WO2013179964A1 - 滅菌処理装置およびそれを用いた滅菌処理方法 - Google Patents

滅菌処理装置およびそれを用いた滅菌処理方法 Download PDF

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    • H05H2245/30—Medical applications
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Definitions

  • the present invention relates to a sterilization apparatus and a sterilization method using the same, more specifically, a sterilization apparatus that performs sterilization using a peracid agent containing at least peracetic acid as a drug, and a sterilization method using the same. Is.
  • the object to be sterilized is placed in a reaction container, and the inside of the reaction container is evacuated to inject a sterilization drug, and the drug vaporizes and expands to become thin.
  • a sterilization method that satisfies the above requirements, the object to be sterilized is placed in a reaction container, and the inside of the reaction container is evacuated to inject a sterilization drug, and the drug vaporizes and expands to become thin.
  • sterilization can be performed to every corner of a thin hollow tube by reaching the inside of the hollow tube without depending on a high temperature.
  • Patent Document 1 and Patent Document 2 a sterilization process intended to obtain a higher sterilization effect by applying plasma to a process for performing a sterilization process by vaporizing a drug in a vacuum as described above. A method has been proposed.
  • a peracid agent containing at least peracetic acid as a sterilization treatment agent, a higher sterilization effect can be obtained with a relatively small amount. It exists as an equilibrium mixture of peracetic acid and acetic acid, hydrogen peroxide and water, and has a very strong irritating odor. Therefore, when performing the sterilization treatment, it is necessary to suppress the influence of the pungent odor on the work environment as much as possible. In this case, it is practically required to suppress the adverse effects of the irritating odor with a relatively simple configuration without providing a large-scale and high-cost deodorizing apparatus.
  • the present invention has been made in view of such a technical problem.
  • the present invention In sterilization using a peracid agent containing at least peracetic acid as a drug, the present invention has a relatively simple configuration, and does not cause bromination of the drug remaining after the sterilization process.
  • the basic objective is to be able to
  • the inventor of the present application is proceeding with various research and development to achieve such an object, and after the sterilization treatment, the peracid agent containing peracetic acid is decomposed by irradiating the drug with plasma. It has been found that by maintaining the plasma generation state during the decompression process in the fluid path leading to the outside, the drug remaining in the container after sterilization can be effectively non-brominated.
  • the sterilization apparatus includes: a) a reaction container that accommodates an object to be sterilized and performs sterilization; and b) a peracid containing at least peracetic acid in the reaction container as a sterilization drug.
  • a medicine supply means to supply c) a decompression means for decompressing the inside of the reaction container; d) a ventilation means for ventilating the inside of the reaction container; e) a storage position of the sterilization target in the reaction container; Plasma generating means for generating plasma at a predetermined location in the fluid path from the vicinity to the outside of the apparatus; and f) maintaining the predetermined location in the plasma generation state in the process of depressurizing the inside of the reaction container after the sterilization treatment with the chemical.
  • the apparatus includes a control unit that controls the decompression unit and the plasma generation unit.
  • a second supply means for supplying a peracid decomposing agent or water that promotes decomposition of the peracid agent into the reaction container; You may make it provide further.
  • the predetermined portion of the fluid path may be set in the reaction vessel or may be set outside the reaction vessel. Furthermore, it may be set both inside and outside the reaction vessel.
  • the sterilization method includes: a) a processing object storage step for storing a sterilization target object in a predetermined storage position in the reaction container for sterilization; and b) after depressurizing the inside of the reaction container.
  • a plasma generation step for generating plasma at a predetermined location in a fluid path from the vicinity to the outside of the apparatus, and d) re-reducing the pressure in the reaction vessel again while the predetermined location is maintained in the plasma generation state.
  • a step of supplying a peracid decomposing agent or water for promoting the decomposition of the peracid agent into the reaction container is further provided. May be.
  • a peracid agent containing at least peracetic acid is used as a sterilization treatment agent, and the sterilization target object is accommodated in the reaction vessel in the process of reducing the pressure in the reaction vessel after the sterilization treatment with the agent. Since the predetermined location of the fluid path from the position and the vicinity thereof to the outside of the apparatus is maintained in the plasma generation state, the drug remaining in the container after the sterilization process can be effectively non-brominated, and when performing the sterilization process, The effect of the pungent odor of the drug on the work environment can be effectively suppressed. In this case, with a relatively simple configuration in which only the plasma generation site and the decompression timing are devised, it is possible to reduce the adverse effects caused by the irritating odor of the medicine without providing a large-scale and high-cost deodorizing device.
  • FIG. 1 is a configuration diagram schematically showing the overall configuration of the sterilization apparatus according to the first embodiment of the present invention.
  • a sterilization apparatus M1 according to this embodiment includes a reaction container 1 that contains a sterilization target object Jb and performs a sterilization process, and a peracid containing at least peracetic acid in the reaction container 1.
  • a vacuum pump 3 constituting the main part of the decompression means for decompressing the reaction container 1 and the ventilation means for ventilating the reaction container 1, and the sterilization target Jb.
  • a high-frequency power supply device 4 is provided as plasma generating means for generating plasma at a predetermined position in a fluid path from the housing position in the reaction vessel 1 and the vicinity thereof to the outside of the device M1.
  • the reaction container 1 is composed of an outer box 1a that covers the inside of the container 1 in an airtight manner, and an inner box 1b that is disposed inside the outer box 1a.
  • Both the outer box 1a and the inner box 1b are formed of a conductive material having predetermined strength, rigidity, and corrosion resistance, and the both 1a and 1b are electrically insulated.
  • a material material for forming the outer box 1a and the inner box 1b for example, a metal plate such as a steel plate can be used.
  • the outer box 1a is formed by bending an ordinary flat plate-like metal plate. The inside is covered airtight with respect to the outside.
  • the inner box 1b is formed by bending a perforated metal plate having a large number of through holes. Between the inner side and the outer side, gas or plasma such as vaporized medicine or air, plasma, liquid, etc. The fluid can be freely distributed.
  • the processing object Jb that is an endoscope is held inside the inner box 1b having a large number of through holes.
  • the processing object Jb may be directly supported by the inner surface of the inner box 1b, or a dedicated mounting table (not shown) or the like is arranged in the inner box 1b so as to be supported thereon. Also good.
  • the chemical injection device 2 is connected to one side (upstream side) of the reaction vessel 1 via an injection pipe 2p provided with an open / close control valve 2b.
  • the drug injection device 2 is for injecting a peracid agent containing at least peracetic acid into the reaction container 1 as a sterilization agent.
  • the vacuum pump 3 is connected to the other side (downstream side) of the reaction vessel 1 via a connection pipe 3p provided with an open / close control valve 3b.
  • a connection pipe 3p provided with an open / close control valve 3b.
  • the inside of the reaction vessel 1 can be depressurized to an arbitrary pressure.
  • an exhaust pipe 3d Connected to the downstream side of the vacuum pump 3 is an exhaust pipe 3d that exhausts the gas sucked from the inside of the container 1 toward the outside of the sterilization apparatus M1.
  • one side (upstream side) of the reaction container 1 is connected to the side of the drug injection device 2 with an outside air introduction pipe 6p provided with an opening / closing control valve 6b.
  • the outside air introduction pipe 6p opens the open / close control valve 6b when the inside of the reaction vessel 1 is depressurized after the sterilization treatment with the medicine, and after the depressurization step, the reaction vessel 1 is ventilated to replace air. In this way, the outside air is introduced into the reaction vessel 1.
  • the outside air introduction pipe 6p, the open / close control valve 6b, the connection pipe 3p, the open / close control valve 3b, the vacuum pump 3 and the exhaust pipe 3d constitute a ventilation means for ventilating the inside of the reaction vessel 1 after one cycle relating to sterilization is completed. Has been.
  • the pump 3 and the exhaust pipe 3d constitute a fluid path from the accommodation position of the processing object Jb in the reaction vessel 1 and the vicinity thereof to the outside of the apparatus M1.
  • the path serves as an exhaust path.
  • a high frequency power supply device 4 as plasma generating means is provided outside the reaction vessel 1 in order to generate plasma at a predetermined location in the fluid path.
  • the high-frequency power supply device 4 is configured by interposing a high-frequency power source 4 s with a high-frequency circuit 4 c, one end side of the high-frequency circuit 4 c is electrically connected to the outer box 1 a of the reaction vessel 1, and the other end side is a vacuum sleeve. 5 is electrically connected to the inner box 1 b of the reaction vessel 1. And it is comprised so that a plasma can be generated in the space part formed between the outer case 1a and the inner case 1b by operating the high frequency power supply 4s.
  • the vacuum sleeve 5 has the same configuration and operation as those conventionally known.
  • the outer sleeve Although it is necessary to connect the lead wire on the other end side of the circuit 4c to the inner box 1b through the la, the vacuum sleeve 5 hermetically seals this penetrating portion and maintains the vacuum inside the container 1, It is comprised so that the conducting wire of the other end side of the circuit 4c can be penetrated.
  • the sterilization apparatus M1 is provided with a controller EC1, which includes a microcomputer as a main part, for example, as a control apparatus that controls the entire apparatus M1.
  • the controller EC1 is attached to, for example, a control panel (not shown) of the sterilization apparatus M1.
  • the above-described drug injection device 2, vacuum pump 3, high-frequency power supply device 4, open / close control valves 2b, 3b, 6b are all connected to the controller so as to be able to send and receive signals, and actuated by control signals from the controller EC1. Is to be controlled.
  • the open / close control valves 2b, 3b, and 6b can all be constituted by so-called electromagnetic control valves.
  • FIG. 2 is a process explanatory diagram showing a flow of processing steps of the sterilization apparatus M1.
  • FIG. 3 is a diagram showing a pressure change in the reaction vessel 1 in the processing step by the sterilization apparatus M1.
  • Step # 1 the sterilization target Jb that is an endoscope is accommodated in a predetermined accommodation location in the reaction container 1.
  • This accommodation place is set in the inner box 1b as described above.
  • all of the open / close control valves 2b, 3b, 6b are closed as an initial state before the operation of the device M1 is started. That is, at this time, the outer case 1a is sealed in a state where the processing object Jb is held in the inner case 1b made of a metal plate having a large number of through holes.
  • step # 2 the open / close control valve 3b is opened and then the vacuum pump 3 is driven to depressurize the reaction vessel 1 from the atmospheric pressure Ps to the predetermined pressure P1 (FIG. 3: first depressurization step S1).
  • step # 3 the open / close control valve 3b is closed and the open / close control valve 2b is opened to inject a predetermined amount of drug into the reaction container 1 from the drug injection device 2.
  • this drug is a peracid agent containing at least peracetic acid. Details of such a drug will be described later.
  • the chemical When the chemical is injected into the reaction container 1 in a reduced pressure state, it instantly vaporizes to generate a vapor pressure, and the vapor pressure increases the pressure in the reaction container 1 to a pressure P2 (Ps> P2> P1).
  • This pressure P2 is determined by conditions such as the internal volume and temperature of the reaction vessel 1, the components of the drug injected into the vessel 1, the injection amount, and the like.
  • the sterilized treatment is performed by contacting the vaporized medicine all over the surface of the processing object Jb.
  • the details and depth of the processing object Jb are also infiltrated and spread by the vapor pressure at the time of evaporating the drug, and a sufficient sterilization process is performed.
  • step # 4 it is waited for the reaction time to elapse so that such a sterilization process is sufficiently performed (FIG. 3: sterilization process step S2).
  • medical agent in the reaction container 1 in order to accelerate
  • the pressure P1 is preferably set to 100 Pa or less so that the vaporized medicine can effectively penetrate into the details and the deep part of the processing object Jb.
  • the pressure P2 is generally 1000 to 2500 Pa, although it depends on the injection amount of the medicine and the volume of the reaction vessel 1.
  • step # 5 the high-frequency power supply device 4 is operated and placed in the reaction container 1 (specifically, between the outer box 1a and the inner box 1b).
  • a plasma process for generating plasma (FIG. 3: plasma process S3) is started. Wait for a predetermined time from the start of the plasma process (step # 6), and when the predetermined time elapses, in step # 7, the vacuum pump 3 is re-driven, and the inside of the reaction vessel 1 is predetermined from the pressure P2. The pressure is reduced to the pressure P1 (FIG. 3: second decompression step S3a). Plasma generation is continued during the second decompression step. Note that the pressure P1 obtained by the second decompression step S3a does not need to be exactly the same as the pressure P1 obtained by the first decompression step S1, but it is preferable that both have the same pressure level.
  • step # 8 when the inside of the reaction vessel 1 is depressurized to the pressure P1, in step # 8, the operation of the high frequency power supply device 4 is stopped and the generation of plasma is finished. Thereafter, in step # 9, the open / close control valve 6b of the outside air introduction pipe 6 is opened to introduce outside air into the reaction vessel 1, so that the pressure in the vessel 1 is set to the atmospheric pressure Ps, and the air in the reaction vessel 1 is changed. The air is replaced with new air (FIG. 3: ventilation step S4).
  • step # 10 the sterilized processing target Jb is taken out from the reaction container 1, and one cycle of the sterilization process is completed.
  • each step from Step # 1 to Step # 9 may be repeated a required number of times.
  • what is necessary is just to repeat each step from step # 1 to step # 10, when performing the sterilization process of another process target object continuously.
  • the operation of the sterilization apparatus M1 as described above can be executed by, for example, a software program stored in a readable manner in a memory attached to (or built in) the controller EC1.
  • the plasma temperature generally increases in proportion to the pressure.
  • the sterilization target Sb is a medical instrument, as described above, it is necessary to avoid sterilization at a high temperature as the materials used are diversified. For this reason, it is required to suppress the plasma temperature to a temperature not exceeding about 60 ° C., for example.
  • the plasma temperature tends to be relatively high, particularly until the second decompression process S3a is started. .
  • the high-frequency power supply from the high-frequency power supply device 4 is not continuously supplied, but output intermittently (that is, pulsed). You may make it keep the temperature of the plasma produced
  • a peracid agent containing at least peracetic acid is used as a drug.
  • peracetic acid CH 3 COOOH
  • CH 3 COOH peracetic acid
  • H 2 O 2 hydrogen peroxide
  • H 2 O 2 water
  • the peracid agent containing at least peracetic acid used as a drug in this embodiment is finally decomposed into carbon dioxide and water by plasma energy in the plasma step S3 after the sterilization step S2.
  • These carbon dioxide and water are odorless and stable molecules.
  • plasma is generated in the space between the outer box 1a and the inner box 1b of the reaction vessel 1, and the plasma acts strongly on the drug in this region, so that a high bromide-free effect is obtained.
  • no plasma is generated inside the inner box 1b, but the plasma diffuses through the many through holes of the inner box 1b and the plasma is expected to have a certain effect on the drug remaining inside. it can.
  • it is generally difficult to achieve sufficient odorlessness.
  • the second decompression step S3a by reducing the pressure inside the reaction vessel 1 in the plasma generation state, the drug remaining in the inner box 1b passes through the through hole of the inner box 1b (plasma is generated). ) Due to the powerful action of the plasma that is drawn into the space between the outer box 1a and the inner box 1b and is generated in this region, a high bromide-free effect is obtained before being exhausted from the reaction vessel 1 to the outside. Accordingly, the exhaust gas discharged from the exhaust pipe 3d of the vacuum pump 3 toward the outside of the apparatus M1 is sufficiently deodorized, and the inside of the reaction vessel 1 becomes odorless in the subsequent ventilation step S4. Thereby, the situation which suffers from a strong pungent odor like the past is reduced greatly.
  • a sterilization target object Jb is used in a process in which a peracid agent containing at least peracetic acid is used as a sterilization agent and the inside of the reaction container 1 is decompressed after sterilization with the agent.
  • a peracid agent containing at least peracetic acid is used as a sterilization agent and the inside of the reaction container 1 is decompressed after sterilization with the agent.
  • FIG. 4 is a configuration diagram schematically showing the overall configuration of the sterilization apparatus M2 according to the second embodiment of the present invention.
  • FIG. 5 is a diagram showing a pressure change in the reaction vessel in the processing step of the sterilization apparatus M2 according to the second embodiment.
  • a peracid decomposing agent or water that promotes decomposition of the peracid agent is provided on the side of the drug injection device 2 on the upstream side of the reaction container 1.
  • a second injection device 7 for injecting into the reaction vessel 1 is provided.
  • the second injection device 7 is connected to the side of the drug injection device 2 on the upstream side of the reaction vessel 1 via an injection pipe 7p provided with an open / close control valve 7b.
  • the sterilization apparatus M2 according to the second embodiment is further provided with the second injection device 7 in that the sterilization apparatus M1 according to the first embodiment. And the configuration is different.
  • the second injection device 7 and the open / close control valve 7b are connected to the controller EC2 so as to be able to exchange signals.
  • the sterilization process S12 is performed.
  • the pressure in the reaction container 1 is increased to the pressure P12 (Ps> P12> P11) by the vapor pressure due to the evaporation of the drug, and sterilization is performed in this process. .
  • the second injection step S13 is performed after the sterilization step S12 and before the plasma step S14. Done.
  • the second injection step S13 is a step of injecting a peracid decomposition agent or water that promotes decomposition of the peracid agent into the reaction vessel 1 using the second injection device 7.
  • the peracid decomposing agent or water may be injected in a vaporized state. Good.
  • hydrolysis of the drug see the above formula [1]
  • FIG. 6 is a configuration diagram schematically showing the overall configuration of the sterilization apparatus M3 according to the third embodiment of the present invention.
  • the plasma generation location by the high-frequency power supply device 4 is set in the reaction vessel 1, but in the sterilization apparatus M3 according to the third embodiment, the outside of the reaction vessel 11 is provided. Is set to
  • a plasma generation chamber 8 for generating plasma is interposed between the reaction vessel 11 and the vacuum pump 3. Since the reaction vessel 11 does not generate plasma therein, there is no inner box, and only the outer box 11a made of a plate material (preferably a metal plate such as a steel plate) having a predetermined strength, rigidity, and corrosion resistance. It consists of The upstream side of the plasma generation chamber 8 is connected to the reaction vessel 11 via a connection pipe 8p, and the downstream side is connected to the vacuum pump 3 via a connection pipe 3p.
  • the plasma generation chamber 8 includes a first electrode D1 and a second electrode D2 inside the case body 8a, and generates plasma in a space between the first electrode D1 and the second electrode D2. Is.
  • the case body 8a, the first electrode D1, and the second electrode D2 are all formed of a conductive material having predetermined strength, rigidity, and corrosion resistance, and the first electrode D1 is electrically insulated from the case body 8a.
  • the second electrode D2 is electrically connected to the case body 8a.
  • the first electrode D1, and the second electrode D2 for example, a metal plate such as a steel plate is preferable.
  • the case body 8a covers the inside of the plasma generation chamber 8 in an airtight manner to the outside.
  • the first electrode D1 and the second electrode D2 are formed of a normal flat metal plate, and a plurality of through holes are provided so that a fluid such as gas can freely flow between the inside and the outside. It is comprised with the porous metal plate which has.
  • a high-frequency power supply device 4 similar to that described above (in the first embodiment and the second embodiment) is provided on the side of the plasma generation chamber 8 in order to generate plasma in the chamber 8.
  • One end side of the high-frequency circuit 4c of the high-frequency power supply device 4 is electrically connected to the case body 8a (and therefore to the second electrode D2), and the other end side is inserted through the vacuum sleeve 5 and the case body 8a. It is electrically connected to the internal first electrode D1. And by operating the high frequency power supply 4s, it is possible to generate plasma in the space formed between the first electrode D1 and the second electrode D2.
  • the apparatus M3 of this embodiment includes a controller EC3 similar to that in the first embodiment described above.
  • the predetermined value is generated.
  • a dedicated plasma generation chamber 8 for generating plasma can be provided between the reaction vessel 11 and the vacuum pump 3.
  • a powerful plasma can act on the drug.
  • medical agent which remained in the reaction container 11 can be debrominated more effectively.
  • FIG. 7 is a configuration diagram schematically showing an overall configuration of a sterilization apparatus M4 according to the fourth embodiment of the present invention.
  • plasma generation locations are set both inside and outside the reaction vessel 1.
  • the reaction vessel 1 is configured to include an outer box 1a and an inner box 1b as in the first and second embodiments, and between the reaction vessel 1 and the vacuum pump 3, A plasma generation chamber 8 similar to that in the third embodiment is interposed. Then, plasma is generated both inside the reaction vessel 1 and inside the plasma generation chamber 8 disposed outside the reaction vessel 1.
  • the high frequency power supply device 14 includes the first high frequency circuit C1 that supplies the high frequency power from the high frequency power supply 14s to the reaction vessel 1 side, and the high frequency power from the high frequency power supply 14s to the plasma generation chamber 8 side. And a second high-frequency circuit C2 to be supplied.
  • One end side of the first high-frequency circuit C1 is electrically connected to the outer box 1a of the reaction vessel 1, and the other end side is electrically connected to the inner box 1b of the reaction vessel 1 through the vacuum sleeve K1. Has been.
  • one end side of the second high-frequency circuit C2 is electrically connected to the case body 8a (and hence to the second electrode D2), and the other end side is inserted through the vacuum sleeve K2 and the second inside the case body 8a. It is electrically connected to one electrode D1.
  • the apparatus M4 of the present embodiment includes a controller EC4 similar to that in the first and third embodiments described above.
  • the plasma is generated at the predetermined position in the fluid path from the position where the sterilization target Jb is stored in the reaction container 1 and the vicinity thereof to the outside of the apparatus M4.
  • the location on both the inside and outside of the reaction vessel 1 it is possible to cause a wider and powerful plasma to act on the drug by setting it on the outside of the reaction vessel 1 in the exhaust path.
  • plasma can be applied to the drug in multiple stages. Thereby, the chemical
  • a filter using an alkaline substance such as activated carbon or calcium hydroxide may be attached to the downstream side of the exhaust pipe 3d of the vacuum pump 3.
  • the present invention relates to a sterilization apparatus and a sterilization method using a peracid agent containing at least peracetic acid as a medicine, and remains in the sterilization process using a peracid agent containing at least peracetic acid as a medicine after the sterilization process step.
  • the present invention can be effectively used as a sterilization apparatus and a sterilization method that can more easily perform non-bromination of peracetic acid and acetic acid.

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Abstract

　滅菌処理対象物を収容して滅菌処理を施す反応容器と、前記反応容器内に少なくとも過酢酸を含む過酸剤を滅菌処理用薬剤として供給する薬剤供給手段と、前記反応容器内を減圧する減圧手段と、前記反応容器内を換気する換気手段と、前記滅菌処理対象物の前記反応容器内での収容位置及びその近傍から装置の外部に至る流体の経路の所定箇所にプラズマを発生させるプラズマ生成手段と、を備え、前記薬剤による滅菌処理後に前記反応容器内が減圧される過程において、前記所定箇所がプラズマ発生状態に維持されるように、前記減圧手段およびプラズマ生成手段を制御する、ことを特徴とする。

Description

滅菌処理装置およびそれを用いた滅菌処理方法
　本発明は、滅菌処理装置およびそれを用いた滅菌処理方法、より詳しく言えば、少なくとも過酢酸を含む過酸剤を薬剤として用いて滅菌処理を施す滅菌処理装置およびそれを用いた滅菌処理方法に関するものである。
　例えば、医療器具などの滅菌方法として、乾熱滅菌法や高圧水蒸気滅菌法など、高い温度により滅菌処理を行う方法が従来慣用されてきたが、近年では、医療器具の多様化などに伴い、高温に対して十分には耐え得ない材料を少なくとも一部に使用するものも実用に供されつつある。かかる場合には、高温に依存しない滅菌処理が必要とされる。また、内視鏡に代表される長尺で細い中空管を有する医療器具では、細い中空管の内部の滅菌処理が必要となる。
　以上のような要求を満足する滅菌方法として、反応容器の中に滅菌処理対象物を容れておき、この反応容器内を真空にして滅菌処理用の薬剤を注入し、薬剤が気化膨張して細い中空管の内部に行き渡ることにより、高温に依らず、また、細い中空管の内部の隅々まで滅菌処理を行えるようにした方法が知られている。
　かかる滅菌方法では、滅菌処理剤として過酸化水素が多用されるが、例えば、医療器具など高度な滅菌処理が必要とされる場合には、過酸化水素のみで十分な滅菌を行うことは難しく、このため、比較的少量でより高い滅菌効果が得られる滅菌処理剤として、少なくとも過酢酸を含む過酸剤を用いることも知られている。
　また、例えば特許文献１，特許文献２では、前述のように真空中で薬剤を気化させて滅菌処理を行う処理プロセスにプラズマを適用することで、より高い滅菌効果を得ることを企図した滅菌処理方法が提案されている。
特許第２７８０２２８号公報 特許第４５２６６４９号公報
　前述のように、少なくとも過酢酸を含む過酸剤を滅菌処理剤として用いることにより、比較的少量でより高い滅菌効果が得られるのであるが、周知のように、過酢酸は、多くの場合、過酢酸と、酢酸，過酸化水素および水との平衡混合物として存在するもので、非常に強い刺激臭がある。従って、滅菌処理を実施する際には、かかる刺激臭が作業環境に及ぼす影響をできるだけ抑制する必要がある。この場合、大規模で高コストの脱臭装置などを設けることなく、比較的簡単な構成で、刺激臭による悪影響を抑えることが実用上求められている。
　本発明は、かかる技術的課題に鑑みてなされたもので、少なくとも過酢酸を含む過酸剤を薬剤として用いた滅菌処理において、比較的簡単な構成で、滅菌処理工程後に残留する薬剤の無臭化を行えるようにすることを、基本的な目的とする。
　本願発明者は、かかる目的達成のために種々研究開発を進める中で、滅菌処理後、薬剤にプラズマを照射することで過酢酸を含む過酸剤が分解され、特に、滅菌処理容器内から装置外部に至る流体の経路において、減圧過程でプラズマ発生状態を維持することにより、滅菌処理後に容器内に残留した薬剤を効果的に無臭化できることを見出した。
　そこで、本願発明に係る滅菌処理装置は、ａ）滅菌処理対象物を収容して滅菌処理を施す反応容器と、ｂ）前記反応容器内に少なくとも過酢酸を含む過酸剤を滅菌処理用薬剤として供給する薬剤供給手段と、ｃ）前記反応容器内を減圧する減圧手段と、ｄ）前記反応容器内を換気する換気手段と、ｅ）前記滅菌処理対象物の反応容器内での収容位置及びその近傍から装置の外部に至る流体の経路の所定箇所にプラズマを発生させるプラズマ生成手段と、ｆ）前記薬剤による滅菌処理後に反応容器内が減圧される過程において、前記所定箇所がプラズマ発生状態に維持されるように、前記減圧手段およびプラズマ生成手段を制御する制御手段と、を備えていることを特徴としたものである。
　この場合において、前記反応容器内に前記滅菌処理用薬剤が供給された後に、前記過酸剤の分解を促進する過酸分解剤もしくは水を前記反応容器内に供給する第２の供給手段を、更に備えるようにしてもよい。
　以上の場合において、前記流体の経路の所定箇所は、前記反応容器内に設定されていてもよく、或いは、前記反応容器の外部に設定されていてもよい。更には、前記反応容器の内部と外部の両方に設定されていてもよい。
　また、本願発明に係る滅菌処理方法は、ａ）滅菌処理対象物を滅菌処理用の反応容器内の所定の収容位置に収容する処理対象物収容ステップと、ｂ）前記反応容器内を減圧した後、当該反応容器内に少なくとも過酢酸を含む過酸剤を滅菌処理用薬剤として供給する薬剤供給ステップと、ｃ）前記薬剤による滅菌処理後に、前記滅菌処理対象物の前記反応容器内での収容位置及びその近傍から装置の外部に至る流体の経路の所定箇所にプラズマを発生させるプラズマ生成ステップと、ｄ）前記所定箇所がプラズマ発生状態に維持された下で、前記反応容器内を再び減圧する再減圧ステップと、ｅ）前記再減圧ステップの後に、前記反応容器内を換気する換気ステップと、を備えていることを特徴としたものである。
　この場合において、前記反応容器内に前記滅菌処理用薬剤が供給された後、前記過酸剤の分解を促進する過酸分解剤もしくは水を前記反応容器内に供給するステップを、更に備えるようにしてもよい。
　本願発明によれば、少なくとも過酢酸を含む過酸剤を滅菌処理用薬剤として用い、前記薬剤による滅菌処理後に反応容器内が減圧される過程において、滅菌処理対象物の前記反応容器内での収容位置及びその近傍から装置の外部に至る流体の経路の所定箇所がプラズマ発生状態に維持されるので、滅菌処理後に容器内に残留した薬剤を効果的に無臭化でき、滅菌処理を実施するに際して、薬剤の刺激臭が作業環境に及ぼす影響を有効に抑制することができる。この場合、プラズマ発生の部位および減圧タイミング等を工夫するだけの比較的簡単な構成により、大規模で高コストの脱臭装置などを設けることなく、薬剤の刺激臭による悪影響を軽減することができる。
本発明の第１実施形態に係る滅菌処理装置の全体構成を概略的に示す構成図である。 前記第１実施形態に係る滅菌処理装置の処理工程の流れを示す工程説明図である。 前記第１実施形態に係る滅菌処理装置の処理工程における反応容器内の圧力変化を示す線図である。 本発明の第２実施形態に係る滅菌処理装置の全体構成を概略的に示す構成図である。 前記第２実施形態に係る滅菌処理装置の処理工程における反応容器内の圧力変化を示す線図である。 本発明の第３実施形態に係る滅菌処理装置の全体構成を概略的に示す構成図である。 本発明の第４実施形態に係る滅菌処理装置の全体構成を概略的に示す構成図である。
　以下、本発明の実施形態について、添付図面を参照しながら詳細に説明する。
　尚、以下の説明では、特定の方向を意味する用語（例えば、「上」，「下」，「左」，「右」，「前」，「後」、及びそれらを含む他の用語、並びに「時計回り方向」，「反時計回り方向」など）を使用する場合があるが、それらの使用は図面を参照した発明の理解を容易にするためである。従って、本発明は、それらの用語の語義によって限定的に解釈されるべきものではない。
　図１は、本発明の第１実施形態に係る滅菌処理装置の全体構成を概略的に示す構成図である。
　この図に示すように、本実施形態に係る滅菌処理装置Ｍ１は、滅菌処理対象物Ｊｂを収容して滅菌処理を施す反応容器１と、該反応容器１内に少なくとも過酢酸を含む過酸剤を滅菌処理用薬剤として注入する薬剤注入装置２と、反応容器１内を減圧する減圧手段および反応容器１内を換気する換気手段の主要部を構成する真空ポンプ３と、滅菌処理対象物Ｊｂの反応容器１内での収容位置及びその近傍から装置Ｍ１の外部に至る流体の経路の所定箇所にプラズマを発生させるプラズマ生成手段としての高周波電源装置４とを備えている。
　前記反応容器１は、容器１内を気密に覆う外箱１ａと、その内部に配置された内箱１ｂとで構成されている。外箱１ａ及び内箱１ｂは共に、所定の強度・剛性および耐食性を備えた導電性材料で形成され、両者１ａ，１ｂは電気的に絶縁されている。外箱１ａ及び内箱１ｂを形成する材料素材としては、例えば鋼板等の金属板を用いることができ、外箱１ａは、通常の平板状の金属板を折り曲げ加工して構成され、容器１の内部を外部に対して気密に覆っている。一方、内箱１ｂは、多数の貫通孔を有する多孔金属板を折り曲げ加工して構成されており、その内側と外側との間で、気化した薬剤や空気などの気体やプラズマ、更には液体等の流体が自在に流通できるようになっている。
　例えば内視鏡とされた処理対象物Ｊｂは、多数の貫通孔を有する前記内箱１ｂの内部に保持される。処理対象物Ｊｂは、内箱１ｂの内面によって直接に支持されてもよく、或いは、内箱１ｂ内に専用の載置台（不図示）などを配置して、その上に支持されるようにしてもよい。
　反応容器１の一側（上流側）には、開閉制御弁２ｂを介設した注入パイプ２ｐを介して、薬剤注入装置２が接続されている。この薬剤注入装置２は、反応容器１内に少なくとも過酢酸を含む過酸剤を滅菌処理用薬剤として注入するものである。
　一方、反応容器１の他側（下流側）には、開閉制御弁３ｂを介設した接続パイプ３ｐを介して、真空ポンプ３が接続されている。この真空ポンプ３を駆動することにより、反応容器１内を任意の圧力に減圧することができる。真空ポンプ３の下流側には、容器１の内部から吸い出したガスを、当該滅菌処理装置Ｍ１の外部に向かって排気する排気パイプ３ｄが接続されている。
　また、反応容器１の一側（上流側）には、薬剤注入装置２の側方に、開閉制御弁６ｂを介設した外気導入パイプ６ｐが接続されている。この外気導入パイプ６ｐは、前記薬剤による滅菌処理後に反応容器１内が減圧され、この減圧工程を終えた後、反応容器１内を換気して空気を置換する際に、開閉制御弁６ｂを開いて反応容器１内に外気を導入するためのものである。この外気導入パイプ６ｐ，開閉制御弁６ｂ，前記接続パイプ３ｐ，開閉制御弁３ｂ，真空ポンプ３及び排気パイプ３ｄにより、滅菌処理に関する１サイクルが終了した後に反応容器１内を換気する換気手段が構成されている。
　そして、反応容器１の内箱１ｂ内の処理対象物Ｊｂよりも下流側領域，内箱１ｂと外箱１ａとの間の空間部における下流側領域，前記接続パイプ３ｐ，開閉制御弁３ｂ，真空ポンプ３及び排気パイプ３ｄにより、処理対象物Ｊｂの反応容器１内での収容位置及びその近傍から装置Ｍ１の外部に至る流体の経路が構成されている。反応容器１の内部から吸い出したガスを装置Ｍ１の外部に向かって排気する際には、前記経路が排気経路の役割を果たすことになる。
　本実施形態では、この流体の経路の所定箇所にプラズマを発生させるために、反応容器１の外部に、プラズマ生成手段としての高周波電源装置４が備えられている。この高周波電源装置４は、高周波回路４ｃに高周波電源４ｓを介設して構成され、高周波回路４ｃの一端側が反応容器１の外箱１ａに対して電気的に接続され、他端側は真空スリーブ５を挿通して反応容器１の内箱１ｂに対して電気的に接続されている。そして、高周波電源４ｓを稼働することにより、外箱１ａと内箱１ｂとの間に形成された空間部にプラズマを発生させることができるように構成されている。
　前記真空スリーブ５は、従来公知のものと同様の構成および作用を備えるもので、高周波回路４ｃの他端側を反応容器１の内箱１ｂに対して電気的に接続する際には、外箱１ａを貫通して回路４ｃの他端側の導線を内箱１ｂに接続する必要があるが、真空スリーブ５は、この貫通部分を気密にシールして容器１の内部の真空を維持しつつ、回路４ｃの他端側の導線を挿通させることができるように構成されている。
　滅菌処理装置Ｍ１には、当該装置Ｍ１全体の制御を行う制御装置として、例えばマイクロコンピュータを主要部として構成されたコントローラＥＣ１が備えられている。該コントローラＥＣ１は、例えば滅菌処理装置Ｍ１の制御盤（不図示）に付設されている。前述の薬剤注入装置２，真空ポンプ３，高周波電源装置４，開閉制御弁２ｂ，３ｂ，６ｂは何れも、前記コントローラに対して信号授受可能に接続され、当該コントローラＥＣ１からの制御信号によってその作動が制御されるようになっている。尚、前記開閉制御弁２ｂ，３ｂ，６ｂは何れも、従来公知のいわゆる電磁制御弁で構成することができる。
　以上のように構成された滅菌処理装置Ｍ１による滅菌処理プロセスについて、図２及び図３を参照しながら説明する。図２は、滅菌処理装置Ｍ１の処理工程の流れを示す工程説明図である。また、図３は、滅菌処理装置Ｍ１による処理工程における反応容器１内の圧力変化を示す線図である。
　処理プロセスが開始されると、先ず、ステップ＃１で、例えば内視鏡とされた滅菌処理対象物Ｊｂを反応容器１内の所定の収容箇所に収容する。この収容箇所は、前述のように内箱１ｂの内部に設定されている。この時点では、装置Ｍ１の作動が開始される前の初期状態として、開閉制御弁２ｂ，３ｂ，６ｂは何れも閉じられている。つまり、この時点では、多数の貫通孔を有する金属板製の内箱１ｂ内に処理対象物Ｊｂが保持された状態で、外箱１ａが密閉されている。
　次に、ステップ＃２で、開閉制御弁３ｂを開いた後に真空ポンプ３を駆動して、反応容器１内を大気圧Ｐｓから所定圧力Ｐ１まで減圧する（図３：第１減圧工程Ｓ１）。
　反応容器１内が所定圧力Ｐ１まで減圧されると、ステップ＃３で、開閉制御弁３ｂを閉じる一方、開閉制御弁２ｂを開いて薬剤注入装置２から反応容器１内に所定量の薬剤を注入する。この薬剤は、前述のように、少なくとも過酢酸を含む過酸剤である。かかる薬剤の詳細については、後述する。
　薬剤は、減圧状態の反応容器１内に注入されると、瞬時に気化して蒸気圧を発生し、この蒸気圧により反応容器１内は圧力Ｐ２（Ｐｓ＞Ｐ２＞Ｐ１）まで昇圧する。この圧力Ｐ２は、反応容器１の内容積や温度等の条件，該容器１内に注入される薬剤の成分および注入量などによって、定まることになる。この過程において、処理対象物Ｊｂの表面に気化した薬剤がくまなく接触して滅菌処理が行われる。また、処理対象物Ｊｂの細部や深部についても、薬剤蒸発時の蒸気圧によって薬剤が浸入して行き渡り、十分な滅菌処理が行われる。ステップ＃４では、このような滅菌処理が十分に行われるように、反応時間が経過するのを待つことになる（図３：滅菌処理工程Ｓ２）。尚、薬剤を反応容器１内に注入する際には、反応容器１内での拡散を促進するために、薬剤が気化した状態で注入するようにしてもよい。
　本実施形態では、気化した薬剤が処理対象物Ｊｂの細部や深部へ効果的に浸透し得るように、好ましくは、圧力Ｐ１を１００Ｐａ以下に設定した。また、圧力Ｐ２は、薬剤の注入量や反応容器１の容積にも依存するが、一般的には、１０００～２５００Ｐａになっている。
　反応時間が経過して滅菌処理工程Ｓ２を終えると、ステップ＃５で、高周波電源装置４を稼働して、反応容器１内に（具体的には、外箱１ａと内箱１ｂとの間に）プラズマを発生させるプラズマ工程（図３：プラズマ工程Ｓ３）を開始する。このプラズマ工程の開始から所定時間が経過するのを待ち（ステップ＃６）、この所定時間が経過すると、ステップ＃７で、真空ポンプ３を再駆動して、反応容器１内を圧力Ｐ２から所定圧力Ｐ１まで減圧する（図３：第２減圧工程Ｓ３ａ）。この第２減圧工程中もプラズマの生成は継続されている。尚、この第２減圧工程Ｓ３ａによって得られる圧力Ｐ１は、前述の第１減圧工程Ｓ１によって得られる圧力Ｐ１と厳密に一致させる必要はないが、両者は同程度の圧力レベルであることが好ましい。
　そして、反応容器１内が圧力Ｐ１まで減圧されると、ステップ＃８で、高周波電源装置４の作動が停止されプラズマの生成が終了する。その後、ステップ＃９で、外気導入パイプ６の開閉制御弁６ｂを開いて反応容器１内に外気を導入することで、容器１内の圧力を大気圧Ｐｓとし、該反応容器１内の空気を新たな空気に入れ替える（図３：換気工程Ｓ４）。
　その後、ステップ＃１０で、滅菌処理済みの処理対象物Ｊｂを反応容器１内から取り出し、これにより、滅菌処理プロセスの１サイクルが終了する。同一の処理対象物Ｓｂの滅菌処理を複数サイクルにわたって繰り返して行う場合には、ステップ＃１からステップ＃９までの各ステップを所要回数だけ繰り返して行えばよい。また、別の処理対象物の滅菌処理を引き続いて行う場合には、ステップ＃１からステップ＃１０までの各ステップを繰り返して行えばよい。
　以上のような滅菌処理装置Ｍ１の作動は、例えば、前記コントローラＥＣ１に付設された（若しくは内蔵された）メモリに読み出し可能に格納されたソフトウェア・プログラムによって、制御を実行することができる。
　プラズマの温度は一般に圧力に比例して高くなることが知られている。一方、滅菌処理対象物Ｓｂが医療器具の場合、前述のように、使用材料の多様化などに伴って高温での滅菌処理を避ける必要がある。このため、プラズマ温度も例えば６０℃程度を越えない温度に抑えることが求められる。しかし、滅菌処理工程Ｓ２で圧力Ｐ２（Ｐ２＞Ｐ１）まで昇圧した状態でプラズマ生成を開始するプラズマ工程Ｓ３では、特に第２減圧工程Ｓ３ａが始まるまでは、プラズマ温度が比較的高くなりがちである。従って、第２減圧工程Ｓ３ａ開始までの間は、必要に応じて、高周波電源装置４からの高周波電力の供給を連続的に行うのではなく、断続的に（つまりパルス化して）出力して、生成されるプラズマの温度を低く抑えるようにしてもよい。この場合にはパルス部分のみでプラズマが生成されることになる。
　本実施形態に係る滅菌処理では、前述のように、少なくとも過酢酸を含む過酸剤を薬剤として用いている。周知のように、過酢酸（ＣＨ３ＣＯＯＯＨ）は、多くの場合、過酢酸と、酢酸（ＣＨ３ＣＯＯＨ），過酸化水素（Ｈ２Ｏ２）及び水（Ｈ２Ｏ）との平衡混合物として存在するものであり、加水分解して、次式［１］に示すように、酢酸と過酸化水素に分解される。
・（ＣＨ３ＣＯＯＯＨ）＋（Ｈ２Ｏ）→（ＣＨ３ＣＯＯＨ）＋（Ｈ２Ｏ２）……［１］
　プラズマエネルギーとは、ガス分子のフリーラジカルや紫外線の持つエネルギーであって、そのエネルギーによって分子内元素間の結合を切断するものである。過酸化水素は、プラズマエネルギーの照射により、次式［２］に示すように、水と酸素（Ｏ２）に分解される。
　・（Ｈ２Ｏ２）→（Ｈ２Ｏ）＋１／２・（Ｏ２）……［２］
　また、酢酸は、プラズマエネルギーによって分子内元素間の結合が切断され、過酸化水素の分解（式［２］参照）によって発生する酸素と反応して、次式［３］に示すように、二酸化炭素（ＣＯ２）と水に分解される。
　・２（ＣＨ３ＣＯＯＨ）＋４（Ｏ２）→４（ＣＯ２）＋４（Ｈ２Ｏ）……［３］
　以上のように、本実施形態で薬剤として用いた少なくとも過酢酸を含む過酸剤は、滅菌処理工程Ｓ２後のプラズマ工程Ｓ３において、プラズマエネルギーにより、最終的に二酸化炭素と水に分解される。これら二酸化炭素および水は、無臭の安定した分子である。
　本実施形態では、反応容器１の外箱１ａと内箱１ｂの間の空間部にプラズマが発生しており、この領域に在る薬剤にはプラズマが強く作用し、高い無臭化効果が得られる。一方、内箱１ｂの内部ではプラズマは発生しないが、内箱１ｂの数多くの貫通孔を通って内部にプラズマが拡散し、内部に残留した薬剤にプラズマが或る程度の作用を及ぼすことが期待できる。但し、十分な無臭化を達成することは一般に難しい。
　しかし、第２減圧工程Ｓ３ａにおいて、プラズマ生成状態の反応容器１内を減圧することにより、内箱１ｂ内に残留した薬剤が、内箱１ｂの貫通孔を通って、（プラズマが生成されている）外箱１ａと内箱１ｂの間の空間部に引き込まれ、この領域で発生するプラズマの強力な作用により、反応容器１から外部へ排気される前に高い無臭化効果が得られる。従って、真空ポンプ３の排気パイプ３ｄから装置Ｍ１の外部に向かって排出される排出ガスは、十分な無臭化が達成されており、後続する換気工程Ｓ４において反応容器１内は無臭となる。これにより、従来のように強い刺激臭に悩まされる事態は大幅に軽減される。
　以上のように、本実施形態によれば、少なくとも過酢酸を含む過酸剤を滅菌処理用薬剤として用い、前記薬剤による滅菌処理後に反応容器１内が減圧される過程において、滅菌処理対象物Ｊｂの前記反応容器１内での収容位置及びその近傍から装置Ｍ１の外部に至る流体の経路の所定箇所（反応容器１の外箱１ａと内箱１ｂの間の空間部の容器下流側に対応する箇所）がプラズマ発生状態に維持されるので、滅菌処理後に容器１内に残留した薬剤を効果的に無臭化でき、滅菌処理を実施するに際して、薬剤の刺激臭が作業環境に及ぼす影響を有効に抑制することができるのである。この場合、プラズマ発生の部位および減圧タイミング等を工夫するだけの比較的簡単な構成により、大規模で高コストの脱臭装置などを設けることなく、薬剤の刺激臭による悪影響を軽減することができる。
　次に、本発明の他の実施形態について説明する。尚、以下の説明において、上述の第１の実施形態（図１～図３参照）における場合と同様の構成を備え同様の作用をなすものについては、同一の符号を付し、それ以上の説明は省略する。
　図４は、本発明の第２実施形態に係る滅菌処理装置Ｍ２の全体構成を概略的に示す構成図である。また、図５は、この第２実施形態に係る滅菌処理装置Ｍ２の処理工程における反応容器内の圧力変化を示す線図である。
　図４に示すように、本実施形態に係る滅菌処理装置Ｍ２では、反応容器１の上流側において、薬剤注入装置２の側方に、過酸剤の分解を促進する過酸分解剤もしくは水を反応容器１内に注入するための第２注入装置７が配設されている。
　この第２注入装置７は、開閉制御弁７ｂが介設された注入パイプ７ｐを介して、反応容器１の上流側で薬剤注入装置２の側方に接続されている。
　図４と図１とを対比して分かるように、第２実施形態に係る滅菌処理装置Ｍ２は、前記第２注入装置７を更に備えている点が、第１実施形態に係る滅菌処理装置Ｍ１と構成が異なっている。また、これに対応して、コントローラＥＣ２には、前記第２注入装置７及び開閉制御弁７ｂが信号授受可能に接続されている。
　この第２実施形態に係る滅菌処理装置Ｍ２では、図５に示されるように、第１減圧工程Ｓ１１にて反応容器１内を大気圧Ｐｓから所定圧力Ｐ１１まで減圧した後、滅菌処理工程Ｓ１２にて、減圧状態の反応容器１内に薬剤が注入されることにより、薬剤蒸発による蒸気圧により反応容器１内が圧力Ｐ１２（Ｐｓ＞Ｐ１２＞Ｐ１１）まで昇圧し、この過程で滅菌処理が行われる。
　これらの工程Ｓ１１，Ｓ１２は、第１実施形態における工程Ｓ１，Ｓ２と同様のものであるが、本実施形態では、滅菌処理工程Ｓ１２の後でプラズマ工程Ｓ１４の前に、第２注入工程Ｓ１３が行われる。この第２注入工程Ｓ１３とは、前記第２注入装置７を用いて、過酸剤の分解を促進する過酸分解剤もしくは水を反応容器１内に注入する工程である。尚、過酸分解剤もしくは水を反応容器１内に注入する際には、反応容器１内での拡散を促進するために、過酸分解剤もしくは水が気化した状態で注入するようにしてもよい。
　このように、薬剤に加えて、過酸分解剤もしくは水を反応容器１内に注入することにより、薬剤の加水分解（前記式［１］参照）が促進され、残留した薬剤をより効果的に無臭化することができる。
　過酸分解剤もしくは水を反応容器１内に注入することにより、反応容器１内の圧力は更に圧力Ｐ１３（Ｐｓ＞Ｐ１３＞Ｐ１２）まで上昇する。過酸分解剤もしくは水を反応容器１内に注入した後、所定時間が経過すると、第１実施形態における場合と同様に、高周波電源装置４が駆動されてプラズマ工程Ｓ１４が行われ、また、このプラズマ工程Ｓ１４の途中から第２減圧工程Ｓ１４ａが行われる。
　そして、この第２減圧工程Ｓ１４ａ及びプラズマ工程Ｓ１４が終了すると、反応容器１内に外気を導入して、換気工程Ｓ１５が行われ、その後、滅菌処理済みの処理対象物Ｊｂを反応容器１内から取り出し、これにより、滅菌処理プロセスの１サイクルが終了するようになっている。
　以上のように、第２実施形態の処理プロセスでは、第１実施形態における場合と異なるのは、滅菌処理工程Ｓ１２の後でプラズマ工程Ｓ１４の前に、過酸分解剤もしくは水を反応容器１内に注入する第２注入工程Ｓ１３が行われる点だけである。
　本実施形態によれば、薬剤に加えて、過酸分解剤もしくは水を反応容器１内に注入することにより、残留した薬剤の加水分解がより促進され、一層効果的に薬剤を無臭化することができる。単なる水でなく、例えばカタラーゼなどの過酸分解剤を注入することで、残留した薬剤の加水分解をより一層促進することができる。
　次に、本発明の第３実施形態について説明する。
　図６は、本発明の第３実施形態に係る滅菌処理装置Ｍ３の全体構成を概略的に示す構成図である。第１実施形態，第２実施形態では、高周波電源装置４によるプラズマの生成箇所は反応容器１内に設定されていたが、この第３実施形態に係る滅菌処理装置Ｍ３では、反応容器１１の外部に設定されている。
　すなわち、本実施形態では、反応容器１１と真空ポンプ３との間に、プラズマを発生させるためのプラズマ生成チャンバ８が介設されている。そして、反応容器１１は、その内部にプラズマを発生させることがないので、内箱は無く、所定の強度・剛性および耐食性を有する板材（好ましくは、鋼板等の金属板）で成る外箱１１ａのみで構成されている。プラズマ生成チャンバ８は、その上流側が接続パイプ８ｐを介して反応容器１１と接続され、下流側は接続パイプ３ｐを介して真空ポンプ３に接続されている。
　前記プラズマ生成チャンバ８は、ケース体８ａの内部に第１電極Ｄ１と第２電極Ｄ２とを備えて構成され、これら第１電極Ｄ１と第２電極Ｄ２との間の空間部にプラズマを発生させるものである。これらケース体８ａ，第１電極Ｄ１及び第２電極Ｄ２は何れも、所定の強度・剛性および耐食性を備えた導電性材料で形成されており、第１電極Ｄ１はケース体８ａと電気的に絶縁され、第２電極Ｄ２はケース体８ａと導通している。
　ケース体８ａ，第１電極Ｄ１，第２電極Ｄ２を形成する材料素材としては、例えば鋼板等の金属板が好ましく、ケース体８ａは、プラズマ生成チャンバ８の内部を外部に対して気密に覆うために通常の平板状の金属板で構成される一方、第１電極Ｄ１及び第２電極Ｄ２は、その内側と外側との間で気体等の流体が自在に流通できるように、多数の貫通孔を有する多孔金属板で構成されている。
　プラズマ生成チャンバ８の側方には、同チャンバ８内にプラズマを発生させるために、前述の（第１実施形態，第２実施形態の）ものと同様の高周波電源装置４が備えられている。この高周波電源装置４の高周波回路４ｃの一端側は、ケース体８ａに対して（従って第２電極Ｄ２に対して）電気的に接続され、他端側は真空スリーブ５を挿通してケース体８ａ内部の第１電極Ｄ１に対して電気的に接続されている。そして、高周波電源４ｓを稼働することにより、第１電極Ｄ１と第２電極Ｄ２との間に形成された空間部にプラズマを発生させることができるようになっている。また、本実施形態の装置Ｍ３は、前述の第１実施形態におけるものと同様のコントローラＥＣ３を備えている。
　このように、本実施形態によれば、滅菌処理対象物Ｊｂの反応容器１１内での収容位置及びその近傍から装置Ｍ３の外部に至る流体の経路の所定箇所にプラズマを発生させるに際して、かかる所定箇所を反応容器１１の外部に設定したことにより、反応容器１１と真空ポンプ３との間に、プラズマを発生させるための専用のプラズマ生成チャンバ８を設けることができ、排気経路において、より広範で強力なプラズマを薬剤に作用させることができる。これにより、反応容器１１内に残留した薬剤をより効果的に無臭化することができる。
　次に、本発明の第４実施形態について説明する。
　図７は、本発明の第４実施形態に係る滅菌処理装置Ｍ４の全体構成を概略的に示す構成図である。この第４実施形態に係る滅菌処理装置Ｍ４では、反応容器１の内部と外部の両方にプラズマの生成箇所が設定されている。
　すなわち、本実施形態では、反応容器１は、第１，第２実施形態におけるものと同様に外箱１ａ及び内箱１ｂを備えて構成され、かかる反応容器１と真空ポンプ３との間に、第３実施形態におけるものと同様のプラズマ生成チャンバ８が介設されている。そして、反応容器１の内部と、その外部に配置されたプラズマ生成チャンバ８の内部の両方にプラズマを発生させるようになっている。
　このため、本実施形態では、高周波電源装置１４は、高周波電源１４ｓからの高周波電力を反応容器１側に供給する第１高周波回路Ｃ１と、高周波電源１４ｓからの高周波電力をプラズマ生成チャンバ８側に供給する第２高周波回路Ｃ２とを備えている。第１高周波回路Ｃ１の一端側は反応容器１の外箱１ａに対して電気的に接続され、他端側は真空スリーブＫ１を挿通して反応容器１の内箱１ｂに対して電気的に接続されている。また、第２高周波回路Ｃ２の一端側はケース体８ａに対して（従って第２電極Ｄ２に対して）電気的に接続され、他端側は真空スリーブＫ２を挿通してケース体８ａ内部の第１電極Ｄ１に対して電気的に接続されている。
　そして、高周波電源４ｓを稼働することにより、反応容器１内では、外箱１ａと内箱１ｂとの間に形成された空間部にプラズマを発生させ、同時に、プラズマ生成チャンバ８内では、第１電極Ｄ１と第２電極Ｄ２との間に形成された空間部にプラズマを発生させることができるようになっている。また、本実施形態の装置Ｍ４は、前述の第１及び第３の実施形態におけるものと類似したコントローラＥＣ４を備えている。
　このように、本実施形態によれば、滅菌処理対象物Ｊｂの反応容器１内での収容位置及びその近傍から装置Ｍ４の外部に至る流体の経路の所定箇所にプラズマを発生させるに際して、かかる所定箇所を反応容器１の内部と外部の両方に設定したことにより、排気経路において、反応容器１の外部に設定したことで、より広範で強力なプラズマを薬剤に作用させることができ、しかも、反応容器１の内部にも設定したことで、多段的にプラズマを薬剤に作用させることができる。これにより、反応容器１１内に残留した薬剤をより一層効果的に無臭化することができる。
　尚、以上の実施形態において、真空ポンプ３の排気パイプ３ｄの下流側に、例えば、活性炭素や水酸化カルシウム等のアルカリ性物質を用いたフィルタを取り付けるようにしてもよい。
　本発明は、上述の実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において、種々の変更や設計上の改良等を行い得るものであることは、言うまでもない。
　本発明は、少なくとも過酢酸を含む過酸剤を薬剤として用いる滅菌処理装置および滅菌処理方法に関するもので、少なくとも過酢酸を含む過酸剤を薬剤として用いた滅菌処理において、滅菌処理工程後に残留する過酢酸および酢酸の無臭化をより容易に行えるようにした滅菌処理装置および滅菌処理方法として、有効に利用することができる。
　１，１１　反応容器
　２　薬剤注入装置
　３　真空ポンプ
　４，１４　高周波電源装置
　７　第２注入装置
　８　プラズマ生成チャンバ
　Ｊｂ　滅菌処理対象物
　Ｍ１，Ｍ２，Ｍ３，Ｍ４　滅菌処理装置
　ＥＣ１，ＥＣ２，ＥＣ３，ＥＣ４　コントローラ

Claims (7)

  1. 　滅菌処理対象物を収容して滅菌処理を施す反応容器と、
    　前記反応容器内に少なくとも過酢酸を含む過酸剤を滅菌処理用薬剤として供給する薬剤供給手段と、
    　前記反応容器内を減圧する減圧手段と、
    　前記反応容器内を換気する換気手段と、
    　前記滅菌処理対象物の前記反応容器内での収容位置及びその近傍から装置の外部に至る流体の経路の所定箇所にプラズマを発生させるプラズマ生成手段と、
    　前記薬剤による滅菌処理後に前記反応容器内が減圧される過程において、前記所定箇所がプラズマ発生状態に維持されるように、前記減圧手段およびプラズマ生成手段を制御する制御手段と、
    を備えていることを特徴とする滅菌処理装置。
  2. 　前記反応容器内に前記滅菌処理用薬剤が供給された後に、前記過酸剤の分解を促進する過酸分解剤もしくは水を前記反応容器内に供給する第２の供給手段を更に備えている、ことを特徴とする請求項１に記載の滅菌処理装置。
  3. 　前記所定箇所は前記反応容器内に設定されている、ことを特徴とする請求項１又は２に記載の滅菌処理装置。
  4. 　前記所定箇所は前記反応容器の外部に設定されている、ことを特徴とする請求項１又は２に記載の滅菌処理装置。
  5. 　前記所定箇所は前記反応容器の内部と外部の両方に設定されている、ことを特徴とする請求項１又は２に記載の滅菌処理装置。
  6. 　滅菌処理対象物を滅菌処理用の反応容器内の所定の収容位置に収容する処理対象物収容ステップと、
    　前記反応容器内を減圧した後、当該反応容器内に少なくとも過酢酸を含む過酸剤を滅菌処理用薬剤として供給する薬剤供給ステップと、
    　前記薬剤による滅菌処理後に、前記滅菌処理対象物の前記反応容器内での収容位置及びその近傍から装置の外部に至る流体の経路の所定箇所にプラズマを発生させるプラズマ生成ステップと、
    　前記所定箇所がプラズマ発生状態に維持された下で、前記反応容器内を再び減圧する再減圧ステップと、
    　前記再減圧ステップの後に、前記反応容器内を換気する換気ステップと、
    を備えていることを特徴とする滅菌処理方法。
  7. 　前記反応容器内に前記滅菌処理用薬剤が供給された後、前記過酸剤の分解を促進する過酸分解剤もしくは水を前記反応容器内に供給するステップを更に備えている、ことを特徴とする請求項６に記載の滅菌処理方法。
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