WO2017155266A1 - 디스플레이 장치 - Google Patents

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박형숙
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    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/549—Organic PV cells

Definitions

  • the present application relates to a display device.
  • OLED organic electroluminescence device
  • the OLED panel has a disadvantage that the contrast ratio is greatly reduced due to reflection by external light due to the metal wiring or the electrode.
  • Patent document 1 Japanese Patent Laid-Open No. 2014-186351 discloses a technique for attaching a circular polarizing plate to an OLED panel in order to prevent a decrease in contrast ratio due to external light reflection.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Laid-Open No. 2014-186351 discloses a technique for attaching a circular polarizing plate to an OLED panel in order to prevent a decrease in contrast ratio due to external light reflection.
  • the external light incident from the outside is incident through the circular polarizing plate, and the incident external light is reflected by the second electrode made of a metal so that its polarization direction is changed. Therefore, the incident external light does not penetrate the circularly polarizing plate and does not come out to the outside, causing extinction interference. This improves the contrast ratio by blocking external light from being reflected.
  • the problem to be solved by the present application is to provide a display device that improves the contrast ratio by reducing the reflection of external light.
  • the present application relates to a display device for solving the above problem.
  • the display device may include a display panel, an adhesive layer, and a surface treatment layer.
  • 1 exemplarily illustrates a display device including a display panel 101, an adhesive layer 102, and a surface treatment layer 103 in sequence.
  • the display device may have a reflectance R C calculated by Equation 1 below 10% or less.
  • R C calculated by Equation 1 below 10% or less.
  • Equation 1 R S is the reflectance (%) of the surface treatment layer for light of 550 nm wavelength
  • R P is the reflectance (%) of the display panel for light of 550 nm wavelength
  • T is the adhesive layer and Total transmittance in% of the surface treatment layer.
  • the display device may have a reflectance R C calculated by Equation 1 being 10% or less, 9% or less, 8% or less, or 7% or less.
  • R M is a reflectance measured for light of 550 nm wavelength of the display panel having the pressure-sensitive adhesive layer and the surface treatment layer
  • R C is a reflectance R C calculated by Equation 1.
  • the reflectance R M may refer to a reflectance measured at the surface treatment layer side of the display device.
  • Reflectance R C calculated by Equation 1 may have a deviation within about 3% of the reflectance measurement value R M. Therefore, when the reflectance R C calculated by Equation 1 is designed to be low in the display device, the actually measured reflectance R M may be lowered.
  • the present application may provide the relationship between the reflectance of the surface treatment layer, the reflectance of the display panel, and the total transmittance of the pressure-sensitive adhesive layer and the surface treatment layer to lower the measured reflectance, as shown in Equation 1, and the reflectance R calculated by Equation 1 Adjusting C may reduce the external light reflectance of the display panel.
  • the display panel may include a self-luminous display panel or a non-light emitting display panel.
  • a self-luminous display panel for example, an OLED panel which does not need a backlight may be exemplified
  • the non-luminescent display panel for example, an LCD panel which requires a backlight may be exemplified.
  • an OLED panel may be used as the display panel, but is not limited thereto.
  • the display panel a low reflective panel may be used.
  • the reflectance R P of the display panel may be 5% to 20%.
  • the display panel may have an antireflection layer.
  • the anti-reflection layer may be provided on the light emitting surface layer of the display device.
  • the anti-reflection layer may be provided on the non-pixel region including the thin film transistor and the wiring unit including the gate line and the data line.
  • the anti-reflection layer may serve to prevent reflection of light on the surface of the wiring electrode including the thin film transistor and the gate line and the data line provided in the non-pixel region.
  • the thickness of the antireflective layer may be adjusted to 10nm to 100nm. When the thickness of the anti-reflection layer is within the above range, it is effective to lower the light reflectivity through the extinction interference between the primary reflected light and the secondary reflected light, and such a display panel is advantageous to realize the reflectance R P.
  • the antireflective layer is for example a metal oxide, metal nitride or metal oxynitride derived from one or two or more metals selected from the group consisting of Cu, Al, Mo, Ti, Ag, Ni, Mn, Au, Cr and Co. It may include.
  • the adhesive layer and the surface treatment layer may be sequentially provided to the viewer side of the display panel. Therefore, the display device can solve the problem that external light is reflected to the viewer.
  • the display panel may be formed by sequentially stacking an adhesive layer and a surface treatment layer on an upper surface of the display panel.
  • the total transmittance T of the adhesive layer and the surface treatment layer may be 30% to 80%.
  • the total transmittance T may be more specifically 40% to 70% or 50% to 60%.
  • the total transmittance may refer to a transmittance of light having a wavelength of about 550 nm measured when the pressure-sensitive adhesive layer and the surface treatment layer are provided together, for example, when the pressure-sensitive adhesive layer and the surface treatment layer are laminated.
  • the total transmittance may mean a transmittance value measured by allowing light to enter the surface treatment layer first among the laminated pressure-sensitive adhesive layer and the surface treatment layer.
  • the adhesive layer may include an adhesive resin and a light absorbing material.
  • the light absorbing material may include a dye or a pigment.
  • the adhesive resin for example, styrene resin or elastomer, polyolefin resin or elastomer, polyoxyalkylene resin or elastomer, polyester resin or elastomer, polyvinyl chloride resin or elastomer, polycarbonate resin or elastomer, Tackiness such as polyphenylene sulfide resin or elastomer, mixture of hydrocarbon, polyamide resin or elastomer, acrylate resin or elastomer, epoxy resin or elastomer, silicone resin or elastomer, fluorine resin or elastomer, or mixtures thereof Resin can be used.
  • the dye or pigment may be a mixture of three or more dyes or pigments with different maximum absorption bands.
  • the dye or pigment may be a mixture of three or more dyes or pigments whose maximum absorption bands correspond to the R (Red) region, the G (Green) region, and the B (Blue) region, respectively.
  • the type of dye or pigment is not limited to the above and may be appropriately adjusted to exhibit a flat transmittance spectrum in the visible light region.
  • the dye or pigment may be a mixture of dyes or pigments whose maximum absorption bands are R (Red) region, G (Green) region, Y (Yellow) region and Violet (V) region, respectively.
  • the mixture of dyes or pigments may exhibit a stable and flat transmission spectrum as a whole.
  • the mixture of the dye or pigment may exhibit a transmission spectrum in which the standard deviation of the total transmittance of the pressure-sensitive adhesive layer and the surface treatment layer is at a wavelength of 400 nm to 700 nm.
  • the total transmittance may mean an average transmittance with respect to the wavelength of 400 nm to 700 nm measured in a state where the pressure-sensitive adhesive layer and the surface treatment layer are provided together.
  • the standard deviation may mean a deviation of the wavelength range of 400 nm to 700 nm with respect to the average transmittance.
  • the pressure-sensitive adhesive layer may include 0.1 to 3 parts by weight of a dye or a pigment based on 100 parts by weight of the adhesive resin.
  • This pressure-sensitive adhesive layer can effectively represent the total transmittance T of the pressure-sensitive adhesive layer and the surface treatment layer.
  • the weight part may mean a weight ratio between each component.
  • the pressure-sensitive adhesive layer may further include an antistatic agent.
  • an antistatic agent an ionic compound or a metal salt can be used, for example.
  • the ionic compound for example, a known organic salt which can be used as an antistatic agent can be used.
  • the metal salt for example, a known alkali metal salt or alkaline earth metal salt which can be used as an antistatic agent can be used.
  • the pressure-sensitive adhesive layer may have antistatic performance to reduce static electricity and the like.
  • the reflectance R S of the surface treatment layer may be 0.5% to 2%.
  • the reflectance R S of the surface treatment layer may be more specifically 0.7% to 1.8% or 0.9% to 1.6%.
  • the reflectance by external light can be effectively reduced.
  • the surface treatment layer may be, for example, an antireflection layer or an antiglare layer.
  • the surface treatment layer may include a low refractive index layer exhibiting a refractive index of about 1.4 or less for a 550 nm wavelength.
  • the lower limit of the refractive index of the low refractive index layer may be, for example, about 1.2 or more, and the more specific refractive index range may be 1.31 to 1.35.
  • the low refractive index layer may include a photocurable acrylate and a fluorine-based acrylate containing hollow silica. This surface treatment layer is advantageous for realizing the reflectance R S.
  • the surface treatment layer may further include a hard coating layer on one surface of the low refractive index layer.
  • the display device of the present application can improve the contrast ratio by reducing external light reflection.
  • a display device may be applied to various display devices including not only OLED, which is a self-luminous display device, but also an LCD, which is a non-light emitting display device, and may be implemented as a flexible display device.
  • the present application can provide a display device having improved contrast ratio by reducing external light reflection.
  • a display device may be applied to various display devices including not only OLED, which is a self-luminous display device, but also an LCD, which is a non-light emitting display device, and may be implemented as a flexible display device.
  • FIG. 1 is a schematic view of a display device of the present application.
  • 2 is a reflectance graph according to the wavelength of the panel.
  • 3 is a reflectance graph according to the wavelength of the surface treatment layer.
  • FIG. 4 is a graph showing transmittance and reflectance according to the wavelength of Example 1.
  • FIG. 5 is a graph showing transmittance and reflectance according to the wavelength of Example 2.
  • FIG. 6 is a graph illustrating transmittance and reflectance according to the wavelength of Example 3.
  • FIG. 7 is a graph illustrating transmittance and reflectance according to the wavelength of Example 4.
  • FIG. 8 is a graph illustrating transmittance and reflectance according to the wavelength of Example 5.
  • FIG. 9 is a graph showing transmittance and reflectance according to wavelengths of Comparative Examples 1 to 3.
  • FIG. 9 is a graph showing transmittance and reflectance according to wavelengths of Comparative Examples 1 to 3.
  • the transmittance and reflectance according to the wavelength were measured according to the manufacturer's manual using a UV-VIS-NIR Spectrophotometer (solidspec-3700, Shimadzu).
  • Equation 1 R S is the reflectance (%) of the surface treatment layer for light at 550 nm wavelength, R P is the reflectance (%) of the display panel for light at 550 nm wavelength, and T is the pressure-sensitive adhesive layer for light at 550 nm wavelength. Total transmittance in% of the surface treatment layer.
  • a high reflection panel (Panel B) having a reflectance of 42.68% for light having a wavelength of 550 nm was prepared by not forming an antireflection layer on the upper surface of the non-pixel region in the panel.
  • 2 is a reflectance graph according to the wavelength of panels A to B.
  • Adhesive layer A Adhesive layer A
  • n-butylacrylate (BA) and 2-hydroxyethylacrylate (2-HEA) were added in a 1 L reactor equipped with a cooling device to facilitate temperature control.
  • HBA n-butylacrylate
  • 2-HEA 2-hydroxyethylacrylate
  • ethyl acetate as a solvent.
  • nitrogen gas was purged for 1 hour to remove oxygen, and a reaction initiator (AIBN; azobisisobutyronitrile) was added thereto to react for about 8 hours, followed by dilution with ethyl acetate to prepare an adhesive polymer (A).
  • AIBN azobisisobutyronitrile
  • the weight average molecular weight (Mw) of the adhesive polymer (A) was about 1.8 million.
  • FC-4400, 3M An ionic compound (FC-4400, 3M) was mixed with the prepared adhesive polymer solution (A) at a ratio of about 1 part by weight based on 100 parts by weight of the solid content of the adhesive polymer solution (A), and 100 parts by weight of the solid content as a crosslinking agent.
  • About 0.083 parts by weight of isocyanate curing agent (T-39M, Soken) and 8 ppm of catalyst (dibutyltin dilaurate, DBTDL) were mixed in a solvent (EAc, ethyl acetate).
  • a dye in the ratio of about 0.22, 0.1, 0.19, 0.23, 0.08 parts by weight to 100 parts by weight of the solid content of Red S-A2G, Yellow S-BY, Violet V-IRS, Red S-3G, Green S-6G Chemical company was mixed to prepare a crosslinkable composition.
  • the cross-linkable composition thus prepared was coated on a release treated surface of a release treated PET (poly (ethyleneterephthalate) (MRF-38, Mitsubis (made)) film and dried at a temperature of 100 ° C. or more and for 2 minutes or more to prepare the pressure-sensitive adhesive layer A. Prepared.
  • Adhesive layer B Adhesive layer B
  • the pressure-sensitive adhesive layer B was prepared in the same manner as the preparation of the pressure-sensitive adhesive layer A, except that a mixture of -6G (Example Dam Chemical Co., Ltd.) was used.
  • the pressure-sensitive adhesive layer C was prepared in the same manner as the preparation of the pressure-sensitive adhesive layer A except that a mixture of -6G (Example Dam Chemical Co., Ltd.) was used.
  • the pressure-sensitive adhesive layer D was prepared in the same manner as the preparation of the pressure-sensitive adhesive layer A, except that a mixture of -6G (Example Metal Chemicals) was used.
  • the pressure-sensitive adhesive layer E was prepared in the same manner as the preparation of the pressure-sensitive adhesive layer A, except that a mixture of -6G (Example Dam Chemical Co., Ltd.) was used.
  • the adhesive layer F was prepared in the same manner as the preparation of the adhesive layer A except that no dye was used.
  • the top surface of the TAC film was coated with a KYOEISHA salt type antistatic hard coating solution (50 wt% solids, product name: LJD-1000) with # 10 mayer bar and dried at 90 ° C. for 1 minute, and then irradiated with 150 mJ / cm2
  • a hard coat film having a thickness of about 5 ⁇ 6 ⁇ m.
  • the surface treatment layer A having a reflectance of 0.89% and the surface treatment layer B having a wavelength of 1.14% were prepared.
  • the reflectance for light at a wavelength of 550 nm was 4.05%.
  • 3 is a reflectance graph according to the wavelength when the surface treatment layers A to B and the surface treatment layer are not performed.
  • the adhesive surface of the film in which the adhesive layer A and the surface treatment layer A were laminated on the upper surface of the low reflection panel (panel A) was laminated with the panel, and the display apparatus was manufactured.
  • Examples 2 to 5 and Comparative Examples 1 to 3 were prepared in the same manner as in Example 1 except for changing the panel, the adhesive layer, and the surface treatment layer as shown in Table 1 below.
  • Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 3 are described in Table 2.
  • 4 to 8 are graphs of transmittance and reflectance according to wavelengths of Examples 1 to 5, respectively.
  • 9 is a graph showing transmittance and reflectance according to wavelengths of Comparative Examples 1 to 3.
  • FIG. 10 is a comparative graph of reflectance measurement value R M and calculated value R C.
  • Example 1 4.05 42.68 94.0 38.66 36.84 Comparative Example 2 4.05 15.95 94.0 14.77 14.18 Comparative Example 3 4.05 15.95 94.0 11.60 11.35 Example 1 0.89 15.95 48.8 3.78 3.70 Example 2 0.89 15.95 68.3 6.55 6.40 Example 3 0.89 15.95 57.4 4.89 4.79 Example 4 0.89 15.95 40.9 2.92 2.87 Example 5 1.14 15.95 57.4 5.16 5.04
  • R S reflectance of light at 550 nm wavelength of surface treatment layer (%)
  • T Total transmittance (%) for the light of 550 nm wavelength of the adhesive layer and the surface treatment layer.
  • R M Reflectance (%) for light of 550nm wavelength of display device

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Abstract

본 출원은 디스플레이 장치에 관한 것이다. 본 출원은 외광 반사를 감소하여 명암비를 개선한 디스플레이 장치를 제공할 수 있다. 이러한 디스플레이 장치는 자발광 디스플레이 장치인 OLED 뿐만 아니라 비자발광 디스플레이 장치인 LCD 등을 포함한 다양한 디스플레이 장치로 적용할 수 있으며, 플렉서블 디스플레이 장치로도 구현할 수 있다.

Description

디스플레이 장치
본 출원은 디스플레이 장치에 관한 것이다.
본 출원은 2016년 3월 8일자 한국 특허 출원 제10-2016-0027595호에 기초한 우선권의 이익을 주장하며, 해당 한국 특허 출원들의 문헌에 개시된　모든 내용은 본 명세서의 일부로서 포함된다.
유기전계발광소자(organic electroluminescence device, OLED)는 자발광 표시장치로 백라이트가 필요하지 않기 때문에 경량, 박형화가 가능하다는 장점이 있다.
그러나, OLED 패널은 메탈 배선 또는 전극에 의해서 외광에 의한 반사가 일어나 명암비가 크게 감소하는 단점이 있다.
특허문헌 1(일본 특허공개 제2014-186351호 공보)에는 외광 반사에 의한 명암비 감소를 방지하기 위해 원편광판을 OLED 패널에 부착하는 기술이 개시되어 있다. 특허문헌 1에 의하면 외부로부터 입사된 외부광은 원편광판을 통해 입사되고 입사된 외부광은 금속으로 이루어진 제2 전극에 의해 반사되어 그의 편광 방향이 바뀌게 된다. 따라서 입사된 외부광은 원편광판을 투과하지 못하게 되어 외부로 나오지 못하고 소멸 간섭을 일으킨다. 이로 인하여 외부광이 반사되는 것을 차단함으로써 명암비를 향상시킨다.
그러나 원편광판을 사용할 경우 디스플레이의 휘도가 50% 이하로 크게 감소하는 문제가 있다. 그뿐만 아니라, 디스플레이 장치가 점차 구부릴 수 있거나(Bendable) 또는 접을 수 있는(Foldable) 플렉서블(Flexible) 디스플레이 장치로 진화됨에 따라, 구부림과 접힘에 의한 원편광판의 곡률이 큰 부위에서 나타나는 성능 저하의 이유로 원 편광판을 OLED 패널에 부착하여 사용하는 것에는 한계가 있다.
본 출원이 해결하고자 하는 과제는 외광 반사를 감소하여 명암비를 개선한 디스플레이 장치를 제공하는 것이다.
본 출원은 상기 과제를 해결하기 위한 디스플레이 장치에 관한 것이다. 상기 디스플레이 장치는 디스플레이 패널, 점착제 층 및 표면처리 층을 포함할 수 있다. 도 1은 디스플레이 패널(101), 점착제 층(102) 및 표면처리 층(103)을 순차로 포함하는 디스플레이 장치를 예시적으로 나타낸다.
하나의 예시에서, 디스플레이 장치는 하기 수식 1로 계산되는 반사율(RC)이 10% 이하일 수 있다. 이러한 디스플레이 장치는 외광 반사를 감소하여 명암비를 개선할 수 있다.
[수식 1]
Figure PCTKR2017002424-appb-I000001
수식 1에서 RS는 550nm 파장의 광에 대한 표면처리 층의 반사율(%)이고, RP는 550nm 파장의 광에 대한 디스플레이 패널의 반사율(%)이고,T는 550nm 파장의 광에 점착제 층과 표면처리 층의 총 투과율(%)이다.
보다 구체적으로, 상기 디스플레이 장치는 상기 수식 1로 계산되는 반사율(RC)이 10% 이하, 9% 이하, 8% 이하 또는 7%이하일 수 있다.
하나의 예시에서, 상기 디스플레이 장치는 하기 수식 2를 만족할 수 있다.
[수식 2]
Figure PCTKR2017002424-appb-I000002
수식 2에서 RM은 상기 점착제 층 및 표면처리 층을 구비한 상기 디스플레이 패널의 550nm 파장의 광에 대하여 측정된 반사율이고, RC은 수식 1로 계산되는 반사율 RC이다. 상기 반사율(RM)은 상기 디스플레이 장치의 표면 처리 층 측에서 측정된 반사율을 의미할 수 있다.
수식 1로 계산되는 반사율 RC는 반사율 측정값 RM에 대하여 약 3% 이내의 편차를 가질 수 있다. 따라서, 상기 디스플레이 장치에서 수식 1로 계산되는 반사율 RC를 낮게 설계하는 경우 실제 측정되는 반사율 RM을 낮출 수 있다.
즉, 본 출원은 실측 반사율을 낮추기 위한 표면처리 층의 반사율, 디스플레이 패널의 반사율 및, 점착제 층과 표면처리 층의 총 투과율의 관계를 수식 1과 같이 제공할 수 있으며, 수식 1로 계산되는 반사율 RC를 조절하여 디스플레이 패널의 외광 반사율을 감소시킬 수 있다.
상기 디스플레이 패널은 자발광 디스플레이 패널 또는 비자발광 디스플레이 패널을 포함할 수 있다. 자발광 디스플레이 패널로는 예를 들어 백라이트가 필요하지 않은 OLED 패널 등이 예시될 수 있고, 비자발광 디스플레이 패널로는 예를 들어 백라이트가 필요한 LCD 패널 등이 예시될 수 있다. 본 출원의 일 실시예에 의하면 상기 디스플레이 패널로는 OLED 패널을 사용할 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다.
상기 디스플레이 패널로는 저 반사 패널을 사용할 수 있다. 하나의 예시에서, 상기 디스플레이 패널의 반사율(RP)는 5% 내지 20%일 수 있다.
상기 디스플레이 패널은 반사방지 층을 구비할 수 있다. 상기 반사방지 층은 디스플레이 장치의 발광면층에 구비될 수 있다. 또한, 상기 반사방지 층은 박막트랜지스터 및 게이트 라인과 데이터 라인을 포함하는 배선부를 포함한 비화소 영역 상에 구비될 수 있다. 이러한 반사방지 층은 비화소 영역에 구비되는 박막 트랜지스터 및 게이트 라인과 데이터 라인을 포함하는 배선부의 배선 전극 표면의 빛의 반사를 방지하는 역할을 할 수 있다. 상기 반사방지 층에 외부 광이 입사하는 경우, 상기 반사방지 층의 표면에서 반사되는 1차 반사광이 존재하고, 반사방지 층을 통과하여 하부의 배선부에서 반사되는 2차 반사광이 존재한다. 상기 반사방지 층의 두께는 10nm 내지 100nm로 조절될 수 있다. 반사방지 층의 두께가 상기 범위인 경우 상기 1차 반사광과 상기 2차 반사광의 소멸 간섭을 통하여 광반사도를 낮추는데 효과적이며, 이러한 디스플레이 패널은 상기 반사율 RP을 구현하는데 유리하다.
상기 반사방지 층은 예를 들어 Cu, Al, Mo, Ti, Ag, Ni, Mn, Au, Cr 및 Co로 이루어진 군에서 선택되는 1 또는 2 이상의 금속으로부터 유래된 금속 산화물, 금속 질화물 또는 금속 산질화물을 포함할 수 있다.
상기 점착제 층 및 표면처리 층은 디스플레이 패널의 시인 측에 순차로 제공될 수 있다. 따라서, 상기 디스플레이 장치는 시인 측으로 외광이 반사되는 문제점을 해결할 수 있다. 상기 디스플레이 패널은 디스플레이 패널의 상면에 점착제 층 및 표면처리 층을 순차로 적층함으로써 형성될 수 있다.
상기 점착제 층과 표면처리 층의 총 투과율 T는 30% 내지 80%일 수 있다. 상기 총 투과율 T는 보다 구체적으로 40% 내지 70% 또는 50% 내지 60%일 수 있다. 상기 총 투과율 T가 상기 범위 내인 경우 외광에 의한 반사율을 효과적으로 감소시킬 수 있다. 상기 총 투과율은 점착제 층과 표면처리 층을 함께 구비한 상태에서, 예를 들어, 상기 점착제층과 표면 처리층을 합지한 상태에서, 측정된 약 550 nm 파장의 광에 대한 투과율을 의미할 수 있다. 또한, 상기 총 투과율은 상기 합지된 점착제층과 표면처리층 중에서, 표면 처리 층에 광이 먼저 입사하도록 하여 측정된 투과율 값을 의미할 수 있다.
상기 점착제 층은 점착성 수지와 흡광 물질을 포함할 수 있다. 상기 흡광 물질은 염료 또는 안료를 포함할 수 있다. 점착성 수지로는 예를 들어, 스티렌계 수지 또는 엘라스토머, 폴리올레핀계 수지 또는 엘라스토머, 폴리옥시알킬렌계 수지 또는 엘라스토머, 폴리에스테르계 수지 또는 엘라스토머, 폴리염화비닐계 수지 또는 엘라스토머, 폴리카보네이트계 수지 또는 엘라스토머, 폴리페닐렌설파이드계 수지 또는 엘라스토머, 탄화수소의 혼합물, 폴리아미드계 수지 또는 엘라스토머, 아크릴레이트계 수지 또는 엘라스토머, 에폭시계 수지 또는 엘라스토머, 실리콘계 수지 또는 엘라스토머, 불소계 수지 또는 엘라스토머, 또는 이들의 혼합물 등의 점착성 수지를 사용할 수 있다.
염료 또는 안료는 최대흡수파장대가 서로 상이한 3종 이상의 염료 또는 안료의 혼합물일 수 있다. 하나의 예로, 염료 또는 안료는 최대흡수파장대가 각각 R(Red) 영역, G(Green) 영역 및 B(Blue) 영역에 해당하는 3종 이상의 염료 또는 안료의 혼합물일 수 있다. 그러나, 염료 또는 안료의 종류가 상기에 제한되는 것은 아니고 가시광 영역에서 평평한 투과도 스펙트럼을 나타낼 수 있도록 적절히 조절될 수 있다. 예를 들어 염료 또는 안료는 최대흡수파장대가 각각 R(Red) 영역, G(Green) 영역, Y(Yellow) 영역 및 Violet(V) 영역인 염료 또는 안료의 혼합물일 수도 있다. 전술한 바와 같이 상기 염료 또는 안료의 혼합물은 전체적으로 안정적이고 평평한 투과도 스펙트럼을 나타낼 수 있다. 하나의 예로, 상기 염료 또는 안료의 혼합물은 400 nm 내지 700 nm 파장에서 점착제 층과 표면처리 층의 총 투과율의 표준편차가 5 이하인 투과도 스펙트럼을 나타낼 수 있다. 상기 총 투과율은 점착제 층과 표면처리 층을 함께 구비한 상태에서 측정된 400 nm 내지 700 nm 파장에 대한 평균 투과율을 의미할 수 있다. 상기 표준편차는 상기 평균 투과율에 대한 400 nm 내지 700 nm 파장대의 편차를 의미할 수 있다.
점착제 층은 점착성 수지 100 중량부에 대하여 염료 또는 안료를 0.1 내지 3 중량부로 포함할 수 있다. 이러한 점착제 층은 상기 점착제 층과 표면처리 층의 총 투과율 T를 효과적으로 나타낼 수 있다. 본 명세서에서 중량부는 각 성분간의 중량 비율을 의미할 수 있다.
상기 점착제 층은 대전 방지제를 추가로 포함할 수 있다. 대전 방지제로는 예를 들어 이온성 화합물 또는 금속염을 사용할 수 있다. 상기 이온성 화합물로는, 예를 들어, 대전 방지제로 사용될 수 있는 공지의 유기염을 사용할 수 있다. 상기 금속염으로는, 예를 들어, 대전 방지제로 사용될 수 있는 공지의 알칼리 금속염 또는 알칼리 토금속염을 사용할 수 있다. 대전 방지제를 더 포함하는 경우, 점착제 층은 대전 방지 성능을 가져 정전기 발생 등을 감소시킬 수 있다.
상기 표면처리 층의 반사율 RS는 0.5% 내지 2%일 수 있다. 상기 표면처리 층의 반사율 RS는 보다 구체적으로 0.7% 내지 1.8% 또는 0.9% 내지 1.6%일 수 있다. 표면처리 층의 반사율 RS가 상기 범위 내인 경우 외광에 의한 반사율을 효과적으로 감소시킬 수 있다.
상기 표면처리 층은, 예를 들어, 반사 방지층 또는 눈부심 방지층일 수 있다. 상기 표면처리 층은 550 nm 파장에 대하여 약 1.4 이하의 굴절률을 나타내는 저굴절률 층을 포함할 수 있다. 상기 저굴절률 층의 굴절률의 하한은 예를 들어 약 1.2 이상일 수 있고, 보다 구체적인 굴절률 범위는 1.31 내지 1.35일 수 있다. 상기 저굴절률 층은 중공 실라카를 함유한 광경화형 아크릴레이트와 불소계 아크릴레이트를 포함할 수 있다. 이러한 표면처리 층은 상기 반사율 RS를 구현하는데 유리하다. 상기 표면처리 층은 저굴절률 층 일면에 하드코팅 층을 더 포함할 수 있다.
본 출원의 디스플레이 장치는 외광 반사를 감소하여 명암비를 개선할 수 있다. 이러한 디스플레이 장치는 자발광 디스플레이 장치인 OLED 뿐만 아니라 비자발광 디스플레이 장치인 LCD 등을 포함한 다양한 디스플레이 장치로 적용할 수 있으며, 플렉서블 디스플레이 장치로도 구현할 수 있다.
본 출원은 외광 반사를 감소하여 명암비를 개선한 디스플레이 장치를 제공할 수 있다. 이러한 디스플레이 장치는 자발광 디스플레이 장치인 OLED 뿐만 아니라 비자발광 디스플레이 장치인 LCD 등을 포함한 다양한 디스플레이 장치로 적용할 수 있으며, 플렉서블 디스플레이 장치로도 구현할 수 있다.
도 1은 본 출원의 디스플레이 장치를 모식도이다.
도 2는 패널의 파장에 따른 반사율 그래프이다.
도 3은 표면처리 층의 파장에 따른 반사율 그래프이다.
도 4는 실시예 1의 파장에 따른 투과율 및 반사율 그래프이다.
도 5는 실시예 2의 파장에 따른 투과율 및 반사율 그래프이다.
도 6은 실시예 3의 파장에 따른 투과율 및 반사율 그래프이다.
도 7은 실시예 4의 파장에 따른 투과율 및 반사율 그래프이다.
도 8은 실시예 5의 파장에 따른 투과율 및 반사율 그래프이다.
도 9는 비교예 1 내지 비교예 3의 파장에 따른 투과율 및 반사율 그래프이다.
도 10은 반사율 측정값 RM과 계산값 RC의 비교 그래프이다.
이하, 본 출원에 따른 실시예 등을 통하여 상기 디스플레이 장치를 보다 구체적으로 설명하지만, 본 출원의 범위가 이하에 제한되는 것은 아니다.
1. 투과율 및 반사율 측정
이하의 실시예 및 비교예에서 파장에 따른 투과율 및 반사율은 UV-VIS-NIR Spectrophotometer (solidspec-3700, Shimadzu)를 사용하여 제조사의 매뉴얼에 따라 측정하였다.
2. 반사율 RC 계산
이하의 실시예 및 비교예에서 반사율(RC)는 하기 수식 1에 따라 계산하였다.
[수식 1]
Figure PCTKR2017002424-appb-I000003
수식 1에서 RS는 550nm 파장의 광에 대한 표면처리 층의 반사율(%)이고, RP는 550nm 파장의 광에 대한 디스플레이 패널의 반사율(%)이고, T는 550nm 파장의 광에 점착제 층과 표면처리 층의 총 투과율(%)이다.
실시예 및 비교예에 사용되는 패널, 점착제 층 및 표면처리 층은 하기에 따라 준비하였다.
패널 A 내지 B
반응성 스퍼터링법에 의하여 두께 80nm(±20nm) 의 AlO0 . 3N0 .8을 반사방지 층으로 비화소 영역 상면에 형성하여 550nm 파장의 광에 대한 반사율이 15.95%인 저 반사 패널(패널 A)를 준비하였다.
패널 내 비화소 영역 상면에 반사 방지층을 형성하지 않도록 하여 550nm 파장의 광에 대한 반사율이 42.68%인 고 반사 패널(패널 B)를 준비하였다.
도 2는 패널 A 내지 B의 파장에 따른 반사율 그래프이다.
점착제 층 A
점착 고분자 용액 (A)의 제조
질소 가스가 환류되고, 온도 조절이 용이하도록 냉각 장치를 설치한 1L 반응기에 n-부틸아크릴레이트(BA) 및 2-히드록시에틸아크릴레이트(2-HEA)를 99:1의 중량 비율(BA:HBA)로 투입하고 용제로서 에틸 아세테이트를 투입하였다. 이어서, 질소 가스를 1시간 동안 퍼징(pursing)하여 산소를 제거하고, 반응 개시제(AIBN; azobisisobutyronitrile)를 투입하여 약 8 시간 동안 반응시킨 후에 반응물을 에틸 아세테이트로 희석하여 점착 고분자 (A)를 제조하였다. 상기 점착 고분자(A)의 중량평균분자량(Mw)은 약 180만 정도였다.
점착제 층 A의 제조
상기 제조된 점착 고분자 용액(A)에 이온성 화합물(FC-4400, 3M사)을 점착 고분자 용액(A)의 고형분 100 중량부 대비 약 1 중량부의 비율로 혼합하였고, 가교제로서 상기 고형분 100 중량부 대비 약 0.083 중량부의 이소시아네이트 경화제(T-39M, Soken사) 및 촉매(dibutyltin dilaurate, DBTDL)8ppm 을 용제 (EAc, ethyl acetate)에서 혼합하였다. 그리고, 염료로서 상기 고형분 100 중량부 대비 약 0.22, 0.1, 0.19, 0.23, 0.08 중량부의 비율로 Red S-A2G, Yellow S-BY, Violet V-IRS, Red S-3G, Green S-6G (예담 케미칼사)를 혼합하여 가교성 조성물을 제조하였다. 제조된 가교성 조성물을 이형 처리된 PET(poly(ethyleneterephthalate)(MRF-38, 미쯔비스 (제)) 필름의 이형 처리면에 코팅하고 온도 100도 이상, 시간 2분 이상으로 건조시켜서 점착제 층 A를 제조하였다.
점착제 층 B
염료로서 점착 고분자 용액(A)의 고형분 100 중량부 대비 약 0.1, 0.05, 0.09, 0.11, 0.04 중량부의 비율로 Red S-A2G, Yellow S-BY, Violet V-IRS, Red S-3G, Green S-6G (예담 케미칼사)의 혼합물을 사용한 것을 제외하고는 점착제 층 A의 제조와 동일한 방식으로 점착제 층 B를 준비하였다.
점착제 층 C
염료로서 점착 고분자 용액(A)의 고형분 100 중량부 대비 약 0.17, 0.07, 0.14, 0.17, 0.06 중량부의 비율로 Red S-A2G, Yellow S-BY, Violet V-IRS, Red S-3G, Green S-6G (예담 케미칼사)의 혼합물을 사용한 것을 제외하고는 점착제 층 A의 제조와 동일한 방식으로 점착제 층 C를 준비하였다.
점착제 층 D
염료로서 점착 고분자 용액(A)의 고형분 100 중량부 대비 약 0.28, 0.12, 0.24, 0.29, 0.11 중량부의 비율로 Red S-A2G, Yellow S-BY, Violet V-IRS, Red S-3G, Green S-6G (예담 케미칼사)의 혼합물을 사용한 것을 제외하고는 점착제 층 A의 제조와 동일한 방식으로 점착제 층 D를 준비하였다.
점착제 층 E
염료로서 점착 고분자 용액(A)의 고형분 100 중량부 대비 약 0.17, 0.07, 0.14, 0.17, 0.06 중량부의 비율로 Red S-A2G, Yellow S-BY, Violet V-IRS, Red S-3G, Green S-6G (예담 케미칼사)의 혼합물을 사용한 것을 제외하고는 점착제 층 A의 제조와 동일한 방식으로 점착제 층 E를 준비하였다.
점착제 층 F
염료를 사용하지 않은 것을 제외하고는 점착제 층 A의 제조와 동일한 방식으로 점착제 층 F를 준비하였다.
표면처리 층 A 내지 B
TAC 필름의 상면에 KYOEISHA사 염타입의 대전 방지 하드 코팅액(고형분 50중량%, 제품명: LJD-1000)을 #10 mayer bar로 코팅하고 90℃에서 1분 건조한 이후, 150 mJ/㎠의 자외선을 조사하여 약 5 내지 6㎛의 두께를 갖는 하드 코팅 필름을 제조하였다. 제조된 필름의 상면에 중공실리카를 각각 60 중량%와 40 중량% 함유한 광경화형 아크릴레이트와 불소계 아크렐레이트로 제조된 550 nm 에서의 굴절률이 약 1.33 정도인 저굴절률층을 코팅한 반사 방지층을 통하여 550nm 파장의 광에 대한 반사율이 0.89%인 표면처리 층 A와 1.14%인 표면처리 층 B를 준비하였다.
TAC 필름 상면에 표면처리 층을 형성하지 않은 경우, 550nm 파장의 광에 대한 반사율은 4.05%이다.
도 3은 표면처리 층 A 내지 B 및 표면처리 층을 수행하지 않은 경우의 파장에 따른 반사율 그래프이다.
실시예 1
저 반사 패널(패널 A)의 상면에 점착제 층 A와 표면처리 층 A가 합지된 필름의 점착제면을 패널과 라미네이트하여 디스플레이 장치를 제조하였다.
실시예 2 내지 5 및 비교예 1 내지 3
패널, 점착제 층 및 표면처리 층을 하기 표 1과 같이 변경한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방식으로 실시예 2 내지 5 및 비교예 1 내지 3을 제조하였다.
패널 점착제 층 표면처리 층
실시예 1 A A A
실시예 2 A B A
실시예 3 A C A
실시예 4 A D A
실시예 5 A E B
비교예 1 B F -
비교예 2 A F -
비교예 3 A F A
실시예 1 내지 5 및 비교예 1 내지 3의 물성(RS, RP, T, RM 및 RC)을 표 2에 기재하였다. 도 4 내지 도 8은 각각 실시예 1 내지 5의 파장에 따른 투과율 및 반사율 그래프이다. 도 9는 비교예 1 내지 비교예 3의 파장에 따른 투과율 및 반사율 그래프이다. 도 10은 반사율 측정값 RM과 계산값 RC의 비교 그래프이다.
RS RP T RM RC
비교예 1 4.05 42.68 94.0 38.66 36.84
비교예 2 4.05 15.95 94.0 14.77 14.18
비교예 3 4.05 15.95 94.0 11.60 11.35
실시예 1 0.89 15.95 48.8 3.78 3.70
실시예 2 0.89 15.95 68.3 6.55 6.40
실시예 3 0.89 15.95 57.4 4.89 4.79
실시예 4 0.89 15.95 40.9 2.92 2.87
실시예 5 1.14 15.95 57.4 5.16 5.04
[표 2 부호 설명]
RS: 표면처리 층의 550nm 파장의 광에 대한 반사율(%)
RP: 디스플레이 패널의 550nm 파장의 광에 대한 반사율(%)
T: 점착제 층과 표면처리 층의 의 550nm 파장의 광에 대한 총 투과율(%)
RM: 디스플레이 장치의 550nm 파장의 광에 대한 반사율(%)
RC: 수식 1로 계산되는 반사율(%)
[도면 부호의 설명]
101: 디스플레이 패널 102: 점착제 층 103: 표면처리 층

Claims (19)

  1. 디스플레이 패널, 점착제 층 및 표면처리 층을 포함하고, 하기 수식 1로 계산되는 반사율(RC)이 10% 이하인 디스플레이 장치:
    [수식 1]
    Figure PCTKR2017002424-appb-I000004
    수식 1에서 RS는 550nm 파장의 광에 대한 표면처리 층의 반사율(%)이고, RP는 550nm 파장의 광에 대한 디스플레이 패널의 반사율(%)이고, T는 550nm 파장의 광에 점착제 층과 표면처리 층의 총 투과율(%)이다.
  2. 제 1 항에 있어서, 하기 수식 2를 만족하는 디스플레이 장치:
    [수식 2]
    수식 2에서 RM은 상기 점착제 층 및 표면처리 층을 구비한 상기 디스플레이 패널의 550nm 파장의 광에 대하여 측정된 반사율이고, RC은 수식 1로 계산되는 반사율 RC이다.
  3. 제 1 항에 있어서, 디스플레이 패널은 자발광 디스플레이 패널 또는 비자발광 디스플레이 패널을 포함하는 디스플레이 장치.
  4. 제 1 항에 있어서, 디스플레이 패널의 반사율 RP는 5% 내지 20%인 디스플레이 장치.
  5. 제 1 항에 있어서, 디스플레이 패널은 박막트랜지스터 및 게이트 라인과 데이터 라인을 포함하는 배선부를 포함한 비화소 영역 상에 반사방지 층을 구비하는 디스플레이 장치.
  6. 제 5 항에 있어서, 반사 방지층은 Cu, Al, Mo, Ti, Ag, Ni, Mn, Au, Cr 및 Co로 이루어진 군에서 선택되는 1 또는 2 이상의 금속으로부터 유래된 금속 산화물, 금속 질화물 또는 금속 산질화물을 포함하는 디스플레이 장치.
  7. 제 5 항에 있어서, 반사방지 층의 두께는 10 nm 내지 100 nm인 디스플레이 장치.
  8. 제 1 항에 있어서, 점착제 층 및 표면처리 층은 디스플레이 패널의 시인 측에 순차로 제공되는 디스플레이 장치.
  9. 제 1 항에 있어서, 점착제 층과 표면처리 층의 총 투과율 T는 30% 내지 80%인 디스플레이 장치.
  10. 제 1 항에 있어서, 점착제 층은 점착성 수지와, 염료 또는 안료를 포함하는 디스플레이 장치.
  11. 제 10 항에 있어서, 점착성 수지는 스티렌계 수지 또는 엘라스토머, 폴리올레핀계 수지 또는 엘라스토머, 폴리옥시알킬렌계 수지 또는 엘라스토머, 폴리에스테르계 수지 또는 엘라스토머, 폴리염화비닐계 수지 또는 엘라스토머, 폴리카보네이트계 수지 또는 엘라스토머, 폴리페닐렌설파이드계 수지 또는 엘라스토머, 탄화수소의 혼합물, 폴리아미드계 수지 또는 엘라스토머, 아크릴레이트계 수지 또는 엘라스토머, 에폭시계 수지 또는 엘라스토머, 실리콘계 수지 또는 엘라스토머, 불소계 수지 또는 엘라스토머, 또는 이들의 혼합물을 포함하는 디스플레이 장치.
  12. 제10 항에 있어서, 염료 또는 안료는 최대흡수파장대가 서로 상이한 3종 이상의 염료 또는 안료의 혼합물이고, 400nm 내지 700nm 파장에서 점착제 층과 표면처리 층의 총 투과율의 표준 편차가 5 이하인 디스플레이 장치.
  13. 제 10 항에 있어서, 점착제 층은 점착성 수지 100 중량부에 대하여 염료 또는 안료를 0.1 내지 3 중량부로 포함하는 디스플레이 장치.
  14. 제 10 항에 있어서, 점착제 층은 대전 방지제를 추가로 포함하는 디스플레이 장치.
  15. 제 1 항에 있어서, 표면처리 층의 반사율 RS는 0.5% 내지 2%인 디스플레이 장치.
  16. 제 1 항에 있어서, 표면처리 층은 반사 방지층 또는 눈부심 방지층을 포함하는 디스플레이 장치.
  17. 제 1 항에 있어서, 표면처리 층은 550nm 파장에 대한 굴절률이 1.2 내지 1.4 인 저굴절률 층을 포함하는 디스플레이 장치.
  18. 제 17 항에 있어서, 저굴절률 층은 중공 실리카를 함유한 광경화형 아크릴레이트와 불소계 아크릴레이트를 포함하는 디스플레이 장치.
  19. 제 17 항에 있어서, 표면처리 층은 저굴절률 층의 일면에 제공되는 하드코팅 층을 더 포함하는 디스플레이 장치.
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