WO2017191408A1 - Installation optique sous vide et procede d'obtention d'une installation optique sous vide - Google Patents

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optical
metal alloy
wavelength
installation
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Benjamin CANUEL
Arnaud Landragin
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Centre National de la Recherche Scientifique CNRS
Universite Pierre et Marie Curie
INSTITUT D'OPTIQUE
Observatoire de Paris
Universite de Bordeaux
Original Assignee
Centre National de la Recherche Scientifique CNRS
Universite Pierre et Marie Curie
INSTITUT D'OPTIQUE
Observatoire de Paris
Universite de Bordeaux
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    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C8/00—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
    • C23C8/06—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases
    • C23C8/08—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases only one element being applied
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    • C23C8/12—Oxidising using elemental oxygen or ozone
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    • G04—HOROLOGY
    • G04F—TIME-INTERVAL MEASURING
    • G04F5/00—Apparatus for producing preselected time intervals for use as timing standards
    • G04F5/14—Apparatus for producing preselected time intervals for use as timing standards using atomic clocks

Definitions

  • the invention relates to the field of vacuum optical installations comprising lasers, for example for the cooling of atoms or atomic interferometry.
  • Precision measuring devices particularly those based on atomic interferometry or precision optical metrology, require the enclosures used in these devices to be evacuated in order to isolate the measurements of the external disturbances. Problems of stray light reflected from the inner walls of the vacuum housings thus used can affect the sensitivity and accuracy of measurements. However, lessen the problems of stray light is difficult because it is necessary to ensure the good vacuum resistance of the elements used for this reduction. Absorbent paints to be placed on the walls of the vacuum chamber are known to reduce the reflectivity of the stray light. These paintings are not satisfactory with regard to their resistance to vacuum for use in ultra high vacuum, about 10 "9 mbar.
  • absorbent paints compatible vacuum such as paints graphite are very compatible with the realization of optical systems
  • absorbent baffles which are compatible with the ultra-high vacuum to be arranged in the vacuum chamber, but the use of these baffles is complex because it requires precise modeling of the stray light.
  • baffles may for example be made of absorbing glass.
  • An idea underlying the invention is to provide an optical vacuum installation whose vacuum chamber is simple to manufacture, has a reduced reflectivity of the stray light and is compatible with ultra-high vacuum.
  • the vacuum optical installation according to the invention does not require complex modeling of the propagation of stray light inside the vacuum chamber.
  • the invention provides an optical vacuum installation comprising a vacuum chamber, the vacuum chamber having walls delimiting a tightly closed interior space in which an inner surface of the walls comprises an alloy layer.
  • oxidized metal the metal alloy comprising at least one metal selected from the list consisting of: titanium, copper, steel and aluminum
  • the optical vacuum installation further comprising a window capable of transmitting a laser beam into the vacuum chamber; emitted by an optical source at a wavelength of the optical source, the oxidized metal alloy being able to absorb the wavelength of the optical source so that the total reflectivity of the inner surface of the wall is less than 0.5 for the wavelength of the optical source
  • parasitic photons of an optical source of the wavelength useful for the interrogation of the atoms are absorbed by the internal surface of the chamber and do not interfere with atomic interferometry measurements.
  • the total reflectivity of the inner surface of the wall is less than 0.15.
  • the total reflectivity is the sum of the specular reflectivity and the diffuse reflectivity, that is, the ratio between the light intensity reflected by the wall and the light intensity incident on the wall.
  • such an optical vacuum installation may include one or more of the following features.
  • the wavelength of the optical source corresponds to a line of absorption of cesium or rubidium.
  • the wavelength of the optical source is selected from the list consisting of 780nm and 852nm.
  • the wavelength of the optical source is 780 nm.
  • the enclosure is further monobloc.
  • the dimensions of the enclosure are in addition approximately 50 cm wide and a few centimeters thick. According to one embodiment, the enclosure is further of substantially cubic shape.
  • the walls consist entirely of the metal alloy.
  • the walls are made of another material and coated with a layer of the metal alloy on the inner walls.
  • the metal alloy is T16AI4V.
  • the optical vacuum installation further comprises a source of cesium or rubidium atoms disposed in the internal space.
  • the oxidation of the metal alloy is produced by heat treatment at a temperature of between 300 ° C. and 700 ° C., preferably at a temperature in the region of 400 ° C.
  • Some aspects of the invention come from the observation that a metal alloy placed at high temperature under air oxidizes.
  • the invention further provides a use of the optical installation as described above, for producing a measuring apparatus selected from the list consisting of a cooled atom atomic clock, a cooled atom inertial sensor and an atomic gravimeter. cooled, and a precision optical metrology device.
  • the invention further provides a method of manufacturing a vacuum chamber, comprising the steps of:
  • a vacuum enclosure wall element or a vacuum enclosure comprising an oxidizable metal alloy on at least one inner surface, the metal alloy comprising at least one metal selected from the list consisting of: titanium, copper, steel and aluminum,
  • such a method may include one or more of the following features.
  • the method further comprises the step of measuring the total reflectivity of the oxidized metal with the aid of an integrating sphere.
  • the method comprises a pretreatment step consisting, prior to the step of placing the vacuum enclosure wall element or the vacuum chamber in the oven, to clean said interior surface.
  • the oxidation is homogeneous and therefore the total reflectivity on the treated inner wall is also homogeneous.
  • cleaning said inner surface comprises placing said inner surface in a chemical agent bath. According to one embodiment, cleaning said inner surface further comprises rinsing said inner surface with a second chemical agent after removing it from the chemical agent bath, which is a first chemical agent.
  • the first chemical agent is a surfactant called DECON diluted in distilled water.
  • the first chemical agent is diluted to 3% in distilled water.
  • the second chemical agent is acetone.
  • the second chemical agent is pure acetone.
  • said inner surface is maintained in the chemical agent bath for a selected time in the range of 12h to 72h.
  • said inner surface is maintained in the chemical agent bath for a period of two days.
  • the step of rinsing with a second chemical agent said inner surface is performed for a selected period in the range of 30 minutes to 6h.
  • the duration is 2h.
  • cleaning said inner surface comprises placing said inner surface in an ultrasonic bath for an ultrasonic bath duration. This step may be performed one or more times before and / or after the chemical agent bath and / or the second chemical agent rinse.
  • the duration of ultrasound bath is a few minutes.
  • the overall reflectivity of a vacuum chamber can be lowered very strongly homogeneously.
  • Figure 1 is a diagram of a vacuum optical installation according to one embodiment of the invention.
  • FIG. 2 is a diagram of a method for obtaining a vacuum enclosure element according to one embodiment of the invention.
  • Figure 3 is a graph of the average reflectivity of a titanium alloy disc subjected to a constant temperature of 400 ° C as a function of time.
  • the optical installation 1 comprises a vacuum chamber 2 having walls made of titanium alloy.
  • the walls define an interior space 5 sealed.
  • the inner surface of the walls 3, 4 is treated.
  • the treatment of the inner surface of the walls 3, 4 is an absorbent treatment, also called anti-reflective.
  • Various laser sources 6, 7, 8, and 20 are arranged outside the optical installation 1 and emit laser beams 18, 10, 11, and 19.
  • the laser beams 18, 10, 11, and 19 are transmitted inside the enclosure using several portholes 21 transparent and sealed.
  • the beams lasers 18, 10, 11 and 19 are shaped under vacuum with different optical systems (not shown).
  • a source of Rubidium 9 atoms is also arranged in the inner space 5.
  • the 780 nm wavelength of the laser beams 18, 10, 11, and 19 is chosen to be resonant with the D2 transition of the Rubidium .
  • the laser beam 19 serves to cool the Rubidium atoms.
  • the laser beams 10 and 11 are used to interrogate the Rubidium atoms.
  • the laser beam 18 serves for the detection of Rubidium atoms. atomic by causing Raman transitions in Rubidium atoms with laser beams 10 and 11.
  • the detection consists of a measurement of the florescence of the atoms induced by the laser beam 18.
  • the fluorescence is detected by one or more photodiodes placed outside the enclosure.
  • the treatment of the inner surface of the walls 3, 4 allows the wavelengths at 780nm to be absorbed at 87% by the internal surfaces of the walls 3, 4. Parasite light reflected by the inner surface of the walls 3, 4 would come disrupt the measures in the absence of treatment. The stray light can come from different sources.
  • the stray light may originate from the imperfections of the laser sources 6, 7, 8 and 20 and the vacuum optical systems (not shown) and affect the performance of the optical installation 1.
  • This treatment is therefore particularly advantageous for increasing the sensitivity of the measurements.
  • the treatment according to the invention is particularly simple to implement, economical and compatible with vacuum. It makes it possible to reduce the reflectivity of the internal surface of the walls 3, 4 of the enclosure 2 or of any mechanical subassembly of the vacuum enclosure 2 made of titanium alloy at the wavelength of 780 nm laser beams 10, 11, 18 and 19.
  • Such a mechanical subassembly may be for example an optical medium, a laser attachment support, baffles or any other piece made of titanium alloy (not shown).
  • This treatment makes it possible in particular to effectively absorb the parasitic photons ending on the internal surfaces 3, 4 of the walls of the enclosure 2, and on any treated surfaces of mechanical sub-assemblies arranged in the interior space 5 of the enclosure to vacuum 2, such as vacuum optical systems (not shown), and thus to reduce overall problems of stray light in the optical installation 1.
  • the treatment according to the invention consists mainly in an oxidation of the surfaces of the walls 3, 4 of the vacuum chamber 2. It may also include the oxidation of any mechanical subassembly of the vacuum chamber 2.
  • This oxidation can be advantageously carried out by a thermal treatment under air, as described later.
  • the optical system 1 according to the invention is particularly advantageous when it is used to produce an atomic interferometry sensor.
  • Photodiodes are located outside the enclosure and measure the luminous flux from the enclosure.
  • the invention makes it possible to reduce the incident parasitic light flux on these photodiodes.
  • the invention is particularly suitable for producing a slow-atom inertial sensor.
  • the laser beams 10 and 11 of the lasers 7 and 8 are counterpropagating and directed towards the flux of atoms emitted by the atomic flux source 9.
  • the laser beam 19 is divided into three pairs of contrapropagating beams for cooling atoms.
  • the invention then makes it possible to eliminate the parasitic light emitted during the cooling process which can disturb the measurement process.
  • the vacuum chamber 2 comprises a single laser 7 emitting a laser beam 10 and a vacuum optical system consisting of a reflector.
  • the laser beam 10 is emitted in the direction of the reflector so as to produce multiple reflections which ensure both the cooling of the atoms, the interferometric measurements by Raman transition and the detection of the atomic state.
  • the invention then makes it possible to suppress light parasite emitted in these different phases, which is due mainly to the parasitic light emitted by the reflector.
  • the invention may also be particularly advantageous for improving the sensitivity of a cold-atom interferometric sensor as described in FR2826446.
  • the laser beams 10, 11 of the lasers 7, 8 cause successive interactions with slow atoms emitted by the atomic flux source to cause Raman transitions.
  • the interactions cause a spatial separation of slow atoms along two paths.
  • a rotation of the interferometric sensor causes a phase shift between the two paths and the interference signal is observed by measuring the number of atoms in a particular internal state, for example using a laser tuned to the resonance and causing the formation of an atomic fluorescence image on a photodiode.
  • the invention then makes it possible to eliminate the parasitic light of the laser beams 10, 11 and 18 which can disturb the fluorescence measurements on the photodiode.
  • the vacuum chamber 1 is obtained by a manufacturing method described with reference to FIG.
  • Such a method comprises a first step 12 which consists in providing a vacuum enclosure element or a monobloc vacuum chamber having properties described below.
  • the vacuum chamber 2 is not monobloc but consists of enclosure elements to assemble.
  • the vacuum chamber 2 comprises walls of the vacuum chamber 2 to be assembled to each other and / or additional mechanical subassemblies to be assembled, in particular fastening elements of the vacuum optical systems (not shown ) and the atomic flux source.
  • the vacuum chamber 2 has walls that define the interior space 5.
  • This absorbing treatment aims to reduce the reflectivity of the surfaces of walls which are intended to be arranged inside the interior space 5 of the elements to be assembled, for the wavelengths at 780 nm. In other words, the treatment is aimed at causing the aforementioned surfaces to absorb more the stray light at the wavelength of 780 nm.
  • the aforementioned surfaces must be made of an oxidizable metal alloy.
  • the walls and any elements may also be entirely made of this metal alloy.
  • the titanium alloy has the properties enabling it to absorb, when oxidized, stray photons at 780nm.
  • the titanium alloy is therefore compatible for manufacturing the vacuum chamber 2 of an optical installation 1 comprising a Rubidium atomic flux source 9, which requires the lasers 6, 7, 8 and 20 to emit laser beams. 18, 10, 11 and 19 at 780 nm.
  • the aforementioned surfaces must in addition be free of any impurities.
  • Pretreatment consists of placing the pieces to be treated in a DECON bath for 2 days and then rinsing them for a few hours with acetone. Before the DECON bath and before rinsing with acetone, the containers containing the chemical agent and the samples are placed for a few minutes in an ultrasonic bath.
  • the vacuum chamber element 2 or the entire vacuum chamber 2 is placed in an oven.
  • the furnace is an oven capable of reaching and keeping constant an oxidation temperature of between 200 ° C. and 600 ° C., preferably 400 ° C.
  • the oven is not under vacuum, but under air.
  • the oven may be a laboratory oven.
  • a third step 14 of the method consists in imposing and maintaining the oxidation temperature so as to oxidize under air at least the wall surfaces 3, 4 made of the metal alloy of the vacuum enclosure element or the vacuum chamber 2 for a period of time.
  • a fourth step of the method consists in measuring the total reflectivity of the wall surfaces 3, 4 made of the metal alloy by means of an integrating sphere. Indeed, the treatment undergone by the wall surfaces 3, 4 made of the metal alloy by steps 13 and 14 of the process have led to oxidation. wall surfaces 3, 4. This oxidation has the effect of reducing the reflectivity of the metal alloy, and therefore wall surfaces 3,4.
  • reflectivity measurements can be made successively over the duration during which the vacuum enclosure element 2 undergoes the treatment. thermal. If the reflectivity has not reached the chosen threshold, it is then necessary to repeat steps 13, 14 and 15 until the reflectivity value has reached the threshold.
  • Figure 3 is a graph of the average reflectivity at the wavelength of 780 nm of a titanium alloy disk subjected to a constant temperature of 400 ° C as a function of time.
  • the disc used is a disc of Ti-6AI-4V 30 mm in diameter and 4 mm thick.
  • the reflectivity of the disk is measured in an integrating sphere. This reflectivity decreases with time.
  • the disc reflectivity of Ti-6AI-4V before oxidation has values between 70% and 80%.
  • the total reflectivity has a value of 35% after a duration of more than one day, as measured at the measuring point 16.
  • the total reflectivity drops to 13% after four days of heat treatment, as indicated by the measuring point 17.
  • a heat treatment time of 4 days at 400 ° C. is sufficient to reduce the reflectivity of a vacuum enclosure element 2 to 13%
  • the method of obtaining an optical installation and the optical installation obtained described above can also be envisaged for wavelengths other than 780 nm by modulating the temperature and the duration of the treatment.
  • the method for obtaining an optical installation and the optical installation 0 obtained as described above can also be envisaged for other atomic flux sources than the atomic flux source 9 of Rubidium.
  • atomic flux sources of cesium for example, for atomic flux sources of cesium.
  • the method of obtaining an optical installation and the optical installation obtained described above can also be envisaged for other materials than the titanium alloy, for example for non-magnetic materials which can also be envisaged for the production of Vacuum enclosures or mechanical subassemblies of vacuum enclosures, such as 316 steel, different alloys of aluminum or copper.

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Abstract

L'invention concerne une installation optique sous vide (1) comportant une enceinte à vide (2), l'enceinte à vide comportant des parois délimitant un espace intérieur (5) fermé de manière étanche dans laquelle une surface interne des parois (3, 4) comporte une couche d'alliage métallique oxydé, l'alliage métallique comportant au moins un métal choisi parmi la liste consistant en : titane, cuivre, acier et aluminium, l'installation optique sous vide comportant en outre un hublot apte à transmettre un faisceau laser (10, 11) émis par une source optique (7, 8) à une longueur d'onde de la source optique, l'alliage métallique oxydé étant apte à absorber la longueur d'onde de la source optique (7, 8) afin que la réflectivité totale de la surface interne de la paroi (3, 4) soit inférieure à 0.5 pour la longueur d'onde de la source optique. L'invention concerne également un procédé d'obtention de l'installation optique sous vide.

Description

INSTALLATION OPTIQUE SOUS VIDE ET PROCEDE D'OBTENTION D'UNE INSTALLATION OPTIQUE SOUS VIDE
Domaine technique
L'invention se rapporte au domaine des installations optiques sous vide comportant des lasers, par exemple pour le refroidissement d'atomes ou l'interférométrie atomique.
Arrière-plan technologique
Des appareils de mesure de précisions, notamment basées sur l'interférométrie atomique ou la métrologie optique de précision, nécessitent une mise sous vide des enceintes utilisées dans ces appareils afin d'isoler les mesures des perturbations extérieures. Des problèmes de lumière parasite réfléchie par les parois intérieures des enceintes à vide ainsi utilisées peuvent impacter la sensibilité et l'exactitude des mesures. Cependant, amoindrir les problèmes de lumière parasite est délicat car il faut assurer la bonne tenue au vide des éléments utilisés pour cet amoindrissement. Il est notamment connu des peintures absorbantes à disposer sur les parois de l'enceinte à vide pour réduire la réflectivité de la lumière parasite. Ces peintures ne donnent pas satisfaction quant à leur tenue au vide pour les utilisations en ultra vide, à environ 10"9mbar. Par ailleurs, les peintures absorbantes compatibles au vide telles que des peintures au graphite sont peu compatibles avec la réalisation de systèmes optiques, du fait de leur caractère pulvérulent. Il est également connu d'utiliser des baffles absorbantes compatibles avec l'ultravide à disposer dans l'enceinte à vide, mais l'utilisation de ces baffles est complexe car elle nécessite de modéliser précisément la lumière parasite dans l'enceinte. De tels baffles peuvent par exemple être réalisés en verre absorbant.
Résumé
Une idée à la base de l'invention est de fournir une installation optique sous vide dont l'enceinte à vide est de fabrication simple, présente une réflectivité de la lumière parasite amoindrie et est compatible avec l'ultravide. Notamment, l'installation optique sous vide selon l'invention ne nécessite pas de modélisation complexe de la propagation de la lumière parasite à l'intérieur de l'enceinte à vide. Certains aspects de l'invention viennent du constat qu'un alliage métallique oxydé présente une réflectivité amoindrie.
Selon un mode de réalisation, l'invention fournit une installation optique sous vide comportant une enceinte à vide, l'enceinte à vide comportant des parois délimitant un espace intérieur fermé de manière étanche dans laquelle une surface interne des parois comporte une couche d'alliage métallique oxydé, l'alliage métallique comportant au moins un métal choisi parmi la liste consistant en : titane, cuivre, acier et aluminium, l'installation optique sous vide comportant en outre un hublot apte à transmettre dans l'enceinte à vide un faisceau laser émis par une source optique à une longueur d'onde de la source optique, l'alliage métallique oxydé étant apte à absorber la longueur d'onde de la source optique afin que la réflectivité totale de la surface interne de la paroi soit inférieure à 0.5 pour la longueur d'onde de ia source optique
Grâce à ces caractéristiques, des photons parasites d'une source optique de la longueur d'onde utile pour l'interrogation des atomes sont absorbés par la surface interne de l'enceinte et ne nuisent pas à des mesures d'interférométrie atomique.
Préférentiellement, la réflectivité totale de la surface interne de la paroi est inférieure à 0.15. La réflectivité totale est la somme de la réflectivité spéculaire et de la réflectivité diffuse, c'est-à-dire le ratio entre l'intensité lumineuse réfléchie par la paroi et l'intensité lumineuse incidente sur la paroi.
Selon des modes de réalisation, une telle installation optique sous vide peut comporter une ou plusieurs des caractéristiques suivantes.
Selon un mode de réalisation, la longueur d'onde de la source optique correspond à une raie d'absorption du Césium ou du Rubidium.
Selon un mode de réalisation, la longueur d'onde de la source optique est sélectionnée dans la liste consistant en 780nm et 852nm.
Dans un mode de réalisation préférentiel, la longueur d'onde de la source optique est 780nm.
Selon un mode de réalisation, l'enceinte est en outre monobloc.
Selon un mode de réalisation, les dimensions de l'enceinte sont en outre environ de 50 cm de large et de quelques centimètres d'épaisseur. Selon un mode de réalisation, l'enceinte est en outre de forme sensiblement cubique.
Selon un mode de réalisation, les parois sont entièrement constituées de l'alliage métallique.
Alternativement, les parois sont fabriquées dans un autre matériau et revêtues d'une couche de l'alliage métallique sur les parois intérieures.
Selon un mode de réalisation, l'alliage métallique est le T16AI4V.
Selon un mode de réalisation, l'installation optique sous vide comporte en outre une source d'émission d'atomes de césium ou de rubidium disposée dans l'espace interne.
Selon un mode de réalisation, l'oxydation de l'alliage métallique est produite par traitement thermique à une température comprise entre 300°C et 700°C, préférentiellement à une température voisine de 400°C.
Certains aspects de l'invention viennent du constat qu'un alliage métallique placé à haute température sous air s'oxyde.
L'invention fournit en outre une utilisation de l'installation optique telle que décrite ci-dessus, pour réaliser un appareil de mesure sélectionné dans la liste consistant en une horloge atomique à atomes refroidis, un capteur inertiel à atomes refroidis et un gravimètre à atomes refroidis, et un dispositif de métrologie optique de précision.
L'invention fournit en outre un procédé de fabrication d'une enceinte à vide, comportant les étapes:
• fournir un élément de paroi d'enceinte à vide ou une enceinte à vide comportant un alliage métallique oxydable sur au moins une surface intérieure, l'alliage métallique comportant au moins un métal choisi parmi la liste consistant en : titane, cuivre, acier et aluminium,
• placer l'élément de paroi d'enceinte à vide ou l'enceinte à vide dans un four apte à imposer une température d'oxydation comprise dans l'intervalle de température de 300°C à 700°C, préférentiellement une température voisine de 400°C,
• maintenir la température d'oxydation de sorte à oxyder une surface intérieure de l'élément de paroi d'enceinte à vide ou l'enceinte à vide pendant une durée suffisante pour que la réflectivité totale de ladite surface intérieure chute à une valeur inférieure à 0.5 à une longueur d'onde optique prédéterminée.
Selon des modes de réalisation, un tel procédé peut comporter une ou plusieurs des caractéristiques suivantes.
Dans un mode de réalisation, le procédé comporte en outre l'étape de mesurer la réflectivité totale du métal oxydé à l'aide d'une sphère intégrante.
Selon un mode de réalisation avantageux, le procédé comporte une étape de prétraitement consistant à, préalablement à l'étape de placer l'élément de paroi d'enceinte à vide ou i'enceinte à vide dans ie four, nettoyer ladite surface intérieure.
Grâce à ces caractéristiques, l'oxydation est homogène et donc la réflectivité totale sur la paroi intérieure traitée est également homogène.
Selon un mode de réalisation, nettoyer ladite surface intérieure comprend placer ladite surface intérieure dans un bain d'agent chimique. Selon un mode de réalisation, nettoyer ladite surface intérieure comprend en outre rincer à l'aide d'un second agent chimique ladite surface intérieure après l'avoir retirée du bain d'agent chimique, qui est un premier agent chimique.
Selon un mode de réalisation, le premier agent chimique est un agent tensio-actif dénommé DECON dilué dans de l'eau distillée. Préférentiellement, le premier agent chimique est dilué à 3% dans l'eau distillée.
Selon un mode de réalisation, ie second agent chimique est de l'acétone. Préférentiellement, le second agent chimique est de l'acétone pure.
Selon un mode de réalisation, ladite surface intérieure est maintenue dans le bain d'agent chimique pendant une durée sélectionnée dans la plage de 12h à 72h. Préférentiellement, ladite surface intérieure est maintenue dans le bain d'agent chimique pendant une durée de deux jours.
Selon un mode de réalisation, l'étape de rincer à l'aide d'un second agent chimique ladite surface intérieure est effectuée pendant une durée sélectionnée dans la plage de 30 minutes à 6h. Préférentiellement, la durée est de 2h. Selon un mode de réalisation, nettoyer ladite surface intérieure comprend placer ladite surface intérieure dans un bain à ultrasons pendant une durée de bain d'ultrasons. Cette étape peut être effectuée une ou plusieurs fois avant et/ou après le bain d'agent chimique et/ou le rinçage de second agent chimique. Préférentiellement, la durée de bain d'ultrasons est de quelques minutes.
Grâce à ces caractéristiques, la réflectivité globale d'une enceinte à vide peut être abaissée très fortement de façon homogène.
Brève description des figures
L'invention sera mieux comprise, et d'autres buts, détails, caractéristiques et avantages de celle-ci apparaîtront plus clairement au cours de la description suivante de plusieurs modes de réalisation particuliers de l'invention, donnés uniquement à titre illustratif et non limitatif, en référence aux dessins annexés.
• La Figure 1 est un schéma d'une installation optique sous vide selon un mode de réalisation de l'invention.
« La Figure 2 est un schéma d'un procédé d'obtention d'un élément d'enceinte à vide selon un mode de réalisation de l'invention.
• La Figure 3 est un graphique de mesure de la réflectivité moyenne d'un disque en alliage de titane soumis à une température constante de 400°C en fonction du temps.
Description détaillée de modes de réalisation
En référence à la figure 1 , une installation optique 1 selon l'invention est représentée. L'installation optique 1 comporte une enceinte 2 sous vide ayant des parois réalisées en alliage de titane. Les parois définissent un espace intérieur 5 fermé de manière étanche. La surface interne des parois 3, 4 est traitée. Le traitement de la surface interne des parois 3, 4 est un traitement absorbant, encore appelé anti-réfléchissant.
Différentes sources laser 6, 7, 8, et 20 sont disposées à l'extérieur de l'installation optique 1 et émettent des faisceaux lasers 18, 10, 11 , et 19.
Les faisceaux lasers 18, 10, 1 1 , et 19 sont transmis à l'intérieur de l'enceinte à l'aide de plusieurs hublots 21 transparents et étanches. Les faisceaux lasers 18, 10, 11 et 19 sont mis en forme sous vide avec différents systèmes optiques (non représentés). Une source d'atomes de Rubidium 9 est également disposée dans l'espace intérieur 5. La longueur d'onde de 780 nm des faisceaux lasers 18, 10, 11 , et 19 est choisie afin d'être résonnante avec la transition D2 du Rubidium.
Le faisceau laser 19 sert au refroidissement des atomes de Rubidium. Les faisceaux laser 10 et 1 1 servent à l'interrogation des atomes de Rubidium. Le faisceau laser 18 sert à la détection des atomes de Rubidium. atomique en provoquant des transitions Raman dans les atomes de Rubidium avec les faisceaux laser 10 et 11.
La détection consiste en une mesure de florescence des atomes induite par le faisceau laser 18. La fluorescence est détectée par une ou plusieurs photodiodes placées en dehors de l'enceinte.
Le traitement de la surface interne des parois 3, 4 permet que les longueurs d'onde à 780nm soient absorbées à 87% par les surfaces internes des parois 3, 4. De la lumière parasite réfléchie par la surface interne des parois 3, 4 viendrait perturber les mesures en l'absence du traitement. La lumière parasite peut être issue de différentes provenances.
Notamment, la lumière parasite peut provenir des imperfections des sources laser 6, 7, 8 et 20 et des systèmes optiques sous vide (non représentés) et impacter les performances de l'installation optique 1.
Ce traitement est donc particulièrement avantageux pour augmenter la sensibilité des mesures
Le traitement selon l'invention est particulièrement simple à mettre en œuvre, économique et compatible au vide. Il permet de diminuer la réflectivité de la surface interne des parois 3, 4 de l'enceinte 2 ou de n'importe quel sous-ensemble mécanique de l'enceinte à vide 2 réalisé en alliage de titane à la longueur d'onde de 780nm des faisceaux lasers 10, 11 , 18 et 19.
Un tel sous-ensemble mécanique peut être par exemple un support optique, un support de fixation d'un laser, des baffles ou toute autre pièce réalisée en alliage de titane (non représentées). Ce traitement permet notamment d'absorber efficacement les photons parasites finissant sur les surfaces internes 3, 4 des parois de l'enceinte 2, et sur les éventuelles surfaces traitées de sous-ensembles mécaniques disposés dans l'espace intérieur 5 de l'enceinte à vide 2, tels par exemple les systèmes optiques sous vide (non représentés), et ainsi de diminuer d'une manière globale les problèmes de lumière parasite dans l'installation optique 1.
Le traitement selon l'invention consiste principalement en une oxydation des surfaces des parois 3, 4 de l'enceinte à vide 2. Il peut également comprendre l'oxydation de tout sous-ensemble mécanique de l'enceinte à vide 2.
Cette oxydation peut être avantageusement réalisée par un traitement thermique sous air, comme décrit ultérieurement.
L'installation optique 1 selon l'invention est particulièrement avantageuse lorsqu'elle est utilisée pour réaliser un capteur à interférométrie atomique.
D'autres éléments peuvent être disposés dans l'enceinte 2.
Des photodiodes (non représentées) sont situées hors de l'enceinte et mesurent le flux lumineux provenant de l'enceinte. L'invention permet de réduire le flux lumineux parasite incident sur ces photodiodes.
Par exemple, l'invention convient notamment à la réalisation d'un capteur inertiel à atome lent. Dans un tel capteur, les faisceaux lasers 10 et 11 des lasers 7 et 8 sont contrapropageants et dirigés vers le flux d'atomes émis par la source de flux atomique 9. Le faisceau laser 19 est divisé en trois paires de faisceaux contrapropageants permettant le refroidissement des atomes.
L'invention permet alors de supprimer la lumière parasite émise lors du processus de refroidissement qui peut perturber le procédé de mesure.
Un autre capteur inertiel à atomes lents dans lequel l'utilisation de l'invention peut être particulièrement avantageuse pour améliorer la sensibilité des mesures est décrit dans FR2928725. Dans ce capteur inertiel, l'enceinte à vide 2 comporte un seul laser 7 émettant un faisceau laser 10 et un système optique sous vide constitué d'un réflecteur. Le faisceau laser 10 est émis dans la direction du réflecteur de sorte à produire des réflexions multiples qui assurent à la fois le refroidissement des atomes, les mesures interférométriques par transition Raman et la détection de l'état atomique. L'invention permet alors de supprimer la lumière parasite émise dans ces différentes phases, qui est due majoritairement à la lumière parasite émise par le réflecteur.
L'invention peut également être particulièrement avantageuse pour améliorer la sensibilité d'un capteur interférométrique à atomes froids tel que décrit dans FR2826446. Dans un tel capteur, les faisceaux lasers 10, 11 des lasers 7, 8 provoquent des interactions successives avec des atomes lents émis par la source de flux atomique afin de provoquer des transitions Raman. Les interactions provoquent une séparation spatiale des atomes lents selon deux trajectoires. Une rotation du capteur interférométrique provoque un déphasage entre les deux trajectoires et le signal d'interférence est observé par une mesure du nombre d'atomes dans un état interne particulier, par exemple à l'aide d'un laser accordé à la résonance et provoquant la formation d'une image de fluorescence atomique sur une photodiode. L'invention permet alors de supprimer la lumière parasite des faisceaux lasers 10, 11 et 18 qui peut perturber les mesures de fluorescence sur la photodiode.
L'enceinte sous vide 1 est obtenue par un procédé de fabrication décrit en référence à la figure 2.
Un tel procédé comporte une première étape 12 qui consiste à fournir un élément d'enceinte à vide ou une enceinte à vide monobloc ayant des propriétés décrites ci-dessous.
Dans certains cas, l'enceinte à vide 2 n'est pas monobloc mais constituée d'éléments d'enceinte à assembler. Par exemple, l'enceinte à vide 2 comporte des parois de l'enceinte à vide 2 à assembler les unes aux autres et/ou des sous- ensembles mécaniques additionnels à assembler, notamment des éléments de fixation des systèmes optiques sous vide (non représentés) et de la source de flux atomique.
Qu'elle soit monobloc ou non, l'enceinte à vide 2 présente des parois qui définissent l'espace intérieur 5.
Tous les éléments à assembler présentant des surfaces de parois qui sont destinées à être disposées à l'intérieur de l'espace intérieur 5, notamment les surfaces intérieures 3 et 4 des parois de l'enceinte à vide 2, peuvent bénéficier d'un traitement absorbant procuré par deux étapes 13 et 14 qui seront décrites ultérieurement. Ce traitement absorbant vise à diminuer la réflectivité des surfaces de parois qui sont destinées à être disposées à l'intérieur de l'espace intérieur 5 des éléments à assembler, pour les longueurs d'onde à 780 nm. En d'autres termes, le traitement vise à ce que les surfaces précitées absorbent davantage la lumière parasite à la longueur d'onde de 780 nm.
Pour bénéficier d'un tel traitement, les surfaces précitées doivent être constituées d'un alliage métallique oxydable. Les parois et les éventuels éléments peuvent également être intégralement constitués de cet alliage métallique.
Notamment, l'alliage de titane présente les propriétés lui permettant d'absorber, lorsqu'il est oxydé, les photons parasites à 780nm. L'alliage de titane est donc compatible pour la fabrication de l'enceinte à vide 2 d'une installation optique 1 comportant une source de flux atomique 9 de Rubidium, qui nécessite que les lasers 6, 7, 8 et 20 émettent des faisceaux lasers 18, 10, 11 et 19 à 780 nm.
Afin que le traitement soit homogène, les surfaces précitées doivent en outre être débarrassées d'éventuelles impuretés.
Notamment, elles peuvent avoir subi un prétraitement. Le prétraitement consiste à placer les pièces à traiter dans un bain de DECON pendant 2 jours puis à les rincer quelques heures à l'acétone. Avant le bain de DECON et avant de rincer à l'acétone, les récipients contenant l'agent chimique et les échantillons sont placés quelques minutes dans un bain à ultrasons.
Lors d'une seconde étape 13 du procédé, l'élément d'enceinte à vide 2 ou l'enceinte à vide 2 entière est placé dans un four. Le four est un four pouvant atteindre et maintenir constante une température d'oxydation comprise entre 200°C et 600°C, préférentiellement 400°C. Le four n'est pas sous vide, mais sous air. Par exemple, le four peut être un four de laboratoire.
Une troisième étape 14 du procédé consiste à imposer et à maintenir la température d'oxydation de sorte à oxyder sous air au moins les surfaces de parois 3, 4 constituées de l'alliage métallique de l'élément d'enceinte à vide ou de l'enceinte à vide 2 pendant une certaine durée.
Une quatrième étape 15 du procédé consiste à mesurer la réflectivité totale des surfaces de parois 3, 4 constituées de l'alliage métallique à l'aide d'une sphère intégrante. En effet, le traitement subit par les surfaces de parois 3, 4 constituées de l'alliage métallique par les étapes 13 et 14 du procédé ont conduit à une oxydation des surfaces de parois 3, 4. Cette oxydation a pour conséquence de diminuer la réflectivité de l'alliage métallique, donc des surfaces de parois 3,4.
En effet , il a été constaté que la réflectivité de l'alliage métallique chutait lorsque son oxydation augmentait.
5 II a été également constaté que l'oxydation de l'alliage métallique augmentait lorsque la durée de traitement thermique augmentait.
Pour déterminer la durée de traitement thermique nécessaire pour obtenir une réflectivité de l'alliage métallique inférieure à un seuil, des mesures de réflectivité peuvent être réalisées successivement au cours de la durée pendant 0 laquelle l'élément d'enceinte à vide 2 subit le traitement thermique. Si la réflectivité n'a pas atteint le seuil choisi, il convient alors de réitérer les étapes 13, 14 et 15 jusqu'à ce que la valeur de réflectivité ait atteint le seuil.
La figure 3 est un graphique de mesure de la réflectivité moyenne à la longueur d'onde de 780 nm d'un disque en alliage de titane soumis à une 5 température constante de 400°C en fonction du temps. Le disque utilisé est un disque de Ti-6AI-4V de 30 mm de diamètre sur 4 mm d'épaisseur. La réflectivité du disque est mesurée dans une sphère intégrante. Cette réflectivité est décroissante en fonction du temps. La réflectivité du disque de Ti-6AI-4V avant oxydation présente des valeurs comprises entre 70% et 80%. La réflectivité totale présente 0 une valeur de 35 % après une durée de plus d'une journée, comme relevé sur le point de mesure 16. La réflectivité totale chute à 13 % après quatre jours de traitement thermique, comme indiqué par le point de mesure 17.
Ainsi, une durée de traitement thermique de 4 jours à 400°C est suffisante pour faire chuter à 13% la réflectivité d'un élément d'enceinte à vide 2 dont au
Figure imgf000012_0001
Le procédé d'obtention d'une installation optique et l'installation optique obtenue décrit ci-dessus peuvent être également envisagés pour d'autres longueurs d'onde que 780 nm en modulant la température et la durée du traitement.
Le procédé d'obtention d'une installation optique et l'installation optique 0 obtenue décrit ci-dessus peuvent être également envisagés pour d'autres sources de flux atomique que la source de flux atomique 9 de Rubidium. Par exemple, pour des sources de flux atomique de Césium. Le procédé d'obtention d'une installation optique et l'installation optique obtenue décrit ci-dessus peuvent être également envisagés pour d'autres matériaux que l'alliage de titane, par exemple pour des matériaux amagnétiques pouvant être également envisagés pour la réalisation d'enceintes à vide ou de sous-ensembles mécaniques d'enceinte à vides, comme l'acier 316, différents alliages d'Aluminium ou de Cuivre.
Bien que l'invention ait été décrite en liaison avec plusieurs modes de réalisation particuliers, il est bien évident qu'elle n'y est nullement limitée et qu'elle comprend tous les équivalents techniques des moyens décrits ainsi que leurs combinaisons si celles-ci entrent dans le cadre de l'invention.
L'usage du verbe « comporter », « comprendre » ou « inclure » et de ses formes conjuguées n'exclut pas la présence d'autres éléments ou d'autres étapes que ceux énoncés dans une revendication. L'usage de l'article indéfini « un » ou « une » pour un élément ou une étape n'exclut pas, sauf mention contraire, la présence d'une pluralité de tels éléments ou étapes.
Dans les revendications, tout signe de référence entre parenthèses ne saurait être interprété comme une limitation de la revendication.

Claims

REVENDICATIONS
Installation optique sous vide (1) comportant une enceinte à vide (2), l'enceinte à vide (2) comportant des parois délimitant un espace intérieur (5) fermé de manière étanche dans laquelle une surface interne des parois (3, 4) comporte une couche d'alliage métallique oxydé, l'alliage métallique comportant au moins un métal choisi parmi la liste consistant en : titane, cuivre, acier et aluminium, l'installation optique sous vide (1) comportant en outre un hublot (21) apte à transmettre dans l'enceinte à vide (2) un faisceau laser (10, 1) émis par une source optique (7, 8) à une longueur d'onde de la source optique, l'alliage métallique oxydé étant apte à absorber la longueur d'onde de la source optique afin que la réflectivité totale de la surface interne de la paroi soit inférieure à 0.5 pour la longueur d'onde de la source optique. Installation optique sous vide selon la revendication 1 , dans laquelle la longueur d'onde de la source optique correspond à une raie d'absorption du Césium ou du Rubidium.
Installation optique sous vide selon la revendication 1 ou 2, dans laquelle la longueur d'onde de la source optique (7, 8) est sélectionnée dans la liste consistant en 780nm et 852nm.
Installation optique sous vide selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, dans laquelle les parois sont entièrement constituées de l'alliage métallique.
Installation optique sous vide (1) selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, dans laquelle l'alliage métallique est le TÎ6AI4V.
Installation optique sous vide (1) selon l'une quelconque des revendications 1 à 5, comportant en outre une source d'émission d'atomes (9) de césium ou de rubidium disposée dans l'espace interne.
Utilisation de l'installation optique (1 ) selon l'une quelconque des revendications 1 à 6, pour réaliser un appareil de mesure sélectionné dans la liste consistant en une horloge atomique à atomes refroidis, un capteur inertiel à atomes refroidis et un gravimètre à atomes refroidis, et un dispositif de métrologie optique de précision.
Procédé de fabrication d'une enceinte à vide (2), comportant les étapes: fournir un élément de paroi d'enceinte à vide ou une enceinte à vide (2) comportant un alliage métallique oxydable sur au moins une surface intérieure, l'alliage métallique comportant au moins un métal choisi parmi la liste consistant en : titane, cuivre, acier et aluminium,
• placer l'élément de paroi d'enceinte à vide ou l'enceinte à vide (2) dans un four apte à imposer une température d'oxydation comprise dans l'intervalle de température de 300°C à 700°C, préférentiellement une température voisine de 400°C,
• maintenir la température d'oxydation de sorte à oxyder une surface intérieure de l'élément de paroi d'enceinte à vide ou l'enceinte à vide (2) pendant une durée suffisante pour que la réflectivité totale de ladite surface intérieure chute à une valeur inférieure à 0.5 à une longueur d'onde optique prédéterminée.
9. Procédé selon la revendication 8, comportant en outre mesurer la réflectivité totale de la surface intérieure à l'aide d'une sphère intégrante.
10. Procédé selon la revendication 9, comportant en outre nettoyer ladite surface intérieure, préalablement à placer l'élément de paroi d'enceinte à vide ou l'enceinte à vide (2) dans un four.
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR1405264A (fr) * 1964-05-12 1965-07-09 Commissariat Energie Atomique Procédé de fabrication d'enceintes sous vide
EP0913367A1 (fr) * 1996-06-11 1999-05-06 Asahi Glass Company Ltd. Corps antireflets photo-absorbant et procede de production correspondant
FR2779983A1 (fr) * 1998-06-23 1999-12-24 Commissariat Energie Atomique Procede d'assemblage par soudage diffusion d'un acier inoxydable martensitique et d'un alliage de cuivre, et element bimetallique obtenu
EP2829925A2 (fr) * 2013-07-22 2015-01-28 Honeywell International Inc. Emballage physique de capteur atomique à panneaux et coins externes optiquement transparents

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR1405264A (fr) * 1964-05-12 1965-07-09 Commissariat Energie Atomique Procédé de fabrication d'enceintes sous vide
EP0913367A1 (fr) * 1996-06-11 1999-05-06 Asahi Glass Company Ltd. Corps antireflets photo-absorbant et procede de production correspondant
FR2779983A1 (fr) * 1998-06-23 1999-12-24 Commissariat Energie Atomique Procede d'assemblage par soudage diffusion d'un acier inoxydable martensitique et d'un alliage de cuivre, et element bimetallique obtenu
EP2829925A2 (fr) * 2013-07-22 2015-01-28 Honeywell International Inc. Emballage physique de capteur atomique à panneaux et coins externes optiquement transparents

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