゾイルメチル基、ベンゾイルエチル基等の、ベンゾイル基を有する低級アルキル基 並びにベンゼンスルホニル基、トルエンスルホニル基等の、低級アルキル基を有するベンゼンスルホニル基
置換基を有していてもよい炭素数６~１４のアリール基は、好ましくは、置換基を有していてもよいフェニル基であり、より好ましくは、式（３）
（式中、Ｕ、Ｖ及びＷはそれぞれ独立に、水素原子又は上述の群Ｐ１から選ばれる基である。）
で表される基である。式（３）において、Ｕ、Ｖ及びＷはそれぞれ独立に、好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、低級アルコキシ基を有する低級アルキル基、−ＯＲで示される基、低級アルキルチオ基、保護されていてもよいアミノ基又はモノ−低級アルキルアミノ基又はジ−低級アルキルアミノ基である。
で表される基である。式（３）において、Ｕ、Ｖ及びＷはそれぞれ独立に、好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、低級アルコキシ基を有する低級アルキル基、−ＯＲで示される基、低級アルキルチオ基、保護されていてもよいアミノ基又はモノ−低級アルキルアミノ基又はジ−低級アルキルアミノ基である。
Ｕ、Ｖ及びＷはそれぞれ独立に、好ましくは、水素原子、塩素原子、メチル基、エチル基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、メチルチオ基又はジメチルアミノ基であり、より好ましくは、水素原子、塩素原子、メチル基又はメトキシ基である。
Ｑで表される置換基を有していてもよい炭素数１~１４の炭化水素基における、炭素数１~１４のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基が挙げられ、好ましくは炭素数１~８のアルキル基であり、より好ましくは炭素数１~４のアルキル基である。
Ｑで表される置換基を有していてもよい炭素数１~１４の炭化水素基における、炭素数２~１４のアルケニル基としては、例えば、エテニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、イソプロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、イソブテニル基、１−ペンテニル基、２−ペンテニル基、１−ヘキセニル基、２−ヘキセニル基、１，３−ヘキサジエニル基、２，４−ヘキサジエニル基、３，５−ヘキサジエニル基が挙げられ、好ましくは炭素数２~８のアルケニル基であり、より好ましくは炭素数３~６のアルケニル基である。
Ｑで表される置換基を有していてもよい炭素数１~１４の炭化水素基における、炭素数２~１４のアルキニル基としては、例えば、エチニル基、プロパルギル基、１−ブチニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基が挙げられ、好ましくは炭素数２~６のアルキニル基であり、より好ましくは炭素数２~４のアルキニル基である。
Ｑで表される置換基を有していてもよい炭素数１~１４の炭化水素基における、炭素数１~１４のアルキル基、炭素数２~１４のアルケニル基及び炭素数２~１４のアルキニル基は、置換可能な位置に本反応に不活性な置換基を有していてもよく、これらアルキル基、アルケニル基及びアルキニル基が任意で有する置換基としては、例えば、Ｕ、Ｖ及びＷにおいて例示したハロゲン原子、低級アルキルチオ基、保護されていてもよいアミノ基が挙げられ、また例えば、後述するＲ４及びＲ５における低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基が挙げられ、また例えば、Ｑにおいて例示した置換基を有してもよい炭素数６~１４のアリール基が挙げられ、また例えば、後述する置換基を有していてもよい炭素数３~１２の複素環基が挙げられ、さらに例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基等の炭素数１~８のアルコキシ基（当該アルコキシ基の炭素数は、好ましくは１~４である）、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子（該ハロゲン原子は、好ましくはフッ素原子である）を有するハロアルコキシ基（具体的には、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、クロロメトキシ基等）、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数１~８のアルコキシ基（当該アルコキシ基の炭素数は、好ましくは１~４である）を有するアルコキシアルコキシ基（具体的には、メトキシメトキシ基、２−メトキシエトキシ基、エトキシメトキシ基等）；式（５）
（式中、Ｒ４及びＲ５はそれぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい低級アルキル基、アシル基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、保護されていてもよいアミノ基、シクロアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよい複素環基を表すか、或いはＲ４とＲ５とが結合してヘテロ原子を含んでいてもよい単環若しくは多環を形成する。）で示される基が挙げられる。
Ｒ４又はＲ５で表される置換基を有していてもよい低級アルキル基としては、例えば、Ｕ、Ｖ及びＷにおいて例示した低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、低級アルコキシ基を有する低級アルキル基と同様のものが挙げられ、好ましくは、メチル基又はエチル基である。
Ｒ４又はＲ５で表されるアシル基としては、例えば、低級アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基等が挙げられる。該低級アルキルカルボニル基としては、例えば、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基が挙げられる。該アリールカルボニル基としては、例えば、ベンゾイル基、ナフトイル基等の炭素数７~１５のアリールカルボニル基が挙げられる。
Ｒ４又はＲ５で表される低級アルキルチオ基、保護されていてもよいアミノ基としては、それぞれＵ、Ｖ及びＷにおいて例示した低級アルキルチオ基と同様の基、保護されていてもよいアミノ基と同様の基が挙げられる。
Ｒ４又はＲ５で表されるアシル基としては、例えば、低級アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基等が挙げられる。該低級アルキルカルボニル基としては、例えば、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基が挙げられる。該アリールカルボニル基としては、例えば、ベンゾイル基、ナフトイル基等の炭素数７~１５のアリールカルボニル基が挙げられる。
Ｒ４又はＲ５で表される低級アルキルチオ基、保護されていてもよいアミノ基としては、それぞれＵ、Ｖ及びＷにおいて例示した低級アルキルチオ基と同様の基、保護されていてもよいアミノ基と同様の基が挙げられる。
Ｒ４又はＲ５で表される低級アルキルスルフィニル基としては、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、プロピルスルフィニル基が挙げられ、好ましくは、メチルスルフィニル基である。
Ｒ４又はＲ５で表される低級アルキルスルホニル基としては、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基等が挙げられ、好ましくは、メチルスルホニル基である。
Ｒ４又はＲ５で表されるシクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等の炭素数３~７のシクロアルキル基が挙げられ、好ましくは、炭素数５~６のシクロアルキル基が挙げられる。
Ｒ４又はＲ５で表される低級アルキルスルホニル基としては、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基等が挙げられ、好ましくは、メチルスルホニル基である。
Ｒ４又はＲ５で表されるシクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等の炭素数３~７のシクロアルキル基が挙げられ、好ましくは、炭素数５~６のシクロアルキル基が挙げられる。
Ｒ４又はＲ５で表される置換基を有していてもよいアリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基（例えば、１−ナフチル基）、フルオレニル基等の炭素数６~１４のアリール基が挙げられ、好ましくは、フェニル基である。該アリール基は、置換可能な位置に、例えば１~３個の置換基を有していてもよい。該アリール基が任意で有する置換基としては、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい低級アルキル基、−ＯＲで示される基（Ｒは、前記と同じ意味を表す。）、低級アルキルチオ基、保護されていてもよいアミノ基、ニトロ基、フェニル基、シアノ基等が挙げられる。
Ｒ４又はＲ５で表されるアリール基が任意で有する置換基としてのハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。置換基を有していてもよい低級アルキル基としては、Ｕ、Ｖ及びＷにおいて例示した低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、低級アルコキシ基を有する低級アルキル基と同様のものが挙げられ、好ましくは、低級アルキル基又はハロ低級アルキル基であり、より好ましくは、メチル基又はトリフルオロメチル基である。−ＯＲで示される基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等の低級アルコキシ基；ビニルオキシ基、アリルオキシ基、クロチルオキシ基等の低級アルケニルオキシ基；エチニルオキシ基、プロパルギルオキシ基、ブチニルオキシ基等の低級アルキニルオキシ基；ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、クロロメトキシ基等のハロ低級アルコキシ基；フェノキシ基、ナフトキシ基等のアリールオキシ基が挙げられ、好ましくは、メトキシ基、アリルオキシ基、プロパルギルオキシ基又はジフルオロメトキシ基である。低級アルキルチオ基としては、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基が挙げられ、好ましくは、メチルチオ基又はエチルチオ基であり、より好ましくは、メチルチオ基である。保護されていてもよいアミノ基としては、例えば、アミノ基；メチルアミノ基、エチルアミノ基等のモノ−低級アルキルアミノ基；ジメチルアミノ基等のジ−低級アルキルアミノ基が挙げられる。
Ｒ４又はＲ５で表される置換基を有していてもよい複素環基としては、環内にたとえば１~４個、好ましくは１~２個のヘテロ原子（例えば、酸素原子、窒素原子、硫黄原子）を含有する複素環基が挙げられ、例えば、ピリジル基、ピリダジニル基、ピラゾリル基、ピリミジニル基、フリル基、チエニル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、キノリル基、キナゾリニル基、ピラジニル基、モルホリノ基、ピペラジニル基が挙げられる。複素環基は、好ましくは、フリル基（例えば、２−フリル基）、チエニル基（例えば、２−チエニル基）、ピリジル基（例えば、２−ピリジル基）、ピラジニル基（例えば、２−ピラジニル基）、ピリミジニル基（例えば、２−ピリミジニル基）又はモルホリノ基である。該複素環基は、置換可能な位置に置換基を有していてもよく、かかる置換基としては、Ｒ４又はＲ５で表されるアリール基が任意で有する置換基と同様の基が挙げられる。
Ｒ４とＲ５とが結合して形成されるヘテロ原子を含んでいてもよい単環若しくは多環は、Ｒ４及びＲ５と、これらがそれぞれ結合する炭素原子及び窒素原子と共に形成される、ヘテロ原子（例えば、酸素原子、窒素原子、硫黄原子）を含有していてもよい４~８員環であり、該環は縮合環を形成していてもよい。かかる単環若しくは多環としては、例えば、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、インダン環、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン環、５，６，７，８−テトラヒドロキノリン環、４，５，６，７−テトラヒドロベンゾ［ｂ］フラン環が挙げられる。
Ｑで表される置換基を有していてもよい炭素数３~１２の複素環基における、炭素数３~１２の複素環基としては、例えば、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群より選ばれる１~４個のヘテロ原子を環構成原子として含有する５~７員複素環基が挙げられる。これらの複素環基は、さらに別の複素環またはベンゼン環と縮合環を形成していてもよい。炭素数３~１２の複素環基としては、例えば、ピリジン−２−イル基、ピリジン−３−イル基等のピリジル基；ピリミジン−４−イル基、ピリミジン−２−イル基等のピリミジニル基；キノリン−４−イル基等のキノリル基；キナゾリン−４−イル基等のキナゾリニル基；ベンゾチアゾール−２−イル基等のベンゾチアゾリル基；ピラゾール−５−イル基等のピラゾリル基が挙げられ、好ましくはピリジル基である。かかる炭素数３~１２の複素環基は、置換可能な位置に、例えば、１~５個の本反応に不活性な置換基を有していてもよく、好ましくは、１~４個の置換基を有していてもよく、より好ましくは、１~３個の置換基を有していてもよい。複数の置換基を有する場合、それら置換基はそれぞれ独立であり、複数の置換基が同一のものであってもよいし、異なるものであってもよい。
Ｑで表される置換基を有していてもよいメチレンアミノ基は、例えば式（４）
（式中、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい低級アルキル基、アシル基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、保護されていてもよいアミノ基、低級シクロアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよい複素環基を表すか、或いはＲ２とＲ３とが結合してヘテロ原子を含んでいてもよい単環若しくは多環を形成する。）で表される基である。Ｒ２又はＲ３で表される置換基を有していてもよい低級アルキル基、アシル基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、保護されていてもよいアミノ基、低級シクロアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよい複素環基、Ｒ２とＲ３とが結合して形成されるヘテロ原子を含んでいてもよい単環若しくは多環は、それぞれ、上述のＲ４又はＲ５で表される置換基を有していてもよい低級アルキル基、アシル基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、保護されていてもよいアミノ基、低級シクロアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよい複素環基、Ｒ２とＲ３とが結合して形成されるヘテロ原子を含んでいてもよい単環若しくは多環と同様のものが挙げられる。
Ｑで表される置換基を有していてもよい炭素数２~１５のアシル基としては、例えば、置換基を有していてもよいアルキルカルボニル基、置換基を有していてもよいフェニルカルボニル基、置換基を有していてもよいナフチルカルボニル基、置換基を有していてもよい複素環基を有するカルボニル基が挙げられる。かかるアシル基における置換基を有していてもよいアルキル（基）としては、Ｕ、Ｖ及びＷにおいて例示した低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、低級アルコキシ基を有する低級アルキル基と同様のものが挙げられ、置換基を有していてもよいフェニル（基）、置換基を有していてもよいナフチル（基）、置換基を有していてもよい複素環基としては、それぞれＱにおいて例示した基と同様のものが挙げられる。
Ｑで表される置換基を有していてもよい炭素数１~１４の置換スルホニル基としては、例えば、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基、置換基を有していてもよいフェニルスルホニル基、置換基を有していてもよいナフチルスルホニル基、置換基を有していてもよい複素環基を有するスルホニル基が挙げられる。かかる置換スルホニル基における置換基を有していてもよいアルキル（基）としては、Ｕ、Ｖ及びＷにおいて例示した低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、低級アルコキシ基を有する低級アルキル基と同様のものが挙げられ、置換基を有していてもよいフェニル（基）、置換基を有していてもよいナフチル（基）、置換基を有していてもよい複素環基としては、それぞれＱにおいて例示した基と同様のものが挙げられる。
Ｑは、好ましくは、式（３）で表される基、置換基を有していてもよいピリジル基、置換基を有していてもよいピリミジニル基、置換基を有していてもよいキノリル基、置換基を有していてもよいキナゾリニル基、置換基を有していてもよいベンゾチアゾリル基、置換基を有していてもよいピラゾリル基、または式（４）で表される基である。
Ｘは水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数１~８のアルキル基又は保護されていてもよい水酸基を表し、Ｘが複数である場合、これらは同一であってもよいし、異なっていてもよい。Ｘで表されるハロゲン原子としては、例えば、群Ｐ１において例示したハロゲン原子と同様のものが挙げられ、置換基を有していてもよい炭素数１~８のアルキル基としては、例えば、Ｕ、Ｖ及びＷにおいて例示した低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、低級アルコキシ基を有する低級アルキル基と同様のものが挙げられ、保護されていてもよい水酸基としては、上述の−ＯＲで示される基と同様のものが挙げられ、Ｘは、好ましくは水素原子である。
Ｒ１で表される炭素数１~８のアルキル基としては、例えば、Ｕ、Ｖ及びＷにおいて例示した低級アルキル基と同様のものが挙げられ、好ましくは、メチル基である。Ｒ１で表される炭素数１~９のアシル基としては、例えば、ホルミル基；アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基等の低級アルキル基を有するカルボニル基並びにベンゾイル基が挙げられ、好ましくは、アセチル基である。
Ｍは、好ましくは、オキシ基（−Ｏ−）、チオ基（−Ｓ−）又は−ＮＲ１−であり、より好ましくは、オキシ基（−Ｏ−）である。
ｎは、好ましくは、０又は１であり、より好ましくは１である。
化合物（１）は、好ましくは、Ｑが置換基を有していてもよいフェニル基又は置換基を有していてもよい複素環基であり、Ｘが水素原子であり、Ｍがオキシ基（−Ｏ−）であり、ｎが０又は１である化合物；或いは、Ｑが式（３）で表される基（Ｒ２が低級アルキル基であり、Ｒ３が置換基を有していてもよいフェニル基又は置換基を有していてもよいモルホリノ基である）であり、Ｘが水素原子であり、Ｍがアシルアミノ基であり、ｎが１である化合物であり、より好ましくは、Ｑが置換基を有していてもよいフェニル基であり、Ｘが水素原子であり、Ｍがオキシ基（−Ｏ−）であり、ｎが１である化合物である。
好ましい化合物（１）として、具体的には、例えば、Ｑがフェニル基であり、Ｘが水素原子であり、Ｍがオキシ基（−Ｏ−）であり、ｎが０である化合物；Ｑが３，４−ジメチルフェニル基であり、Ｘが水素原子であり、Ｍがオキシ基（−Ｏ−）であり、ｎが０である化合物；Ｑが３，５−ジメチルフェニル基であり、Ｘが水素原子であり、Ｍがオキシ基（−Ｏ−）であり、ｎが０である化合物；Ｑが２−メチルフェニル基であり、Ｘが水素原子であり、Ｍがオキシ基（−Ｏ−）であり、ｎが１である化合物；Ｑが２，５−ジメチルフェニル基であり、Ｘが水素原子であり、Ｍがオキシ基（−Ｏ−）であり、ｎが１である化合物；Ｑが４−クロロ−２−メチルフェニル基であり、Ｘが水素原子であり、Ｍがオキシ基（−Ｏ−）であり、ｎが１である化合物；Ｑが２，５−ジメチルフェニル基であり、Ｘが水素原子であり、Ｍがオキシ基（−Ｏ−）であり、ｎが１である化合物；Ｑが３−クロロ−５−トリフルオロメチルピリジン−２−イル基であり、Ｘが水素原子であり、Ｍがオキシ基（−Ｏ−）であり、ｎが１である化合物；Ｑが３，５−ジクロロピリジン−２−イル基であり、Ｘが水素原子であり、Ｍがオキシ基（−Ｏ−）であり、ｎが１である化合物；Ｑが３−トリフルオロメチル−５−クロロピリジン−２−イル基であり、Ｘが水素原子であり、Ｍがオキシ基（−Ｏ−）であり、ｎが１である化合物；Ｑが３−クロロピリジン−２−イル基であり、Ｘが水素原子であり、Ｍがオキシ基（−Ｏ−）であり、ｎが１である化合物；Ｑがα−メチル−４−クロロベンジリデンアミノ基であり、Ｘが水素原子であり、Ｍがオキシ基（−Ｏ−）であり、ｎが１である化合物；Ｑがα−メチル−４−メトキシベンジリデンアミノ基であり、Ｘが水素原子であり、Ｍがオキシ基（−Ｏ−）であり、ｎが１である化合物；Ｑが４，α−ジメチルベンジリデンアミノ基であり、Ｘが水素原子であり、Ｍがオキシ基（−Ｏ−）であり、ｎが１である化合物；Ｑがα−メチル−４−トリフルオロメチルベンジリデンアミノ基であり、Ｘが水素原子であり、Ｍがオキシ基（−Ｏ−）であり、ｎが１である化合物が挙げられ、Ｑが２，５−ジメチルフェニル基であり、Ｘが水素原子であり、Ｍがオキシ基（−Ｏ−）であり、ｎが１である化合物がより一層好ましい。
本反応で使用されるシアノ化剤としては、例えば、シアン化ナトリウム、シアン化カリウム、シアン化水素が挙げられる。シアノ化剤は、水に溶解させて用いることもできるし、メタノール等のアルコールに溶解させて用いることもできる。シアノ化剤の使用量は、化合物（１）１モルに対して、好ましくは１．２モル~３．０モルの範囲であり、より好ましくは１．５モル~２．０モルの範囲である。尚、シアン化物の使用量が３．０モルよりも多い場合、未反応のシアノ化剤がより多く残存する傾向にある。
本反応で使用される相間移動触媒としては、例えば、臭化テトラｎ−ブチルアンモニウム（以下、「ＴＢＡＢ」ということがある。）、塩化ベンジルトリエチルアンモニウム、塩化メチルトリブチルアンモニウム等の四級アンモニウム塩；塩化テトラｎ−ブチルホスホニウム等の四級ホスホニウム塩；１５−クラウン−５、１８−クラウン−６等のクラウンエーテルが挙げられ、好ましくは、四級アンモニウム塩であり、より好ましくは、臭化テトラｎ−ブチルアンモニウム又は塩化メチルトリブチルアンモニウムである。相間移動触媒は、必要に応じて二種以上を用いることができる。相間移動触媒の使用量は、ベンズ化合物（１）１モルに対して、例えば０．００１モル~１モルの範囲であり、好ましくは０．０１モル~０．１モルの範囲である。相間移動触媒の非存在下で本反応を行うと、オルト位に所定の置換基を有する化合物（１）の反応性が低く、十分な転化率が得られない傾向にある。
本反応は、溶媒中で行われ、例えば、有機溶媒中又は有機溶媒と水との混合溶媒中で行われる。有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、１−プロパノール、エチレングリコール、１−ブタノール等のアルコール（該アルコールの炭素数は、好ましくは１~４である）；ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン等のエーテル；酢酸エチル、酢酸ブチル、酪酸エチル等のエステル；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素；ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素；ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン等の脂肪族炭化水素；シクロペンタン、シクロヘキサン等の脂環式炭化水素が挙げられる。溶媒は、化合物（２）の収率を向上させる点で、アルコール、エーテル、エステル等の極性の高い有機溶媒を含むものであることが好ましく、アルコールを含むものであることがより好ましい。また、溶媒は、本反応の終了後にシアノ化剤の除去を容易にする点で、芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素及びハロゲン化炭化水素からなる群より選ばれる少なくとも一種（以下、「低極性溶媒」ということがある）と、水とを用いることが好ましい。本反応は、アルコールを含む溶媒中で行うことが好ましく、芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素及びハロゲン化炭化水素からなる群より選ばれる少なくとも一種の溶媒と、水と、アルコールとの混合溶媒中で行うことがより好ましい。
有機溶媒の使用量は、化合物（１）１重量部に対して、例えば０．５重量部~１０重量部の範囲であり、好ましくは１重量部~５重量部の範囲である。水の使用量は、化合物（１）１重量部に対して、例えば０．３重量部~５重量部の範囲であり、好ましくは０．５重量部~２重量部の範囲である。
有機溶媒の使用量は、化合物（１）１重量部に対して、例えば０．５重量部~１０重量部の範囲であり、好ましくは１重量部~５重量部の範囲である。水の使用量は、化合物（１）１重量部に対して、例えば０．３重量部~５重量部の範囲であり、好ましくは０．５重量部~２重量部の範囲である。
本反応に水を用いる場合、本反応中における溶媒のｐＨを調整することが好ましく、化合物（２）の収率を向上させる点で、溶媒をｐＨ５~９に調整することがより好ましく、溶媒をｐＨ６~８に調整することがさらに好ましく、溶媒をｐＨ７．２~７．６に調整することがより一層好ましい。かかる、水を用いた場合の本反応中における溶媒のｐＨを調整する方法としては、例えば、本反応中の混合液のうち、水層のｐＨを測定し、該測定値が所望のｐＨより大きい場合には酸を加え、また、該測定値が所望のｐＨより小さい場合には塩基を加えることにより、本反応中の混合液のｐＨを調整する方法が挙げられる。より詳しくは次の通りである。
本反応中における溶媒のｐＨは、例えば、酸及び／又は塩基を添加することにより調整される。かかる酸としては、例えば、蟻酸、酢酸、酪酸、クエン酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の有機酸；塩酸（塩化水素の水溶液）、硫酸、りん酸、硫酸水素ナトリウム、塩化アンモニウム等の無機酸が挙げられる。酸は、必要に応じて二種以上用いることができる。酸は、ｐＨの調整が容易である点で、酸性度の低い有機酸が好ましく、酢酸がより好ましい。酸の使用量は、シアノ化剤１モルに対して、１モル程度~１．１モル程度の範囲であり、上述した所定のｐＨになる量を使用するのが好ましい。塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、炭酸水素ナトリウム等が挙げられる。塩基は、本反応における水のｐＨが、例えば５未満である場合、また例えば６未満である場合、また例えば７未満である場合に用いられる。
本反応は、例えば、以下の（ａ）~（ｄ）に記載される方法により行うことができる。
（ａ） 有機溶媒、水、相間移動触媒及び化合物（１）の混合物に、シアノ化剤の水溶液を加え、そこへ、酸を一括添加又は滴下する方法；
（ｂ） 有機溶媒、水、相間移動触媒及び化合物（１）の混合物に、シアノ化剤の水溶液と酸とを並行して添加する方法；
（ｃ） 有機溶媒、水、相間移動触媒及び化合物（１）の混合物に、酸を加え、そこへ、シアノ化剤の水溶液を一括添加又は滴下する方法；
（ｄ） シアノ化剤の水溶液、酸及び相間移動触媒の混合物に、有機溶媒に溶解させた化合物（１）を加える方法。
本反応は、好ましくは、本反応中における水のｐＨを好ましい範囲に調整する点で、（ａ）に記載される方法又は（ｂ）に記載される方法により行われる。シアノ化剤の水溶液及び／又は酸を滴下する場合、滴下時間は、例えば０．５時間~２０時間の範囲であり、好ましくは１時間~１０時間の範囲である。
（ａ） 有機溶媒、水、相間移動触媒及び化合物（１）の混合物に、シアノ化剤の水溶液を加え、そこへ、酸を一括添加又は滴下する方法；
（ｂ） 有機溶媒、水、相間移動触媒及び化合物（１）の混合物に、シアノ化剤の水溶液と酸とを並行して添加する方法；
（ｃ） 有機溶媒、水、相間移動触媒及び化合物（１）の混合物に、酸を加え、そこへ、シアノ化剤の水溶液を一括添加又は滴下する方法；
（ｄ） シアノ化剤の水溶液、酸及び相間移動触媒の混合物に、有機溶媒に溶解させた化合物（１）を加える方法。
本反応は、好ましくは、本反応中における水のｐＨを好ましい範囲に調整する点で、（ａ）に記載される方法又は（ｂ）に記載される方法により行われる。シアノ化剤の水溶液及び／又は酸を滴下する場合、滴下時間は、例えば０．５時間~２０時間の範囲であり、好ましくは１時間~１０時間の範囲である。
本反応の反応温度は、例えば−２０℃~５０℃の範囲から選択される温度であり、好ましくは０℃~３０℃の範囲から選択される温度である。本反応では、化合物（１）、シアノ化剤及び必要に応じて酸を混合した後、好ましくは０．５時間~２０時間の範囲、より好ましくは１時間~１０時間の範囲、保温して攪拌する。
本反応の終了後、化合物（２）を優れた収率で得ることができる。化合物（２）は、必要に応じて精製してもよく、例えば、本反応により得られる反応混合物に塩酸（塩化水素の水溶液）や硫酸水溶液等の酸性水を添加した後、油水分離し、得られる油層から溶媒等を除去することにより、化合物（２）を精製することができる。この際、油層中にｐ−トルエンスルホン酸やリン酸２−エチルヘキシルなどの安定化剤を添加するのが好ましい。
また、油水分離した後に、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素；ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン等の脂肪族炭化水素；シクロペンタン、シクロヘキサン等の脂環式炭化水素を貧溶媒として添加する、又は、油水分離した後に冷却操作に付す等により、化合物（２）を晶析させることもできる。
また、油水分離した後に、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素；ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン等の脂肪族炭化水素；シクロペンタン、シクロヘキサン等の脂環式炭化水素を貧溶媒として添加する、又は、油水分離した後に冷却操作に付す等により、化合物（２）を晶析させることもできる。
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。以下、高速液体クロマトグラフィーにより反応混合物を分析し、反応混合物中に含まれる化合物（１）及び化合物（２）の量を決定し、化合物（１）の転化率及び残存率、並びに化合物（２）の収率を算出した。
実施例１
２００ｍＬフラスコに、２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒド１０．０２ｇ（含量９４．６重量％、０．０３９モル）、キシレン２０．０５ｇ、メタノール１４．２６ｇ、水３．８７ｇ及びＴＢＡＢ０．２６ｇ（含量９８．０重量％、０．０００８モル）を入れて混合した後、撹拌しながら１０℃に冷却した。続いて、該混合物に、シアン化ナトリウム２．９８ｇ（含量９７．０重量％、０．０５９モル（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒド１モルに対して１．５モル））を水８．７０ｇに溶解させた水溶液を加え、酢酸３．６８ｇ（含量９９．７重量％、０．０６１モル）を水０．４２ｇに溶解させた水溶液を０．５時間で滴下した。滴下後の水層のｐＨは７．７６であり、酢酸０．２６ｇを加えｐＨ調整を行いｐＨ７．３７とした。ｐＨ調整後、反応混合物を１０℃で３時間撹拌した。この反応混合物を分析したところ、２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒドの転化率は９５．９％、残存率は４．１％であり、２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）マンデロニトリルの収率は９５．９％であった。
２００ｍＬフラスコに、２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒド１０．０２ｇ（含量９４．６重量％、０．０３９モル）、キシレン２０．０５ｇ、メタノール１４．２６ｇ、水３．８７ｇ及びＴＢＡＢ０．２６ｇ（含量９８．０重量％、０．０００８モル）を入れて混合した後、撹拌しながら１０℃に冷却した。続いて、該混合物に、シアン化ナトリウム２．９８ｇ（含量９７．０重量％、０．０５９モル（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒド１モルに対して１．５モル））を水８．７０ｇに溶解させた水溶液を加え、酢酸３．６８ｇ（含量９９．７重量％、０．０６１モル）を水０．４２ｇに溶解させた水溶液を０．５時間で滴下した。滴下後の水層のｐＨは７．７６であり、酢酸０．２６ｇを加えｐＨ調整を行いｐＨ７．３７とした。ｐＨ調整後、反応混合物を１０℃で３時間撹拌した。この反応混合物を分析したところ、２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒドの転化率は９５．９％、残存率は４．１％であり、２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）マンデロニトリルの収率は９５．９％であった。
実施例２
２００ｍＬフラスコに、２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒド２０．０３ｇ（含量９４．６重量％、０．０７９モル）、キシレン４０．０１ｇ、メタノール２８．３８ｇ、水７．０１ｇ及びＴＢＡＢ０．５２ｇ（含量９８．０重量％、０．００２モル）を入れて混合した後、撹拌しながら１０℃に冷却した。続いて、該混合物に、シアン化ナトリウム５．５８ｇ（含量９７．０重量％、０．１１モル（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒド１モルに対して１．４モル））を水１６．２５ｇに溶解させた水溶液を加え、酢酸６．８９ｇ（含量９９．７重量％、０．１１モル）を水０．７７ｇに溶解させた水溶液を０．５時間で滴下した。滴下後の水層のｐＨは７．８６であり、酢酸０．４３ｇを加えｐＨ調整を行いｐＨ７．３８とした。ｐＨ調整後、反応混合物を１０℃で３時間撹拌した。この反応混合物を分析したところ、２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒドの転化率は９５．６％、残存率は４．４％であり、２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）マンデロニトリルの収率は９５．６％であった。
２００ｍＬフラスコに、２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒド２０．０３ｇ（含量９４．６重量％、０．０７９モル）、キシレン４０．０１ｇ、メタノール２８．３８ｇ、水７．０１ｇ及びＴＢＡＢ０．５２ｇ（含量９８．０重量％、０．００２モル）を入れて混合した後、撹拌しながら１０℃に冷却した。続いて、該混合物に、シアン化ナトリウム５．５８ｇ（含量９７．０重量％、０．１１モル（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒド１モルに対して１．４モル））を水１６．２５ｇに溶解させた水溶液を加え、酢酸６．８９ｇ（含量９９．７重量％、０．１１モル）を水０．７７ｇに溶解させた水溶液を０．５時間で滴下した。滴下後の水層のｐＨは７．８６であり、酢酸０．４３ｇを加えｐＨ調整を行いｐＨ７．３８とした。ｐＨ調整後、反応混合物を１０℃で３時間撹拌した。この反応混合物を分析したところ、２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒドの転化率は９５．６％、残存率は４．４％であり、２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）マンデロニトリルの収率は９５．６％であった。
実施例３
２００ｍＬフラスコに、２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒド１０．０３ｇ（含量９８．２重量％、０．０４０モル）、キシレン２０．６４ｇ、メタノール１４．８３ｇ及び塩化ベンジルトリエチルアンモニウム０．２２ｇ（含量９８．０重量％、０．００１モル）を入れて混合した後、撹拌しながら１０℃に冷却した。続いて、シアン化ナトリウム３．１１ｇ（含量９７．０重量％、０．０６２モル（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒド１モルに対して１．５モル））を水９．０６ｇに溶解させた水溶液と、酢酸３．８４ｇ（含量９９．７重量％、０．０６４モル）を水４．４２ｇに溶解させた水溶液とを、該混合物にｐＨ６~８に保ちながら０．５時間で並行して滴下した。滴下後の水層のｐＨは７．６１であり、酢酸０．２５ｇを加えｐＨ調整を行いｐＨ７．１２とした。ｐＨ調整後、反応混合物を１０℃で７時間撹拌した。この反応混合物を分析したところ、２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒドの転化率は９６．４％、残存率は３．６％であり、２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）マンデロニトリルの収率は９６．４％であった。
２００ｍＬフラスコに、２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒド１０．０３ｇ（含量９８．２重量％、０．０４０モル）、キシレン２０．６４ｇ、メタノール１４．８３ｇ及び塩化ベンジルトリエチルアンモニウム０．２２ｇ（含量９８．０重量％、０．００１モル）を入れて混合した後、撹拌しながら１０℃に冷却した。続いて、シアン化ナトリウム３．１１ｇ（含量９７．０重量％、０．０６２モル（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒド１モルに対して１．５モル））を水９．０６ｇに溶解させた水溶液と、酢酸３．８４ｇ（含量９９．７重量％、０．０６４モル）を水４．４２ｇに溶解させた水溶液とを、該混合物にｐＨ６~８に保ちながら０．５時間で並行して滴下した。滴下後の水層のｐＨは７．６１であり、酢酸０．２５ｇを加えｐＨ調整を行いｐＨ７．１２とした。ｐＨ調整後、反応混合物を１０℃で７時間撹拌した。この反応混合物を分析したところ、２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒドの転化率は９６．４％、残存率は３．６％であり、２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）マンデロニトリルの収率は９６．４％であった。
実施例４
２００ｍＬフラスコに、２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒド２０．０３ｇ（含量９４．６重量％、０．０７９モル）、キシレン３９．７８ｇ、メタノール２８．３８ｇ、水７．７０ｇ及びＡｌｉｑｕａｔ（登録商標）１７５ ０．５０ｇ（含量７５重量％、０．００２モル）を入れて混合した後、撹拌しながら１０℃に冷却した。続いて、該混合物に、シアン化ナトリウム５．９７ｇ（含量９７．０重量％、０．１２モル（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒド１モルに対して１．５モル））を水１７．４０ｇに溶解させた水溶液を加え、酢酸７．３７ｇ（含量９９．７重量％、０．１２モル）を水０．８３ｇに溶解させた水溶液を０．５時間で滴下した。滴下後の水層のｐＨは７．９６であり、酢酸０．６０ｇを加えｐＨ調整を行いｐＨ７．３９とした。ｐＨ調整後、反応混合物を１０℃で４時間撹拌した。この反応混合物を分析したところ、２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒドの転化率は９６．２％、残存率は３．８％であり、２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）マンデロニトリルの収率は９６．２％であった。
２００ｍＬフラスコに、２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒド２０．０３ｇ（含量９４．６重量％、０．０７９モル）、キシレン３９．７８ｇ、メタノール２８．３８ｇ、水７．７０ｇ及びＡｌｉｑｕａｔ（登録商標）１７５ ０．５０ｇ（含量７５重量％、０．００２モル）を入れて混合した後、撹拌しながら１０℃に冷却した。続いて、該混合物に、シアン化ナトリウム５．９７ｇ（含量９７．０重量％、０．１２モル（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒド１モルに対して１．５モル））を水１７．４０ｇに溶解させた水溶液を加え、酢酸７．３７ｇ（含量９９．７重量％、０．１２モル）を水０．８３ｇに溶解させた水溶液を０．５時間で滴下した。滴下後の水層のｐＨは７．９６であり、酢酸０．６０ｇを加えｐＨ調整を行いｐＨ７．３９とした。ｐＨ調整後、反応混合物を１０℃で４時間撹拌した。この反応混合物を分析したところ、２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒドの転化率は９６．２％、残存率は３．８％であり、２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）マンデロニトリルの収率は９６．２％であった。
実施例５
２００ｍｌフラスコに、２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒド１０．０１ｇ（含量９４．６重量％、０．０３９モル）、キシレン２０．００ｇ、メタノール１４．１８ｇ、水３．０８ｇ及びＴＢＡＢ０．２６ｇ（含量９８．０重量％、０．０００８モル）を入れて混合した後、撹拌しながら１０℃に冷却した。続いて、該混合物に、シアン化ナトリウム２．４０ｇ（含量９７．０重量％、０．０４８モル（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒド１モルに対して１．２モル））を水７．００ｇに溶解させた水溶液を加え、酢酸２．９６ｇ（含量９９．７重量％、０．０４９モル）を水０．３４ｇに溶解させた水溶液を０．５時間で滴下した。滴下後の水層のｐＨは７．３９であり、反応混合物を１０℃で７時間撹拌した。この反応混合物を分析したところ、２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒドの転化率は９２．４％、残存率は７．６％であり、２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）マンデロニトリルの収率は９２．４％であった。
２００ｍｌフラスコに、２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒド１０．０１ｇ（含量９４．６重量％、０．０３９モル）、キシレン２０．００ｇ、メタノール１４．１８ｇ、水３．０８ｇ及びＴＢＡＢ０．２６ｇ（含量９８．０重量％、０．０００８モル）を入れて混合した後、撹拌しながら１０℃に冷却した。続いて、該混合物に、シアン化ナトリウム２．４０ｇ（含量９７．０重量％、０．０４８モル（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒド１モルに対して１．２モル））を水７．００ｇに溶解させた水溶液を加え、酢酸２．９６ｇ（含量９９．７重量％、０．０４９モル）を水０．３４ｇに溶解させた水溶液を０．５時間で滴下した。滴下後の水層のｐＨは７．３９であり、反応混合物を１０℃で７時間撹拌した。この反応混合物を分析したところ、２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒドの転化率は９２．４％、残存率は７．６％であり、２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）マンデロニトリルの収率は９２．４％であった。
実施例６
２００ｍｌフラスコに、２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒド１０．０１ｇ（含量９８．２重量％、０．０３９モル）、キシレン２０．６７ｇ、メタノール１５．００ｇおよびＴＢＡＢ０．１４ｇ（含量９８．０重量％、０．０００４モル）を入れて混合した後、撹拌しながら１０℃に冷却した。続いて、シアン化ナトリウム３．１０ｇ（含量９７．０重量％、０．０６１モル（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒド１モルに対して１．５モル））を水９．０８ｇに溶解させた水溶液と、酢酸３．８２ｇ（含量９９．７重量％、０．０６３モル）を水４．４４ｇに溶解させた水溶液とを、該混合物にｐＨ６~８に保ちながら０．５時間で並行して滴下した。滴下後の水層のｐＨは７．７３であり、酢酸０．２０ｇを加えｐＨ調整を行いｐＨ７．２０とした。ｐＨ調整後、反応混合物を１０℃で６時間撹拌した。この反応混合物を分析したところ、２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒドの転化率は９５．６％、残存率は４．４％であり、２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）マンデロニトリルの収率は９５．６％であった。
２００ｍｌフラスコに、２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒド１０．０１ｇ（含量９８．２重量％、０．０３９モル）、キシレン２０．６７ｇ、メタノール１５．００ｇおよびＴＢＡＢ０．１４ｇ（含量９８．０重量％、０．０００４モル）を入れて混合した後、撹拌しながら１０℃に冷却した。続いて、シアン化ナトリウム３．１０ｇ（含量９７．０重量％、０．０６１モル（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒド１モルに対して１．５モル））を水９．０８ｇに溶解させた水溶液と、酢酸３．８２ｇ（含量９９．７重量％、０．０６３モル）を水４．４４ｇに溶解させた水溶液とを、該混合物にｐＨ６~８に保ちながら０．５時間で並行して滴下した。滴下後の水層のｐＨは７．７３であり、酢酸０．２０ｇを加えｐＨ調整を行いｐＨ７．２０とした。ｐＨ調整後、反応混合物を１０℃で６時間撹拌した。この反応混合物を分析したところ、２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒドの転化率は９５．６％、残存率は４．４％であり、２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）マンデロニトリルの収率は９５．６％であった。
比較例１
２００ｍＬフラスコに、２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒド１５．００ｇ（含量９４．６重量％、０．０５９モル）、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル４６．４７ｇ及び水５．８１ｇを入れて混合した後、撹拌しながら１０℃に冷却した。
続いて、該混合物に、シアン化ナトリウム４．４７ｇ（含量９７．０重量％、０．０８９モル（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒド１モルに対して１．５モル））を水１３．０３ｇに溶解させた水溶液を加え、酢酸５．５３ｇ（含量９９．７重量％、０．０９２モル）を水０．６２ｇに溶解させた水溶液を０．５時間で滴下した。
滴下後の水層のｐＨは７．７３であり、酢酸０．１６ｇを加えｐＨ調整を行いｐＨ７．３９とした。ｐＨ調整後、反応混合物を１０℃で４時間撹拌した。この反応混合物を分析したところ、２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒドの転化率は４０．２％、残存率は５９．８％であり、２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）マンデロニトリルの収率は４０．２％であった。
２００ｍＬフラスコに、２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒド１５．００ｇ（含量９４．６重量％、０．０５９モル）、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル４６．４７ｇ及び水５．８１ｇを入れて混合した後、撹拌しながら１０℃に冷却した。
続いて、該混合物に、シアン化ナトリウム４．４７ｇ（含量９７．０重量％、０．０８９モル（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒド１モルに対して１．５モル））を水１３．０３ｇに溶解させた水溶液を加え、酢酸５．５３ｇ（含量９９．７重量％、０．０９２モル）を水０．６２ｇに溶解させた水溶液を０．５時間で滴下した。
滴下後の水層のｐＨは７．７３であり、酢酸０．１６ｇを加えｐＨ調整を行いｐＨ７．３９とした。ｐＨ調整後、反応混合物を１０℃で４時間撹拌した。この反応混合物を分析したところ、２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒドの転化率は４０．２％、残存率は５９．８％であり、２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）マンデロニトリルの収率は４０．２％であった。
比較例２
２００ｍＬフラスコに、２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒド１０．０３ｇ（含量９４．６重量％、０．０４０モル）及びメタノール４７．３０ｇを入れて室温にて混合した。続いて、該混合物に、シアン化ナトリウム２．９９ｇ（含量９７．０重量％、０．０５９モル（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒド１モルに対して１．５モル））を加え、飽和亜硫酸水素ナトリウム９．８７ｇ（０．０９５モル）を水２３．５０ｇに溶解させた水溶液を０．５時間で滴下した。滴下後の水層のｐＨは７．０３であった。反応混合物を室温で７時間撹拌し、この反応混合物を分析したところ、２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒドの転化率は８４．４％、残存率は１５．６％であり、２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）マンデロニトリルの収率は８４．４％であった。
２００ｍＬフラスコに、２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒド１０．０３ｇ（含量９４．６重量％、０．０４０モル）及びメタノール４７．３０ｇを入れて室温にて混合した。続いて、該混合物に、シアン化ナトリウム２．９９ｇ（含量９７．０重量％、０．０５９モル（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒド１モルに対して１．５モル））を加え、飽和亜硫酸水素ナトリウム９．８７ｇ（０．０９５モル）を水２３．５０ｇに溶解させた水溶液を０．５時間で滴下した。滴下後の水層のｐＨは７．０３であった。反応混合物を室温で７時間撹拌し、この反応混合物を分析したところ、２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒドの転化率は８４．４％、残存率は１５．６％であり、２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）マンデロニトリルの収率は８４．４％であった。
実施例７
２００ｍＬフラスコに、シアン化ナトリウム５．５７ｇ（含量９７．０重量％、０．１１モル（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒド１モルに対して１．４モル））を水１６．２２ｇに溶解させた水溶液を加え、続いて２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒド２０．０４ｇ（含量９４．６重量％、０．０７９モル）、キシレン３９．８６ｇ及びＴＢＡＢ０．５２ｇ（含量９８．０重量％、０．００２モル）を入れて室温にて混合した。続いて、３５％塩酸１１．９７ｇ（含量３５重量％、０．１１モル）を０．５時間で滴下した。滴下後のｐＨは０．３３であり、このときの２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒドの転化率は８５．３％、残存率は１４．７％であった。反応系内に２７％水酸化ナトリウム水溶液を０．５６ｇ加えｐＨ調整を行いｐＨ７．１９とした。ｐＨ調整後、反応混合物を室温で７時間撹拌した。
この反応混合物を分析したところ、２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒドの転化率は９１．９％、残存率は８．１％であり、２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）マンデロニトリルの収率は９１．９％であった。
２００ｍＬフラスコに、シアン化ナトリウム５．５７ｇ（含量９７．０重量％、０．１１モル（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒド１モルに対して１．４モル））を水１６．２２ｇに溶解させた水溶液を加え、続いて２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒド２０．０４ｇ（含量９４．６重量％、０．０７９モル）、キシレン３９．８６ｇ及びＴＢＡＢ０．５２ｇ（含量９８．０重量％、０．００２モル）を入れて室温にて混合した。続いて、３５％塩酸１１．９７ｇ（含量３５重量％、０．１１モル）を０．５時間で滴下した。滴下後のｐＨは０．３３であり、このときの２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒドの転化率は８５．３％、残存率は１４．７％であった。反応系内に２７％水酸化ナトリウム水溶液を０．５６ｇ加えｐＨ調整を行いｐＨ７．１９とした。ｐＨ調整後、反応混合物を室温で７時間撹拌した。
この反応混合物を分析したところ、２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンズアルデヒドの転化率は９１．９％、残存率は８．１％であり、２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）マンデロニトリルの収率は９１．９％であった。
マンデロニトリル化合物は、例えば、医農薬の製造原料又は製造中間体として有用である。本発明により、マンデロニトリル化合物を優れた収率で製造できるため、本発明はマンデロニトリル化合物の製造方法として産業上利用可能である。
Claims (13)
- 溶媒中、式（１）
（式中、Ｑは、置換基を有していてもよい炭素数１~１４の炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素数３~１２の複素環基、置換基を有していてもよいメチレンアミノ基、置換基を有していてもよい炭素数２~１５のアシル基、置換基を有していてもよい炭素数１~１４の置換スルホニル基を表す。Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数１~８のアルキル基又は保護されていてもよい水酸基を表す。Ｍは、オキシ基（−Ｏ−）、チオ基（−Ｓ−）、スルフィニル基（−ＳＯ−）、スルホニル基（−ＳＯ２−）、−ＮＲ１−又は単結合を表し、Ｒ１は水素原子、炭素数１~８のアルキル基又は炭素数１~９のアシル基を表す。ｎは、０、１又は２を表す。）
で示されるベンズアルデヒド化合物と、金属シアン化物及びシアン化水素からなる群より選ばれる少なくとも一種とを、相間移動触媒の存在下で反応させる工程を含むことを特徴とする式（２）
（式中、Ｑ、Ｘ、Ｍ及びｎはそれぞれ前記と同じ意味を表す。）
で示されるマンデロニトリル化合物の製造方法。 - 溶媒が、アルコールを含む請求の範囲１．記載の製造方法。
- 溶媒が、芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素及びハロゲン化炭化水素からなる群より選ばれる少なくとも一種と、水と、アルコールとの混合溶媒である請求の範囲１．記載の製造方法。
- 溶媒が、ｐＨ６~８に調整されたものである請求の範囲３．記載の製造方法。
- 溶媒が、酢酸又は塩酸と混合することによりｐＨ６~８に調整されたものである請求の範囲４．記載の製造方法。
- 相間移動触媒が、四級アンモニウム塩、四級ホスホニウム塩又はクラウンエーテルである請求の範囲１．記載の製造方法。
- 相間移動触媒が、臭化テトラｎ−ブチルアンモニウム、塩化ベンジルトリエチルアンモニウム及び塩化メチルトリブチルアンモニウムからなる群より選ばれる少なくとも一種である請求の範囲１．記載の製造方法。
- 金属シアン化物及びシアン化水素からなる群より選ばれる少なくとも一種の使用量が、式（１）で示されるベンズアルデヒド化合物１モルに対して、１．２モル~３．０モルの範囲である請求の範囲１．記載の製造方法。
- 式（１）および式（２）において、Ｑが置換基を有していてもよいフェニル基であり、Ｘが水素原子であり、Ｍがオキシ基（−Ｏ−）であり、ｎが１である請求の範囲１．記載の製造方法。
- 式（１）
（式中、Ｑは、置換基を有していてもよい炭素数１~１４の炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素数３~１２の複素環基、置換基を有していてもよいメチレンアミノ基、置換基を有していてもよい炭素数２~１５のアシル基、置換基を有していてもよい炭素数１~１４の置換スルホニル基を表す。Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数１~８のアルキル基又は保護されていてもよい水酸基を表す。Ｍは、オキシ基（−Ｏ−）、チオ基（−Ｓ−）、スルフィニル基（−ＳＯ−）、スルホニル基（−ＳＯ２−）、−ＮＲ１−又は単結合を表し、Ｒ１は水素原子、炭素数１~８のアルキル基又は炭素数１~９のアシル基を表す。ｎは、０、１又は２を表す。）
で示されるベンズアルデヒド化合物と、金属シアン化物及びシアン化水素からなる群より選ばれる少なくとも一種と、相間移動触媒と、芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素及びハロゲン化炭化水素からなる群より選ばれる少なくとも一種と、水と、アルコールとを混合する混合工程、並びに、前記混合工程で得られる混合液に酸を加え、該混合液の水層のｐＨを６~８に保持する工程を含むことを特徴とする式（２）
（式中、Ｑ、Ｘ、Ｍ及びｎはそれぞれ前記と同じ意味を表す。）
で示されるマンデロニトリル化合物の製造方法。 - 酸が、酢酸又は塩酸である請求の範囲１０．記載の製造方法。
- 相間移動触媒が、四級アンモニウム塩である請求の範囲１０．記載の製造方法。
- 相間移動触媒が、臭化テトラｎ−ブチルアンモニウム、塩化ベンジルトリエチルアンモニウム及び塩化メチルトリブチルアンモニウムからなる群より選ばれる少なくとも一種である請求の範囲１０．記載の製造方法。
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