WO2023127869A1 - Ｎ－アルキルアミノ酸、およびｎ－アルキルアミノ酸を含むペプチドの製造方法 - Google Patents

Ｎ－アルキルアミノ酸、およびｎ－アルキルアミノ酸を含むペプチドの製造方法 Download PDF

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Definitions

  • R 1 and R 3 each independently represent a hydrogen atom, a C 1 -C 6 alkyl group, a haloC 1 -C 6 alkyl group, a C 3 -C 6 cycloalkyl group, a C 3 -C 6 cyclo alkyl C 1 -C 6 alkyl group, carboxy C 1 -C 6 alkyl group, C 6 -C 10 aryl C 1 -C 6 alkyl group optionally having a substituent on the aryl group, heteroaryl group optionally substituted 5- to 10-membered heteroaryl C 1 -C 6 alkyl group, heterocyclyl group optionally substituted 5- to 10-membered heterocyclyl C 1 -C 6 alkyl group , C 3 -C 6 cycloalkoxy C 1 -C 6 alkyl groups, halo C 1 -C 6 alkoxy C 1 -C 6 alkyl groups, protected amino C 3 -C 6 alkyl groups, protected hydroxy C 1
  • Amino acid side chain as used herein means, in the case of ⁇ -amino acids, an atomic group bonded to the carbon ( ⁇ -carbon) where the amino group and the carboxyl group are bonded.
  • the methyl group of Ala is the side chain of an amino acid.
  • the atom group attached to the ⁇ -carbon and/or the ⁇ -carbon becomes the side chain of the amino acid, and in the case of ⁇ -amino acids, the ⁇ -carbon, ⁇ -carbon and/or ⁇ -carbon are attached.
  • the atomic group formed by this can be a side chain of an amino acid.
  • solvate refers to a compound formed with a solvent to form a single molecular cluster, and if it is a solvate formed with a solvent that is acceptable for ingestion accompanying administration of a drug, It is not particularly limited. Examples include hydrates, alcoholates (ethanolates, methanolates, 1-propanolates, 2-pronolates, etc.), solvates with a single solvent such as dimethylsulfoxide, as well as , solvates formed with a plurality of solvents for one molecule of the compound, and solvates formed with a plurality of types of solvents for one molecule of the compound.
  • the alkylation step according to this embodiment selectively N-monoalkylates an amino acid represented by formula A or an ester thereof (also referred to as starting amino acid A) to obtain an N-mono A method for obtaining an alkylamino acid or an ester thereof, and performing a deprotection reaction and an N-alkylation reaction of an N-protected amino acid represented by formula B or an ester thereof (also referred to as starting amino acid B) in one pot to obtain formula C and a method for obtaining an N-monoalkylamino acid represented by or an ester thereof.
  • the outline of the method according to this embodiment is shown below.
  • cycloalkylalkyl means a group in which one or more hydrogen atoms of "alkyl” defined above are replaced with “cycloalkyl” defined above.
  • Specific examples of C 3 -C 6 cycloalkyl C 1 -C 6 alkyl include cyclopropylmethyl, cyclobutylmethyl, cyclopentylmethyl, cyclohexylmethyl and the like.
  • arylalkyl (aralkyl) means a group in which at least one hydrogen atom of "alkyl” defined above is replaced with “aryl” defined above.
  • arylalkyl C 6 -C 10 arylC 1 -C 6 alkyl are preferred.
  • Specific examples of C 6 -C 10 aryl C 1 -C 6 alkyl include benzyl, phenethyl, 3-phenylpropyl and the like.
  • heterocyclylalkyl means a group in which one or more hydrogen atoms of "alkyl” as defined above are replaced with “heterocyclyl” as defined above.
  • the heterocyclylalkyl is preferably a 5- to 10-membered heterocyclyl C 1 -C 6 alkyl, more preferably a 4- to 7-membered heterocyclyl C 1 -C 6 alkyl, even more preferably a 4- to 7-membered heterocyclyl C 1 -C 2 alkyl.
  • Said C 6 -C 10 aryl C 1 -C 6 alkyl aryl, said 5-10 membered heteroaryl C 1 -C 6 alkyl heteroaryl, and said 5-10 membered heterocyclyl C 1 -C 6 alkyl heterocyclyl are Further, it may be substituted with a substituent.
  • Halogen-derived substituents include fluoro (-F), chloro (-Cl), bromo (-Br), iodine (-I), and the like.
  • substituted methyl halide means a methyl halide in which one of the hydrogen atoms on the carbon of the methyl halide (halogenated methyl) is replaced with another atom or functional group.
  • substituted methyl halides include alkoxymethyl halides, alkoxyalkoxymethyl halides, and trialkylsilylalkoxymethyl halides.
  • Preferred examples include substituted methyl chlorides.
  • Specific examples of substituted methyl chlorides include MOM-Cl (methoxymethyl chloride), EOM-Cl (ethoxymethyl chloride), MEM-Cl (2-methoxyethoxymethyl chloride), SEM-Cl (2-(trimethylsilyl)ethoxymethyl chloride ).
  • starting amino acid A When starting amino acid A is used as a raw material in the alkylation step, it is preferable to add a base to the reaction solution. By adding a base to the reaction solution, the ratio of dialkylated products and by-products can be reduced, and the monoalkylation selectivity can be further improved.
  • starting amino acid B When starting amino acid B is used as a raw material, it is preferable to add a base to the reaction solution in the N-alkylation step after the deprotection reaction.
  • the reaction temperature can be in the range of -40°C to around the boiling point of the solvent, and can be in the range of -20°C to 50°C or in the range of 0°C to 30°C.
  • the reaction time can be in the range of 5 minutes to 72 hours, 10 minutes to 48 hours, or 10 minutes to 24 hours.
  • the step of cyclizing the peptide (precursor peptide, i.e., linear peptide) or ester thereof obtained by the above production method with the C-terminal group and the N-terminal group to form a cyclic portion is also included in this embodiment.
  • Example 4 Monoethylation reaction of H-Phe-OtBu with acetonitrile 5% palladium on carbon (50% wet, 96 mg, 0.023 mmol, 5 mol% metallic Pd standard) and an ethanol solution of compound 1 (15 mL/g substrate, 1.5 mL, 0.452 mmol) were added to a flask containing a stir bar. rice field. Acetonitrile (236 ⁇ L, 4.52 mmol, 10.0 eq.) was added to the resulting mixture. While stirring, the gas phase in the flask was replaced with nitrogen, replaced with hydrogen again, and stirred at 30°C.
  • a 2-methyltetrahydrofuran solution of propylphosphonic anhydride (1.6 M, 132 mL, 211 mmol, 2.2 eq.) was added dropwise from the dropping funnel over 1 hour and 20 minutes.
  • the internal temperature during dropping was 15.0 to 17.4°C. Sampling was performed 1 hour after the completion of dropping, and completion of the reaction was confirmed by HPLC analysis.
  • a 5% aqueous sodium carbonate solution 180 mL was slowly added from the dropping funnel. The internal temperature during dropping was maintained at 30.3° C. or lower. After completion of dropping, the external temperature was set to 23°C. After stirring for 15 minutes or longer, the mixture was allowed to stand, and the aqueous layer was removed.
  • a 2-methyltetrahydrofuran solution of propylphosphonic anhydride (1.6 M, 219 mL, 2.2 eq.) was added dropwise from the dropping funnel over 1 hour and 20 minutes.
  • the internal temperature during the dropwise addition was 15.5-18.5°C.
  • Sampling was performed 1 hour after the completion of dropping, and completion of the reaction was confirmed by HPLC analysis.
  • a 5% aqueous sodium carbonate solution (300 mL) was slowly added from the dropping funnel.
  • the internal temperature during dropping was maintained at 22.8° C. or lower.
  • the external temperature was set to 23°C. After stirring for 15 minutes or longer, the mixture was allowed to stand, and the aqueous layer was removed.
  • H-Phe-OtBu Monomethylation Reaction Comparative Experiment Using Formaldehyde Aqueous Solution as Methylation Reagent H-Phe-OtBu (75 mg, 0.339 mmol) was added to a flask containing a stir bar and tetrahydrofuran (1.5 mL) was added. 5% palladium on carbon (50% wet, 72 mg, 0.017 mmol, 5 mol% on Pd metal basis) and 37% formaldehyde aqueous solution (25.1 ⁇ L, 0.339 mmol, 1.0 eq.) were sequentially added. The mixture was purged with nitrogen and hydrogen while stirring, and the reaction was carried out at 25°C.
  • Example 32 One-pot deprotection and monohexylation of Cbz-Val-MeAsp(OtBu) -NMe2
  • a flask containing a stirrer was charged with 5% palladium on carbon (50% wet, 62 mg, 0.015 mmol, 5 mol% on Pd metal basis) and Cbz-Val-MeAsp(OtBu) -NMe in tetrahydrofuran (15 mL/g substrate, 2.0 mL, 0.291 mmol) was added.
  • a deCbz reaction was carried out by purging with nitrogen and purging with hydrogen while stirring.
  • Example 38 Synthesis of H-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBu hydrochloride A reaction vessel was charged with 5% palladium on carbon (55.31% wet, 2.60 g, 0.546 mmol, 1 mol% on Pd metal basis), Cbz-Phe(4-Me)-Sar-OtBu obtained in Example 37. solution (38.80 g), 2-methyltetrahydrofuran (179 g), acetonitrile (22.29 g, 543 mmol, 10.0 eq.), TsOH.H 2 O (10.85 g, 57.0 mmol, 1.0 eq.) and water (1.03 g, 56.9 mmol) was added.
  • 5% palladium on carbon 55.31% wet, 2.60 g, 0.546 mmol, 1 mol% on Pd metal basis
  • Cbz-Phe(4-Me)-Sar-OtBu obtained in Example 37. solution (38.80 g
  • Example 39 Synthesis of Cbz-Aze-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBu Cbz-Aze-OH (12.94 g, 55.0 mmol), 2-methyltetrahydrofuran (132 g), and H-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBu hydrochloride synthesized by the same method as in Example 38 were placed in a reaction vessel. (17.01 g, 45.9 mmol), DIPEA (47.41 g, 367 mmol) were added at room temperature.
  • Example 43 Synthesis of Cbz-Ile-MeAla-Aze-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBu Toluene (92 g), 5% sodium hydrogensulfate monohydrate aqueous solution (100 g) and Cbz-Ile-OH dicyclohexylamine salt (21.43 g, 47.7 mmol) were added to the reactor at 25° C. with stirring. A 5% sodium hydrogensulfate monohydrate aqueous solution (220 g) was added, and after stirring for 10 minutes, the mixture was allowed to stand, and the aqueous layer was removed.
  • the resulting organic layer was washed three times with a 5% aqueous solution of sodium hydrogensulfate monohydrate (320 g) and then twice with an aqueous solution of 5% sodium chloride (220 g).
  • the obtained organic layer was concentrated to 26 mL under reduced pressure conditions.
  • Example 61 Synthesis of compound 11 Cbz-Hph(3,5- F2-4 - CF3 )-Pro-cLeu-MeGcp-MeAsp(OH) -NMe2 diethylamine salt obtained in Example 60 (92.0 w/w%) was added to the reaction vessel. , 20.78 g, 19.2 mmol), acetonitrile (177 mL), dicyclohexylmethylamine (8.2 mL, 38.6 mmol) and DIPEA (10.1 mL, 58.0 mmol) were added and concentrated under reduced pressure to 42.5 mL. bottom.
  • Example 65 Synthesis of hydrate crystals (C type) of compound 4 Acetone solution (33.33 g) containing compound 4 (6.00 g, 4.17 mmol) synthesized by the same method as in Example 64 in a reaction vessel ) and acetone (12.53 g) were added. The temperature was raised to 40° C. and water (19.2 mL) was added over 10 minutes while stirring. Compound 4 hydrate crystals (C type) (18 mg) were added to a glass vial, suspended in a mixed solution of acetone/water (5:4 (v/v), 0.24 mL), and then suspended. was added to the crystallization solution.
  • Example 66 Crystallization of H-MeAla-Aze-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBu
  • Amorphous H-MeAla-Aze-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBu (14.82 g) and CPME (21.7 g) were mixed to prepare a CPME solution of H-MeAla-Aze-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBu (40.6 w/w% content). The prepared solution was allowed to stand at 5° C. for one day to obtain crystals of H-MeAla-Aze-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBu.
  • Example 69 Crystallization of Cbz-Pro-cLeu-MeGcp-MeAsp(OtBu) -NMe2 CPME ( 5 .94 mL) was added and the slurry was filtered after stirring at room temperature for 4 hours. The obtained solid was washed twice with CPME (2.38 mL) and then dried under reduced pressure conditions to obtain crystals of Cbz-Pro-cLeu-MeGcp-MeAsp(OtBu)-NMe 2 .
  • Example 70 Crystallization of H-Pro-cLeu-MeGcp-MeAsp(OtBu) -NMe2 Amorphous H-Pro-cLeu-MeGcp-MeAsp(OtBu) -NMe2 (10 mg) and tetrahydrofuran (0.02 mL) ) was added to the vial and then shaken at room temperature for 6 days. Heptane (0.04 mL) was added to the obtained solution, and the mixture was shaken at room temperature for 6 days to obtain crystals of H-Pro-cLeu-MeGcp-MeAsp(OtBu)-NMe 2 .

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Abstract

本発明は、Ｎ－モノアルキルアミノ酸もしくはそのエステルまたは前記Ｎ－モノアルキルアミノ酸を含むペプチドもしくはそのエステルの製造方法であって、水素の存在下、出発アミノ酸もしくはそのエステルまたは前記出発アミノ酸を含むペプチドもしくはそのエステル、Ｃ１－Ｃ６一級アルキル化剤もしくは置換メチルハライド、および触媒を溶媒中で混合するアルキル化工程を含み、前記アルキル化工程が、１気圧以上の圧力下で行われ、かつ、前記出発アミノ酸もしくはそのエステルのアミノ基に前記Ｃ１－Ｃ６一級アルキル化剤もしくは置換メチルハライドに対応する一級アルキル基が結合したＮ－モノアルキルアミノ酸もしくはそのエステルまたは前記Ｎ－モノアルキルアミノ酸を含むペプチドもしくはそのエステルを生成させる、方法を提供する。

Description

Ｎ－アルキルアミノ酸、およびＮ－アルキルアミノ酸を含むペプチドの製造方法
　本発明は、Ｎ－アルキルアミノ酸、およびＮ－アルキルアミノ酸を含むペプチドの製造方法に関する。
　近年、分子量が５００を超える化合物が、従来の低分子化合物では相互作用することが困難なターゲットタンパクの表面での相互作用、すなわちタンパク－タンパク相互作用の阻害等に寄与しうることが知られるようになってきた。これらの分子は、経口薬として用いられてきた低分子（分子量が５００以下である）や抗体医薬品のような高分子（分子量が１０００００を超える）と区別され、中分子化合物（分子量が５００～２０００である）と呼ばれる。中分子化合物は、タフターゲットに対する創薬を実現しうる、新たなモダリティとして注目されている。中分子化合物の中でも、ペプチド医薬品は、すでに４０種類以上が上市されており、例えば、シクロスポリンは免疫抑制剤として使用されている（非特許文献１）。
　ペプチド医薬品の有効成分であるペプチドの多くは、分子内にＮ－アルキルアミノ酸等の非天然アミノ酸を含むことが知られている。とりわけ非天然アミノ酸としてＮ－アルキルアミノ酸を有するペプチドは、医薬品の有効成分として必要な代謝安定性や膜透過性が向上することが知られている（特許文献１、２）。
　医薬品として供給するためには、効率的で大量合成に適した化学合成法の確立が必須である。その配列中に非天然アミノ酸を含むペプチド、とりわけ、Ｎ－アルキルアミノ酸を含むペプチドの製造においては、アミノ基の窒素原子上のアルキル基の立体障害に起因する縮合反応の低反応性、およびアミノ酸残基のα位のラセミ化などにより、目的物の収率が低下することが課題であった（非特許文献２）。また、アミノ基のアルキル化反応による、Ｎ－アルキルアミノ酸やＮ－アルキルアミノ酸残基を含むペプチドの製造においては、アルキルアルデヒドやアルキルニトリルをアルキル化剤として用い、水素雰囲気下でアミノ酸やペプチド構造中の脂肪族第一級アミノ基をアルキル化する方法が知られている（特許文献３、非特許文献３、４）。また、アルキルニトリルをアルキル化剤として用い、水素雰囲気下で脂肪族第一級アミノ基を選択的アルキル化により第二級アミノ基に変換する手法が知られている（非特許文献５、６）。ペプチドのＮ－アルキル化法としては、例えば、２－ニトロベンゼンスルホニル基で保護された第一級アミンを硫酸ジアルキル等のアルキル化剤でＮ－アルキル化し、その後に脱保護する方法が知られている（非特許文献７）。水素化ホウ素試薬を還元剤として用いてペプチドをＮ－アルキル化する合成法も知られている（非特許文献８）。
国際公開第２０１８／２２５８６４号 国際公開第２０２０／１２２１８２号 国際公開第２０００／０１５６５６号
Future Med. Chem., 2009, 1, 1289-1310. J. Peptide Res., 2005, 65, 153-166. J. Med. Chem. 1992, 35, 4195-4204. J. Org. Chem. 1984, 49, 5269-5271. Org. Lett. 2004, 6, 4977-4980. Org. Biomol. Chem. 2012, 10, 293-304. Acc. Chem. Res. 2008, 41, 1331-1342. Chem. Sci. 2017, 8, 2717-2722.
　アミノ酸およびペプチドのＮ末端のアミノ基を効率的にＮ－アルキル化するためには、アミノ酸およびペプチドの構造中に含まれる脂肪族第一級アミノ基を高い選択性でモノアルキル化し第二級アミノ基に変換可能な合成法が必要である。また、Ｎ－アルキルアミノ酸を含むペプチドの製造では、Ｎ末端のアミノ基の脱保護、Ｎ末端のアミノ基のＮ－アルキル化、次いでアミノ酸の伸長反応と複数ステップを要する。そこで、本発明は、Ｎ－モノアルキルアミノ酸またはＮ－モノアルキルアミノ酸残基を含むペプチドの効率的な製造方法を提供することを目的とする。
　従来のＮ－アルキル化法では、基質の第一級アミノ基がモノアルキル化された第二級アミンだけでなく、ジアルキル化された第三級アミンが多く副生し、これらを分離することが困難となることがある。一般的に、基質となるアミノ基及び導入するアルキル基の嵩高さがともに小さいと、ジアルキル化に対するモノアルキル化の選択性を高めることは困難である。非特許文献３～６および特許文献３では、立体障害の大きな基質のアミノ基に立体障害の大きなアルキル基を導入する方法に言及しているが、高選択的なモノアルキル化には言及していない。実際に、非特許文献５および６の開示にしたがい、アルキルニトリルをアルキル化剤として用い、水素雰囲気下で脂肪族第一級アミンを選択的に第二級アミンに変換する方法をペプチドの製造に適用したところ、アミノ基の立体障害の影響で反応性が低く、目的物を効率よく得ることが困難であった。
　一方、液相法によるペプチド製造では、ベンジルオキシカルボニル基（Ｃｂｚ基ともいう。）でＮ末端のアミノ基が保護されたアミノ酸が汎用されている。このような保護されたアミノ酸を用いてＮ－アルキルアミノ酸を含む配列のペプチド鎖の伸長反応を行う場合には、Ｃｂｚ基の除去工程、Ｎ末端のアミノ基のアルキル化工程、ペプチド鎖の伸長反応工程のそれぞれで、溶媒、反応液の液性などの反応条件が異なることがある。さらに、各工程での後処理操作、および目的物の単離操作を含め、複数の作業工程を要し、煩雑である。非特許文献７で用いられている保護基と次工程のアルキル化反応は、Ｎ末端のアミノ基への特定の保護基の導入、アルキル化、脱保護工程の３ステップを要する製法である点から、実用的な方法とは言い難い。非特許文献８に記載の水素化ホウ素試薬を還元剤として用いる方法では、立体障害の大きなベンズアルデヒドによる、Ｎ－置換ペプチドの製造が例示されているにすぎない。また、水素化ホウ素試薬に例示されるヒドリド試薬は、基質化合物に対して等量以上の試薬が必要であり、過剰試薬を含む反応液の後処理工程の操作が煩雑である。また、これらの方法をペプチド合成に適用する場合、ペプチドのＮ末端の保護基の除去反応およびＮ末端のアミノ基のアルキル化反応が異なるために、それぞれ別の工程として行う必要があり、脱保護反応とＮ－アルキル化反応をワンポットで行うことも難しい。
　本発明は、Ｎ－アルキルアミノ酸およびＮ－アルキルアミノ酸を含むペプチドの製造方法に関する。発明者らは、基質や導入するアルキル基の嵩高さに依存しない効率的なアミノ酸、またはペプチドのＮ－アルキル体の製法の確立を目的とし、アルキル化剤、還元剤、触媒、および添加剤を中心にＮ－アルキル反応の条件を検討した。アルキル化剤としてアルキルニトリルまたはアルキルアルデヒドを用い、常圧（１気圧）以上の水素雰囲気下、遷移金属触媒の存在下、添加剤として有機塩基を加えてアルキル化を検討したところ、アミノ酸のＮ－アルキル化反応に加え、ペプチドのＮ－アルキル化反応にも適用可能であることを見出した。Ｎ末端に加水素分解条件で除去可能な保護基をもつ、アミノ酸またはペプチドを本発明の条件に付したところ、脱保護反応とＮ－アルキル化反応をワンポットで行うことができることを見出した。ワンポットで反応を行う場合は、添加剤として酸を加えて反応を行うと、効率よく目的とするＮ－アルキル体が得られることを見出した。
　例えば、本発明は、以下の（１）～（３５）を提供する。
（１）
　Ｎ－モノアルキルアミノ酸もしくはそのエステルまたはＮ－モノアルキルアミノ酸を含むペプチドもしくはそのエステルの製造方法であって、
　水素の存在下、出発アミノ酸もしくはそのエステルまたは出発アミノ酸を含むペプチドもしくはそのエステル、Ｃ１－Ｃ６一級アルキル化剤もしくは置換メチルハライド、および触媒を溶媒中で混合するアルキル化工程を含み、
　アルキル化工程が、１気圧以上の圧力下で行われ、かつ、出発アミノ酸もしくはそのエステルのアミノ基にＣ１－Ｃ６一級アルキル化剤もしくは置換メチルハライドに対応する一級アルキル基が結合したＮ－モノアルキルアミノ酸もしくはそのエステルまたは前記Ｎ－モノアルキルアミノ酸を含むペプチドもしくはそのエステルを生成させる、方法。
（１．１）
　Ｎ－モノアルキルアミノ酸もしくはそのエステルまたはＮ－モノアルキルアミノ酸を含むペプチドもしくはそのエステルの製造方法であって、
　出発アミノ酸もしくはそのエステルまたは出発アミノ酸を含むペプチドもしくはそのエステル、Ｃ１－Ｃ６一級アルキル化剤もしくは置換メチルハライド、ヒドリド還元剤および触媒を溶媒中で混合するアルキル化工程を含み、
　アルキル化工程が、出発アミノ酸もしくはそのエステルのアミノ基にＣ１－Ｃ６一級アルキル化剤もしくは置換メチルハライドに対応する一級アルキル基が結合したＮ－モノアルキルアミノ酸もしくはそのエステルまたは前記Ｎ－モノアルキルアミノ酸を含むペプチドもしくはそのエステルを生成させる、方法。
（１．２）　Ｃ１－Ｃ６一級アルキル化剤もしくは置換メチルハライドが、Ｃ１－Ｃ６一級アルキル化剤である、（１）または（１．１）に記載の方法。
（２）　Ｃ１－Ｃ６一級アルキル化剤が、Ｃ１－Ｃ５アルキルニトリルまたはＣ１－Ｃ５アルキルアルデヒドである、（１）～（１．２）のいずれか一項に記載の方法。
（２．１）　置換メチルハライドが、メトキシメチルクロリド（ＭＯＭ－Ｃｌ）、エトキシメチルクロリド（ＥＯＭ－Ｃｌ）、２－メトキシエトキシメチルクロリド（ＭＥＭ－Ｃｌ）、２－（トリメチルシリル）エトキシメチルクロリド（ＳＥＭ－Ｃｌ）からなる群から選択される１つである、（２）に記載の方法。
（２．２）　ヒドリド還元剤が、トリアルキルシランである、（１．１）～（２．１）のいずれか一項に記載の方法。
（２．３）　トリアルキルシランが、トリエチルシランである、（２．２）に記載の方法。
（３）　触媒が、遷移金属を含む不均一系水素化触媒である、（１）～（２．２）のいずれか一項に記載の方法。
（４）　不均一系水素化触媒が、Ｐｄ、ＲｈおよびＰｔからなる群から選択される遷移金属を含む触媒である、（３）に記載の方法。
（５）　不均一系水素化触媒が、Ｐｄ－Ｃ、Ｐｄ（ＯＨ）２－Ｃ、Ｒｈ－Ｃ、およびアダムス触媒からなる群から選択される触媒である、（３）または（４）に記載の方法。
（６）　溶媒が、エーテル系溶媒、アルコール系溶媒、およびエステル系溶媒からなる群から選択される少なくとも１つの溶媒を含む、（１）～（５）のいずれか一項に記載の方法。
（７）　溶媒が、エーテル系溶媒、アルコール系溶媒、エステル系溶媒およびこれらの組合せからなる群から選択される、（１）～（６）のいずれか一項に記載の方法。
（８）　溶媒が、テトラヒドロフラン、２－メチルテトラヒドロフラン、ジメチルエーテル、メチルｔ－ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、４－メチルテトロヒドロピラン、ジオキサンおよびジエチルエーテルからなる群から選択されるエーテル系溶媒である、（１）～（７）のいずれか一項に記載の方法。
（９）　溶媒が、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールおよびペンタノールからなる群から選択されるアルコール系溶媒である、（１）～（７）のいずれか一項に記載の方法。
（１０）　溶媒が、酢酸エチル、酢酸プロピルおよび酢酸ブチルからなる群から選択されるエステル系溶媒である、（１）～（７）のいずれか一項に記載の方法。
（１１）　アルキル化工程における反応混合物に、追加の水素を接触させる工程をさらに含む、（１）～（１０）のいずれか一項に記載の方法。
（１２）　出発アミノ酸もしくはそのエステルまたは前記出発アミノ酸を含むペプチドもしくはそのエステルのアミノ基が、加水素分解条件で除去可能な保護基と結合している、（１）～（１１）のいずれか一項に記載の方法。
（１２．１）　前記保護基を除去する工程（保護基の除去）を含む、（１２）に記載の方法。
（１３）　保護基が、アリールメチルオキシカルボニル基である、（１２）または（１２．１）に記載の方法。
（１４）　保護基の除去が、ｐ－トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、硫酸水素ナトリウム、トリエチルアミン塩酸塩およびプロピルホスホン酸からなる群から選択される添加剤の存在下で行われる、（１２）または（１３）に記載の方法。
（１４．１）　前記アルキル化工程における反応混合物が、塩基を更に含む、（１２）～（１３）のいずれか一項に記載の方法。
（１４．２）　前記保護基の除去と前記アルキル化工程とが、ワンポットで行われる、（１２）～（１４．１）のいずれか一項に記載の方法。
（１５）　出発アミノ酸もしくはそのエステルのアミノ基が、一級アミノ基であり、
　アルキル化工程における反応混合物が、塩基を更に含む、（１）～（１１）のいずれか一項に記載の方法。
（１６）　塩基が、三級アミンである、（１４．１）または（１５）に記載の方法。
（１７）　三級アミンが、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン－７、１，５－ジアザビシクロ［４．３．０］ノネン－５、Ｎ－メチルモルホリン、１，４－ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルエチルアミン、ピリジンおよびコリジンからなる群から選択される、（１６）に記載の方法。
（１８）　以下の工程を含む、ペプチドもしくはそのエステルの製造方法：
（ａ）（１）～（１７）のいずれか一項に記載の方法に従いＮ－モノアルキルアミノ酸もしくはそのエステルまたはＮ－モノアルキルアミノ酸を含むペプチドもしくはそのエステルを得る工程、および
（ｂ）前記Ｎ－モノアルキルアミノ酸もしくはそのエステルまたは前記Ｎ－モノアルキルアミノ酸を含むペプチドもしくはそのエステルに対し、任意で１つもしくは複数のアミノ酸またはペプチドを結合形成反応によって伸長させて、ペプチドもしくはそのエステルを得る工程。
（１８．１）　前記工程（ａ）および（ｂ）を所望のペプチドを得るまで複数回繰り返す、（１８）に記載のペプチドもしくはそのエステルの製造方法。
（１８．２）　以下の工程を含む、少なくとも４個のアミノ酸より構成される環状部を有するペプチドもしくはそのエステルの製造方法：
　（ｃ）（１８）または（１８．１）に記載の方法に従いペプチドもしくはそのエステルを得る工程、および
　（ｄ）前記ペプチドもしくはそのエステルのＣ末端側の基とＮ末端側の基とで環化して前記環状部を形成する工程。
（１８．３）　前記工程（ｄ）におけるペプチドもしくはそのエステルが、直鎖状のペプチドもしくはそのエステルである、（１８．２）に記載の方法。
（１８．４）　前記直鎖状のペプチドもしくはそのエステルが、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
 で表される直鎖状のペプチド、もしくはその塩またはそれらの溶媒和物である、（１８．３）に記載の方法。
（１９）　環状部を形成する工程が、ペプチドもしくはエステルのＣ末端のカルボキシル基とＮ末端のアミノ基との結合形成によって行われる、（１８．２）または（１８．３）に記載の方法。
（２０）　環状部が、少なくとも８個のアミノ酸により構成されており、
　環状部を有するペプチドもしくはそのエステルが、８～１５個のアミノ酸により構成されるペプチドもしくはそのエステルである、（１８．２）～（１９）のいずれか一項に記載の方法。
（２０．１）　（１８）～（２０）のいずれか一項に記載の方法を含む、Ｎ－アルキルアミノ酸残基を５個以上、６個以上または７個以上含むペプチドもしくはそのエステルの製造方法。
（２０．２）　前記環状部を有するペプチドもしくはそのエステルが、下記式（１）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
 で表される環状部を有するペプチド、もしくはその塩またはそれらの溶媒和物である、（１８）～（２０）のいずれか一項に記載の方法。
（２０．３）　前記環状部を有するペプチド、もしくはその塩またはそれらの溶媒和物が、式（１）で表される環状部を有するペプチドの溶媒和物である、（２０．２）に記載の方法。
（２０．４）　前記環状部を有するペプチド、もしくはその塩またはそれらの溶媒和物が、式（１）で表される環状部を有するペプチドの水和物である、（２０．２）に記載の方法。
（２０．５）　前記環状部を有するペプチド、もしくはその塩またはそれらの溶媒和物が、式（１）で表される環状部を有するペプチドである、（２０．２）に記載の方法。
（２０．６）　前記環状部を有するペプチド、もしくはその塩またはそれらの溶媒和物の単離および／または精製にカラムクロマトグラフィーを用いない、（１８）～（２０．５）のいずれか一項に記載の方法。
（２０．７）　前記環状部を有するペプチド、もしくはその塩またはそれらの溶媒和物を晶析により単離および／または精製して、前記環状部を有するペプチド、もしくはその塩またはそれらの溶媒和物の結晶を得る工程をさらに含む、（１８）～（２０．６）のいずれかに一項記載の方法。
（２０．８）　前記環状部を有するペプチド、もしくはその塩またはそれらの溶媒和物の結晶が、下記式（１）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
 で表される環状部を有するペプチドの非溶媒和物結晶、または溶媒和物結晶である、（２０．７）に記載の方法。
（２０．９）　前記環状部を有するペプチドの結晶が溶媒和物結晶である、（２０．８）に記載の方法。
（２０．１０）　前記環状部を有するペプチド溶媒和物結晶が、水和物結晶である、（２０．９）に記載の方法。
（２１）　出発アミノ酸もしくはそのエステルまたは出発アミノ酸を含むペプチドもしくはそのエステルのＮ－モノアルキル化反応において、出発アミノ酸もしくはそのエステルまたは出発アミノ酸を含むペプチドもしくはそのエステルのアミノ基がジアルキル化された化合物の生成を抑制する方法であって、
　水素の存在下、出発アミノ酸もしくはそのエステルまたは出発アミノ酸を含むペプチドもしくはそのエステル、Ｃ１－Ｃ６一級アルキル化剤もしくは置換メチルハライド、および触媒を溶媒中で混合するアルキル化工程を含み、
　アルキル化工程が、１気圧以上の圧力下で行われ、かつ、出発アミノ酸もしくはそのエステルのアミノ基にＣ１－Ｃ６一級アルキル化剤もしくは置換メチルハライドに対応する一級アルキル基が結合したＮ－モノアルキルアミノ酸もしくはそのエステルまたはＮ－モノアルキルアミノ酸を含むペプチドもしくはそのエステルを生成させる、方法。
（２１．１）　出発アミノ酸もしくはそのエステルまたは出発アミノ酸を含むペプチドもしくはそのエステルのＮ－モノアルキル化反応において、出発アミノ酸もしくはそのエステルまたは出発アミノ酸を含むペプチドもしくはそのエステルのアミノ基がジアルキル化された化合物の生成を抑制する方法であって、
　出発アミノ酸もしくはそのエステルまたは出発アミノ酸を含むペプチドもしくはそのエステル、Ｃ１－Ｃ６一級アルキル化剤もしくは置換メチルハライド、ヒドリド還元剤および触媒を溶媒中で混合するアルキル化工程を含み、
　アルキル化工程が、出発アミノ酸もしくはそのエステルのアミノ基にＣ１－Ｃ６一級アルキル化剤もしくは置換メチルハライドに対応する一級アルキル基が結合したＮ－モノアルキルアミノ酸もしくはそのエステルまたは前記Ｎ－モノアルキルアミノ酸を含むペプチドもしくはそのエステルを生成させる、方法。
（２１．２）　Ｃ１－Ｃ６一級アルキル化剤もしくは置換メチルハライドが、Ｃ１－Ｃ６一級アルキル化剤である、（２１）または（２１．１）に記載の方法。
（２２）　Ｎ－モノアルキルアミノ酸もしくはそのエステルまたはＮ－モノアルキルアミノ酸を含むペプチドもしくはそのエステルのペプチド鎖を、結合形成反応によって伸長する工程と、
　伸長されたペプチドを酸性水溶液で処理し、ジアルキル化された化合物を除去する工程をさらに含む、（２１）～（２１．２）のいずれか一項に記載の方法。
（２３）　Ｎ－モノアルキルアミノ酸もしくはそのエステルが、式Ｃで表される化合物である、（１）～（２２）のいずれか一項に記載の方法。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
 ［式中、Ｒ１はアミノ酸の側鎖を表わし、Ｒ２は水素原子またはＣ１－Ｃ６アルキル基を表わす。］
（２４）　出発アミノ酸もしくはそのエステルが、式Ａで表される化合物である、（１）～（１１）および（１５）～（２３）のいずれかに一項に記載の方法。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
 ［式中、Ｒ１はアミノ酸の側鎖を表わし、Ｒ２は水素原子またはＣ１－Ｃ６アルキル基を表わす。］
（２５）　出発アミノ酸もしくはそのエステルが、式Ｂで表される化合物である、（１）～（１４）および（１８）～（２３）のいずれか一項に記載の方法。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
 ［式中、ＰＧ１はアミノ基の保護基であり、Ｒ１はアミノ酸の側鎖を表わし、Ｒ２は水素原子またはＣ１－Ｃ６アルキル基を表わす。］
（２６）　Ｎ－モノアルキルアミノ酸を含むペプチドもしくはそのエステルが、式Ｆで表される化合物である、（１）～（２２）のいずれか一項に記載の方法。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
 ［式中、Ｒ３はアミノ酸残基の側鎖を表わし、Ｒ４はペプチド残基を表わす。］
（２７）　出発アミノ酸を含むペプチド（以下、「出発ペプチド」ともいう。）もしくはそのエステルが、式Ｄで表される化合物である、（１）～（１１）、（１５）～（２２）および（２６）のいずれか一項に記載の方法。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
 ［式中、Ｒ３はアミノ酸残基の側鎖を表わし、Ｒ４はペプチド残基を表わす。］
（２８）　出発アミノ酸を含むペプチドが、式Ｅで表される化合物である、（１）～（１４）、（１８）～（２２）、（２６）および（２７）のいずれか一項に記載の方法。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
 ［式中、ＰＧ２はアミノ基の保護基であり、Ｒ３はアミノ酸残基の側鎖を表わし、Ｒ４はペプチド残基を表わす。］
（２９）　Ｒ２のＣ１－Ｃ６アルキル基が、加水素分解条件で除去されない基である、（２１）～（２６）のいずれか一項に記載の方法。
（３０）　Ｒ２のＣ１－Ｃ６アルキル基が、ｔ－ブチル基、ｎ－ブチル基、１－メチルプロピル基、２－メチルプロピル基、ｎ－プロピル基、イソプロピルメチル基およびエチル基より選択される、（２３）～（２５）のいずれか一項に記載の方法。
（３１）　ＰＧ１およびＰＧ２が、加水素分解条件で除去可能な保護基である、（２５）および（２８）～（３０）のいずれか一項に記載の方法。
（３２）　ＰＧ１およびＰＧ２が、ベンジルオキシカルボニル基、ベンジルオキシメチル基、およびベンジル基からなる群から選択される保護基である、（２５）および（２８）～（３１）のいずれか一項に記載の方法。
（３３）　Ｒ１およびＲ３が、アルキル化工程の条件により意図しない構造変換を受けうる基でない、（２３）～（３２）のいずれか一項に記載の方法。
（３４）　Ｒ１およびＲ３が、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１－Ｃ６アルキル基、ハロＣ１－Ｃ６アルキル基、Ｃ３－Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ３－Ｃ６シクロアルキルＣ１－Ｃ６アルキル基、カルボキシＣ１－Ｃ６アルキル基、アリール基上に置換基を有していてもよいＣ６－Ｃ１０アリールＣ１－Ｃ６アルキル基、ヘテロアリール基上に置換基を有していてもよい５員～１０員ヘテロアリールＣ１－Ｃ６アルキル基、ヘテロシクリル基上に置換基を有していてもよい５員～１０員ヘテロシクリルＣ１－Ｃ６アルキル基、Ｃ３－Ｃ６シクロアルコキシＣ１－Ｃ６アルキル基、ハロＣ１－Ｃ６アルコキシＣ１－Ｃ６アルキル基、保護されたアミノＣ３－Ｃ６アルキル基、保護されたヒドロキシＣ１－Ｃ６アルキル基、またはＣ１－Ｃ６アルコキシＣ１－Ｃ６アルキル基から選択される、（２１）～（３１）のいずれか一項に記載の方法。
（３５）　Ｒ１およびＲ３が、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１－Ｃ６アルキル基、またはアリール基上に置換基を有していてもよいＣ６－Ｃ１０アリールＣ１－Ｃ６アルキル基から選択される、（２３）～（３４）のいずれか一項に記載の方法。
　本発明は、Ｎ－アルキルアミノ酸、およびＮ－アルキルアミノ酸を含むペプチドを選択的なＮ－アルキル化反応により製造することが可能である。また、本発明の一実施形態にかかる製造方法は、既存の製造方法と比較し、精製操作を含む反応操作の簡略化、ワンポット反応による工程の短縮化により、コスト削減が可能であり、安価で大量の医薬品としての有効性成分やその中間体の供給が可能となる。
　特に、Ｎ－アルキル化反応は、一級アルキル基の導入反応に適用可能であることも見出した。さらに、従来は、Ｎ末端の保護基の除去反応とその後のアルキル化反応の二工程を通じて目的物を得ていたところ、本発明の一実施形態によれば、所望のＮ－モノアルキル化体をワンポットで得ることができる。そして、本発明のワンポット反応において、有機酸を添加することにより、脱保護工程におけるジケトピペラジンの生成をさらに抑制し、目的物をより効率よく得ることができる。
　以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。
　本明細書において、「１つ又は複数の」とは、１つ又は２つ以上の数を意味する。「１つ又は複数の」が、ある基の置換基に関連する文脈で用いられる場合、この用語は、１つからその基が許容する置換基の最大数までの数を意味する。「１つ又は複数の」として具体的には、たとえば、１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、及び／又はそれより大きい数が挙げられる。
　本明細書において、範囲を示す「～」とはその両端の値を含み、例えば、「Ａ～Ｂ」は、Ａ以上であり、かつＢ以下である範囲を意味する。
　本明細書において、「約」という用語は、数値と組み合わせて使用される場合、その数値の＋１０％及び－１０％の値範囲を意味する。
　本明細書において、「及び／又は」との用語の意義は、「及び」と「又は」が適宜組み合わされたあらゆる組合せを含む。具体的には、例えば、「Ａ、Ｂ及び／又はＣ」には、以下の７通りのバリエーションが含まれる；（ｉ）Ａ、（ｉｉ）Ｂ、（ｉｉｉ）Ｃ、（ｉｖ）Ａ及びＢ、（ｖ）Ａ及びＣ、（ｖｉ）Ｂ及びＣ、（ｖｉｉ）Ａ、Ｂ及びＣ。
　本明細書における「アミノ酸」には、天然アミノ酸、及び非天然アミノ酸（アミノ酸誘導体ということがある）が含まれる。また本明細書において「アミノ酸」はアミノ酸残基を意味することがある。本明細書における「天然アミノ酸」とは、グリシン（Ｇｌｙ）、アラニン（Ａｌａ）、セリン（Ｓｅｒ）、スレオニン（Ｔｈｒ）、バリン（Ｖａｌ）、ロイシン（Ｌｅｕ）、イソロイシン（Ｉｌｅ）、フェニルアラニン（Ｐｈｅ）、チロシン（Ｔｙｒ）、トリプトファン（Ｔｒｐ）、ヒスチジン（Ｈｉｓ）、グルタミン酸（Ｇｌｕ）、アスパラギン酸（Ａｓｐ）、グルタミン（Ｇｌｎ）、アスパラギン（Ａｓｎ）、システイン（Ｃｙｓ）、メチオニン（Ｍｅｔ）、リジン（Ｌｙｓ）、アルギニン（Ａｒｇ）、プロリン（Ｐｒｏ）を指す。非天然アミノ酸（アミノ酸誘導体）は特に限定されないが、β－アミノ酸、Ｄ型アミノ酸、Ｎ置換アミノ酸、α，α－ジ置換アミノ酸、側鎖が天然アミノ酸と異なるアミノ酸、ヒドロキシカルボン酸などが例示される。本明細書におけるアミノ酸としては、任意の立体配置が許容される。アミノ酸の側鎖の選択は特に制限を設けないが、水素原子の他にも例えばアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アラルキル基、ヘテロアラルキル基、シクロアルキル基、スピロ結合したシクロアルキル基から自由に選択される。それぞれには置換基が付与されていてもよく、それら置換基も制限されず、例えば、ハロゲン原子、Ｏ原子、Ｓ原子、Ｎ原子、Ｂ原子、Ｓｉ原子、又はＰ原子を含む任意の置換基の中から独立して１つ又は２つ以上自由に選択されてよい。すなわち、置換されていてもよいアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アラルキル基、シクロアルキル基など、または、オキソ、アミノカルボニル、ハロゲン原子などが例示される。非限定の一態様において、本明細書におけるアミノ酸は、同一分子内にカルボキシル基とアミノ基を有する化合物であってよい（この場合であっても、プロリン、ヒドロキシプロリンのようなイミノ酸もアミノ酸に含まれる）。
　本明細書においてペプチドを構成する「アミノ酸残基」を単に「アミノ酸」ということがある。
　本明細書における「アミノ酸の側鎖」とは、α－アミノ酸の場合、アミノ基とカルボキシル基が結合した炭素（α－炭素）に結合した原子団を意味する。例えば、Ａｌａのメチル基はアミノ酸の側鎖である。β－アミノ酸の場合、α－炭素、および／またはβ－炭素に結合した原子団がアミノ酸の側鎖となり、γ－アミノ酸の場合、α－炭素、β－炭素、および／またはγ－炭素に結合した原子団がアミノ酸の側鎖となり得る。
　本明細書における「ハロゲン」としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子が例示される。
　本明細書における「アミノ酸」には、それぞれに対応する全ての同位体を含む。「アミノ酸」の同位体は、少なくとも１つの原子が、原子番号（陽子数）が同じで、質量数（陽子と中性子の数の和）が異なる原子で、天然の存在比とは異なる存在比で置換されたものである。本明細書の「アミノ酸」に含まれる同位体の例としては、水素原子、炭素原子、窒素原子、酸素原子、リン原子、硫黄原子、フッ素原子、塩素原子などがあり、それぞれ、２Ｈ、３Ｈ、１３Ｃ、１４Ｃ、１５Ｎ、１７Ｏ、１８Ｏ、３２Ｐ、３５Ｓ、１８Ｆ、３６Ｃｌ等が含まれる。全ての割合の放射性または非放射性の同位元素を含有する本明細書の化合物は、本発明の範囲に包含される。
　本明細書に記載された化合物は、このような化合物を構成する１個以上の原子に、非天然割合の同位体原子を含みうる。化合物中の任意の原子を、原子番号（陽子数）が同じで、質量数（陽子と中性子の数の和）が異なる別の同位体原子で置換することにより、天然中の同位体の存在比とは異なる存在比の同位体で置換した化合物、すなわち同位体原子で標識された化合物も本発明に含まれる。本明細書の化合物に含まれる同位体元素の例としては、水素原子、炭素原子、窒素原子、酸素原子、リン原子、硫黄原子、フッ素原子、塩素原子などがあり、それぞれ、２Ｈ、３Ｈ、１３Ｃ、１４Ｃ、１５Ｎ、１７Ｏ、１８Ｏ、３２Ｐ、３５Ｓ、１８Ｆ、３６Ｃｌ等が含まれる。同位体原子で標識された化合物は、治療または予防剤、研究試薬（例えば、アッセイ試薬）、および診断剤（例えば、インビボ画像診断剤）として有用である。全ての割合の放射性または非放射性の同位体元素を含有する本明細書の化合物は、本発明の範囲に包含される。同位体原子で標識された化合物は、非標識化合物の製造方法と同様の手法で、対応する同位体原子を含む試薬や溶媒を用いることで製造することができる。
　本明細書において「Ｎ－保護アミノ酸」とは、アミノ基が保護された天然または非天然のアミノ酸を意味し、「Ｎ－保護ペプチド」とは、Ｎ末端のアミノ酸残基のアミノ基が保護されたペプチドを意味する。該ペプチドは、天然アミノ酸残基のみから構成されていても、非天然アミノ酸残基のみから構成されていても、天然アミノ酸残基と非天然アミノ酸残基の任意の組合せから構成されていてもよい。
　本明細書における「ペプチド」は、天然アミノ酸および／または非天然アミノ酸が２以上連結された化合物であれば特に限定されない。アミノ酸残基間の結合は、例えばアミド結合のみであってもよく、または、一部がアミド結合でありかつ残りがエステル結合、エーテル結合、チオエーテル結合、スルホキシド結合（－Ｓ（＝Ｏ）－）、スルホン結合（－Ｓ（＝Ｏ）２－）、ジスルフィド結合、炭素－炭素結合または複素環構築による結合などのアミド結合以外の結合であってもよい。アミノ酸残基の結合に関与する基は、アミノ酸の主鎖同士の基、アミノ酸の主鎖と側鎖の基、アミノ酸の側鎖同士の基が例示され、これらの基が前記アミノ酸残基の結合の態様の例示にしたがって結合したものも本明細書の「ペプチド」に含まれる。本明細書では、これらアミノ酸が連結された鎖状の「ペプチド」を「ペプチド鎖」とも呼ぶ。「ペプチド」に含まれるアミノ酸の残基数は、好ましくは５～３０残基、より好ましくは８～１５残基、さらに好ましくは９～１３残基である。本発明において合成されるペプチドは、１つのペプチド中に少なくとも３つのＮ置換アミノ酸を含むことが好ましく、少なくとも５つ以上のＮ置換アミノ酸を含むことがより好ましい。これらのＮ置換アミノ酸は、ペプチド中に連続して存在していても、不連続に存在していてもよい。本発明におけるペプチドは、直鎖状でも環状でもよく、環状ペプチドが好ましい。
　本明細書における「ペプチドの主鎖」、および「環状ペプチドの主鎖」とは、上記「アミノ酸の主鎖」がアミド結合で複数連結することによって形成された構造を意味する。
　本明細書に記載の化合物（ペプチドを含む）は、その塩またはそれらの溶媒和物であることができる。化合物の塩には、例えば、塩酸塩；臭化水素酸塩；ヨウ化水素酸塩；リン酸塩；ホスホン酸塩；硫酸塩；メタンスルホン酸塩、ｐ－トルエンスルホン酸塩などのスルホン酸塩；酢酸塩、クエン酸塩、リンゴ酸塩、酒石酸塩、コハク酸塩、サリチル酸塩などのカルボン酸塩；または、ナトリウム塩、カリウム塩などのアルカリ金属塩；マグネシウム塩、カルシウム塩などのアルカリ土類金属塩；アンモニウム塩、アルキルアンモニウム塩、ジアルキルアンモニウム塩、トリアルキルアンモニウム塩、テトラアルキルアンモニウム塩などのアンモニウム塩などが含まれる。これらの塩は、例えば、化合物と、酸または塩基とを接触させることにより製造される。本明細書において溶媒和物とは、化合物が溶媒とともに、一つの分子集団を形成したものをさし、医薬の投与に付随して摂取が許容される溶媒により形成された溶媒和物であれば特に限定されない。その例としては、水和物、アルコール和物（エタノール和物、メタノール和物、１－プロパノール和物、２－プロノール和物など）、ジメチルスルホキシドなどの単独の溶媒との溶媒和物だけでなく、化合物１分子に対して複数個の溶媒と溶媒和物を形成したもの、または化合物１分子に対して複数種類の溶媒と溶媒和物を形成したものなどが挙げられる。溶媒が水であれば水和物と言う。本発明の化合物の溶媒和物としては、水和物が好ましく、そのような水和物として具体的には１～１０水和物、好ましくは１～５水和物、さらに好ましくは１～３水和物が挙げられる。本発明の化合物の溶媒和物には、水、アルコール（例えば、メタノール、エタノール、１－プロパノール、２－プロパノールなど）、ジメチルホルムアミドなどの単独の溶媒との溶媒和物だけでなく、複数の溶媒との溶媒和物も含まれる。
　本発明に係る化合物がフリー体として得られる場合、当該化合物は、その水和物もしくは溶媒和物の状態に、常法に従って変換することができる。また、本発明に係る化合物がフリー体として得られる場合、当該化合物は、当該化合物が形成してもよい塩またはその水和物もしくは溶媒和物の状態に、常法に従って変換することができる。例えば、式（１）で表される化合物もしくはその塩の水和物、エタノール和物等が挙げられる。具体的には、式（１）で表される化合物の半水和物、１水和物、２水和物、３水和物、４水和物、５水和物、６水和物、７水和物、８水和物、９水和物、１０水和物もしくは１エタノール和物、または式（１）で表される化合物のナトリウム塩の半水和物、１水和物、２水和物、３水和物、４水和物、５水和物、６水和物、７水和物、８水和物、９水和物、１０水和物もしくは１エタノール和物、または式（１）で表される化合物の塩酸塩の水和物もしくはエタノール和物等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。水和物または溶媒和物は、結晶形または非結晶形で製造されてもよく、結晶形の場合、結晶多形をとりうる。水和物または溶媒和物の製造方法として、例えば、式（１）で表される化合物や本明細書に記載のペプチド化合物に、エタノール等の溶媒および／または水を加え、攪拌、冷却、濃縮、および／または乾燥を行うなど、常法によって水和物または溶媒和物を得ることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
　また、本発明に係る化合物が、当該化合物の塩、水和物、または溶媒和物として得られる場合、当該化合物は、そのフリー体に常法に従って変換することができる。
　本明細書に記載の化合物の製造において、定義した基が実施方法の条件下で望まない化学的変換を受けてしまう場合、例えば、官能基の保護、脱保護等の手段を用いることにより、該化合物を製造することができる。ここで保護基の選択および脱着操作は、例えば、「Ｇｒｅｅｎｅ’ｓ，“Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ　Ｇｒｏｕｐｓ　ｉｎ　Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ”（第５版，Ｊｏｈｎ　Ｗｉｌｅｙ　＆　Ｓｏｎｓ　２０１４）」に記載の方法を挙げることができ、これらを反応条件に応じて適宜用いればよい。また、必要に応じて置換基導入等の反応工程の順序を変えることもできる。
　本発明の第一実施形態は、その一局面において、Ｎ－モノアルキルアミノ酸もしくはそのエステルの製造方法であって、水素の存在下、出発アミノ酸もしくはそのエステル、Ｃ１－Ｃ６一級アルキル化剤もしくは置換メチルハライド、および触媒を溶媒中で混合するアルキル化工程を含み、該アルキル化工程が、１気圧以上の圧力下で行われ、かつ、該出発アミノ酸もしくはそのエステルのアミノ基に該Ｃ１－Ｃ６一級アルキル化剤もしくは置換メチルハライドに対応する一級アルキル基が結合したＮ－モノアルキルアミノ酸もしくはそのエステルを生成させる、方法である。
　本発明の別の第一実施形態は、その一局面において、Ｎ－モノアルキルアミノ酸もしくはそのエステルの製造方法であって、出発アミノ酸もしくはそのエステル、Ｃ１－Ｃ６一級アルキル化剤もしくは置換メチルハライド、ヒドリド還元剤および触媒を溶媒中で混合するアルキル化工程を含み、該アルキル化工程が、出発アミノ酸もしくはそのエステルのアミノ基にＣ１－Ｃ６一級アルキル化剤もしくは置換メチルハライドに対応する一級アルキル基が結合したＮ－モノアルキルアミノ酸もしくはそのエステルまたは前記Ｎ－モノアルキルアミノ酸を含むペプチドもしくはそのエステルを生成させる、方法である。
　本実施形態に係る方法により、Ｎ－モノアルキルアミノ酸またはそのエステル、塩もしくは溶媒和物を効率的に得ることができる。
　本実施形態に係るアルキル化工程は、式Ａで表されるアミノ酸またはそのエステル（出発アミノ酸Ａともいう。）を選択的にＮ－モノアルキル化することにより、式Ｃで表されるＮ－モノアルキルアミノ酸またはそのエステルを得る方法と、式Ｂで表されるＮ－保護アミノ酸またはそのエステル（出発アミノ酸Ｂともいう。）の脱保護反応とＮ－アルキル化反応をワンポットで行うことにより、式Ｃで表されるＮ－モノアルキルアミノ酸またはそのエステルを得る方法を包含する。以下に、本実施形態に係る方法の概要を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
　出発アミノ酸ＡおよびＢは、遊離体の形態で使用してもよく、対応する塩または溶媒和物の形態で使用してもよい。
　上記の化学式中、Ｒ１はアミノ酸の側鎖を表わし、ＰＧ１はアミノ基の保護基を表わし、Ｒ２は水素原子またはカルボキシル基の保護基を表わす。カルボキシル基の保護基は、例えば、Ｃ１－Ｃ６アルキル基である。便宜上、上記の反応式では、出発アミノ酸ＡおよびＢをα－アミノ酸の形態で例示しているが、β－アミノ酸またはγ－アミノ酸であってもよい。また、上記の反応式において、アミノ酸の側鎖Ｒ１は、好ましくは、アルキル化工程の条件によりアルキル化反応または還元反応などにより、意図しない構造変換を受けうる官能基を有しない。Ｒ１がアルキル化工程の条件により意図しない構造変換を受けうる官能基を有する場合には、該官能基にあらかじめ保護基を導入してからアルキル化工程を行うことで、目的物を製造することができる。
　Ｒ１は、例えば、水素原子、Ｃ１－Ｃ６アルキル基、ハロＣ１－Ｃ６アルキル基、Ｃ３－Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ３－Ｃ６シクロアルキルＣ１－Ｃ６アルキル基、カルボキシＣ１－Ｃ６アルキル基、アリール上に置換基を有していてもよいＣ６－Ｃ１０アリールＣ１－Ｃ６アルキル基、ヘテロアリール上に置換基を有していてもよい５～１０員ヘテロアリールＣ１－Ｃ６アルキル基、ヘテロシクリル上に置換基を有していてもよい５～１０員ヘテロシクリルＣ１－Ｃ６アルキル基、Ｃ３－Ｃ６シクロアルコキシＣ１－Ｃ６アルキル基、ハロＣ１－Ｃ６アルコキシＣ１－Ｃ６アルキル基、保護されたアミノＣ３－Ｃ６アルキル基、保護されたヒドロキシＣ１－Ｃ６アルキル基、またはＣ１－Ｃ６アルコキシＣ１－Ｃ６アルキル基から選択される。
　本明細書において「アルキル」とは、脂肪族炭化水素から任意の水素原子を１個除いて誘導される１価の基であり、骨格中にヘテロ原子（炭素及び水素原子以外の原子をいう。）または不飽和の炭素－炭素結合を含有せず、水素及び炭素原子を含有するヒドロカルビルまたは炭化水素基構造の部分集合を有する。アルキルは直鎖状のものだけでなく、分枝鎖状のものも含む。Ｃ１－Ｃ６アルキルとして、具体的には、メチル、エチル、ｎ－プロピル、ｉ－プロピル、ｎ－ブチル、ｓ－ブチル、ｔ－ブチル、イソブチル（２－メチルプロピル）、ｎ－ペンチル、ｓ－ペンチル（１－メチルブチル）、ｔ－ペンチル（１，１－ジメチルプロピル）、ネオペンチル（２，２－ジメチルプロピル）、イソペンチル（３－メチルブチル）、３－ペンチル（１－エチルプロピル）、１，２－ジメチルプロピル、２－メチルブチル、ｎ－ヘキシル、１，１，２－トリメチルプロピル、１，２，２－トリメチルプロピル、１，１－ジメチルブチル、１，２－ジメチルブチル、１，３－ジメチルブチル、２，２－ジメチルブチル、２，３－ジメチルブチル、３，３－ジメチルブチル、１－エチルブチル、２－エチルブチル等が挙げられる。
　アミノ酸の側鎖（Ｒ１またはＲ３）がＣ１－Ｃ６アルキル基であるアミノ酸としては、たとえば、アラニン（Ａｌａ）、イソロイシン（Ｉｌｅ）、ロイシン（Ｌｅｕ）、バリン（Ｖａｌ）、２－アミノブタン酸（Ａｂｕ）、ノルバリン（Ｎｖａ）、ノルロイシン（Ｎｌｅ）、ｔｅｒｔ－ロイシン（Ｔｌｅ）が挙げられる。
　本明細書における「ハロアルキル」とは、前記定義の「アルキル」の１つまたは複数の水素がハロゲンで置換された基を意味する。ハロアルキルとして、ハロＣ１－Ｃ６アルキルが好ましく、フルオロＣ１－Ｃ６アルキルがより好ましい。ハロＣ１－Ｃ６アルキルとして具体的には、たとえば、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、２，２－ジフルオロエチル、２，２，２－トリフルオロエチル、３，３－ジフルオロプロピル、４，４－ジフルオロブチル、５，５－ジフルオロペンチルなどが挙げられる。
　アミノ酸の側鎖（Ｒ１またはＲ３）がハロＣ１－Ｃ６アルキル基であるアミノ酸としては、たとえば、５－ジフルオロノルバリン（Ｎｖａ（５－Ｆ２））、２－アミノ－４－トリフルオロブタン酸（Ａｂｕ（４－Ｆ３））が挙げられる。
　本明細書において「シクロアルキル」とは、飽和または部分的に飽和した環状の１価の脂肪族炭化水素基を意味し、単環、ビシクロ環、スピロ環を含む。シクロアルキルとして好ましくはＣ３－Ｃ６シクロアルキルが挙げられる。Ｃ３－Ｃ６シクロアルキルとして、具体的には、たとえば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。
　アミノ酸の側鎖（Ｒ１またはＲ３）がＣ３－Ｃ６シクロアルキル基であるアミノ酸としては、たとえば、α－シクロプロピルグリシン（Ｇｌｙ（ｃＰｒ））、α－シクロブチルグリシン（Ｇｌｙ（ｃＢｕ））、α－シクロペンチルグリシン（Ｇｌｙ（ｃＰｅｎｔ））、α－シクロヘキシルグリシン（Ｃｈｇ）が挙げられる。
　本明細書における「シクロアルキルアルキル」とは、前記定義の「アルキル」の１つまたは複数の水素が前記定義の「シクロアルキル」で置換された基を意味する。Ｃ３－Ｃ６シクロアルキルＣ１－Ｃ６アルキルとして具体的には、たとえば、シクロプロピルメチル、シクロブチルメチル、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチルなどが挙げられる。
　本明細書における「カルボキシアルキル」とは、前記定義の「アルキル」の１つまたは複数の水素がカルボキシで置換された基を意味する。カルボキシＣ１－Ｃ６アルキルとして具体的には、たとえば、カルボキシメチルなどが挙げられる。
　本明細書において「アリール」とは１価の芳香族炭化水素環、および芳香族炭化水素環基を意味する。アリールとして好ましくはＣ６－Ｃ１０アリールが挙げられる。具体的には、たとえば、フェニル、ナフチル（たとえば、１－ナフチル、２－ナフチル）などが挙げられる。
　本明細書において「アリールアルキル（アラルキル）」とは、前記定義の「アルキル」の少なくとも一つの水素原子が前記定義の「アリール」で置換された基を意味する。アリールアルキルとして、Ｃ６－Ｃ１０アリールＣ１－Ｃ６アルキルが好ましい。Ｃ６－Ｃ１０アリールＣ１－Ｃ６アルキルとして、具体的には、たとえば、ベンジル、フェネチル、３－フェニルプロピルなどが挙げられる。
　アミノ酸の側鎖（Ｒ１またはＲ３）がアリール上に置換基を有していてもよいＣ６－Ｃ１０アリールＣ１－Ｃ６アルキル基であるアミノ酸としては、たとえば、フェニルアラニン（Ｐｈｅ）、４－メチルフェニルアラニン（Ｐｈｅ（４－Ｍｅ））、４－トリフルオロメチル‐３，５－ジフルオロホモフェニルアラニン（Ｈｐｈ（４－ＣＦ３－３５－Ｆ２））が挙げられる。
　本明細書において「ヘテロアリール」とは、炭素原子に加えて１～５個のヘテロ原子を含有する、芳香族性の環状の１価の基、および芳香族複素環基を意味する。環は単環でも、他の環との縮合環でもよく、部分的に飽和されていてもよい。ヘテロアリールの環を構成する原子の数は好ましくは５～１０（５～１０員ヘテロアリール）であり、より好ましくは５～７（５～７員ヘテロアリール）である。ヘテロアリールとして具体的には、たとえば、フリル、チエニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、オキサジアゾリル、チアジアゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、ピリジル、ピリミジル、ピリダジニル、ピラジニル、トリアジニル、ベンゾフラニル、ベンゾチエニル、ベンゾチアジアゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾオキサジアゾリル、ベンゾイミダゾリル、ベンゾトリアゾリル、インドリル、イソインドリル、インダゾリル、アザインドリル、キノリル、イソキノリル、シンノリニル、キナゾリニル、キノキサリニル、ベンゾジオキソリル、インドリジニル、イミダゾピリジル、ピラゾロピリジル、イミダゾピリジル、トリアゾロピリジル、ピロロピラジニル、フロピリジルなどが挙げられる。
　本明細書において「ヘテロアリールアルキル」とは、前記定義の「アルキル」の少なくとも一つの水素原子が前記定義の「ヘテロアリール」で置換された基を意味する。ヘテロアリールアルキルとして、５～１０員ヘテロアリールＣ１－Ｃ６アルキルが好ましく、５～１０員ヘテロアリールＣ１－Ｃ２アルキルがより好ましい。５員～１０員ヘテロアリールＣ１－Ｃ６アルキルとして具体的には、たとえば、３－チエニルメチル、４－チアゾリルメチル、２－ピリジルメチル、３－ピリジルメチル、４－ピリジルメチル、２－（２－ピリジル）エチル、２－（３－ピリジル）エチル、２－（４－ピリジル）エチル、２－（６－キノリル）エチル、２－（７－キノリル）エチル、２－（６－インドリル）エチル、２－（５－インドリル）エチル、２－（５－ベンゾフラニル）エチルなどが挙げられる。
　アミノ酸の側鎖（Ｒ１またはＲ３）がヘテロアリール上に置換基を有していてもよい５～１０員ヘテロアリールＣ１－Ｃ６アルキル基であるアミノ酸としては、たとえば、２－アミノ－４－（ピリジン－２－イル）－ブタン酸（Ａｂｕ（４－Ｐｙｒ））、３－（６－トリフルオロメチルピリジン－３－イル）アラニン（Ａｌａ（３－Ｐｙｒ－４－ＣＦ３））が挙げられる。
　本明細書において「ヘテロシクリル」とは、炭素原子に加えて１～５個のヘテロ原子を含有する、非芳香族の環状の１価の基、および複素環基を意味する。ヘテロシクリルは、飽和複素環でも、環中に二重およびまたは三重結合を有していてもよく、環中の炭素原子は酸化されてカルボニルを形成してもよく、単環でも縮合環でもよい。縮合環の場合は、ベンゼン環、ピリジン環、ピリミジン環などの芳香環と縮合環を形成してもよい。シクロペンタン環、シクロヘキサン環などの飽和脂環式環、テトラヒドロピラン環、ジオキサン環、ピロリジン環などの飽和複素環と縮合環を形成してもよい。
　ヘテロシクリルの環を構成する原子の数は、好ましくは４～１０（４～１０員ヘテロシクリル）であり、より好ましくは４～７（４～７員ヘテロシクリル）である。ヘテロシクリルとしては具体的には、たとえば、アゼチジニル、オキソアゼチジニル、オキシラニル、オキセタニル、アゼチジニル、ジヒドロフリル、テトラヒドロフリル、ジヒドロピラニル、テトラヒドロピラニル、テトラヒドロピリジル、テトラヒドロピリミジル、モルホリニル、チオモルホリニル、ピロリジニル、オキソピロリジニル、ピペリジニル、ピペラジニル、ピラゾリジニル、イミダゾリニル、イミダゾリジニル、オキサゾリジニル、イソオキサゾリジニル、チアゾリジニル、イソチアゾリジニル、１，２－チアジナン、チアジアゾリジニル、オキサゾリドン、ベンゾジオキサニル、ベンゾオキサゾリル、ジオキソラニル、ジオキサニル、テトラヒドロピロロ[１,２－ｃ]イミダゾール、チエタニル、３，６－ジアザビシクロ［３．１．１］ヘプタニル、２，５－ジアザビシクロ［２．２．１］ヘプタニル、３－オキサ－８－アザビシクロ[３．２．１]オクタニル、スルタム、２－オキサスピロ[３．３]ヘプチル、６，７－ジヒドロ－ピロロ［１，２－ａ］イミダゾリル、４，５，６，７－テトラヒドロピラゾロ［１，５－ａ］ピラジニル、アゼパニル、ジオキセパニル、５，９－ジオキサスピロ［３．５］ノナニルなどが挙げられる。
　本明細書における「ヘテロシクリルアルキル」とは、前記定義の「アルキル」の１つまたは複数の水素が前記定義の「ヘテロシクリル」で置換された基を意味する。ヘテロシクリルアルキルとして、５～１０員ヘテロシクリルＣ１－Ｃ６アルキルが好ましく、４～７員ヘテロシクリルＣ１－Ｃ６アルキルがより好ましく、４～７員ヘテロシクリルＣ１－Ｃ２アルキルがさらに好ましい。５～１０員ヘテロシクリルＣ１－Ｃ６アルキルとして具体的には、たとえば、２－（テトラヒドロ－２Ｈ－ピラン－４－イル）エチル、２－（アゼチジン－３－イル）エチル、４－（オキソラン－２－イルメチル）ピペラジン－１－イル、２－（１－ピペリジル）エチル、３－（１－ピペリジル）プロピルなどが挙げられる。
　本明細書において「シクロアルコキシ」とは、前記定義の「シクロアルキル」が結合したオキシ基を意味する。シクロアルコキシとして、好ましくはＣ３－Ｃ８シクロアルコキシが挙げられる。シクロアルコキシとして具体的には、たとえば、シクロプロポキシ、シクロブトキシ、シクロペンチルオキシなどが挙げられる。
　本明細書における「シクロアルコキシアルキル」とは、前記定義の「アルキル」の１つまたは複数の水素が前記定義の「シクロアルコキシ」で置換された基を意味する。シクロアルコキシアルキルとして、Ｃ３－Ｃ８シクロアルコキシＣ１－Ｃ６アルキルが好ましく、Ｃ３－Ｃ６シクロアルコキシＣ１－Ｃ６アルキルがより好ましく、Ｃ３－Ｃ６シクロアルコキシＣ１－Ｃ２アルキルがより好ましい。Ｃ３－Ｃ６シクロアルコキシＣ１－Ｃ６アルキルとして具体的には、たとえば、シクロプロポキシメチル、シクロブトキシメチルなどが挙げられる。
　本明細書において「アルコキシ」とは、前記定義の「アルキル」が結合したオキシ基を意味する。アルコキシとして、好ましくはＣ１－Ｃ６アルコキシが挙げられる。アルコキシとして具体的には、たとえば、メトキシ、エトキシ、１－プロポキシ、２－プロポキシ、ｎ－ブトキシ、ｉ－ブトキシ、ｓ－ブトキシ、ｔ－ブトキシ、ペンチルオキシ、３－メチルブトキシなどが挙げられる。
　本明細書における「アルコキシアルキル」とは、前記定義の「アルキル」の１つまたは複数の水素が前記定義の「アルコキシ」で置換された基を意味する。アルコキシアルキルとして、Ｃ１－Ｃ６アルコキシＣ１－Ｃ６アルキルが好ましく、Ｃ１－Ｃ６アルコキシＣ１－Ｃ２アルキルがより好ましい。Ｃ１－Ｃ６アルコキシＣ１－Ｃ６アルキルとして具体的には、たとえば、メトキシメチル、エトキシメチル、１－プロポキシメチル、２－プロポキシメチル、ｎ－ブトキシメチル、ｉ－ブトキシメチル、ｓ－ブトキシメチル、ｔ－ブトキシメチル、ペンチルオキシメチル、３－メチルブトキシメチル、１－メトキシエチル、２－メトキシエチル、２－エトキシエチルなどが挙げられる。
　本明細書における「ハロアルコキシ」とは、前記定義の「アルコキシ」の１つまたは複数の水素がハロゲンで置換された基を意味する。ハロアルコキシとして、ハロＣ１－Ｃ６アルコキシが好ましく、フルオロＣ１－Ｃ６アルコキシがより好ましい。
　本明細書における「ハロアルコキシアルキル」とは、前記定義の「アルキル」の１つまたは複数の水素が前記定義の「ハロアルコキシ」で置換された基を意味する。ハロアルコキシアルキルとして、好ましくはハロＣ１－Ｃ６アルコキシＣ１－Ｃ６アルキルが挙げられる。ハロＣ１－Ｃ６アルコキシＣ１－Ｃ６アルキルとして具体的には、たとえば、ジフルオロメトキシメチル、トリフルオロメトキシメチル、２，２－ジフルオロエトキシメチル、２，２，２－トリフルオロエトキシメチル、３，３－ジフルオロプロポキシメチル、４，４－ジフルオロブトキシメチル、５，５－ジフルオロペントキシメチルなどが挙げられる。
　上記Ｃ６－Ｃ１０アリールＣ１－Ｃ６アルキルのアリール、上記５～１０員ヘテロアリールＣ１－Ｃ６アルキルのヘテロアリール、および上記５～１０員ヘテロシクリルＣ１－Ｃ６アルキルのヘテロシクリルは、さらに置換基で置換されていてもよい。
　本明細書において「置換されていてもよい」とは、ある基が任意の置換基によって置換されていてもよいことを意味する。さらにこれらそれぞれに置換基が付与されていてもよく、それら置換基も制限されず、例えば、ハロゲン原子、酸素原子、硫黄原子、窒素原子、ホウ素原子、ケイ素原子、又はリン原子を含む任意の置換基の中から独立して１つ又は２つ以上自由に選択されてよい。
　その置換基としては、例えば、アルキル、アルコキシ、フルオロアルキル、フルオロアルコキシ、オキソ、アミノカルボニル、アルキルスルホニル、アルキルスルホニルアミノ、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、ハロゲン、ニトロ、アミノ、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、シアノ、カルボキシル、アルコキシカルボニル、ホルミルなどが例示される。
　本明細書における「アミノアルキル」とは、前記定義の「アルキル」の１つまたは複数の水素が前記定義の「アミノ」で置換された基を意味する。アミノアルキルとして、アミノＣ３－Ｃ６アルキルが好ましい。アミノアルキルとして具体的には、たとえば、アミノメチル、アミノエチル、４－アミノブチル、メチルアミノメチル、ジメチルアミノメチル、メチルアミノエチル、ジメチルアミノエチル、などが挙げられる。
　本明細書における「ヒドロキシアルキル」とは、前記定義の「アルキル」の１つ、または複数の水素が水酸基で置換された基を意味する。ヒドロキシアルキルとして、好ましくはヒドロキシＣ１－Ｃ６アルキルが挙げられる。ヒドロキシＣ１－Ｃ６アルキルとして具体的には、たとえば、ヒドロキシメチル、１－ヒドロキシエチル、２－ヒドロキシエチル、２－ヒドロキシ－２－メチルプロピル、５－ヒドロキシペンチルなどが挙げられる。
　本明細書における「ハロゲン由来の置換基」とは、フルオロ（－Ｆ）、クロロ（－Ｃｌ）、ブロモ（－Ｂｒ）、ヨウド（－Ｉ）などが挙げられる。
　本明細書における「酸素原子由来の置換基」として、ヒドロキシ（－ＯＨ）、オキシ（－ＯＲ）、カルボニル（－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ）、カルボキシル（－ＣＯ２Ｈ）、オキシカルボニル（－Ｃ＝Ｏ－ＯＲ）、カルボニルオキシ（－Ｏ－Ｃ＝Ｏ－Ｒ）、チオカルボニル（－Ｃ（＝Ｏ）－ＳＲ）、カルボニルチオ基（－Ｓ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ）、アミノカルボニル（－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨＲ）、カルボニルアミノ（－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ）、オキシカルボニルアミノ（－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲ）、スルホニルアミノ（－ＮＨ－ＳＯ２－Ｒ）、アミノスルホニル（－ＳＯ２－ＮＨＲ）、スルファモイルアミノ（－ＮＨ－ＳＯ２－ＮＨＲ）、チオカルボキシル（－Ｃ（＝Ｏ）－ＳＨ）、カルボキシルカルボニル（－Ｃ（＝Ｏ）－ＣＯ２Ｈ）が例示される。
　オキシ（－ＯＲ）の例としては、アルコキシ、シクロアルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アラルキルオキシなどが挙げられる。
　カルボニル（－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ）の例としては、ホルミル（－Ｃ（＝Ｏ）－Ｈ）、アルキルカルボニル、シクロアルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アラルキルカルボニルなどが挙げられる。
　オキシカルボニル（－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲ）の例としては、アルキルオキシカルボニル、シクロアルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ヘテロアリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニルなどが挙げられる。
　カルボニルオキシ（－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ）の例としては、アルキルカルボニルオキシ、シクロアルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アリールカルボニルオキシ、ヘテロアリールカルボニルオキシ、アラルキルカルボニルオキシなどが挙げられる。
　チオカルボニル（－Ｃ（＝Ｏ）－ＳＲ）の例としては、アルキルチオカルボニル、シクロアルキルチオカルボニル、アルケニルチオカルボニル、アルキニルチオカルボニル、アリールチオカルボニル、ヘテロアリールチオカルボニル、アラルキルチオカルボニルなどが挙げられる。
　カルボニルチオ（－Ｓ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ）の例としては、アルキルカルボニルチオ、シクロアルキルカルボニルチオ、アルケニルカルボニルチオ、アルキニルカルボニルチオ、アリールカルボニルチオ、ヘテロアリールカルボニルチオ、アラルキルカルボニルチオなどが挙げられる。
　アミノカルボニル（－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨＲ）の例としては、アルキルアミノカルボニル、シクロアルキルアミノカルボニル、アルケニルアミノカルボニル、アルキニルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニル、ヘテロアリールアミノカルボニル、アラルキルアミノカルボニルなどが挙げられる。これらに加えて、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨＲ中のＮ原子と結合したＨ原子が、アルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリール、アラルキルでさらに置換された基が挙げられる。
　カルボニルアミノ（－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ）の例としては、アルキルカルボニルアミノ、シクロアルキルカルボニルアミノ、アルケニルカルボニルアミノ、アルキニルカルボニルアミノ、アリールカルボニルアミノ、ヘテロアリールカルボニルアミノ、アラルキルカルボニルアミノなどが挙げられる。これらに加えて－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ中のＮ原子と結合したＨ原子が、アルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリール、アラルキルでさらに置換された基が挙げられる。
　オキシカルボニルアミノ（－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲ）の例としては、アルコキシカルボニルアミノ、シクロアルコキシカルボニルアミノ、アルケニルオキシカルボニルアミノ、アルキニルオキシカルボニルアミノ、アリールオキシカルボニルアミノ、ヘテロアリールオキシカルボニルアミノ、アラルキルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる。これらに加えて、－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲ中のＮ原子と結合したＨ原子がアルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリール、アラルキルでさらに置換された基が挙げられる。
　スルホニルアミノ（－ＮＨ－ＳＯ２－Ｒ）の例としては、アルキルスルホニルアミノ、シクロアルキルスルホニルアミノ、アルケニルスルホニルアミノ、アルキニルスルホニルアミノ、アリールスルホニルアミノ、ヘテロアリールスルホニルアミノ、アラルキルスルホニルアミノなどが挙げられる。これらに加えて、－ＮＨ－ＳＯ２－Ｒ中のＮ原子と結合したＨ原子がアルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリール、アラルキルでさらに置換された基が挙げられる。
　アミノスルホニル（－ＳＯ２－ＮＨＲ）の例としては、アルキルアミノスルホニル、シクロアルキルアミノスルホニル、アルケニルアミノスルホニル、アルキニルアミノスルホニル、アリールアミノスルホニル、ヘテロアリールアミノスルホニル、アラルキルアミノスルホニルなどが挙げられる。これらに加えて、－ＳＯ２－ＮＨＲ中のＮ原子と結合したＨ原子がアルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリール、アラルキルでさらに置換された基が挙げられる。
　スルファモイルアミノ（－ＮＨ－ＳＯ２－ＮＨＲ）の例としては、アルキルスルファモイルアミノ、シクロアルキルスルファモイルアミノ、アルケニルスルファモイルアミノ、アルキニルスルファモイルアミノ、アリールスルファモイルアミノ、ヘテロアリールスルファモイルアミノ、アラルキルスルファモイルアミノなどが挙げられる。さらに、－ＮＨ－ＳＯ２－ＮＨＲ中のＮ原子と結合した２つのＨ原子はアルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリール、およびアラルキルからなる群より独立して選択される置換基で置換されていてもよく、またこれらの２つの置換基は環を形成しても良い。
　本明細書における「窒素原子由来の置換基」として、アジド（－Ｎ３、「アジド基」ともいう）、シアノ（－ＣＮ）、１級アミノ（－ＮＨ２）、２級アミノ（－ＮＨ－Ｒ）、３級アミノ（－ＮＲ（Ｒ’））、アミジノ（－Ｃ（＝ＮＨ）－ＮＨ２）、置換アミジノ（－Ｃ（＝ＮＲ）－ＮＲ’Ｒ’’）、グアニジノ（－ＮＨ－Ｃ（＝ＮＨ）－ＮＨ２）、置換グアニジノ（－ＮＲ－Ｃ（＝ＮＲ’’’）－ＮＲ’Ｒ’’）、アミノカルボニルアミノ（－ＮＲ－ＣＯ－ＮＲ’Ｒ’’）が例示される。
　２級アミノ（－ＮＨ－Ｒ）の例としては、アルキルアミノ、シクロアルキルアミノ、アルケニルアミノ、アルキニルアミノ、アリールアミノ、ヘテロアリールアミノ、アラルキルアミノなどが挙げられる。
　３級アミノ（－ＮＲ（Ｒ’））の例としては、例えばアルキル（アラルキル）アミノなど、アルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリール、アラルキルなどの中からそれぞれ独立して選択される、任意の２つの置換基を有するアミノ基が挙げられ、これらの任意の２つの置換基は環を形成しても良い。
　置換アミジノ（－Ｃ（＝ＮＲ）－ＮＲ’Ｒ’’）の例としては、Ｎ原子上の３つの置換基Ｒ、Ｒ’、およびＲ’’が、アルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリール、アラルキルの中からそれぞれ独立して選択された基、例えばアルキル（アラルキル）（アリール）アミジノなどが挙げられる。
　置換グアニジノ（－ＮＲ－Ｃ（＝ＮＲ’’’）－ＮＲ’Ｒ’’）の例としては、Ｒ、Ｒ’、Ｒ’’、およびＲ’’’が、アルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリール、アラルキルの中からそれぞれ独立して選択された基、あるいはこれらが環を形成した基などが挙げられる。
　アミノカルボニルアミノ（－ＮＲ－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ’Ｒ’’）の例としては、Ｒ、Ｒ’、およびＲ’’が、水素原子、アルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリール、アラルキルの中からそれぞれ独立して選択された基、あるいはこれらは環を形成した基などが挙げられる。
　本明細書における「硫黄原子由来の置換基」として、チオール（－ＳＨ）、チオ（－Ｓ－Ｒ）、スルフィニル（－Ｓ（＝Ｏ）－Ｒ）、スルホニル（－Ｓ（＝Ｏ）２－Ｒ）、スルホ（－ＳＯ３Ｈ）、ペンタフルオロスルファニル（－ＳＦ５）が例示される。
　チオ（－Ｓ－Ｒ）の例としては、アルキルチオ、シクロアルキルチオ、アルケニルチオ、アルキニルチオ、アリールチオ、ヘテロアリールチオ、アラルキルチオなどの中から選択される。
　スルフィニル（－Ｓ（＝Ｏ）－Ｒ）の例としては、アルキルスルフィニル、シクロアルキルスルフィニル、アルケニルスルフィニル、アルキニルスルフィニル、アリールスルフィニル、ヘテロアリールスルフィニル、アラルキルスルフィニルなどが挙げられる。
　スルホニル（－Ｓ（＝Ｏ）２－Ｒ）の例としては、アルキルスルホニル、シクロアルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、アリールスルホニル、ヘテロアリールスルホニル、アラルキルスルホニルなどが挙げられる。
　本明細書における「ホウ素原子由来の置換基」は、ボリル（－ＢＲ（Ｒ’））、ジオキシボリル（－Ｂ（ＯＲ）（ＯＲ’））、およびトリフルオロボレート塩（－ＢＦ３ －）などが例示される。具体的には、これらの２つの置換基ＲおよびＲ’が、アルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリール、アラルキルなどの中からそれぞれ独立して選択される置換基である「ホウ素原子由来の置換基」であるか、あるいはこれら２つの置換基ＲおよびＲ’が、ＲおよびＲ’がそれぞれ結合している原子と一緒になって環を形成した「ホウ素原子由来の置換基」、即ち環状ボリル基が例示される。
　好ましい「ホウ素原子由来の置換基」は、環状ボリル基が例示される。
　環状ボリル基として、より具体的には、ピナコラートボリル基、ネオペンタンジオラートボリル基、カテコラートボリル基、９－ボラビシクロ［３．３．１］ノナン－９－イル基などが挙げられる。
　本明細書において「保護されていてもよい」とは、ある基が任意の保護基によって保護されていてもよいことを意味する。
　本明細書における「アミノ基の保護基」には、カルバメート型の保護基、アミド型の保護基、アリールスルホンアミド型の保護基、アルキルアミン型の保護基、イミド型の保護基などが挙げられる。具体的には、９－フルオレニルメトキシカルボニル（Ｆｍｏｃ）基、ｔ－ブトキシカルボニル（Ｂｏｃ）基、アリルオキシカルボニル（Ａｌｌｏｃ）基、ベンジルオキシカルボニル（Ｃｂｚ）基、トリエチルシリルオキシカルボニル（Ｔｅｏｃ）基、トリフルオロアセチル基、ペンタフルオロプロピオニル基、フタロイル基、ベンゼンスルホニル基、トシル基、ノシル基、ジニトロノシル基、ｔ－ブチル基、トリチル基、クミル基、ベンジリデン基、４－メトキシベンジリデン基、ジフェニルメチリデン基などが例示される。
　本明細書において「ヒドロキシの保護基」には、アルキルエーテル型の保護基、アラルキルエーテル型の保護基、シリルエーテル型、炭酸エステル型の保護基などが挙げられる。ヒドロキシの保護基として具体的には、メトキシメチル基、ベンジルオキシメチル基、テトラヒドロピラニル基、ｔ－ブチル基、アリル基、２，２，２－トリクロロエチル基、ベンジル基、４－メトキシベンジル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔ－ブチルジメチルシリル基、ｔ－ブチルジフェニルシリル基、メトキシカルボニル基、９－フルオレニルメトキシカルボニル（Ｆｍｏｃ）基、２，２，２－トリクロロエトキシカルボニル基などが例示される。
　保護基の選択および脱着操作は、当業者であれば適宜行うことができる。保護基の選択および脱着操作は、例えば、「Ｇｒｅｅｎｅ’ｓ，“Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ　Ｇｒｏｕｐｓ　ｉｎ　Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ”（第５版，Ｊｏｈｎ　Ｗｉｌｅｙ　＆　Ｓｏｎｓ　２０１４）」に記載の方法を参照し、反応条件に応じて適宜採用すればよい。
　化合物の構造変換反応は、当業者であれば適宜行うことができる。例えば、Ｍａｒｃｈ’ｓ　Ａｄｖａｎｃｅｄ　Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ：　Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ，　Ｍｅｃｈａｎｉｓｍｓ，　ａｎｄ　Ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ（第８版、Ｊｏｈｎ　Ｗｉｌｅｙ　＆　Ｓｏｎｓ，　Ｉｎｃ．　２０１９年）やＲ．　Ｃ．　Ｌａｒｏｃｈ著、Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ　Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｔｒａｎｓｆｏｒｍａｔｉｏｎｓ（第３版、Ｊｏｈｎ　Ｗｉｌｅｙ　＆　Ｓｏｎｓ，　Ｉｎｃ．　２０１８年）に記載の方法を参照し、反応条件に応じて適宜採用すればよい。
　Ｃ１－Ｃ６一級アルキル化剤は、１～６個の炭素原子を有し、ホルミル基またはシアノ基がＣ１－Ｃ５アルキル基に結合したアルキル化剤であればよく、好ましくはＣ１－Ｃ５アルデヒドまたはＣ１－Ｃ５アルキルニトリルが例示される。Ｃ１－Ｃ５アルデヒドの具体例は、アセトアルデヒド、プロパナール、１－ブタナール、１－ペンタナール、３－メチルブタナール、１－ヘキサナール、４－メチルペンタナール、および３，３－ジメチルブタナールである。Ｃ１－Ｃ５アルキルニトリルの具体例は、アセトニトリル、プロピオニトリル、ｎ－ブチロニトリル、ｎ－ペンチルニトリル（１－シアノペンタン）、３－メチルブチロニトリル、バレロニトリル（１－シアノブタン）、イソバレロニトリル（１－シアノ－２－メチルプロパン）が挙げられる。
　本明細書において、「置換メチルハライド」とは、メチルハライド（ハロゲン化メチル）の炭素上の水素の１つが、他の原子あるいは官能基で置換されたメチルハライドを意味する。置換メチルハライドとして、アルコキシメチルハライド、アルコキシアルコキシメチルハライド、トリアルキルシリルアルコキシメチルハライドが例示される。好ましくは、置換メチルクロリドが例示される。置換メチルクロリドの具体例は、ＭＯＭ－Ｃｌ（メトキシメチルクロリド）、ＥＯＭ－Ｃｌ（エトキシメチルクロリド）、ＭＥＭ－Ｃｌ（２－メトキシエトキシメチルクロリド）、ＳＥＭ－Ｃｌ（２―（トリメチルシリル）エトキシメチルクロリド）が挙げられる。
　Ｃ１－Ｃ６一級アルキル化剤または置換メチルハライドの使用量は、出発アミノ酸またはそのエステル１モルに対して、１．０～２０．０モルの範囲、１．５～１５．０モルの範囲、２．０～１０．０モルの範囲、または２．５～５．０モルの範囲であってよい。
　ヒドリド還元剤は、基質に対してヒドリド（Ｈ－）を供与し、カルボニル基やニトリル基などを還元させるものであればよい。ヒドリド還元剤は、ケイ素を含むヒドリド還元剤が好ましく、トリアルキルシランがより好ましく、トリエチルシランが最も好ましい。
　ヒドリド還元剤の使用量は、出発アミノ酸またはそのエステル、もしくは出発ペプチドまたはそのエステル１モルに対して、１．０～２０．０モルの範囲、１．０～１５．０モルの範囲、１．０～１０．０モルの範囲、または１．２～５．０モルの範囲であってよい。
　触媒は、一級アミノ基のアルキル化を促進し、反応速度を向上させるものであればよい。触媒は、遷移金属を含む不均一系水素化触媒が好ましく、適当な担体に担持された遷移金属がより好ましい。遷移金属は、好ましくは、Ｐｄ、ＲｈおよびＰｔからなる群から選択される少なくとも１つを含む。担体に担持された遷移金属を含む触媒の具体例としては、パラジウム炭素（Ｐｄ－Ｃ）、水酸化パラジウム炭素（Ｐｄ（ＯＨ）２－Ｃ）、ロジウム炭素（Ｒｈ－Ｃ）、およびアダムス触媒が挙げられる。触媒が担体に担持された遷移金属を含むと、取り扱いやすく、より簡便な条件で反応を実施できる。
　触媒の使用量は、出発アミノ酸またはそのエステル、もしくは出発ペプチドまたはそのエステル１モルに対して、０．００１～０．５モルの範囲、０．００５～０．４モルの範囲、０．０１～０．４モルの範囲、または０．０３～０．１の範囲モルであってよい。
　上記工程は、密閉された反応容器内で行われる。上記工程において、反応容器内の気相は、水素ガスのみで構成されていてもよく、所望の反応を抑制しない範囲で不活性ガスが混じっていてもよい。反応容器内の水素ガスの圧力（分圧）は、１気圧以上、１気圧以上１０気圧以下の範囲、１気圧以上７気圧以下の範囲、１気圧以上６気圧以下の範囲、または１気圧以上５気圧以下の範囲であってよい。約１気圧の圧力下で反応を行う場合には、例えば、ゴムまたはビニール製の風船を反応容器に取り付けて、風船内を水素ガスで置換して行う方法がよく知られている。本工程において、反応液を激しく撹拌させると、気相の水素ガスとの接触頻度が増加し、反応速度が向上し得る。
　出発アミノ酸またはそのエステル、Ｃ１－Ｃ６一級アルキル化剤もしくは置換メチルハライド、触媒、ならびに水素を溶媒中で接触させた後の混合物に、追加の水素ガスを接触させてもよい。反応混合物に追加の水素ガスを接触させる方法は、反応容器に水素を送気して追加する方法、反応容器内を減圧下で脱気後に反応容器内に水素を加える方法、反応容器内を減圧下で脱気後に反応容器内を窒素で置換し再び減圧下で脱気後に反応容器内を水素で置換する方法などにより、追加の水素を反応容器内に加えることで行うことができる。追加の水素ガスを接触させる回数は、反応の進行具合に依存し、１回～１０回の範囲、１回～５回の範囲、１回～３回の範囲で行うことができる。反応開始から、追加の水素ガスを接触させるまでの時間は、１０分～５時間の範囲、２０分～３時間の範囲、１０分～２時間の範囲で行うことができる。追加の水素ガスを接触させるために、反応容器を開けた際に反応を効率よく制御する目的で追加の試薬を加えることもできる。追加する試薬は、Ｃ１－Ｃ６一級アルキル化剤もしくは置換メチルハライド、触媒、溶媒、酸、塩基などが例示される。
　水素ガスの代替として、ヒドリド還元剤を用いることができる。また、反応の進行具合により、ヒドリド還元剤を追加して反応容器に加えることができる。
　溶媒は、エーテル系溶媒、アルコール系溶媒およびエステル系溶媒からなる群から選択される少なくとも１つの溶媒を含む。溶媒は、好ましくは、エーテル系溶媒、アルコール系溶媒、エステル系溶媒、およびこれらの混合溶媒からなる群から選択される。
　エーテル系溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、２－メチルテトラヒドロフラン、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、メチルｔ－ブチルエーテル（ＭＴＢＥ）、シクロペンチルメチルエーテル（ＣＰＭＥ）、ジイソプロピルエーテル（ＩＰＥ）、４－メチルテトロヒドロピラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、およびこれらの組合せが挙げられる。アルコール系溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、１－ブタノール、２－ブタノール、１－ペンタノール、２－ペンタノール、３－ペンタノール、およびこれらの組合せが挙げられる。エステル系溶媒としては、例えば、酢酸エチル、酢酸ｎ－プロピル、酢酸ブチル、およびこれらの組合せが挙げられる。本工程では、上記の溶媒を適宜組み合せて、任意の割合で混合して用いてもよい。
　溶媒の使用量は、出発アミノ酸またはそのエステル１モルに対して、１～１００ｍＬの範囲、３～７５ｍＬの範囲、５～５０ｍＬの範囲、または７～２５ｍＬの範囲であってよい。
　アルキル化工程で出発アミノ酸Ａを原料として使用する場合、反応液に塩基を添加することが好ましい。反応液に塩基を添加することにより、ジアルキル化体及び副生成物の割合が低下し、モノアルキル化選択性がさらに向上し得る。出発アミノ酸Ｂを原料として使用する場合、脱保護反応後のＮ－アルキル化工程で、反応液に塩基を添加することが好ましい。
　塩基は、有機塩基であっても無機塩基であってもよい。塩基は、好ましくは三級アミンであり、より好ましくは１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン－７（ＤＢＵ）、１，５－ジアザビシクロ［４．３．０］ノネン－５（ＤＢＮ）、Ｎ－メチルモルホリン（ＮＭＭ）、１，４－ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、トリエチルアミン（ＴＥＡ）、Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルエチルアミン（ＤＩＰＥＡ）、ピリジンおよびコリジンである。
　塩基の使用量は、出発アミノ酸またはそのエステル１モルに対して、０．０１～２０．０モルの範囲、０．０３～１５．０モルの範囲、０．０５～１０．０モルの範囲、または０．７～５．０モルの範囲であってよい。塩基の使用量が上記範囲であると、モノアルキル化選択性の向上効果がより顕著となる。
　アルキル化工程で出発アミノ酸Ｂを原料として使用する場合、反応液に酸を添加することが好ましい。反応液に酸を添加することにより、副生成物の割合が低下し、目的のＮ－モノアルキルアミノ酸またはそのエステル（Ｃ）をより効率よく得ることができる。
　酸は、一級アミノ基に結合した保護基を効率よく除去できるものであればよい。酸としては、例えば、ｐ－トルエンスルホン酸（ＴｓＯＨ）、メタンスルホン酸（ＭｓＯＨ）、硫酸水素ナトリウム、トリエチルアミン塩酸塩およびプロピルホスホン酸が挙げられる。酸は、水和物または任意の溶液の形態で使用してもよい。
　酸の使用量は、出発アミノ酸またはそのエステル１モルに対して、０．１～１０．０モル、０．３～７．０モル、０．５～５．０モル、または０．７～３．０モルであってよい。
　反応温度は、－４０℃～溶媒の沸点付近の範囲で行うことができ、－２０℃～５０℃の範囲または０℃～３０℃の範囲で行うことができる。
　反応時間は、５分～７２時間の範囲で行うことができ、１０分～４８時間の範囲または１０分～２４時間の範囲で行うことができる。
　アルキル化工程の後、当業者に周知な方法で、得られたＮ－モノアルキルアミノ酸またはそのエステルを対応する塩または溶媒和物に変換することもできる。
　本発明の第二実施形態は、一局面において、Ｎ－モノアルキルアミノ酸残基を含むペプチドまたはそのエステルの製造方法であって、水素の存在下、出発アミノ酸残基を含むペプチドまたはそのエステル、Ｃ１－Ｃ６一級アルキル化剤もしくは置換メチルハライド、および触媒を溶媒中で混合するアルキル化工程を含み、該アルキル化工程が、１気圧以上の圧力下で行われ、かつ、該出発アミノ酸残基のアミノ基にＣ１－Ｃ６一級アルキル化剤もしくは置換メチルハライドに対応する一級アルキル基が結合したＮ－モノアルキルアミノ酸残基を含むペプチドまたはそのエステルを生成させる、方法である。
　本発明の別の第二実施形態は、その一局面において、Ｎ－モノアルキルアミノ酸を含むペプチドもしくはそのエステルの製造方法であって、出発アミノ酸を含むペプチドもしくはそのエステル、Ｃ１－Ｃ６一級アルキル化剤もしくは置換メチルハライド、ヒドリド還元剤および触媒を溶媒中で混合するアルキル化工程を含み、該アルキル化工程が、該出発アミノ酸残基のアミノ基にＣ１－Ｃ６一級アルキル化剤もしくは置換メチルハライドに対応する一級アルキル基が結合したＮ－モノアルキルアミノ酸を含むペプチドもしくはそのエステルを生成させる、方法である。
　本実施形態に係るアルキル化工程は、式Ｄで表されるペプチドまたはそのエステル（出発ペプチドＤともいう。）を選択的にＮ－モノアルキル化することにより、式Ｆで表されるＮ－モノアルキルアミノ酸残基を含むペプチドまたはそのエステルを得る方法と、式Ｅで表されるＮ－保護ペプチドまたはそのエステル（出発ペプチドＥともいう。）の脱保護反応とＮ－アルキル化反応をワンポットで行うことにより、式Ｆで表されるペプチドまたはそのエステルを得る方法を包含する。以下に、本実施形態に係る方法の概要を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
　上記の化学式中、Ｒ３はペプチドのＮ末端のアミノ酸残基の側鎖を表わし、ＰＧ２はアミノ基の保護基を表わし、Ｒ４はＮ末端アミノ酸残基に結合しているペプチド鎖を表わす。便宜上、上記の反応式では、出発ペプチドＤおよびＥをα－アミノ酸の形態で例示しているが、β－アミノ酸またはγ－アミノ酸であってもよい。また、上記の反応式においては、Ｎ末端のアミノ酸残基の側鎖Ｒ３およびペプチド鎖Ｒ４は、好ましくは、アルキル化工程の条件によりアルキル化反応または還元反応などにより、意図しない構造変換をされうる官能基を有しない。Ｒ３および／またはＲ４がアルキル化工程の条件により意図しない構造変換を受けうる官能基を有する場合には、該官能基にあらかじめ保護基を導入してからアルキル化工程を行うことで、目的物を製造することができる。
　Ｒ３は、例えば、水素原子、Ｃ１－Ｃ６アルキル基、ハロＣ１－Ｃ６アルキル基、Ｃ３－Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ３－Ｃ６シクロアルキルＣ１－Ｃ６アルキル基、カルボキシＣ１－Ｃ６アルキル基、アリール上に置換基を有していてもよいＣ６－Ｃ１０アリールＣ１－Ｃ６アルキル基、ヘテロアリール上に置換基を有していてもよい５～１０員ヘテロアリールＣ１－Ｃ６アルキル基、ヘテロシクリル上に置換基を有していてもよい５～１０員ヘテロシクリルＣ１－Ｃ６アルキル基、Ｃ３－Ｃ６シクロアルコキシＣ１－Ｃ６アルキル基、ハロＣ１－Ｃ６アルコキシＣ１－Ｃ６アルキル基、保護されたアミノＣ３－Ｃ６アルキル基、保護されたヒドロキシＣ１－Ｃ６アルキル基、またはＣ１－Ｃ６アルコキシＣ１－Ｃ６アルキル基から選択される。
　Ｒ４は、Ｎ－アルキルアミノ酸残基を含んでいてもよい、アミノ酸が２残基以上のペプチド鎖であってよい。Ｒ４に含まれるアミノ酸残基の側鎖は、アルキル化工程の条件によりアルキル化反応または還元反応などにより、意図しない構造変換をされうる官能基を有しない側鎖を持つアミノ酸であってもよい。また、Ｒ４に含まれるアミノ酸残基の側鎖は、アルキル化工程の条件によりアルキル化反応または還元反応により意図しない構造変換を受けうる官能基を有する場合には、該官能基にあらかじめ保護基が導入された側鎖を持つアミノ酸であってもよい。このような側鎖は、例えば、水素原子、Ｃ１－Ｃ６アルキル基、ハロＣ１－Ｃ６アルキル基、Ｃ３－Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ３－Ｃ６シクロアルキルＣ１－Ｃ６アルキル基、カルボキシＣ１－Ｃ６アルキル基、アリール上に置換基を有していてもよいＣ６－Ｃ１０アリールＣ１－Ｃ６アルキル基、ヘテロアリール上に置換基を有していてもよい５～１０員ヘテロアリールＣ１－Ｃ６アルキル基、ヘテロシクリル上に置換基を有していてもよい５～１０員ヘテロシクリルＣ１－Ｃ６アルキル基、Ｃ３－Ｃ６シクロアルコキシＣ１－Ｃ６アルキル基、ハロＣ１－Ｃ６アルコキシＣ１－Ｃ６アルキル基、保護されたアミノＣ３－Ｃ６アルキル基、保護されたヒドロキシＣ１－Ｃ６アルキル基、またはＣ１－Ｃ６アルコキシＣ１－Ｃ６アルキル基から選択される。
　第二実施形態におけるアルキル化工程の反応条件は、上記第一実施形態に記載の反応条件の「出発アミノ酸」を「出発アミノ酸を含むペプチド」（本明細書において、「出発ペプチド」ともいう。）に読み替えて参照することができる。
　本発明の第三実施形態は、第一実施形態で得られるＮ－モノアルキルアミノ酸もしくはそのエステル（式Ｃ参照）、または第二実施形態で得られるＮ－モノアルキルアミノ酸残基を有するペプチドもしくはそのエステル（式Ｆ参照）を出発物質として使用し、任意で１つまたは複数のアミノ酸を結合形成反応（例えば、ペプチド結合形成反応）によって伸長させて、所望のペプチドまたはそのエステルを得る工程を含む、ペプチドもしくはそのエステルの製造方法である。また、前記製造方法により得られたペプチド（環化前駆ペプチド、すなわち直鎖状のペプチド）またはそのエステルのＣ末端側の基とＮ末端側の基とで環化して環状部を形成する工程を追加で含む、少なくとも４個のアミノ酸より構成される環状部を有するペプチドもしくはそのエステルの製造方法も本実施形態に含めることができる。
　ペプチドの主鎖を伸長させる工程において、第一実施形態で得られるＮ－モノアルキルアミノ酸もしくはそのエステル（式Ｃ参照）を出発物質として使用する場合には、環状部を形成するためにペプチドの主鎖の伸長が必須であるが、第二実施形態で得られるＮ－モノアルキルアミノ酸残基を有するペプチドもしくはそのエステル（式Ｆ参照）を出発物質として使用する場合は、必ずしもそのペプチドの主鎖を伸長させる必要はない。目的の環状部を有するペプチドの化学構造に応じて、当業者は本工程を実施するかどうかを適宜選択することができる。
　本実施形態に係る方法によれば、少なくとも４個のアミノ酸より構成される環状部を有するペプチドもしくはそのエステルを製造することができる。本実施形態に係る方法は、少なくとも８個のアミノ酸により構成される環状部を有し、８～１５個のアミノ酸により構成されるペプチドもしくはそのエステルの製造により適している。本実施形態において得られるペプチドもしくはそのエステルは、Ｎ－アルキルアミノ酸残基を５個以上、６個以上または７個以上含んでいてよい。
　ペプチド鎖の結合形成反応による伸長、ペプチド結合形成反応は、例えば、Ｂｉｏｐｏｌｙｍ．　Ｐｅｐｔ．　Ｓｃｉ．　２０００，　５５，　２２７－２５０、またはＷ．　Ｍ．　Ｈｕｓｓｅｉｎら著、Ｐｅｐｔｉｄｅ　Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ　Ｍｅｔｈｏｄｓ　ａｎｄ　Ｐｒｏｔｏｃｏｌｓ　（Ｈｕｍａｎａ　Ｐｒｅｓｓ、２０２０年）などを参照し、当業者に周知の方法で実施することができる。
　環状部を形成する工程では、上記で得られた環化前駆ペプチドまたは第二実施形態で得られるＮ－モノアルキルアミノ酸残基を有するペプチドもしくはそのエステルにおけるペプチドの主鎖のＣ末端側の基とＮ末端側の基とを反応させて、環状部を形成させる工程である。Ｃ末端側の基とＮ末端側の基は、互いに有機結合を形成できる組合せであればよい。
　好ましい組合せは、Ｃ末端側の基がカルボキシ基であり、Ｎ末端側の基がアミノ基である組合せである。この場合、環状部を形成させる工程は、縮合反応（ペプチド結合形成反応）であり得る。縮合反応の条件は、当業者に周知の条件を採用することができ、例えば、縮合剤の存在下、溶媒中で撹拌することが挙げられる。環化に用いられるカルボキシル基やアミノ基等の位置は、主鎖上のものでも、側鎖上のものでもよく、環化可能な位置にあれば、特に制限されない。
　縮合剤としては、カルボキシ基とアミノ基を結合させて、ペプチド結合を形成できるものであればよい。縮合剤として具体的には、たとえば、Ｎ，Ｎ’－ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）、Ｎ－（３－ジメチルアミノプロピル）－Ｎ’－エチルカルボジイミド（ＥＤＣ）等のカルボジイミド系縮合剤、ジフェニルリン酸アジド（ＤＰＰＡ）等のリン酸アジド系縮合剤、ＢＯＰ試薬、ＰｙＢＯＰ試薬等のホスホニウム系縮合剤、ＴＢＴＵ、ＨＢＴＵ、ＴＡＴＵ、ＨＡＴＵ等のウロニウム系縮合剤、４－（４，６－ジメトキシ－１，３，５－トリアジン－２－イル）－４－メチルモルホリニウム　テトラフルオロボレート（ＤＭＴ－ＭＭ）、Ｔ３Ｐ（プロピルホスホン酸無水物）が挙げられる。
　縮合反応において、反応混合物にさらに添加剤を加えてもよい。添加剤としては、たとえば、１－ヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢｔ）、１－ヒドロキシ－７－アザベンゾトリアゾール（ＨＯＡｔ）、３－ヒドロキシ－１，２，３－ベンゾトリアジン－４（３Ｈ）－オン（ＨＯＯＢｔ）、エチル（ヒドロキシイミノ）シアノアセタート（Ｏｘｙｍａ）などが挙げられる。
　本発明の第四実施形態は、Ｎ－モノアルキルアミノ酸もしくはそのエステル（式Ｃ参照）またはＮ－モノアルキルアミノ酸を含むペプチドもしくはそのエステル（式Ｆ参照）の製造方法において、水素の存在下、上記出発アミノ酸ＡもしくはＢまたは上記出発ペプチドＤもしくはＥ、Ｃ１－Ｃ６一級アルキル化剤もしくは置換メチルハライド、および触媒を溶媒中で混合するアルキル化工程を含み、アルキル化工程が、１気圧以上の圧力下で行われ、かつ、出発アミノ酸ＡもしくはＢのアミノ基に、Ｃ１－Ｃ６一級アルキル化剤もしくは置換メチルハライドに対応する一級アルキル基が結合したＮ－モノアルキルアミノ酸もしくはそのエステル（式Ｃ参照）またはＮ－モノアルキルアミノ酸を含むペプチドもしくはそのエステル（式Ｆ参照）を生成させるものであり、出発アミノ酸もしくはそのエステルまたは前記出発アミノ酸を含むペプチドもしくはそのエステルのアミノ基がジアルキル化された化合物の生成の抑制方法である。
　本実施形態では、第一または第二実施形態に記載した定義を参照することができる。上記アルキル化工程によれば、ジアルキル化体の生成を抑制することができる。
　さらに、アルキル化工程で得られたＮ－モノアルキルアミノ酸もしくはそのエステル（式Ｃ参照）またはＮ－モノアルキルアミノ酸を含むペプチドもしくはそのエステル（式Ｆ参照）を出発物質として、追加で結合形成反応を行い、そのペプチドの主鎖を伸長させた後、得られたペプチドを酸性水溶液で処理する工程を行うことにより、生じたジアルキル化された化合物を容易に除去することもできる。
　ある態様において、直鎖状のペプチドは、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
 で表される直鎖状のペプチド、もしくはその塩またはそれらの溶媒和物である。
　ある態様において、本発明の方法により製造される環状部を有するペプチドは、下記式（１）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
 で表される環状部を有するペプチド、もしくはその塩またはそれらの溶媒和物である。上記式（１）で表される環状部を有するペプチドは、溶媒和物であることが好ましく、水和物、ＤＭＳＯ－水和物、アセトン－水和物、またはＤＭＳＯ溶媒和物であることがより好ましく、水和物がさらに好ましい。国際公開第２０２１／０９０８５５号にも記載されているように、上記式（１）で表される環状部を有するペプチドは、ＫＲＡＳ阻害剤として有用であり、種々のＫＲＡＳに関連した疾病、たとえばＫＲＡＳに関連したがんに使用されうる。
　ある態様において、本発明の方法により製造される環状部を有するペプチド、もしくはその塩またはそれらの溶媒和物の単離および／または精製には、カラムクロマトグラフィーを用いないことが好ましい。
　本発明の方法により製造される環状部を有するペプチド、もしくはその塩またはそれらの溶媒和物は、カラムクロマトグラフィーに代えて、例えば、晶析により結晶化することにより、単離および／または精製することができる。具体的には、例えば、縮合反応後の反応溶液を分液操作に供し、必要に応じて有機層を濃縮、および／またはろ過した後、得られた残渣に晶析に適した溶媒を加え、任意で種晶を加えて、必要に応じて攪拌することで、環状部を有するペプチド、もしくはその塩またはそれらの溶媒和物の結晶を得ることができる。晶析の際に添加される溶媒は、環状部を有するペプチドが結晶を形成することができる溶媒であれば特に制限はないが、環状部を有するペプチドが溶解した溶液に対し、環状部を有するペプチドの溶解度を低下させる操作を行うことのできる溶媒が好ましい。例えば貧溶媒の添加や溶液の冷却により、環状部を有するペプチドの溶解度を低下させて結晶化が可能な場合は、そのような操作が可能な溶媒が例示される。また、環状部を有するペプチドの粗結晶を懸濁液状態下、任意の時間懸濁状態を保つことで環状部を有するペプチドの結晶を得ることができる場合は、そのような操作が可能な溶媒を、結晶化に用いることができる。晶析の際に添加される溶媒として、具体的には、例えば、アセトン、水、ＤＭＳＯ、アセトニトリル、またはエタノール、およびこれらの混合溶媒などが挙げられる。この晶析はＮ－モノアルキルアミノ酸を含むペプチドもしくはそのエステルにも適用することができる。
　ある態様において、本発明の方法により製造される環状部を有するペプチド、もしくはその塩またはそれらの溶媒和物の結晶は、上記式（１）で表される環状部を有するペプチドの非溶媒和物結晶、溶媒和物結晶、塩の結晶、または塩の溶媒和物結晶であることができる。ある態様において、非溶媒和物結晶（無溶媒和結晶）は、溶媒和結晶、または水和物結晶でない結晶を指すことがある。上記式（１）で表される環状部を有するペプチド、もしくはその塩またはそれらの溶媒和物の結晶は溶媒和物結晶であることが好ましく、水和物結晶であることがより好ましい。
　以下に実施例を示して、本発明をより具体的に説明する。実施例で使用される略語は、有機化学分野における一般的な意味で理解されるべきであり、以下に例を示す。
Ｂｎ：ベンジル
Ｂｏｃ：ｔ－ブトキシカルボニル
Ｃｂｚ：ベンジルオキシカルボニル
ＣＰＭＥ：シクロペンチルメチルエーテル
ＤＡＢＣＯ：１，４－ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン
ＤＢＮ：１，５－ジアザビシクロ［４．３．０］ノネン－５
ＤＢＵ：１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン－７
ＤＣＨＡ：ジシクロヘキシルアミン
ＤＩＰＥＡ：Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルエチルアミン
ＤＫＰ：ジケトピペラジン
ＤＭＡ：ジメチルアセトアミド
ＤＭＩ：１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン
ＤＭＳＯ：ジメチルスルホキシド
ＥＯＭ－Ｃｌ：エトキシメチルクロリド
ＨＡＴＵ：Ｏ－（７－アザベンゾトリアゾール－１－イル）－Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチルウロニウムヘキサフルオロリン酸塩
１Ｈ－ＮＭＲスペクトル：プロトン核磁気共鳴スペクトル
ＨＰＬＣ：高速液体クロマトグラフィー
ｉ－：イソ
ＬＣＭＳ：液体クロマトグラフィー及び質量スペクトル
ＭＥＭ－Ｃｌ：２－メトキシエトキシメチルクロリド
ＭＯＭ－Ｃｌ：メトキシメチルクロリド
ＭＴＢＥ：メチルｔｅｒｔ－ブチルエーテル
ｎ－：ノルマル
ＮＭＭ：Ｎ－メチルモルホリン
ＰＦＰ：ペンタフルオロフェニル
ｓ－：セカンダリー
ＳＥＭ－Ｃｌ：２－（トリメチルシリル）エトキシメチルクロリド
ｔＢｕ：ターシャリーブチル
ＴＥＡ：トリエチルアミン
Ｔｅｏｃ：２－（トリメチルシリル）エトキシカルボニル
ｔ－：ターシャリー
ＴＨＦ：テトラヒドロフラン
ＴＭＳＣｌ：クロロトリメチルシラン
ＴｓＯＨ・Ｈ２Ｏ：パラトルエンスルホン酸一水和物
Ｓａｒ：サルコシン
　１Ｈ－ＮＭＲスペクトルは核磁気共鳴装置ＪＮＭ－ＥＣＺ５００（日本電子社製）を用いて測定し、内部標準物質として用いたテトラメチルシランのケミカルシフトを０ｐｐｍとし、サンプル溶媒からの重水素ロック信号を参照した。分析対象化合物のシグナルのケミカルシフトはｐｐｍで表記した。シグナルの分裂の略語は、ｓ：シングレット、ｂｒｓ：ブロードシングレット、ｄ：ダブレット、ｔ：トリプレット、ｑ：カルテット、ｄｄ：ダブルダブレット、ｍ：マルチプレットで表記し、シグナルの分裂幅はＪ値（Ｈｚ）で表記した。シグナルの積分値は各シグナルの面積強度の比をもとに算出した。
　ＨＰＬＣ分析にはＷａｔｅｒｓ社製Ｈ－Ｃｌａｓｓシステムを使用し、ＰＤＡ検出器を用い、化合物４の検出では２２０ｎｍの波長で、その他の化合物の検出では２１０ｎｍの波長で測定した。実施例に用いた各基質の反応性・選択性・純度は以下の表１に示す分析法で評価した。ＬＣＭＳ分析には、化合物３、４、１１および１２の検出にはＳＱＤ２を用い、その他の化合物の検出ではＱＤａ検出器を用いた。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000016
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000017
　結晶の融点は、以下の条件で実施した熱分析により測定した。
（測定条件１）
測定装置：TGA/DSC3+（Mettler Toledo製）
昇温速度：10℃/分
雰囲気：乾燥窒素
（原料合成１）H-Phe-OtBuの調製
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
 　分液ロート中でｔ－ブチル　Ｌ－フェニルアラニネート塩酸塩（１５．０５ｇ、５８．２ｍｍｏｌ）を２－メチルテトラヒドロフラン（２００ｍＬ）に懸濁させ、５％炭酸ナトリウム水溶液（１５０ｍＬ）を加えて混合した。固体は徐々に溶解した。５％食塩水（約１０ｍＬ）を混合液中に加えた。水層を排出し、有機層を再度５％炭酸ナトリウム水溶液（１５０ｍＬ）で洗浄した。水層を排出し、得られた有機層に無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。硫酸ナトリウムを濾別した後、減圧条件下で重量変化がなくなるまで濃縮してｔ－ブチル　Ｌ－フェニルアラニネート（以下、化合物１ともいう。）を得た（１２．４３ｇ、収率９７％）。
ＨＰＬＣ純度：１００％
測定方法：HPLC Method A
保持時間：２．７２分
1H-NMR(500MHz, DMSO-d6) δ:1.32(9H, s), 1.66(2H, bs),2.79(2H, m), 3.44(1H, t, J=6.9Hz), 7.19-7.21(3H, m), 7.25-7.28(2H, m)
質量分析:m/z 166.17([M-tBu+H]+)
（実施例１）H-Phe-OtBuのモノメチル化反応への塩基の添加効果の評価
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
 　撹拌子を入れたフラスコに５％パラジウム炭素（５０％ｗｅｔ、９６ｍｇ、０．０２３ｍｍｏｌ、５ｍｏｌ％金属Ｐｄ基準）と化合物１のメタノール溶液（２０ｍＬ／ｇ基質、２．０ｍＬ、０．４５２ｍｍｏｌ）を加えた。得られた混合物に、３７％ホルムアルデヒド水溶液（３３．４μＬ、０．４５２ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）を加え、塩基を加えた。撹拌しながらフラスコ内の気相を窒素で置換し、水素で再置換した。水素置換から３時間後と６時間後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析によって各化合物の比率を確認した。結果を表２に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000020
 測定方法：HPLC Method A
保持時間：2.82分（化合物１）、2.93分（化合物１－Ａ）、3.05分（化合物１－Ｂ）
質量分析：m/z 236.31（化合物１－Ａ、[M+H]+）、250.30（化合物１－Ｂ、[M+H]+）
（実施例２）H-Phe-OtBuのモノメチル化反応
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
 　撹拌子を入れたフラスコに５％パラジウム炭素（５０％ｗｅｔ、９６ｍｇ、０．０２３ｍｍｏｌ、５ｍｏｌ％金属Ｐｄ基準）と化合物１のメタノール溶液（２０ｍＬ／ｇ基質、２．０ｍＬ、０．４５２ｍｍｏｌ）を加えた。得られた混合物に、３７％ホルムアルデヒド水溶液（６７μＬ、０．９０４ｍｍｏｌ、２．０ｅｑ．）を加えた。撹拌しながらフラスコ内の気相を窒素で置換し、水素で再置換した。水素置換から３時間と１１時間後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析によって各化合物の比率を確認した。また、窒素で置換する前にＤＢＵ（６．７μＬ、０．０４５ｍｍｏｌ、０．１ｅｑ．）を添加した以外は同様にして、反応を行った。結果を表３に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000022
 測定方法：HPLC Method A
保持時間：2.44分（化合物１）、2.54分（化合物１－Ａ）、2.66分（化合物１－Ｂ）
質量分析：m/z 236.31（化合物１－Ａ、[M+H]+）、250.32（化合物１－Ｂ、[M+H]+）
（実施例３）H-Phe-OtBuのアセトアルデヒドを用いたモノエチル化反応
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
 　撹拌子を入れたフラスコに５％パラジウム炭素（５０％ｗｅｔ、９６ｍｇ、０．０２３ｍｍｏｌ、５ｍｏｌ％金属Ｐｄ基準）と化合物１のエタノール溶液（１５ｍＬ／ｇ基質、１．５ｍＬ、０．４５２ｍｍｏｌ）を加えた。得られた混合物に、アセトアルデヒド（５１μＬ、０．９０４ｍｍｏｌ、２．０ｅｑ．）を加えた。撹拌しながらフラスコ内の気相を窒素で置換し、水素で再置換した。水素置換から３時間後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析によって各化合物の比率及び不純物の量を確認した。また、窒素で置換する前にＤＢＵ（６．７μＬ、０．０４５ｍｍｏｌ、０．１ｅｑ．）を添加した以外は同様にして、反応を行った。結果を表４に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000024
 測定方法：HPLC Method A
保持時間：2.43分（化合物１）、2.63分（化合物１－Ｃ）、2.85分（化合物１－Ｄ）
質量分析：m/z 250.31（化合物１－Ｃ、[M+H]+）、278.33（化合物１－Ｄ、[M+H]+）
（実施例４）H-Phe-OtBuのアセトニトリルを用いたモノエチル化反応
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
 　撹拌子を入れたフラスコに５％パラジウム炭素（５０％ｗｅｔ、９６ｍｇ、０．０２３ｍｍｏｌ、５ｍｏｌ％金属Ｐｄ基準）と化合物１のエタノール溶液（１５ｍＬ／ｇ基質、１．５ｍＬ、０．４５２ｍｍｏｌ）を加えた。得られた混合物に、アセトニトリル（２３６μＬ、４．５２ｍｍｏｌ、１０．０ｅｑ．）を加えた。撹拌しながらフラスコ内の気相を窒素で置換し、水素で再置換して、３０℃で撹拌した。水素置換から５時間後と１１時間後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析によって各化合物の比率を確認した。また、窒素で置換する前にＤＢＵ（６．７μＬ、０．０４５ｍｍｏｌ、０．１ｅｑ．）を添加した以外は同様にして、反応を行った。結果を表５に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000026
 測定方法：HPLC Method A
保持時間：2.61分（化合物１）、2.83分（化合物１－Ｃ）、3.06分（化合物１－Ｄ）
質量分析：m/z 250.09（化合物１－Ｃ、[M+H]+）、278.06（化合物１－Ｄ、[M+H]+）
（実施例５）H-Phe-OtBuのプロパナールを用いたモノプロピル化反応
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
 　撹拌子を入れたフラスコに５％パラジウム炭素（５０％ｗｅｔ、９６ｍｇ、０．０２３ｍｍｏｌ、５ｍｏｌ％金属Ｐｄ基準）と化合物１のエタノール溶液（１５ｍＬ／ｇ基質、１．５ｍＬ、０．４５２ｍｍｏｌ）を加えた。得られた混合物に、プロパナール（６５μＬ、０．９０４ｍｍｏｌ、２．０ｅｑ．）を加えた。撹拌しながらフラスコ内の気相を窒素で置換し、水素で再置換した。水素置換から３時間後と６時間後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析によって各化合物の比率及び不純物の量を確認した。また、窒素で置換する前にＤＢＵ（６．７μＬ、０．０４５ｍｍｏｌ、０．１ｅｑ．）を添加した以外は同様にして、反応を行った。結果を表６に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000028
 測定方法：HPLC Method A
保持時間：2.42分（化合物１）、2.82分（化合物１－Ｅ）、3.27分（化合物１－Ｆ）
質量分析：m/z 264.36（化合物１－Ｅ、[M+H]+）、306.38（化合物１－Ｆ、[M+H]+）
（実施例６）H-Phe-OtBuのプロピオニトリルを用いたモノプロピル化反応
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
 　撹拌子を入れたフラスコに５％パラジウム炭素（５０％ｗｅｔ、９６ｍｇ、０．０２３ｍｍｏｌ、５ｍｏｌ％金属Ｐｄ基準）と化合物１のエタノール溶液（１５ｍＬ／ｇ基質、１．５ｍＬ、０．４５２ｍｍｏｌ）を加えた。得られた混合物に、プロピオニトリル（３２２μＬ、４．５２ｍｍｏｌ、１０．０ｅｑ．）を加えた。撹拌しながらフラスコ内の気相を窒素で置換し、水素で再置換した。水素置換から８時間後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析によって各化合物の比率を確認した。結果を表７に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000030
 測定方法：HPLC Method A
保持時間：2.69分（化合物１）、3.11分（化合物１－Ｅ）、3.58分（化合物１－Ｆ）
質量分析：m/z 264.29（化合物１－Ｅ、[M+H]+）、306.31（化合物１－Ｆ、[M+H]+）
（実施例７）H-Phe-OtBuのブタナールを用いたモノブチル化反応
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
 　撹拌子を入れたフラスコに５％パラジウム炭素（５０％ｗｅｔ、９６ｍｇ、０．０２３ｍｍｏｌ、５ｍｏｌ％金属Ｐｄ基準）と化合物１のエタノール溶液（１５ｍＬ／ｇ基質、１．５ｍＬ、０．４５２ｍｍｏｌ）を加えた。得られた混合物に、ブタナール（８１μＬ、０．９０４ｍｍｏｌ、２．０ｅｑ．）を加えた。撹拌しながらフラスコ内の気相を窒素で置換し、水素で再置換した。水素置換から３時間後と６時間後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析によって各化合物の比率及び不純物の量を確認した。また、窒素で置換する前にＤＢＵ（６．７μＬ、０．０４５ｍｍｏｌ、０．１ｅｑ．）を添加した以外は同様にして、反応を行った。結果を表８に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000032
 測定方法：HPLC Method A
保持時間：2.42分（化合物１）、3.04分（化合物１－Ｇ）、3.68分（化合物１－Ｈ）
質量分析：m/z 278.35（化合物１－Ｇ、[M+H]+）、334.43（化合物１－Ｈ、[M+H]+）
（実施例８）H-Phe-OtBuのブチロニトリルを用いたモノブチル化反応
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
 　撹拌子を入れたフラスコに５％パラジウム炭素（５０％ｗｅｔ、９６ｍｇ、０．０２３ｍｍｏｌ、５ｍｏｌ％金属Ｐｄ基準）と化合物１のエタノール溶液（１５ｍＬ／ｇ基質、１．５ｍＬ、０．４５２ｍｍｏｌ）を加えた。得られた混合物に、ブチロニトリル（３９３μＬ、４．５２ｍｍｏｌ、１０．０ｅｑ．）を加えた。撹拌しながらフラスコ内の気相を窒素で置換し、水素で再置換した。水素置換から５時間後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析によって各化合物の比率を確認した。結果を表９に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000034
 測定方法：HPLC Method A
保持時間：2.67分（化合物１）、3.32分（化合物１－Ｇ）、3.99分（化合物１－Ｈ）
質量分析：m/z 278.30（化合物１－Ｇ、[M+H]+）、334.39（化合物１－Ｈ、[M+H]+）
（実施例９）H-Val-MeAsp(OtBu)-NMe 2 のプロパナールを用いたモノプロピル化反応
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
 　撹拌子を入れたバイアルに５％パラジウム炭素（５０％ｗｅｔ、４８ｍｇ、０．０１１ｍｍｏｌ、５ｍｏｌ％金属Ｐｄ基準）と化合物２のエタノール溶液（１０ｍＬ／ｇ基質、０．７５ｍＬ、０．２２８ｍｍｏｌ）を加えた。得られた混合物に、プロパナール（８２μＬ、１．１３８ｍｍｏｌ、５．０ｅｑ．）を加えた。バイアルを耐圧容器に入れ、バイアル中の反応液を撹拌しながら耐圧容器中の気相を窒素で置換し、水素で再置換した。水素置換してから６時間後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析によって各化合物の比率及び不純物の量を確認した。また、窒素で置換する前にＴＥＡ（６３．５μＬ、０．４５５ｍｍｏｌ、２．０ｅｑ．）を添加した以外は同様にして、反応を行った。結果を表１０に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000036
 測定方法：HPLC Method A
保持時間：2.06分（化合物２）、2.41分（化合物２－Ｅ）、2.77分（化合物２－Ｆ）
質量分析：m/z 372.68（化合物２－Ｅ、[M+H]+）、414.65（化合物２－Ｆ、[M+H]+）
（実施例１０）H-Val-MeAsp(OtBu)-NMe 2 のブタナールを用いたモノブチル化反応
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
 　撹拌子を入れたバイアルに５％パラジウム炭素（５０％ｗｅｔ、４８ｍｇ、０．０１１ｍｍｏｌ、５ｍｏｌ％金属Ｐｄ基準）と化合物２のエタノール溶液（１０ｍＬ／ｇ基質、０．７５ｍＬ、０．２２８ｍｍｏｌ）を加えた。得られた混合物に、ブタナール（１０３μＬ、１．１３８ｍｍｏｌ、５．０ｅｑ．）を加えた。その後、そのバイアルを耐圧容器に入れ、耐圧容器内で撹拌しながら耐圧容器中の気相を窒素で置換し、水素で再置換した。水素置換してから６時間後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析によって各化合物の比率及び不純物の量を確認した。また、窒素で置換する前にＴＥＡ（６３．５μＬ、０．４５５ｍｍｏｌ、２．０ｅｑ．）を添加した以外は同様にして、反応を行った。結果を表１１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000038
 測定方法：HPLC Method A
保持時間：2.06分（化合物２）、2.64分（化合物２－Ｇ）、3.22分（化合物２－Ｈ）
質量分析：m/z 386.71（化合物２－Ｇ、[M+H]+）、442.87（化合物－Ｈ、[M+H]+）
（実施例１１）Cbz-Phe-OtBuの脱保護とモノエチル化反応の同ｏｎｅ－ｐｏｔ実施
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
 　撹拌子を入れたフラスコ又はバイアルに５％パラジウム炭素（５０％ｗｅｔ、１２０ｍｇ、０．０２８ｍｍｏｌ、５ｍｏｌ％金属Ｐｄ基準）とｐ－トルエンスルホン酸（１０７ｍｇ、０．５６３ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）を加えた。得られた混合物に、化合物Ｐ１のＴＨＦ溶液（１０ｍＬ／ｇ基質、２．０ｍＬ、０．５６３ｍｍｏｌ）とアセトニトリル（２９４μＬ、５．６３ｍｍｏｌ、１０．０ｅｑ．）を順次加えた。撹拌しながらフラスコ内の気相を窒素で置換し、水素で再置換して３０℃で撹拌した。水素圧が１気圧の場合、水素を充填した風船を用いて水素を供給した。水素圧が３．５気圧または５．５気圧である条件では、反応液が入ったバイアルを耐圧容器に入れ、耐圧容器内を窒素置換後、水素置換を行った。水素置換してから１０時間後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析によって各化合物の比率を確認した。結果を表１２に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000040
 測定方法：HPLC Method A
保持時間：2.61分（化合物１）、2.83分（化合物１－Ｃ）、3.06分（化合物１－Ｄ）
質量分析：m/z 250.09（化合物１－Ｃ、[M+H]+）、278.06（化合物１－Ｄ、[M+H]+）
（原料合成２）Cbz-Asp(OtBu)-NMe 2 の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
 　窒素置換した２００ｍＬフラスコに化合物Ｐ４（３．５５ｇ、１０．４ｍｍｏｌ）及び２－メチルテトラヒドロフラン（３２ｍＬ、３０ｅｑ．）を加えた。フラスコを氷浴で冷却しながら、得られた混合物に、ジメチルアミンのＴＨＦ溶液（２．０Ｍ、７．８ｍＬ、１５．６ｍｍｏｌ、１．５ｅｑ．）及びＤＩＰＥＡ（６．２ｍＬ、３６．４ｍｍｏｌ、３．５ｅｑ．）を順次加えた。その後、プロピルホスホン酸無水物の２－メチルテトラヒドロフラン溶液（１．６Ｍ、１６．３ｍＬ、２６．０ｍｍｏｌ、２．５ｅｑ．）を混合物に滴下した。滴下中の内温は１５．０～２６．０℃であった。滴下終了後、室温で１．５時間撹拌した後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析で反応完結を確認した。フラスコを氷浴で冷却しながら５％硫酸水素ナトリウム水溶液（２０ｍＬ）をゆっくりと加えた。１５分撹拌後、反応液全量を分液ロートに移送し、静置後、水層を除去した。５％硫酸水素ナトリウム水溶液（２０ｍＬ）を有機層に加え、よく振った後静置し、水層を除去した。５％炭酸カリウム水溶液（２０ｍＬ）を有機層に加え、よく振った後静置し、水層を除去した。５％炭酸カリウム水溶液（２０ｍＬ）による分液洗浄をもう１回繰り返した。得られた有機層を減圧下で濃縮し、３．９ｇの粗生成物を得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、化合物Ｐ５を得た（３．４８ｇ、収率９５％）。
ＨＰＬＣ純度：１００％
測定方法：HPLC Method A
保持時間：3.83分
質量分析：m/z 295.21（[M-tBu+H]+）
（実施例１２）Cbz-Asp(OtBu)-NMe 2 の脱保護とモノプロピル化反応のone-pot実施
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
 　撹拌子を入れたフラスコに５％パラジウム炭素（５０％ｗｅｔ、６０ｍｇ、０．０１４ｍｍｏｌ、５ｍｏｌ％金属Ｐｄ基準）と化合物Ｐ５のエタノール溶液（１５ｍＬ／ｇ基質、１．５ｍＬ、０．２８５ｍｍｏｌ）を加えた。撹拌しながら窒素置換し、水素置換して脱保護反応を行った。３時間後に減圧条件で脱気し、プロパナール（４１μＬ、０．５７１ｍｍｏｌ、２．０ｅｑ．）を加えた。撹拌しながらフラスコ内の気相を窒素で置換し、水素で再置換した。水素置換から４時間後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析によって各化合物の比率及び不純物の量を確認した。また、プロパナールを加える直前にＤＢＵ（４．３μＬ、０．０２９ｍｍｏｌ、０．１ｅｑ．）を添加した以外は同様にして、反応を行った。結果を表１３に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000043
 測定方法：HPLC Method A
保持時間：3.57分（化合物Ｐ５）、1.69分（化合物５）、2.04分（化合物５－Ｅ）、2.49分（化合物５－Ｆ）
質量分析：m/z 295.23（化合物Ｐ５、[M-tBu+H]+）、259.32（化合物５－Ｅ、[M+H]+）、301.35（化合物５－Ｆ、[M+H]+）
（原料合成３）Cbz-Phe(4-Me)-Sar-OtBuの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
 　２Ｌフラスコに化合物Ｐ６（３０．３６ｇ、９６ｍｍｏｌ）とｔ－ブチル　サルコシネート塩酸塩（２０．８７ｇ、１１５ｍｍｏｌ、１．２ｅｑ．）を加え、フラスコ内の気相を窒素で置換した。２－メチルテトラヒドロフラン（２９０ｍＬ、３０ｅｑ．）を加え、外温１５℃まで冷却し、ＤＩＰＥＡ（８８ｍＬ、５１７ｍｍｏｌ、５．４ｅｑ．）を滴下ロートから滴下した。プロピルホスホン酸無水物の２－メチルテトラヒドロフラン溶液（１．６Ｍ、１３２ｍＬ、２１１ｍｍｏｌ、２．２ｅｑ．）を滴下ロートから１時間２０分かけて滴下した。滴下中の内温は１５．０～１７．４℃だった。滴下終了後１時間後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析で反応完結を確認した。５％炭酸ナトリウム水溶液（１８０ｍＬ）を滴下ロートからゆっくりと加えた。滴下時の内温は３０．３℃以下を保持した。滴下終了後、外温を２３℃に設定した。１５分以上撹拌した後に静置し、水層を除去した。５％硫酸水素ナトリウム水溶液（１８０ｍＬ）を有機層に加え、１０分以上撹拌した後に静置し、水層を除去した。５％硫酸水素ナトリウム水溶液（１８０ｍＬ）による分液洗浄をもう１回繰り返した。５％炭酸ナトリウム水溶液（１８０ｍＬ）を有機層に加え、１０分以上撹拌した後に静置し、水層を除去した。得られた有機層を減圧条件下で濃縮し、４４．９３ｇの粗生成物を得た。得られた粗生成物の一部をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、化合物Ｐ７を得た。
ＨＰＬＣ純度：１００％
測定方法：HPLC Method B
保持時間：3.80分
質量分析：m/z 385.34（[M-tBu+H]+）
（実施例１３）Cbz-Phe(4-Me)-Sar-OtBuの脱保護とモノエチル化反応のone-pot実施：ＴｓＯＨの添加によるＤＫＰ形成の抑制効果
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
 　撹拌子を入れたフラスコに５％パラジウム炭素（５０％ｗｅｔ、４８ｍｇ、０．０１１ｍｍｏｌ、５ｍｏｌ％金属Ｐｄ基準）とＴｓＯＨ・Ｈ２Ｏ（４３ｍｇ、０．２２７ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）を加えた。得られた混合物に、化合物Ｐ７の２－メチルテトラヒドロフラン溶液（１０ｍＬ／ｇ基質、１．０ｍＬ、０．２２７ｍｍｏｌ）とアセトニトリル（１１９μＬ、２．２７ｍｍｏｌ、１０．０ｅｑ．）を順次加えた。撹拌しながらフラスコ内の気相を窒素で置換し、水素で再置換し、２５℃で撹拌した。水素置換から６時間後又は１０．５時間後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析によって各化合物の比率を確認した。また、窒素で置換する前にＴｓＯＨ・Ｈ２Ｏ（４３ｍｇ、０．２２７ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）を添加した以外は同様にして、反応を行った。結果を表１４に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000046
 測定方法：HPLC Method B
保持時間：1.66分（化合物７－ＤＫＰ）、2.23分（化合物７）、2.32分（化合物７－Ｃ）、2.46分（化合物７－Ｄ）
質量分析：m/z 233.26（化合物７－ＤＫＰ、[M+H]+）、307.26（化合物７、[M+H]+）、335.34（化合物７－Ｃ、[M+H]+）、363.38（化合物７－Ｄ、[M+H]+）
（実施例１４）Cbz-Phe(4-Me)-Sar-OtBuの脱保護とモノエチル化反応のone-pot実施
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
 　撹拌子を入れたフラスコ又は耐圧反応容器に５％パラジウム炭素（５０％ｗｅｔ、９７ｍｇ、０．０２３ｍｍｏｌ、５ｍｏｌ％金属Ｐｄ基準）とｐ－トルエンスルホン酸（８６ｍｇ、０．４５４ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）を加えた。化合物Ｐ７の２－メチルテトラヒドロフラン溶液（１０ｍＬ／ｇ基質、２．０ｍＬ、０．４５４ｍｍｏｌ）とアセトニトリル（２３７μＬ、４．５４ｍｍｏｌ、１０．０ｅｑ．）を順次加えた。撹拌しながらフラスコ内の気相を窒素で置換し、水素で再置換し、３０℃で反応を行った。水素圧が１気圧の場合、水素を充填した風船を用いて水素を供給した。水素圧が５．５気圧の場合、反応液が入ったバイアルを耐圧容器に入れ、耐圧容器内を窒素置換後、水素置換を行った。水素置換から１０時間後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析によって各化合物の比率を確認した。結果を表１５に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000048
 測定方法：HPLC Method B
保持時間：2.23分（化合物７）、2.32分（化合物７－Ｃ）、2.46分（化合物７－Ｄ）
質量分析：m/z 307.26（化合物７、[M+H]+）、335.34（化合物７－Ｃ、[M+H]+）、363.38（化合物７－Ｄ、[M+H]+）
（実施例１５）Cbz-Aze-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBuの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000049
 　化合物７－Ｃ（３．００ｇ、８．９７ｍｍｏｌ、化合物７－Ｄを１．６％含む）を２００ｍＬフラスコ中で２－メチルテトラヒドロフラン（２７．０ｍＬ、３０ｅｑ．）に溶解し、化合物８（３．１７ｇ、１３．４５ｍｍｏｌ、１．５ｅｑ．）を加え、窒素置換した。外温１５℃まで冷却し、ＤＩＰＥＡ（９．０ｍＬ、５３．８ｍｍｏｌ、６．０ｅｑ．）をシリンジで加えた。プロピルホスホン酸無水物の２－メチルテトラヒドロフラン溶液（１．６Ｍ、２０ｍＬ、３１．４ｍｍｏｌ、３．５ｅｑ．）を滴下ロートから１７分かけて滴下した。滴下中の内温は１５．０～１８．０℃だった。滴下終了後５時間後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析で反応完結を確認した。５％炭酸ナトリウム水溶液（２７ｍＬ）を滴下ロートからゆっくりと加えた。滴下時の内温は２８．０℃以下を保持した。滴下終了後、外温を２５℃に設定した。１０分撹拌した後に静置し、水層を除去した。シクロヘキサン（１５ｍＬ）と５％硫酸水素ナトリウム水溶液（３０ｍＬ）を加え、１０分以上撹拌した後に静置し、水層を除去した。５％硫酸水素ナトリウム水溶液（３０ｍＬ）による分液洗浄をもう１回繰り返した。５％炭酸ナトリウム水溶液（３０ｍＬ）を加え、１０分以上撹拌した後に静置し、水層を除去した。分液洗浄によって原料に含まれていた化合物７－Ｄが完全に除去されていることをＨＰＬＣ分析で確認した。反応前および分液洗浄後の分析結果を表１６に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000050
 測定方法：HPLC Method B
保持時間：2.47分（化合物７－Ｃ）、2.61分（化合物７－Ｄ）、3.84分（化合物９）
質量分析：m/z 407.36（化合物９、[M-Sar+H]+）
（原料合成４）Cbz-Phe(4-Me)-Sar-OtBuの５０グラムスケール合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000051
 　２Ｌフラスコに化合物Ｐ６（５０．０３ｇ、１６０ｍｍｏｌ）とｔ－ブチル　サルコシネート塩酸塩（３４．５０ｇ、１９１ｍｍｏｌ、１．２ｅｑ．）を加え、窒素置換した。２－メチルテトラヒドロフラン（４８５ｍＬ、３０ｅｑ．）を加え、外温１５℃まで冷却し、ＤＩＰＥＡ（１４７ｍＬ、８６２ｍｍｏｌ、５．４ｅｑ．）を滴下ロートから滴下した。プロピルホスホン酸無水物の２－メチルテトラヒドロフラン溶液（１．６Ｍ、２１９ｍＬ、２．２ｅｑ．）を滴下ロートから１時間２０分かけて滴下した。滴下中の内温は１５．５～１８．５℃だった。滴下終了後１時間後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析で反応完結を確認した。５％炭酸ナトリウム水溶液（３００ｍＬ）を滴下ロートからゆっくりと加えた。滴下時の内温は２２．８℃以下を保持した。滴下終了後、外温を２３℃に設定した。１５分以上撹拌した後に静置し、水層を除去した。５％硫酸水素ナトリウム水溶液（３００ｍＬ）を加え、１０分以上撹拌した後に静置し、水層を除去した。５％硫酸水素ナトリウム水溶液（３００ｍＬ）による分液洗浄をもう２回繰り返した。５％炭酸ナトリウム水溶液（３００ｍＬ）を加え、１０分以上撹拌した後に静置し、水層を除去した。５％塩化ナトリウム水溶液（３００ｍＬ）を加え、１０分以上撹拌した後に静置し、水層を除去した。５％塩化ナトリウム水溶液（３００ｍＬ）による分液洗浄をもう１回繰り返した。得られた有機層を減圧条件下で濃縮した。得られた化合物Ｐ７の溶液（１７５．４１ｇ）に２－メチルテトラヒドロフラン（２２９ｍＬ）を加え、濃度０．１８９ｇ／ｇの溶液を調製した。
ＨＰＬＣ純度：９９．３７％
測定方法：HPLC Method B
保持時間：3.78分
質量分析：m/z 385.32（[M-tBu+H]+）
（実施例１６）Cbz-Phe(4-Me)-Sar-OtBuの脱保護とモノエチル化反応の３０グラムスケールのone-pot実施
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000052
 　撹拌翼付き１Ｌ耐圧反応容器内を窒素置換し、５％パラジウム炭素（５０％ｗｅｔ、２０．３０ｇ、４．７７ｍｍｏｌ、７ｍｏｌ％金属Ｐｄ基準）とＴｓＯＨ・Ｈ２Ｏ（１２．９５ｇ、６８．１ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）を加えた。化合物Ｐ７の２－メチルテトラヒドロフラン溶液（濃度０．１８９ｇ／ｇ、１５９．０ｇ溶液、３０．０ｇ基質、６８．１ｍｍｏｌ）を加え、２－メチルテトラヒドロフラン（１５０ｍＬ）とアセトニトリル（３５．６ｍＬ、６８１ｍｍｏｌ、１０．０ｅｑ．）を順次加えた。撹拌しながら窒素置換し、水素置換して３０℃で反応を行った。反応中の容器内圧は２－４ａｔｍを保持するように水素を供給した。反応開始後１時間、２時間、３時間の時点で１５０－３００ｔｏｒｒの減圧度で１分間脱気を行った。反応時間５時間の時点で５％パラジウム炭素（５０％ｗｅｔ、８．７０ｇ、２．０４ｍｍｏｌ、３ｍｏｌ％金属Ｐｄ基準）を追加した。反応時間１１時間の時点で窒素置換し、窒素雰囲気下で１２時間静置保管した。保管後、水素置換して反応を再開し、再開後７時間後に窒素置換し反応を終了した。パラジウム炭素を減圧吸引で濾別し、濾別したパラジウム炭素を２－メチルテトラヒドロフラン（９０ｍＬ）で３回洗浄した。ろ液と洗浄液を混合し、分液ロートを用いて５％炭酸ナトリウム水溶液（１５０ｍＬ）で２回分液洗浄した。洗浄後の有機層を減圧条件下で濃縮し、目的物である化合物７－Ｃを得た。収率は、化合物Ｐ６からの２工程を通して９３％であった。反応中および反応後の分析結果を表１７に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000053
 測定方法：HPLC Method B
保持時間：2.23分（化合物７）、2.32分（化合物７－Ｃ）、2.46分（化合物７－Ｄ）
質量分析：m/z 307.26（化合物７、[M+H]+）、335.34（化合物７－Ｃ、［Ｍ＋Ｈ］＋）、363.38（化合物７－Ｄ、[M+H]+）
（実施例１７）H-Phe-OtBuのモノメチル化反応におけるメチル化試薬の評価
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000054
 　撹拌子を入れたフラスコに５％パラジウム炭素（５０％　ｗｅｔ、７２ｍｇ、０．０１７ｍｍｏｌ、５ｍｏｌ％ on Pd metal basis）とH-Phe-OtBuのテトラヒドロフラン溶液（２０ｍＬ／ｇ基質、１．５ｍＬ、０．３３９ｍｍｏｌ）を加えた。ＴＥＡ（７１μＬ、０．５０８ｍｍｏｌ、１．５ｅｑ．）とメチル化試薬（０．４０７ｍｍｏｌ、１．２ｅｑ．）を順次加えた。撹拌しながら窒素置換し、水素置換して反応を行った。ＨＰＬＣ分析によって原料、モノメチル化体、ジメチル化体の比を確認した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000055
 測定方法：HPLC Method A
保持時間：H-Phe-OtBu:2.75 min, mono-Me: 2.84 min, di-Me: 2.98 min
質量分析：H-Phe-OtBu:m/z 166.47 ([M-tBu+H]+), mono-Me: m/z 236.59 ([M+H]+),di-Me: m/z 250.61 ([M+H]+)
（実施例１８）H-Phe-OtBuのSEM-Clをメチル化試薬として用いたモノメチル化反応：1グラムスケール
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000056
 　撹拌子を入れたフラスコに５％パラジウム炭素（５０％　ｗｅｔ、１．１５４ｇ、０．２７１ｍｍｏｌ、６ｍｏｌ％on Pd metal basis）とH-Phe-OtBuの２－メチルテトラヒドロフラン溶液（１０ｍＬ／ｇ基質、１０．０ｍＬ、４．５２ｍｍｏｌ）を加えた。ＴＥＡ（０．９４５ｍＬ、６．７８ｍｍｏｌ、１．５ｅｑ．）とＤＢＵ（６８μＬ、０．４５２ｍｍｏｌ、０．１ｅｑ．）を順次加え、最後にＳＥＭ－Ｃｌ（０．９６ｍＬ、５．４２ｍｍｏｌ、１．２ｅｑ．）を加えた。撹拌しながら窒素置換し、水素置換して３０℃で反応を行った。８時間後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析によって原料、モノメチル化体、ジメチル化体の比を確認した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000057
 測定方法：HPLC Method A
保持時間：H-Phe-OtBu:2.82 min, mono-Me: 2.90 min, di-Me: 3.06 min
質量分析：H-Phe-OtBu:m/z 166.42 ([M-tBu+H]+), mono-Me: m/z 236.53 ([M+H]+),di-Me: m/z 250.55 ([M+H]+)
（実施例１９）H-Phe-OtBuのモノメチル化反応：ホルムアルデヒド水溶液をメチル化試薬として用いた比較実験
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000058
 　撹拌子を入れたフラスコにH-Phe-OtBu（７５ｍｇ、０．３３９ｍｍｏｌ）を加え、テトラヒドロフラン（１．５ｍＬ）を加えた。５％パラジウム炭素（５０％　ｗｅｔ、７２ｍｇ、０．０１７ｍｍｏｌ、５ｍｏｌ％ on Pd metal basis）と３７％ホルムアルデヒド水溶液（２５．１μＬ、０．３３９ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）を順次加えた。撹拌しながら窒素置換し、水素置換して２５℃で反応を行った。６時間後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析によって原料、モノメチル化体、ジメチル化体の比を確認した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000059
 測定方法：HPLC Method A
保持時間：H-Phe-OtBu:2.75 min, mono-Me: 2.85 min, di-Me: 2.98 min
質量分析：H-Phe-OtBu: m/z 166.47 ([M-tBu+H]+), mono-Me: m/z 236.59 ([M+H]+),di-Me: m/z 250.61 ([M+H]+)
（実施例２０）H-Phe-OtBuのモノメチル化反応における水素ガス以外の還元剤の評価
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000060
 　撹拌子を入れたフラスコに５％パラジウム炭素（５０％　ｗｅｔ、２３１ｍｇ、０．０５４ｍｍｏｌ、６ｍｏｌ％ on Pd metal basis）とH-Phe-OtBuのテトラヒドロフラン溶液（１０ｍＬ／ｇ基質、２．０ｍＬ、０．９０４ｍｍｏｌ）を加えた。ＴＥＡ（１８９μＬ、１．３５６ｍｍｏｌ、１．５ｅｑ．）を加えた。SEM-Cl（１９２μＬ、１．０８５ｍｍｏｌ、１．２ｅｑ．）と還元剤（１．３５６ｍｍｏｌ、１．５ｅｑ．）を順次加えた。撹拌しながら窒素置換し３０℃で反応を行った。５時間後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析によって原料、モノメチル化体、ジメチル化体の比及び不純物の量を確認した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000061
 測定方法：HPLC Method A
保持時間：H-Phe-OtBu:2.80 min, mono-Me: 2.88 min, di-Me: 3.03 min
質量分析：H-Phe-OtBu: m/z 166.36 ([M-tBu+H]+), mono-Me: m/z 236.53 ([M+H]+),di-Me: m/z 250.55 ([M+H]+)
（実施例２１）Cbz-Val-MeAsp(OtBu)-NMe2の脱保護とモノメチル化反応のone-pot実施
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000062
 　撹拌子を入れたフラスコに5%パラジウム炭素（５０％　ｗｅｔ、４６ｍｇ、０．００４ｍｍｏｌ、２ｍｏｌ％on Pd metal basis）とCbz-Val-MeAsp(OtBu)-NMe2のテトラヒドロフラン溶液（１５ｍＬ／ｇ基質、１．５ｍＬ、０．２１６ｍｍｏｌ）を加えた。撹拌しながら窒素置換し、水素置換して２５℃で脱Ｃｂｚ反応を行った。１時間後に減圧条件で脱気し、５％パラジウム炭素（５０％　ｗｅｔ、４６ｍｇ、０．０１１ｍｍｏｌ、５ｍｏｌ％ on Pd metal basis）、ＴＥＡ（４５μＬ、０．３２４ｍｍｏｌ、１．５ｅｑ．）、SEM-Cl（４６μＬ、０．２５９ｍｍｏｌ、１．２ｅｑ．）を順次加えた。撹拌しながら窒素置換し、水素置換して３０℃でメチル化反応を行った。８．５時間後と１０時間後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析によって原料、ＮＨ２体、モノメチル化体、ジメチル化体の比を確認した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000063
 測定方法：HPLC Method A
保持時間：NH2:2.34 min, mono-Me: 2.39 min, di-Me: 2.48 min
質量分析：NH2: m/z 330.75 ([M+H]+), mono-Me: m/z 344.94 ([M+H]+), di-Me: m/z 358.80 ([M+H]+)
（実施例２２）Cbz-Ala-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBuの脱保護とモノメチル化反応のone-pot実施
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000064
 　撹拌子を入れたフラスコに５％パラジウム炭素（５０％　ｗｅｔ、２１ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ、２ｍｏｌ％ on Pd metal basis）とCbz-Ala-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBuのテトラヒドロフラン溶液（１５ｍＬ／ｇ基質、２．０ｍＬ、０．２５０ｍｍｏｌ）を加えた。撹拌しながら窒素置換し、水素置換して２５℃で脱Ｃｂｚ反応を行った。１時間後に減圧条件で脱気し、５％パラジウム炭素（５０％　ｗｅｔ、８５ｍｇ、０．０２０ｍｍｏｌ、８ｍｏｌ％ on Pd metal basis）、ＴＥＡ（７０μＬ、０．５００ｍｍｏｌ、２．０ｅｑ．）、SEM-Cl（５８μＬ、０．３２５ｍｍｏｌ、１．３ｅｑ．）を順次加えた。撹拌しながら窒素置換し、水素置換して３０℃でメチル化反応を行った。８時間後と１０時間後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析によって原料、ＮＨ２体、モノメチル化体、ジメチル化体の比を確認した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000065
 測定方法：HPLC Method A
保持時間：mono-Me:3.33 min, di-Me: 3.40 min
質量分析：mono-Me: m/z 420.93 ([M+H]+), di-Me: m/z 434.89([M+H]+)
（実施例２３）Cbz-Ala-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBuの脱保護とモノメチル化反応のone-pot実施：ホルムアルデヒド水溶液をメチル化試薬として用いた比較実験
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000066
 　撹拌子を入れたフラスコに５％パラジウム炭素（５０％　ｗｅｔ、５３ｍｇ、０．０１３ｍｍｏｌ、５ｍｏｌ％ on Pd metal basis）とCbz-Ala-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBuのテトラヒドロフラン溶液（１５ｍＬ／ｇ基質、２．０ｍＬ、０．２５０ｍｍｏｌ）を加えた。撹拌しながら窒素置換し、水素置換して２５℃で脱Ｃｂｚ反応を行った。１時間後に減圧条件で脱気し、３７％ホルムアルデヒド水溶液（２２．２μＬ、０．３００ｍｍｏｌ、１．２ｅｑ．）を加えた。撹拌しながら窒素置換し、水素置換して２５℃でメチル化反応を行った。７時間後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析によって原料、ＮＨ２体、モノメチル化体、ジメチル化体の比を確認した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000067
 測定方法：HPLC Method A
保持時間：mono-Me: 3.34 min, di-Me: 3.41 min
質量分析：mono-Me: m/z 420.93 ([M+H]+), di-Me: m/z 434.84([M+H]+)
（実施例２４）Cbz-Hph(3,5-F2-4-CF3)-Pro-cLeu-MeGcp-MeAsp(OtBu)-NMe2の脱保護とモノメチル化反応のone-pot実施
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000068
 　撹拌子を入れたフラスコに５％パラジウム炭素（５０％　ｗｅｔ、１２ｍｇ、０．００３ｍｍｏｌ、２ｍｏｌ％ on Pd metal basis）とCbz-Hph(3,5-F2-4-CF3)-Pro-cLeu-MeGcp-MeAsp(OtBu)-NMe2のテトラヒドロフラン溶液（１５ｍＬ／ｇ基質、２．０ｍＬ、０．１３８ｍｍｏｌ）を加えた。撹拌しながら窒素置換し、水素置換して２５℃で脱Ｃｂｚ反応を行った。１時間後に減圧条件で脱気し、５％パラジウム炭素（５０％　ｗｅｔ、４７ｍｇ、０．０１１ｍｍｏｌ、８ｍｏｌ％ on Pd metal basis）、ＴＥＡ（３９μＬ、０．２７６ｍｍｏｌ、２．０ｅｑ．）、SEM-Cl（３９μＬ、０．２７６ｍｍｏｌ、１．５ｅｑ．）を順次加えた。撹拌しながら窒素置換し、水素置換して３５℃でメチル化反応を行った。８時間後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析によって原料、ＮＨ２体、モノメチル化体、ジメチル化体の比を確認した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000069
 測定方法：HPLC Method A
保持時間：NH2: 4.22 min, mono-Me: 4.28 min, di-Me: 4.40 min
質量分析：NH2: m/z 843.93 ([M+H]+), mono-Me: m/z 858.35 ([M+H]+), di-Me: m/z 872.20 ([M+H]+)
（実施例２５）Cbz-Hph(3,5-F2-4-CF3)-Pro-cLeu-MeGcp-MeAsp(OtBu)-NMe2の脱保護とモノメチル化反応のone-pot実施：ホルムアルデヒド水溶液をメチル化試薬として用いた比較実験
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000070
 　撹拌子を入れたフラスコに５％パラジウム炭素（５０％　ｗｅｔ、２９ｍｇ、０．００７ｍｍｏｌ、５ｍｏｌ％ on Pd metal basis）とCbz-Hph(3,5-F2-4-CF3)-Pro-cLeu-MeGcp-MeAsp(OtBu)-NMe2のテトラヒドロフラン溶液（１５ｍＬ／ｇ基質、２．０ｍＬ、０．１３８ｍｍｏｌ）を加えた。撹拌しながら窒素置換し、水素置換して２５℃で脱Ｃｂｚ反応を行った。１時間後に減圧条件で脱気し、３７％ホルムアルデヒド水溶液（１２．３μＬ、０．１６６ｍｍｏｌ、１．２ｅｑ．）を加えた。撹拌しながら窒素置換し、水素置換して２５℃でメチル化反応を行った。７時間後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析によって原料、ＮＨ２体、モノメチル化体、ジメチル化体の比を確認した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000071
 測定方法：HPLC Method A
保持時間：Cbz-NHR:6.00 min, NH2: 4.21 min, mono-Me: 4.29 min, di-Me: 4.38 min
質量分析：Cbz-NHR: m/z 1000.23 ([M+Na]+), NH2: m/z 844.16 ([M+H]+),mono-Me: m/z 858.35 ([M+H]+), di-Me: m/z 872.43 ([M+H]+)
（実施例２６）H-Phe-OtBuのモノプロピル化：還元剤としてトリエチルシランを用いた例
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000072
 　撹拌子を入れたフラスコにH-Phe-OtBu（８４ｍｇ、０．３８０ｍｍｏｌ）を加え、テトラヒドロフラン（２．０ｍＬ）を加えた。５％パラジウム炭素（５０％　ｗｅｔ、８２ｍｇ、０．０１５ｍｍｏｌ、５ｍｏｌ％ on Pd metal basis）を加えた。ｎ－プロパナール（３６μＬ、０．４９４ｍｍｏｌ、１．３ｅｑ．）とトリエチルシラン（３０３μＬ、１．８９９ｍｍｏｌ、５．０ｅｑ．）を順次加え、撹拌しながら窒素置換し２５℃で反応を行った。２．５時間後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析によって原料、ＮＨ２体、モノプロピル化体、ジプロピル化体の比を確認した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000073
 測定方法：HPLC Method A
保持時間：H-Phe-OtBu: 2.70 min, mono-Pr: 3.12 min, di-Pr: 3.61 min
質量分析：H-Phe-OtBu: m/z 166.47 ([M-tBu+H]+), mono-Pr: m/z 264.74 ([M+H]+),di-Pr: m/z 306.81 ([M+H]+)
（実施例２７）Cbz-Ala-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBuの脱保護とモノプロピル化反応のone-pot実施
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000074
 　撹拌子を入れたフラスコに５％パラジウム炭素（５０％　ｗｅｔ、５３ｍｇ、０．０１３ｍｍｏｌ、５ｍｏｌ％ on Pd metal basis）とCbz-Ala-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBuのテトラヒドロフラン溶液（１５ｍＬ／ｇ基質、２．０ｍＬ、０．２５０ｍｍｏｌ）を加えた。撹拌しながら窒素置換し、水素置換して脱Ｃｂｚ反応を行った。１時間後に減圧条件で脱気し、ｎ－プロパナール（２７μＬ、０．３７５ｍｍｏｌ、１．５ｅｑ．）を加えた。撹拌しながら窒素置換し、水素置換してプロピル化反応を行った。５時間後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析によって原料、ＮＨ２体、モノプロピル化体、ジプロピル化体の比及び不純物の量を確認した。ｎ－プロパナール添加直前のＤＢＵ（３．７μＬ、０．０２５ｍｍｏｌ、０．１ｅｑ．）添加有無の２通りの実験を実施し、結果を比較した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000075
 測定方法：HPLC Method A
保持時間：NH2: 3.30 min, mono-Pr: 3.59 min, di-Pr: 3.95 min
質量分析：NH2: m/z 406.85 ([M+H]+), mono-Pr: m/z 449.03 ([M+H]+), di-Pr: m/z 490.92 ([M+H]+)
（実施例２８）Cbz-Hph(3,5-F2-4-CF3)-Pro-cLeu-MeGcp-MeAsp(OtBu)-NMe2の脱保護とモノプロピル化反応のone-pot実施
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000076
 　撹拌子を入れたフラスコに５％パラジウム炭素（５０％　ｗｅｔ、２９ｍｇ、０．０１４ｍｍｏｌ、５ｍｏｌ％ on Pd metal basis）とCbz-Hph(3,5-F2-4-CF3)-Pro-cLeu-MeGcp-MeAsp(OtBu)-NMe2のテトラヒドロフラン溶液（１５ｍＬ／ｇ基質、２．０ｍＬ、０．１３８ｍｍｏｌ）を加えた。撹拌しながら窒素置換し、水素置換して脱Ｃｂｚ反応を行った。１時間後に減圧条件で脱気し、ｎ－プロパナール（１３μＬ、０．１８０ｍｍｏｌ、１．３ｅｑ．）を加えた。撹拌しながら窒素置換し、水素置換してプロピル化反応を行った。７時間後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析によって原料、ＮＨ２体、モノプロピル化体、ジプロピル化体の比及び不純物の量を確認した。ｎ－プロパナール添加直前のＤＢＵ（２．１μＬ、０．０１４ｍｍｏｌ、０．１ｅｑ．）添加有無の２通りの実験を実施し、結果を比較した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000077
 測定方法：HPLC Method A
保持時間：mono-Pr: 4.47 min, di-Pr: 4.79 min
質量分析：mono-Pr: m/z 886.34 ([M+H]+), di-Pr: m/z 928.41 ([M+H]+)
（実施例２９）Cbz-Val-MeAsp(OtBu)-NMe2の脱保護とモノブチル化反応のone-pot実施
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000078
 　撹拌子を入れたフラスコに５％パラジウム炭素（５０％　ｗｅｔ、１２４ｍｇ、０．０２９ｍｍｏｌ、１０ｍｏｌ％ on Pd metal basis）とCbz-Val-MeAsp(OtBu)-NMe2のテトラヒドロフラン溶液（１５ｍＬ／ｇ基質、２．０ｍＬ、０．２９１ｍｍｏｌ）を加えた。ブチロニトリル（２５３μＬ、２．９１ｍｍｏｌ、１０．０ｅｑ．）を加え、撹拌しながら窒素置換し、水素置換して３０℃で反応を行った。８時間後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析によって原料、ＮＨ２体、モノブチル化体、ジブチル化体の比を確認した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000079
 測定方法：HPLC Method A
保持時間：NH2:2.28 min, mono-Bu: 2.86 min, di-Bu: 3.49 min
質量分析：NH2:m/z 330.75 ([M+H]+), mono-Bu: m/z 386.90 ([M+H]+), di-Bu: m/z 442.99 ([M+H]+)
（実施例３０）Cbz-Ala-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBuの脱保護とモノブチル化反応のone-pot実施
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000080
 　撹拌子を入れたフラスコに５％パラジウム炭素（５０％　ｗｅｔ、５３ｍｇ、０．０１３ｍｍｏｌ、５ｍｏｌ％ on Pd metal basis）とCbz-Ala-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBuのテトラヒドロフラン溶液（１５ｍＬ／ｇ基質、２．０ｍＬ、０．２５０ｍｍｏｌ）を加えた。撹拌しながら窒素置換し、水素置換して脱Ｃｂｚ反応を行った。１時間後に減圧条件で脱気し、ｎ－ブタナール（３３μＬ、０．３７５ｍｍｏｌ、１．５ｅｑ．）を加えた。撹拌しながら窒素置換し、水素置換してブチル化反応を開始した。５時間後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析によって原料、ＮＨ２体、モノブチル化体、ジブチル化体の比及び不純物の量を確認した。ｎ－ブタナール添加直前のＤＢＵ（３．７μＬ、０．０２５ｍｍｏｌ、０．１ｅｑ．）添加有無の２通りの実験を実施し、結果を比較した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000081
 測定方法：HPLC Method A
保持時間：NH2:3.30 min, mono-Bu: 3.80 min, di-Bu: 4.35 min
質量分析：NH2: m/z 406.85 ([M+H]+), mono-Bu: m/z 463.11 ([M+H]+), di-Bu: m/z 519.03 ([M+H]+)
（実施例３１）Cbz-Hph(3,5-F2-4-CF3)-Pro-cLeu-MeGcp-MeAsp(OtBu)-NMe2の脱保護とモノブチル化反応のone-pot実施
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000082
 　撹拌子を入れたフラスコに５％パラジウム炭素（５０％　ｗｅｔ、１２ｍｇ、０．００３ｍｍｏｌ、２ｍｏｌ％ on Pd metal basis）とCbz-Hph(3,5-F2-4-CF3)-Pro-cLeu-MeGcp-MeAsp(OtBu)-NMe2のテトラヒドロフラン溶液（１５ｍＬ／ｇ基質、２．０ｍＬ、０．１３８ｍｍｏｌ）を加えた。撹拌しながら窒素置換し、水素置換して２５℃で脱Ｃｂｚ反応を行った。１時間後に減圧条件で脱気し、５％パラジウム炭素（５０％　ｗｅｔ、４７ｍｇ、０．０１１ｍｍｏｌ、８ｍｏｌ％ on Pd metal basis）とブチロニトリル（１２０μＬ、１．３８２ｍｍｏｌ、１０．０ｅｑ．）を順次加えた。撹拌しながら窒素置換し、水素置換して３０℃でブチル化反応を行った。１０時間後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析によって原料、ＮＨ２体、モノブチル化体、ジブチル化体の比を確認した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000083
 測定方法：HPLC Method A
保持時間：mono-Bu: 4.56 min
質量分析：mono-Bu: m/z 900.31 ([M+H]+)
（実施例３２）Cbz-Val-MeAsp(OtBu)-NMe2の脱保護とモノヘキシル化反応のone-pot実施
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000084
 　撹拌子を入れたフラスコに５％パラジウム炭素（５０％　ｗｅｔ、６２ｍｇ、０．０１５ｍｍｏｌ、５ｍｏｌ％ on Pd metal basis）とCbz-Val-MeAsp(OtBu)-NMe2のテトラヒドロフラン溶液（１５ｍＬ／ｇ基質、２．０ｍＬ、０．２９１ｍｍｏｌ）を加えた。撹拌しながら窒素置換し、水素置換して脱Ｃｂｚ反応を行った。１時間後に減圧条件で脱気し、ｎ－ヘキサナール（４６μＬ、０．３７９ｍｍｏｌ、１．３ｅｑ．）を加えた。撹拌しながら窒素置換し、水素置換してヘキシル化反応を２５℃で行った。６時間後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析によって原料、ＮＨ２体、モノヘキシル化体、ジヘキシル化体の比及び不純物の量を確認した。ｎ－ヘキサナール添加直前のＤＢＵ（４．４μＬ、０．０２９ｍｍｏｌ、０．１ｅｑ．）添加有無の２通りの実験を実施し、結果を比較した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000085
 測定方法：HPLC Method A
保持時間：NH2: 2.32 min, mono-Hex: 3.42 min, di-Hex: 4.47 min
質量分析：NH2: m/z ([M+H]+), mono-Hex: m/z 415.11 ([M+H]+), di-Hex: m/z499.02 ([M+H]+)
（実施例３３）Cbz-Val-MeAsp(OtBu)-NMe2の脱保護とモノヘキシル化反応のone-pot実施：還元剤としてトリエチルシランを用いた例
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000086
 　撹拌子を入れたフラスコに５％パラジウム炭素（５０％　ｗｅｔ、６２ｍｇ、０．０１５ｍｍｏｌ、５ｍｏｌ％ on Pd metal basis）とCbz-Val-MeAsp(OtBu)-NMe2のテトラヒドロフラン溶液（１５ｍＬ／ｇ基質、２．０ｍＬ、０．２９１ｍｍｏｌ）を加えた。ｎ－ヘキサナール（４６μＬ、０．３７９ｍｍｏｌ、１．３ｅｑ．）とトリエチルシラン（２３３μＬ、１．４５６ｍｍｏｌ、５．０ｅｑ．）を順次加え、撹拌しながら窒素置換して２５℃で反応を行った。７時間後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析によって原料、ＮＨ２体、モノヘキシル化体、ジヘキシル化体の比及び不純物の量を確認した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000087
 測定方法：HPLC Method A
保持時間：mono-Hex: 3.44 min, di-Hex: 4.47 min
質量分析：mono-Hex: m/z 415.00 ([M+H]+), di-Hex: m/z 499.02 ([M+H]+)
（実施例３４）Cbz-Hph(3,5-F2-4-CF3)-Pro-cLeu-MeGcp-MeAsp(OtBu)-NMe2の脱保護とモノヘキシル化反応のone-pot実施
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000088
 　撹拌子を入れたフラスコに５％パラジウム炭素（５０％　ｗｅｔ、２９ｍｇ、０．０１４ｍｍｏｌ、５ｍｏｌ％ on Pd metal basis）とCbz-Hph(3,5-F2-4-CF3)-Pro-cLeu-MeGcp-MeAsp(OtBu)-NMe2のテトラヒドロフラン溶液（１５ｍＬ／ｇ基質、２．０ｍＬ、０．１３８ｍｍｏｌ）を加えた。撹拌しながら窒素置換し、水素置換して脱Ｃｂｚ反応を行った。１時間後に減圧条件で脱気し、ｎ－ヘキサナール（２２μＬ、０．１８０ｍｍｏｌ、１．３ｅｑ．）を加えた。撹拌しながら窒素置換し、水素置換してヘキシル化反応を２５℃で行った。６時間後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析によって原料、ＮＨ２体、モノヘキシル化体、ジヘキシル化体の比及び不純物の量を確認した。ｎ－ヘキサナール添加直前のＤＢＵ（２．１μＬ、０．０１４ｍｍｏｌ、０．１ｅｑ．）添加有無の２通りの実験を実施し、結果を比較した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000089
 測定方法：HPLC Method A
保持時間：mono-Hex: 4.87 min, di-Hex: 5.54 min
質量分析：mono-Hex: m/z 928.41([M+H]+), di-Hex: m/z 1012.54 ([M+H]+)
（実施例３５）H-Phe(4-Me)-OHのモノエチル化反応
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000090
 　撹拌子を入れたフラスコにH-Phe(4-Me)-OH（１００ｍｇ、０．５５８ｍｍｏｌ）を加え、エタノール（２．０ｍＬ）を加えた。２Ｍ　ＮａＯＨ水溶液（０．２６５ｍＬ、０．５３０ｍｍｏｌ、０．９５ｅｑ．）を加え、基質を溶解して得られた溶液に５％パラジウム炭素（５０％　ｗｅｔ、１１９ｍｇ、０．０２８ｍｍｏｌ、５ｍｏｌ％ on Pd metal basis）とアセトニトリル（０．２９１ｍＬ、５．５８ｍｍｏｌ、１０．０ｅｑ．）を加えた。撹拌しながら窒素置換し、水素置換して３０℃でエチル化反応を行った。７時間後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析によって原料、ＮＨ２体、モノエチル化体、ジエチル化体の比を確認した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000091
 測定方法：HPLC Method A
保持時間：mono-Et: 2.00 min, di-Et: 2.29 min
質量分析：mono-Et: m/z 208.77 ([M+H]+), di-Et: m/z 236.76([M+H]+)
（実施例３６）H-Phe(4-Me)-OHのモノプロピル化反応
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000092
 　撹拌子を入れたフラスコにH-Phe(4-Me)-OH（１００ｍｇ、０．５５８ｍｍｏｌ）を加え、テトラヒドロフラン（２．０ｍＬ）を加えた。２Ｍ　ＮａＯＨ水溶液（ｘ　ｅｑ．、表３７参照）を加え、基質を溶解して得られた溶液に５％パラジウム炭素（５０％　ｗｅｔ、１１９ｍｇ、０．０２８ｍｍｏｌ、５ｍｏｌ％ on Pd metal basis）を加えた。塩基性添加剤（ｙ　ｅｑ．、表３７参照）及びｎ－プロパナール（５２μＬ、０．７２５ｍｍｏｌ、１．３ｅｑ．）を加えた。撹拌しながら窒素置換し、水素置換して２５℃でプロピル化反応を行った。ＨＰＬＣ分析によって原料、ＮＨ２体、モノエチル化体、ジエチル化体の比を確認した。ＮａＯＨの当量およびＥｔ３Ｎ（７８μＬ、１．０ｅｑ．，０．５５８ｍｍｏｌ）またはＤＢＵ（８．３μＬ、０．０５６ｍｍｏｌ、０．１ｅｑ．）の添加の効果を評価した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000093
 測定方法：HPLC Method A
保持時間：H-Phe(4-Me)-OH: 1.88 min, mono-Pr: 2.23 min, di-Pr: 3.00 min
質量分析：H-Phe(4-Me)-OH: m/z 180.50 ([M+H]+), mono-Pr: m/z 222.68 ([M+H]+), di-Pr: m/z 264.63 ([M+H]+)
（原料合成５）Cbz-Val-MeAsp(OtBu)-NMe2の合成 
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000094
 　実施例４９に記載の合成法によって得られたH-MeAsp(OtBu)-NMe2の溶液を減圧濃縮し溶媒を除去し、４．２６ｇのオイルを得た。２－メチルテトラヒドロフラン（４３ｍＬ）を加え溶液とし、Cbz-Val-OH（５．１１ｇ、２０．３５ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ．）を加えた。フラスコを氷浴で冷却し、ＤＩＰＥＡ（１２．９ｍＬ、７４．０ｍｍｏｌ、４．０ｅｑ．）加えた。プロピルホスホン酸無水物の２－メチルテトラヒドロフラン溶液（１．６Ｍ、２３ｍＬ、３７．０ｍｍｏｌ、２．０ｅｑ．）をシリンジで１０分かけて滴下した。滴下中の内温は８．０～１９．０℃を維持した。滴下終了後１時間後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析で反応完結を確認した。５％炭酸ナトリウム水溶液（３４ｍＬ）を滴下し撹拌した後に分液ロートに移送して静置し、水層を除去した。５％硫酸水素ナトリウム水溶液（３４ｍＬ）を加えよく振った後に静置し、水層を除去した。５％硫酸水素ナトリウム水溶液（３４ｍＬ）による分液洗浄をもう１回繰り返した。５％炭酸ナトリウム水溶液（３４ｍＬ）を加え、よく振った後に静置し、水層を除去した。得られた有機層を減圧条件下で濃縮し、９．０ｇの粗生成物を得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、７．０ｇのCbz-Val-MeAsp(OtBu)-NMe2を得た。
収率：82%
HPLC純度：100%
測定方法：HPLC Method A
保持時間：4.45 min
質量分析：m/z 486.76 ([M+Na]+)
（原料合成６）Cbz-Ala-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBuの合成 
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000095
 　実施例３８に記載の合成法によって得られたH-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBu塩酸塩（６．０ｇ、１６．１８ｍｍｏｌ）を分液ロート中で２－メチルテトラヒドロフラン（１００ｍＬ）に懸濁させ、５％炭酸ナトリウム水溶液（１００ｍＬ）で洗浄し水層を除去した。５％炭酸ナトリウム水溶液（１００ｍＬ）による分液洗浄をもう１回繰り返した。得られた有機層を減圧条件下で濃縮し、４．８１ｇのH-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBuを得た。２－メチルテトラヒドロフラン（４８ｍＬ）を加え溶液とし、Cbz-Ala-OH（３．５２ｇ、１５．７９ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ．）を加えた。ＤＩＰＥＡ（１０．０ｍＬ、５７．４ｍｍｏｌ、４．０ｅｑ．）を加え、プロピルホスホン酸無水物の２－メチルテトラヒドロフラン溶液（１．６Ｍ、１８ｍＬ、２８．７ｍｍｏｌ、２．０ｅｑ．）をシリンジで１０分かけて滴下した。滴下終了後３時間室温で撹拌した。５％炭酸ナトリウム水溶液（４０ｍＬ）を滴下し撹拌した後に分液ロートに移送して静置し、水層を除去した。５％硫酸水素ナトリウム水溶液（４０ｍＬ）による分液洗浄を４回実施した後、５％炭酸ナトリウム水溶液（４０ｍＬ）による分液洗浄を２回実施した。得られた有機層を減圧条件下で濃縮し５．２６ｇの粗生成物を得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、３．１４ｇのCbz-Ala-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBuを得た。
収率：40%
HPLC純度：99.5%
測定方法：HPLC Method A
保持時間：5.50 min
質量分析：m/z 562.86 ([M+Na]+)
（原料合成７）Cbz-Hph(3,5-F2-4-CF3)-Pro-cLeu-MeGcp-MeAsp(OtBu)-NMe2
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000096
 　実施例５９に記載の合成法によって得られたCbz-Hph(3,5-F2-4-CF3)-Pro-cLeu-MeGcp-MeAsp(OtBu)-NMe2の溶液を減圧濃縮し溶媒を除去し、６．１ｇのオイルを得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、４．４ｇのCbz-Hph(3,5-F2-4-CF3)-Pro-cLeu-MeGcp-MeAsp(OtBu)-NMe2を得た。
収率：88%
HPLC純度：100%
測定方法：HPLC Method A
保持時間：6.00 min
質量分析：m/z 1000.23 ([M+Na]+)
（実施例３７）Cbz-Phe(4-Me)-Sar-OtBuの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000097
 　反応容器にCbz-Phe(4-Me)-OH（１７．２２ｇ、５５．０ｍｍｏｌ）、H-Sar-OtBu塩酸塩（１１．０６ｇ、５９．７ｍｍｏｌ）、２－メチルテトラヒドロフラン（１４１ｇ）とＤＩＰＥＡ（３７．９１ｇ、２９３ｍｍｏｌ）を２５℃にて加えた。プロピルホスホン酸無水物の２－メチルテトラヒドロフラン溶液（５０．４ｗｔ％、７５．３１ｇ、１１９ｍｍｏｌ）を１時間３０分かけて滴下した。滴下終了後２時間攪拌した後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析で反応完結を確認した。５％炭酸ナトリウム水溶液（１０２ｇ）を４０分かけて滴下した。１０分撹拌した後に静置し、水層を除去した。得られた有機層を５％硫酸水素ナトリウム一水和物水溶液（１０２ｇ、２回）、５％炭酸ナトリウム水溶液（１０２ｇ）、５％塩化ナトリウム水溶液（１０２ｇ、２回）で分液洗浄した後、減圧条件下で濃縮し、Cbz-Phe(4-Me)-Sar-OtBuを含む溶液（３８．８０ｇ）を得た。
HPLC純度：99.87%
測定方法：HPLC Method B
保持時間：4.11 min
質量分析：m/z 441([M+H]+)
（実施例３８）H-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBu塩酸塩の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000098
 　反応容器に５％パラジウム炭素（５５．３１％　ｗｅｔ、２．６０ｇ、０．５４６ｍｍｏｌ、１ｍｏｌ％ on Pd metal basis）、実施例３７で得られたCbz-Phe(4-Me)-Sar-OtBuの溶液（３８．８０ｇ）、２－メチルテトラヒドロフラン（１７９ｇ）、アセトニトリル（２２．２９ｇ、５４３ｍｍｏｌ、１０．０ｅｑ．）、ＴｓＯＨ・Ｈ２Ｏ（１０．８５ｇ、５７．０ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）と水（１．０３ｇ、５６．９ｍｍｏｌ）を加えた。２５℃で窒素置換し、水素置換して水素雰囲気下（０．２０ＭＰａＧ）で２時間攪拌した後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析でCbz-Phe(4-Me)-Sar-OtBuが消失したことを確認した。反応容器を窒素置換し、５％パラジウム炭素（５５．３１％　ｗｅｔ、１５．５０ｇ、３．２６ｍｍｏｌ、６ｍｏｌ％ on Pd metal basis）を加えた。反応容器を水素置換した後、３３℃に昇温した。水素雰囲気下（０．２０ＭＰａＧ）、３３℃にて７時間攪拌した後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析で反応率が９９％であることを確認した。反応混合物を濾過した後、ケーキを２－メチルテトラヒドロフラン（６８ｇで２回、５１ｇで１回）により計３回洗浄した。濾液と洗浄液の混合溶液を５％炭酸ナトリウム水溶液（１１９ｇ）で２回分液洗浄した後、得られた有機層を減圧条件下で濃縮した。２－メチルテトラヒドロフラン（２７ｇ）を加え、減圧条件下で３４ｍＬまで濃縮した後、２－メチルテトラヒドロフラン（１２ｇ）を加えた。得られた溶液に、ピリジン塩酸塩（６．２７ｇ、５４．３ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）をアセトニトリル（１９ｇ）に溶かした溶液を７０分かけて滴下することで、H-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBu塩酸塩の結晶を析出させた。アセトニトリル（６．８ｇ）を加えた後、上記と同様の手法で実施した別の実験により取得したH-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBu塩酸塩の結晶（１７．０４ｍｇ）を加えた。３０分攪拌した後、ＭＴＢＥ（７３ｇ）を６０分かけて滴下した。６０分攪拌した後、ＭＴＢＥ（１２２ｇ）を６０分かけて滴下した。１４時間攪拌した後、スラリーを濾過した。得られた固体を２－メチルテトラヒドロフラン（６８ｇ）により洗浄した後、２－メチルテトラヒドロフラン（３４ｇ）とＭＴＢＥ（３４ｇ）の混合溶液により洗浄した。得られた固体を減圧条件下にて乾燥し、H-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBu塩酸塩（１６．６２ｇ）を得た。
H-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBu塩酸塩の融点：196℃
収率：82%(Cbz-Phe(4-Me)-Sar-OtBuから2工程での収率)
HPLC純度：100%
測定方法：HPLC Method B
保持時間：2.51 min
質量分析：m/z 335([M+H]+)
（実施例３９）Cbz-Aze-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBuの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000099
 　反応容器にCbz-Aze-OH（１２．９４ｇ、５５．０ｍｍｏｌ）、２－メチルテトラヒドロフラン（１３２ｇ）、実施例３８と同様の手法により合成したH-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBu塩酸塩（１７．０１ｇ、４５．９ｍｍｏｌ）、ＤＩＰＥＡ（４７．４１ｇ、３６７ｍｍｏｌ）を室温にて加えた。プロピルホスホン酸無水物の２－メチルテトラヒドロフラン溶液（５０．４ｗｔ％、８７．００ｇ、１３７ｍｍｏｌ）を２５℃にて１時間３０分かけて添加した。添加終了後２時間攪拌した後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析で反応完結を確認した。５％炭酸ナトリウム水溶液（１５５ｇ）を加え、２０分撹拌した後に静置し、水層を除去した。得られた有機層を４％硫酸水溶液（１５６ｇ）、１０％硫酸水素カリウム水溶液（１５５ｇ）、５％炭酸ナトリウム水溶液（１５５ｇ）により分液洗浄した後、２－メチルテトラヒドロフラン（４３ｇ）を加えて減圧条件下で濃縮する操作を３回繰り返した。得られた残渣に２－メチルテトラヒドロフラン（２９ｇ）を加え、Cbz-Aze-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBuを含む溶液（７８．２４ｇ）を得た。
HPLC純度：98.22%
測定方法：HPLC Method B
保持時間：4.14 min
質量分析：m/z 552([M+H]+)
（実施例４０）H-Aze-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBuの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000100
 　反応容器に１０％パラジウム炭素（５５．６５％　ｗｅｔ、７．７６ｇ、３．２１ｍｍｏｌ、７ｍｏｌ％ on Pd metal basis）と２－メチルテトラヒドロフラン（３９ｇ）を加えた。２５℃で窒素置換し、水素置換して水素雰囲気下（０．４０ＭＰａＧ）で２時間攪拌した。実施例３９で得られたCbz-Aze-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBuの溶液（７８．２４ｇ）、２－メチルテトラヒドロフラン（２９ｇ）と水（１．７１ｇ、９４．９ｍｍｏｌ）を加えた。水素雰囲気下（０．２０ＭＰａＧ）で３時間攪拌した後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析で反応完結を確認した。反応混合物を濾過した後、ケーキを２－メチルテトラヒドロフラン（６１ｇ）により２回洗浄した。濾液と洗浄液の混合溶液を減圧条件下で濃縮した後、２－メチルテトラヒドロフラン（３４ｇ）を加えて減圧条件下で濃縮する操作を２回繰り返した。得られた残渣に２－メチルテトラヒドロフラン（３４ｇ）を加え、H-Aze-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBuを含む溶液（７０．５９ｇ）を得た。
HPLC純度：96.53%
測定方法：HPLC Method B
保持時間：2.67 min
質量分析：m/z 418([M+H]+)
（実施例４１）Cbz-MeAla-Aze-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBuの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000101
 　反応容器に実施例４０で得られたH-Aze-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBuの溶液（７０．５９ｇ）、Cbz-MeAla-OH（１３．１３ｇ、５５．０ｍｍｏｌ）、２－メチルテトラヒドロフラン（６８ｇ）、Ｎ－メチルモルホリン（１１．６０ｇ、１１５ｍｍｏｌ）を２５℃にて加えた。プロピルホスホン酸無水物の２－メチルテトラヒドロフラン溶液（５０．４ｗｔ％、６９．４０ｇ、１１０ｍｍｏｌ）を２５℃にて１時間３０分かけて添加した。添加終了後５時間攪拌した後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析で反応完結を確認した。５％炭酸ナトリウム水溶液（１７７ｇ）を加えた後、すぐに１－メチルイミダゾール（３．７７ｇ、４５．９ｍｍｏｌ）を加え、２時間撹拌した後に静置し、水層を除去した。得られた有機層を４％硫酸水溶液（１３８ｇ）、１０％硫酸水素カリウム水溶液（１３８ｇ）、５％炭酸ナトリウム水溶液（１３８ｇ）により分液洗浄した後、２－メチルテトラヒドロフラン（５１ｇ）を加えて減圧条件下で濃縮する操作を３回繰り返した。得られた残渣に２－メチルテトラヒドロフラン（２７ｇ）を加え、Cbz-MeAla-Aze-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBuを含む溶液（８３．８９　ｇ）を得た。
HPLC純度：97.28%
測定方法：HPLC Method B
保持時間：4.07 min
質量分析：m/z 637([M+H]+)
（実施例４２）H-MeAla-Aze-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBuの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000102
 　反応容器に１０％パラジウム炭素（５５．６５％　ｗｅｔ、５．５４ｇ、２．２９ｍｍｏｌ、５ｍｏｌ％ on Pd metal basis）と２－メチルテトラヒドロフラン（３９ｇ）を加えた。２５℃で窒素置換し、水素置換して水素雰囲気下（０．４０ＭＰａＧ）で２時間攪拌した。実施例４１で得られたCbz-MeAla-Aze-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBuの溶液（８３．８９ｇ）、２－メチルテトラヒドロフラン（２７ｇ）と水（２．１０ｇ、１１７ｍｍｏｌ）を加えた。水素雰囲気下（０．２０ＭＰａＧ）で３時間攪拌した後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析で反応完結を確認した。反応混合物を濾過した後、ケーキを２－メチルテトラヒドロフラン（５９ｇ）により２回洗浄した。濾液と洗浄液の混合溶液を減圧条件下で濃縮した後、濾過した。得られた濾液にＣＰＭＥ（８５ｇ）を加えて減圧条件下で６８ｍＬまで濃縮する操作を３回繰り返した。得られた残渣に、４０℃で攪拌しながらＣＰＭＥ（１５ｇ）、ＭＴＢＥ（２６ｇ）とｎ－ヘプタン（２７ｇ）を加えた後、実施例６６と同様の手法により取得したH-MeAla-Aze-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBuの結晶（１６．６６ｍｇ）を加えた。４０℃で１時間攪拌した後、２時間かけて２０℃まで冷却した。２０℃で１６時間攪拌した後、ｎ－ヘプタン（２４１ｇ）を１時間かけて添加した。２０℃で４時間攪拌した後、２時間かけて８℃まで冷却した。８℃で１６時間攪拌した後、スラリーを濾過した。得られた固体をｎ－ヘプタン（６６ｇ）により洗浄した後、減圧条件下にて乾燥し、H-MeAla-Aze-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBuの結晶（１８．２８ｇ）を得た。
H-MeAla-Aze-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBuの融点：95℃
収率：79%(H-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBuから4工程での収率)
HPLC純度：99.76%
測定方法：HPLC Method B
保持時間：2.62 min
質量分析：m/z 503([M+H]+)
（実施例４３）Cbz-Ile-MeAla-Aze-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBuの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000103
 　反応容器にトルエン（９２ｇ）、５％硫酸水素ナトリウム一水和物水溶液（１００ｇ）とCbz-Ile-OHジシクロヘキシルアミン塩（２１．４３ｇ、４７．７ｍｍｏｌ）を２５℃で攪拌しながら加えた。５％硫酸水素ナトリウム一水和物水溶液（２２０ｇ）を加え、１０分攪拌した後に静置し、水層を除去した。得られた有機層を、５％硫酸水素ナトリウム一水和物水溶液（３２０ｇ）により３回洗浄した後、５％塩化ナトリウム水溶液（２２０ｇ）により２回洗浄した。得られた有機層を減圧条件下で２６ｍＬまで濃縮した。得られた残渣に、実施例４２と同様の方法で取得したH-MeAla-Aze-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBu（２０．２ｇ、４０．２ｍｍｏｌ）、２－メチルテトラヒドロフラン（７２ｇ）、トルエン（６２ｇ）、アセトニトリル（２２ｇ）とＤＩＰＥＡ（２２．６３ｇ、１７５ｍｍｏｌ）を２５℃にて攪拌しながら加えた後、ＨＡＴＵ（２２．６９ｇ、５９．７ｍｍｏｌ）を２２℃で攪拌しながら加えた。添加終了後２時間攪拌した後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析により反応完結を確認した。５％炭酸ナトリウム水溶液（１７２ｇ）と１－メチルイミダゾール（３．２７ｇ、３９．８ｍｍｏｌ）を加えた。２２℃にて２時間攪拌した後、２５℃に昇温し、２．５％アンモニア水溶液（１７２ｇ）を加えた。１０分攪拌した後に静置し、水層を除去した。得られた有機層を２．５％アンモニア水溶液（１７２ｇ）、４％硫酸水溶液（１７２ｇ）、１０％硫酸水素ナトリウム一水和物水溶液（１７２ｇ）、３％リン酸水素二カリウム水溶液（１７２ｇ）により洗浄した後、減圧条件下で６０ｍＬまで濃縮した。トルエン（５２ｇ）を加え、減圧条件下で６０ｍＬまで濃縮する操作を２回繰り返した後、得られた残渣を濾過した。濾液にトルエン（６６ｇ）を加えた後、２２℃で攪拌しながらｎ－ヘプタン（１０２ｇ）を１０分かけて添加した。実施例６７と同様の手法により取得したCbz-Ile-MeAla-Aze-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBuの結晶（２８５ｍｇ）を加えた後、４時間かけて１８℃まで冷却し、さらに４時間かけて１０℃まで冷却した。１０℃にて１８時間攪拌した後、ｎ－ヘプタン（１０２ｇ）を３時間かけて添加した。添加終了後１０℃にてさらに１８時間攪拌した後に、スラリーを濾過した。得られた固体をｎ－ヘプタン（９２ｇ）により２回洗浄した後、減圧条件下にて乾燥し、Cbz-Ile-MeAla-Aze-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBuの結晶（２８．０８ｇ）を得た。
Cbz-Ile-MeAla-Aze-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBuの融点：70 ℃
収率：93%
HPLC純度：99.84%
測定方法：HPLC Method B
保持時間：4.21 min
質量分析：m/z 750([M+H]+)
（実施例４４）Teoc-MeLeu-OPFPの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000104
 　反応容器にTeoc-MeLeu-OH（１９．３４ｇ、６６．８ｍｍｏｌ）、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン（１３２ｇ）とペンタフルオロフェノール（１５．３６ｇ、８３．４ｍｍｏｌ）を２５℃にて加えた。攪拌しながら０℃に冷却した後に、１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３－エチルカルボジイミド塩酸塩（１９．３４ｇ、８３．７ｍｍｏｌ）を加えた。１時間かけて２５℃に昇温し、２５℃にてさらに１時間攪拌した後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析で反応完結を確認した。酢酸イソプロピル（１１０ｇ）と０．５Ｍ塩酸水溶液（１２６ｇ）を順次加えた。１０分撹拌した後に静置し、水層を除去した。得られた有機層を０．５Ｍ塩酸水溶液（１２６ｇ）で洗浄した後、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン（２２ｇ）を加えた。得られた有機層を５％炭酸カリウム水溶液（１２６ｇ、２回）、１０％塩化ナトリウム水溶液（１２６ｇ）により分液洗浄した後、減圧条件下で４４．４ｍＬまで濃縮した。得られた残渣に酢酸イソプロピル（１９ｇ）を加え、Teoc-MeLeu-OPFPを含む溶液（６７ｍＬ）を得た。
HPLC純度：97.95%
測定方法：HPLC Method B
保持時間：5.58 min
質量分析：m/z 428([M-CH2=CH2+H]+)
（実施例４５）Teoc-MeLeu-Ile-MeAla-Aze-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBuの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000105
 　反応容器に実施例４３と同様の手法により得られたCbz-Ile-MeAla-Aze-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBu（２５．００ｇ、３３．３ｍｍｏｌ）、実施例４４で得られたTeoc-MeLeu-OPFPを含む溶液（６７ｍＬ）、アセトン（７０ｇ）、Ｎ－メチルモルホリン（２０．２２ｇ、２００ｍｍｏｌ）と１０％パラジウム炭素（５４．３３％　ｗｅｔ、７．８４ｇ、３．３４ｍｍｏｌ、１０ｍｏｌ％ on Pd metal basis）を順次加えた。２５℃で攪拌しながら窒素置換し、水素置換した。水素雰囲気下（０．１８ＭＰａＧ）で２時間攪拌した後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析で反応完結を確認した。反応混合物を濾過した後、ケーキをアセトン（２９ｇ）により３回洗浄した。濾液と洗浄液の混合溶液を減圧条件下で１２０ｍＬまで濃縮した。得られた残渣に２５℃で攪拌しながらトルエン（８７ｇ）、５％炭酸カリウム水溶液（１１０ｇ）と４－ジメチルアミノピリジン（４．０７ｇ、３３．３ｍｍｏｌ）を順次加えた。５時間攪拌した後に静置し、水層を除去した。得られた有機層を４％硫酸水溶液（１１０ｇ）、１０％硫酸水素カリウム水溶液（１１０ｇ）、５％炭酸カリウム水溶液（１１０ｇ、２回）により分液洗浄した後、減圧条件下で濃縮し、Teoc-MeLeu-Ile-MeAla-Aze-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBuを含む溶液（４７．５ｍＬ）を得た。
HPLC純度：98.61%
測定方法：HPLC Method B
保持時間：5.28 min
質量分析：m/z 888([M+H]+)
（実施例４６）H-MeLeu-Ile-MeAla-Aze-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBuの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000106
 　反応容器に、実施例４５と同様の手法により得られたTeoc-MeLeu-Ile-MeAla-Aze-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBuを含むトルエン溶液（６１．４７ｗ／ｗ％、４．８８ｇ、３．３８ｍｍｏｌ）と２－メチルテトラヒドロフラン（８．９ｍＬ）を加えた。４５℃に昇温し、テトラブチルアンモニウムフルオリドのテトラヒドロフラン溶液（１．２Ｍ、７．０４ｍＬ、８．４５ｍｍｍｏｌ）を２０分かけて添加した。添加終了後１時間攪拌した後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析で反応完結を確認した。２５℃に冷却し、酢酸イソプロピル（９．０ｍＬ）を加えた。反応混合物を５％炭酸ナトリウム水溶液（９．１３ｇ、３回）、５％塩化ナトリウム水溶液（９．１３ｇ）により分液洗浄した後、得られた有機層を減圧条件下で濃縮した。得られた残渣にエタノール（１２．５ｍＬ）を加えて濃縮する操作を２回繰り返し、H-MeLeu-Ile-MeAla-Aze-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBuを含む溶液（６．９ｍＬ）を得た。
HPLC純度：98.17%
測定方法：HPLC Method B
保持時間：3.04 min
質量分析：m/z 743.4([M+H]+)
（実施例４７）H-MeLeu-Ile-MeAla-Aze-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBuL-酒石酸塩の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000107
 　反応容器に、実施例４６と同様の手法により得たH-MeLeu-Ile-MeAla-Aze-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBuを含む溶液（３８．４６ｗ／ｗ％、５６．１６ｇ、２９．１ｍｍｏｌ）とエタノール（８．０ｍＬ）を加えた。２２℃にてＬ－酒石酸（４．８０ｇ、３２．０ｍｍｏｌ）を加え、ＭＴＢＥ（２０７ｍＬ）を２分かけて加えた。実施例６８と同様の手法により取得したH-MeLeu-Ile-MeAla-Aze-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBu L-酒石酸塩の結晶（１０８．０ｍｇ）をＭＴＢＥ（１．６２ｍＬ）に懸濁させたスラリーを加えた後、ＭＴＢＥ（７７ｇ）を１時間かけて添加した。１８時間攪拌した後、ｎ－ヘプタン（１０６ｇ）を１時間かけて滴下した。内温を１時間かけて１０℃まで冷却した。１０℃にてさらに２７時間攪拌した後、スラリーを濾過した。得られた固体をＭＴＢＥ（１３０ｍＬ）により洗浄した後、減圧条件下にて乾燥し、H-MeLeu-Ile-MeAla-Aze-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBu L-酒石酸塩（２６．１３ｇ、含量９２．２ｗ／ｗ％）を得た。含量および収率は標品を用いたＨＰＬＣ分析により算出した。
H-MeLeu-Ile-MeAla-Aze-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBuL-酒石酸塩の融点：94℃
収率：88%（H-Ile-MeAla-Aze-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBuから3工程での収率)
HPLC純度：99.38%
測定方法：HPLC Method B
保持時間：3.01 min
質量分析：m/z 743.6([M+H]+)
（実施例４８）Cbz-MeAsp(OtBu)-NMe2の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000108
 　反応容器にCbz-MeAsp(OtBu)-OHジシクロヘキシルアミン塩（２５．００ｇ、４８．２ｍｍｏｌ）と２－メチルテトラヒドロフラン（１２６ｇ）を２５℃にて加えた。１０％硫酸水素ナトリウム一水和物水溶液（１５０ｇ）による分液洗浄を２回繰り返した後、５％塩化ナトリウム水溶液（１５０ｇ）により洗浄した。得られた有機層を減圧条件下で濃縮した。得られた残渣に２－メチルテトラヒドロフラン（９５ｇ）を加え、減圧条件下で濃縮する操作を２回繰り返した。得られた残渣（４７．９１ｇ）に２－メチルテトラヒドロフラン（９５ｇ）、アセトニトリル（７５ｇ）、ＤＩＰＥＡ（３５．４６ｇ、２７４ｍｍｏｌ）、ジメチルアミン塩酸塩（７．８８ｇ、９６．６ｍｍｏｌ）を２５℃にて加えた。プロピルホスホン酸無水物の２－メチルテトラヒドロフラン溶液（５０．４ｗｔ％、６１．３３ｇ、９７．１ｍｍｏｌ）を１時間３０分かけて滴下した。滴下終了後１時間攪拌した後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析で反応完結を確認した。２Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（１５０ｇ）を加えた。１０分撹拌した後に静置し、水層を除去した。得られた有機層を２Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（１５０ｇ）、１３％硫酸水溶液（１５０ｇ）、１０％硫酸水素ナトリウム一水和物水溶液（１５０ｇ）、５％炭酸ナトリウム水溶液（１５０ｇ）により洗浄した後、減圧条件下で濃縮した。２－メチルテトラヒドロフラン（１２５ｇ）を加えて減圧条件下で濃縮する操作を2回繰り返し、Cbz-MeAsp(OtBu)-NMe2を含む溶液（４２．３９ｇ）を得た。
HPLC純度：99.85 %
測定方法：HPLC Method C
保持時間：3.37 min
質量分析：m/z 387([M+Na]+)
（実施例４９）H-MeAsp(OtBu)-NMe2の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000109
 　反応容器に１０％パラジウム炭素（５４．３３％　ｗｅｔ、３．３９ｇ、１．４５ｍｍｏｌ、３ｍｏｌ％ on Pd metal basis）と２－メチルテトラヒドロフラン（７５ｇ）を加えた。２５℃で窒素置換し、水素置換して水素雰囲気下（０．４０ＭＰａＧ）で２時間攪拌した。実施例４８で得られたCbz-MeAsp(OtBu)-NMe2の溶液（４２．３９ｇ）と２－メチルテトラヒドロフラン（２２ｇ）を加えた。水素雰囲気下（０．２０ＭＰａＧ）で１時間３０分攪拌した後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析で反応完結を確認した。反応混合物を濾過した後、ケーキを２－メチルテトラヒドロフラン（７５ｇ）により２回洗浄した。濾液と洗浄液の混合溶液を減圧条件下で濃縮し、H-MeAsp(OtBu)-NMe2を含む溶液（３０．７６ｇ）を得た。
HPLC純度：98.64%
測定方法：HPLC Method C
保持時間：1.44 min
質量分析：m/z 231([M+H]+)
（実施例５０）Cbz-MeGcp-MeAsp(OtBu)-NMe2の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000110
 　反応容器に実施例４９で得られたH-MeAsp(OtBu)-NMe2の溶液（３０．７６ｇ）、Cbz-MeGcp-OH（１６．９６ｇ、５８．２ｍｍｏｌ）、２－メチルテトラヒドロフラン（４０ｇ）、アセトニトリル（１７ｇ）、ＤＩＰＥＡ（２７．７４ｇ、２１５ｍｍｏｌ）を２５℃にて加えた。ＨＡＴＵ（２７．４９ｇ、７２．３ｍｍｏｌ）を１０分かけて添加した。添加終了後３時間攪拌した後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析で反応完結を確認した。トルエン（３０ｇ）、５％炭酸カリウム水溶液（２３ｇ）、１－メチルイミダゾール（３．９７ｇ、４８．４ｍｍｏｌ）を加え、３０分攪拌した。２．５％アンモニア水溶液（８８ｇ）、２－メチルテトラヒドロフラン（２５ｇ）を加えた。１０分撹拌した後に静置し、水層を除去した。得られた有機層を２．５％アンモニア水溶液（１１３ｇ）、１０％硫酸水素ナトリウム一水和物水溶液（１１３ｇ、２回）、５％炭酸カリウム水溶液（１１３ｇ）により洗浄した後、減圧条件下で濃縮した。２－メチルテトラヒドロフラン（４２ｇ）を加えて減圧条件下で濃縮し、Cbz-MeGcp-MeAsp(OtBu)-NMe2を含む溶液（５２．７８ｇ）を得た。
HPLC純度：98.59%
測定方法：HPLC Method C
保持時間：4.10 min
質量分析：m/z 526([M+Na]+)
（実施例５１）H-MeGcp-MeAsp(OtBu)-NMe2の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000111
 　反応容器に１０％パラジウム炭素（５４．３３％　ｗｅｔ、３．３９ｇ、１．４５ｍｍｏｌ、３ｍｏｌ％ on Pd metal basis）と２－メチルテトラヒドロフラン（７５ｇ）を加えた。２５℃で窒素置換し、水素置換して水素雰囲気下（０．４０ＭＰａＧ）で２時間攪拌した。実施例５０で得られたCbz-MeGcp-MeAsp(OtBu)-NMe2の溶液（５２．７８ｇ）と２－メチルテトラヒドロフラン（１５ｇ）を加えた後、３０℃に昇温した。水素雰囲気下（０．２０ＭＰａＧ）で２時間攪拌した後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析で反応完結を確認した。反応混合物を濾過した後、ケーキを２－メチルテトラヒドロフラン（７５ｇ）により２回洗浄した。濾液と洗浄液の混合溶液を減圧条件下で濃縮した後、アセトニトリル（７５ｇ）を加えて減圧条件下で濃縮する操作を２回繰り返し、H-MeGcp-MeAsp(OtBu)-NMe2を含む溶液（４２．５ｍＬ）を得た。
HPLC純度：96.86%
測定方法：HPLC Method D
保持時間：2.96 min
質量分析：m/z 370([M+H]+)
（実施例５２）H-MeGcp-MeAsp(OtBu)-NMe2塩酸塩の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000112
 　反応容器に実施例５１で得られたH-MeGcp-MeAsp(OtBu)-NMe2の溶液（４２．５ｍＬ）とアセトニトリル（８．０ｇ）を加えた。４０℃にてＭＴＢＥ（６５ｇ）を加えた後、ピリジン塩酸塩のアセトニトリル溶液（１６．９４ｗ／ｗ％、４．５０ｇ）を３０分かけて滴下した。１時間攪拌した後、ピリジン塩酸塩のアセトニトリル溶液（１６．９４ｗ／ｗ％、３１．３４ｇ）を３時間３０分かけて滴下し、アセトニトリル（１４ｇ）を加えた。１時間攪拌した後、６時間かけて１０℃まで冷却した。１０℃にてさらに１１時間攪拌した後、スラリーを濾過した。得られた固体をＭＴＢＥ（３８ｇ）により２回洗浄した後、減圧条件下にて乾燥し、H-MeGcp-MeAsp(OtBu)-NMe2塩酸塩（１５．６８ｇ）を得た。
H-MeGcp-MeAsp(OtBu)-NMe2塩酸塩の融点：227℃
収率：80% (Cbz-MeAsp(OtBu)-OHジシクロヘキシルアミン塩から5工程での収率)
HPLC純度：99.62%
測定方法：HPLC Method D
保持時間：2.92 min
質量分析：m/z 370([M+H]+)
（実施例５３）Cbz-cLeu-MeGcp-MeAsp(OtBu)-NMe2の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000113
 　反応容器に、実施例５２と同様の手法により合成したH-MeGcp-MeAsp(OtBu)-NMe2塩酸塩（１．００ｇ、２．４６ｍｍｏｌ）、アセトニトリル（１０ｍＬ）を加えた。次いで、ＤＩＰＥＡ（２．７２ｍＬ、１５．６ｍｍｏｌ）、Cbz-cLeu-OH（１．７４ｇ、６．６１ｍｍｏｌ）とＨＡＴＵ（２．７５ｇ、７．２３ｍｍｏｌ）を攪拌しながら順次加え、５０℃に昇温した。５０℃で６時間攪拌した後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析で反応完結を確認した。１－メチルイミダゾール（０．７８ｍＬ、９．７８ｍｍｏｌ）と水（３．９９ｍＬ）を加えた。５０℃で１時間攪拌した後、２５℃まで冷却した。２５℃で１４時間攪拌した後、スラリーを濾過した。得られた固体をアセトニトリル／水の混合溶媒（８：３（ｖ／ｖ）、５．３３ｍＬ）で洗浄した後、減圧条件下にて乾燥し、Cbz-cLeu-MeGcp-MeAsp(OtBu)-NMe2（１．２７ｇ）を得た。
Cbz-cLeu-MeGcp-MeAsp(OtBu)-NMe2の融点：202℃
収率：84%
HPLC純度：99.86%
測定方法：HPLC Method D
保持時間：6.70 min
質量分析：m/z 637([M+Na]+)
（実施例５４）H-cLeu-MeGcp-MeAsp(OtBu)-NMe2の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000114
 　反応容器に、５％パラジウム炭素（５０％　ｗｅｔ、０．８５ｇ、０．２０ｍｍｏｌ、３．５ｍｏｌ％ on Pd metal basis）とテトラヒドロフラン（１４．０ｍＬ）を加えた。２５℃で窒素置換し、水素置換して水素雰囲気下（０．４０ＭＰａＧ）で２時間攪拌した。実施例５３と同様の手法により合成したCbz-cLeu-MeGcp-MeAsp(OtBu)-NMe2（３．５１ｇ、５．７１ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（４２ｍＬ）に溶解させた溶液を加えた。水素雰囲気下（０．２０ＭＰａＧ）で２時間攪拌した後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析で反応完結を確認した。反応混合物を濾過した後、ケーキをテトラヒドロフラン（１４ｍＬ）により２回洗浄した。濾液と洗浄液の混合溶液を減圧条件下で濃縮し、H-cLeu-MeGcp-MeAsp(OtBu)-NMe2を含む溶液（７．３７ｇ）を得た。
HPLC純度：99.98%
測定方法：HPLC Method C
保持時間：2.42 min
質量分析：m/z 503([M+Na]+)
（実施例５５）Cbz-Pro-cLeu-MeGcp-MeAsp(OtBu)-NMe2の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000115
 　反応容器に、実施例５４と同様の方法で取得したH-cLeu-MeGcp-MeAsp(OtBu)-NMe2（５．００ｇ、１０．４ｍｍｏｌ）を含むテトラヒドロフラン溶液（９．６３ｇ）、アセトニトリル（２５ｍＬ）とCbz-Pro-OH（３．３７ｇ、１３．５ｍｍｏｌ）を室温にて加えた。Ｎ－メチルモルホリン（３．１２ｇ、３０．８ｍｍｏｌ）とＨＡＴＵ（５．９３ｇ、１５．６ｍｍｏｌ）を２５℃で攪拌しながら加えた。添加終了後１時間攪拌した後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析で反応完結を確認した。トルエン（４０ｍＬ）と１－メチルイミダゾール（０．９０ｇ、１０．９ｍｍｏｌ）を加えた後、５％炭酸カリウム水溶液（１０ｍＬ）を１０℃にて加えた。２５℃に昇温し３０分攪拌した後、１０℃に冷却し２．５％アンモニア水溶液（２０ｍＬ）を加えた。２５℃に昇温し、さらに１０分攪拌した後に静置し、水層を除去した。得られた有機層を２．５％アンモニア水溶液（３０ｍＬ）、３％硫酸水溶液（３０ｍＬ）、１０％硫酸水素カリウム水溶液（３０ｍＬ）、５％炭酸ナトリウム水溶液（３０ｍＬ、２回）により洗浄した後、減圧条件下で２５ｍＬまで濃縮した。トルエン（２５ｍＬ）を加え、減圧条件下で２５ｍＬまで濃縮した。得られた残渣にテトラヒドロフラン（１５ｍＬ）を加えて４０～６０℃で攪拌し、均一な溶液を調製した。２５℃に冷却した後、実施例６９と同様の手法により取得したCbz-Pro-cLeu-MeGcp-MeAsp(OtBu)-NMe2の結晶（４９．９ｍｇ）をｎ－ヘプタン（０．１６ｍＬ）とテトラヒドロフラン（０．０４ｍＬ）の混合溶液に懸濁させたスラリー、次いでｎ－ヘプタン（０．３２ｍＬ）とテトラヒドロフラン（０．０８ｍＬ）の混合溶液を加えた。２５℃で１３時間攪拌した後、ｎ－ヘプタン（５ｍＬ）を１７分かけて添加した。添加終了後１時間攪拌した後に、ｎ－ヘプタン（５ｍＬ）を１５分かけて添加した。さらに１時間攪拌した後に、ｎ－ヘプタン（２５ｍＬ）を１６分かけて添加した。さらに３時間攪拌した後に、スラリーを濾過した。得られた固体をｎ－ヘプタン（１０ｍＬ）とテトラヒドロフラン（２．５ｍＬ）の混合溶液により２回洗浄した後、減圧条件下にて乾燥し、Cbz-Pro-cLeu-MeGcp-MeAsp(OtBu)-NMe2の結晶（６．５１ｇ）を得た。
Cbz-Pro-cLeu-MeGcp-MeAsp(OtBu)-NMe2の融点：178℃
収率：88%
HPLC純度：100%
測定方法：HPLC Method D
保持時間：6.54 min
質量分析：m/z 734([M+Na]+)
（実施例５６）H-Pro-cLeu-MeGcp-MeAsp(OtBu)-NMe2の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000116
 　反応容器に１０％パラジウム炭素（５４．３３％　ｗｅｔ、１．３６ｇ、０．５６８ｍｍｏｌ、２．２ｍｏｌ％ on Pd metal basis）とテトラヒドロフラン（２７ｍＬ）を加えた。２５℃で窒素置換し、水素置換して水素雰囲気下（０．４０ＭＰａＧ）で２時間攪拌した。実施例５５と同様の手法により合成したCbz-Pro-cLeu-MeGcp-MeAsp(OtBu)-NMe2（１８．０３ｇ、２５．３ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン（５２ｍＬ）を加えた。水素雰囲気下（０．１８ＭＰａＧ）で１時間攪拌した後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析で反応完結を確認した。反応混合物を濾過した後、ケーキを２－メチルテトラヒドロフラン（３８ｍＬ）により３回洗浄した。濾液と洗浄液の混合溶液を減圧条件下で８１ｍＬまで濃縮した後、２－メチルテトラヒドロフラン（６８ｍＬ）を加えて８１ｍＬまで濃縮する操作を３回繰り返した。得られた残渣に、４５℃で攪拌しながらｎ－ヘプタン（３７ｍＬ）を加えた後、実施例７０と同様の手法により取得したH-Pro-cLeu-MeGcp-MeAsp(OtBu)-NMe2の結晶（４０．６０ｍｇ）をｎ－ヘプタン（０．７５ｍＬ）に懸濁させたスラリーとｎ－ヘプタン（０．７５ｍＬ）を順次加えた。４５℃で２時間攪拌した後、ｎ－ヘプタン（２２ｇ）を１５分かけて添加した。４５℃でさらに１８時間攪拌した後、ｎ－ヘプタン（１０９ｇ）を７５分かけて添加した。４５℃でさらに２時間攪拌した後、２時間かけて２２℃まで冷却し、さらに１時間かけて１０℃まで冷却した。１０℃で１６時間攪拌した後、スラリーを濾過した。得られた固体を２－メチルテトラヒドロフラン／ヘプタンの混合溶媒（１：９（ｖ／ｗ）、４７ｇ）、次いで２－メチルテトラヒドロフラン（６８ｍＬ）により順次洗浄した後、減圧条件下にて乾燥し、H-Pro-cLeu-MeGcp-MeAsp(OtBu)-NMe2の結晶（１２．９６ｇ）を得た。
H-Pro-cLeu-MeGcp-MeAsp(OtBu)-NMe2の融点：147℃
収率：95.8%
HPLC純度：100%
測定方法：HPLC Method C
保持時間：2.73 min
質量分析：m/z 578.5([M+H]+)
（実施例５７－１）Boc-Hph(3,5-F2-4-CF3)-OBnの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000117
 　窒素置換した反応容器に、臭化ニッケル（ＩＩ）３水和物（１．５８ｇ、５．８０ｍｍｏｌ）を１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン（１６０ｍＬ）に懸濁させたスラリーと４，４’－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－２，２’－ビピリジン（１．５６ｇ、５．８０ｍｍｏｌ）を加えた。国際公開第２０２０／１８９５４０号に記載の方法で合成したBoc-Glu(NHPI)-OBn（４０．０ｇ、８３．０ｍｍｏｌ）を攪拌しながら加えた後、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン（４０ｍＬ）、５－ブロモ－１，３－ジフルオロ－２－（トリフルオロメチル）－ベンゼン（２６．０ｇ、９９ｍｍｏｌ）とＮ－メチルモルホリン（２２．８ｍＬ、２０７ｍｍｏｌ）を順次加えた。１０℃に冷却した後、活性亜鉛（１６．２６ｇ、２４９ｍｍｏｌ）を加えた。ＴＭＳＣｌ（２１．０ｍＬ、１６６ｍｍｏｌ）を１時間かけて滴下しながら，２５℃に昇温した。添加終了直後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析で反応完結を確認した。１５％塩化アンモニウム水溶液（４１６ｇ）を０℃にて加えた後、２５℃に昇温し５０分撹拌した。トルエン（２００ｍＬ）を加え、スラリーをセライトを用いて濾過した後、ケーキをトルエン（２００ｍＬ）で洗浄した。得られた溶液を２０分攪拌した後に静置し、水層を除去した。得られた有機層に、エチレンジアミン四酢酸二水素二ナトリウム二水和物（３１．４ｇ、８４．０ｍｍｏｌ）を０．１Ｍ水酸化カリウム水溶液（６００ｍＬ）に溶解させた溶液を攪拌しながら加えた。３時間攪拌した後に静置し、水層を除去した。得られた有機層を１０％塩化ナトリウム水溶液（４００ｍＬ）により分液洗浄した後、減圧条件下で濃縮し、Boc-Hph(3,5-F2-4-CF3)-OBnを含む溶液（９０．８１ｇ）を得た。
HPLC純度：78.47%
測定方法：HPLC Method E
保持時間：7.40 min
質量分析：m/z 374([M-Boc+2H]+)
（実施例５７－１～５７－３）Boc-Hph(3,5-F2-4-CF3)-OBnの合成：塩基性化合物の添加効果の評価
　窒素置換した反応容器に、臭化ニッケル（ＩＩ）３水和物（０．０７ｅｑ．）を溶媒（4.0 v/w of Boc-Glu(NHPI)-OBn）に懸濁させたスラリーと４，４’－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－２，２’－ビピリジン（０．０７ｅｑ．）を加えた。国際公開第２０２０／１８９５４０号に記載の方法で合成したBoc-Glu(NHPI)-OBn（Ｘ　ｇ（表３８参照）、１．０ｅｑ．）を攪拌しながら加えた後、溶媒（1.0 v/w of Boc-Glu(NHPI)-OBn）、５－ブロモ－１，３－ジフルオロ－２－（トリフルオロメチル）－ベンゼン（１．２ｅｑ．）および実施例５７－１においてのみＮＭＭ（２．５ｅｑ．）を順次加えた。１０℃に冷却した後、活性亜鉛（３．０ｅｑ．）を加えた。ＴＭＳＣｌ（Ｙ　ｅｑ．（表３８参照））を１時間かけて滴下しながら，２５℃に昇温した。添加終了後Ｚ時間後にサンプリングし、反応率を確認した。反応率はＨＰＬＣ分析により算出されたBoc-Glu(NHPI)-OBnの面積値とBoc-Hph(3,5-F2-4-CF3)-OBnの面積値を用いて、以下の計算式により算出した。
反応率(%)＝Boc-Hph(3,5-F2-4-CF3)-OBnの面積値/(Boc-Glu(NHPI)-OBnの面積値＋Boc-Hph(3,5-F2-4-CF3)-OBnの面積値)×100
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000118
（実施例５８）Cbz-Hph(3,5-F2-4-CF3)-OHジシクロヘキシルアミン塩の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000119
 　窒素置換した反応容器に、実施例５７－１で得られたBoc-Hph(3,5-F2-4-CF3)-OBnの溶液（９０．８１ｇ）とトルエン（１３５ｍＬ）を加えた後、０℃に冷却した。トリフルオロメタンスルホン酸（２２．０ｍＬ、２４９ｍｍｏｌ）を１７分かけて添加した後、２５℃に昇温した。添加終了後１時間攪拌した後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析で反応完結を確認した。水（４０ｍＬ）を加えて１５分攪拌した後、さらに水（１６０ｍＬ）を加えた。さらに１時間攪拌した後に静置し、有機層を除去することで、H-Hph(3,5-F2-4-CF3)-OHを含む溶液を得た。得られたH-Hph(3,5-F2-4-CF3)-OHは、精製することなく次の工程に用いた。
　上記の通りに得たH-Hph(3,5-F2-4-CF3)-OHを含む溶液に、４０％リン酸カリウム水溶液（６０ｍＬ）を攪拌しながら加えた。アセトニトリル（１００ｍＬ）と４０％リン酸カリウム水溶液（１８ｍＬ）を加えた後、Ｎ－カルボベンゾキシオキシスクシンイミド（１６．５３ｇ、６６．３ｍｍｏｌ）を加えた。添加終了後２時間攪拌した後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析で反応完結を確認した。ｎ－ヘプタン（８０ｍＬ）とＭＴＢＥ（８０ｍＬ）からなる混合溶液を加え、１０分攪拌した後に静置し、有機層を除去した。得られた水層にＭＴＢＥ（２００ｍＬ）、０．２Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（８０ｍＬ）と２０％塩化ナトリウム水溶液（８０ｍＬ）を加え、１３分攪拌した後に静置し、水層を除去した。得られた有機層を０．２Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（８０ｍＬ）と２０％塩化ナトリウム水溶液（８０ｍＬ）の混合溶液により２回分液洗浄した後、０．２Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（８０ｍＬ）、１Ｍ塩酸水溶液（６００ｍＬ）によりさらに分液洗浄した。得られた有機層にＭＴＢＥ（８０ｍＬ）と１０％塩化ナトリウム水溶液（２１４ｍＬ）を加え、１０分攪拌した後に静置し、水層を除去した。得られた有機層を減圧条件下で濃縮した。得られた残渣にトルエン（１２０ｍＬ）を加えて８０ｍＬまで濃縮し、Cbz-Hph(3,5-F2-4-CF3)-OHを含む溶液（１１６．０７ｇ）を得た。得られたCbz-Hph(3,5-F2-4-CF3)-OHは精製することなく次の工程に用いた。
　窒素置換した反応容器に、上記の通り調製したCbz-Hph(3,5-F2-4-CF3)-OHのトルエン溶液（１１６．０７ｇ）とトルエン（１８８ｍＬ）を加え、５０℃に昇温した。ジシクロヘキシルアミン（２２．４ｍＬ、１１２ｍｍｏｌ）とＭＴＢＥ（９４ｍＬ）を加えた後、Cbz-Hph(3,5-F2-4-CF3)-OHジシクロヘキシルアミン塩（１１７ｍｇ）を加えた。添加終了後３時間攪拌した後、ｎ－ヘプタン（９４ｍＬ）を攪拌しながら２時間かけて加えた。添加終了後さらに１時間攪拌した後、ｎ－ヘプタン（１８８ｍＬ）を攪拌しながら３時間かけて加えた。添加終了後さらに１時間攪拌した後、２０℃に冷却した。２０℃にて１３時間攪拌した後、スラリーを濾過した。ケーキをＭＴＢＥ／ｎ－ヘプタンの混合溶媒（１：１（ｖ／ｖ）、９４ｍＬ）で洗浄した後、得られた湿性末を減圧条件下で乾燥し、Cbz-Hph(3,5-F2-4-CF3)-OHジシクロヘキシルアミン塩（３１．７ｇ）を得た。
Cbz-Hph(3,5-F2-4-CF3)-OHジシクロヘキシルアミン塩の融点：154℃
収率：64%(Boc-Glu(NHPI)-OBnから4工程での収率)
HPLC純度：99.70%
測定方法：HPLC Method F
保持時間：9.73 min
質量分析：m/z 418([M+H]+)
（実施例５９）Cbz-Hph(3,5-F2-4-CF3)-Pro-cLeu-MeGcp-MeAsp(OtBu)-NMe2の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000120
 　反応容器に、実施例５８と同様の手法により合成したCbz-Hph(3,5-F2-4-CF3)-OHジシクロヘキシルアミン塩（４２．０ｇ、７０．２ｍｍｏｌ）と２－メチルテトラヒドロフラン（１６９ｍＬ）を加えた。１０％硫酸水素ナトリウム一水和物水溶液（１７０ｍＬ）による分液洗浄を２回繰り返した後、５％塩化ナトリウム水溶液（１７０ｍＬ）により洗浄した。得られた有機層を減圧条件下で濃縮した。得られた残渣を濾過した後、２－メチルテトラヒドロフラン（２４０ｍＬ）を加え、減圧条件下で濃縮し、Cbz-Hph(3,5-F2-4-CF3)-OH（２９．３ｇ、７０．２ｍｍｏｌ）を含む溶液（７０．６３ｇ、４１．５ｗ／ｗ％）を取得した。
　別の反応容器に、上記の通り調製したCbz-Hph(3,5-F2-4-CF3)-OH溶液（４１．５ｗ／ｗ％、６２．７ｇ、６２．３ｍｍｏｌ）、実施例５６と同様の手法により合成したH-Pro-cLeu-MeGcp-MeAsp(OtBu)-NMe2（３０．０ｇ、５１．９ｍｍｏｌ）、２－メチルテトラヒドロフラン（１６７ｍＬ）とＤＩＰＥＡ（３９．９ｍＬ、２２８ｍｍｏｌ）を加えた。プロピルホスホン酸無水物の２－メチルテトラヒドロフラン溶液（１．６Ｍ、７８ｍＬ、１２５ｍｍｏｌ）を１０℃にて撹拌しながら加えた後、２５℃に昇温した。添加終了後１時間攪拌した後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析で反応完結を確認した。５％炭酸カリウム水溶液（１８０ｍＬ）と１－メチルイミダゾール（４．１ｍＬ、５１．９ｍｍｏｌ）を１５℃で攪拌しながら加えた後、２５℃に昇温した。５０分攪拌した後に静置し、水層を除去した。得られた有機層を４％硫酸水溶液（１８０ｍＬ）、１０％硫酸水素ナトリウム一水和物水溶液（１８０ｍＬ）で順次分液洗浄した後、ｎ－ヘプタン（１０８ｍＬ）、ＭＴＢＥ（７２ｍＬ）とアセトニトリル（６９ｍＬ）を加えた。２．５％炭酸カリウム水溶液（１７１ｍＬ）により分液洗浄した後、２－メチルテトラヒドロフラン（６０ｍＬ）とアセトニトリル（１０２ｍＬ）を加え、２．５％炭酸カリウム水溶液（１７１ｍＬ）で分液洗浄した。得られた有機層に２－メチルテトラヒドロフラン（６０ｍＬ）とアセトニトリル（１０２ｍＬ）を加え、２．５％炭酸カリウム水溶液（１７１ｍＬ）で分液洗浄した後、減圧条件下で濃縮した。得られた残渣に酢酸イソプロピル（２１０ｍＬ）を加えて減圧条件下で濃縮する操作を２回繰り返し、Cbz-Hph(3,5-F2-4-CF3)-Pro-cLeu-MeGcp-MeAsp(OtBu)-NMe2を含む溶液（８４．４９ｇ、６０．０ｗ／ｗ％）を得た。
HPLC純度：97.90%
測定方法：HPLC Method C
保持時間：4.63 min
質量分析：m/z 999([M+Na]+)
（実施例６０）Cbz-Hph(3,5-F2-4-CF3)-Pro-cLeu-MeGcp-MeAsp(OH)-NMe2ジエチルアミン塩の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000121
 　反応容器に、実施例５９で合成したCbz-Hph(3,5-F2-4-CF3)-Pro-cLeu-MeGcp-MeAsp(OtBu)-NMe2を含む溶液（６０．０ｗ／ｗ％、４２．２５ｇ、２６．０ｍｍｏｌ）、酢酸イソプロピル（１０８ｍＬ）と１，１，１，３，３，３－ヘキサメチルジシラザン（１３．６ｍＬ、６５．０ｍｍｏｌ）を加えた後、０℃に冷却した。トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル（４．７ｍＬ、２６．０ｍｍｏｌ）を添加した後、２０℃に昇温した。添加終了後３時間攪拌した後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析で反応完結を確認した。２－メチルテトラヒドロフラン（１２８ｍＬ）を加えた後０℃に冷却し、５％リン酸水素二カリウム水溶液（２５４ｍＬ）を加え、２５℃に昇温した。２０分攪拌した後に静置し、水層を除去した。得られた有機層を５％リン酸二水素ナトリウム水溶液（２５４ｍＬ）で洗浄した後、ジエチルアミン（１０．８ｍＬ、１０４ｍｍｏｌ）を加えて減圧条件下で１４４ｍＬまで濃縮した。得られた残渣に、酢酸イソプロピル（１２０ｍＬ）とジエチルアミン（２．６９ｍＬ、２６．０ｍｍｏｌ）を加えて１４４ｍＬまで減圧条件下で濃縮する操作を３回繰り返し、スラリー化させた。さらに酢酸イソプロピル（１２０ｍＬ）とジエチルアミン（２．６９ｍＬ、２６．０ｍｍｏｌ）を加えて１０８ｍＬまで減圧条件下で濃縮した後、酢酸イソプロピル（３８．２ｍＬ）とジエチルアミン（２．１８ｍＬ、２１．１ｍｍｏｌ）を２５℃にて攪拌しながら添加した。添加終了後４．５時間攪拌した後、ＭＴＢＥ（１９２ｍＬ）を８０分かけて添加した。添加終了後２時間攪拌した後に、スラリーを濾過した。得られた固体を酢酸イソプロピル／ＭＴＢＥ／ジエチルアミンの混合溶液（１：５：０．０６（ｖ／ｖ）、７２ｍＬ）により２回洗浄した後、減圧条件下にて乾燥し、Cbz-Hph(3,5-F2-4-CF3)-Pro-cLeu-MeGcp-MeAsp(OH)-NMe2ジエチルアミン塩（２３．２３ｇ、含量９２．０ｗ／ｗ％）を得た。
収率：83% (H-Pro-cLeu-MeGcp-MeAsp(OtBu)-NMe2より2工程)
HPLC純度：99.85%
測定方法：HPLC Method C
保持時間：4.18 min
質量分析：m/z 921([M+H]+)
（実施例６１）化合物１１の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000122
 　反応容器に、実施例６０で得られたCbz-Hph(3,5-F2-4-CF3)-Pro-cLeu-MeGcp-MeAsp(OH)-NMe2ジエチルアミン塩（９２．０ｗ／ｗ％、２０．７８ｇ、１９．２ｍｍｏｌ）、アセトニトリル（１７７ｍＬ）、ジシクロヘキシルメチルアミン（８．２ｍＬ、３８．６ｍｍｏｌ）とＤＩＰＥＡ（１０．１ｍＬ、５８．０ｍｍｏｌ）を加え、減圧条件下で４２．５ｍＬまで濃縮した。得られた残渣にアセトニトリル（１７７ｍＬ）とＤＩＰＥＡ（３．４ｍＬ、１９．５ｍｍｏｌ）を加えて減圧条件下で４２．５ｍＬまで濃縮する操作を３回繰り返し、Cbz-Hph(3,5-F2-4-CF3)-Pro-cLeu-MeGcp-MeAsp(OH)-NMe2（１７．７０ｇ）を含む溶液（４６．７６ｇ、３７．９ｗ／ｗ％）を得た。
　別の反応容器に、実施例４７と同様の手法により合成したH-MeLeu-Ile-MeAla-Aze-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBu L-酒石酸塩（９３．８ｗ／ｗ％、１８．６６ｇ、１９．６ｍｍｏｌ）と２－メチルテトラヒドロフラン（８７ｍＬ）を加えた。２５℃で攪拌しながら５％炭酸ナトリウム水溶液（８７ｍＬ）を加えた。１０分撹拌した後に静置し、水層を除去した。得られた有機層を５％炭酸ナトリウム水溶液（８７ｍＬ）、５％塩化ナトリウム水溶液（８７ｍＬ）により分液洗浄した後、減圧条件下で濃縮し、H-MeLeu-Ile-MeAla-Aze-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBu（１４．５５ｇ）を含む溶液（２９．７１ｇ、４９．０ｗ／ｗ％）を得た。
　別の反応容器に、上記の通り調製したCbz-Hph(3,5-F2-4-CF3)-Pro-cLeu-MeGcp-MeAsp(OH)-NMe2を含むアセトニトリル溶液（３７．９　ｗ／ｗ％，　３９．０　ｇ，　１６．０　ｍｍｏｌ）、上記の通り調製したH-MeLeu-Ile-MeAla-Aze-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBuを含む２－メチルテトラヒドロフラン溶液（４９．０ｗ／ｗ％、２６．７ｇ、１７．６ｍｍｏｌ）、２－メチルテトラヒドロフラン（１１８ｍＬ）とアセトニトリル（１３．５ｍＬ）を加えた。１０℃に冷却した後、ＤＩＰＥＡ（５．５ｍＬ、３１．６ｍｍｏｌ）とＨＡＴＵ（９．１４ｇ、２４．１ｍｍｏｌ）を攪拌しながら順次加え、２５℃に昇温した。添加終了後３時間攪拌した後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析で反応完結を確認した。２－メチルテトラヒドロフラン（４４ｍＬ）を加え、１０℃に冷却した後、１０％アンモニア水溶液（１００ｍＬ）を加えた。２５℃に昇温し、３０分攪拌した後に静置し、水層を除去した。得られた有機層を１０％アンモニア水（１００ｍＬ）、１０％クエン酸水溶液（１００ｍＬ）、５％炭酸ナトリウム水溶液（１００ｍＬ）、２０％塩化ナトリウム水溶液（１００ｍＬ）により分液洗浄した後、減圧条件下で７９ｍＬまで濃縮した。得られた残渣に２－メチルテトラヒドロフラン（４５ｍＬ）を加えて減圧条件下で濃縮し、化合物１１を含む溶液（６９．８４ｇ、含量３７．８ｗ／ｗ％）を得た。
HPLC純度：96.49%
測定方法：HPLC Method G
保持時間：10.27 min
質量分析：m/z 1668([M+Na]+)
（実施例６２）化合物１２の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000123
 　反応容器に、実施例６１により得られた化合物１１を含む溶液（３７．８ｗ／ｗ％、６９．１４ｇ、１５．９ｍｍｏｌ）と２－メチルテトラヒドロフラン（２４７ｍＬ）を加えた後、０℃に冷却した。１，１，１，３，３，３－ヘキサメチルジシラザン（２２．６ｍＬ、１０８ｍｍｏｌ）とトリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル（１２．０ｍＬ、６６．４ｍｍｏｌ）を添加した後、２４℃に昇温した。添加終了後３時間攪拌した後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析で反応完結を確認した。０℃に冷却し、５％リン酸水素二カリウム水溶液（１２０ｍＬ）を加えた後に、２４℃に昇温した。５０分攪拌した後に静置し、水層を除去した。得られた有機層を５％塩化アンモニウム水溶液（１３１ｍＬ、４回）、５％炭酸ナトリウム水溶液（１３１ｍＬ）で分液洗浄した後、減圧条件下で濃縮し、化合物１２を含む溶液（５４．９９ｇ、含量４５．８ｗ／ｗ％）を得た。
HPLC純度：95.41%
測定方法：HPLC Method G
保持時間：9.22 min
質量分析：m/z 1612([M+Na]+)
（実施例６３）化合物３の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000124
 　反応容器に１０％パラジウム炭素（５４．１３％　ｗｅｔ、３．９７ｇ、１．７１ｍｍｏｌ、１１ｍｏｌ％ on Pd metal basis）とテトラヒドロフラン（８４ｍＬ）を加えた。２５℃で窒素置換し、水素置換して水素雰囲気下（０．３５ＭＰａＧ）で２時間攪拌した。実施例６２で得られた化合物１２を含む溶液（４５．８ｗ／ｗ％、５３．９５ｇ、１５．５ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン（８４ｍＬ）を加えた。水素雰囲気下（０．２０ＭＰａＧ）で１時間攪拌した後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析で反応完結を確認した。反応混合物を濾過した後、ケーキをテトラヒドロフラン（５７ｍＬ）により２回洗浄した。濾液と洗浄液の混合溶液を減圧条件下で濃縮した後、アセトニトリル（２２６ｍＬ）を加えて減圧条件下で９０ｍＬまで濃縮する操作を３回繰り返した。得られた残渣を濾過した後、テトラヒドロフラン（４７ｍＬ）とトルエン（１１０ｍＬ）を加えて減圧条件下で濃縮した。テトラヒドロフラン（２２４ｍＬ）を加えて減圧条件下で１３４ｍＬまで濃縮し、濃縮液（１２０．８０ｇ）を得た。
　得られた濃縮液の一部（１０７．９０ｇ）に、テトラヒドロフラン（２０ｍＬ）を添加し、化合物３を含む溶液を調製した。別の反応容器にｎ－ヘプタン（２４０ｍＬ）を加え、２５℃にて攪拌しながら先に調製した化合物３を含む溶液を１時間かけて滴下した。テトラヒドロフラン（１０ｍＬ）を添加し、２５℃にて１時間攪拌した後、スラリーを濾過した。得られた固体をｎ－ヘプタン（１００ｍＬ）により洗浄した後、減圧条件下にて乾燥し、化合物３（１９．０７ｇ、含量９７．０６ｗ／ｗ％）を得た。含量および収率は、標品を用いたＨＰＬＣ分析により算出した。
収率：91.8%(Cbz-Hph(3,5-F2-4-CF3)-Pro-cLeu-MeGcp-MeAsp(OH)-NMe2ジエチルアミン塩から3工程での収率)
HPLC純度：97.56%
測定方法：HPLC Method G
保持時間：6.57 min
質量分析：m/z 1456([M+H]+)
（実施例６４）化合物４の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000125
 　反応容器にＨＡＴＵ（２．３６ｇ、６．２１ｍｍｏｌ）とアセトニトリル（７６ｍＬ）を加えた。別の反応容器に、実施例６３と同様の手法により合成した化合物３（９．５０ｇ、６．５３ｍｍｏｌ）、ＤＩＰＥＡ（２．６２ｍＬ、１５．０ｍｍｏｌ）とアセトニトリル（１５２ｍＬ）を加えて溶液を調製し、その半量を先に調製したＨＡＴＵのアセトニトリル溶液に２５℃で攪拌しながら６時間かけて添加した。添加終了後１３時間静置保管した後、ＨＡＴＵ（２．３６ｇ、６．２１ｍｍｏｌ）をアセトニトリル（１１．８ｍＬ）に溶解させた溶液、アセトニトリル（３．８ｍＬ）を順次加えた。先に調製した化合物３とＤＩＰＥＡを含むアセトニトリル溶液の残りの半量を６時間かけて添加した。添加終了後３０分間攪拌した後にサンプリングし、ＨＰＬＣ分析で反応完結を確認した。ＭＴＢＥ（１２４ｍＬ）、ヘプタン（９．５ｍＬ）と２．５％アンモニア水溶液（９５ｇ）を加えた。１０分撹拌した後に静置し、水層を除去した。得られた有機層を４％硫酸水溶液（１３３ｇ）、５％リン酸水素二カリウム水溶液（９５ｇ）、０．５％塩化ナトリウム水溶液（９５ｇ、２回）により洗浄した後、除塵ろ過を行い、得られたろ液を減圧条件下で濃縮した。アセトニトリル（６６．５ｍＬ）を加えて減圧条件下で濃縮する操作を２回繰り返した後、アセトン（６６．５ｍＬ）を加えて減圧条件下で濃縮する操作を６回繰り返した。得られた残渣にアセトン（３８ｍＬ）を加え、化合物４を含む溶液（５４．３ｇ）を取得した。
HPLC純度：90.22%
測定方法：HPLC Method H
保持時間：17.99 min
質量分析：m/z 1439([M+H]+)
（実施例６５）化合物４の水和物結晶（Ｃ型）の合成
　反応容器に実施例６４と同様の手法により合成した化合物４（６．００ｇ、４．１７ｍｍｏｌ）を含むアセトン溶液（３３．３３ｇ）とアセトン（１２．５３ｇ）を加えた。４０℃に昇温し、撹拌しながら水（１９．２ｍＬ）を１０分かけて添加した。化合物４の水和物結晶（Ｃ型）（１８ｍｇ）をガラスバイアルに加え、アセトン／水の混合溶液（５：４（ｖ／ｖ）、０．２４ｍＬ）で懸濁させたのち、懸濁液を晶析液に加えた。さらにガラスバイアルにアセトン／水の混合溶液（５：４（ｖ／ｖ）、０．２４ｍＬ）を加え、得られた懸濁液を晶析液に加えた。２時間攪拌した後、水（４．８ｍＬ）を１０分かけて添加した。さらに３時間攪拌した後に、水（４．８ｍＬ）を１０分かけて添加した。さらに１時間攪拌した後に、１時間かけて２５℃まで冷却した。２５℃にて１時間攪拌した後、懸濁液を１３時間静置保管した。２５℃でさらに２時間攪拌した後、懸濁液を濾過した。得られた湿性末をアセトン（１６．８ｍＬ）と水（１３．２ｍＬ）の混合溶液により洗浄した後、メタノール（１５ｍＬ）と水（１５ｍＬ）の混合溶液により洗浄した。さらに得られた湿性末をメタノール（１５ｍＬ）と水（１５ｍＬ）の混合溶液に懸濁させ、１４時間静置保管した後、懸濁液を濾過した。得られた湿性末を水（３０ｍＬ）により懸濁し、２時間静置保管した後に濾過した。前述した水による懸濁洗浄を再度実施した後、得られた湿性末を減圧条件下にて乾燥し、化合物４の水和物結晶（Ｃ型）（４．９７ｇ）を得た。
HPLC純度：99.74 %
測定方法：HPLC Method H
保持時間：17.91 min
質量分析：m/z 1439([M+H]+)
（実施例６６）H-MeAla-Aze-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBuの結晶化
　アモルファス状態のH-MeAla-Aze-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBu（１４．８２ｇ）とＣＰＭＥ（２１．７ｇ）を混合し、H-MeAla-Aze-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBuのＣＰＭＥ溶液（含量４０．６ｗ／ｗ％）を調製した。調製した溶液を５℃にて１日静置することで、H-MeAla-Aze-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBuの結晶を得た。
（実施例６７）Cbz-Ile-MeAla-Aze-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBuの結晶化
　アモルファス状態のCbz-Ile-MeAla-Aze-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBu（１０ｍｇ）とトルエン／ヘプタンの混合溶媒（１：２（ｖ／ｖ）、０．１ｍＬ）をバイアルに加えた後、得られた溶液を室温にて２日間振とうすることで、Cbz-Ile-MeAla-Aze-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBuの結晶を得た。
（実施例６８）H-MeLeu-Ile-MeAla-Aze-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBu L-酒石酸塩の結晶化
　アモルファス状態のH-MeLeu-Ile-MeAla-Aze-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBu（６００ｍｇ、０．８０８ｍｍｏｌ）、Ｌ－酒石酸（１２１ｍｇ、０．８０８ｍｍｏｌ）とメタノール（６ｍＬ）をガラスバイアルに加え、溶液を調製した。調製した溶液のうち、０．１ｍＬを別のガラスバイアルに加えた後、減圧条件下で濃縮乾固することで溶媒を除去した。酢酸ｎ－ブチル（０．０２ｍＬ）とガラスビーズをバイアルに加え、２５℃で７日間振とうすることで、H-MeLeu-Ile-MeAla-Aze-EtPhe(4-Me)-Sar-OtBu L-酒石酸塩の結晶を得た。
（実施例６９）Cbz-Pro-cLeu-MeGcp-MeAsp(OtBu)-NMe2の結晶化
　アモルファス状態のCbz-Pro-cLeu-MeGcp-MeAsp(OtBu)-NMe2（１．１９ｇ）にＣＰＭＥ（５．９４ｍＬ）を加え、室温にて４時間攪拌した後、スラリーを濾過した。得られた固体をＣＰＭＥ（２．３８ｍＬ）により２回洗浄した後、減圧条件下で乾燥し、Cbz-Pro-cLeu-MeGcp-MeAsp(OtBu)-NMe2の結晶を得た。
（実施例７０）H-Pro-cLeu-MeGcp-MeAsp(OtBu)-NMe2の結晶化
　アモルファス状態のH-Pro-cLeu-MeGcp-MeAsp(OtBu)-NMe2（１０ｍｇ）とテトラヒドロフラン（０．０２ｍＬ）をバイアルに加えた後、室温にて６日間振とうした。得られた溶液にヘプタン（０．０４ｍＬ）を加え、さらに室温にて６日間振とうすることで、H-Pro-cLeu-MeGcp-MeAsp(OtBu)-NMe2の結晶を得た。
　本発明により、Ｎ－モノアルキルアミノ酸、およびＮ－モノアルキルアミノ酸を含むペプチドを含む医薬品や中間体とその製造方法が提供される。

Claims (26)

  1. 　Ｎ－モノアルキルアミノ酸もしくはそのエステルまたは前記Ｎ－モノアルキルアミノ酸を含むペプチドもしくはそのエステルの製造方法であって、
    　水素の存在下、出発アミノ酸もしくはそのエステルまたは前記出発アミノ酸を含むペプチドもしくはそのエステル、Ｃ１－Ｃ６一級アルキル化剤もしくは置換メチルハライド、および触媒を溶媒中で混合するアルキル化工程を含み、
    　前記アルキル化工程が、１気圧以上の圧力下で行われ、かつ、前記出発アミノ酸もしくはそのエステルのアミノ基に前記Ｃ１－Ｃ６一級アルキル化剤もしくは置換メチルハライドに対応する一級アルキル基が結合したＮ－モノアルキルアミノ酸もしくはそのエステルまたは前記Ｎ－モノアルキルアミノ酸を含むペプチドもしくはそのエステルを生成させる、方法。
  2. 　Ｎ－モノアルキルアミノ酸もしくはそのエステルまたは前記Ｎ－モノアルキルアミノ酸を含むペプチドもしくはそのエステルの製造方法であって、
    　出発アミノ酸もしくはそのエステルまたは前記出発アミノ酸を含むペプチドもしくはそのエステル、Ｃ１－Ｃ６一級アルキル化剤もしくは置換メチルハライド、ヒドリド還元剤および触媒を溶媒中で混合するアルキル化工程を含み、
    　前記アルキル化工程が、前記出発アミノ酸もしくはそのエステルのアミノ基に前記Ｃ１－Ｃ６一級アルキル化剤もしくは置換メチルハライドに対応する一級アルキル基が結合したＮ－モノアルキルアミノ酸もしくはそのエステルまたは前記Ｎ－モノアルキルアミノ酸を含むペプチドもしくはそのエステルを生成させる、方法。
  3. 　前記ヒドリド還元剤が、トリアルキルシランである、請求項２に記載の方法。
  4. 　前記Ｃ１－Ｃ６一級アルキル化剤が、Ｃ１－Ｃ５アルキルニトリルまたはＣ１－Ｃ５アルキルアルデヒドである、請求項１～３のいずれか一項に記載の方法。
  5. 　前記置換メチルハライドが、メトキシメチルクロリド（ＭＯＭ－Ｃｌ）、エトキシメチルクロリド（ＥＯＭ－Ｃｌ）、２－メトキシエトキシメチルクロリド（ＭＥＭ－Ｃｌ）、２－（トリメチルシリル）エトキシメチルクロリド（ＳＥＭ－Ｃｌ）からなる群から選択される１つである、請求項１～４のいずれか一項に記載の方法。
  6. 　前記触媒が、遷移金属を含む不均一系水素化触媒である、請求項１～５のいずれか一項に記載の方法。
  7. 　前記不均一系水素化触媒が、Ｐｄ、ＲｈおよびＰｔからなる群から選択される遷移金属を含む触媒である、請求項６に記載の方法。
  8. 　前記溶媒が、エーテル系溶媒、アルコール系溶媒、およびエステル系溶媒からなる群から選択される少なくとも１つの溶媒を含む、請求項１～７のいずれか一項に記載の方法。
  9. 　前記溶媒が、エーテル系溶媒、アルコール系溶媒、エステル系溶媒およびこれらの組合せからなる群から選択される、請求項１～８のいずれか一項に記載の方法。
  10. 　以下の工程を含む、ペプチドもしくはそのエステルの製造方法：
    （ａ）請求項１～９のいずれか一項に記載の方法に従いＮ－モノアルキルアミノ酸もしくはそのエステルまたはＮ－モノアルキルアミノ酸を含むペプチドもしくはそのエステルを得る工程、および
    （ｂ）前記Ｎ－モノアルキルアミノ酸もしくはそのエステルまたは前記Ｎ－モノアルキルアミノ酸を含むペプチドもしくはそのエステルに対し、任意で１つもしくは複数のアミノ酸またはペプチドを結合形成反応によって伸長させて、ペプチドもしくはそのエステルを得る工程。
  11. 　前記アルキル化工程における反応混合物に、追加の水素を接触させる工程をさらに含む、請求項１～１０のいずれか一項に記載の方法。
  12. 　前記出発アミノ酸もしくはそのエステルまたは前記出発アミノ酸を含むペプチドもしくはそのエステルのアミノ基が、加水素分解条件で除去可能な保護基と結合している、請求項１～１１のいずれか一項に記載の方法。
  13. 　前記保護基が、アリールメチルオキシカルボニル基である、請求項１２に記載の方法。
  14. 　前記保護基の除去が、ｐ－トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、硫酸水素ナトリウム、トリエチルアミン塩酸塩およびプロピルホスホン酸からなる群から選択される添加剤の存在下で行われる、請求項１２または１３に記載の方法。
  15. 　前記アルキル化工程における反応混合物が、塩基を更に含む、請求項１２～１３のいずれか一項に記載の方法。
  16. 　前記保護基の除去と前記アルキル化工程とが、ワンポットで行われる、請求項１２～１５のいずれか一項に記載の方法。
  17. 　前記出発アミノ酸もしくはそのエステルまたは前記出発アミノ酸を含むペプチドもしくはそのエステルのアミノ基が、一級アミノ基であり、
    　前記アルキル化工程における反応混合物が、塩基を更に含む、請求項１～１１のいずれか一項に記載の方法。
  18. 　前記塩基が、三級アミンである、請求項１５または１７に記載の方法。
  19. 　以下の工程を含む、少なくとも４個のアミノ酸より構成される環状部を有するペプチドもしくはそのエステルの製造方法。
    　請求項１～１８のいずれか一項に記載の方法に従いＮ－モノアルキルアミノ酸もしくはそのエステルまたは前記Ｎ－モノアルキルアミノ酸を含むペプチドもしくはそのエステルを得る工程、
    　任意で１つまたは複数のアミノ酸を結合形成反応によって伸長させてペプチド鎖を得る工程、
    　前記ペプチド鎖のＣ末端側の基とＮ末端側の基とで環化して前記環状部を形成する工程。
  20. 　前記環状部が、少なくとも８個のアミノ酸により構成されており、
    　前記環状部を有するペプチドもしくはそのエステルが、８～１５個のアミノ酸により構成されるペプチドもしくはそのエステルである、請求項１９に記載の方法。
  21. 　前記環状部を有するペプチドが、下記式：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     で表される環状部を有するペプチド、もしくはその塩またはそれらの溶媒和物である、請求項２０に記載の方法。
  22. 　前記環状部を有するペプチド、もしくはその塩またはそれらの溶媒和物が、環状部を有するペプチドの溶媒和物である、請求項２１に記載の方法。
  23. 　前記環状部を有するペプチドの溶媒和物が、環状部を有するペプチドの水和物である、請求項２２に記載の方法。
  24. 　出発アミノ酸もしくはそのエステルまたは前記出発アミノ酸を含むペプチドもしくはそのエステルのＮ－モノアルキル化反応において、前記出発アミノ酸もしくはそのエステルまたは前記出発アミノ酸を含むペプチドもしくはそのエステルのアミノ基がジアルキル化された化合物の生成を抑制する方法であって、
    　水素の存在下、出発アミノ酸もしくはそのエステルまたは前記出発アミノ酸を含むペプチドもしくはそのエステル、Ｃ１－Ｃ６一級アルキル化剤もしくは置換メチルハライド、および触媒を溶媒中で混合するアルキル化工程を含み、
    　前記アルキル化工程が、１気圧以上の圧力下で行われ、かつ、前記出発アミノ酸もしくはそのエステルのアミノ基に前記Ｃ１－Ｃ６一級アルキル化剤もしくは置換メチルハライドに対応する一級アルキル基が結合したＮ－モノアルキルアミノ酸もしくはそのエステルまたは前記Ｎ－モノアルキルアミノ酸を含むペプチドもしくはそのエステルを生成させる、方法。
  25. 　出発アミノ酸もしくはそのエステルまたは出発アミノ酸を含むペプチドもしくはそのエステルのＮ－モノアルキル化反応において、出発アミノ酸もしくはそのエステルまたは出発アミノ酸を含むペプチドもしくはそのエステルのアミノ基がジアルキル化された化合物の生成を抑制する方法であって、
    　出発アミノ酸もしくはそのエステルまたは出発アミノ酸を含むペプチドもしくはそのエステル、Ｃ１－Ｃ６一級アルキル化剤もしくは置換メチルハライド、ヒドリド還元剤および触媒を溶媒中で混合するアルキル化工程を含み、
    　アルキル化工程が、出発アミノ酸もしくはそのエステルのアミノ基にＣ１－Ｃ６一級アルキル化剤もしくは置換メチルハライドに対応する一級アルキル基が結合したＮ－モノアルキルアミノ酸もしくはそのエステルまたは前記Ｎ－モノアルキルアミノ酸を含むペプチドもしくはそのエステルを生成させる、方法。
  26. 　Ｎ－モノアルキルアミノ酸もしくはそのエステルまたは前記Ｎ－モノアルキルアミノ酸を含むペプチドもしくはそのエステルのペプチド鎖を、結合形成反応によって伸長する工程と、
    　伸長されたペプチドを酸性水溶液で処理し、前記ジアルキル化された化合物を除去する工程をさらに含む、請求項２４または２５に記載の方法。
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