WO2015190111A1 - 複層ガラスユニットおよび複層ガラスユニット用ガラス板 - Google Patents

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福田　健太郎
孝二 岩田
哲男 皆合
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Nippon Sheet Glass Co Ltd
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Definitions

  • the present invention relates to a multilayer glass unit used for a window structure and the like, and a glass plate for a multilayer glass unit used for the unit.
  • Double-glazed glass units may be used for window structures that separate indoor and outdoor spaces such as buildings and vehicles.
  • the multi-layer glass unit includes a pair of glass plates disposed so as to face each other with a gap layer interposed therebetween so as to be separated from each other at a predetermined interval.
  • the presence of the void layer improves the heat insulation compared to the window structure using a single glass plate. By improving the heat insulation of the window structure, the energy required for indoor air conditioning can be reduced.
  • 2013-517206 discloses a multilayer heat insulating glass unit including a first glass plate on the outdoor space side and a second glass plate on the indoor space side, the outer surface of the second glass plate ( A glass unit in which a low emissivity film including a transparent conductive film is formed on a main plane on the indoor side: a fourth surface (# 4 surface) described later is disclosed.
  • Japanese Patent Laid-Open No. 2013-517206 discloses a film containing silver on the inner surface of the first glass plate (main plane on the gap layer side: second surface (# 2 surface) described later) in this glass unit. It is described that a low-emissivity film having the following may be further formed.
  • a low emissivity film is formed on only one main plane by forming low emissivity films on the two main planes of the glass plate constituting the unit.
  • an improvement in the heat shielding property of the multilayer glass unit that is, the window structure including the unit, for example, a decrease in the U value (thermal conductivity) is expected.
  • One of the objects of the present invention is to provide a multi-layer glass unit in which the SHGC value can be designed larger than before while maintaining a low U value.
  • the multilayer glass unit of the present invention includes a pair of glass plates arranged to face each other with a gap layer therebetween so as to be separated from each other at a predetermined interval, and separates the indoor space from the outdoor space
  • a glass unit comprising: a first low emissivity (Low-E) film on a main plane on the air gap layer side of a glass plate located on the indoor space side of the pair of glass plates;
  • a second low emissivity film is formed on the plane, and the arithmetic average roughness Ra of the surface of the second low emissivity film formed on the main plane on the indoor space side is 14 nm or less.
  • the multi-layer glass unit of the present invention viewed from a different side surface is a multi-layer glass unit composed of three glass plates A, glass plates B, and glass plates C, and separates an indoor space and an outdoor space.
  • the glass plate A and the glass plate B, and the glass plate B and the glass plate C are arranged to face each other with a gap layer therebetween so as to be separated from each other at a predetermined interval.
  • a first low emissivity (Low-E) film is formed on the main plane on the gap layer side of the glass plate C located closest to the indoor space side, and a second low emissivity (Low-E) film on the main plane on the indoor space side.
  • a low emissivity film is formed on each of the three glass plates, and the glass plate at the glass plate B side in the glass plate A located closest to the outdoor space or at the center of the glass plate.
  • a third low emissivity film is formed on the main plane on the glass plate A side of the glass plate C, and the surface of the second low emissivity film formed on the main plane on the indoor space side of the glass plate C is The arithmetic average roughness Ra is 14 nm or less.
  • the glass plate for a multilayer glass unit of the present invention is a glass plate used for the glass plate located on the indoor space side in the multilayer glass unit of the present invention, and has low radiation on both main planes of the glass plate.
  • An arithmetic average roughness Ra of the surface of the low emissivity film formed on one of the main planes is 14 nm or less.
  • a first aspect of the present disclosure includes a pair of glass plates that are arranged to face each other with a gap layer therebetween so as to be separated from each other at a predetermined interval, and separate the indoor space from the outdoor space
  • a glass unit comprising: a first low emissivity (Low-E) film on a main plane on the air gap layer side of a glass plate located on the indoor space side of the pair of glass plates; A second low emissivity film is formed on the plane, and the arithmetic average roughness Ra of the surface of the second low emissivity film formed on the main plane on the indoor space side is 14 nm or less.
  • a multi-layer glass unit is provided.
  • the first low emissivity film is a metal layer, and a sacrifice in which the metal layer is disposed in contact with the metal layer on the surface on the gap layer side.
  • a first laminated structure including a layer and a pair of dielectric layers sandwiching the metal layer and the sacrificial layer, wherein the second low-emissivity film is formed by the second low-emissivity film
  • a multilayer glass unit having a second laminated structure including an underlayer, a transparent conductive oxide layer, and an amorphous layer in order from the principal plane side.
  • the third aspect of the present disclosure provides a multilayer glass unit in which the thickness of the amorphous layer is less than 40 nm in addition to the second aspect.
  • the transparent conductive oxide layer includes a fluorine-doped tin oxide layer having a thickness of 120 nm or more, and the amorphous layer includes a silica layer having a thickness of 15 to 70 nm.
  • a thickness d1 of the transparent conductive oxide layer and a thickness d2 of the amorphous layer satisfy the formula d2 ⁇ d1 ⁇ 0.11 + 1.4 nm, and the emissivity ⁇ of the second low emissivity film is 0
  • a multilayer glass unit that is .34 or less is provided.
  • the fifth aspect of the present disclosure provides a multilayer glass unit in which the first low emissivity film has two first laminated structures in addition to any of the second to fourth aspects.
  • the structure farther from the main plane on which the first low emissivity film is formed is included in the two first stacked structures.
  • a root mean square slope R ⁇ q of the roughness curve on the surface of the second low-emissivity film is 0.77 or less.
  • a layer glass unit is provided.
  • the eighth aspect of the present disclosure provides a multilayer glass unit in which the second low emissivity film further has a functional layer in addition to any of the first to seventh aspects.
  • a low emissivity (Low ⁇ ) is applied to both main planes of the pair of glass plates positioned on the outdoor space side.
  • Low ⁇ low emissivity
  • the thickness of the multilayer glass unit is 22 mm or less, and the U value is 1.6 (W / (m 2 ⁇ K)).
  • the multilayer glass unit having an SHGC value of 0.4 to 0.7 and a visible light transmittance of 50 to 75% is provided.
  • a multilayer glass unit including a template glass plate or a netted glass plate closer to the outdoor space than the gap layer is provided.
  • the glass plates positioned on the outdoor space side of the pair of glass plates are separated from each other at a predetermined interval.
  • a multilayer glass unit further including a glass plate disposed on the outdoor space side so as to face each other with a further void layer interposed therebetween.
  • a thirteenth aspect of the present disclosure is a glass plate used for the glass plate located on the indoor space side of the pair of glass plates in the multilayer glass unit of any one of the first to twelfth aspects.
  • the low emissivity (Low-E) film is formed on both main planes of the glass plate, and the arithmetic average roughness Ra of the surface of the low emissivity film formed on one of the main planes is 14 nm or less.
  • a glass plate for a multilayer glass unit is provided.
  • a root mean square slope R ⁇ q of a roughness curve on the surface of the low emissivity film formed on one of the principal planes is 0.77 or less.
  • a glass plate for a laminated glass unit is provided.
  • a fifteenth aspect of the present disclosure is a multilayer glass unit that includes three glass plates A, a glass plate B, and a glass plate C, and separates an indoor space and an outdoor space, and includes the glass plate A and the glass
  • the plate B, and the glass plate B and the glass plate C are disposed to face each other with a gap layer interposed therebetween so as to be separated from each other at a predetermined interval, and the most indoor of the three glass plates.
  • a first low emissivity (Low-E) film is formed on the main plane on the gap layer side of the glass plate C located on the space side, and a second low emissivity film is formed on the main plane on the indoor space side.
  • Low-E low emissivity
  • a third low emissivity film is formed, and the arithmetic average roughness Ra of the surface of the second low emissivity film formed on the main plane on the indoor space side of the glass plate C is 14 nm or less.
  • a multilayer glass unit is provided.
  • FIG. 1 shows an example of the multilayer glass unit of the present invention.
  • the multilayer glass unit 1 shown in FIG. 1 includes two glass plates, a first glass plate 2 located on the outdoor space side and a second glass plate 3 located on the indoor space side.
  • the 1st and 2nd glass plates 2 and 3 are the glass plates which are arrange
  • the first and second glass plates 2 and 3 are arranged so as to be separated from each other at a predetermined interval, and a space formed between the separated two is the gap layer 4.
  • the multilayer glass unit 1 is incorporated into a window structure such as a building or a vehicle as a single glass unit or as a window assembly having a window frame (sash) portion, and separates an indoor space and an outdoor space.
  • the glass unit 1 shown in FIG. 1 is composed of two glass plates 2 and 3, the first glass plate 2 is exposed to the most outdoor space side, and the second glass plate 3 is the most indoor. They are arranged on the space side and exposed to the space.
  • the multi-layer glass unit 1 low radiation is applied to both main planes (glass surfaces) 11 c and 11 d of the second glass plate 3 located on the indoor space side among the pair of glass plates 2 and 3 sandwiching the gap layer 4.
  • Rate (Low-E) films 5a and 5b are formed. More specifically, the first low emissivity film 5a is provided on the main plane 11c on the gap layer 4 side of the second glass plate 3 located on the indoor space side, and the second low emissivity film 5d is provided on the main plane 11d on the indoor space side.
  • Each emissivity film 5b is formed.
  • the Ra of the surface of the main plane 11d of the second glass plate 3 exposed in the indoor space is 14 nm or less (strictly speaking, Low-E exposed in the indoor space formed on the main plane 11d).
  • the Ra of the surface of the film 5b is 14 nm or less)
  • the main plane of the glass plate included in the unit is numbered in order from the outdoor space side to the first surface, the second surface, the third surface,.
  • the main plane 11a (the main plane exposed to the outdoor space) on the opposite side of the gap layer 4 of the first glass 2 is the first plane.
  • the main plane 11b facing the void layer 4 of the first glass 2 is the second surface (# 2 surface)
  • the main plane 11c facing the void layer 4 of the second glass 3 is the third surface.
  • the main plane (main plane exposed to the indoor space) 11d on the side opposite to the void layer 4 of the second glass 3 is the fourth plane (# 4 plane).
  • the # 3 and # 4 planes have Low-E films.
  • the multilayer glass unit 1 has at least two Low-E films. As a result, compared to a multi-layer glass unit having only one Low-E film, the heat shielding property can be improved, and typically the U value can be reduced. For example, in a Low-E film including a metal layer such as a silver (Ag) layer, the U value of a multilayer glass unit can be reduced by increasing the number of metal layers. The reduction is limited. With at least two Low-E films, the U value of the multi-layer glass unit can be reduced beyond the limit. In the multilayer glass unit 1, Low-E films 5 a and 5 b are formed on both main planes 11 c and 11 d of the second glass plate 3 positioned on the indoor space side with the gap layer 4 interposed therebetween. As a result, it is possible to design a multi-layer glass unit that exhibits a higher SHGC value while maintaining a lower U value than when two Low-E films are formed on the main plane of another combination. It becomes possible.
  • the configuration of the Low-E films 5a and 5b is not particularly limited, and a known Low-E film can be applied.
  • An example of the Low-E film is a film including a metal layer such as an Ag layer.
  • This film has, for example, a structure in which a dielectric layer / metal layer / sacrificial layer / dielectric layer are laminated in order from the main plane side of the glass plate (first laminated structure).
  • the Low-E film sandwiches the metal layer, the sacrificial layer disposed in contact with the metal layer on the surface of the metal layer opposite to the main plane side, and the metal layer and the sacrificial layer.
  • the Low-E film may include two or more metal layers, which enables a design that further reduces the U value of the multilayer glass unit.
  • the Low-E film has, for example, a structure in which a dielectric layer / metal layer / sacrificial layer / dielectric layer / metal layer / sacrificial layer / dielectric layer are stacked in this order from the main plane side of the glass plate. Yes. That is, the Low-E film may have two or more first stacked structures. In this case, the dielectric layer sandwiched between the sacrificial layer and the metal layer is formed with two first stacked structures. Can be shared.
  • Each layer of the dielectric layer, the metal layer, and the sacrificial layer may be a single layer made of one material or a laminate of two or more layers made of different materials.
  • the pair of dielectric layers that sandwich the metal layer and the sacrificial layer in the first laminated structure may be made of the same material or different materials.
  • a Low-E film including a metal layer is generally composed of 2n + 1 or more layers since the number of dielectric layers sandwiching the metal layer is n + 1 or more when the number of the metal layers is n. ing.
  • the metal layer is, for example, an Ag layer.
  • the Ag layer may be a layer mainly composed of Ag and made of Ag.
  • the “main component” means a component having the largest content in the layer, and the content is usually 50% by weight or more, 70% by weight or more, 80% by weight or more, 90% by weight. % Or more is more preferable.
  • a material obtained by doping Ag with a metal such as palladium, gold, indium, zinc, tin, aluminum, and copper may be used for the metal layer instead of Ag.
  • the total thickness of the metal layers in the Low-E film is, for example, 18 to 34 nm, and preferably 22 to 29 nm.
  • the sacrificial layer is, for example, a layer mainly composed of at least one selected from titanium, zinc, nickel, chromium, zinc / aluminum alloy, niobium, stainless steel, alloys thereof, and oxides thereof.
  • a layer mainly composed of at least one selected from the group consisting of zinc oxide and zinc oxide is preferable.
  • the thickness of the sacrificial layer is, for example, 0.1 to 5 nm, and preferably 0.5 to 3 nm.
  • the dielectric layer is, for example, a layer mainly composed of oxide or nitride, and more specific examples of such a dielectric layer include silicon, aluminum, zinc, tin, titanium, indium, and niobium. It is a layer mainly composed of at least one selected from oxides and nitrides.
  • the thickness of the dielectric layer is, for example, 8 to 120 nm, and preferably 15 to 85 nm.
  • the formation method of the metal layer, the sacrificial layer, and the dielectric layer is not limited, and a known thin film formation method can be used.
  • these layers can be formed by a sputtering method. That is, the Low-E film including the metal layer can be formed by, for example, a sputtering method.
  • the dielectric layer made of oxide or nitride can be formed by reactive sputtering, which is a kind of sputtering method, for example.
  • the sacrificial layer is a layer necessary for forming a dielectric layer on the metal layer by reactive sputtering (a layer that prevents oxidation of the metal layer by oxidizing itself during reactive sputtering). Are well known to those skilled in the art.
  • the Low-E film is a laminated film including a transparent conductive oxide layer.
  • This film has, for example, a structure in which an underlayer / transparent conductive oxide layer / amorphous layer is laminated in order from the main plane side of the glass plate (second laminated structure).
  • this Low-E film has a second laminated structure including a transparent conductive oxide layer, and a base layer and an amorphous layer that sandwich the transparent conductive oxide layer.
  • This Low-E film may include two or more transparent conductive oxide layers.
  • Each layer of the base layer, the transparent conductive oxide layer, and the amorphous layer may be a single layer composed of one material or a laminate of two or more layers composed of different materials. .
  • the underlayer is, for example, a layer mainly composed of at least one selected from silicon, aluminum, zinc and tin oxides, and is mainly composed of at least one selected from silicon, aluminum and zinc oxides. It can be a layer.
  • the underlayer suppresses alkali metal ions such as sodium ions contained in the glass plate from moving to the transparent conductive oxide layer, thereby suppressing a decrease in the function of the oxide layer.
  • the thickness of the underlayer is, for example, 25 to 90 nm, preferably 35 to 70 nm.
  • the underlayer may be composed of two or more layers having different refractive indexes. In this case, the reflected color of the Low-E film can be made closer to a neutral color by adjusting the thickness of each layer. It is.
  • the transparent conductive oxide layer is mainly composed of at least one selected from, for example, indium tin oxide (ITO), zinc aluminum oxide, antimony-doped tin oxide (SnO: Sb), and fluorine-doped tin oxide (SnO 2 : F). It is a layer.
  • the thickness of the transparent conductive oxide layer is, for example, 100 to 350 nm, and preferably 120 to 260 nm.
  • the amorphous layer is, for example, a layer mainly composed of at least one selected from silicon and aluminum oxides.
  • the amorphous layer protects the transparent conductive oxide layer and has an effect of reducing the surface roughness of the transparent conductive oxide layer, particularly the oxide layer formed by a chemical vapor deposition (CVD) method.
  • the thickness of the amorphous layer is, for example, 10 to 70 nm, preferably 20 to 60 nm. The upper limit of the thickness of the amorphous layer can be less than 40 nm.
  • the Low-E film may have a functional layer.
  • the functional layer can be formed on the amorphous layer.
  • the functional layer is, for example, an antibacterial layer or an antiviral layer.
  • the functional layer is, for example, a TiO 2 layer, and preferably an anatase TiO 2 layer.
  • the transparent conductive oxide layer includes a fluorine-doped tin oxide layer having a thickness of 120 nm or more, and the amorphous layer includes a silica layer having a thickness of 15 to 70 nm.
  • the fluorine-doped tin oxide layer having a thickness of 120 nm or more contributes to making the emissivity ⁇ of the Low-E film below a certain value.
  • the silica layer having a thickness of 15 nm or more and 70 nm or less has a rough surface on the surface of the transparent conductive oxide layer while suppressing fluctuations in the reflected color of the multi-layer glass unit, particularly red, as viewed from the indoor space side and the outdoor space side.
  • the thickness d1 of the transparent conductive oxide layer and the thickness d2 of the amorphous layer satisfy the formula d2 ⁇ d1 ⁇ 0.11 + 1.4 nm. Considering that the thickness of the amorphous layer is not less than the thickness of the silica layer, that is, not less than 15 nm, at this time, the thickness d1 of the transparent conductive oxide layer is not less than 125 nm.
  • the emissivity ⁇ of the second Low-E film 5b is, for example, 0.34 or less.
  • the formation method of a base layer, a transparent conductive oxide layer, and an amorphous layer is not limited, A well-known thin film formation method can be utilized.
  • these layers can be formed by a CVD method. That is, the Low-E film including the transparent conductive oxide layer can be formed by, for example, a CVD method. Formation of a thin film by a CVD method can be performed “on-line” in a glass plate manufacturing process, more specifically, in a glass plate manufacturing process by a float method.
  • the first Low-E film 5a formed on the main plane 11c facing the void layer 4 of the second glass plate 3 is composed of a metal layer and a main layer in the metal layer.
  • the second Low-E film 5b having a laminated structure and formed on the main plane 11d on the indoor space side of the second glass plate 3 has an underlayer and a transparent conductive oxide layer in order from the main plane 11d side. And a second stacked structure including an amorphous layer.
  • the Low-E film 5b is exposed to the indoor space, and dirt (for example, fingerprints) is more likely to adhere to and adhere to the Low-E film 5a facing the void layer 4. It is also strongly exposed to chemical and physical stresses for cleaning dirt or contact with objects.
  • the second laminated structure is superior in strength, chemical and physical durability. For this reason, by setting it as such embodiment, the durability at the time of use in the multilayer glass unit 1 improves.
  • the transparent conductive oxide layer includes a fluorine-doped tin oxide layer having a thickness of 120 nm or more, and the amorphous layer has a thickness of 15 to 70 nm.
  • An example including a silica layer is given.
  • the fluorine-doped tin oxide layer having a thickness of 120 nm or more contributes to making the emissivity ⁇ of the Low-E film below a certain value.
  • the silica layer having a thickness of 15 nm or more and 70 nm or less has a rough surface on the surface of the transparent conductive oxide layer while suppressing fluctuations in the reflected color of the multi-layer glass unit, particularly red, as viewed from the indoor space side and the outdoor space side. This contributes to an improvement in the dirt removal property of the glass surface on the indoor space side of the multilayer glass unit 1.
  • the thickness d1 of the transparent conductive oxide layer and the thickness d2 of the amorphous layer satisfy the formula d2 ⁇ d1 ⁇ 0.11 + 1.4 nm.
  • the thickness of the amorphous layer is not less than the thickness of the silica layer, that is, not less than 15 nm, at this time, the thickness d1 of the transparent conductive oxide layer is not less than 125 nm.
  • the emissivity ⁇ of the second Low-E film 5b is, for example, 0.34 or less.
  • the first Low-E film 5a has two first laminated structures.
  • the design of the multilayer glass unit 1 in which the U value is further reduced is possible.
  • the metal layer thickness d3 included in the structure farther from the main plane 11c on which the first Low-E film 5a is formed is closer to the main plane 11c. It is preferable that the ratio d4 / d3 of the thickness d4 of the metal layer included in the structure is 1.15 or more and the thickness d3 is 6 nm or more.
  • the surface roughness of the second Low-E film 5b formed on the glass surface 11d (# 4 surface in the multilayer glass unit 1 shown in FIG. 1) facing the indoor space of the second glass plate 3 is moderate. It is smooth.
  • the arithmetic average roughness Ra (specified in JIS B0601) of the surface of the Low-E film 5b is 14 nm or less, preferably 13 nm or less, more preferably 12 nm or less.
  • Ra in this specification is a value calculated from the height profile of the surface with an atomic force microscope (AFM).
  • the root mean square slope R ⁇ q (specified in JIS B0601) of the roughness curve on the surface of the Low-E film 5b is preferably 0.77 or less. Even in the case of showing the same Ra value, the microscopic inclination of the surface variation can be different. Considering this difference in inclination, R ⁇ q of 0.77 or less is preferable.
  • R ⁇ q in this specification is a value obtained three-dimensionally from the height profile of the surface by AFM. Since the value of R ⁇ q obtained two-dimensionally is different from the value of R ⁇ q obtained three-dimensionally, it cannot be used.
  • the configuration of the second glass plate 3 itself is not particularly limited.
  • the second glass plate 3 is, for example, a float glass plate formed by a float method.
  • the glass composition of the 2nd glass plate 3 is also not specifically limited,
  • the 2nd glass plate 3 is comprised, for example from a soda-lime glass composition.
  • the thickness of the second glass plate 3 is, for example, 2 to 15 mm, preferably 2.5 to 6 mm.
  • the configuration of the first glass plate 2 is not particularly limited.
  • the first glass plate 2 is, for example, a float glass plate formed by a float method, a template glass plate, or a netted glass plate.
  • the glass composition of the 1st glass plate 2 is also not specifically limited,
  • the 1st glass plate 2 is comprised, for example from a soda-lime glass composition.
  • the thickness of the first glass plate 2 is, for example, 2 to 15 mm, preferably 2 to 8 mm, and more preferably 2.5 to 6 mm.
  • the Low-E film may or may not be formed on the main plane of the first glass plate 2.
  • the Low-E film is not formed on both main planes of the first glass plate 2. That is, the Low-E film is not formed on the main planes of the glass plates positioned on the outdoor space side, out of the pair of glass plates facing each other with the gap layer 4 interposed therebetween.
  • the main plane exposed to the outdoor space for example, the main plane exposed to the outdoors when the multilayer glass unit 1 is used. There is no need to consider the problem of dirt.
  • a glass plate can be used.
  • a multilayer glass unit using a template glass plate or a netted glass plate as one glass plate is suitable for use in a window structure of a building.
  • a design effect is expected from the template glass plate, and a crime prevention and / or fire prevention effect is expected from the netted glass plate.
  • the gap layer 4 is a peripheral portion of the pair of glass plates (first and second glass plates 2 and 3) sandwiching the gap layer 4 (peripheral portion of the main plane facing the void layer 4).
  • the thickness of the spacer 6 is maintained by the spacer 6.
  • the space in the gap layer 4 is sealed by a sealing material 7 disposed on the outer periphery of the spacer 6.
  • a further sealing material may be disposed between the spacer 6 and the glass plates 2 and 3.
  • a known configuration can be applied to the spacer 6 and the sealing material 7.
  • the void layer 4 can be introduced and filled with air (dry air) and gases such as inert gases such as argon and krypton.
  • the U value of the double-glazed unit 1 can be designed to be smaller when argon is filled than air and krypton is filled rather than argon.
  • the thickness of the void layer 4 is, for example, 4 to 16 mm, preferably 6 to 16 mm.
  • the thickness of the multilayer glass unit 1 shown in FIG. 1 is, for example, 10 to 22 mm, and may be 12 to 22 mm.
  • the manufacturing method of the multilayer glass unit 1 shown in FIG. 1 is not specifically limited, For example, the 1st glass plate formed by the well-known method and the 2nd glass plate formed using the thin film formation method mentioned above Can be produced by a known method.
  • the void layer 4 may be decompressed, and in this case, the degree of decompression is not limited.
  • the U value of the double-glazed unit 1 can be designed to be smaller by using the void layer 4 that has been depressurized to a vacuum (about 10 Pa or less in pressure).
  • An example of the multi-layer glass unit in which the gap layer 4 is a vacuum layer is shown in FIG.
  • the multilayer glass unit 1 shown in FIG. 2 has the same configuration as that of the multilayer glass unit 1 shown in FIG. 1 except that the configuration for maintaining the void layer 4 that is a vacuum layer more reliably is different.
  • a typical configuration for more reliably maintaining the gap layer 4 that is a vacuum layer is a state in which the first glass plate 2 and the second glass plate 3 are separated from each other at a predetermined interval with the gap layer 4 interposed therebetween.
  • the negative pressure of the gap layer 4 is maintained by the plurality of spacers 21 and the sealing material 7 disposed on the outer periphery of the unit 1.
  • the first flat surfaces 11c and 11d of the second glass plate 3 positioned on the indoor space side are first.
  • the second Low-E films 5a and 5b are formed, and the surface Ra of the main plane 11d of the second glass plate 3 exposed to the indoor space is 14 nm or less.
  • a known configuration can be applied to the spacer 21 and the sealing material 7.
  • the thickness of the gap layer 4 which is a vacuum layer is, for example, 0.1 to 1 mm, and typically 0.2 mm.
  • the thickness of the multilayer glass unit 1 shown in FIG. 2 is, for example, 6 to 12 mm based on the fact that the thickness of the gap layer 4 can be reduced, and is set to 6.2 to 10.2 mm or 6.2 to 8.2 mm. You can also.
  • the double-glazed unit 1 shown in FIG. One glass plate can be used by replacing it, and by this use, for example, an excellent heat insulating effect (small U value) is expected.
  • the manufacturing method of the multilayer glass unit 1 shown in FIG. 2 is not particularly limited.
  • the first glass plate formed by a known method and the second glass plate formed by using the above-described thin film forming method. Can be produced by a known method.
  • the multi-layer glass unit of the present invention has the above-described first and second glass plates 2 and 3 disposed opposite to each other with the gap layer 4 interposed therebetween so as to be separated from each other at a predetermined interval. It is not limited as long as it is provided.
  • the multilayer glass unit of the present invention may include a further glass plate other than the first and second glass plates 2 and 3.
  • the further glass plate is arrange
  • the glass plate 3 is exposed to the indoor space (the Low-E film 5b formed on the main plane 11d is exposed to the indoor space).
  • the glass plate located closest to the indoor space is also the second glass plate 3 in the multilayer glass unit of the present invention constituted by three or more glass plates.
  • the number of glass plates on the outdoor space side and the configuration of each glass plate are not limited to the gap layer 4 sandwiched between the first and second glass plates 2 and 3.
  • the multilayer glass unit 1 includes a template glass plate or a netted glass plate on the outdoor space side of the gap layer 4.
  • This template glass plate or netted glass plate may be the first glass plate 2 or may be a further glass plate disposed further on the outdoor space side than the first glass plate 2.
  • the effects expected from the template glass plate and the netted glass plate are as described above.
  • One embodiment of the multi-layer glass unit in which the number of glass plates on the outdoor space side with respect to the gap layer 4 is two or more is the first glass plate located on the outdoor space side of the pair of glass plates 2 and 3 described above. 2 further includes a glass plate disposed on the outdoor space side so as to face each other with a further gap layer interposed therebetween so as to be separated from each other at a predetermined interval.
  • This unit is composed of three or more glass plates. The glass plate located closest to the indoor space of this unit is the second glass plate 3.
  • the multilayer glass unit 1 shown in FIG. 3 includes three glass plates (a first glass plate 2, a second glass plate 3, and a third glass plate 8).
  • the first glass plate 2 and the second glass plate 3 are arranged to face each other with the gap layer 4 interposed therebetween so as to be separated from each other at a predetermined interval, like the multi-layer glass unit 1 shown in FIG. ing.
  • the 1st glass plate 2 and the 3rd glass plate 8 are arrange
  • the third glass plate 8 is disposed on the most outdoor space side and in the space, and the second glass plate 3 is disposed on the indoor space side and in the space.
  • the first and second Low-E films 5a and 5b are formed on both main planes 11c and 11d of the second glass plate 3 located closest to the indoor space.
  • the Ra of the surface of the main plane 11d of the second glass 3 that is formed and exposed to the indoor space is 14 nm or less.
  • the main plane 11e (the main plane exposed in the outdoor space) on the side opposite to the gap layer 9 of the third glass 8 is the # 1 plane according to the practice of those skilled in the art.
  • the main plane 11f facing the gap layer 9 of the glass 8 of the third glass is the # 2 plane
  • the main plane 11a facing the gap layer 9 of the first glass 2 is the # 3 plane
  • the main plane 11c that faces the gap layer 4 of the second glass 3 is the # 5 plane
  • the main plane) 11d is the # 6 plane.
  • the # 5 and # 6 surfaces have Low-E films.
  • the configuration (including thickness) of the third glass plate 8 is not particularly limited, and may be the same as that of the first glass plate 2.
  • the multi-layer glass unit 1 shown in FIG. 3 can be designed to realize a very small U value.
  • the thickness of the multilayer glass unit 1 shown in FIG. 3 is, for example, 17 to 41 mm, and may be 21 to 41 mm.
  • the manufacturing method of the multilayer glass unit 1 shown in FIG. 3 is not specifically limited, For example, the 1st and 3rd glass plate formed by the well-known method, and the 1st formed using the thin film formation method mentioned above. It can manufacture by a well-known method using 2 glass plates.
  • the gap layer 9 can have the same configuration as the gap layer 4.
  • the configuration (including thickness) of the gap layer 9 and the gap layer 4 may be the same or different.
  • the void layer 4 and / or the void layer 9 may be a vacuum layer.
  • the U value of the multilayer glass unit 1 can be designed to be even smaller.
  • FIG. 4 shows an example of a multilayer glass unit in which the gap layer 4 sandwiched between the first glass plate 2 and the second glass plate 3 is a vacuum layer.
  • the multi-layer glass unit 1 shown in FIG. 4 has a different structure for more reliably maintaining the void layer 4 that is a vacuum layer, and is located on the void layer 9 side in the third glass plate 8 that is located closest to the outdoor space. Except that the third Low-E film 5c is formed on the main plane (# 2 surface), it has the same configuration as the multilayer glass unit 1 including three glass plates shown in FIG.
  • a typical configuration for more reliably maintaining the gap layer 4 that is a vacuum layer is a state in which the first glass plate 2 and the second glass plate 3 are separated from each other at a predetermined interval with the gap layer 4 interposed therebetween. In order to be held, there are a plurality of spacers 21 arranged between both glass plates 2 and 3.
  • the negative pressure of the gap layer 4 is maintained by the plurality of spacers 21 and the sealing material 7 disposed on the outer periphery of the unit 1.
  • Other features are the same as those of the glass unit 1 shown in FIG.
  • the first flat surfaces 11c and 11d of the second glass plate 3 located on the indoor space side are first.
  • the second Low-E films 5a and 5b are formed, and the surface Ra of the main plane 11d of the second glass plate 3 exposed to the indoor space is 14 nm or less.
  • a known configuration can be applied to the spacer 21 and the sealing material 7.
  • the thickness of the multilayer glass unit 1 shown in FIG. 4 is, for example, 14 to 30 mm, 14.2 to 29 mm, or 14.2 to 21. It can also be 2 mm.
  • a window structure in which a conventional multi-layer glass unit made of two glass plates and having a thickness of about 12 to 22 mm is fitted in a window frame (sash), it is composed of three glass plates as shown in FIG.
  • the conventional multi-layer glass unit 1 can be used by replacing the conventional multi-layer glass unit composed of two glass plates. A small U value) is expected.
  • the configuration of the third Low-E film 5c is not limited, and for example, the third Low-E film 5c may have any structure of a first stacked structure and a second stacked structure. From the viewpoint of making the U value as small as possible, it is preferable that the third Low-E film has the first laminated structure.
  • the manufacturing method of the multilayer glass unit 1 shown in FIG. 4 is not particularly limited.
  • the first glass plate 2 serving as the central glass plate is low on at least one main plane thereof. It is necessary that the -E film is not formed, and it is preferable that the Low-E film is not formed on both main planes. In other words, a configuration in which Low-E films are formed on both main planes of the central glass plate cannot be employed.
  • a Low-E film is formed on both main planes of the glass plate serving as the central glass plate This is because the temperature of the glass plate rises due to the heat of solar radiation, and breakage (thermal cracking) easily occurs.
  • the glass unit 1 shown in FIG. 3 can also be expressed as follows: That is, the multilayer glass unit shown in FIG. 3 includes three glass plates A, glass plates B, and glass plates C, and is an indoor space. The glass plate A and the glass plate B, and the glass plate B and the glass plate C are separated from each other at a predetermined interval.
  • the first Low-E film is placed on the main plane on the gap layer 4 side of the glass plate C (second glass plate 3) located on the most interior space side among the three glass plates.
  • the second Low-E film is formed on the main plane on the space side, and the arithmetic average roughness Ra of the surface of the second Low-E film formed on the main plane on the indoor space side is 14 nm or less. is there.
  • the glass unit 1 shown in FIG. 4 can also be expressed as follows: That is, the multilayer glass unit shown in FIG. 4 includes three glass plates A, glass plates B, and glass plates C, and is an indoor space. The glass plate A and the glass plate B, and the glass plate B and the glass plate C are separated from each other at a predetermined interval.
  • the first Low-E film is placed on the main plane on the gap layer 4 side of the glass plate C (second glass plate 3) located on the most interior space side among the three glass plates.
  • a second Low-E film is formed on the main plane on the space side, and the glass plate B (third glass plate 8) in the glass plate A (third glass plate 8) located closest to the outdoor space among the three glass plates.
  • the third Low-E film is formed on the main plane of the glass plate C, and the arithmetic average roughness Ra of the surface of the second Low-E film formed on the main plane on the indoor space side of the glass plate C is 14 nm or less. It is.
  • the multi-layer glass unit of the present invention can be designed to satisfy the following characteristics.
  • the U value is, for example, 1.6 W / (m 2 ⁇ K) or less, and depending on the configuration of the glass unit, it is 1.4 W / (m 2 ⁇ K) or less, and 1.2 W / (m 2 ⁇ K) or less.
  • the upper limit of the SHGC value is not limited;
  • the visible light transmittance (Tvis) is, for example, 50 to 75%, preferably 50 to 70%, more preferably 50 to 65%;
  • the reflectance from the outdoor space is, for example, 8 to 26%, preferably 10 to 20%, more preferably 12 to 20%;
  • the reflectance from the indoor space is, for example, 8 to 28%, preferably 10 to 25%, and more preferably 10 to 22%.
  • the SHGC value is, for example, 0.45 or more, and is 0.47 or more, 0.50 or more depending on the configuration of the glass unit.
  • the upper limit of the SHGC value is not limited; For visible light transmittance (Tvis), for example 50-75%; For reflectivity from the outdoor space, for example 10-25%; The reflectivity from the indoor space is, for example, 10-30%.
  • the U value is, for example, 0.93 W / (m 2 ⁇ K) or less, and depending on the configuration of the glass unit, 0.80 W / (m 2 ⁇ K) or less, 0.72 W / (m 2 ⁇ K) or less;
  • About the value of SHGC it is 0.30 or more, for example, and it is 0.32 or more and 0.36 or more depending on the composition of the glass unit.
  • the upper limit of the SHGC value is not limited; For visible light transmittance (Tvis), for example 45-60%; For reflectivity from outdoor space, for example 15-25%; For example, the reflectance from the indoor space is 15 to 25%.
  • the U value is, for example, 0.68 W / (m 2 ⁇ K) or less, and depending on the configuration of the glass unit, 0.67 W / (m 2 ⁇ K) or less, 0.65 W / (m 2 ⁇ K) or less;
  • the SHGC value is, for example, 0.30 or more, and is 0.31 or more depending on the configuration of the glass unit.
  • the upper limit of the SHGC value is not limited; For visible light transmittance (Tvis), for example 45-60%; For reflectivity from outdoor space, for example 15-30%; For example, the reflectance from the indoor space is 15 to 35%.
  • the a * value of the La * b * color system is, for example, ⁇ 25 to 0, preferably ⁇ 20 to ⁇ 4, and the b * value is, for example, ⁇ It can be 10 to 10, preferably -5 to 5.
  • the a * value of the La * b * color system for example ⁇ 20 to 0, preferably ⁇ 15 to ⁇ 3, and the b * value, for example, ⁇ It can be 10 to 15, preferably -4 to 10.
  • the multilayer glass unit of the present invention can realize a low U value and a high SHGC value even when the thickness of the unit is small.
  • the thickness of the multilayer glass unit is 22 mm or less
  • U The value is 1.6 W / (m 2 ⁇ K) or less
  • the SHGC value is 0.4 to 0.7
  • the visible light transmittance is 50 to 75%.
  • the method for producing the multi-layer glass unit of the present invention is not particularly limited.
  • the first glass plate formed by a known method the second glass plate formed by using the above-described thin film forming method, and If necessary, it can be produced by a known method or by using a third glass plate formed by utilizing the above-described thin film forming method.
  • the 2nd glass plate 3 can distribute
  • Low-E films 5a and 5b are formed on both main planes 11c and 11d, and the arithmetic average of the surface of the Low-E film 5b formed on one main plane 11d.
  • the roughness Ra is 14 nm or less.
  • the glass plate for a multi-layer glass unit can take the preferred form described above in the description of the second glass plate 3.
  • the root mean square slope R ⁇ q of the roughness curve on the surface of the Low-E film 5b formed on the one main plane 11d is 0.77 or less.
  • the multi-layer glass unit of the present invention can be used for any window structure as a window assembly in which the multi-layer glass unit is further provided with a window frame (sash) part alone or in a window frame part.
  • This window assembly and window structure includes the multilayer glass unit of the present invention, and the SHGC value can be designed to be larger than the conventional one while maintaining a low U value.
  • a multi-layer glass unit composed of two glass plates in which two glass plates are arranged to face each other with a gap layer sandwiched between them at a predetermined interval, and a predetermined Two glass plates are arranged opposite to each other with a gap layer therebetween so as to be separated from each other at an interval, and further gap layers are arranged so as to be separated from each other at a predetermined interval with respect to one glass plate.
  • a multi-layer glass unit composed of three glass plates on which another glass plate arranged opposite to each other was placed was produced. A method for producing a multilayer glass unit is shown below.
  • a multilayer glass unit was manufactured from these 2 or 3 glass plates by a manufacturing method well known to those skilled in the art.
  • a predetermined gas air or argon
  • the Low-E film including the metal layer (Ag layer) was formed by a sputtering method.
  • the dielectric layer (“dielectric layer” shown in Tables 1A to 1M) in the Low-E film is a zinc oxide layer, a tin zinc oxide layer, a tin oxide layer, a silicon nitride layer, or the like. Titanium, ZnAl or titanium oxide (TiO x ) was used as the material constituting the sacrificial layer.
  • the Low-E film including the transparent conductive oxide layer was formed by a CVD method.
  • the visible light reflectance R (%) on 6 surfaces (multi-layer glass unit composed of three glass plates) and the SHGC value of the multi-layer glass unit are the values of the outdoor glass plate and the indoor glass plate, respectively. It calculated
  • the incident angles on the # 1 surface and the # 4 surface (multilayer glass unit composed of two glass plates) or # 6 surface (multilayer glass unit composed of three glass plates) of the multilayer glass unit The reflection color at 5 ° was determined in accordance with JIS Z8722 and JIS Z8729 as the a * value and b * value of the La * b * color system.
  • the a * value and the b * value at an incident angle of 45 ° were combined. Asked.
  • the value of the reflected color at an incident angle of 45 ° was an average value of the measured value for S-polarized light and the measured value for P-polarized light in order to eliminate the influence of the polarization plane.
  • the dirt removal property of the surface (# 4 surface or # 6 surface of the multilayer glass unit) exposed to the indoor space in the fabricated multilayer glass unit was evaluated as follows. First, a portion of the # 4 side or # 6 side where the following stains (fingerprints, oil-based ink, lipstick) are attached is rubbed a predetermined number of times with a 10 cm square cotton cloth soaked with a cleaning agent, and then the relevant portion. When exhalation was exhaled, the case where no trace of dirt was recognized with the naked eye was OK, and the case where it was recognized was judged as NG. The predetermined number of times was the number of rubbing until no trace was found on the cotton cloth in a commercially available float glass whose glass surface was not coated.
  • Fingerprints were attached to the surface to be evaluated by pressing the fingertips of the hands.
  • the cleaning agent was deionized water, and the predetermined number of times was 20 times.
  • ⁇ Dirt removal characteristics for lipstick> On the surface to be evaluated, a commercially available lipstick (manufactured by Kanebo Cosmetics Co., Ltd.) was used to draw a circle having a diameter of about 1 cm, and dirt was adhered.
  • the cleaning agent was a commercially available light removal solution (Nail Color Remover, Kanebo Cosmetics Co., Ltd.), and the predetermined number of times was 30.
  • Glass plates may be fitted in buildings by being fitted into sashes.
  • a glass plate receives solar radiation, it absorbs part of the solar radiation and the temperature rises and tries to expand.
  • a portion fitted in a sash or a portion shaded by a wall of a building has a small temperature rise due to solar radiation and a small thermal expansion, and therefore restrains the expansion of the portion subjected to solar radiation.
  • a tensile stress proportional to the temperature difference between the part that has been exposed to solar radiation and the part that is not, typically the peripheral part, is generated in the peripheral part of the glass plate. If the thermal stress exceeds the edge strength of the glass plate, the glass plate may be broken. This is called thermal cracking.
  • the thermal stress generated in the glass plate changes as the temperature distribution of the glass changes depending on how the shadow is formed (shadow coefficient), and increases as the temperature in the center of the glass plate increases due to indoor curtains (curtain coefficient). ), Increases as the area of the glass plate increases (area factor), decreases as the thermal insulation of the sash into which the glass plate is fitted increases (edge coefficient, sash color), Change. For this reason, the thermal stress was calculated in consideration of these conditions. Specifically, pages 68-71 of the “Glass Building Materials Catalog Technical Document” published by Nippon Sheet Glass Co., Ltd.
  • the shadow coefficient is “single shadow”
  • the curtain coefficient is “no curtain”
  • Thermal stress with edge coefficient as “elastic sealing material + backup material (foaming material)”
  • sash color as "light color”
  • the region as Japan's local "Southern Kanto, Hokuriku, Tokai, Kinki, China, Shikoku, Kyushu” If the calculated thermal stress exceeds the allowable stress of the float glass plate with a nominal thickness of 3 to 12 mm, there is a possibility of thermal cracking (YES), and if it falls below the allowable stress, there is no possibility of thermal cracking (NO) It was.
  • Table 2A to Table 2G below show the evaluation results of the above characteristics for each of the multilayer glass units of the produced Examples and Comparative Examples.
  • each of the glass plates is composed of two glass plates and has a 12 mm thick gap layer filled with air.
  • a multi-layer glass unit was produced.
  • Examples 11 to 17 and Examples 31 to 32 shown in Table 1C and Table 1E multilayer glass units having a 12 mm-thick gap layer made of two glass plates and filled with argon gas were produced. The characteristics of these multilayer glass units are shown in Tables 2A and 2B.
  • the multi-layer glass units of Examples 1 to 9 show high dirt removal characteristics on the # 4 surface, and have no Low-E film, or Low-E film on only one surface. A low U value was exhibited with respect to the units of Comparative Examples 1 to 3 in which is formed.
  • the multilayer glass units of Examples 1 to 9 showed a larger SHGC value than the units of Comparative Examples 4, 7, and 8 having Low-E films on the # 2 surface and the # 4 surface.
  • both of the Low-E films formed on the two surfaces have two metal layers (Ag layers).
  • the U value was higher and the SHGC value was smaller than the multilayer glass units of Examples 1 to 9.
  • the multilayer glass units of Examples 1 to 9 exhibited higher stain removal characteristics on the # 4 surface than the units of Comparative Examples 4 and 5 in which Ra on the # 4 surface exceeded 14 nm.
  • Example 1 the double-glazed units of Examples 1 and 7 showed lower U values.
  • the sum of the thicknesses d3 and d4 of the Ag layer (metal layer) is 27 nm or more, but the above-mentioned ratio d4 / d3 relating to the thickness of the Ag layer (metal layer) is 1.
  • the unit of Example 1 that is .15 or more has a reduced incident angle dependency of the reflected color compared to the unit of Example 7 that is not. More specifically, in Example 7, the a * value changes from a negative value to a positive value by changing the incident angle from 5 ° to 45 °, and the color tone of the reflected color changes from green to red.
  • Example 1 the a * value remained a negative value even with the change in the incident angle, and the color tone of the reflected color maintained the green color.
  • the units of Examples 8 and 9 in which the sum of the thicknesses of the Ag layers on the # 3 plane is less than 27 nm have a * values that are negative even when the incident angle changes, regardless of the above-described ratio d4 / d3.
  • the color tone of the reflected color maintained a green color, that is, the incident angle dependence of the reflected color was relaxed.
  • the units of Examples 3, 4, 8, and 9 in which the sum of the thicknesses of the Ag layer on the # 3 surface is less than 27 nm are larger than the units of Examples 1, 2, 5, and 7 that are not so. SHGC values are shown.
  • Examples 11 to 17, Example 21 to 22 and Examples 31 to 32 shown in Table 2B also showed the same tendency as Examples 1 to 9 shown in Table 2A.
  • the U values of Examples 21 to 22 are the same as those of Comparative Example 6, but the Low-E film having a metal layer is a film in which the film of Comparative Example 6 has two metal layers, that is, a film that is essentially excellent in low radiation.
  • the configuration of Examples 21 to 22 achieves an excellent effect of reducing the U value. Recognize.
  • the SHGC values of Examples 21 to 22 are higher than those of Comparative Examples 1 to 8.
  • Examples 11 to 17 and Examples 31 to 32 having a gap layer of argon gas the same applies to the Low-E film compared to Examples 1 to 9 and Examples 21 to 22 having a gap layer of air. With the configuration, the U value was smaller.
  • Examples 41 to 42 Comparative Examples 41 to 44 and Examples 51 to 52 shown in Table 1F and Table 1G, a multilayer glass unit composed of two glass plates and having a vacuum gap layer having a thickness of 0.2 mm is used. Produced. The characteristics of these multilayer glass units are shown in Table 2C and Table 2D.
  • Examples 41 to 42, Examples 51 to 52, and Comparative Examples 41 to 44 have the same tendency as Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 8 shown in Table 2A. Indicated. Also, in Examples 41 to 42 and Examples 51 to 52 having a vacuum gap layer, the Low-E is lower than the other examples including two glass plates having a gap layer of air or argon gas. The U value was even smaller when the membrane had a similar configuration. The U values of Examples 51 to 52 are higher than those of Comparative Examples 41 to 44. However, for the Low-E film having a metal layer, the films of Comparative Examples 41 to 44 have two metal layers. Considering that the film of ⁇ 52 has only one metal layer, it can be seen that the excellent effect of lowering the U value is achieved by the configuration of Examples 51-52.
  • Examples 61 to 64 and Comparative Examples 61 to 64 shown in Table 1H and Table 1I a multilayer glass unit composed of three glass plates, one of which is a vacuum gap layer having a thickness of 0.2 mm, is manufactured. did. The properties of these double glazing units are shown in Table 2E.
  • Examples 71 to 74, Comparative Examples 71 to 78 and Examples 81 to 84 shown in Table 1J to Table 1M are composed of three glass plates, and both gap layers are filled with gas (air or argon). A layer glass unit was produced. The characteristics of these multilayer glass units are shown in Tables 2F and 2G.
  • Comparative Example 78 is a unit in which three Low-E films are formed as in Examples 72 and 74, but the Low-E film is not formed on the main surfaces of both the # 5 plane and the # 6 plane. The U value does not change, but the SHGC value is small and inferior to each of the examples. Comparative Examples 73 and 74 have a large U value even though all of the three Low-E films have two metal layers, and only two of the three Low-E films have two metal layers. As compared with Examples 71 to 74 and Examples 81 to 84 having Also, compared to Comparative Examples 71 and 72, which are units having two Low-E films, Examples 71 to 74 and Examples 81 to 84 achieved very low U values.
  • a float glass plate having a thickness of 3.0 mm which is the same as the glass plate used in the examples and comparative examples, was prepared and cut into predetermined dimensions, and as shown in Table 3 below, A Low-E film was formed only on one main plane. With respect to this glass plate on which the Low-E film was formed, only the roughness of the surface of the Low-E film and the stain removal property on the surface were evaluated without producing a multilayer glass unit. The results are shown in Table 3 as Comparative Examples 91 and 92.
  • FIG. 5 shows the arithmetic average roughness Ra and the roughness curve on the # 4 surface of Examples 1 to 7 and Comparative Examples 4, 5, 91, and 92 (the formation surface of the Low-E film in Comparative Examples 91 and 92).
  • the relationship with the root mean square slope R ⁇ q is shown.
  • Ra and R ⁇ q show a good correlation between the examples and the comparative examples, but the correlation between Ra and R ⁇ q is poor between the examples and the comparative examples. That is, the Low-E film of the embodiment including the amorphous layer in the second laminated structure has a small R ⁇ q as compared to the Low-E film having the same Ra but no amorphous layer, and has high dirt removal characteristics. It can be said that it has.
  • the multilayer glass unit of the present invention can be widely used for window structures such as buildings and vehicles.

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Abstract

　本発明の複層ガラスユニットは、所定の間隔で互いに離間した状態となるように空隙層を挟んで対向して配置された一対のガラス板を備え、室内空間と室外空間とを分離する複層ガラスユニットであって、前記一対のガラス板のうち室内空間側に位置するガラス板の双方の主平面に低放射率（Ｌｏｗ－Ｅ）膜が形成されており、当該双方の主平面のうち室内空間側の主平面に形成された低放射率膜の表面の算術平均粗さＲａが１４ｎｍ以下である。この複層ガラスユニットでは、低いＵ値を維持したままＳＨＧＣの値を従来より大きく設計可能である。

Description

複層ガラスユニットおよび複層ガラスユニット用ガラス板
　本発明は、窓構造などに使用される複層ガラスユニットと、当該ユニットに使用する複層ガラスユニット用ガラス板とに関する。
　建物および車両などの室内空間と室外空間とを分離する窓構造に、複層ガラスユニットが使用されることがある。複層ガラスユニットは、所定の間隔で互いに離間した状態となるように空隙層を挟んで対向して配置された一対のガラス板を含む。複層ガラスユニットを用いた窓構造ではこの空隙層の存在により、単なる一枚のガラス板を用いた窓構造に比べて断熱性が向上する。窓構造の断熱性の向上によって、室内の空調に必要なエネルギーを低減できる。
　近年、断熱性に加えて遮熱性をさらに確保するために、遮熱機能膜を主平面（ガラス面）に形成したガラス板を用いた複層ガラスユニットが開発されている。窓構造が遮熱性を併せ持つと、特に夏季において、強い日差しの室内空間への進入が緩和され、また夜間においても室外空間からの熱の流入を緩和できる。遮熱機能膜として、低放射率膜（Ｌｏｗ－Ｅ膜）が知られている。例えば特開2013-517206号公報には、室外空間側の第１のガラス板および室内空間側の第２のガラス板を備える複層断熱ガラスユニットであって、第２のガラス板の外側面（室内側の主平面：後述の第４面（＃４面））に透明導電膜を含む低放射率膜が形成されたガラスユニットが開示されている。また、特開2013-517206号公報には、このガラスユニットにおいて、第１のガラス板の内側面（空隙層側の主平面：後述の第２面（＃２面））に、銀を含む膜を有する低放射率膜をさらに形成してもよいことが記載されている。
特開2013-517206号公報
　特開2013-517206号公報に開示の複層ガラスユニットのように、当該ユニットを構成するガラス板の２つの主平面に低放射率膜を形成することによって、１つの主平面のみに低放射率膜を形成する場合に比べて複層ガラスユニットの（すなわち当該ユニットを備える窓構造の）遮熱性の向上、例えばＵ値（熱貫流率）の低下、が期待される。
　ここで、夏季のみならず冬季の室内環境の快適度を向上させ、年間を通じて空調に必要なエネルギーを低減させるためには、ＳＨＧＣ（日射熱取得率）の値を大きく設計できる複層ガラスユニットが望まれる。しかし、特開2013-517206号公報の複層ガラスユニットでは、とりうるＳＨＧＣの値に限界がある。
　本発明の目的の一つは、低いＵ値を維持したままＳＨＧＣの値を従来より大きく設計可能である複層ガラスユニットの提供にある。
　本発明の複層ガラスユニットは、所定の間隔で互いに離間した状態となるように空隙層を挟んで対向して配置された一対のガラス板を含み、室内空間と室外空間とを分離する複層ガラスユニットであって、前記一対のガラス板のうち前記室内空間側に位置するガラス板における前記空隙層側の主平面に第１の低放射率（Ｌｏｗ－Ｅ）膜、前記室内空間側の主平面に第２の低放射率膜が、それぞれ形成されており、前記室内空間側の主平面に形成された前記第２の低放射率膜の表面の算術平均粗さＲａが１４ｎｍ以下である。
　これとは異なる側面から見た本発明の複層ガラスユニットは、３つのガラス板Ａ、ガラス板Ｂおよびガラス板Ｃから構成され、室内空間と室外空間とを分離する複層ガラスユニットであって、前記ガラス板Ａおよび前記ガラス板Ｂ、ならびに前記ガラス板Ｂおよび前記ガラス板Ｃは、それぞれ、所定の間隔で互いに離間した状態となるように空隙層を挟んで対向して配置され、前記３つのガラス板のうち最も前記室内空間側に位置する前記ガラス板Ｃにおける前記空隙層側の主平面に第１の低放射率（Ｌｏｗ－Ｅ）膜、前記室内空間側の主平面に第２の低放射率膜が、それぞれ形成されているとともに、前記３つのガラス板のうち最も前記室外空間側に位置する前記ガラス板Ａにおける前記ガラス板Ｂ側の主平面または中央の前記ガラス板Ｂにおける前記ガラス板Ａ側の主平面に第３の低放射率膜が形成されており、前記ガラス板Ｃの前記室内空間側の主平面に形成された前記第２の低放射率膜の表面の算術平均粗さＲａが１４ｎｍ以下である。
　本発明の複層ガラスユニット用ガラス板は、上記本発明の複層ガラスユニットにおける前記室内空間側に位置する前記ガラス板に用いるガラス板であって、当該ガラス板の双方の主平面に低放射率（Ｌｏｗ－Ｅ）膜が形成されており、一方の前記主平面に形成された前記低放射率膜の表面の算術平均粗さＲａが１４ｎｍ以下である。
　本発明によれば、低いＵ値を維持したままＳＨＧＣの値を従来より大きく設計可能な複層ガラスユニットが得られる。
本発明の複層ガラスユニットの一例を模式的に示す断面図である。 本発明の複層ガラスユニットの別の一例を模式的に示す断面図である。 本発明の複層ガラスユニットのまた別の一例を模式的に示す断面図である。 本発明の複層ガラスユニットのさらに別の一例を模式的に示す断面図である。 実施例および比較例におけるＬｏｗ－Ｅ膜形成面の算術平均粗さＲａと粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜ＲΔｑとの関係を示す図である。
　本開示の第１の態様は、所定の間隔で互いに離間した状態となるように空隙層を挟んで対向して配置された一対のガラス板を含み、室内空間と室外空間とを分離する複層ガラスユニットであって、前記一対のガラス板のうち前記室内空間側に位置するガラス板における前記空隙層側の主平面に第１の低放射率（Ｌｏｗ－Ｅ）膜、前記室内空間側の主平面に第２の低放射率膜が、それぞれ形成されており、前記室内空間側の主平面に形成された前記第２の低放射率膜の表面の算術平均粗さＲａが１４ｎｍ以下である、複層ガラスユニットを提供する。
　本開示の第２の態様は、第１の態様に加え、前記第１の低放射率膜が金属層と、前記金属層における前記空隙層側の面に当該金属層と接して配置された犠牲層と、前記金属層および前記犠牲層を挟持する誘電体層のペアとを含む第１の積層構造を有し、前記第２の低放射率膜が、当該第２の低放射率膜が形成された前記主平面側から順に下地層、透明導電性酸化物層およびアモルファス層を含む第２の積層構造を有する複層ガラスユニットを提供する。
　本開示の第３の態様は、第２の態様に加え、前記アモルファス層の厚さが４０ｎｍ未満である複層ガラスユニットを提供する。
　本開示の第４の態様は、第２の態様に加え、前記透明導電性酸化物層が厚さ１２０ｎｍ以上のフッ素ドープ酸化スズ層を含み、前記アモルファス層が厚さ１５～７０ｎｍのシリカ層を含み、前記透明導電性酸化物層の厚さｄ１および前記アモルファス層の厚さｄ２が、式ｄ２≧ｄ１×０．１１＋１．４ｎｍを満たし、前記第２の低放射率膜の放射率εが０．３４以下である複層ガラスユニットを提供する。
　本開示の第５の態様は、第２から第４のいずれかの態様に加え、前記第１の低放射率膜が２つの前記第１の積層構造を有する複層ガラスユニットを提供する。
　本開示の第６の態様は、第５の態様に加え、前記２つの第１の積層構造のうち、前記第１の低放射率膜が形成された前記主平面からより遠い当該構造が含む前記金属層の厚さｄ３に対する、当該主平面により近い当該構造が含む前記金属層の厚さｄ４の比ｄ４／ｄ３が１．１５以上であり、前記厚さｄ３が６ｎｍ以上である複層ガラスユニットを提供する。
　本開示の第７の態様は、第１から第６のいずれかの態様に加え、前記第２の低放射率膜の表面における粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜ＲΔｑが０．７７以下である複層ガラスユニットを提供する。
　本開示の第８の態様は、第１から第７のいずれかの態様に加え、前記第２の低放射率膜が機能性層をさらに有する複層ガラスユニットを提供する。
　本開示の第９の態様は、第１から第８のいずれかの態様に加え、前記一対のガラス板のうち前記室外空間側に位置するガラス板の双方の主平面に低放射率（Ｌｏｗ－Ｅ）膜が形成されていない複層ガラスユニットを提供する。
　本開示の第１０の態様は、第１から第９のいずれかの態様に加え、前記複層ガラスユニットの厚さが２２ｍｍ以下、Ｕ値が１．６（Ｗ／（ｍ2・Ｋ））以下、ＳＨＧＣ値が０．４～０．７、可視光線透過率が５０～７５％である複層ガラスユニットを提供する。
　本開示の第１１の態様は、第１から第１０のいずれかの態様に加え、前記空隙層よりも前記室外空間側に、型板ガラス板または網入りガラス板を備える複層ガラスユニットを提供する。
　本開示の第１２の態様は、第１から第１１のいずれかの態様に加え、前記一対のガラス板のうち前記室外空間側に位置するガラス板に対して、所定の間隔で互いに離間した状態となるようにさらなる空隙層を挟んで対向して前記室外空間側に配置されたガラス板をさらに含む複層ガラスユニットを提供する。
　本開示の第１３の態様は、第１から第１２のいずれかの態様の複層ガラスユニットにおける、前記一対のガラス板のうち前記室内空間側に位置する前記ガラス板に用いるガラス板であって、当該ガラス板の双方の主平面に低放射率（Ｌｏｗ－Ｅ）膜が形成されており、一方の前記主平面に形成された前記低放射率膜の表面の算術平均粗さＲａが１４ｎｍ以下である複層ガラスユニット用ガラス板を提供する。
　本開示の第１４の態様は、第１３の態様に加え、一方の前記主平面に形成された前記低放射率膜の表面における粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜ＲΔｑが０．７７以下である複層ガラスユニット用ガラス板を提供する。
　本開示の第１５の態様は、３つのガラス板Ａ、ガラス板Ｂおよびガラス板Ｃから構成され、室内空間と室外空間とを分離する複層ガラスユニットであって、前記ガラス板Ａおよび前記ガラス板Ｂ、ならびに前記ガラス板Ｂおよび前記ガラス板Ｃは、それぞれ、所定の間隔で互いに離間した状態となるように空隙層を挟んで対向して配置され、前記３つのガラス板のうち最も前記室内空間側に位置する前記ガラス板Ｃにおける前記空隙層側の主平面に第１の低放射率（Ｌｏｗ－Ｅ）膜、前記室内空間側の主平面に第２の低放射率膜が、それぞれ形成されているとともに、前記３つのガラス板のうち最も前記室外空間側に位置する前記ガラス板Ａにおける前記ガラス板Ｂ側の主平面または中央の前記ガラス板Ｂにおける前記ガラス板Ａ側の主平面に第３の低放射率膜が形成されており、前記ガラス板Ｃの前記室内空間側の主平面に形成された前記第２の低放射率膜の表面の算術平均粗さＲａが１４ｎｍ以下である複層ガラスユニットを提供する。
　図１に、本発明の複層ガラスユニットの一例を示す。図１に示す複層ガラスユニット１は、室外空間側に位置する第１のガラス板２および室内空間側に位置する第２のガラス板３の２枚のガラス板を備える。第１および第２のガラス板２，３は、空隙層４を挟んで対向して配置されている、空隙層４を間に挟んで対（ペア）となるガラス板である。第１および第２のガラス板２，３は、所定の間隔で互いに離間した状態となるように配置されており、離間した両者の間に形成された空間が空隙層４である。複層ガラスユニット１は、ガラスユニットとして単体で、または窓枠（サッシ）部を備える窓アセンブリとして、建物または車両などの窓構造に組み込まれ、室内空間と室外空間とを分離する。図１に示すガラスユニット１は２つのガラス板２，３から構成されており、第１のガラス板２は最も室外空間側にかつ当該空間に露出して、第２のガラス板３は最も室内空間側にかつ当該空間に露出して、それぞれ配置されている。
　複層ガラスユニット１では、空隙層４を挟む一対のガラス板２，３のうち、室内空間側に位置する第２のガラス板３の双方の主平面（ガラス面）１１ｃ，１１ｄに、低放射率（Ｌｏｗ－Ｅ）膜５ａ，５ｂが形成されている。より具体的には、室内空間側に位置する第２のガラス板３における空隙層４側の主平面１１ｃに第１の低放射率膜５ａが、室内空間側の主平面１１ｄに第２の低放射率膜５ｂが、それぞれ形成されている。これにより、複層ガラスユニット１では、低いＵ値（熱貫流率）を維持したままＳＨＧＣ（日射熱取得率）の値を従来より大きく設計することが可能となり、当該ユニット１によって、夏季のみならず冬季の室内環境の快適度を向上させ、年間を通じて室内の空調に必要なエネルギーを低減することができる。また、室内空間に露出している第２のガラス板３の主平面１１ｄの表面のＲａが１４ｎｍ以下（厳密には、主平面１１ｄ上に形成された、室内空間に露出しているＬｏｗ－Ｅ膜５ｂの表面のＲａが１４ｎｍ以下）であることにより、複層ガラスユニット１の室内側のガラス面について良好な汚れ落ち性を確保できる。
　複層ガラスユニットでは当業者の慣例として、当該ユニットが備えるガラス板の主平面について、室外空間側から第１面、第２面、第３面...と順に番号が付される。この慣例に基づけば、図１に示す複層断熱ガラスユニット１において、第１のガラス２の空隙層４とは反対側の主平面（室外空間に露出している主平面）１１ａが第１面（＃１面）、第１のガラス２の空隙層４に面する主平面１１ｂが第２面（＃２面）、第２のガラス３の空隙層４に面する主平面１１ｃが第３面（＃３面）、第２のガラス３の空隙層４とは反対側の主平面（室内空間に露出している主平面）１１ｄが第４面（＃４面）である。図１に示す例では、＃３面および＃４面がＬｏｗ－Ｅ膜を有する。
　複層ガラスユニット１は、少なくとも２つのＬｏｗ－Ｅ膜を有する。これにより、Ｌｏｗ－Ｅ膜を１つのみ有する複層ガラスユニットに比べて遮熱性を向上、典型的にはＵ値を小さく、できる。例えば、銀（Ａｇ）層のような金属層を含むＬｏｗ－Ｅ膜において、金属層の数を増加させることによっても複層ガラスユニットのＵ値を低減できるが、Ｌｏｗ－Ｅ膜が１つの場合、その低減に限界がある。少なくとも２つのＬｏｗ－Ｅ膜により、当該限界を超えて複層ガラスユニットのＵ値を低減できる。また、複層ガラスユニット１では、空隙層４を挟んで室内空間側に位置する第２のガラス板３の双方の主平面１１ｃ，１１ｄにＬｏｗ－Ｅ膜５ａ，５ｂが形成されている。これにより、他の組み合わせの主平面に２つのＬｏｗ－Ｅ膜が形成されている場合に比べて、低いＵ値を保持したまま、より大きなＳＨＧＣの値を示す複層ガラスユニットを設計することが可能となる。
　Ｌｏｗ－Ｅ膜５ａ，５ｂの構成は特に限定されず、公知のＬｏｗ－Ｅ膜を適用できる。
　Ｌｏｗ－Ｅ膜の一例は、Ａｇ層のような金属層を含む膜である。この膜は、例えば、ガラス板の主平面側から順に、誘電体層／金属層／犠牲層／誘電体層が積層された構造（第１の積層構造）を有する。換言すれば、このＬｏｗ－Ｅ膜は、金属層と、金属層における上記主平面側とは反対側の面に当該金属層と接して配置された犠牲層と、金属層および犠牲層を挟持する誘電体層のペアとを含む第１の積層構造を有する。このＬｏｗ－Ｅ膜は２以上の金属層を含んでいてもよく、これにより複層ガラスユニットのＵ値をより小さくする設計が可能となる。この場合、Ｌｏｗ－Ｅ膜は、例えば、ガラス板の主平面側から順に、誘電体層／金属層／犠牲層／誘電体層／金属層／犠牲層／誘電体層が積層された構造を有しうる。すなわち、Ｌｏｗ－Ｅ膜は２以上の第１の積層構造を有していてもよく、この場合、犠牲層と金属層との間に挟まれた誘電体層を２つの第１の積層構造で共有することができる。
　誘電体層、金属層および犠牲層の各層は、１つの材料から構成される１つの層であっても、互いに異なる材料から構成される２以上の層の積層体であってもよい。
　第１の積層構造において金属層および犠牲層を挟持する一対の誘電体層は、同じ材料から構成されていても、互いに異なる材料から構成されていてもよい。
　金属層を含むＬｏｗ－Ｅ膜は、当該金属層の数をｎとすると当該金属層を挟持する誘電体層の数がｎ＋１以上となるため、通常、２ｎ＋１またはそれ以上の数の層から構成されている。
　金属層は、例えば、Ａｇ層である。Ａｇ層は、Ａｇを主成分とする層であってＡｇからなる層であってもよい。本明細書において「主成分」とは、当該層において最も含有率が大きな成分のことであり、その含有率は、通常５０重量％以上であり、７０重量％以上、８０重量％以上、９０重量％以上の順により好ましい。金属層には、Ａｇの代わりに、パラジウム、金、インジウム、亜鉛、スズ、アルミニウムおよび銅などの金属をＡｇにドープした材料を使用してもよい。
　Ｌｏｗ－Ｅ膜が金属層を含む場合、Ｌｏｗ－Ｅ膜における金属層の厚さの合計は、例えば１８～３４ｎｍであり、好ましくは２２～２９ｎｍである。
　犠牲層は、例えば、チタン、亜鉛、ニッケル、クロム、亜鉛／アルミニウム合金、ニオブ、ステンレス、これらの合金およびこれらの酸化物から選ばれる少なくとも１種を主成分とする層であり、チタン、チタン酸化物、亜鉛および亜鉛酸化物から選ばれる少なくとも１種を主成分とする層が好ましい。犠牲層の厚さは、例えば０．１～５ｎｍであり、好ましくは０．５～３ｎｍである。
　誘電体層は、例えば、酸化物または窒化物を主成分とする層であり、このような誘電体層のより具体的な例は、ケイ素、アルミニウム、亜鉛、錫、チタン、インジウムおよびニオブの各酸化物ならびに各窒化物から選ばれる少なくとも１種を主成分とする層である。誘電体層の厚さは、例えば８～１２０ｎｍであり、好ましくは１５～８５ｎｍである。
　金属層、犠牲層および誘電体層の形成方法は限定されず、公知の薄膜形成手法を利用できる。例えば、スパッタリング法によりこれらの層を形成できる。すなわち、金属層を含むＬｏｗ－Ｅ膜は、例えば、スパッタリング法により形成できる。酸化物または窒化物から構成される誘電体層は、例えば、スパッタリング法の一種である反応性スパッタリングにより形成できる。犠牲層は、金属層上に誘電体層を反応性スパッタリングにより形成するために必要な層（反応性スパッタリング時に自らが酸化することによって金属層の酸化を防ぐ層）であり、犠牲層との名称は当業者によく知られている。
　Ｌｏｗ－Ｅ膜の別の一例は、透明導電性酸化物層を含む積層膜である。この膜は、例えば、ガラス板の主平面側から順に、下地層／透明導電性酸化物層／アモルファス層が積層された構造（第２の積層構造）を有する。換言すれば、このＬｏｗ－Ｅ膜は、透明導電性酸化物層と、透明導電性酸化物層を挟持する下地層およびアモルファス層とを含む第２の積層構造を有する。このＬｏｗ－Ｅ膜は、２以上の透明導電性酸化物層を含んでいてもよい。
　下地層、透明導電性酸化物層およびアモルファス層の各層は、１つの材料から構成される１つの層であっても、互いに異なる材料から構成される２以上の層の積層体であってもよい。
　下地層は、例えば、ケイ素、アルミニウム、亜鉛およびスズの各酸化物から選ばれる少なくとも１種を主成分とする層であり、ケイ素、アルミニウムおよび亜鉛の各酸化物から選ばれる少なくとも１種を主成分とする層でありうる。下地層は、ガラス板に含まれるナトリウムイオンなどのアルカリ金属イオンが透明導電性酸化物層に移動することを抑制し、これにより当該酸化物層の機能の低下が抑制される。下地層の厚さは、例えば２５～９０ｎｍであり、好ましくは３５～７０ｎｍである。下地層は、屈折率が互いに異なる２以上の層から構成されていてもよく、この場合、各層の厚さを調整することにより、Ｌｏｗ－Ｅ膜の反射色を中性色に近づけることが可能である。２以上の層、例えば２つの層、から構成される下地層では、ガラス板の主平面側から順に、酸化スズまたは酸化チタンを主成分とする第１の下地層、および酸化ケイ素または酸化アルミニウムを主成分とする第２の下地層とすることが好ましい。
　透明導電性酸化物層は、例えば、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化亜鉛アルミニウム、アンチモンドープ酸化スズ（ＳｎＯ：Ｓｂ）およびフッ素ドープ酸化スズ（ＳｎＯ2：Ｆ）から選ばれる少なくとも１種を主成分とする層である。透明導電性酸化物層の厚さは、例えば１００～３５０ｎｍであり、好ましくは１２０～２６０ｎｍである。
　アモルファス層は、例えば、ケイ素およびアルミニウムの各酸化物から選ばれる少なくとも１種を主成分とする層である。アモルファス層は、透明導電性酸化物層を保護するとともに、透明導電性酸化物層、特に化学気相成長（ＣＶＤ）法により形成した当該酸化物層、の表面の粗さを小さくする作用を有する。アモルファス層の厚さは、例えば１０～７０ｎｍであり、好ましくは２０～６０ｎｍである。アモルファス層の厚さの上限は、４０ｎｍ未満でありうる。
　Ｌｏｗ－Ｅ膜、典型的には室内空間に露出している第２のＬｏｗ－Ｅ膜は機能性層を有していてもよく、この場合、アモルファス層の上に機能性層が形成されうる。機能性層は、例えば、抗菌層、抗ウィルス層である。機能性層は、例えば、ＴｉＯ2層であり、好ましくはアナターゼ型のＴｉＯ2層である。
　第２の積層構造の具体的な一例では、透明導電性酸化物層が厚さ１２０ｎｍ以上のフッ素ドープ酸化スズ層を含み、アモルファス層が厚さ１５～７０ｎｍのシリカ層を含む。厚さ１２０ｎｍ以上のフッ素ドープ酸化スズ層は、Ｌｏｗ－Ｅ膜の放射率εを一定の値以下とすることに寄与する。厚さ１５ｎｍ以上７０ｎｍ以下のシリカ層は、室内空間側および室外空間側から見た複層ガラスユニットの反射色の変動、特に赤色化、を抑制しながら、透明導電性酸化物層の表面の粗さが小さくなり、複層ガラスユニット１の室内空間側のガラス面の汚れ落ち性が向上することに寄与する。この例では、透明導電性酸化物層の厚さｄ１およびアモルファス層の厚さｄ２は、式ｄ２≧ｄ１×０．１１＋１．４ｎｍを満たすことが好ましい。アモルファス層の厚さがシリカ層の厚さ以上、すなわち１５ｎｍ以上であることを考慮すると、このとき、透明導電性酸化物層の厚さｄ１は１２５ｎｍ以上となる。この例において、第２のＬｏｗ－Ｅ膜５ｂの放射率εは、例えば０．３４以下である。
　下地層、透明導電性酸化物層およびアモルファス層の形成方法は限定されず、公知の薄膜形成手法を利用できる。例えば、ＣＶＤ法によりこれらの層を形成できる。すなわち、透明導電性酸化物層を含むＬｏｗ－Ｅ膜は、例えば、ＣＶＤ法により形成できる。ＣＶＤ法による薄膜の形成は、ガラス板の製造工程、より具体的な例としてフロート法によるガラス板の製造工程において「オンライン」にて実施可能である。
　これらの例はＬｏｗ－Ｅ膜の一例であり、複層ガラスユニット１が有するＬｏｗ－Ｅ膜の構成はこれらの例に限定されない。
　複層ガラスユニット１の一つの実施形態では、第２のガラス板３の空隙層４に面する主平面１１ｃに形成された第１のＬｏｗ－Ｅ膜５ａは、金属層と、金属層における主平面１１ｃ側とは反対側の面（空隙層４側の面）に当該金属層と接して配置された犠牲層と、金属層および犠牲層を挟持する誘電体層のペアとを含む第１の積層構造を有し、第２のガラス板３の室内空間側の主平面１１ｄに形成された第２のＬｏｗ－Ｅ膜５ｂは、当該主平面１１ｄ側から順に下地層、透明導電性酸化物層およびアモルファス層を含む第２の積層構造を有する。図１に示す例において、Ｌｏｗ－Ｅ膜５ｂは室内空間に露出しており、空隙層４に面するＬｏｗ－Ｅ膜５ａよりも汚れ（例えば、指紋など）が付着しやすく、また、付着した汚れを掃除するための、あるいは物体の接触などによる化学的および物理的ストレスにも強く晒されることになる。そして、第１の積層構造と第２の積層構造とでは、第２の積層構造の方が強度ならびに化学的および物理的耐久性に優れている。このため、このような実施形態とすることにより、複層ガラスユニット１における使用時の耐久性が向上する。
　この実施形態のより具体的な例として、第２のＬｏｗ－Ｅ膜５ｂについて、透明導電性酸化物層が厚さ１２０ｎｍ以上のフッ素ドープ酸化スズ層を含み、アモルファス層が厚さ１５～７０ｎｍのシリカ層を含む例が挙げられる。上述のように、厚さ１２０ｎｍ以上のフッ素ドープ酸化スズ層は、Ｌｏｗ－Ｅ膜の放射率εを一定の値以下とすることに寄与する。厚さ１５ｎｍ以上７０ｎｍ以下のシリカ層は、室内空間側および室外空間側から見た複層ガラスユニットの反射色の変動、特に赤色化、を抑制しながら、透明導電性酸化物層の表面の粗さが小さくなり、複層ガラスユニット１の室内空間側のガラス面の汚れ落ち性が向上することに寄与する。この例では、透明導電性酸化物層の厚さｄ１およびアモルファス層の厚さｄ２は、式ｄ２≧ｄ１×０．１１＋１．４ｎｍを満たすことが好ましい。アモルファス層の厚さがシリカ層の厚さ以上、すなわち１５ｎｍ以上であることを考慮すると、このとき、透明導電性酸化物層の厚さｄ１は１２５ｎｍ以上となる。この例において、第２のＬｏｗ－Ｅ膜５ｂの放射率εは、例えば０．３４以下である。
　この実施形態の上記例とは異なる具体的な例として、第１のＬｏｗ－Ｅ膜５ａが２つの第１の積層構造を有する例が挙げられる。これにより、Ｕ値をより低減させた複層ガラスユニット１の設計が可能となる。この例では、２つの第１の積層構造のうち、第１のＬｏｗ－Ｅ膜５ａが形成された主平面１１ｃからより遠い当該構造が含む金属層の厚さｄ３に対する、当該主平面１１ｃにより近い当該構造が含む金属層の厚さｄ４の比ｄ４／ｄ３が１．１５以上であり、厚さｄ３が６ｎｍ以上であることが好ましい。この比ｄ４／ｄ３の設定により、主平面１１ｃおよび室外空間側の主平面１１ａにおける複層ガラスユニット１の反射色の変動、特に赤色化、が抑制されるとともに、反射色の入射角依存性が緩和される。この効果は、特に、金属層の厚さｄ３およびｄ４の和が２７ｎｍ以上であるときに顕著である。
　第２のガラス板３の室内空間に面するガラス面１１ｄ（図１に示す複層ガラスユニット１では＃４面）に形成された第２のＬｏｗ－Ｅ膜５ｂの表面の粗さは、適度になめらかである。この表面の粗さについて、Ｌｏｗ－Ｅ膜５ｂの表面の算術平均粗さＲａ（ＪＩＳ　Ｂ０６０１に規定）は１４ｎｍ以下であり、好ましくは１３ｎｍ以下、より好ましくは１２ｎｍ以下である。本明細書のＲａは、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）による表面の高さプロファイルから算出した値である。また、この表面の粗さについて、Ｌｏｗ－Ｅ膜５ｂの表面における粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜ＲΔｑ（ＪＩＳ　Ｂ０６０１に規定）が０．７７以下であることが好ましい。同じＲａの値を示す場合においても、表面の変動の微視的な傾きは異なりうる。この傾きの差を考慮し、０．７７以下のＲΔｑが好ましいとする。本明細書のＲΔｑは、ＡＦＭによる表面の高さプロファイルから３次元的に求めた値である。２次元的に求めたＲΔｑの値は、３次元的に求めたＲΔｑの値とは異なるため、用いることができない。
　第２のガラス板３自体の構成は特に限定されない。第２のガラス板３は、例えば、フロート法により形成されたフロートガラス板である。第２のガラス板３のガラス組成も特に限定されず、第２のガラス板３は、例えばソーダライムガラス組成物から構成される。
　第２のガラス板３の厚さは、例えば２～１５ｍｍであり、好ましくは２．５～６ｍｍである。
　第１のガラス板２の構成は特に限定されない。第１のガラス板２は、例えば、フロート法により形成されたフロートガラス板、あるいは型板ガラス板、網入りガラス板である。第１のガラス板２のガラス組成も特に限定されず、第１のガラス板２は、例えばソーダライムガラス組成物から構成される。
　第１のガラス板２の厚さは、例えば２～１５ｍｍであり、好ましくは２～８ｍｍであり、より好ましくは２．５～６ｍｍである。
　第１のガラス板２の主平面にはＬｏｗ－Ｅ膜が形成されていてもいなくてもよい。図１に示す例では、第１のガラス板２の双方の主平面にＬｏｗ－Ｅ膜が形成されていない。すなわち、空隙層４を挟んで対向する一対のガラス板のうち、室外空間側に位置するガラス板の双方の主平面にＬｏｗ－Ｅ膜が形成されていない。第１のガラス板２における室外空間側の主平面にＬｏｗ－Ｅ膜が形成されていない場合、室外空間に露出する当該主平面、例えば複層ガラスユニット１の使用時に屋外に曝露される主平面、の汚れの問題を考慮する必要がない。第１のガラス板２の双方の主平面にＬｏｗ－Ｅ膜が形成されていない場合、第１のガラス板２として、Ｌｏｗ－Ｅ膜をガラス面に形成することが困難な型板ガラス板あるいは網入りガラス板を使用できる。型板ガラス板あるいは網入りガラス板を一方のガラス板に使用した複層ガラスユニットは、建物の窓構造への使用に好適である。より具体的なメリットの例として、型板ガラス板によって意匠的な効果が期待されるし、網入りガラス板によって防犯および／または防火の効果が期待される。
　図１に示す例において空隙層４は、空隙層４を挟持する一対のガラス板（第１および第２のガラス板２，３）の周縁部（空隙層４に面する主平面の周縁部）に配置されたスペーサー６によってその厚さが保持されている。また、スペーサー６のさらに外周に配置された封着材７によって、空隙層４内の空間が密閉されている。スペーサー６とガラス板２，３との間にさらなる封着材が配置されていてもよい。スペーサー６および封着材７には、公知の構成を適用できる。空隙層４には、空気（乾燥空気）、ならびにアルゴンおよびクリプトンのような不活性ガスなどの気体が導入、充填されうる。空隙層４に気体が充填されている場合、空気よりもアルゴン、アルゴンよりもクリプトンが充填されている方が、複層ガラスユニット１のＵ値をより小さく設計できる。
　空隙層４の厚さは、例えば４～１６ｍｍであり、好ましくは６～１６ｍｍである。
　図１に示す複層ガラスユニット１の厚さは、例えば１０～２２ｍｍであり、１２～２２ｍｍとすることもできる。
　図１に示す複層ガラスユニット１の製造方法は特に限定されず、例えば、公知の方法により形成された第１のガラス板および上述した薄膜形成手法を利用して形成された第２のガラス板を用いて、公知の方法により製造できる。
　空隙層４は減圧されていてもよく、この場合、減圧の程度は限定されない。真空（圧力にしておよそ１０Ｐａ以下）にまで減圧された空隙層４とすることにより、複層ガラスユニット１のＵ値をさらに小さく設計できる。空隙層４が真空層である複層ガラスユニットの一例を図２に示す。
　図２に示す複層ガラスユニット１は、真空層である空隙層４をより確実に維持するための構成が異なる以外、図１に示す複層ガラスユニット１と同様の構成を有する。真空層である空隙層４をより確実に維持するための代表的な構成は、第１のガラス板２および第２のガラス板３が空隙層４を挟んで所定の間隔で互いに離間した状態で保持されるために、双方のガラス板２，３の間に配置されている複数のスペーサー２１である。そして、図２に示す複層ガラスユニット１では、複数のスペーサー２１、およびユニット１の外周に配置された封着材７によって、空隙層４の負圧が保たれている。その他の特徴は、図１に示すガラスユニット１と同じである。例えば、図２に示すガラスユニット１においても、空隙層４を挟む一対のガラス板２，３のうち、室内空間側に位置する第２のガラス板３の双方の主平面１１ｃ，１１ｄに第１および第２のＬｏｗ－Ｅ膜５ａ，５ｂが形成されており、室内空間に露出している第２のガラス板３の主平面１１ｄの表面のＲａが１４ｎｍ以下である。スペーサー２１および封着材７には公知の構成を適用できる。
　真空層である空隙層４の厚さは、例えば０．１～１ｍｍであり、典型的には０．２ｍｍである。
　図２に示す複層ガラスユニット１の厚さは、空隙層４の厚さを小さくできることに基づき、例えば６～１２ｍｍであり、６．２～１０．２ｍｍあるいは６．２～８．２ｍｍとすることもできる。厚さ３～８ｍｍ程度の１つのガラス板が窓枠（サッシ）に嵌め込まれた窓構造があるが、図２に示す複層ガラスユニット１は、その厚さによってはこのような窓構造に上記１つのガラス板を置き換えて使用できるとともに、この使用により、例えば優れた断熱効果（小さなＵ値）が期待される。
　図２に示す複層ガラスユニット１の製造方法も特に限定されず、例えば、公知の方法により形成された第１のガラス板および上述した薄膜形成手法を利用して形成された第２のガラス板を用いて、公知の方法により製造できる。
　本発明の複層ガラスユニットの構成は、所定の間隔で互いに離間した状態となるように空隙層４を挟んで互いに対向して配置された上述の第１および第２のガラス板２，３を備える限り限定されない。例えば、本発明の複層ガラスユニットは、第１および第２のガラス板２，３以外のさらなるガラス板を備えていてもよい。この場合、さらなるガラス板は、第１のガラス板２よりも室外空間側に配置されている。すなわち、この場合、第１および第２のガラス板２，３が挟持する空隙層４の室外空間側に２以上のガラス板が配置されており、空隙層４よりも室内空間側にある第２のガラス板３が室内空間に露出している（主平面１１ｄ上に形成されたＬｏｗ－Ｅ膜５ｂが室内空間に露出している）。換言すれば、３以上のガラス板から構成される本発明の複層ガラスユニットにおいても、最も室内空間側に位置するガラス板は第２のガラス板３である。
　本発明の複層ガラスユニットでは、第１および第２のガラス板２，３が挟持する空隙層４よりも室外空間側のガラス板の枚数およびそれぞれの当該ガラス板の構成は限定されない。一つの実施形態では、複層ガラスユニット１が、空隙層４よりも室外空間側に型板ガラス板または網入りガラス板を備える。この型板ガラス板または網入りガラス板は、第１のガラス板２であっても、第１のガラス板２よりもさらに室外空間側に配置されたさらなるガラス板であってもよい。型板ガラス板および網入りガラス板により期待される効果は、上述のとおりである。
　空隙層４よりも室外空間側のガラス板の数が２以上である複層ガラスユニットの一実施形態は、上述した一対のガラス板２，３のうち室外空間側に位置する第１のガラス板２に対して、所定の間隔で互いに離間した状態となるようにさらなる空隙層を挟んで対向して室外空間側に配置されたガラス板をさらに含む。このユニットは、３以上のガラス板から構成される。このユニットの最も室内空間側に位置するガラス板は第２のガラス板３である。
　このような複層ガラスユニットの一例を図３に示す。図３に示す複層ガラスユニット１は３つのガラス板（第１のガラス板２、第２のガラス板３および第３のガラス板８）から構成される。第１のガラス板２および第２のガラス板３は、図１に示す複層ガラスユニット１と同様、所定の間隔で互いに離間した状態となるように空隙層４を挟んで対向して配置されている。第１のガラス板２および第３のガラス板８は、所定の間隔で互いに離間した状態となるようにさらなる空隙層９を挟んで対向して配置されている。このガラスユニット１では、第３のガラス板８が最も室外空間側にかつ当該空間に露出して、第２のガラス板３が最も室内空間側にかつ当該空間に露出して、それぞれ配置されている。また、図１に示すガラスユニット１と同様に、最も室内空間側に位置する第２のガラス板３の双方の主平面１１ｃ，１１ｄに、第１および第２のＬｏｗ－Ｅ膜５ａ，５ｂがそれぞれ形成されており、室内空間に露出している第２のガラス３の主平面１１ｄの表面のＲａが１４ｎｍ以下である。図３に示す複層ガラスユニットでは、当業者の慣例に従い、第３のガラス８の空隙層９とは反対側の主平面（室外空間に露出している主平面）１１ｅが＃１面、第３のガラス８の空隙層９に面する主平面１１ｆが＃２面、第１のガラス２の空隙層９に面する主平面１１ａが＃３面、第１のガラス２の空隙層４に面する主平面１１ｂが＃４面、第２のガラス３の空隙層４に面する主平面１１ｃが＃５面、第２のガラス３の空隙層４とは反対側の主平面（室内空間に露出している主平面）１１ｄが＃６面である。図３に示すガラスユニット１では、＃５面および＃６面がＬｏｗ－Ｅ膜を有する。
　第３のガラス板８の構成（厚さを含む）は特に限定されず、第１のガラス板２と同様でありうる。
　図３に示す複層ガラスユニット１では、非常に小さいＵ値を実現する設計が可能である。
　図３に示す複層ガラスユニット１の厚さは、例えば１７～４１ｍｍであり、２１～４１ｍｍとすることもできる。
　図３に示す複層ガラスユニット１の製造方法は特に限定されず、例えば、公知の方法により形成された第１および第３のガラス板、ならびに上述した薄膜形成手法を利用して形成された第２のガラス板を用いて、公知の方法により製造できる。
　空隙層９は、空隙層４と同様の構成をとりうる。空隙層９および空隙層４の構成（厚さを含む）は、同一であっても互いに異なっていてもよい。空隙層４および／または空隙層９が真空層であってもよい。この場合、複層ガラスユニット１のＵ値をさらに小さく設計できる。第１のガラス板２および第２のガラス板３により挟まれている空隙層４が真空層である複層ガラスユニットの一例を図４に示す。
　図４に示す複層ガラスユニット１は、真空層である空隙層４をより確実に維持するための構成が異なるとともに、最も室外空間側に位置する第３のガラス板８における空隙層９側の主平面（＃２面）に第３のＬｏｗ－Ｅ膜５ｃが形成されている以外、図３に示す、３つのガラス板から構成される複層ガラスユニット１と同様の構成を有する。真空層である空隙層４をより確実に維持するための代表的な構成は、第１のガラス板２および第２のガラス板３が空隙層４を挟んで所定の間隔で互いに離間した状態で保持されるために、双方のガラス板２，３の間に配置されている複数のスペーサー２１である。そして、図４に示す複層ガラスユニット１では、複数のスペーサー２１、およびユニット１の外周に配置された封着材７によって、空隙層４の負圧が保たれている。その他の特徴は、図３に示すガラスユニット１と同じである。例えば、図４に示すガラスユニット１においても、空隙層４を挟む一対のガラス板２，３のうち、室内空間側に位置する第２のガラス板３の双方の主平面１１ｃ，１１ｄに第１および第２のＬｏｗ－Ｅ膜５ａ，５ｂが形成されており、室内空間に露出している第２のガラス板３の主平面１１ｄの表面のＲａが１４ｎｍ以下である。スペーサー２１および封着材７には公知の構成を適用できる。
　上述のように真空層である空隙層の厚さを小さくできることから、図４に示す複層ガラスユニット１の厚さは、例えば１４～３０ｍｍであり、１４．２～２９ｍｍあるいは１４．２～２１．２ｍｍとすることもできる。２つのガラス板から構成される、厚さ１２～２２ｍｍ程度の従来の複層ガラスユニットが窓枠（サッシ）に嵌め込まれた窓構造があるが、図４に示す、３つのガラス板から構成される複層ガラスユニット１は、その厚さによっては、このような２つのガラス板から構成される従来の複層ガラスユニットを置き換えて使用できるとともに、この使用により、例えば極めて優れた断熱効果（特に小さいＵ値）が期待される。
　第３のＬｏｗ－Ｅ膜５ｃの構成は限定されず、例えば、第１の積層構造および第２の積層構造のいずれの構造を有していてもよい。Ｕ値をできるだけ小さくする観点からは、第３のＬｏｗ－Ｅ膜が第１の積層構造を有することが好ましい。
　図４に示す複層ガラスユニット１の製造方法も特に限定されず、例えば、公知の方法により形成された第１のガラス板、ならびに上述した薄膜形成手法を利用して形成された第２のガラス板および第３のガラス板を用いて、公知の方法により製造できる。
　図３，４に示す複層ガラスユニット１のように３つのガラス板から構成される複層ガラスユニットでは、中央のガラス板となる第１のガラス板２は、少なくともその一方の主平面にＬｏｗ－Ｅ膜が形成されていない必要があり、双方の主平面にＬｏｗ－Ｅ膜が形成されていないことが好ましい。換言すれば、中央のガラス板の双方の主平面にＬｏｗ－Ｅ膜が形成されている構成は採用できない。空隙層を挟んで互いに対向して配置された３つのガラス板から構成される複層ガラスユニットにおいて、中央のガラス板となるガラス板の双方の主平面にＬｏｗ－Ｅ膜が形成されていると、日射の熱により当該ガラス板の温度が上昇し、破損（熱割れ）が生じやすくなるためである。特に、南面の日射量が大きく、複層ガラスユニットの周縁部が強く冷却される冬季の晴れた午前中に、熱割れが生じやすい。また、第１のガラス板２が真空層である空隙層に面している場合、当該ガラス板のいずれの主平面にもＬｏｗ－Ｅ膜が形成されていないことが好ましい。中央のガラス板において少なくとも片方の主平面にＬｏｗ－Ｅ膜が形成されていると、同じく熱割れが生じやすくなるためである。これらの観点から、３つのガラス板から構成される複層ガラスユニットにおいて第１のガラス板２および第２のガラス板３により挟まれた空隙層４が真空層である場合、Ｌｏｗ－Ｅ膜は、＃２面、＃５面および＃６面に形成されていることが好ましい。図４に示すガラスユニット１では、＃２面、＃５面および＃６面にＬｏｗ－Ｅ膜が形成されている。
　図３に示すガラスユニット１は、以下のように表現することもできる：すなわち、図３に示す複層ガラスユニットは、３つのガラス板Ａ、ガラス板Ｂおよびガラス板Ｃから構成され、室内空間と室外空間とを分離する複層ガラスユニットであって、ガラス板Ａおよびガラス板Ｂ、ならびにガラス板Ｂおよびガラス板Ｃは、それぞれ、所定の間隔で互いに離間した状態となるように空隙層を挟んで対向して配置され、３つのガラス板のうち最も室内空間側に位置するガラス板Ｃ（第２のガラス板３）における空隙層４側の主平面に第１のＬｏｗ－Ｅ膜、室内空間側の主平面に第２のＬｏｗ－Ｅ膜がそれぞれ形成されており、当該室内空間側の主平面に形成された第２のＬｏｗ－Ｅ膜の表面の算術平均粗さＲａが１４ｎｍ以下である。
　図４に示すガラスユニット１は、以下のように表現することもできる：すなわち、図４に示す複層ガラスユニットは、３つのガラス板Ａ、ガラス板Ｂおよびガラス板Ｃから構成され、室内空間と室外空間とを分離する複層ガラスユニットであって、ガラス板Ａおよびガラス板Ｂ、ならびにガラス板Ｂおよびガラス板Ｃは、それぞれ、所定の間隔で互いに離間した状態となるように空隙層を挟んで対向して配置され、３つのガラス板のうち最も室内空間側に位置するガラス板Ｃ（第２のガラス板３）における空隙層４側の主平面に第１のＬｏｗ－Ｅ膜、室内空間側の主平面に第２のＬｏｗ－Ｅ膜がそれぞれ形成されているとともに、３つのガラス板のうち最も室外空間側に位置するガラス板Ａ（第３のガラス板８）におけるガラス板Ｂ（第１のガラス板２）側の主平面（室内空間側の主平面あるいは空隙層９側の主平面）または中央のガラス板Ｂにおけるガラス板Ａ側の主平面（室外空間側の主平面あるいは空隙層９側の主平面）に第３のＬｏｗ－Ｅ膜が形成されており、ガラス板Ｃの室内空間側の主平面に形成された第２のＬｏｗ－Ｅ膜の表面の算術平均粗さＲａが１４ｎｍ以下である。
　本発明の複層ガラスユニットは、以下の特性を満たすように設計できる。
　図１に示す複層ガラスユニット１に関し：
　Ｕ値について、例えば１．６Ｗ／（ｍ2・Ｋ）以下であり、ガラスユニットの構成によっては、１．４Ｗ／（ｍ2・Ｋ）以下、および１．２Ｗ／（ｍ2・Ｋ）以下；
　ＳＨＧＣの値について、例えば０．４０以上であり、ガラスユニットの構成によっては、０．４０を超える値、０．４５以上、０．５０以上、０．６０以上。ＳＨＧＣの値の上限は限定されない；
　可視光線透過率（Ｔvis）について、例えば５０～７５％であり、好ましくは５０～７０％であり、より好ましくは５０～６５％；
　室外空間からの反射率について、例えば８～２６％であり、好ましくは１０～２０％であり、より好ましくは１２～２０％；
　室内空間からの反射率について、例えば８～２８％であり、好ましくは１０～２５％であり、より好ましくは１０～２２％。
　図２に示す複層ガラスユニット１に関し：
　Ｕ値について、例えば１．０Ｗ／（ｍ2・Ｋ）以下であり、ガラスユニットの構成によっては、０．９Ｗ／（ｍ2・Ｋ）以下；
　ＳＨＧＣの値について、例えば０．４５以上であり、ガラスユニットの構成によっては、０．４７以上、０．５０以上。ＳＨＧＣの値の上限は限定されない；
　可視光線透過率（Ｔvis）について、例えば５０～７５％；
　室外空間からの反射率について、例えば１０～２５％；
　室内空間からの反射率について、例えば１０～３０％。
　図３に示す複層ガラスユニット１に関し：
　Ｕ値について、例えば０．９３Ｗ／（ｍ2・Ｋ）以下であり、ガラスユニットの構成によっては、０．８０Ｗ／（ｍ2・Ｋ）以下、０．７２Ｗ／（ｍ2・Ｋ）以下；
　ＳＨＧＣの値について、例えば０．３０以上であり、ガラスユニットの構成によっては、０．３２以上、０．３６以上。ＳＨＧＣの値の上限は限定されない；
　可視光線透過率（Ｔvis）について、例えば４５～６０％；
　室外空間からの反射率について、例えば１５～２５％；
　室内空間からの反射率について、例えば１５～２５％。
　図４に示す複層ガラスユニット１に関し：
　Ｕ値について、例えば０．６８Ｗ／（ｍ2・Ｋ）以下であり、ガラスユニットの構成によっては、０．６７Ｗ／（ｍ2・Ｋ）以下、０．６５Ｗ／（ｍ2・Ｋ）以下；
　ＳＨＧＣの値について、例えば０．３０以上であり、ガラスユニットの構成によっては、０．３１以上。ＳＨＧＣの値の上限は限定されない；
　可視光線透過率（Ｔvis）について、例えば４５～６０％；
　室外空間からの反射率について、例えば１５～３０％；
　室内空間からの反射率について、例えば１５～３５％。
　本発明の複層ガラスユニットでは、室外空間からの色調について、Ｌａ*ｂ*表色系のａ*値を、例えば－２５～０、好ましくは－２０～－４、ｂ*値を、例えば－１０～１０、好ましくは－５～５とすることができる。
　本発明の複層ガラスユニットでは、室内空間からの色調について、Ｌａ*ｂ*表色系のａ*値を、例えば－２０～０、好ましくは－１５～－３、ｂ*値を、例えば－１０～１５、好ましくは－４～１０とすることができる。
　本発明の複層ガラスユニットは、当該ユニットの厚さが小さい場合においても、低いＵ値および高いＳＨＧＣの値を実現できる。例えば、本発明の複層ガラスユニットの一形態、典型的には２つのガラス板から構成される本発明の複層ガラスユニットの一形態、において、複層ガラスユニットの厚さが２２ｍｍ以下、Ｕ値が１．６Ｗ／（ｍ2・Ｋ）以下、ＳＨＧＣ値が０．４～０．７、可視光線透過率が５０～７５％である。
　本発明の複層ガラスユニットの製造方法は特に限定されず、例えば、公知の方法により形成された第１のガラス板および上述した薄膜形成手法を利用して形成された第２のガラス板、ならびに、必要に応じて、公知の方法により、または上述した薄膜形成手法を利用して形成された第３のガラス板を用いて、公知の方法により製造できる。
　第２のガラス板３は、本発明の複層ガラスユニットの製造に使用する複層ガラスユニット用ガラス板として、単独で流通できる。この複層ガラスユニット用ガラス板は、双方の主平面１１ｃ，１１ｄにＬｏｗ－Ｅ膜５ａ，５ｂが形成されており、一方の主平面１１ｄに形成されたＬｏｗ－Ｅ膜５ｂの表面の算術平均粗さＲａが１４ｎｍ以下である。この複層ガラスユニット用ガラス板は、その他、第２のガラス板３の説明において上述した好ましい形態をとりうる。例えば、上記一方の主平面１１ｄに形成されたＬｏｗ－Ｅ膜５ｂの表面における粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜ＲΔｑが０．７７以下である。
　本発明の複層ガラスユニットは、単独で、あるいは窓枠（サッシ）部をさらに備え、窓枠部に複層ガラスユニットがはめ込まれた窓アセンブリとして、任意の窓構造に使用できる。この窓アセンブリおよび窓構造は、本発明の複層ガラスユニットを備え、低いＵ値を保持したままＳＨＧＣの値を従来より大きく設計することが可能である。
　以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。本発明は、以下の実施例に限定されない。
　本実施例では、所定の間隔で互いに離間した状態となるように空隙層を挟んで２つのガラス板が対向して配置された、２つのガラス板から構成される複層ガラスユニット、および所定の間隔で互いに離間した状態となるように空隙層を挟んで２つのガラス板が対向して配置されるとともに、一方のガラス板に対して所定の間隔で互いに離間した状態となるようにさらなる空隙層を挟んで対向して配置されたさらなる１つのガラス板が配置された、３つのガラス板から構成される複層ガラスユニットを作製した。複層ガラスユニットの作製方法を以下に示す。
　各実施例および比較例について、２または３つのフロートガラス板（厚さ３．０ｍｍ）を準備し、それぞれを所定寸法に切断するとともに、以下の表１Ａ～表１Ｍに示すようにガラス板の主平面にＬｏｗ－Ｅ膜を形成した。表１Ａ～表１Ｍにおいて、括弧内の数値は層の厚さ（ｎｍ）を示し、「－」はＬｏｗ－Ｅ膜を形成していないことを示す。
　そして、この２または３つのガラス板から、当業者に周知の製法により複層ガラスユニットを製造した。複層ガラスユニットの空隙層には所定の気体（空気またはアルゴン）を封入するか、または圧力１Ｐａ以下にまで減圧した真空空隙層とした。
　金属層（Ａｇ層）を含むＬｏｗ－Ｅ膜は、スパッタリング法によって形成した。このＬｏｗ－Ｅ膜における誘電体層（表１Ａ～表１Ｍに示す「誘電体層」）は亜鉛酸化物層、スズ亜鉛酸化物層、スズ酸化物層、窒化ケイ素層などである。犠牲層を構成する材料にはチタン、ＺｎＡｌまたは酸化チタン（ＴｉＯX）を使用した。一方、透明導電性酸化物層を含むＬｏｗ－Ｅ膜は、ＣＶＤ法により形成した。
　このように作製した実施例および比較例の各複層ガラスユニットの特性を、以下のように評価した。以下に、特性の評価方法を示す。
　［熱的特性および反射特性］
　複層ガラスユニットの＃１面における可視光透過率Ｔｖｉｓ（％）、＃１面における可視光反射率Ｒ（％）、＃４面（２つのガラス板から構成される複層ガラスユニット）または＃６面（３つのガラス板から構成される複層ガラスユニット）における可視光反射率Ｒ（％）、および複層ガラスユニットのＳＨＧＣの値は、室外側のガラス板および室内側のガラス板それぞれの光学特性実測値の結果から、ＪＩＳ　Ｒ３１０６（板ガラス類の透過率・反射率・放射率・日射熱取得率の試験方法）に準拠して計算により求めた。
　また、複層ガラスユニットの＃１面、および＃４面（２つのガラス板から構成される複層ガラスユニット）または＃６面（３つのガラス板から構成される複層ガラスユニット）における入射角５°での反射色を、Ｌａ*ｂ*表色系のａ*値およびｂ*値として、ＪＩＳ　Ｚ８７２２およびＪＩＳ　Ｚ８７２９に準拠して求めた。なお、実施例１，７～９および比較例３，５の＃１面の反射色について、その入射角依存性を評価するために、入射角４５°でのａ*値およびｂ*値を併せて求めた。なお、入射角４５°での反射色の値は、偏光面の影響をなくすために、Ｓ偏光での測定値とＰ偏光での測定値との平均値とした。
　［Ｌｏｗ－Ｅ膜の表面の粗さ］
　複層ガラスユニットの＃４面（２つのガラス板から構成される複層ガラスユニット）または＃６面（３つのガラス板から構成される複層ガラスユニット）にＬｏｗ－Ｅ膜を形成した実施例および比較例の一部について、当該Ｌｏｗ－Ｅ膜の表面の算術平均粗さＲａおよび粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜ＲΔｑを、ＪＩＳ　Ｂ０６０１：２０１３の規定に準拠して求めた。
　［汚れ落ち特性］
　作製した複層ガラスユニットにおける室内空間に露出している面（複層ガラスユニットの＃４面または＃６面）の汚れ落ち特性は、以下のように評価した。最初に、＃４面または＃６面における以下の各汚れ（指紋、油性インク、口紅）を付着させた部分を、洗浄剤を染み込ませた１０ｃｍ角の綿布で所定の回数擦った後、当該部分に呼気を吐きかけたときに汚れの痕跡が肉眼で認められなかった場合をＯＫ、認められた場合をＮＧとした。所定の回数は、ガラス面にコーティングがなされていない市販のフロートガラスにおいて、上記綿布で痕跡が認められなくなるまで擦った回数とした。
　　＜指紋に対する汚れ落ち特性＞
　被評価表面に、手の指先を押しつけて指紋を付けた。洗浄剤は脱イオン水、所定の回数は２０回とした。
　　＜油性フェルトペンインクに対する汚れ落ち特性＞
　被評価表面に、市販の黒色の油性フェルトペン（マジックインキ(R) No.500、寺西化学工業株式会社製）で直径約１ｃｍの円を描き、乾燥させて汚れを付着させた。洗浄剤は市販のガラス用洗剤（ガラスマジックリン(R)、花王株式会社製）、所定の回数は５０回とした。
　　＜口紅に対する汚れ落ち特性＞
　被評価表面に、市販の口紅（株式会社カネボウ化粧品製）で直径約１ｃｍの円を描き、汚れを付着させた。洗浄剤は市販の除光液（ネイルカラーリムーバー、株式会社カネボウ化粧品製）、所定の回数は３０回とした。
　［熱割れ可能性］
　３つのガラス板から構成される複層ガラスユニットのうち、実施例７１～７４、比較例７１～７８、および実施例８１～８４で作製したユニットについて、その中央部ガラス板の熱割れ可能性を評価した。
　ガラス板は、サッシに嵌め込まれて建物などに取り付けられることがある。ガラス板が日射を受けると、日射の一部を吸収して温度が上昇し、膨張しようとする。一方、サッシに嵌め込まれた部分あるいは建物の庇などにより影になった部分は、日射による温度上昇が小さく、熱膨張が小さいので、日射を受けた部分の膨張を拘束する。これにより、ガラス板の周縁部に、日射を受けた部分とそうでない部分、典型的には周縁部、との温度差に比例する引張応力（熱応力）が生じる。熱応力がガラス板のエッジ強度を超えるとガラス板が割れることがある。これを熱割れという。
　ガラス板に生じる熱応力は、影のでき方によりガラスの温度分布が変わることで変化し（影係数）、室内のカーテンなどによりガラス板の中央部の温度が高くなることで増加し（カーテン係数）、ガラス板の面積が大きくなることで増加し（面積係数）、ガラス板が嵌め込まれるサッシの断熱性が大きくなることで減少し（エッジ係数、サッシカラー）、地域による代表的な外気温により変化する。このため、これらの条件を考慮して熱応力を算出した。具体的には、日本板硝子株式会社が公開する「ガラス建材カタログ　技術資料編」の第６８－７１ページ（http://glass-catalog.jp/pdf/g46-010.pdf［２０１４年１２月］、http://glass-catalog.jp/pdf/g60-010.pdf［２０１５年１月２０日訂正］を参照）の記載に従い、影係数を「シングルシャドー」、カーテン係数を「カーテン無し」、エッジ係数を「弾性シーリング材＋バックアップ材（発泡材）」、サッシカラーを「淡色」、地域を日本の地方である「関東南部・北陸・東海・近畿・中国・四国・九州」として熱応力を算出し、算出した熱応力が呼び厚さ３～１２ｍｍのフロートガラス板の許容応力を超える場合を、熱割れ可能性あり（ＹＥＳ）、許容応力以下におさまる場合を熱割れ可能性なし（ＮＯ）とした。
　作製した実施例および比較例の各複層ガラスユニットに対する上記特性の評価結果を、以下の表２Ａ～表２Ｇに示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
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Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
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Figure JPOXMLDOC01-appb-T000020
　表１Ａ、表１Ｂおよび表１Ｄに示す実施例１～９、比較例１～８および実施例２１～２２では、２つのガラス板から構成され、空気が満たされた厚さ１２ｍｍの空隙層を有する複層ガラスユニットを作製した。表１Ｃおよび表１Ｅに示す実施例１１～１７および実施例３１～３２では、２つのガラス板から構成され、アルゴンガスが満たされた厚さ１２ｍｍの空隙層を有する複層ガラスユニットを作製した。これらの複層ガラスユニットの特性を、表２Ａ、表２Ｂに示す。
　表２Ａに示すように実施例１～９の複層ガラスユニットは、＃４面の高い汚れ落ち特性を示すとともに、Ｌｏｗ－Ｅ膜を有さないか、あるいは１つの面のみにＬｏｗ－Ｅ膜が形成されている比較例１～３のユニットに対して、低いＵ値を示した。また、実施例１～９の複層ガラスユニットは、＃２面および＃４面にＬｏｗ－Ｅ膜を有する比較例４，７，８のユニットに比べて、大きなＳＨＧＣの値を示した。＃２面および＃３面にＬｏｗ－Ｅ膜を有する比較例６の複層ガラスユニットでは、その２つの面に形成されたＬｏｗ－Ｅ膜の双方が金属層（Ａｇ層）を２層有する低放射性に優れる膜であるにもかかわらず、実施例１～９の複層ガラスユニットに比してＵ値が高く、ＳＨＧＣの値が小さくなった。そして、実施例１～９の複層ガラスユニットは、＃４面のＲａが１４ｎｍを超える比較例４，５のユニットに比べて、＃４面の高い汚れ落ち特性を示した。
　実施例１～９のなかでも実施例１，７の複層ガラスユニットがより低いＵ値を示した。実施例１，７のユニットは、いずれもＡｇ層（金属層）の厚さｄ３およびｄ４の和が２７ｎｍ以上であるが、Ａｇ層（金属層）の厚さに関する上述の比ｄ４／ｄ３が１．１５以上である実施例１のユニットは、そうではない実施例７のユニットに比べて、反射色の入射角依存性が緩和されていた。より具体的には、実施例７では５°から４５°への入射角の変化によってａ*値が負の値から正の値へと変化し、反射色の色調が緑系色から赤系色に変化したが、実施例１では、当該入射角の変化によってもａ*値が負の値のままであり、反射色の色調は緑系色を保っていた。また、＃３面のＡｇ層の厚さの和が２７ｎｍ未満である実施例８，９のユニットは、上述の比ｄ４／ｄ３にかかわらず、入射角の変化によってもａ*値が負の値のままであり、反射色の色調は緑系色を保っていた、すなわち、反射色の入射角依存性が緩和されていた。さらに、＃３面のＡｇ層の厚さの和が２７ｎｍ未満である実施例３，４，８，９のユニットは、そうではない実施例１，２，５～７のユニットに比べて、大きなＳＨＧＣの値を示した。
　表２Ｂに示す実施例１１～１７、実施例２１～２２および実施例３１～３２についても、表２Ａに示す実施例１～９と同様の傾向を示した。実施例２１～２２のＵ値は比較例６と同じであるが、金属層を有するＬｏｗ－Ｅ膜について、比較例６の膜が２つの金属層を有する、すなわち本質的に低放射性に優れる膜であるのに対して実施例２１～２２の膜が１つの金属層しか有さないことを考慮すると、実施例２１～２２の構成によってＵ値を低下させる優れた効果が達成されていることがわかる。これに加えて、実施例２１～２２のＳＨＧＣの値は比較例１～８に比べて高い。また、アルゴンガスの空隙層を有する実施例１１～１７、実施例３１～３２では、空気の空隙層を有する実施例１～９、実施例２１～２２に比べて、Ｌｏｗ－Ｅ膜について同様の構成を有する場合、Ｕ値がより小さくなった。
　表１Ｆおよび表１Ｇに示す実施例４１～４２、比較例４１～４４および実施例５１～５２では、２つのガラス板から構成され、厚さ０．２ｍｍの真空空隙層を有する複層ガラスユニットを作製した。これらの複層ガラスユニットの特性を、表２Ｃ、表２Ｄに示す。
　表２Ｃ、表２Ｄに示すように、実施例４１～４２、実施例５１～５２および比較例４１～４４においても、表２Ａに示す実施例１～９および比較例１～８と同様の傾向を示した。また、真空の空隙層を有する実施例４１～４２および実施例５１～５２では、空気またはアルゴンガスの空隙層を有する、２つのガラス板から構成される他の実施例に比べて、Ｌｏｗ－Ｅ膜について同様の構成を有する場合、Ｕ値がさらに小さくなった。実施例５１～５２のＵ値は比較例４１～４４よりも高いが、金属層を有するＬｏｗ－Ｅ膜について、比較例４１～４４の膜が２つの金属層を有するのに対して実施例５１～５２の膜が１つの金属層しか有さないことを考慮すると、実施例５１～５２の構成によってＵ値を低下させる優れた効果が達成されていることがわかる。
　表１Ｈおよび表１Ｉに示す実施例６１～６４および比較例６１～６４では、３つのガラス板から構成され、一方の空隙層が厚さ０．２ｍｍの真空空隙層である複層ガラスユニットを作製した。これらの複層ガラスユニットの特性を、表２Ｅに示す。
　表２Ｅに示すように、３つのＬｏｗ－Ｅ膜を形成したユニットのうち、中央のガラス板のいずれの主平面にもＬｏｗ－Ｅ膜が形成されていない実施例６１～６４および比較例６２～６４では、最も室内空間側のガラス板の双方の主平面（＃５面および＃６面）にＬｏｗ－Ｅ膜を形成した実施例６１～６４において非常に低いＵ値が達成された。また、２つのＬｏｗ－Ｅ膜を形成した比較例６１に対して、実施例６１～６４では非常に低いＵ値が達成された。
　表１Ｊ～表１Ｍに示す実施例７１～７４、比較例７１～７８および実施例８１～８４では、３つのガラス板から構成され、双方の空隙層に気体（空気またはアルゴン）が充填された複層ガラスユニットを作製した。これらの複層ガラスユニットの特性を、表２Ｆ、表２Ｇに示す。
　表２Ｆ、表２Ｇに示すように、実施例７１～７４、比較例７１～７８および実施例８１～８４では、最も室内空間側のガラス板の双方の主平面（＃５面および＃６面）にＬｏｗ－Ｅ膜を形成した実施例７１～７４および実施例８１～８４において、比較例７１～７８に比べて、低いＵ値が達成されるとともに、Ｌｏｗ－Ｅ膜の数が同じ場合に、より高いＳＨＧＣの値が達成された。また、３つのガラス板のうち中央のガラス板の双方の主平面（＃３面および＃４面）にＬｏｗ－Ｅ膜を形成した比較例７７では、熱割れ可能性がＹＥＳとなった。
　より具体的に、３つのＬｏｗ－Ｅ膜を形成した実施例７１～７４、実施例８１～８４および比較例７３～７８のうち、最も室内空間側のガラス板の双方の主平面（＃５面および＃６面）と、最も室外空間側のガラス板の空隙層に面した主平面（＃２面）または中央のガラス板の室外空間側の主平面（＃３面）とにＬｏｗ－Ｅ膜を形成した実施例７１～７４および実施例８１～８４において非常に低いＵ値が達成された。比較例７５，７６は、それぞれ、実施例７１，７３の＃１面と＃６面とを裏返したユニットであるが、実施例７１，７３と比較するとＳＨＧＣの値に変化がない一方で、Ｕ値が、各実施例より大きく劣る程、大きくなった。
　比較例７８は、実施例７２，７４と同じく３つのＬｏｗ－Ｅ膜が形成されたユニットであるが、＃５面および＃６面の双方の主平面にＬｏｗ－Ｅ膜が形成されていないため、Ｕ値にこそ変化がないが、ＳＨＧＣの値が小さく、各実施例より劣っていた。比較例７３，７４は、その３つのＬｏｗ－Ｅ膜の何れもが２つの金属層を有するにもかかわらず、Ｕ値が大きく、３つのＬｏｗ－Ｅ膜のうち２つの膜のみ２つの金属層を有する実施例７１～７４および実施例８１～８４に比べて劣っていた。また、２つのＬｏｗ－Ｅ膜が形成されたユニットである比較例７１，７２に対して、実施例７１～７４および実施例８１～８４では非常に低いＵ値が達成された。
　次に、上記実施例および比較例に用いたガラス板と同じ厚さ３．０ｍｍのフロートガラス板を準備し、これを所定寸法に切断するとともに、以下の表３に示すように当該ガラス板の一方の主平面のみにＬｏｗ－Ｅ膜を形成した。Ｌｏｗ－Ｅ膜を形成したこのガラス板について、複層ガラスユニットを製造することなく、そのＬｏｗ－Ｅ膜の表面の粗さと、当該表面における汚れ落ち特性のみを評価した。その結果を比較例９１，９２として表３に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000021
　図５に、実施例１～７および比較例４，５，９１，９２の＃４面（比較例９１，９２においてはＬｏｗ－Ｅ膜の形成面）における算術平均粗さＲａと粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜ＲΔｑとの関係を示す。図５に示すように、各実施例の間および各比較例の間においてＲａとＲΔｑとはよい相関を示すが、実施例と比較例との間ではＲａとＲΔｑとの相関が乏しい。すなわち、第２の積層構造にアモルファス層を含む実施例のＬｏｗ－Ｅ膜は、Ｒａは同じであるがアモルファス層を含まないＬｏｗ－Ｅ膜と比較して小さなＲΔｑを有し、高い汚れ落ち特性を有するといえる。
　本発明は、その意図および本質的な特徴から逸脱しない限り、他の実施形態に適用しうる。この明細書に開示されている実施形態は、あらゆる点で説明的なものであってこれに限定されない。本発明の範囲は、上記説明ではなく添付したクレームによって示されており、クレームと均等な意味および範囲にあるすべての変更はそれに含まれる。
　本発明の複層ガラスユニットは、建物および車両などの窓構造に広く使用できる。
 

Claims (15)

  1. 　所定の間隔で互いに離間した状態となるように空隙層を挟んで対向して配置された一対のガラス板を含み、室内空間と室外空間とを分離する複層ガラスユニットであって、
    　前記一対のガラス板のうち前記室内空間側に位置するガラス板における前記空隙層側の主平面に第１の低放射率（Ｌｏｗ－Ｅ）膜、前記室内空間側の主平面に第２の低放射率膜が、それぞれ形成されており、
    　前記室内空間側の主平面に形成された前記第２の低放射率膜の表面の算術平均粗さＲａが１４ｎｍ以下である、複層ガラスユニット。
  2. 　前記第１の低放射率膜は、金属層と、前記金属層における前記空隙層側の面に当該金属層と接して配置された犠牲層と、前記金属層および前記犠牲層を挟持する誘電体層のペアとを含む第１の積層構造、を有し、
    　前記第２の低放射率膜は、当該第２の低放射率膜が形成された前記主平面側から順に下地層、透明導電性酸化物層およびアモルファス層を含む第２の積層構造を有する、請求項１に記載の複層ガラスユニット。
  3. 　前記アモルファス層の厚さが４０ｎｍ未満である、請求項２に記載の複層ガラスユニット。
  4. 　前記第２の低放射率膜について、
    　前記透明導電性酸化物層が、厚さ１２０ｎｍ以上のフッ素ドープ酸化スズ層を含み、
    　前記アモルファス層が、厚さ１５～７０ｎｍのシリカ層を含み、
    　前記透明導電性酸化物層の厚さｄ１および前記アモルファス層の厚さｄ２は、式ｄ２≧ｄ１×０．１１＋１．４ｎｍを満たし、
    　前記第２の低放射率膜の放射率εが０．３４以下である、請求項２に記載の複層ガラスユニット。
  5. 　前記第１の低放射率膜が２つの前記第１の積層構造を有する、請求項２に記載の複層ガラスユニット。
  6. 　前記２つの第１の積層構造のうち、前記第１の低放射率膜が形成された前記主平面からより遠い当該構造が含む前記金属層の厚さｄ３に対する、当該主平面により近い当該構造が含む前記金属層の厚さｄ４の比ｄ４／ｄ３が１．１５以上であり、
    　前記厚さｄ３が６ｎｍ以上である、請求項５に記載の複層ガラスユニット。
  7. 　前記第２の低放射率膜の表面における粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜ＲΔｑが０．７７以下である、請求項１に記載の複層ガラスユニット。
  8. 　前記第２の低放射率膜が機能性層をさらに有する、請求項１に記載の複層ガラスユニット。
  9. 　前記一対のガラス板のうち前記室外空間側に位置するガラス板の双方の主平面に低放射率（Ｌｏｗ－Ｅ）膜が形成されていない、請求項１に記載の複層ガラスユニット。
  10. 　前記複層ガラスユニットの厚さが２２ｍｍ以下、Ｕ値が１．６（Ｗ／（ｍ2・Ｋ））以下、ＳＨＧＣ値が０．４～０．７、可視光線透過率が５０～７５％である、請求項１に記載の複層ガラスユニット。
  11. 　前記空隙層よりも前記室外空間側に、型板ガラス板または網入りガラス板を備える、請求項１に記載の複層ガラスユニット。
  12. 　前記一対のガラス板のうち前記室外空間側に位置するガラス板に対して、所定の間隔で互いに離間した状態となるようにさらなる空隙層を挟んで対向して前記室外空間側に配置されたガラス板をさらに含む、請求項１に記載の複層ガラスユニット。
  13. 　請求項１～１２のいずれかに記載の複層ガラスユニットにおける、前記一対のガラス板のうち前記室内空間側に位置する前記ガラス板に用いるガラス板であって、
    　当該ガラス板の双方の主平面に、低放射率（Ｌｏｗ－Ｅ）膜が形成されており、
    　一方の前記主平面に形成された前記低放射率膜の表面の算術平均粗さＲａが１４ｎｍ以下である、複層ガラスユニット用ガラス板。
  14. 　前記一方の主平面に形成された前記低放射率膜の表面における粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜ＲΔｑが０．７７以下である、請求項１３に記載の複層ガラスユニット用ガラス板。
  15. 　３つのガラス板Ａ、ガラス板Ｂおよびガラス板Ｃから構成され、室内空間と室外空間とを分離する複層ガラスユニットであって、
    　前記ガラス板Ａおよび前記ガラス板Ｂ、ならびに前記ガラス板Ｂおよび前記ガラス板Ｃは、それぞれ、所定の間隔で互いに離間した状態となるように空隙層を挟んで対向して配置され、
    　前記３つのガラス板のうち最も前記室内空間側に位置するガラス板における前記空隙層側の主平面に第１の低放射率（Ｌｏｗ－Ｅ）膜、前記室内空間側の主平面に第２の低放射率膜が、それぞれ形成されているとともに、前記３つのガラス板のうち最も前記室外空間側に位置する前記ガラス板Ａにおける前記ガラス板Ｂ側の主平面または中央の前記ガラス板Ｂにおける前記ガラス板Ａ側の主平面に第３の低放射率膜が形成されており、
    　前記ガラス板Ｃの前記室内空間側の主平面に形成された前記第２の低放射率膜の表面の算術平均粗さＲａが１４ｎｍ以下である、複層ガラスユニット。
     
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