WO2014196692A1 - 도금 신뢰성 향상 기능을 갖는 내장형 안테나 제조방법 - Google Patents

도금 신뢰성 향상 기능을 갖는 내장형 안테나 제조방법 Download PDF

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Definitions

  • the present invention relates to a method for manufacturing an internal antenna, and in particular, by applying a pretreatment paint on the surface of the resin molding to achieve smooth and solid plating on the resin molding, thereby improving the reliability of plating formed on the resin molding. It relates to a built-in antenna manufacturing method.
  • a built-in antenna is formed inside a wireless communication device such as a mobile phone to facilitate wireless transmission and reception.
  • wireless communication devices such as mobile phones are not only built-in parts for the convenience and miniaturization of the portable, but also the thickness of the outer case in which the built-in antenna is formed continues to be thinner, which is relatively vulnerable to external shocks. do.
  • the case material of a wireless communication device such as a mobile phone is mainly a mixture of ABS resin (Arylonitrile Butadiene Styrene copolymer) and polycarbonate resin (PolyCarbonate), or polycarbonate resin, or ABS resin and polycarbonate resin to strengthen the strength It is made of a mixture of glass fiber and glass fiber, or polycarbonate and glass fiber, and the plating adhesion of the internal antenna manufactured by the plating method is decreased because plating is not performed smoothly on such resin material. Due to the lack of sufficient plating reliability there was a problem causing excessive defects and quality degradation of the antenna performance.
  • an object of the present invention is to apply a coating material for the pre-treatment to the surface of the resin molding used as a case material of a wireless communication device such as a mobile phone to achieve improved reliability during plating It is to provide a built-in antenna manufacturing method.
  • Another object of the present invention is to manufacture a built-in antenna to achieve a productivity improvement by remarkably shortening the working time while preventing quality degradation by compensating the damaged portion of the metal plating layer formed on the non-radiation pattern completely and at the same time.
  • the present invention provides a method of manufacturing an embedded antenna using electroplating, comprising the steps of: (a) forming a coating layer with a pretreatment paint on a resin molding; (b) forming a metal plating layer on an upper surface of the paint layer; (c) etching the laser pattern so that the radiation pattern portion and the antenna contact portion are electrically separated from the non-radiation pattern portion on the metal plating layer; (d) immersing the laser-etched resin molding on a hanger so as to electrically separate the radiation pattern portion and the antenna contact portion from the non-radiation pattern portion, and immersing it in an electroplating bath; (e) forming a primary conductive layer on the radiation pattern portion and the antenna contact portion; (f) forcibly peeling the metal plating layer formed on the non-radiation pattern portion except for the radiation pattern portion and the antenna contact portion; (g) forming a secondary conductive layer on the radiation pattern portion and the antenna contact portion; (h) forming an electrolytic nickel plating layer on
  • the paint is characterized by consisting of 30 to 40% by weight of acetone, 30 to 40% by weight of methyl ethyl ketone, 10 to 20% by weight of cyclohexanone, ABS resin or 10 to 20% by weight of LPC resin.
  • the radiation pattern portion and the antenna contact portion may form a gap between the non-radiation pattern portion 100 ⁇ m to 200 ⁇ m to prevent a defect due to a short phenomenon during electroplating.
  • Forcibly peeling the metal plating layer in the step (f) is characterized in that the chemical peeling including sulfuric acid and hydrogen peroxide solution, not electrolytic peeling.
  • the present invention can achieve improved adhesion of plating with various resin materials when manufacturing an embedded antenna, thereby improving reliability in a uniform and solid plating state.
  • the present invention has an effect that can significantly shorten the manufacturing time of the built-in antenna to improve productivity and reduce costs.
  • the present invention can increase the distance between the radiation pattern portion, the antenna contact portion and the non-radiation pattern portion can achieve the effect of reliably preventing the short phenomenon occurring during electroplating.
  • FIG. 1 is a flowchart illustrating a procedure of a method of manufacturing a built-in antenna according to a preferred embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a view schematically showing the overall configuration of the electroplating apparatus connected to the current integration regulator according to the built-in antenna manufacturing method of the present invention.
  • 3 and 4 are schematic views illustrating a procedure of forming a radiation pattern portion and an antenna contact portion, which are built-in antennas, according to the present invention, in a resin molded product forming a case of a wireless communication device such as a mobile phone.
  • FIG. 5 is a view schematically showing the antenna contact portion formed on the back (inner surface) of the resin molding according to the present invention.
  • FIG. 6 is a view schematically showing an enlarged cross-sectional view of the A-A line of FIG. 3.
  • FIG. 7 is a view schematically illustrating an enlarged cross-sectional view of the B-B line of FIG. 3.
  • FIG. 8 is a view schematically showing an enlarged cross-sectional view of the C-C line of FIG. 3.
  • FIG. 9 is a view schematically showing an enlarged cross-sectional view of the E-E line in FIG. 3.
  • FIG. 10 is a view schematically showing an enlarged cross-sectional view taken along the line F-F of FIG. 4.
  • FIG. 11 is a view schematically showing an enlarged cross-sectional view taken along the line G-G of FIG. 4.
  • FIG. 12 is a view schematically showing an H-H enlarged cross-sectional state of FIG. 4.
  • the present invention comprises the steps of (a) forming a paint layer (110); (b) forming a metal plating layer 120; (c) etching with a laser; (d) dipping in an electroplating bath; (e) forming a primary conductive layer; (f) forcibly peeling off the metal plating layer; (g) forming a secondary conductive layer; (h) forming a nickel plating layer; (i) sealing, washing and drying; This is done roughly.
  • Forming the coating layer 110 by coating the pretreatment paint on the resin molding (a) may include smooth and solid plating when the metal plating layer 120 is formed on the upper surface of the coating layer 110. ) To achieve.
  • the case material of a mobile phone or other wireless communication device mainly formed by injection molding is mainly a mixture of acrylonitrile butadiene styrene copolymer and polycarbonate resin, or polycarbonate or ABS resin and polycarbonate resin. Because it is made of glass fiber or polycarbonate and glass fiber, if you try to make the built-in antenna by electroplating method, plating is done except ABS resin or Liquid Crystal Polymer (LCP) resin. Since it is not formed smoothly and firmly to solve this problem is to form a paint layer 110 by applying a pre-treatment paint.
  • LCP Liquid Crystal Polymer
  • the paint is 30 to 40% by weight of acetone (acetone), 30 to 40% by weight of methyl ethyl ketone (MEK), 10 to 20% by weight of cyclohexanone, ABS resin or LCP resin 10 It consists of-20 weight%.
  • ABS resin or LCP resin when the weight of ABS resin or LCP resin is more than 20%, the concentration is high, so the dissolution efficiency of ABS resin or LCP resin becomes higher than the limit point, and the spraying is not performed properly due to some undissolved resin grains. There is a problem that the formation of particles is difficult.
  • coats the coating material comprised as mentioned above to a resin molding is preferable to form 6 micrometers-16 micrometers, it may be added or subtracted as needed.
  • the coating layer 110 applied as described above is preferably forcibly dried at 60 °C to 80 °C.
  • the paint is preferably used when the use temperature is less than 85 °C ABS resin that can be used at a relatively low temperature, and the use of LCP resin that can be used at a relatively high temperature when the use temperature is more than 85 °C ⁇ 240 °C.
  • ABS resin when the internal antenna is formed on the surface of the resin molding 100 constituting the case of the wireless communication device such as a mobile phone and when the reliability test is performed at 85 ° C. or lower.
  • the resin molding 100 constituting the case of a wireless communication device such as a mobile phone
  • the resin is injected again thereon.
  • LCP resin is also used in this case because the paint must withstand the injection temperature (approximately 220 °C ⁇ 240 °C) conditions and pressure because it must be formed in the form.
  • the step (b) is to form a metal plating layer 120 on the coating layer 110 of the resin molding 100, electroless plating (electroless plating: metal ions in the metal salt aqueous solution without receiving electrical energy from the outside) Is a method of self-catalytic reduction of a metal on the surface of a workpiece by using a reducing agent.) Copper, nickel and nickel alloys are easily dissolved by an acidic plating solution or components during electroplating. Electric conduction using a plating agent such as electric charge (when an electric field is present in a conductor, electric charges are generated and electric current is generated. As an electric charge, electrons or ions, etc., are light and electrons have a great influence on electric conductivity.
  • the metal plating layer 120 is formed on the entire surface of the resin molding 100 which is a non-conductor.
  • the metal plating layer 120 may be formed to have a thickness of 0.1 ⁇ m to 0.5 ⁇ m suitable for laser etching the radiation pattern portion 121 and the antenna contact portion 122 for the antenna function.
  • the radiation pattern portion 121 and the antenna contact portion for the antenna function are etched with a laser on the surface of the metal plating layer 120 formed by electroless plating on the front and back of the resin molding 100.
  • 122 is formed to be electrically separated from the non-radiation pattern portion (all portions except the radiation pattern portion and the antenna contact portion) 123.
  • the radiation pattern portion 121 and the antenna contact portion 122 are electrically separated from the non-radiation pattern portion 123 so that only the radiation pattern portion 121 and the antenna contact portion 122, which require plating, are electrically charged.
  • the boundary is marked by etching (etching) with a laser beam so as to be supplied.
  • the radiation pattern portion 121 and the antenna contact portion 122 is preferably such that the interval between the non-radiation pattern portion 123 to 100 ⁇ m ⁇ 200 ⁇ m to prevent defects due to short phenomenon during electroplating. .
  • Such laser etching is a method of small size or surface processing that applies the corrosion effect of chemicals, and the metal plating layer 120 electrodeposited on the surface of the resin molding 100 is not separated and stably.
  • the conductive layer formed by electroplating is formed in the radiation pattern portion 121 and the antenna contact portion 122 to a sufficient thickness, electrical conduction is performed even in various coarse thermal mechanical external conditions that may occur in a practical use environment of the antenna.
  • the metal plating layer 120 for maintaining the antenna function stably without peeling.
  • This laser etching operation is very important in keeping the antenna function smooth and good.
  • the radiation pattern part 121 and the antenna contact part 122 are fixed to the contacts of the electroplating rack 210.
  • a portion of the electroplating hanger 210 may be fixed to one or more points including one point of the conductive radiation pattern portion 121 and the antenna contact portion 122, but preferably
  • the through hole 124 to electrically conduct between the conductive radiation pattern portion 121 located in the front portion of the resin molding 100 and the antenna contact portion 122 located in the rear portion secures about 0.5 ⁇ 2mm It is good to fit the battery contacts of the electroplating hanger 210 to the through-electric conduction path.
  • step (d) the hanger 210 for electroplating the resin molding 100 having the laser-etched radiation pattern portion 121 and the antenna contact portion 122 so as to be electrically separated from the non-radiation pattern portion 123.
  • the plating solution 230 of the electroplating device 200 is charged after connecting the current integration adjusting device 300 to a plurality of electroplating racks (210) It is immersed in the electroplating tank 240.
  • the current integration adjustment device 300 by electroplating the metal conductive radiation pattern portion 121 and the antenna contact portion 122 that is electrically energized with the contacts of the electroplating hanger 210 is fixed
  • the supply time of the current supplied when increasing the thickness of the conductive layer is not set to a fixed value separately, but the integrated value multiplied by the current and the plating time is set to be proportional to the number of products for each electroplating hanger 210 and the set current integration value
  • the electric power supply is stopped or alarmed when the plating thickness is reached, so that the deviation of current flowing for each part in the plating tank 240 and the excessive or insufficient plating caused by the variable electric condition during the plating is performed.
  • Electroplating hanger without being influenced by ripple of supply current, installation interval of anode rod, slope, density of anode rod, change of resistance according to concentration and flow of plating solution 210 deviation between the coating thickness can be minimized.
  • the electroplating apparatus 200 distributes a rectifier for supplying a DC current and a cathode rod (not shown) for distributing the DC current, a cathode rod, and a copper or nickel used as a conventional electroplating anode material and a cathode current.
  • the cathode rod and the electroplating hanger 210 is stationary and comprises a hanger 220 that can supply electricity to it separately.
  • the current integration adjustment device 300 the current sensing sensor for detecting the amount of current supplied to each of the electroplating hanger 210 in real time and the time of plating the current value sensed by the current sensing sensor It is configured to include an LCD display having a micro process and a peripheral circuit and a buzzer for indicating the current progress of the target plating thickness desired by the user through integration.
  • the current integrating and adjusting device 300 is connected to each stool bed 220 of the electroplating device 200 and operated respectively.
  • the step (e) is to form the primary conductive layer 130 on the radiation pattern portion 121 and the antenna contact portion 122, the plating solution 230 accommodated in the electroplating tank 240 Supplying current to each immersed electroplating hanger (210) to a thickness (approximately 15 ⁇ m) set to electrolytic copper plating on the radiation pattern portion 121 and the antenna contact portion 122 of the resin molding 100
  • the primary conductive layer 130 is formed.
  • the metal plating layer 120 formed on the non-radiation pattern portion 123 is partially peeled off.
  • the step (f) is a step of completely forcibly peeling off the non-peeled metal plating layer 120 formed on the non-radiation pattern portion 123 except for the radiation pattern portion 121 and the antenna contact portion 122. 1 minute to 5 minutes of the resin molding 100 soaked in a stripping tank (not shown) in which sulfuric acid) and hydrogen peroxide (Hydrogen Peroxide) were mixed at a ratio of 1: 1.
  • the metal plating layer 120 formed by electroless plating on the non-radiation pattern portion 123 except for 122 is chemically and completely peeled off.
  • the secondary conductive layer 140 is formed on the radiation pattern portion 121 and the antenna contact portion 122 of the resin molding 100 in which the metal plating layer 120 of the non-radiation pattern portion 123 is peeled off.
  • a step of forming by supplying a current to each electroplating hanger 210 immersed in the plating solution 230 of the electroplating tank 240 to the radiation pattern portion 121 and the antenna contact portion 122
  • the secondary conductive layer 140 is formed to a thickness (approximately 0.5 ⁇ m to 2 ⁇ m) set by electrolytic copper plating.
  • the metal plating layer 120 of the non-radiation pattern portion 123 formed by electroless plating is completely forcibly peeled off, and then the secondary conductive layer is again.
  • the forming of 140 is performed by forcibly peeling the metal plating layer 120 and then performing electro-nickel plating, so that a film of a chemical formed during the peeling of the metal plating layer 120 interferes with the adhesion between the electro-nickel and the film between copper and nickel. Separation will appear.
  • Secondary conductive layer 140 to eliminate the film separation between the copper and nickel, and to compensate for the copper plating of some damaged radiation pattern 121 when the metal plating layer 120 of the non-radiation pattern portion 123 is forcibly peeled off. To form.
  • the step (h) is to form an electrolytic nickel plating layer 150 on the radiation pattern portion 121 and the antenna contact portion 122 on which the secondary conductive layer 140 is formed, and the electroplating tank 240 Supplying a current to each electroplating hanger 210 immersed in the plating solution 230 of the nickel plating layer 150 to a thickness set by electrolytic nickel plating on the radiation pattern portion 121 and the antenna contact portion 122 To form.
  • the step (i) is a step of sealing, washing, and drying the resin molding 100 on which the nickel plating layer 150 is formed. Since there is a pinhole of plating, after plating, the anticorrosive effect is treated by using a sealing agent.
  • drying at a temperature not too high is preferable, and preferably, moisture of the surface of the product by hot air drying or dehydration drying in a temperature range of about 40 to 60 ° C. Remove it.
  • the formation of the radiation pattern portion 121 and the antenna contact portion 122 for electric conduction through electroless plating on the resin molding 100 for forming the built-in antenna is degreasing as in ordinary plastic decorative plating. -> Etching-> Neutralization-> Active 1-> Active 2-> Electroless Copper or Electroless Nickel etc.
  • the resin molded product 100 which is a built-in antenna injection-molded with a mixed material, is degreased at 50 ° C. for 5 minutes with a conventional plastic degreasing solution to remove foreign substances on the surface, and is subjected to 72 ° C. with 500 g / l of chromic anhydride and 200 ml / l of sulfuric acid.
  • the resin molding 110 on which the paint layer 110 was formed was forcibly dried at 60 ° C to 80 ° C.
  • a neutralizing solution obtained by mixing the resin molding 110 having the paint layer 110 with 18% by weight of hydroxylamine sulfate and 82% by weight of distilled water, 10% by weight of 35% hydrochloric acid, and 8.7% by weight of water. The mixture was mixed with water at a temperature of about 60 ° C. for 5 minutes and then washed with water to neutralize the mixture.
  • the neutralized resin molding 100 was converted into 100 cc / l and 100 cc / l of a catalyst addition solution containing 0.2 g / l and 520 g / l of palladium chloride (PdCl2) and stannous chloride (SnCl2), respectively.
  • the first activity treatment was performed by 5% sulfuric acid at 40 ° C. for 2 minutes for 10 minutes, followed by 3 times of washing with water for 2nd activation treatment.
  • the activated resin molding 100 was electroless plated for 3 minutes in a commercial chemical copper standard plating solution containing copper sulfate to form a metal plating layer 120 having a thickness of 0.1 ⁇ m to 0.5 ⁇ m.
  • the through hole 124 for energizing the radiation pattern portion 121 and the antenna contact portion 122 is positioned inside the boundary line formed by laser etching.
  • the radiation pattern portion 121 and the antenna contact portion 122 are inserted by inserting a contact point of the electroplating hanger 210 having a diameter of 0.6 mm into the through hole 124 etched (marked) by the laser.
  • the resin moldings 100 were placed on a plurality of (5) electroplating hangers 210 by 48 lines at equal intervals, with 4 lines of 12 pieces each up and down between the electroplating hangers 210.
  • a plurality of electroplating hangers 210 on which the resin molding 100 was left still were immersed in the hanging bed 220 of the electroplating bath 240 to be dipped.
  • the electroplating bath 240 is dissolved in a concentration of copper sulfate 200g / L, sulfuric acid 60ml / L, which corresponds to the concentration range equivalent to the composition of a conventional copper sulfate electroplating solution.
  • the resin molding 100 is immersed in a stripping tank (not shown) in which sulfuric acid and hydrogen peroxide are mixed at a ratio of 1: 1. ) And the metal plating layer 120 formed on the non-radiation pattern portion 123 except for the antenna contact portion 122 is chemically forcibly peeled off.
  • the work time for peeling the metal plating layer 120 formed on the non-radiation pattern portion 123 may be significantly shortened to maximize productivity improvement.
  • the resin molding 100 in which the metal plating layer 120 formed on the non-radiation pattern portion 123 is peeled off is left still on the electroplating rack 210, and then 60 Amin is used by using the current integration adjusting device 300.
  • the film generated in the peeling tank is removed when the metal plating layer 120 is peeled off.
  • the electroplating hanger 210 which is washed with water after the electroplating, is introduced into the nickel electroplating tank 240 filled with the plating solution 230 in the same manner as the electroplating, and installed in the electroplating tank 240.
  • a current integration control device 300 to supply electricity to each of the plurality of electroplating hanger 210 at an average of 2A at 15Amin, electro-nickel plating to a total of 10A by radiation pattern portion 121 and antenna contact portion 122
  • the nickel plating layer 150 was formed in (h).
  • the nickel electroplating tank 240 has a liquid composition having the same composition as the usual decorative electric nickel plating solution of nickel sulfate 260g / L, film nickel 50g / L, boric acid 50g / L, pH 4.0 ⁇ pH 5.0, temperature 52 °C to be.
  • the oxidation of the radiation pattern portion 121 and the antenna contact portion 122 damaged in the stripping tank to remove the metal plating layer 120 can be compensated for and at the same time prevent scratches.
  • the electroplating hanger 210 reaching the integrated current amount set as described above is sequentially removed from the electroplating tank 240 to seal the resin molding 100 having the nickel plating layer 150 formed thereon, water washing, Drying treatment (i)
  • the productivity of the internal antenna can be increased by at least 2 to 3 times, as well as to form a uniform plating layer, improve the plating reliability, and improve the manufacturing quality of the internal antenna. It is also able to outperform price competitiveness.

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Abstract

본 발명은 내장형 안테나(intenna) 제조방법에 관한 것으로, 특히 수지 성형물의 표면에 전처리용 도료를 도포하여 수지 성형물에 원활하고 견고한 도금이 이루어지도록 함으로써, 수지 성형물에 형성되는 도금의 신뢰성 향상을 이루도록 하는 내장형 안테나 제조방법에 관한 것이다.

Description

도금 신뢰성 향상 기능을 갖는 내장형 안테나 제조방법
본 발명은 내장형 안테나(intenna) 제조방법에 관한 것으로, 특히 수지 성형물의 표면에 전처리용 도료를 도포하여 수지 성형물에 원활하고 견고한 도금이 이루어지도록 함으로써, 수지 성형물에 형성되는 도금의 신뢰성 향상을 이루도록 하는 내장형 안테나 제조방법에 관한 것이다.
일반적으로 휴대폰과 같은 무선통신 기기의 내부에는 무선 송수신을 용이하게 하기 위한 내장형 안테나가 형성된다.
한편, 휴대폰과 같은 무선통신 기기는 휴대의 편리와 소형화를 이루기 위해 내장되는 부품뿐만 아니라 내장형 안테나가 형성되는 외부 케이스의 두께 또한 계속 얇아지고 있기 때문에 외부의 충격에 상대적으로 취약하여 파손 등의 주원인이 된다.
이에 따라 얇으면서도 외부 충격으로부터 파손을 최소화함은 물론 내장형 안테나를 용이하게 형성할 수 있는 제조방법과 케이스 재료가 요구되었고, 이에 부합하여 다양한 소재의 케이스와 내장형 안테나 제조방법이 제시되고 있다.
그러나, 종래의 휴대폰과 같은 무선통신기기의 케이스 소재는 강도를 보강하기 위해 주로 ABS수지(Arylonitrile Butadiene Styrene copolymer)와 폴리카보네이트 수지(PolyCarbonate)의 혼합이나, 폴리카보네이트 수지, 또는 ABS수지와 폴리카보네이트 수지와 유리섬유(Glass Fiber)의 혼합이나, 폴리카보네이트와, 유리섬유(Glass Fiber)의 혼합으로 이루어지며 이와 같은 수지 소재에는 도금이 원활하게 이루어지지 않기 때문에 도금방식으로 제조되는 내장형 안테나의 도금 밀착력 저하로 인하여 충분한 도금 신뢰성을 발휘하지 못하므로 과도한 불량 발생과 안테나 성능의 품질저하를 야기하는 문제점이 있었다.
또, 종래에 내장형 안테나 제조방법으로는 본 출원인에 의해 2010년 05월 10일자로 특허출원된 10-2010-0043328호(균일한 도금층을 형성하는 내장형 안테나 제조방법)에서 알 수 있듯이 특히, 공급되는 전류량과 전류 값을 실시간으로 감지하여 도금한 시간과의 적산을 통하여 원하는 도금두께의 도달시 전기공급의 중단 또는 경보가 울리도록 함으로써 방사패턴부와 안테나접점부에 형성되는 도금층의 두께를 편차 없이 균일하게 형성되도록 하고 있으나 이 또한 도금 밀착력이 완벽하지 않으며, 방사패턴부와 안테나접점부를 제외한 비 방사패턴부분에 도금된 금속 도금층을 제거하기 위해 과도한 작업시간이 소요되어 생산성이 저하될 뿐만 아니라 휴대폰 브랜드들이 요구하는 신뢰성 항목을 모두 해소하기 어려운 문제점이 있다.
이에 본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 휴대폰과 같은 무선통신기기의 케이스 소재로 사용되는 수지 성형물의 표면에 전처리용 도료를 도포하여 도금시 신뢰도 향상을 이루도록 하는 내장형 안테나 제조방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 비 방사패턴부에 형성된 금속 도금층을 화학적으로 완전히 강제 박리함과 동시에 손상된 부분을 보상함으로써, 품질저하를 방지하면서 작업시간을 현저히 단축시켜 생산성 향상을 이루도록 하는 내장형 안테나 제조방법을 제공하는 것이다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은 전기도금을 이용한 내장형 안테나 제조방법에 있어서, (a) 수지 성형물에 전처리용 도료로 도료층을 형성하는 단계와; (b) 상기 도료층의 상면에 금속 도금층을 형성하는 단계와; (c) 상기 금속 도금층에 방사패턴부 및 안테나접점부가 비 방사패턴부와 전기적으로 분리 형성되도록 레이저로 식각하는 단계와; (d) 상기 방사패턴부 및 안테나접점부가 비 방사패턴부와 전기적으로 분리되도록 레이저 식각된 수지 성형물을 걸이대에 걸어 전기도금조에 침지시키는 단계와; (e) 상기 방사패턴부와 안테나접점부에 1차 전도층을 형성하는 단계와; (f) 상기 방사패턴부와 안테나접점부를 제외한 비 방사패턴부에 형성된 금속 도금층을 강제 박리하는 단계와; (g) 상기 방사패턴부와 안테나접점부에 2차 전도층을 형성하는 단계와; (h) 상기 2차 전도층이 형성된 방사패턴부와 안테나접점부에 전해 니켈 도금층을 형성하는 단계와; (i) 상기 니켈 도금 층이 형성된 수지 성형물을 봉공처리, 수세, 건조하는 단계; 를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
상기 도료는 아세톤 30∼40 중량%, 메틸에틸케톤 30∼40 중량%, 시클로헥사논 10∼20 중량%, ABS수지 또는 LPC 수지 10∼20 중량%로 이루어지는 것을 특징으로 한다.
상기 (c) 단계에서 방사패턴부 및 안테나접점부는 비 방사패턴부와의 간격을 100㎛∼200㎛를 이루도록 하여 전기 도금시 쇼트현상으로 인한 불량을 방지하도록 하는 것을 특징으로 한다.
상기 (f) 단계에서 금속 도금층을 강제 박리하는 하는 것은 전해 박리가 아닌 황산, 과산화수소수를 포함하는 화학적 박리인 것을 특징으로 한다.
이상에서 설명한 바와 같이 본 발명은 내장형 안테나 제조시 다양한 수지 소재와도 도금의 밀착력 향상을 이룰 수 있어 균일하고 견고한 도금 상태로 신뢰성을 향상시키는 효과가 있다.
또, 본 발명은 내장형 안테나 제조 시간을 현저히 단축하여 생산성 향상과 비용절감을 이룰 수 있는 효과가 있다.
또한, 본 발명은 방사패턴부, 안테나접점부와 비 방사패턴부와의 간격을 넓혀 전기 도금시 발생하는 쇼트 현상을 확실하게 방지하는 효과를 도모할 수 있다.
도 1은 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 내장형 안테나 제조방법의 순서를 나타낸 플로우챠트이다.
도 2는 본 발명의 내장형 안테나 제조방법에 따른 전류적산조정장치와 연결된 전기도금장치의 전체 구성을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 3 및 도 4는 휴대폰과 같은 무선통신기기의 케이스 등을 형성하는 수지 성형물에 본 발명에 따른 내장형 안테나인 방사패턴부와 안테나접점부를 형성하는 순서를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 5는 본 발명에 따른 수지 성형물의 배면(내면)에 형성된 안테나접점부를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 6은 도 3의 A-A선 확대 단면 상태를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 7은 도 3의 B-B선 확대 단면 상태를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 8은 도 3의 C-C선 확대 단면 상태를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 9는 도 3의 E-E선 확대 단면 상태를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 10은 도 4의 F-F선 확대 단면 상태를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 11은 도 4의 G-G선 확대 단면 상태를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 12는 도 4의 H-H선 확대 단면 상태를 개략적으로 나타낸 도면이다.
이하, 본 발명에 따른 도금 신뢰성 향상 기능을 갖는 내장형 안테나 제조방법의 바람직한 실시 예를 첨부된 도면에 의거하여 보다 구체적으로 설명한다.
여기서, 하기의 모든 도면에서 동일한 기능을 갖는 구성요소는 동일한 참조부호를 사용하여 반복적인 설명은 생략하며, 아울러 후술되는 용어들은 본 발명에서의 기능을 고려하여 정의된 것으로서, 이것은 고유의 통용되는 의미로 해석되어야 함을 명시한다.
도 1 내지, 도 12에 도시된 바와 같이 본 발명은 (a) 도료층(110)을 형성하는 단계와; (b) 금속 도금층(120)을 형성하는 단계와; (c) 레이저로 식각하는 단계와; (d) 전기도금조에 침지시키는 단계와; (e) 1차 전도층을 형성하는 단계와; (f) 금속 도금층을 강제 박리하는 단계와; (g) 2차 전도층을 형성하는 단계와; (h) 니켈 도금층을 형성하는 단계와; (i) 봉공처리, 수세, 건조하는 단계; 로 대별되어 이루어진다.
상기 (a) 수지 성형물(100)에 전처리용 도료를 도포하여 도료층(110)을 형성하는 단계는, 상기 도료층(110)의 상면에 금속 도금층(120)의 형성시 원활하고 견고한 도금(plating)을 이루도록 하기 위한 것이다.
즉, 주로 사출성형으로 형성되는 휴대폰이나 기타 무선통신기기의 케이스 재료는 주로 ABS수지(acrylonitrile butadiene styrene copolymer)와 폴리카보네이트 수지(polycarbonate resin)의 혼합이나, 폴리카보네이트, 또는 ABS수지와 폴리카보네이트 수지와 유리섬유(glass fiber)의 혼합이나, 폴리카보네이트와 유리섬유(glass fiber)의 혼합으로 이루어지기 때문에 내장형 안테나를 전기도금 방식을 이용하여 만들려고 하면 ABS수지 또는 LCP(Liquid Crystal Polymer)수지 외에는 도금이 원활하고 견고하게 형성되지 않게 되므로 이를 해결하기 위해 전처리용 도료를 도포하여 도료층(110)을 형성하는 것이다.
상기 도료는 아세톤(acetone) 30∼40 중량%와, 메틸에틸케톤(MEK : Methyl Ethyl Ketone) 30∼40 중량%와, 시클로헥사논(cyclohexanone) 10∼20 중량%와, ABS수지 또는 LCP 수지 10∼20 중량%로 이루어진다.
여기서, 상기 아세톤이 30중량% 이하로 첨가될 경우, ABS수지 또는 LCP수지의 용해 효율이 저하되는 문제점이 발생하게 되고, 아세톤이 40중량% 이상으로 첨가될 경우 습기에 취약하여 투명성이 저하됨과 동시에 접착력이 저하되는 문제점이 발생하게 된다.
또, 상기 메틸에틸케톤이 30중량%이하로 첨가될 경우 ABS수지 또는 LCP수지의 용해 효율이 저하되는 문제점이 발생하게 되고, 메틸에틸케톤이 40중량%이상으로 첨가될 경우 수지 성형물(100)과 도료의 접착력이 저하되는 문제점이 있다.
또한, 상기 시클로헥사논의 중량이 10%이하로 첨가될 경우 도료의 농도가 낮아 스프레이 작업시 도료가 너무 빨리 건조되어 레벨링(leveling : 소지의 미시적(微視的) 요철(凹凸)이나 조흔(줄을 친 자국) 등을 전기도금으로 평활화하는 것)이 좋지 못하게 되고 시클로헥사논의 중량이 20%이상으로 첨가될 경우 도료의 스프레이 작업 후 건조시간이 너무 길어지는 문제점이 있다.
상기 ABS수지 또는 LCP수지의 중량이 10%이하로 첨가될 경우 농도가 낮아(묽음) 원하는 도막 두께 형성이 어려운 문제점이 있다.
그리고, ABS수지 또는 LCP수지의 중량이 20%이상으로 첨가될 경우 농도가 높아 ABS수지 또는 LCP수지의 용해능률이 한계점 이상이 되어 일부 용해되지 않은 수지 알갱이로 인해 스프레이가 제대로 이루어지지 않을 뿐만 아니라 고른 입자의 형성이 어려운 문제점이 있다.
또, 상기와 같이 구성된 도료를 수지 성형물에 도포하는 두께는 6㎛∼16㎛를 이루도록 형성하는 것이 바람직하나 필요에 따라 가감될 수도 있다.
그리고, 상기와 같이 도포된 도료층(110)은 60℃∼80℃로 강제건조하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 도료는 사용온도가 85℃ 이하일 경우 비교적 저온에서 사용할 수 있는 ABS수지를 사용하고 사용온도가 85℃ 이상∼240℃이하일 경우 비교적 고온에서 사용할 수 있는 LCP수지를 사용하는 것이 바람직하다.
즉, 휴대폰과 같은 무선통신기기의 케이스를 구성하는 수지 성형물(100)의 표면에 내장형 안테나를 형성하여 사용할 때와 그 신뢰성 시험이 85℃ 이하에서 이루어질 경우 ABS수지를 사용하는 것이 바람직하다.
또, 그 신뢰성 시험이 85℃ 이상이 요구될 경우 LCP수지를 사용하는 것이 바람직하다.
그리고, 휴대폰과 같은 무선통신기기의 케이스를 구성하는 수지 성형물(100)의 내면에 내장형 안테나를 형성하려고 하는 경우 1차로 수지 성형물(100)의 표면에 내장형 안테나를 형성한 후 그 위에 다시 수지를 사출 형식으로 덮어 형성하여야 하므로 도료가 사출 온도(개략 220℃∼240℃) 조건과 압력을 견뎌야 하므로 이 경우에도 역시 LCP수지를 사용한다.
상기 (b)단계는 상기 수지 성형물(100)의 도료층(110)에 금속 도금층(120)을 형성하는 단계로서, 무전해도금(electroless plating : 외부로부터 전기에너지를 공급받지 않고 금속염 수용액 중의 금속이온을 환원제의 힘에 의해 자기 촉매적으로 환원시켜 피처리물의 표면 위에 금속을 석출시키는 방법.)을 통해 전기도금시 산성의 도금액 또는 구성성분에 의해 용해가 용이한 구리(銅)나 니켈, 니켈합금과 같은 도금제를 이용하여 전기전도(도체 내에 전기장이 있을 때 전하가 이동하며 전류를 발생하는 일로서, 전하로는 전자나 이온 등이 있는데 전자가 가벼워 전자전도가 전기전도율에 큰 영향을 미친다.)를 위한 금속 도금층(120)을 부도체인 수지 성형물(100) 표면 전체에 형성한다.
또, 상기 금속 도금층(120)의 두께는 안테나 기능을 위한 방사패턴부(121) 및 안테나접점부(122)를 레이저로 식각하기 적합한 0.1㎛∼0.5㎛로 형성하는 것이 바람직하다.
상기 (c) 단계는, 수지 성형물(100)의 전면과 배면에 무 전해도금을 통해 형성된 금속 도금층(120)의 표면에 레이저로 식각하여 안테나 기능을 위한 방사패턴부(121)와 안테나접점부(122)는 비 방사패턴부(방사패턴부와 안테나접점부를 제외한 모든 부분)(123)와 전기적으로 분리 되도록 형성한다.
즉, 상기 방사패턴부(121)와 안테나접점부(122)는 비 방사패턴부(123)로부터 전기적으로 분리 구분하여 도금이 요구되는 방사패턴부(121)와 안테나접점부(122)만 전기가 공급되도록 레이저빔(Laser Beam)으로 식각(에칭)하여 경계를 구분표시한다.
이때, 상기 방사패턴부(121)와 안테나접점부(122)는 비 방사패턴부(123)와의 간격이 100㎛∼200㎛를 이루도록 하여 전기 도금시 쇼트현상으로 인한 불량을 방지하도록 하는 것이 바람직하다.
이에 따라, 전기 도금시 상기 방사패턴부(121) 및 안테나접점부(122)에만 전기가 흘러 도금이 이루어지고 비 방사패턴부(123)에는 전기가 흐르지 않아 도금이 이루어지지 않게 된다.
이와 같은 레이저 식각(etching)은 화학약품의 부식작용을 응용한 소형(塑型)이나 표면가공의 한 방법으로서, 수지 성형물(100)의 표면에 전착되는 금속 도금층(120)이 분리되지 않고 안정적으로 밀착력을 유지하는데 필요한 결속력을 얻기 위하여 미세한 정박홀(anchor hole)을 형성하는 과정으로서, 상기 도료층(110) 형성의 부가적인 것으로 볼 수 있다.
이에 따라, 상기 방사패턴부(121)와 안테나접점부(122)에 전기도금에 의한 전도층이 충분한 두께로 형성된 후, 안테나의 실사용환경에서 일어날 수 있는 여러 가지 조악한 열적 기계적 외부 조건에서도 전기전도를 위한 금속 도금층(120)이 박리 되지 않고 안정적으로 안테나 기능을 유지하게 된다.
이러한 레이저 식각 작업은 안테나의 기능을 원활하고 양호하게 유지하도록 함에 있어서 대단히 중요하다.
상기한 방사패턴부(121)와 안테나접점부(122)를 전기도금용 걸이대(210)의 접점에 고정한다.
이때, 상기 전기도금용 걸이대(210)의 전기접점을 고정할 수 있는 부위로는 도전 방사패턴부(121)의 한 지점과 안테나접점부(122)를 포함하는 하나 혹은 그 이상의 지점으로 하되 바람직하게는 수지 성형물(100)의 전면부에 위치하는 도전 방사패턴부(121)와 배면부에 위치하는 안테나접점부(122) 간을 전기적으로 통전할 수 있는 관통 홀(124)을 0.5 ~ 2mm 정도 확보하여 이 관통 전기 통전로에 전기도금용 걸이대(210)의 전지 접점을 끼우는 것이 좋다.
즉, 상기 수지 성형물(100)의 전면부에 위치한 방사패턴부(121)와 배면부에 위치하는 안테나접점부(122)를 전기적으로 통전하도록 확보된 관통홀(124)의 내면에 전기도금용 걸이대(210)의 접점을 끼워넣어 고정한다.
상기 (d) 단계는, 비 방사패턴부(123)와 전기적으로 분리되도록 레이저 식각된 방사패턴부(121)와 안테나접점부(122)를 형성한 수지 성형물(100)을 전기도금용 걸이대(210)에 걸어 전기도금조(240)에 침지시키는 단계로서, 다수의 전기도금용 걸이대(210)에 전류적산조정장치(300)를 연결한 후 전기도금장치(200)의 도금용액(230)이 충전된 전기도금조(240)에 침지시킨다.
즉, 상기 수지 성형물(100)의 방사패턴부(121)와 안테나접점부(122)를 고정한 다수의 전기도금용 걸이대(210)에 공급 전류의 유동을 실시간으로 파악하고 각 전기도금용 걸이대(210) 간에 필요로 하는 총공급 전류량을 정확하고 균일하게 조정할 수 있는 전류적산조정장치(300)를 연결하여 전기도금장치(200)가 설치된 전기도금조(240)에 침지시키는 것이다.
이때, 상기 전류적산조정장치(300)에 의해, 전기도금용 걸이대(210)의 접점이 고정된 금속도전 방사패턴부(121) 및 그와 전기적으로 통전되는 안테나접점부(122)를 전기 도금하여 전도층의 두께를 증가시킬 때 공급되는 전류의 공급시간은 별도로 고정된 값으로 정하지 않고 전류와 도금시간을 곱한 적산값을 전기도금용 걸이대(210) 별로 제품 수에 비례하도록 설정하고 설정된 전류적산치에 도금두께가 도달했을 때 전기공급 정지 또는 경보하게 함으로써, 도금조(240) 내의 각 부위별로 흐르는 전류의 편차와 도금이 진행되는 동안에 가변적인 전기조건으로 발생하는 도금의 과다 또는 부족, 도금조 내의 공급전류의 리플, 양극막대의 설치간격, 기울기, 양극막대의 밀집도, 도금액의 농도와 흐름에 따른 저항의 변화 등의 영향을 받지 않고 전기도금용 걸이대(210) 간 도금두께의 편차는 최소화 될 수 있다.
여기서, 상기 전기도금장치(200)는 직류전류를 공급하는 정류기와 직류전류를 배분하는 양극막대(미도시)와 양극막대와 통상의 전기도금 양극재료로 이용되는 구리 또는 니켈과 음극전류를 배분하는 음극막대와 전기도금용 걸이대(210)를 정치하고 이에 개별적으로 전기를 공급할 수 있는 걸침대(220)를 포함하여 구성된다.
또, 상기 전류적산조정장치(300)는, 상기 각 전기도금용 걸이대(210)에 공급되는 전류량을 실시간으로 감지하는 전류감지센서와 상기 전류감지센서에 의해 감지된 전류값을 도금한 시간과의 적산을 통하여 사용자가 원하는 목표 도금두께의 현재 진행 상태를 알려주는 마이크로프로세스와 주변회로 및 이를 표시하는 부저를 갖는 LCD표시부를 포함하여 구성된다.
이와 같은 구성은 전류적산조정장치(300)는 상기 전기도금장치(200)의 각 걸침대(220)에 연결되어 각각 동작된다.
상기 (e) 단계는, 상기 방사패턴부(121)와 안테나접점부(122)에 1차 전도층(130)을 형성하는 단계로서, 상기 전기도금조(240)의 수용된 도금용액(230)에 침지된 각 전기도금용 걸이대(210)에 전류를 공급하여 상기 수지 성형물(100)의 방사패턴부(121)와 안테나접점부(122)에 전해 동 도금으로 설정된 두께(개략 15㎛ 정도)로 1차 전도층(130)을 형성시킨다.
이때, 상기 비 방사패턴부(123)에 형성된 금속 도금층(120)은 일부 박리된다.
상기 (f) 단계는, 상기 방사패턴부(121)와 안테나접점부(122)를 제외한 비 방사패턴부(123)에 형성된 박리되지 못한 금속 도금층(120)을 완전히 강제 박리하는 단계로서, 황산(sulfuric acid)과 과산화수소수(Hydrogen Peroxide)를 1:1의 비율로 혼합한 박리조(미도시)에 상기 수지 성형물(100)을 1분∼5분 정도 담가 방사패턴부(121)와 안테나접점부(122)를 제외한 비 방사패턴부(123)에 무 전해도금으로 형성된 금속 도금층(120)을 화학적으로 완전히 강제 박리한다.
따라서, 종래와 같이 비 방사패턴부(123)가 전기 도금조(240)에 채워진 황산에 의해 40분∼60분 정도로 오랜 시간에 의해 서서히 박리 되는 것에 비해, 1분∼5분 정도로 신속하게 불필요한 부위에 형성된 무 전해도금에 의한 금속 도금층(120)을 제거시킴으로써 작업시간을 현저히 단축하여 생산성 향상을 극대화시킬 수 있는 것이다.
상기 (g)단계는, 비 방사패턴부(123)의 금속 도금층(120)이 박리된 수지 성형물(100)의 방사패턴부(121)와 안테나접점부(122)에 2차 전도층(140)을 형성하는 단계로서, 상기 전기도금조(240)의 도금용액(230)에 침지된 각 전기도금용 걸이대(210)에 전류를 공급하여 상기 방사패턴부(121)와 안테나접점부(122)에 전해 동 도금으로 설정된 두께(개략 0.5㎛∼2㎛ 정도)로 2차 전도층(140)을 형성시킨다.
이와 같이, 상기 (e) 단계에서 1차 전도층(130)을 확보한 다음 무 전해도금으로 형성된 비 방사패턴부(123)의 금속 도금층(120)을 완전히 강제 박리시킨 후, 다시 2차 전도층(140)을 형성하는 것은 상기 금속 도금층(120)을 강제박리한 후 전기 니켈 도금을 하게 되면 금속 도금층(120)의 박리시 형성된 화학약품의 피막이 전기 니켈과의 부착력을 방해하여 동과 니켈 간의 막 분리 현상이 나타나게 된다.
이러한 동과 니켈 간의 막 분리 현상을 없애고, 비 방사패턴부(123)의 금속 도금층(120)을 강제 박리시 일부 손상된 방사패턴부(121)의 동 도금을 보상하기 위해 2차 전도층(140)을 형성하는 것이다.
상기 (h) 단계는, 상기 2차 전도층(140)이 형성된 방사패턴부(121)와 안테나접점부(122)에 전해 니켈 도금층(150)을 형성하는 단계로서, 상기 전기도금조(240)의 도금용액(230)에 침지된 각 전기도금용 걸이대(210)에 전류를 공급하여 상기 방사패턴부(121)와 안테나접점부(122)에 전해 니켈 도금으로 설정된 두께로 니켈 도금층(150)을 형성시킨다.
상기 (i) 단계는, 상기 니켈 도금 층(150)이 형성된 수지 성형물(100)를 봉공처리, 수세, 건조하는 단계로서, 도금의 핀 홀이 있기 때문에 도금 후는 봉공처리제로 처리하여 방식효과를 높이고 가열에 의한 수지 성형물(100)의 변형이나 도금층의 들뜸을 방지하기 위하여 지나치게 높지 않은 온도로 건조하는 것이 좋고 바람직하게는 40 ~ 60℃ 정도의 온도범위에서 열풍건조 또는 탈수 건조로써 제품 표면의 수분을 제거한다.
이와 같이, 내장형 안테나를 형성하기 위한 상기 수지 성형물(100)에 무 전해도금을 통해 전기전도를 위한 방사패턴부(121)와 안테나접점부(122)의 형성은 통상의 플라스틱 장식 도금에서와 같이 탈지 -> 에칭 -> 중화 -> 활성 1 -> 활성 2 -> 무 전해 동 또는 무 전해 니켈 등의 공정을 거치는 것이 바람직하다.
상기와 같이 구성된 본 발명의 일 실시 예에 의한 도금 신뢰성 향상기능을 갖는 내장형 안테나 제조방법을 좀 더 구체적으로 설명하면 다음과 같다.
실시 예 1
먼저, ABS수지(acrylonitrile butadiene styrene copolymer)와 폴리카보네이트 수지(polycarbonate resin)의 혼합이나 폴리카보네이트 또는 ABS수지와 폴리카보네이트 수지와 유리섬유(glass fiber)의 혼합이나 폴리카보네이트와 유리섬유(glass fiber)가 혼합된 재료 등으로 사출 성형된 내장형 안테나인 수지 성형물(100)을 통상의 플라스틱 탈지 용액으로 5분간 50℃에서 탈지하여 표면의 이물질을 제거하고 무수크롬산 500g/ℓ와 황산 200㎖/ℓ로써 72℃에서 12분간 침지 및 수세 한 후, 아세톤(acetone) 30∼40 중량%와, 메틸에틸케톤(MEK : Methyl Ethyl Ketone) 30∼40 중량%와, 시클로헥사논(cyclohexanone) 10∼20 중량%와, ABS수지 또는 LCP 수지 10∼20 중량%로 이루어지는 전처리용 도료를 이용하여 6㎛∼16㎛로 고르게 도포하여 도료층(110)을 형성하였다.(a)
그리고, 상기 도료층(110)이 형성된 수지 성형물(110)을 60℃∼80℃로 강제건조하였다.
상기 도료층(110)이 형성된 수지 성형물(110)을 하이드록실아민 설페이트(hydroxylamine sulfate) 18중량%를 증류수 82중량%와 혼합한 중화액 2.5중량%와, 35% 염산 10중량%, 물 8.7중량%를 혼합한 액에서 60℃ 정도의 온도로 5분간 처리한 후 수세 하여 중화처리하였다.
그리고, 중화처리된 수지 성형물(100)을 염화파라듐(PdCl2) 및 염화제일주석(SnCl2)을 각각 0.2g/ℓ, 520g/ℓ를 혼합한 촉매부여액 100cc/ℓ과 염산 100cc/ℓ로 10분간 활성처리 및 4회 수세 하여 1차 활성처리하고 이를 5% 황산으로 40℃에서 10 분간 2차 활성 처리하고 3회 수세 하여 2차 활성처리 하였다.
상기 활성처리된 수지 성형물(100)을 황산동을 포함하는 상용의 화학동 표준 도금용액에서 3분간 무 전해도금 하여 0.1㎛∼0.5㎛의 두께로 금속 도금층(120)을 형성하였다.(b)
상기와 같은 전처리용 도료를 수지 성형물(100)에 도포하여 도료층(110)을 형성한 후 그 위에 상기 금속 도금층(120)을 시행해 본 결과 ABS+PC 수지는 물론이고 PC, PC +GLASS_FIBER(GLASS_FIBER 함유율 60%까지)등과 같은 수지로 이루어지는 성형물에도 도금이 원활하고 견고하게 밀착 형성되어 휴대폰과 같은 무선통신기기의 브랜드들이 요구하는 내장형 안테나의 신뢰성 항목을 모두 만족할 수 있었다.
다음, 상기 무 전해 동 도금에 의해 금속 도금층(120)이 형성된 수지 성형물(100)을 내부온도 60℃가 유지되도록 열풍을 공급하면서 탈수 건조한 후, 금속 도금층(120) 표면에 레이저를 이용하여 방사패턴부(121)와 안테나접점부(122) 및 비 방사패턴부(123)가 분리 형성되도록 식각 하였다.(c)
이때, 상기 방사패턴부(121)와 안테나접점부(122)의 통전을 위한 관통홀(124)은 레이저 식각에 의해 형성된 경계선 내측으로 위치하도록 한다.
그리고, 상기 레이저에 의해 식각 형성(표시)된 도전부의 관통홀(124)에 직경 0.6mm의 전기도금용 걸이대(210)의 접점을 삽입하여 방사패턴부(121)와 안테나접점부(122)가 통전되도록 정치(stationary, 定置 : 이동하거나 하지 않고 구축된 기초상에 고정시키는 형태.)하였다.
이와 같이 하여, 전기도금용 걸이대(210) 상하 간 12개씩 4줄로 하여 동일한 간격으로 48개씩 수지 성형물(100)을 다수(5개)의 전기도금용 걸이대(210)에 정치하였다.
상기 수지 성형물(100)이 정치된 다수의 전기도금용 걸이대(210)를 모두 전기 도금조(240)의 걸침대(220)에 정치하여 침지시켰다.(d)
이때, 상기 전기 도금조(240)에는 황산동 200g/L, 황산 60ml/L의 농도로 용해되어 있으며, 이는 통상의 황산동 전기동도금액의 조성과 동등한 농도범위에 해당된다.
상기 걸침대(220)에 정치된 각각의 전기도금용 걸이대(210)에 전류적산조정장치(300)를 이용하여 60Amin로 다수의 전기도금용 걸이대(210) 각각에 설정하고 전기도금조(240) 내에 공급되는 총전류를 걸이대 당 평균 2A로 하여 총 10A로 전기도금을 하여 방사패턴부(121)와 안테나접점부(122)에 1차 전도층(130)을 형성하였다.(e)
이때, 상기와 같이 설정된 적산전류량에 도달하여 경보가 울리는 전기도금용 걸이대(240)를 순차적으로 전기 도금조(240)에서 꺼내어 수세처리하였다.
다음, 상기 수지 성형물(100)을 황산(sulfuric acid)과 과산화수소수(Hydrogen Peroxide)가 1:1의 비율로 혼합된 박리조(미도시)에 담가 1분∼5분 경과시켜 방사패턴부(121)와 안테나접점부(122)를 제외한 비 방사패턴부(123)에 형성된 금속 도금층(120)을 화학적으로 강제 박리한다.(f)
이에 따라, 비 방사패턴부(123)에 형성된 금속 도금층(120) 박리를 위한 작업시간을 현저히 단축하여 생산성 향상을 극대화시킬 수 있다.
계속해서, 상기 비 방사패턴부(123)에 형성된 금속 도금층(120)이 박리된 수지 성형물(100)을 전기도금용 걸이대(210)에 정치한 후, 전류적산조정장치(300)를 이용하여 60Amin로 다수의 전기도금용 걸이대(210) 각각에 설정하고 전기도금조(240) 내에 공급되는 총전류를 걸이대 당 평균 2A로 하여 총 10A로 전기도금을 하여 방사패턴부(121)와 안테나접점부(122)에 2차 전도층(140)을 형성하였다.(g)
이때, 상기 금속 도금층(120) 박리시 박리조에서 생긴 피막이 없어지게 된다.
다음, 상기 전기도금 후 수세처리한 전기도금용 걸이대(210)를 전기동도금과 동일한 방법으로 도금용액(230)이 충전된 니켈 전기도금조(240)에 투입하고, 전기도금조(240)에 설치된 전류적산조정장치(300)를 이용하여 15Amin로 다수의 전기도금용 걸이대(210) 각각에 평균 2A로 전기를 공급하여 총 10A로 전기 니켈 도금하여 방사패턴부(121)와 안테나접점부(122)에 니켈 도금층(150)을 형성하였다.(h)
이때, 상기 니켈 전기도금조(240)에는 황산니켈 260g/L, 영화니켈 50g/L, 붕산 50g/L, pH 4.0 ~ pH 5.0, 온도 52℃의 통상의 장식용 전기 니켈도금액과 동일한 조성을 가진 액이다.
이에 따라, 상기 금속 도금층(120)을 제거하기 위해 박리조에서 손상된 방사패턴부(121)와 안테나접점부(122)의 산화를 보완함과 동시에 스크레치 등을 방지할 수 있게 된다.
다음, 상기와 같이 설정된 적산전류량에 도달하여 경보가 울리는 전기도금용 걸이대(210)를 순차적으로 전기도금조(240)에서 꺼내어 니켈 도금층(150)이 형성된 수지 성형물(100)을 봉공처리, 수세, 건조처리하였다.(i)
따라서, 상기와 같은 방법으로 내장형 안테나의 제조시 생산성을 최소 2 ∼ 3배 증가시킴은 물론 균일한 도금층을 형성하고, 도금 신뢰성을 향상을 이루어 내장형 안테나의 제조 품질 향상을 도모하며, 타 공법과의 가격 경쟁력에서도 월등히 앞설 수 있게 되었다.
이상에서 설명한 본 발명은 전술한 실시 예 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지로 치환, 변형 및 균등한 타 실시 예로의 변경이 가능함은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어서 명백할 것이다.
내장형 안테나, 인테나, 균일 도금층, 도금 신뢰성

Claims (5)

  1. 전기도금을 이용한 내장형 안테나 제조방법에 있어서,
    (a) 수지 성형물에 전처리용 도료로 도료층을 형성하는 단계와;
    (b) 상기 도료층의 상면에 금속 도금층을 형성하는 단계와;
    (c) 상기 금속 도금층에 방사패턴부 및 안테나접점부가 비 방사패턴부와 전기적으로 분리 형성되도록 레이저로 식각하는 단계와;
    (d) 상기 방사패턴부 및 안테나접점부가 비 방사패턴부와 전기적으로 분리되도록 레이저 식각된 수지 성형물을 걸이대에 걸어 전기도금조에 침지시키는 단계와;
    (e) 상기 방사패턴부와 안테나접점부에 1차 전도층을 형성하는 단계와;
    (f) 상기 방사패턴부와 안테나접점부를 제외한 비 방사패턴부에 형성된 금속 도금층을 강제 박리하는 단계와;
    (g) 상기 방사패턴부와 안테나접점부에 2차 전도층을 형성하는 단계와;
    (h) 상기 2차 전도층이 형성된 방사패턴부와 안테나접점부에 전해 니켈 도금층을 형성하는 단계와;
    (i) 상기 니켈 도금 층이 형성된 수지 성형물을 봉공처리, 수세, 건조하는 단계; 를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 도금 신뢰성 향상 기능을 갖는 내장형 안테나 제조방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 도료는 아세톤 30∼40 중량%, 메틸에틸케톤 30∼40 중량%, 시클로헥사논 10∼20 중량%, ABS수지 또는 LPC 수지 10∼20 중량%로 이루어지는 것을 특징으로 하는 도금 신뢰성 향상 기능을 갖는 내장형 안테나 제조방법.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 (c) 단계에서 방사패턴부 및 안테나접점부는 비 방사패턴부와의 간격을 100㎛∼200㎛를 이루도록 하여 전기 도금시 쇼트현상으로 인한 불량을 방지하도록 하는 것을 특징으로 하는 도금 신뢰성 향상 기능을 갖는 내장형 안테나 제조방법.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 (f) 단계에서 금속 도금층을 강제 박리하는 하는 것은 전해 박리가 아닌 황산, 과산화수소수를 포함하는 화학적 박리인 것을 특징으로 하는 도금 신뢰성 향상 기능을 갖는 내장형 안테나 제조방법.
  5. 제2항에 있어서,
    상기 도료는 사용온도가 85℃ 이하일 경우 ABS수지를 사용하고, 사용온도가 85℃ 이상∼240℃이하일 경우 LCP수지를 사용하는 것을 특징으로 하는 도금 신뢰성 향상 기능을 갖는 내장형 안테나 제조방법.
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