WO2024096106A1 - 電着塗料組成物、皮膜、被覆物品、被覆電線およびプリント基板 - Google Patents

電着塗料組成物、皮膜、被覆物品、被覆電線およびプリント基板 Download PDF

Info

Publication number
WO2024096106A1
WO2024096106A1 PCT/JP2023/039665 JP2023039665W WO2024096106A1 WO 2024096106 A1 WO2024096106 A1 WO 2024096106A1 JP 2023039665 W JP2023039665 W JP 2023039665W WO 2024096106 A1 WO2024096106 A1 WO 2024096106A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
coating composition
polymer compound
fluorine
electrodeposition coating
group
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/JP2023/039665
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
安利 中谷
優 門脇
大 長門
大輔 三瓶
耕一郎 荻田
英樹 河野
勝通 助川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Daikin Industries Ltd
Original Assignee
Daikin Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Daikin Industries Ltd filed Critical Daikin Industries Ltd
Priority to CN202380089887.3A priority Critical patent/CN120457176A/zh
Priority to EP23885860.9A priority patent/EP4600318A4/en
Publication of WO2024096106A1 publication Critical patent/WO2024096106A1/ja
Priority to US19/194,687 priority patent/US20250270727A1/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Ceased legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/44Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes for electrophoretic applications
    • C09D5/4473Mixture of polymers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D127/00Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D127/02Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Coating compositions based on derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
    • C09D127/12Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Coating compositions based on derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment containing fluorine atoms
    • C09D127/18Homopolymers or copolymers of tetrafluoroethene
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D133/00Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D133/04Homopolymers or copolymers of esters
    • C09D133/06Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
    • C09D133/10Homopolymers or copolymers of methacrylic acid esters
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D133/00Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D133/04Homopolymers or copolymers of esters
    • C09D133/06Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
    • C09D133/10Homopolymers or copolymers of methacrylic acid esters
    • C09D133/12Homopolymers or copolymers of methyl methacrylate
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/05Insulated conductive substrates, e.g. insulated metal substrate
    • H05K1/056Insulated conductive substrates, e.g. insulated metal substrate the metal substrate being covered by an organic insulating layer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F214/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen
    • C08F214/18Monomers containing fluorine
    • C08F214/26Tetrafluoroethene
    • C08F214/262Tetrafluoroethene with fluorinated vinyl ethers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10Esters
    • C08F220/12Esters of monohydric alcohols or phenols
    • C08F220/16Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms
    • C08F220/18Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms with acrylic or methacrylic acids
    • C08F220/1804C4-(meth)acrylate, e.g. butyl (meth)acrylate, isobutyl (meth)acrylate or tert-butyl (meth)acrylate
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/01Dielectrics
    • H05K2201/0137Materials
    • H05K2201/015Fluoropolymer, e.g. polytetrafluoroethylene [PTFE]

Definitions

  • This disclosure relates to electrocoating compositions, coatings, coated articles, coated electric wires, and printed circuit boards.
  • Patent Document 1 describes a method for manufacturing an insulated electric wire, which is characterized by electrochemically depositing an aqueous resin emulsion, which is made by dispersing polyimide resin, fluororesin, and a charge-imparting agent in water, onto a conductor, and then drying and baking the resulting material to form an insulating layer.
  • Patent Document 2 describes a method for producing a low-dielectric constant copper-clad insulating film, which is characterized by forming an electrodeposition deposit layer by electrodeposition coating on copper foil made by polymerizing a fibrous base material, using a liquid obtained by emulsion polymerization of a vinyl monomer with good thermal decomposition properties in an aqueous dispersion of a fluororesin as an electrodeposition coating, and then decomposing and volatilizing the vinyl polymer by heating to form an insulating film.
  • JP 2002-298674 A Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-042822
  • the objective of this disclosure is to provide an electrodeposition coating composition that can be prepared without using materials containing metal components and that can produce a crack-free coating.
  • an electrodeposition coating composition containing a perfluoro-based polymer compound X and a neutralized product of a methacrylate resin, in which the relative dielectric constant of the perfluoro-based polymer compound X is 2.0 to 2.2, the acid value of the methacrylate resin is 10 mg KOH/g or more, and the solids concentration of the electrodeposition coating composition is 10 to 70 mass%.
  • an electrodeposition coating composition that can be prepared without using materials containing metal components and that can produce a crack-free coating.
  • FIG. 1 is a front view and a top view of a covered electric wire having a bent portion according to one embodiment.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view of a covered electric wire having a bent portion according to one embodiment.
  • the first electrodeposition coating composition of the present disclosure is an electrodeposition coating composition containing a perfluoro-based polymer compound X and a neutralized product of a methacrylate resin.
  • the dielectric constant of the perfluoro-based polymer compound X is 2.0 to 2.2
  • the acid value of the methacrylate resin is 10 mg KOH/g or more
  • the solids concentration of the electrodeposition coating composition is 10 to 70 mass%.
  • Patent Document 1 water-dispersed resin emulsions made by dispersing polyimide resin, fluororesin, and charge-imparting agents in water have been known as electrodeposition coating compositions.
  • Patent Document 1 describes that the use of such water-dispersed resin emulsions makes it possible to realize flat insulated electric wires that have sufficient insulating performance, are as thin as possible on the long side, and are equipped with insulating layers that also have excellent heat resistance.
  • Patent Document 2 does not describe an electrodeposition coating composition used to form a coating for coated electric wires, but describes a technology for making an electrodeposition coating from a liquid obtained by emulsion polymerization of a vinyl monomer with good thermal decomposition properties in an aqueous dispersion of a fluororesin.
  • a nonionic, anionic, cationic, or other surfactant is used.
  • An example of the surfactant is sodium lauryl sulfate.
  • the first electrodeposition coating composition of the present disclosure contains a perfluoro-based polymer compound having a low dielectric constant, and a neutralized product of a methacrylate resin obtained by neutralizing a methacrylate resin having a high acid value. It has been found that such an electrodeposition coating composition can be prepared without using a material containing a metal component, and that a crack-free coating can be obtained on a substrate by electrodeposition coating such an electrodeposition coating composition on the substrate. Furthermore, the resulting coating has a low surface roughness, is firmly adhered to the substrate, and has a low dielectric constant.
  • the second electrodeposition coating composition of the present disclosure is an electrodeposition coating composition containing a perfluoro-based polymer compound X and a neutralized product of a methacrylate resin.
  • the perfluoro-based polymer compound X is a tetrafluoroethylene/fluoroalkyl vinyl ether copolymer
  • the acid value of the methacrylate resin is 10 mg KOH/g or more
  • the solids concentration of the electrodeposition coating composition is 10 to 70 mass%.
  • the second electrodeposition coating composition of the present disclosure contains a tetrafluoroethylene/fluoroalkyl vinyl ether copolymer as a perfluoro polymer compound, and contains a neutralized product of a methacrylate resin obtained by neutralizing a methacrylate resin having a high acid value.
  • Such an electrodeposition coating composition can be prepared without using a material containing a metal component, and it has been found that a crack-free coating can be obtained on a substrate by electrodeposition coating such an electrodeposition coating composition on the substrate. Furthermore, the obtained coating has a low surface roughness, is firmly adhered to the substrate, and has a low dielectric constant.
  • the electrodeposition coating composition of the present disclosure contains a perfluoro-based polymer compound X.
  • a perfluoro-based polymer compound is a polymer compound in which the content of perfluoromonomer units relative to all polymerization units constituting the polymer compound is 90 mol % or more.
  • a perfluoromonomer is a monomer that does not contain a carbon atom-hydrogen atom bond in the molecule.
  • a perfluoromonomer may be a monomer in which some of the fluorine atoms bonded to the carbon atoms are replaced with chlorine atoms, and may have nitrogen atoms, oxygen atoms, sulfur atoms, phosphorus atoms, boron atoms, or silicon atoms in addition to carbon atoms.
  • a perfluoromonomer is preferably a monomer in which all hydrogen atoms are replaced with fluorine atoms.
  • the relative dielectric constant of the perfluoro-based polymer compound X is preferably 2.0 to 2.2, since a coating exhibiting an even lower relative dielectric constant can be obtained.
  • the relative dielectric constant of the perfluoro-based polymer compound X can be measured in accordance with JIS-C-2138 at 23°C ⁇ 2°C, relative humidity of 50%, and a frequency of 1 kHz.
  • the perfluoro-based polymer compound X is preferably a perfluoro-based fluororesin.
  • a fluororesin is a partially crystalline fluoropolymer, or a fluoroplastic.
  • a fluororesin has a melting point and is thermoplastic, but may be melt-processable or non-melt-processable.
  • the perfluoro-based polymer compound X is preferably at least one selected from the group consisting of polytetrafluoroethylene, tetrafluoroethylene (TFE)/fluoroalkyl vinyl ether (FAVE) copolymer, tetrafluoroethylene (TFE)/hexafluoropropylene (HFP) copolymer, and TFE/FAVE/HFP copolymer.
  • Polytetrafluoroethylene may be non-melt-processable PTFE or melt-processable PTFE, but non-melt-processable PTFE is preferred.
  • PTFE with a relative dielectric constant of 2.0 to 2.2 can be used as the perfluoro-based polymer compound X.
  • Non-melt processable PTFE usually has extensibility, fibrillation properties, and non-melt secondary processability.
  • Non-melt secondary processability means that the melt flow rate cannot be measured at a temperature higher than the crystallization melting point according to ASTM D 1238 and D 2116, i.e., the material does not flow easily even in the melting temperature range.
  • PTFE may be a tetrafluoroethylene (TFE) homopolymer, or a modified PTFE containing TFE units and modified monomer units.
  • modified PTFE means a copolymer of TFE and a small amount of comonomer that does not impart melt processability to the resulting copolymer.
  • the comonomer is not particularly limited, and examples thereof include hexafluoropropylene [HFP], chlorotrifluoroethylene [CTFE], and perfluoro(alkyl vinyl ether) [PAVE].
  • the proportion of the comonomer added to the modified PTFE varies depending on the type, but is preferably 0.001 to 1 mass% based on the total mass of TFE and the small amount of comonomer.
  • the content of each monomer unit constituting PTFE can be calculated by appropriately combining NMR, FT-IR, elemental analysis, and X-ray fluorescence analysis depending on the type of monomer.
  • the standard specific gravity (SSG) of PTFE is preferably 2.280 or less, more preferably 2.210 or less, even more preferably 2.200 or less, and preferably 2.130 or more. SSG can be measured by the water displacement method according to ASTM D 792 using samples molded in accordance with ASTM D 4895-89.
  • the peak temperature of PTFE is preferably in the range of 333 to 347°C. More preferably, it is 335°C or higher and 345°C or lower.
  • the peak temperature is the temperature that corresponds to the maximum value on the heat of fusion curve when PTFE that has not been heated to a temperature of 300°C or higher is heated at a rate of 10°C/min using a differential scanning calorimeter (DSC).
  • DSC differential scanning calorimeter
  • melt-processable perfluoro-based polymer compound As the perfluoro-based polymer compound X, a melt-processable perfluoro-based polymer compound can also be used.
  • melt-processable means that the polymer can be melted and processed using conventional processing equipment such as an extruder and an injection molding machine. Therefore, a melt-processable perfluoro-based polymer compound typically has a melt flow rate of 0.01 to 500 g/10 min.
  • a melt-processable perfluoro-based polymer compound having a relative dielectric constant of 2.0 to 2.2 can be used as the perfluoro-based polymer compound X.
  • the melt flow rate of the perfluoro polymer compound X is preferably 0.1 to 100 g/10 min, more preferably 80 g/10 min or less, even more preferably 70 g/10 min or less, preferably 5 g/10 min or more, more preferably 10 g/10 min or more.
  • the melt flow rate of perfluoropolymer compound X is the mass of polymer (g/10 min) flowing out of a nozzle with an inner diameter of 2.1 mm and a length of 8 mm at 372°C under a load of 5 kg using a melt indexer (manufactured by Yasuda Seiki Seisakusho) per 10 min in accordance with ASTM D1238.
  • the melting point of the perfluoropolymer compound X is preferably 200 to 322°C, more preferably 230°C or higher, even more preferably 250°C or higher, and more preferably 320°C or lower.
  • the melting point can be measured using a differential scanning calorimeter (DSC).
  • DSC differential scanning calorimeter
  • melt-processable perfluoro-based polymer compound X at least one selected from the group consisting of TFE/FAVE copolymer, TFE/HFP copolymer, and TFE/FAVE/HFP copolymer is preferred.
  • the TFE/FAVE copolymer is a copolymer containing tetrafluoroethylene (TFE) units and fluoroalkyl vinyl ether (FAVE) units.
  • TFE tetrafluoroethylene
  • FAVE fluoroalkyl vinyl ether
  • a TFE/FAVE copolymer having a relative dielectric constant of 2.0 to 2.2 can be used as the perfluoro-based polymer compound X.
  • a monomer represented by the general formula (1) is preferable, and at least one selected from the group consisting of perfluoro(methyl vinyl ether), perfluoro(ethyl vinyl ether) (PEVE) and perfluoro(propyl vinyl ether) (PPVE) is more preferable, and at least one selected from the group consisting of PEVE and PPVE is even more preferable, with PPVE being particularly preferable.
  • the content of FAVE units in the TFE/FAVE copolymer is preferably 1.0 to 30.0 mol% relative to the total monomer units, more preferably 1.2 mol% or more, even more preferably 1.4 mol% or more, even more preferably 1.6 mol% or more, particularly preferably 1.8 mol% or more, more preferably 3.5 mol% or less, even more preferably 3.2 mol% or less, even more preferably 2.9 mol% or less, and particularly preferably 2.6 mol% or less.
  • the content of TFE units in the TFE/FAVE copolymer is preferably 99.0 to 70.0 mol% relative to the total monomer units, more preferably 96.5 mol% or more, even more preferably 96.8 mol% or more, even more preferably 97.1 mol% or more, particularly preferably 97.4 mol% or more, more preferably 98.8 mol% or less, even more preferably 98.6 mol% or less, even more preferably 98.4 mol% or less, and especially preferably 98.2 mol% or less.
  • the content of each monomer unit in the copolymer is measured by 19 F-NMR spectroscopy.
  • the TFE/FAVE copolymer may also contain monomer units derived from monomers copolymerizable with TFE and FAVE.
  • the content of the monomers copolymerizable with TFE and FAVE is preferably 0 to 29.0 mol%, more preferably 0.1 to 5.0 mol%, and even more preferably 0.1 to 1.0 mol%, based on the total monomer units of the TFE/FAVE copolymer.
  • Examples of monomers copolymerizable with TFE and FAVE include HFP, vinyl monomers represented by CZ 1 Z 2 ⁇ CZ 3 (CF 2 ) n Z 4 (wherein Z 1 , Z 2 and Z 3 are the same or different and represent H or F, Z 4 represents H, F or Cl, and n represents an integer of 2 to 10), alkyl perfluorovinyl ether derivatives represented by CF 2 ⁇ CF-OCH 2 -Rf 1 (wherein Rf 1 represents a perfluoroalkyl group having 1 to 5 carbon atoms), and monomers having functional groups. Of these, HFP is preferred.
  • the TFE/FAVE copolymer is preferably at least one selected from the group consisting of copolymers consisting of only TFE units and FAVE units, and the above-mentioned TFE/HFP/FAVE copolymers, and more preferably a copolymer consisting of only TFE units and FAVE units.
  • the melting point of the TFE/FAVE copolymer is preferably 280 to 322°C, more preferably 285°C or higher, more preferably 320°C or lower, and even more preferably 315°C or lower.
  • the melting point can be measured using a differential scanning calorimeter (DSC).
  • the glass transition temperature (Tg) of the TFE/FAVE copolymer is preferably 70 to 110°C, more preferably 80°C or higher, and more preferably 100°C or lower.
  • the glass transition temperature can be measured by dynamic viscoelasticity measurement.
  • TFE/HFP copolymer is a copolymer containing tetrafluoroethylene (TFE) units and hexafluoropropylene (HFP) units.
  • the content of HFP units in the TFE/HFP copolymer is preferably 0.1 to 30.0 mol % relative to the total monomer units, more preferably 0.7 mol % or more, even more preferably 1.4 mol % or more, and more preferably 10.0 mol % or less.
  • the content of TFE units in the TFE/HFP copolymer is preferably 70.0 to 99.9 mol%, more preferably 90.0 mol% or more, more preferably 99.3 mol% or less, and even more preferably 98.6 mol% based on the total monomer units.
  • the TFE/HFP copolymer may also contain monomer units derived from monomers copolymerizable with TFE and HFP.
  • the content of the monomers copolymerizable with TFE and HFP is preferably 0 to 29.9 mol%, more preferably 0.1 to 5.0 mol%, and even more preferably 0.1 to 1.0 mol%, based on the total monomer units of the TFE/HFP copolymer.
  • Examples of monomers copolymerizable with TFE and HFP include FAVE, vinyl monomers represented by CZ 1 Z 2 ⁇ CZ 3 (CF 2 ) n Z 4 (wherein Z 1 , Z 2 and Z 3 are the same or different and represent H or F, Z 4 represents H, F or Cl, and n represents an integer of 2 to 10), alkyl perfluorovinyl ether derivatives represented by CF 2 ⁇ CF-OCH 2 -Rf 1 (wherein Rf 1 represents a perfluoroalkyl group having 1 to 5 carbon atoms), and monomers having functional groups. Of these, FAVE is preferred.
  • the melting point of the TFE/HFP copolymer is preferably 200 to 322°C, more preferably 210°C or higher, even more preferably 220°C or higher, particularly preferably 240°C or higher, more preferably 320°C or lower, even more preferably less than 300°C, and particularly preferably 280°C or lower.
  • the glass transition temperature (Tg) of the TFE/HFP copolymer is preferably 60 to 110°C, more preferably 65°C or higher, and more preferably 100°C or lower.
  • the fluorine-containing polymer compound may have a functional group.
  • the functional group is preferably at least one selected from the group consisting of a carbonyl group-containing group, an amino group, a hydroxy group, a -CF2H group, an olefin group, an epoxy group, and an isocyanate group.
  • R3 examples include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, and a butyl group.
  • R4 include a methylene group, a -CF2- group, and a -C6H4- group
  • R5 examples include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, and a butyl group.
  • R7 examples include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, and a butyl group.
  • R8 and R9 include a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, and a phenyl group.
  • a hydroxy group is a group represented by -OH or a group containing a group represented by -OH.
  • -OH constituting a carboxyl group is not included in the hydroxy group.
  • Examples of hydroxy groups include -OH, methylol groups, and ethylol groups.
  • An olefin group is a group having a carbon-carbon double bond.
  • Functional groups can also include non-fluorinated or partially fluorinated alkyl groups, such as -CH3 groups, -CFH2 groups, and the like.
  • the number of functional groups of the perfluoro polymer compound X is preferably 5 to 2000 per 106 carbon atoms, since this allows the formation of a coating that adheres more firmly to the substrate.
  • the number of functional groups per 106 carbon atoms is more preferably 50 or more, even more preferably 100 or more, particularly preferably 200 or more, more preferably 1000 or less, even more preferably 800 or less, particularly preferably 700 or less, and most preferably 500 or less.
  • the number of functional groups of the perfluoro polymer compound X may be less than 5, or may be 0 to 4, per 10 6 carbon atoms, since this allows the formation of a coating having excellent electrical properties.
  • the functional group is a functional group present at the main chain end or side chain end of the perfluoro polymer compound X, and a functional group present in the main chain or side chain, preferably at the main chain end.
  • -COOH includes a dicarboxylic anhydride group (-CO-O-CO-) formed by bonding two -COOH.
  • Infrared spectroscopy can be used to identify the types of functional groups and measure the number of functional groups.
  • the absorption frequencies, molar absorption coefficients, and correction coefficients for the functional groups in this disclosure are shown in Table 1.
  • the molar absorption coefficients were determined from FT-IR measurement data of low molecular weight model compounds.
  • the absorption frequencies of -CH 2 CF 2 H, -CH 2 COF, -CH 2 COOH, -CH 2 COOCH 3 and -CH 2 CONH 2 are several tens of Kaiser (cm -1 ) lower than the absorption frequencies of -CF 2 H, -COF, -COOH free and -COOH bonded, -COOCH 3 and -CONH 2 shown in the table, respectively. Therefore, for example, the number of functional groups of --COF is the sum of the number of functional groups determined from the absorption peak at 1883 cm.sup. -1 due to --CF.sub.2 COF and the number of functional groups determined from the absorption peak at 1840 cm.sup. -1 due to --CH.sub.2 COF.
  • the functional group is introduced into the perfluoro polymer compound X by, for example, a chain transfer agent or a polymerization initiator used in producing the perfluoro polymer compound X.
  • a chain transfer agent or a polymerization initiator used in producing the perfluoro polymer compound X.
  • -CH 2 OH is introduced into the main chain end of the perfluoro polymer compound X.
  • the functional group is introduced into the side chain end of the perfluoro polymer compound X by polymerizing a monomer having a functional group.
  • the perfluoro polymer compound X may contain a unit derived from a monomer having a functional group.
  • Examples of monomers having functional groups include cyclic hydrocarbon monomers having a dicarboxylic anhydride group (-CO-O-CO-) and a polymerizable unsaturated group in the ring, as described in JP 2006-152234 A, and monomers having functional group (f) as described in WO 2017/122743 A.
  • monomers having functional groups include monomers having a carboxy group (maleic acid, itaconic acid, citraconic acid, undecylenic acid, etc.); monomers having an acid anhydride group (itaconic anhydride, citraconic anhydride, 5-norbornene-2,3-dicarboxylic anhydride, maleic anhydride, etc.); and monomers having a hydroxyl group or an epoxy group (hydroxybutyl vinyl ether, glycidyl vinyl ether, etc.).
  • the perfluoropolymer compound X can be produced by a conventional method such as emulsion polymerization or suspension polymerization by appropriately mixing the monomers that form its constituent units and additives such as a polymerization initiator.
  • the electrodeposition coating composition of the present disclosure contains a neutralized product of a methacrylate resin.
  • a depolymerizable methacrylate resin is preferable.
  • depolymerization means that the polymer forming the resin is decomposed into monomers by heating.
  • the neutralized methacrylate resin in the electrodeposition coating composition exhibits emulsifying ability by forming ions in water, and can form emulsified particles together with the perfluoro-based polymer compound X and disperse stably in water without the use of a surfactant, thereby preparing the electrodeposition coating composition.
  • the neutralized methacrylate resin also imparts anionic properties to the perfluoro-based polymer compound X, facilitating the electrodeposition of the perfluoro-based polymer compound X.
  • the neutralized depolymerizable methacrylate resin gradually depolymerizes due to heating when forming the film, helping to form a crack-free film.
  • the neutralized depolymerizable methacrylate resin is less likely to remain in the film than the neutralized non-depolymerizable methacrylate resin, making it easier to form a crack-free film and not significantly reducing the relative dielectric constant of the film. If a neutralized product of a non-depolymerizable methacrylate resin is used, it may be difficult to obtain a crack-free coating.
  • a methacrylate resin having an acid value of 10 mgKOH/g or more is used.
  • the acid value of the methacrylate resin is preferably 15 mgKOH/g or more, more preferably 20 mgKOH/g or more, even more preferably 25 mgKOH/g or more, and particularly preferably 30 mgKOH/g or more.
  • the upper limit of the acid value of the methacrylate resin is, for example, 150 mgKOH/g or less.
  • the acid value of a methacrylate resin is the acid value of the methacrylate resin before it is neutralized.
  • the acid value of a methacrylate resin can be measured using potentiometric titration in accordance with JIS K5601. For example, after dissolving the methacrylate resin in a mixed solvent of xylene and isopropyl alcohol, it can be titrated with a 0.1 mol/L potassium hydroxide-ethanol solution by potentiometric titration, with the inflection point on the titration curve as the end point, and calculated from the titration amount up to the end point of the potassium hydroxide solution.
  • the acid value of a methacrylate resin can also be calculated from the monomer composition of the methacrylate resin.
  • the methacrylate resin has a number of acid groups sufficient to give the above-mentioned acid value, and the acid groups are neutralized with an alkaline compound.
  • the acid groups are, for example, carboxyl groups, and the alkaline compound is, for example, an amine compound.
  • Methacrylate resins can contain, for example, (meth)acrylic acid ester units, hydroxyl group-containing (meth)acrylic acid ester units, unsaturated carboxylic acid units, etc.
  • (meth)acrylic acid means acrylic acid or methacrylic acid.
  • the methacrylate resin contains (meth)acrylic acid ester units and unsaturated carboxylic acid units. In another embodiment of the methacrylate resin, it contains (meth)acrylic acid ester units, hydroxyl group-containing (meth)acrylic acid ester units, and unsaturated carboxylic acid units.
  • Examples of (meth)acrylic acid esters include (meth)acrylic acid alkyl esters such as methyl acrylate, ethyl acrylate, n-propyl acrylate, isopropyl acrylate, n-butyl acrylate, methyl methacrylate, n-propyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-butyl methacrylate, isopropyl methacrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, cyclohexyl acrylate, and cyclohexyl methacrylate. Of these, at least one selected from the group consisting of methyl methacrylate, n-butyl methacrylate, and n-butyl acrylate is preferred as the (meth)acrylic acid ester.
  • Hydroxyl group-containing (meth)acrylic acid esters include 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 3-hydroxypropyl methacrylate, 3-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, 2-hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxybutyl methacrylate, 6-hydroxyhexyl acrylate, 6-hydroxyhexyl methacrylate, etc.
  • the hydroxyl group-containing (meth)acrylic acid ester is preferably at least one selected from the group consisting of 2-hydroxyethyl methacrylate and 2-hydroxyethyl acrylate.
  • the (meth)acrylic acid ester units and hydroxyl group-containing (meth)acrylic acid ester units adjust the glass transition temperature of the neutralized methacrylate resin and provide the electrodeposition coating composition with suitable film-forming properties.
  • the content of the (meth)acrylic acid ester units and hydroxyl group-containing (meth)acrylic acid ester units is adjusted, for example, so as to provide the electrodeposition coating composition with the suitable film-forming properties required.
  • unsaturated carboxylic acids include acrylic acid, methacrylic acid, vinyl acetic acid, crotonic acid, cinnamic acid, 3-allyloxypropionic acid, 3-(2-allyloxyethoxycarbonyl)propionic acid, itaconic acid, itaconic acid monoester, maleic acid, maleic acid monoester, maleic anhydride, fumaric acid, fumaric acid monoester, vinyl phthalate, vinyl pyromellitic acid, undecylenic acid, etc.
  • at least one type selected from the group consisting of acrylic acid and methacrylic acid is preferable as the unsaturated carboxylic acid.
  • the unsaturated carboxylic acid units impart an appropriate acid value to the methacrylate resin.
  • the content of the unsaturated carboxylic acid units is adjusted, for example, to give the methacrylate resin an acid value within the above range.
  • the methacrylate resin has a carboxyl group and preferably contains an unsaturated carboxylic acid unit.
  • the neutralized product of the methacrylate resin is preferably a neutralized product obtained by neutralizing a methacrylate resin having a carboxyl group with an amine compound.
  • the electrodeposition coating composition can be prepared more easily without using a material such as a surfactant containing a metal component, and a film without cracks can be obtained more easily.
  • the perfluoro-based polymer compound X can be dispersed extremely stably in the aqueous dispersion, and the electrodeposition coating composition can be prepared more easily without using a material such as a surfactant containing a metal component.
  • the amine compound used to neutralize the methacrylate resin having a carboxy group may be any of primary amines, secondary amines, and tertiary amines, with tertiary amines being preferred.
  • the amine compound is preferably an aliphatic amine, and is preferably at least one selected from the group consisting of ethylamine, diethylamine, diethylpropylamine, triethylamine, propylamine, dipropylamine, tripropylamine, butylamine, dibutylamine, tributylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, dimethylethanolamine, and diethylethanolamine. Of these, triethylamine is preferred as the amine compound.
  • the amount of the amine compound used is determined by the desired degree of neutralization of the neutralized methacrylate resin.
  • the degree of neutralization of the neutralized methacrylate resin is preferably 50% or more, more preferably 60% or more, even more preferably 70% or more, and preferably 95% or less, more preferably 90% or less.
  • the electrodeposition coating composition can be prepared more easily without using materials such as surfactants containing metal components, and a film without cracks can be obtained more easily.
  • the perfluoro-based polymer compound X can be dispersed extremely stably in the aqueous dispersion, and the electrodeposition coating composition can be prepared more easily without using materials such as surfactants containing metal components.
  • the degree of neutralization of a neutralized methacrylate resin can be measured by dividing the amine value measured by potentiometric titration by the acid value. For example, tetrahydrofuran is added to the methacrylate resin, and then it is titrated to the equivalent point by potentiometric titration with 0.1 mol/L hydrochloric acid solution. The inflection point on the titration curve is taken as the amine value, and the degree of neutralization can be calculated by dividing the amine value by the acid value.
  • the degree of neutralization of a neutralized methacrylate resin can also be calculated from the monomer composition of the methacrylate resin and the amount of the amine compound or other compound used for neutralization.
  • the neutralized methacrylate resin is preferably obtained, for example, by neutralizing a methacrylate resin containing unsaturated carboxylic acid units in a content that gives an acid value within the above-mentioned range, with an amine compound in an amount that gives a degree of neutralization within the above-mentioned range.
  • the electrodeposition coating composition of the present disclosure can be produced by a production method in which an aqueous dispersion composition containing a perfluoro-based polymer compound X and water is added to a solution containing a neutralized product of a methacrylate resin and an organic solvent, followed by phase inversion emulsification.
  • a crack-free coating can be obtained more easily.
  • the organic solvent for the solution containing the neutralized methacrylate resin is preferably an organic solvent capable of dissolving the neutralized methacrylate resin.
  • the organic solvent include alcohols such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, and n-butanol; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and diethyl ketone; ethers such as dibutyl ether, tetrahydrofuran, and dioxane; and acetates such as ethyl acetate and isopropyl acetate.
  • Phase inversion emulsification can be carried out, for example, by adding the water-dispersed composition to the solution while stirring the solution.
  • the temperature of the solution and the water-dispersed composition may be room temperature (for example, 10 to 40°C).
  • the electrodeposition coating composition contains a perfluoro-based polymer compound X and a neutralized product of a methacrylate resin, and preferably further contains water.
  • the electrodeposition coating composition contains a perfluoro-based polymer compound X and a neutralized product of a methacrylate resin, and preferably further contains an organic solvent.
  • organic solvent include those described above as the organic solvent for the solution containing a neutralized product of a methacrylate resin.
  • the solids concentration of the electrodeposition coating composition is preferably 10 to 70% by mass, more preferably 50% by mass or less, and even more preferably 30% by mass or less, from the viewpoint of efficiently forming a coating by electrodeposition coating.
  • the mass ratio of the perfluoro-based polymer compound X to the neutralized methacrylate resin in the electrodeposition coating composition is preferably 10/90 to 90/10, more preferably 20/80 or more, even more preferably 25/75 or more, more preferably 80/20 or less, even more preferably 75/25 or less.
  • the alkali metal content in the electrodeposition coating composition is preferably less than 1 ppm by mass.
  • the electrodeposition coating composition of the present disclosure can be prepared without using materials containing metal components, and therefore the alkali metal content can be reduced compared to conventional electrodeposition coating compositions.
  • the alkali metal content in an electrodeposition coating composition can be measured by inductively coupled plasma mass spectrometry.
  • the electrodeposition coating composition disclosed herein may contain additives for the purpose of improving the paintability and properties of the resulting coating.
  • the electrodeposition coating composition disclosed herein can be suitably used as an anionic electrodeposition coating composition.
  • an electrodeposition coating composition with a reduced content of fluorine-containing compounds having hydrophilic groups can be used. By reducing the content of fluorine-containing compounds having hydrophilic groups in the electrodeposition coating composition, a film with a large contact angle and a small friction coefficient can be obtained.
  • Fluorine-containing compounds with hydrophilic groups include fluorine-containing surfactants added during polymerization and fluorine-containing compounds with hydrophilic groups produced by polymerization of fluoromonomers.
  • the hydrophilic group contained in the fluorine-containing compound is preferably an anionic group such as an acid group, for example, -NH2 , -PO3M , -OPO3M , -SO3M , -OSO3M , -COOM (in each formula, M represents a cation).
  • an anionic group such as an acid group, for example, -NH2 , -PO3M , -OPO3M , -SO3M , -OSO3M , -COOM (in each formula, M represents a cation).
  • -SO3M or -COOM is preferred as the hydrophilic group, and -COOM is more preferred.
  • the content of the fluorine-containing compound having a hydrophilic group in the electrodeposition coating composition is preferably 50 ppb by mass or less, more preferably 45 ppb by mass or less, and preferably more than 0 ppb by mass, relative to the perfluoro-based polymer compound X.
  • the content of the fluorine-containing compound having a hydrophilic group in the electrodeposition coating composition can be quantified by a known method, for example, by LC/MS analysis.
  • methanol is added to the electrodeposition coating composition to perform extraction, and the resulting extract is analyzed by LC/MS.
  • Soxhlet extraction, ultrasonic treatment, etc. may be performed.
  • the resulting extract is appropriately concentrated with nitrogen purging, and the fluorine-containing compounds in the concentrated extract are measured by LC/MS.
  • Molecular weight information is extracted from the obtained LC/MS spectrum, and its agreement with the structural formula of a candidate fluorine-containing compound having a hydrophilic group is confirmed.
  • aqueous solutions having five or more levels of the content of the confirmed fluorine-containing compound having a hydrophilic group are prepared, and the aqueous solutions having the respective contents are subjected to LC/MS analysis.
  • the relationship between the content and the area for each content is plotted to draw a calibration curve.
  • the area of the LC/MS chromatogram of the fluorine-containing compound having a hydrophilic group in the extract can be converted into the content of the fluorine-containing compound having a hydrophilic group.
  • the obtained extract can be concentrated by purging with nitrogen, which makes it possible to lower the lower limit of quantification of the measurement method.
  • the fluorine-containing compound having a hydrophilic group contains at least a fluorine-containing surfactant.
  • the fluorine-containing surfactant may be a fluorine-containing surfactant that is commonly used in the polymerization of fluoromonomers.
  • a typical compound of the fluorine-containing surfactant is a fluorine-containing surfactant having a molecular weight of 1000 g/mol or less, preferably 800 g/mol or less.
  • the fluorine-containing surfactant is not particularly limited as long as it is a surfactant containing at least one fluorine atom, and any conventionally known fluorine-containing surfactant can be used.
  • fluorine-containing surfactants examples include anionic fluorine-containing surfactants.
  • Anionic fluorine-containing surfactants may be, for example, surfactants containing fluorine atoms with a total carbon number of 20 or less excluding the anionic group.
  • the fluorine-containing surfactant may also be a surfactant containing fluorine in the anionic moiety having a molecular weight of 1,000 or less.
  • anionic portion refers to the portion of the above fluorine-containing surfactant excluding the cation.
  • F(CF 2 ) n1 COOM represented by formula (I) described below, it is the portion "F(CF 2 ) n1 COO”.
  • the above-mentioned fluorosurfactant also includes a fluorosurfactant having a LogPOW of 3.5 or less.
  • the LogPOW is a partition coefficient between 1-octanol and water, and is expressed as LogP [wherein P represents the ratio of the fluorosurfactant concentration in octanol to the fluorosurfactant concentration in water when a 1:1 octanol/water mixture containing the fluorosurfactant undergoes phase separation].
  • a standard substance heptanoic acid, octanoic acid, nonanoic acid, and decanoic acid
  • fluorine-containing surfactants include those described in U.S. Patent Application Publication No. 2007/0015864, U.S. Patent Application Publication No. 2007/0015865, U.S. Patent Application Publication No. 2007/0015866, U.S. Patent Application Publication No. 2007/0276103, U.S. Patent Application Publication No. 2007/0117914, U.S. Patent Application Publication No. 2007/142541, U.S. Patent Application Publication No. 2008/0015319, and U.S. Patent No. 3,250,808. Examples of such compounds include those described in U.S. Pat. No.
  • the anionic fluorine-containing surfactant may be a compound represented by the following general formula (N 0 ): X n0 -Rf n0 -Y 0 (N 0 ) (In the formula, X n0 is H, Cl or F. Rf n0 is a linear, branched or cyclic alkylene group having 3 to 20 carbon atoms in which some or all of the H's are substituted with F, and the alkylene group may contain one or more ether bonds, and some of the H's may be substituted with Cl. Y 0 is an anionic group.
  • the anionic group of Y 0 may be -COOM, -SO 2 M or -SO 3 M, and may be -COOM or -SO 3 M.
  • M is H, a metal atom, NR 7 4 , an imidazolium which may have a substituent, a pyridinium which may have a substituent, or a phosphonium which may have a substituent
  • R 7 is H or an organic group.
  • the metal atom includes alkali metals (Group 1) and alkaline earth metals (Group 2), such as Na, K, or Li.
  • R 7 may be H or a C 1-10 organic group, may be H or a C 1-4 organic group, or may be H or a C 1-4 alkyl group.
  • M may be H, a metal atom or NR 7 4 , which may be H, an alkali metal (group 1), an alkaline earth metal (group 2) or NR 7 4 , which may be H, Na, K, Li or NH 4 .
  • Rf n0 may be one in which 50% or more of H is substituted with fluorine.
  • the compound represented by the above general formula (N 0 ) includes perfluorocarboxylic acid (I) represented by the following general formula (I), ⁇ -H perfluorocarboxylic acid (II) represented by the following general formula (II), perfluoroether carboxylic acid (III) represented by the following general formula (III), perfluoroalkyl alkylene carboxylic acid (IV) represented by the following general formula (IV), perfluoroalkoxy fluorocarboxylic acid (V) represented by the following general formula (V), perfluoroalkyl sulfonic acid (VI) represented by the following general formula (VII), ⁇ -H perfluoro sulfonic acid (VII) represented by the following general formula (VII), perfluoroalkyl alkylene sulfonic acid (VIII) represented by the following general formula (VIII), alkyl alkylene carboxylic acid (IX) represented by the following general formula (IX), fluorocarboxylic acid (
  • the perfluorocarboxylic acid (I) is represented by the following general formula (I): F( CF2 ) n1COOM (I) (wherein n1 is an integer of 3 to 13, M is H, a metal atom, NR 7 4 , an imidazolium which may have a substituent, a pyridinium which may have a substituent, or a phosphonium which may have a substituent, and R 7 is H or an organic group.)
  • the ⁇ -H perfluorocarboxylic acid (II) is represented by the following general formula (II): H( CF2 ) n2COOM (II) (wherein n2 is an integer from 4 to 15, and M is as defined above).
  • the perfluoroether carboxylic acid (III) is represented by the following general formula (III): Rf 1 -O-(CF(CF 3 )CF 2 O) n3 CF(CF 3 )COOM (III) (wherein Rf1 is a perfluoroalkyl group having 1 to 5 carbon atoms, n3 is an integer of 0 to 3, and M is as defined above).
  • the perfluoroalkyl alkylene carboxylic acid (IV) is represented by the following general formula (IV): Rf2 ( CH2 ) n4Rf3COOM (IV ) (In the formula, Rf 2 is a perfluoroalkyl group having 1 to 5 carbon atoms, Rf 3 is a linear or branched perfluoroalkylene group having 1 to 3 carbon atoms, n4 is an integer of 1 to 3, and M is as defined above.)
  • the alkoxyfluorocarboxylic acid (V) is represented by the following general formula (V): Rf 4 -O-CY 1 Y 2 CF 2 -COOM (V) (wherein Rf 4 is a linear or branched partially or completely fluorinated alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may contain an ether bond and/or a chlorine atom, Y 1 and Y 2 are the same or different and are H or F, and M is as defined above).
  • the perfluoroalkylsulfonic acid (VI) is represented by the following general formula (VI): F( CF2 ) n5SO3M ( VI ) (wherein n5 is an integer from 3 to 14, and M is as defined above).
  • the ⁇ -H perfluorosulfonic acid (VII) is represented by the following general formula (VII): H( CF2 ) n6SO3M ( VII ) (wherein n6 is an integer from 4 to 14, and M is as defined above).
  • the perfluoroalkyl alkylene sulfonic acid (VIII) is represented by the following general formula (VIII): Rf5 ( CH2 ) n7SO3M (VIII ) (wherein Rf5 is a perfluoroalkyl group having 1 to 13 carbon atoms, n7 is an integer of 1 to 3, and M is as defined above).
  • the alkyl alkylene carboxylic acid (IX) is represented by the following general formula (IX): Rf6 ( CH2 ) n8COOM (IX) (wherein Rf6 is a linear or branched partially or fully fluorinated alkyl group having 1 to 13 carbon atoms which may contain an ether bond, n8 is an integer from 1 to 3, and M is as defined above).
  • the fluorocarboxylic acid (X) is represented by the following general formula (X): Rf 7 -O-Rf 8 -O-CF 2 -COOM (X) (wherein Rf 7 is a linear or branched, partially or fully fluorinated alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may contain an ether linkage and/or a chlorine atom; Rf 8 is a linear or branched, partially or fully fluorinated alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; and M is as defined above).
  • the alkoxyfluorosulfonic acid (XI) is represented by the following general formula (XI): Rf 9 -O-CY 1 Y 2 CF 2 -SO 3 M (XI) (In the formula, Rf 9 is a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may contain an ether bond and which is partially or completely fluorinated and may contain chlorine; Y 1 and Y 2 are the same or different and are H or F; and M is as defined above.)
  • the compound (XII) is represented by the following general formula (XII): (wherein X 1 , X 2 and X 3 may be the same or different and are H, F and a linear or branched partially or completely fluorinated alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may contain an ether bond, Rf 10 is a perfluoroalkylene group having 1 to 3 carbon atoms, L is a linking group, and Y 0 is an anionic group). Y 0 may be -COOM, -SO 2 M or -SO 3 M, and may be -SO 3 M or COOM, where M is as defined above. Examples of L include a single bond and a partially or fully fluorinated alkylene group having 1 to 10 carbon atoms which may contain an ether bond.
  • the compound (XIII) is represented by the following general formula (XIII): Rf 11 -O-(CF 2 CF(CF 3 )O) n9 (CF 2 O) n10 CF 2 COOM (XIII) (wherein Rf 11 is a fluoroalkyl group containing chlorine and having 1 to 5 carbon atoms, n9 is an integer from 0 to 3, n10 is an integer from 0 to 3, and M is as defined above).
  • Compound (XIII) is represented by CF 2 ClO(CF 2 CF(CF 3 )O) n9 (CF 2 O) n10 CF 2 COONH 4 (a mixture having an average molecular weight of 750, wherein n9 and n10 are as defined above).
  • anionic fluorine-containing surfactant examples include carboxylic acid surfactants and sulfonic acid surfactants.
  • the fluorine-containing surfactant may be one type of fluorine-containing surfactant or a mixture containing two or more types of fluorine-containing surfactants.
  • the fluorine-containing surfactant preferably has no methylene group (--CH 2 -), and more preferably has no C--H bond.
  • the number of H atoms in the hydrophobic group of the fluorine-containing surfactant is preferably 0 or 1, more preferably 0.
  • the number of carbon atoms in the hydrophobic group of the fluorine-containing surfactant having a hydrophobic group and a hydrophilic group is preferably 1 to 50, more preferably 3 to 20, and even more preferably 6 to 12.
  • the hydrophobic group usually constitutes the above-mentioned "part excluding the anionic group" in the molecular structure of the fluorine-containing surfactant.
  • Examples of the hydrophilic group include the groups exemplified as the anionic group of Y0 .
  • the fluorine-containing surfactant may be a saturated fluorinated surfactant in which all carbon atoms bonded to the hydrophobic group are substituted with fluorine atoms.
  • fluorine-containing surfactant examples include, among the above-mentioned anionic fluorine-containing surfactants, perfluorocarboxylic acid (I) represented by general formula (I), ⁇ -H perfluorocarboxylic acid (II) represented by general formula (II), perfluoroether carboxylic acid (III) represented by general formula (III), perfluoroalkyl alkylene carboxylic acid (IV) represented by general formula (IV), perfluoroalkoxy fluorocarboxylic acid (V) represented by general formula (V), perfluoroalkyl sulfonic acid (VI) represented by general formula (VII), ⁇ -H perfluoro sulfonic acid (VII) represented by general formula (VII), perfluoroalkyl alkylene sulfonic acid (VIII) represented by general formula (VIII), and perfluoroalkyl alkylene sulfonic acid (VIII) represented by general formula (X): Rf 7
  • the content of the fluorine-containing surfactant in the electrodeposition coating composition is preferably 50 ppb by mass or less, more preferably 45 ppb by mass or less, and preferably more than 0 ppb by mass, relative to the perfluoro-based polymer compound X.
  • the fluorine-containing compound having a hydrophilic group contains a perfluoroether carboxylic acid.
  • the perfluoroether carboxylic acid is preferably a compound (III) represented by the following general formula (III).
  • Rf 1 is a perfluoroalkyl group having 1 to 5 carbon atoms
  • n3 is an integer from 0 to 3
  • M is H, a metal atom, NR 7 4 , an imidazolium which may have a substituent, a pyridinium which may have a substituent, or a phosphonium which may have a substituent
  • R 7 is H or an organic group.
  • the electrodeposition coating composition contains at least a perfluoroether carboxylic acid as a fluorine-containing compound having a hydrophilic group
  • the content of the perfluoroether carboxylic acid in the electrodeposition coating composition is preferably 50 ppb by mass or less, more preferably 45 ppb by mass or less, and preferably more than 0 ppb by mass, relative to the perfluoro-based polymer compound X.
  • the composition contains a compound represented by the following general formula (H1) as a fluorine-containing compound having a hydrophilic group.
  • the compound represented by the following general formula (H2) is contained as the fluorine-containing compound having a hydrophilic group.
  • the compound represented by the general formula (H2) (perfluoroalkanoic acid) is known to be formed during polymerization when perfluoroalkyl vinyl ether or the like is used as a modified monomer (see WO 2019/161153).
  • the electrodeposition coating composition contains at least a compound represented by general formula (H2) as a fluorine-containing compound having a hydrophilic group
  • the content of the compound represented by general formula (H2) in the electrodeposition coating composition is preferably 50 ppb by mass or less, more preferably 45 ppb by mass or less, and preferably more than 0 ppb by mass, relative to the perfluoro-based polymer compound X.
  • the compound represented by the following general formula (H3) is contained as the fluorine-containing compound having a hydrophilic group.
  • the electrodeposition coating composition contains at least a compound represented by general formula (H3) as a fluorine-containing compound having a hydrophilic group
  • the content of the compound represented by general formula (H3) in the electrodeposition coating composition is preferably 50 ppb by mass or less, more preferably 45 ppb by mass or less, and preferably more than 0 ppb by mass, relative to the perfluoro-based polymer compound X.
  • the compound represented by general formula (H4) is contained as the fluorine-containing compound having a hydrophilic group.
  • Y 0 is an anionic group.
  • Examples of the compound represented by general formula (H4) include compounds represented by any of the following general formulas.
  • the electrodeposition coating composition contains at least a compound represented by general formula (H4) as a fluorine-containing compound having a hydrophilic group
  • the content of the compound represented by general formula (H4) in the electrodeposition coating composition is preferably 50 ppb by mass or less, more preferably 45 ppb by mass or less, and preferably more than 0 ppb by mass, relative to the perfluoro-based polymer compound X.
  • the electrodeposition coating composition with a reduced content of fluorine-containing compounds having hydrophilic groups is an aqueous dispersion composition containing perfluoro-based polymer compound X and water, and can be prepared by producing an aqueous dispersion composition with a reduced content of fluorine-containing compounds having hydrophilic groups and using it as a raw material for the electrodeposition coating composition.
  • the content of the fluorine-containing compound having a hydrophilic group in the aqueous dispersion composition can be adjusted, for example, by polymerizing a fluoromonomer in the presence of a fluorine-containing surfactant, a polymerization initiator, and an aqueous medium to produce an aqueous dispersion containing a perfluoro polymer compound X and water, and then adding a relatively large amount of a radical generator to the aqueous dispersion and subjecting it to a heat treatment.
  • the aqueous dispersion composition having a reduced content of a fluorine-containing compound having a hydrophilic group is, for example, A fluoromonomer is polymerized in a reactor in the presence of a fluorine-containing surfactant, a polymerization initiator and an aqueous medium to prepare an aqueous dispersion containing a perfluoro-based polymer compound X; After preparing the aqueous dispersion, at least one of the following operations is carried out: removing the fluoromonomer remaining in the reactor from the reactor; and recovering the aqueous dispersion in the reactor and storing it in a container different from the reactor; a radical generator is added to the aqueous dispersion in an amount equivalent to 5 molar times or more the molar amount of the fluorine-containing surfactant used in the polymerization;
  • the composition can be produced by a production method in which the aqueous dispersion containing the radical generator is subjected to a
  • a fluoromonomer is polymerized in a reactor in the presence of a fluorine-containing surfactant, a polymerization initiator and an aqueous medium to prepare an aqueous dispersion containing a perfluoro polymer compound X.
  • the polymerization of fluoromonomers can be carried out by charging a reactor with fluoromonomers, a fluorine-containing surfactant, a polymerization initiator, an aqueous medium, and other additives as necessary, stirring the contents of the reactor, and maintaining the reactor at a predetermined polymerization temperature, and then adding a predetermined amount of polymerization initiator to initiate the polymerization reaction. After the polymerization reaction has begun, additional fluoromonomers, polymerization initiators, fluorine-containing surfactants, chain transfer agents, etc. may be added depending on the purpose.
  • the method for polymerizing fluoromonomers is not particularly limited, but emulsion polymerization is preferred.
  • Fluorine-containing surfactant As the fluorine-containing surfactant used in the polymerization of the fluoromonomer, the fluorine-containing surfactant which may be contained in the electrodeposition coating composition of the present disclosure can be mentioned, and the same ones are preferably used.
  • the amount of the fluorine-containing surfactant added is preferably 10 ppm by mass to 10% by mass, more preferably 100 ppm by mass or more, even more preferably 300 ppm by mass or more, more preferably 5% by mass or less, and even more preferably 1% by mass or less, relative to the aqueous medium.
  • the polymerization initiator used for the polymerization of the fluoromonomer is not particularly limited as long as it can generate radicals within the polymerization temperature range, and known oil-soluble and/or water-soluble polymerization initiators can be used. Furthermore, it can also be combined with a reducing agent or the like to initiate polymerization as a redox.
  • concentration of the polymerization initiator is appropriately determined depending on the type of monomer, the molecular weight of the desired perfluoro-based polymer compound X, and the reaction rate.
  • an oil-soluble radical polymerization initiator or a water-soluble radical polymerization initiator can be used as the polymerization initiator.
  • the oil-soluble radical polymerization initiator may be a known oil-soluble peroxide, and representative examples include dialkyl peroxycarbonates such as diisopropyl peroxydicarbonate and disec-butyl peroxydicarbonate, peroxyesters such as t-butyl peroxyisobutyrate and t-butyl peroxypivalate, and dialkyl peroxides such as di-t-butyl peroxide.
  • dialkyl peroxycarbonates such as diisopropyl peroxydicarbonate and disec-butyl peroxydicarbonate
  • peroxyesters such as t-butyl peroxyisobutyrate and t-butyl peroxypivalate
  • dialkyl peroxides such as di-t-butyl peroxide.
  • the water-soluble radical polymerization initiator may be a known water-soluble peroxide, such as ammonium, potassium, or sodium salts of persulfuric acid, perboric acid, perchloric acid, perphosphoric acid, or percarbonic acid; organic peroxides such as disuccinic acid peroxide or diglutaric acid peroxide; t-butyl permaleate; or t-butyl hydroperoxide.
  • a reducing agent such as sulfites may also be included, and the amount used may be 0.1 to 20 times the amount of the peroxide.
  • the aqueous medium used for the polymerization of the fluoromonomer means a liquid containing water, which is a reaction medium for carrying out the polymerization.
  • the aqueous medium is not particularly limited as long as it contains water, and may contain water and, for example, a fluorine-free organic solvent such as ether or ketone, and/or a fluorine-containing organic solvent having a boiling point of 40° C. or less.
  • an aqueous medium containing only water or an aqueous medium containing only water and a non-fluorine-containing organic solvent is preferred, since it allows the polymerization of the fluoromonomer to proceed smoothly and also suppresses a decrease in the efficiency of removing fluorine-containing compounds having hydrophilic groups, and an aqueous medium containing only water is more preferred.
  • the water content in the aqueous medium is preferably 90% or more, more preferably 95% or more, even more preferably 99.0% or more, still more preferably 99.5% or more, particularly preferably 99.9% or more, and may be 100%, based on the mass of the aqueous medium, since this allows the polymerization of the fluoromonomer to proceed smoothly and also prevents a decrease in the efficiency of removing fluorine-containing compounds having hydrophilic groups.
  • the fluoromonomer can be polymerized in the presence of a chain transfer agent.
  • the polymerization rate and molecular weight can be adjusted by using the chain transfer agent.
  • the chain transfer agent include esters such as dimethyl malonate, diethyl malonate, methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, and dimethyl succinate, as well as isopentane, methane, ethane, propane, methanol, isopropanol, acetone, various mercaptans, various halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, and cyclohexane.
  • the amount of chain transfer agent used is usually 1 to 50,000 ppm by mass, preferably 1 to 20,000 ppm by mass, based on the total amount of fluoromonomer supplied.
  • the amount of chain transfer agent used is preferably an amount that is completely consumed during polymerization of the fluoromonomer and does not remain in the aqueous dispersion containing the perfluoro-based polymer compound X, so as not to reduce the efficiency of removing the fluorine-containing compound having a hydrophilic group as much as possible.
  • the amount of chain transfer agent used is more preferably 10,000 ppm by mass or less, even more preferably 5,000 ppm by mass or less, still more preferably 1,000 ppm by mass or less, particularly preferably 500 ppm by mass or less, and most preferably 200 ppm by mass or less, based on the total amount of fluoromonomer supplied.
  • the chain transfer agent may be added to the reaction vessel all at once before the start of polymerization, may be added all at once after the start of polymerization, may be added in multiple divided doses during polymerization, or may be added continuously during polymerization.
  • additives such as buffers, pH adjusters, stabilizing aids, and dispersion stabilizers can be used.
  • radical scavengers and decomposers can be added to adjust the polymerization rate and molecular weight.
  • fluorine-free anionic surfactants, fluorine-free nonionic surfactants, fluorine-free cationic surfactants, and the like can be used.
  • the stabilizing aid is preferably paraffin wax, fluorine-based oil, fluorine-based solvent, silicone oil, etc.
  • the stabilizing aid may be used alone or in combination of two or more.
  • the stabilizing aid is more preferably paraffin wax.
  • Paraffin wax may be liquid, semi-solid, or solid at room temperature, but is preferably a saturated hydrocarbon having 12 or more carbon atoms.
  • the melting point of paraffin wax is usually preferably 40 to 65°C, more preferably 50 to 65°C.
  • the amount of the stabilizing aid used is preferably 0.1 to 12 mass % based on the mass of the aqueous medium used, and more preferably 0.1 to 8 mass %. It is desirable that the stabilizing aid is sufficiently hydrophobic and completely separates from the aqueous dispersion after polymerization so as not to become a contaminating component.
  • the polymerization of the fluoromonomer can be carried out under normal pressure and temperature.
  • the polymerization temperature is 5 to 120° C.
  • the polymerization pressure is 0.05 to 10 MPaG.
  • the polymerization temperature and polymerization pressure are appropriately determined depending on the type of monomer, the molecular weight of the desired perfluoro-based polymer compound X, the reaction rate, etc.
  • aqueous Dispersion Obtained by Polymerization Polymerization of the fluoromonomer produces an aqueous dispersion containing a perfluoro polymer compound X.
  • the content of the perfluoro polymer compound X in the aqueous dispersion after polymerization is usually 8 to 50% by mass relative to the aqueous dispersion.
  • the aqueous dispersion obtained by polymerizing a fluoromonomer usually contains, in addition to the perfluoro polymer compound X, a fluorine-containing surfactant used when polymerizing the fluoromonomer as a fluorine-containing compound having a hydrophilic group.
  • the aqueous dispersion obtained by polymerizing a fluoromonomer may contain, in addition to the perfluoro polymer compound X, a fluorine-containing compound having a hydrophilic group that is generated by polymerization of the fluoromonomer.
  • a typical example of the fluorine-containing compound having a hydrophilic group in the aqueous dispersion obtained by polymerization is a fluorine-containing compound having a hydrophilic group with a molecular weight of 1000 g/mol or less. According to the above manufacturing method, it is possible to finally manufacture an aqueous dispersion composition in which the content of the fluorine-containing compound having a hydrophilic group with a molecular weight of 1000 g/mol or less is reduced.
  • the fluorine-containing compound having a hydrophilic group contains a fluorine-containing surfactant added during polymerization.
  • the fluorine-containing surfactant added during polymerization is as described above for the fluorine-containing surfactant used in the polymerization of the fluoromonomer.
  • the content of the fluorine-containing compound having a hydrophilic group in the aqueous dispersion obtained by polymerization may be 200 ppb by mass or more, 300 ppb by mass or more, or 400 ppb by mass or more, or 10% by mass or less, 1% by mass or less, or 0.5% by mass or less, based on the aqueous dispersion.
  • the content of the fluorine-containing surfactant used when polymerizing the fluoromonomer in the aqueous dispersion obtained by polymerization may be 200 ppb by mass or more, 300 ppb by mass or more, or 400 ppb by mass or more, or 10% by mass or less, 1% by mass or less, or 0.5% by mass or less, based on the aqueous dispersion.
  • the fluorine-containing compound having a hydrophilic group contains a perfluoroether carboxylic acid.
  • a perfluoroether carboxylic acid a compound (III) represented by the following general formula (III) is preferable.
  • Rf 1 is a perfluoroalkyl group having 1 to 5 carbon atoms
  • n3 is an integer from 0 to 3
  • M is H, a metal atom, NR 7 4 , an imidazolium which may have a substituent, a pyridinium which may have a substituent, or a phosphonium which may have a substituent
  • R 7 is H or an organic group.
  • the content of the perfluoroether carboxylic acid in the aqueous dispersion obtained by polymerization may be 200 ppb by mass or more, 300 ppb by mass or more, or 400 ppb by mass or more, or 10% by mass or less, 1% by mass or less, or 0.5% by mass or less, relative to the aqueous dispersion.
  • the aqueous dispersion contains a compound represented by the following general formula (H1) as a fluorine-containing compound having a hydrophilic group.
  • the aqueous dispersion contains a compound represented by the following general formula (H2) as a fluorine-containing compound having a hydrophilic group.
  • General formula (H2) [C n-1 F 2n-1 COO ⁇ ]M + (In the formula, n is an integer of 4 to 14, and M + represents a cation.)
  • the compound represented by the general formula (2) (perfluoroalkanoic acid) is known to be formed during polymerization when perfluoro(alkyl vinyl ether) or the like is used as a fluoromonomer (see WO 2019/161153).
  • the aqueous dispersion contains a compound represented by the following general formula (H3) as a fluorine-containing compound having a hydrophilic group.
  • the aqueous dispersion contains a compound represented by general formula (H4) as the fluorine-containing compound having a hydrophilic group.
  • General formula (H4) H-Rf n0 -Y 0 (In the formula, Rf n0 is a linear, branched or cyclic alkylene group having 3 to 20 carbon atoms, in which some or all of H are substituted with F, and the alkylene group may contain one or more ether bonds, and some of H may be substituted with Cl.
  • Y 0 is an anionic group.
  • Examples of the compound represented by general formula (H4) include compounds represented by any of the following general formulas.
  • the method of removing the fluoromonomer from the reactor is not particularly limited. After preparing the aqueous dispersion, the stirring of the contents of the reactor may be stopped as desired, and the fluoromonomer may be removed from the reactor by venting the reactor until the pressure in the reactor becomes normal pressure, or the pressure in the reactor may be reduced to less than 0.0 MPaG, or the fluoromonomer in the reactor may be replaced with an inert gas such as nitrogen gas by supplying an inert gas into the reactor. In addition, the entire amount of the fluoromonomer in the reactor may be reacted and converted into a perfluoro-based polymer compound X, thereby removing the fluoromonomer from the reactor.
  • the removal of the fluoromonomer remaining in the reactor from the reactor may be performed to an extent that the polymerization reaction of the fluoromonomer is sufficiently stopped, and a small amount of the fluoromonomer may remain in the reactor.
  • the removed fluoromonomer may be recovered by a known means.
  • the recovered fluoromonomer may be reused to produce a fluoropolymer.
  • aqueous dispersion As a method for removing the fluoromonomer from inside the reactor, it is also preferable to prepare an aqueous dispersion, and then stop stirring the contents of the reactor if desired, reduce the pressure inside the reactor to less than 0.0 MPaG, and then supply an inert gas into the reactor. The reduction in pressure inside the reactor and the supply of the inert gas may be repeated multiple times.
  • the reactor When polymerization of fluoromonomer is carried out at a temperature above room temperature, the reactor may be cooled before or after removing the fluoromonomer from the reactor.
  • removing the fluoromonomer from the reactor by means of evacuation or nitrogen replacement there is a possibility that unreacted fluoromonomer, particularly in liquid form, may remain in the reactor, but by cooling the reactor, the progress of the reaction of the unreacted fluoromonomer can be sufficiently suppressed.
  • the method for recovering the aqueous dispersion in the reactor and storing it in a container other than the reactor used for polymerization For example, after preparing the aqueous dispersion, if desired, stirring of the contents of the reactor may be stopped, the reactor may be opened, and the aqueous dispersion in the reactor may be poured into another container, or, after preparing the aqueous dispersion, if desired, stirring of the contents of the reactor may be stopped, and the aqueous dispersion may be supplied from the reactor to the other container via a pipe connecting the reactor to the other container.
  • a polymerization terminator (radical scavenger) may be added to stop the polymerization reaction of the fluoromonomer.
  • a compound that does not have the ability to restart after addition or chain transfer to the free radical in the polymerization system is used.
  • a compound that easily undergoes a chain transfer reaction with a primary radical or a growing radical, and then generates a stable radical that does not react with a monomer, or a compound that easily undergoes an addition reaction with a primary radical or a growing radical to generate a stable radical is used.
  • the activity of a chain transfer agent is generally characterized by a chain transfer constant and a restart efficiency, and among chain transfer agents, a chain transfer agent with a restart efficiency of almost 0% is called a polymerization terminator.
  • the polymerization terminator for example, at least one selected from the group consisting of aromatic hydroxy compounds, aromatic amines, N,N-diethylhydroxylamine, quinone compounds, terpenes, thiocyanates, and cupric chloride (CuCl 2 ) is preferable.
  • aromatic hydroxy compound unsubstituted phenol, polyhydric phenol, salicylic acid, m- or p-salicylic acid, gallic acid, naphthol, etc. can be mentioned.
  • the unsubstituted phenol include o-, m-, or p-nitrophenol, o-, m-, or p-aminophenol, and p-nitrosophenol.
  • polyhydric phenol examples include catechol, resorcin, hydroquinone, pyrogallol, phloroglucin, and naphthresorcinol.
  • aromatic amine examples include o-, m-, or p-phenylenediamine, and benzidine.
  • quinone compound examples include hydroquinone, o-, m-, or p-benzoquinone, 1,4-naphthoquinone, and alizarin.
  • thiocyanate examples include ammonium thiocyanate (NH 4 SCN), potassium thiocyanate (KSCN), and sodium thiocyanate (NaSCN).
  • the polymerization terminator is preferably a quinone compound, and more preferably hydroquinone.
  • a radical generator is added to the aqueous dispersion in an amount equivalent to 5 or more times the molar amount of the fluorine-containing surfactant used in the polymerization.
  • the aqueous dispersion to which the radical generator is added may be the aqueous dispersion remaining in the reactor, or it may be the aqueous dispersion recovered from the reactor and stored in a separate container.
  • the radical generator is not particularly limited as long as it is a compound that can decompose at the temperature during heat treatment to generate radicals.
  • a water-soluble radical generator is preferable because it can easily diffuse radicals in the aqueous dispersion.
  • the radical generator may be an organic peroxide, an inorganic peroxide, an organic azo compound, or a combination of an oxidizing agent and a reducing agent. At least one selected from the group consisting of an inorganic peroxide, an organic peroxide, or a combination of an oxidizing agent and a reducing agent is preferred.
  • the inorganic peroxide a water-soluble inorganic peroxide is preferable.
  • the inorganic peroxide include hydrogen peroxide, perchlorates, perborates, perphosphates, percarbonates, and persulfates, and persulfates are preferable.
  • the persulfate at least one selected from the group consisting of ammonium persulfate, sodium persulfate, and potassium persulfate is preferable, and ammonium persulfate is more preferable.
  • the organic peroxide is preferably a water-soluble organic peroxide.
  • examples of the organic peroxide include peroxydicarbonates such as disuccinic acid peroxide and diglutaric acid peroxide.
  • a combination of an oxidizing agent and a reducing agent can be used as a radical generator.
  • radicals can be generated from the radical generator through a redox reaction between the oxidizing agent and the reducing agent, making it possible to lower the temperature during heat treatment.
  • Oxidizing agents include persulfates, organic peroxides, potassium permanganate, manganese triacetate, and cerium ammonium nitrate.
  • Reducing agents include sulfites, bisulfites, bromates, diimines, and oxalic acid.
  • Persulfates include ammonium persulfate and potassium persulfate.
  • Sulfites include sodium sulfite and ammonium sulfite. It is also preferable to add copper salts and iron salts to increase the decomposition rate of the oxidizing agent. Copper salts include copper (II) sulfate, and iron salts include iron (II) sulfate.
  • Combinations of oxidizing agents and reducing agents include, for example, potassium permanganate/oxalic acid, ammonium persulfate/bisulfite/ferrous sulfate, manganese triacetate/oxalic acid, cerium ammonium nitrate/oxalic acid, bromate/bisulfite, etc., with potassium permanganate/oxalic acid being preferred.
  • potassium permanganate/oxalic acid is preferred.
  • either the oxidizing agent or the reducing agent may be added to the aqueous dispersion in advance, and then the other may be added continuously or intermittently.
  • the amount of radical generator added is preferably 5 molar times or more, more preferably 10 molar times or more, preferably 1000 molar times or less, more preferably 500 molar times or less, and even more preferably 100 molar times or less, relative to the molar amount of the fluorine-containing surfactant used in the polymerization, since this can further improve the efficiency of removing fluorine-containing compounds having hydrophilic groups.
  • the method of adding the radical generator is not particularly limited.
  • the radical generator may be added directly to the aqueous dispersion, or a solution containing the radical generator may be prepared and added to the aqueous dispersion.
  • the radical generator may be added while stirring the aqueous dispersion, or the aqueous dispersion may be stirred after adding the radical generator.
  • the temperature of the aqueous dispersion to which the radical generator is added is not particularly limited, and may be the temperature of the aqueous dispersion after the fluoromonomer is polymerized, the temperature reached by cooling the aqueous dispersion after the fluoromonomer is polymerized, or the temperature of the heat treatment. That is, the aqueous dispersion may be heated for the heat treatment after the radical generator is added to the aqueous dispersion, or the aqueous dispersion may be heated to a temperature for the heat treatment and then the radical generator is added to the aqueous dispersion.
  • the aqueous dispersion to which the radical generator has been added (aqueous dispersion containing the radical generator) is subjected to a heat treatment.
  • aqueous dispersion containing the radical generator is subjected to a heat treatment.
  • the content of perfluoro-based polymer compound X in the aqueous dispersion may be adjusted.
  • the content of perfluoro-based polymer compound X can be adjusted by a known method such as concentration or dilution.
  • the content of perfluoro-based polymer compound X in the aqueous dispersion to be subjected to heat treatment is preferably 1% by mass or more, more preferably 5% by mass or more, and even more preferably 10% by mass or more, based on the mass of the aqueous dispersion, since an aqueous dispersion containing perfluoro-based polymer compound X can be produced with high productivity without impairing the efficiency of removing fluorine-containing compounds having hydrophilic groups.
  • the upper limit of the content of perfluoro-based polymer compound X is preferably 60% by mass or less, more preferably 55% by mass or less, and even more preferably 50% by mass or less.
  • the content of the fluorine-containing surfactant added during polymerization in the aqueous dispersion to be subjected to heat treatment is preferably 500 ppm by mass or more, more preferably 1000 ppm by mass or more, and preferably 10% by mass or less, more preferably 5% by mass or less, and even more preferably 1% by mass or less, relative to the mass of the perfluoro-based polymer compound X in the aqueous dispersion.
  • the content of the fluorine-containing compound having a hydrophilic group produced by polymerization of the fluoromonomer in the aqueous dispersion to be subjected to the heat treatment is preferably 500 ppb by mass or more, more preferably 1000 ppb by mass or more, and preferably 1.0% by mass or less, more preferably 0.1% by mass or less, and even more preferably 0.01% by mass or less, relative to the mass of the perfluoro-based polymer compound X in the aqueous dispersion.
  • the content of the fluorine-containing compound having a hydrophilic group in the aqueous dispersion to be subjected to the heat treatment is preferably 500 ppm by mass or more, more preferably 1000 ppm by mass or more, and preferably 10% by mass or less, more preferably 5% by mass or less, and even more preferably 1% by mass or less, relative to the perfluoro-based polymer compound X in the aqueous dispersion.
  • the temperature of the heat treatment is preferably 35°C or higher, more preferably 40°C or higher, even more preferably 45°C or higher, particularly preferably 50°C or higher, preferably 120°C or lower, more preferably 110°C or lower, even more preferably 100°C or lower, and particularly preferably 90°C or lower, since this can further improve the efficiency of removing fluorine-containing compounds having hydrophilic groups.
  • the heat treatment temperature is preferably equal to or higher than the temperature at which the radical generator decomposes to generate radicals (decomposition temperature).
  • the aqueous dispersion In the heat treatment of the aqueous dispersion, if the aqueous dispersion can be maintained at a desired temperature or higher, it is not necessary to heat the aqueous dispersion. For example, if the temperature at which the fluoromonomer is polymerized is sufficiently high and the temperature of the resulting aqueous dispersion is also sufficiently high, the heat treatment can be started before the resulting aqueous dispersion is cooled.
  • the temperature of the aqueous dispersion to be subjected to the heat treatment may be, for example, 30°C or lower.
  • the heating means is not particularly limited.
  • a container containing the aqueous dispersion may be placed in a thermostatic bath and heated, or the aqueous dispersion may be contained in a container equipped with a heater and heated by the heater.
  • the pressure of the heat treatment is not particularly limited and may be normal pressure.
  • the pressure of the heat treatment may be a pressure exceeding normal pressure.
  • the heat treatment time is preferably 15 minutes or more, more preferably 30 minutes or more, even more preferably 60 minutes or more, and is preferably 1200 minutes or less, more preferably 900 minutes or less, even more preferably 600 minutes or less, since this can further improve the efficiency of removing fluorine-containing compounds having hydrophilic groups.
  • the heat treatment may be carried out while stirring the aqueous dispersion.
  • a coating can be formed using the electrodeposition coating composition of the present disclosure.
  • the coating formed from the electrodeposition coating composition of the present disclosure is free of cracks, has low surface roughness, and has a low dielectric constant.
  • a coating formed from the electrodeposition coating composition can be formed, for example, on a substrate.
  • the coating is free of cracks, has low surface roughness, and has a low dielectric constant, and further, the substrate and coating are firmly bonded.
  • Materials for forming the substrate include metals such as iron, aluminum, copper, and alloys thereof. Examples of the alloys include stainless steel.
  • the substrate may contain other materials in addition to the metal material.
  • the substrate can be made of materials such as copper, copper alloy, aluminum, aluminum alloy, iron, silver, and nickel, and is preferably made of copper, copper alloy, aluminum, or aluminum alloy.
  • the thickness of the coating is preferably 2 to 100 ⁇ m, more preferably 5 ⁇ m or more, more preferably 70 ⁇ m or less, and even more preferably 30 ⁇ m or less.
  • the dielectric constant of the coating is preferably 2.0 to 2.4, and more preferably 2.3 or less.
  • coated articles include cooking utensils such as frying pans, pressure cookers, pots, grill pans, rice cookers, ovens, hot plates, bread molds, knives, and gas stoves; kitchen supplies such as electric kettles, ice trays, molds, and range hoods; food industry parts such as kneading rolls, rolling rolls, conveyers, and hoppers; industrial products such as office automation (OA) rolls, OA belts, OA separation claws, papermaking rolls, and film manufacturing calendar rolls; molds and casting dies for polystyrene foam molding; mold release devices such as release plates for manufacturing plywood and decorative panels; industrial containers (especially for the semiconductor industry); tools such as saws and files; household items such as irons, scissors, and knives; metal foils; coated electric wires; printed circuit boards; sliding bearings for food processing machines, packaging machines, and textile machines; sliding parts for cameras and watches; automotive parts such as pipes, valves, and bearings; snow shovels, plows, and chutes.
  • kitchen supplies such as
  • coated articles coated electric wires and printed circuit boards are preferred.
  • the electrodeposition coating composition of the present disclosure can be used to form a coating for coating a coated electric wire.
  • the coated electric wire includes, for example, an electric wire substrate and a coating formed on the outer periphery of a rectangular electric wire substrate.
  • the coating is free of cracks, has a low surface roughness, has a low dielectric constant, and is firmly bonded to the substrate.
  • the wire comprises a rectangular electric wire substrate and a coating formed on the outer periphery of the rectangular electric wire substrate and made of an electrodeposition coating composition.
  • the shape of the rectangular electric wire substrate is not particularly limited as long as it is the shape of a rectangular wire whose cross section is approximately rectangular.
  • the corners of the cross section of the rectangular electric wire substrate may be right angles, or the corners of the cross section of the rectangular electric wire substrate may be rounded.
  • the rectangular electric wire substrate may be a solid wire, a stranded wire, a twisted wire, or the like, so long as the overall cross section is approximately rectangular, but a solid wire is preferable.
  • the rectangular electric wire substrate is not particularly limited as long as it is made of a conductive material, but it can be made of materials such as copper, copper alloy, aluminum, aluminum alloy, iron, silver, nickel, etc., and is preferably made of copper, copper alloy, aluminum or aluminum alloy. It is also possible to use rectangular electric wire substrates that are plated with silver plating, nickel plating, etc. As for copper, oxygen-free copper, low-oxygen copper, copper alloy, etc. can be used.
  • the cross-sectional width of the rectangular electric wire substrate may be 1 to 75 mm, and the cross-sectional thickness of the rectangular electric wire substrate may be 0.1 to 30 mm.
  • the outer circumferential diameter of the rectangular electric wire substrate may be 6.5 mm or more and 200 mm or less.
  • the ratio of width to thickness may be greater than 1 and less than 30.
  • the surface roughness Sz of the rectangular electric wire substrate is preferably 0.2 to 12 ⁇ m, more preferably 1 ⁇ m or more, even more preferably 5 ⁇ m or more, and more preferably 10 ⁇ m or less, in order to further strengthen the adhesion between the rectangular electric wire substrate and the coating.
  • the surface roughness of the rectangular electric wire substrate can be adjusted by subjecting the rectangular electric wire substrate to a surface treatment such as etching, blasting, or laser treatment.
  • the surface of the rectangular electric wire substrate may be provided with irregularities by surface treatment. The smaller the distance between the irregularities from one convex portion to the other convex portion, the more preferable, for example, 5 ⁇ m or less.
  • the size of the irregularities is, for example, 1 ⁇ m2 or less per concave portion when the convex portion is cut from the unprocessed surface.
  • the irregularity shape may be a single crater-type irregularity shape, or may be branched in an ant nest shape.
  • a coating on a substrate such as a rectangular electric wire substrate can be formed by electrocoating the substrate with an electrocoating paint composition. Electrocoating can be performed, for example, by immersing the substrate in the electrocoating paint composition and passing an electric current through the substrate as the anode.
  • the conditions for electrocoating are appropriately selected depending on the type of substrate, etc. For example, the temperature of the electrocoating paint composition can be set to 10 to 40°C, the voltage can be set to 50 to 500V, and the current can be passed for 1 to 10 minutes.
  • the film deposited on the substrate may be washed with water. After electrocoating, the film deposited on the substrate is baked and dried. Drying may be performed once or multiple times. For example, pre-drying may be performed at a low temperature, followed by baking and drying at a high temperature.
  • the electrodeposition coating composition disclosed herein contains a neutralized methacrylate resin. Therefore, it is preferable to select drying conditions that allow the coating to be baked onto the substrate, and that allow only a portion of the neutralized methacrylate resin in the electrodeposition coating composition to remain in the coating. By selecting such conditions, a coating that is free of cracks, has low surface roughness, is firmly bonded to the substrate, and has a low dielectric constant can be obtained.
  • the drying temperature is preferably 300°C or higher, and more preferably 350°C or higher.
  • the upper limit of the drying temperature may be 400°C or lower, from the viewpoint of suppressing oxidation of the substrate and deterioration of the coating.
  • the drying time is preferably 5 minutes or longer, and more preferably 10 minutes or longer.
  • the upper limit of the drying time may be 60 minutes or lower, from the viewpoint of suppressing oxidation of the substrate and deterioration of the coating.
  • Drying can be performed in an inert gas that contains, for example, at most 1% by mass of oxygen gas. Nitrogen gas, for example, can be used as the inert gas.
  • the coated electric wire of the present disclosure may further include a coating layer formed on the outer periphery of the coating.
  • the coating layer may be a coating film formed from a coating composition or an extrusion formed from a composition for extrusion molding.
  • the coating layer may be one layer or two or more layers.
  • the coating composition may be a liquid coating composition or a powder coating composition, but a powder coating composition is preferred because it is easy to form a relatively thick coating layer.
  • a powder coating composition containing a powder of fluorine-containing polymer compound Y can be used.
  • the term "powder coating composition” is used even when the powder coating composition contains only a powder of fluorine-containing polymer compound Y, i.e., even when the powder coating composition does not contain multiple components.
  • the layer formed from the coating composition can be formed by applying the coating composition to the outer periphery of the coating.
  • the method for forming a layer by applying the powder coating composition is not particularly limited, and examples include electrostatic coating and fluidized bed coating.
  • the resulting coating film may be baked to form a layer.
  • Baking may be performed by a conventional method, but is preferably performed for 5 to 60 minutes at a temperature equal to or higher than the melting point or curing temperature of the fluorine-containing polymer compound Y. Baking may be performed each time the coating composition is applied, or may be performed after applying the coating composition multiple times to form multiple layers (coating films).
  • composition for extrusion molding a composition containing a fluorine-containing polymer compound Z can be used.
  • composition for extrusion molding even if the composition for extrusion molding contains only a fluorine-containing polymer compound Z, that is, even if the composition for extrusion molding does not contain multiple components, the term "composition for extrusion molding" is used.
  • the extrusion molding method is used as a method for forming a layer by extruding the fluorine-containing polymer compound Z (composition for extrusion molding).
  • the fluorine-containing polymer compound can be heated and melted using an extruder, and the molten fluorine-containing polymer compound can be extruded onto a film to form a layer.
  • the type of extruder is not particularly limited, and the shape of the screw equipped in the extruder is also not particularly limited.
  • the extruder barrel is 30 mm ⁇ , L/D 24, the screw is full flight, the compression ratio is 2.8, and the temperature conditions of the extrusion are C1 under the hopper, C2, C3, C4 in order, and the temperature of the cylinder is adjusted, and the temperature of the head, die, and each part of the die is adjusted.
  • the die shape is a crosshead, and the wire is inserted perpendicular to the extrusion and coated with the fluorine-containing polymer compound.
  • the die/tip is adjusted according to the desired shape of the rectangular wire substrate and the coating thickness. It is also possible to use a tubing die, a pressure die, etc. for different purposes.
  • the cooling of the resin after extrusion coating can be controlled by air cooling, water cooling, or heat retention cooling, taking into consideration the physical properties of the desired fluorine-containing polymer compound and the physical properties of the wire.
  • the coated electric wire may be subjected to a heat treatment.
  • the heat treatment may be performed before or after cooling, provided that the coating layer has been formed.
  • the heat treatment temperature is usually equal to or higher than the glass transition point of the fluorine-containing polymer compound, and is preferably 10 to 15°C lower than the melting point of the fluorine-containing polymer compound.
  • the coating layer is an extrudate formed from the extrusion composition by extrusion molding.
  • the extrudate can easily form a layer that is thicker than the coating film formed from the paint composition.
  • the thickness of the extrudate may be 90 ⁇ m or more, and the thickness of the coating film (thickness of the layer formed from the paint composition) may be less than 90 ⁇ m.
  • the thickness of the coating film formed from the coating composition containing the fluorine-containing polymer compound Y is preferably 5 to 100 ⁇ m, more preferably 50 ⁇ m or more, even more preferably 75 ⁇ m or more, and more preferably less than 90 ⁇ m.
  • the thickness of the layer formed by extrusion molding of the composition for extrusion molding containing the fluorine-containing polymer compound Z is preferably 25 to 400 ⁇ m, more preferably 50 ⁇ m or more, even more preferably 75 ⁇ m or more, still more preferably 90 ⁇ m or more, more preferably 290 ⁇ m or less, and even more preferably 240 ⁇ m or less.
  • the dielectric constant of the coating layer is preferably 2.0 to 2.4, and more preferably 2.3 or less.
  • the fluorine-containing polymer compound Y contained in the powder coating composition may be polytetrafluoroethylene, TFE/FAVE copolymer, TFE/HFP copolymer, TFE/FAVE/HFP copolymer, TFE/ethylene copolymer [ETFE], TFE/ethylene/HFP copolymer, ethylene/chlorotrifluoroethylene (CTFE) copolymer [ECTFE], polychlorotrifluoroethylene [PCTFE], CTFE/TFE copolymer, polyvinylidene fluoride [PVdF], TFE/vinylidene fluoride (VdF) copolymer [VT], polyvinyl fluoride [PVF], TFE/VdF/CTFE copolymer [VTC], TFE/HFP/VdF copolymer, etc.
  • a perfluoro-based polymer compound is particularly preferred.
  • the perfluoro-based polymer compound the polymers explained as the perfluoro-based polymer compound X can be used.
  • a melt-processable perfluoro-based polymer compound is preferred, and at least one selected from the group consisting of TFE/FAVE copolymer, TFE/HFP copolymer, and TFE/FAVE/HFP copolymer is more preferred.
  • the fluorine-containing polymer compound Z contained in the extrusion molding composition includes polytetrafluoroethylene, TFE/FAVE copolymer, TFE/HFP copolymer, TFE/FAVE/HFP copolymer, TFE/ethylene copolymer [ETFE], TFE/ethylene/HFP copolymer, ethylene/chlorotrifluoroethylene (CTFE) copolymer [ECTFE], polychlorotrifluoroethylene [PCTFE], CTFE/TFE copolymer, polyvinylidene fluoride [PVdF], TFE/vinylidene fluoride (VdF) copolymer [VT], polyvinyl fluoride [PVF], TFE/VdF/CTFE copolymer [VTC], TFE/HFP/VdF copolymer, etc.
  • CTFE chlorotrifluoroethylene
  • ECTFE polychlorotrifluoroethylene
  • PCTFE polychlorotrifluoroethylene
  • a perfluoro-based polymer compound is particularly preferred.
  • the perfluoro-based polymer compound the polymers explained as the perfluoro-based polymer compound X can be used.
  • a melt-processable perfluoro-based polymer compound is preferred, and at least one selected from the group consisting of TFE/FAVE copolymer, TFE/HFP copolymer, and TFE/FAVE/HFP copolymer is more preferred.
  • the coating composition, extrusion molding composition, and coating layer may contain other components as necessary.
  • other components include additives such as crosslinking agents, antistatic agents, heat stabilizers, foaming agents, foam nucleating agents, antioxidants, surfactants, photopolymerization initiators, anti-wear agents, surface modifiers, various organic and inorganic pigments, copper damage inhibitors, anti-foam agents, adhesion promoters, lubricants, processing aids, colorants, phosphorus-based stabilizers, lubricants, release agents, sliding materials, UV absorbers, dyes and pigments, reinforcing materials, anti-drip agents, fillers, curing agents, UV curing agents, and flame retardants.
  • additives such as crosslinking agents, antistatic agents, heat stabilizers, foaming agents, foam nucleating agents, antioxidants, surfactants, photopolymerization initiators, anti-wear agents, surface modifiers, various organic and inorganic pigments, copper damage inhibitors, anti-foam agents, adhesion
  • the coated electric wire of the present disclosure can be suitably used for, for example, LAN cables, USB cables, Lightning cables, HDMI cables, QSFP cables, aerospace wires, underground power transmission cables, undersea power cables, high voltage cables, superconducting cables, wrapped electric wires, automotive wires, wire harnesses and electrical equipment, robot and factory automation wires, office equipment wires, information equipment wires (optical fiber cables, LAN cables, HDMI cables, Lightning cables, audio cables, etc.), internal wiring for communication base stations, high current internal wiring (inverters, power conditioners, storage battery systems, etc.), electronic equipment internal wiring, small electronic equipment and mobile wiring, moving part wiring, electrical equipment internal wiring, measuring equipment internal wiring, power cables (construction, wind/solar power generation, etc.), control and instrumentation wiring cables, motor cables, etc.
  • the coated electric wire of the present disclosure can be wound and used as a coil.
  • the coated electric wire and coil of the present disclosure can be suitably used in electric or electronic devices such as motors, generators, and inductors.
  • the coated electric wire and coil of the present disclosure can also be suitably used in on-vehicle electric or electronic devices such as on-vehicle motors, on-vehicle generators, and on-vehicle inductors.
  • the coated electric wire may be a long electric wire, a short electric wire, or a coated electric wire having a bent portion as shown in Figure 1.
  • a coated electric wire having bent portions includes a rectangular electric wire substrate having one or more bent portions bent in an edgewise direction, and a coating formed on the outer periphery of the rectangular electric wire substrate.
  • the coated electric wire having bent portions can be suitably used, for example, as a segment coil to be inserted into a slot formed in a stator core or rotor core.
  • a coil can be formed as a segment coil by inserting coated electric wires having bent portions into slots and joining the ends of each coated electric wire.
  • FIG. 1 is a front view and a top view of a coated electric wire body having a bent portion according to one embodiment.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view of a coated electric wire having a bent portion according to one embodiment.
  • the coated electric wire 100 having a bent portion shown in FIG. 1 is a resin coated conductor (segment coil) for forming a coil by being inserted into each slot of a core of a rotating electric machine.
  • the resin coated conductor 100 is formed by bending a resin coated conductor of a predetermined length into a U-shape in the flatwise direction.
  • the resin coated conductor 100 comprises a rectangular electric wire substrate 21 and a coating 22 formed on the outer periphery of the rectangular electric wire substrate 21.
  • the resin-coated conductor 100 has a generally U-shape and is composed of a curved portion 11 and slot insertion portions 12 extending from both ends of the curved portion 11.
  • shoulder portions 13a and 13b are formed by bending the rectangular electric wire substrate in the edgewise direction.
  • the curved portion 11 is formed with a convex portion 14 formed by bending the rectangular electric wire substrate in the edgewise direction, and a crank-shaped portion 15 formed by bending the rectangular electric wire substrate in the flatwise direction.
  • An electrodeposition coating composition comprising a perfluoro-based polymer compound X and a neutralized product of a methacrylate resin,
  • the relative dielectric constant of the perfluoro-based polymer compound X is 2.0 to 2.2,
  • the acid value of the methacrylate resin is 10 mgKOH/g or more;
  • the electrodeposition coating composition has a solids concentration of 10 to 70 mass %.
  • An electrodeposition coating composition comprising a perfluoro-based polymer compound X and a neutralized product of a methacrylate resin, the perfluoro-based polymer compound X is a tetrafluoroethylene/fluoroalkyl vinyl ether copolymer, The acid value of the methacrylate resin is 10 mgKOH/g or more; The electrodeposition coating composition has a solids concentration of 10 to 70 mass %.
  • an electrodeposition coating composition having a content of a fluorine-containing compound having a hydrophilic group of 50 ppb or less by mass relative to the perfluoro polymer compound X.
  • an electrodeposition coating composition according to any one of the first to third aspects, further comprising water.
  • an electrodeposition coating composition according to any one of the first to fourth aspects, which is obtained by a production method in which an aqueous dispersion composition containing the perfluoro-based polymer compound X and water is added to a solution containing a neutralized product of the methacrylate resin and an organic solvent, and phase inversion emulsification is performed.
  • an electrodeposition coating composition according to any one of the first to fifth aspects, wherein the methacrylate resin has a carboxyl group, and the neutralized product of the methacrylate resin is a neutralized product obtained by neutralizing the methacrylate resin having a carboxyl group with an amine compound.
  • the neutralized product of the methacrylate resin has a degree of neutralization of 50% or more.
  • an electrodeposition coating composition according to any one of the first to seventh aspects, wherein the perfluoro-based polymer compound X has functional groups, and the number of functional groups of the perfluoro-based polymer compound X is 5 to 2000 per 10 carbon atoms.
  • the alkali metal content is less than 1 ppm by mass.
  • an electrodeposition coating composition according to any one of the first to ninth aspects, wherein the mass ratio of the perfluoro-based polymer compound X to the neutralized product of the methacrylate resin is from 10/90 to 90/10.
  • the present invention includes a substrate and a coating that covers the substrate, There is provided a coated article, wherein the coating is formed from the electrodeposition coating composition according to any one of the first to tenth aspects.
  • a coated article wherein the material forming the substrate is at least one selected from the group consisting of copper, a copper alloy, aluminum and an aluminum alloy.
  • the wire includes a rectangular electric wire substrate and a coating formed on the outer periphery of the rectangular electric wire substrate, There is provided a coated electric wire, wherein the coating is formed from the electrodeposition coating composition according to any one of the first to tenth aspects.
  • a covered electric wire wherein the material forming the rectangular electric wire substrate is at least one selected from the group consisting of copper, a copper alloy, aluminum and an aluminum alloy.
  • the material forming the rectangular electric wire substrate is at least one selected from the group consisting of copper, a copper alloy, aluminum and an aluminum alloy.
  • a covered electric wire having a bent portion.
  • a covered electric wire which is a long electric wire.
  • the coating further includes a coating layer formed on an outer periphery of the coating, According to any one of the fourteenth to seventeenth aspects, there is provided a covered electric wire, wherein the covering layer is a layer formed from a powder coating composition containing a fluorine-containing polymer compound Y. ⁇ 19> According to a nineteenth aspect of the present disclosure, The coating further includes a coating layer formed on an outer periphery of the coating, According to any one of the fourteenth to seventeenth aspects, there is provided a covered electric wire, wherein the covering layer is a layer formed by extrusion molding of a fluorine-containing polymer compound Z.
  • the fluorine-containing polymer compound Y is a perfluorinated polymer compound,
  • the relative dielectric constant of the fluorine-containing polymer compound Y is 2.0 to 2.2;
  • a covered electric wire in which the melting point of the fluorine-containing polymer compound Y is 250 to 320° C.
  • the melt flow rate of the fluorine-containing polymer compound Y is 0.1 to 100 g/10 min.
  • a covered electric wire in which the fluorine-containing polymer compound Y has functional groups, and the number of functional groups is 5 to 1000 per 10 6 carbon atoms.
  • a covered electric wire in which the fluorine-containing polymer compound Y has functional groups, the number of which is 0 to 4 per 10 6 carbon atoms.
  • the present invention includes a substrate and a coating that covers the substrate, There is provided a printed circuit board, wherein the coating is formed from the electrodeposition coating composition according to any one of the first to tenth aspects.
  • a printed circuit board wherein the material forming the base material is at least one selected from the group consisting of copper, a copper alloy, aluminum, and an aluminum alloy.
  • N I x K / t (A)
  • K correction coefficient
  • t film thickness (mm)
  • the absorption frequency, molar absorption coefficient, and correction coefficient for the functional groups in this disclosure are shown in the table.
  • the molar absorption coefficient was determined from the FT-IR measurement data of a low molecular weight model compound.
  • the depolymerizable methacrylate resin was dissolved in a mixed solvent of xylene and isopropyl alcohol, and then titrated with a 0.1 mol/L potassium hydroxide-ethanol solution by potentiometric titration. The inflection point on the titration curve was taken as the end point, and the titration amount was calculated from the amount of potassium hydroxide solution up to the end point.
  • melt Flow Rate (Melt Flow Rate (MFR)) According to ASTM D1238, the mass (g/10 min) of the copolymer flowing out per 10 min from a nozzle having an inner diameter of 2.1 mm and a length of 8 mm at 372° C. under a load of 5 kg was determined using a melt indexer (manufactured by Yasuda Seiki Seisakusho).
  • Alkali metal content in electrodeposition coating composition The alkali metal content in the electrodeposition coating composition was measured by inductively coupled plasma mass spectrometry.
  • the thickness of the coating was measured using a coating thickness meter LZ-373 manufactured by Kett Electric Laboratory Co., Ltd. If cracks were found in the coating by visual inspection, the thickness was not measured and the coating was recorded as "cracks present.”
  • the surface roughness Ra of the coating was measured using a surface roughness measuring instrument, Surtronic DUOII, manufactured by Taylor Hobson Co., Ltd. For coatings in which cracks were visually observed, the thickness was not measured and the coating was recorded as "cracks present.”
  • Adhesion strength between film and substrate The adhesion strength between the film and the substrate was measured using an AGS-J autograph (50N) (manufactured by Shimadzu Corporation). Two strips were cut into the film approximately parallel to the long axis direction at 50 mm, and both ends were cut perpendicular to the film in the short axis direction, and the ends were peeled off by 10 cm and clamped in the upper chuck. The conductor was fixed at the bottom so that the long side direction was horizontal. When the device was moved in the pulling direction, a jig that moved in conjunction with the horizontal direction according to the vertical movement distance was used, and the angle was adjusted so that the peeled film was always perpendicular to the conductor in the long side direction.
  • C Ca+Cb
  • C the capacitance per unit length of the coating (pf/m), which is the combination of the capacitance of the flat portion Ca and the capacitance of the corner portion Cb.
  • Ca ( ⁇ / ⁇ 0 ) ⁇ 2 ⁇ (L 1 + L 2 ) / T
  • Cb ( ⁇ / ⁇ 0 ) ⁇ 2 ⁇ 0 / Log ⁇ (r + T)/r ⁇ /r (In the formula, ⁇ 0 is the dielectric constant of a vacuum, L 1 is the long side of the copper plate, L 2 is the short side, and T is the thickness of the coating.)
  • depolymerizable methacrylate resin A Methyl methacrylate (1.44 g), n-butyl methacrylate (123.13 g), 2-hydroxyethyl methacrylate (13.92 g), methacrylic acid (11.51 g), and azobisisobutyronitrile (1.5 g) as a polymerization initiator were added dropwise to isopropyl alcohol (335 g) under stirring while maintaining the liquid temperature at 70° C. under a nitrogen atmosphere over a period of 3 hours. After the completion of the dropwise addition, the liquid temperature was kept at 70° C. and stirring was continued for 2 hours. In this manner, a solution of depolymerizable methacrylate resin A having a resin acid value of 50 mgKOH/g and a solid content of 30% by mass was obtained.
  • Depolymerizable Methacrylate Resin B Methyl methacrylate (7.03 g), n-butyl methacrylate (122.15 g), 2-hydroxyethyl methacrylate (13.92 g), methacrylic acid (6.9 g), and azobisisobutyronitrile (1.5 g) as a polymerization initiator were added dropwise to isopropyl alcohol (335 g) under stirring while maintaining the liquid temperature at 70° C. under a nitrogen atmosphere over a period of 3 hours. After the completion of the dropwise addition, the liquid temperature was kept at 70° C. and stirring was continued for 2 hours. In this manner, a solution of depolymerizable methacrylate resin B was obtained, which had a resin acid value of 30 mgKOH/g and a solid content of 30% by mass.
  • depolymerizable methacrylate resin C Methyl methacrylate (13.67 g), n-butyl methacrylate (104 g), 2-hydroxyethyl methacrylate (13.92 g), methacrylic acid (18.41 g), and azobisisobutyronitrile (1.5 g) as a polymerization initiator were added dropwise to isopropyl alcohol (335 g) under stirring while maintaining the liquid temperature at 70° C. under a nitrogen atmosphere over a period of 3 hours. After the completion of the dropwise addition, the liquid temperature was kept at 70° C. and stirring was continued for 2 hours. In this manner, a solution of depolymerizable methacrylate resin C having a resin acid value of 80 mgKOH/g and a solid content of 30% by mass was obtained.
  • Triethylamine was added to the solution of depolymerizable methacrylate resin A so that the degree of neutralization was 80%, to obtain a solution of neutralized depolymerizable methacrylate resin A.
  • PTFE relative dielectric constant: 2.2, number of functional groups: 18 per 106 carbon atoms
  • Electrodeposition coating composition B Triethylamine was added to the solution of depolymerizable methacrylate resin A so that the degree of neutralization was 80%, to obtain a solution of neutralized depolymerizable methacrylate resin A.
  • Electrodeposition coating composition C Triethylamine was added to the solution of depolymerizable methacrylate resin A so that the degree of neutralization was 80%, to obtain a solution of neutralized depolymerizable methacrylate resin A.
  • Electrodeposition coating composition D Triethylamine was added to the solution of depolymerizable methacrylate resin A so that the degree of neutralization was 80%, to obtain a solution of neutralized depolymerizable methacrylate resin A.
  • Electrodeposition coating composition E Triethylamine was added to the solution of depolymerizable methacrylate resin A so that the degree of neutralization was 80%, to obtain a solution of neutralized depolymerizable methacrylate resin A.
  • Electrodeposition coating composition F Triethylamine was added to the solution of depolymerizable methacrylate resin B so that the degree of neutralization was 80%, to obtain a solution of neutralized depolymerizable methacrylate resin B.
  • Electrodeposition coating composition G Triethylamine was added to the solution of depolymerizable methacrylate resin C so that the degree of neutralization was 80%, to obtain a solution of neutralized depolymerizable methacrylate resin C.
  • Electrodeposition coating composition H A solution of non-depolymerizable acrylic resin (Mitsui Chemicals, Inc., Almatex WA911, resin acid value 48 mgKOH/g) was added with triethylamine to obtain a neutralization degree of 80%, and a solution of neutralized non-depolymerizable acrylic resin was obtained.
  • non-depolymerizable acrylic resin Mitsubishi Chemicals, Inc., Almatex WA911, resin acid value 48 mgKOH/g
  • Electrodeposition coating composition J An aqueous dispersion composition of depolymerizable methacrylate resin particles (Acryset TF-300 manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd., solid content: 40 mass%, resin acid value: 0.5 mgKOH/g) was mixed with an aqueous dispersion composition of PTFE (relative dielectric constant: 2.2, number of functional groups: 18 per 106 carbon atoms) particles (solid content: 60 mass%) and pure water so that the ratio of perfluoro-based polymer compound/methacrylate resin was 50/50 (mass%), to obtain an electrodeposition coating composition J with a solid content of 15 mass%.
  • PTFE relative dielectric constant
  • PTFE relative dielectric constant
  • number of functional groups 18 per 106 carbon atoms
  • electrodeposition coating composition K 20 kg of an aqueous dispersion composition (solid content: 60% by mass) of PTFE particles (dielectric constant: 2.2, number of functional groups: 18 per 106 carbon atoms), 10 kg of ion-exchanged water, and 6 g of sodium lauryl sulfate were added under a nitrogen atmosphere, stirred for 30 minutes, heated to 70°C, and a solution of 6 g of ammonium persulfate and 2 g of sodium hydrogen sulfite dissolved in 20 g of pure water was added, and 600 g of methyl methacrylate was immediately dropped over 30 minutes.
  • the liquid temperature was kept at 70°C and stirring was continued for 2 hours to obtain an aqueous dispersion composition of particles of depolymerizable methacrylate resin D (resin acid value: 0.4 mgKOH/g).
  • pure water was added to obtain an electrodeposition coating composition K having a solid content of 20% by mass, in which PTFE particles and particles of depolymerizable methacrylate resin D were mixed.
  • Electrodeposition coating was carried out on a copper plate using electrodeposition coating compositions A to H, J, and K under conditions of a liquid temperature of 25°C, an applied voltage of 150 V, and 120 seconds. This was pre-dried at 100°C for 20 minutes, and then heated at 380°C for 20 minutes in a drying furnace in an oxygen-free atmosphere replaced with nitrogen to obtain a coating. The properties of this coating were evaluated.
  • Example 8 On the coating obtained in Example 2, a coating layer consisting of a powder coating composition containing PFA (dielectric constant: 2.2, number of functional groups: 220 per 106 carbon atoms, MFR: 27 g/10 min) as the fluorine-containing polymer compound Y was formed, and the properties of the coating and the coating layer (the coating and the coating layer are collectively referred to as "coating" in Table 3) were evaluated.
  • PFA dielectric constant: 2.2, number of functional groups: 220 per 106 carbon atoms, MFR: 27 g/10 min
  • Example 9 On the coating obtained in Example 2, a coating layer was formed from a powder coating composition containing PFA (dielectric constant: 2.2, number of functional groups: 2 per 106 carbon atoms, MFR: 28 g/10 min) as the fluorine-containing polymer compound Y, and the properties of the coating and the coating layer (the coating and the coating layer are collectively referred to as "coating" in Table 3) were evaluated.
  • PFA dielectric constant: 2.2, number of functional groups: 2 per 106 carbon atoms, MFR: 28 g/10 min
  • Example 10 A coating layer was formed by extruding PFA (dielectric constant: 2.2, number of functional groups: 55 per 10 carbon atoms, MFR: 12 g/10 min) as the fluorine-containing polymer compound Z onto the coating obtained in Example 2, and the properties of the coating and the coating layer (the coating and the coating layer are collectively referred to as "coating" in Table 3) were evaluated.
  • PFA dielectric constant: 2.2, number of functional groups: 55 per 10 carbon atoms, MFR: 12 g/10 min
  • Electrodeposition coating composition B electrodeposition coating was carried out on a copper plate under the conditions of a liquid temperature of 25°C, an applied voltage of 150V, and 120 seconds. After preliminary drying at 100°C for 20 minutes, the plate was heated at 380°C for 20 minutes in a drying furnace in the presence of oxygen with outside air introduced, to obtain a coating. However, oxidation of the copper plate had progressed, and cracks were observed on the copper plate.
  • silictaneous emulsification particles refers to particles of a perfluoro-based polymer compound and particles of a methacrylate resin (acrylic resin) in an electrodeposition coating composition obtained by a manufacturing method in which an aqueous dispersion composition containing a perfluoro-based polymer compound X and water is added to a solution containing a methacrylate resin (acrylic resin) and an organic solvent, and phase inversion emulsification is carried out.
  • mixed particles refers to particles of perfluoro-based polymer compound and particles of methacrylate resin (acrylic resin) in an electrodeposition coating composition obtained by mixing an aqueous dispersion composition containing methacrylate resin (acrylic resin) and water with an aqueous dispersion composition containing perfluoro-based polymer compound X and water.
  • Methacrylate resin (acrylic resin) Methacrylate resin A: depolymerizable methacrylate resin, resin acid value: 50 mg KOH/g Methacrylate resin B: depolymerizable methacrylate resin, resin acid value: 30 mg KOH/g Methacrylate resin C: depolymerizable methacrylate resin, resin acid value: 80 mg KOH/g Acrylic resin E: non-depolymerizable acrylic resin, Almatex WA911 manufactured by Mitsui Chemicals, Inc., resin acid value: 48 mg KOH/g Methacrylate resin F: depolymerizable methacrylate resin, Acryset TF-300 manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd., resin acid value: 0.5 mg KOH/g Methacrylate resin D: depolymerizable methacrylate resin, resin acid value: 0.4 mg KOH/g
  • Fluorine-containing polymer compound Z PFA (5) Tetrafluoroethylene/perfluoro(propyl vinyl ether) copolymer, relative dielectric constant: 2.2, number of functional groups: 55 per 106 carbon atoms, MFR: 12 g/10 min
  • ⁇ Measurement of fluorine-containing compounds having hydrophilic groups 0. Extraction of a fluorine-containing compound having a hydrophilic group from an aqueous dispersion or aqueous dispersion composition 5.0 g of the aqueous dispersion was weighed out, 10 g of methanol was added, and the mixture was poured into a cylindrical filter paper. Soxhlet extraction was performed so that the total amount of methanol used as the extraction solvent became 150 g, and the resulting extract was made up to volume with methanol to 250 ml, thereby obtaining an extract containing a fluorine-containing compound having a hydrophilic group.
  • Calibration curve of perfluoroether carboxylic acid A Five levels of methanol standard solutions of perfluoroether carboxylic acid A with known concentrations were prepared and measured using a liquid chromatograph mass spectrometer (Agilent, Ultivo Triple Quadrupole LC-MS). A calibration curve was created using a first-order approximation from the methanol standard solution concentration and the peak integral value in each concentration range.
  • Perfluoroether carboxylic acid A was measured using a liquid chromatograph mass spectrometer. The extract was appropriately diluted with methanol to prepare a measurement solution so that the amount of perfluoroether carboxylic acid A in the measurement solution was within the calibration curve. The peak area of perfluoroether carboxylic acid A was obtained using the MRM method for the measurement solution, and the content of perfluoroether carboxylic acid A was obtained from the calibration curve.
  • Calibration curve of perfluorocarboxylic acid Five levels of methanol standard solutions of perfluorobutanoic acid, perfluoropentanoic acid, perfluorohexanoic acid, perfluoroheptanoic acid, perfluorooctanoic acid, perfluorononanoic acid, perfluorodecanoic acid, perfluoroundecanoic acid, perfluorododecanoic acid, perfluorotridecanoic acid, and perfluorotetradecanoic acid with known concentrations were prepared, and measurements were performed using a liquid chromatograph mass spectrometer (Agilent, Ultivo Triple Quadrupole LC-MS). A calibration curve was created using a first-order approximation from the methanol standard solution concentration and the peak integral value in each concentration range.
  • Synthesis Example 1 By the method described in Synthesis Example 1 of WO 2021/045228, a white solid A of perfluoroether carboxylic acid A having a molecular weight of 1000 or less was obtained.
  • TFE was added to the reactor to keep the pressure constant at 1.3 MPaG.
  • 4g of PPVE was added continuously to 100g of TFE.
  • the amount of TFE consumed in the reaction reached about 1600 g, the supply of TFE was stopped, stirring was stopped, and the reaction was terminated. After that, the pressure in the reactor was vented to normal pressure, and an aqueous dispersion of tetrafluoroethylene/perfluoro(propyl vinyl ether) copolymer (PFA) was obtained.
  • Preparation Example 1 The PFA aqueous dispersion obtained in Production Example 1 was placed in another reactor, the reactor contents were heated to 80° C., and 30.3 g of ammonium persulfate (10 times the molar amount of the fluorine-containing surfactant used in polymerization) was added as a radical generator. After that, the temperature was kept at 80° C. for 3 hours to obtain an aqueous dispersion composition containing heat-treated PFA.
  • Electrodeposition coating composition B Triethylamine was added to the solution of depolymerizable methacrylate resin A so that the degree of neutralization was 80%, to obtain a solution of neutralized depolymerizable methacrylate resin A.
  • Electrodeposition coating composition L Triethylamine was added to the solution of depolymerizable methacrylate resin A so that the degree of neutralization was 80%, to obtain a solution of neutralized depolymerizable methacrylate resin A.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Insulated Metal Substrates For Printed Circuits (AREA)
  • Insulated Conductors (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Metallurgy (AREA)

Abstract

パーフルオロ系高分子化合物Xおよびメタクリレート樹脂の中和物を含有する電着塗料組成物であって、前記パーフルオロ系高分子化合物Xの比誘電率が、2.0~2.2であり、前記メタクリレート樹脂の酸価が、10mgKOH/g以上であり、前記電着塗料組成物の固形分濃度が、10~70質量%である電着塗料組成物を提供する。

Description

電着塗料組成物、皮膜、被覆物品、被覆電線およびプリント基板
 本開示は、電着塗料組成物、皮膜、被覆物品、被覆電線およびプリント基板に関する。
 特許文献1には、ポリイミド樹脂とフッ素樹脂と電荷付与剤とを水分散してなる水分散型樹脂エマルジョンを導体上に電着し、乾燥、焼付けすることによって絶縁層を形成することを特徴とする絶縁電線の製造方法が記載されている。
 特許文献2には、繊維状基材を重合した銅箔上に、フッ素樹脂の水性ディスパージョン中で熱分解性の良好なビニルモノマを乳化重合した液を電着塗料として、電着塗装により電着析出層を形成させ、加熱によりビニルポリマを分解揮発させ、絶縁皮膜を形成することを特徴とする低誘電率銅張り絶縁皮膜の製造方法が記載されている。
特開2002-298674号公報 特開昭61-042822号公報
 本開示では、金属成分を含有する材料を用いることなく調製することができ、割れの無い皮膜を得ることができる電着塗料組成物を提供することを目的とする。
 本開示によれば、パーフルオロ系高分子化合物Xおよびメタクリレート樹脂の中和物を含有する電着塗料組成物であって、前記パーフルオロ系高分子化合物Xの比誘電率が、2.0~2.2であり、前記メタクリレート樹脂の酸価が、10mgKOH/g以上であり、前記電着塗料組成物の固形分濃度が、10~70質量%である電着塗料組成物が提供される。
 本開示によれば、金属成分を含有する材料を用いることなく調製することができ、割れの無い皮膜を得ることができる電着塗料組成物を提供することができる。
図1は、一実施形態に係る曲げ部を有する被覆電線の正面図および上面図である。 図2は、一実施形態に係る曲げ部を有する被覆電線の断面図である。
 以下、本開示の具体的な実施形態について詳細に説明するが、本開示は、以下の実施形態に限定されるものではない。
 本開示の第1の電着塗料組成物は、パーフルオロ系高分子化合物Xおよびメタクリレート樹脂の中和物を含有する電着塗料組成物である。第1の電着塗料組成物において、パーフルオロ系高分子化合物Xの誘電率が、2.0~2.2であり、メタクリレート樹脂の酸価が、10mgKOH/g以上であり、電着塗料組成物の固形分濃度が、10~70質量%である。
 従来、電着塗料組成物としては、特許文献1に記載のように、ポリイミド樹脂とフッ素樹脂と電荷付与剤とを水分散してなる水分散型樹脂エマルジョンが知られている。特許文献1には、このような水分散型樹脂エマルジョンを用いることによって、充分な絶縁性能を有し、かつ長辺側における厚みが可及的に小さく、さらには耐熱性にも優れる絶縁層を備える平形絶縁電線を実現できることが記載されている。
 特許文献2には、被覆電線の皮膜を形成するために用いる電着塗料組成物ではないが、フッ素樹脂の水性ディスパージョン中で熱分解性の良好なビニルモノマを乳化重合した液を電着塗料とする技術が記載されている。フッ素樹脂の水性ディスパージョン中でビニルモノマを乳化重合するにあたっては、非イオン、アニオン、カチオンなどの界面活性剤が用いられる。界面活性剤は、たとえば、ラウリル硫酸エステルナトリウムなどである。
 しかしながら、界面活性剤に含まれる金属成分は、最終的に得られる皮膜中に残留し、皮膜の電気特性を悪化させる。したがって、金属成分を含有する材料を用いることなく調製することができ、割れの無い皮膜を得ることができる電着塗料組成物が求められる。
 本開示の第1の電着塗料組成物は、低い比誘電率を有するパーフルオロ系高分子化合物、および、高い酸価を有するメタクリレート樹脂を中和することにより得られるメタクリレート樹脂の中和物を含有する。このような電着塗料組成物は、金属成分を含有する材料を用いることなく調製することができるとともに、このような電着塗料組成物を基材に電着塗装することによって、基材上に割れの無い皮膜を得ることができることが見出された。さらに、得られる皮膜は、表面粗度が低く、基材と強固に接着し、比誘電率も低いものである。
 また、本開示の第2の電着塗料組成物は、パーフルオロ系高分子化合物Xおよびメタクリレート樹脂の中和物を含有する電着塗料組成物である。第2の電着塗料組成物において、パーフルオロ系高分子化合物Xが、テトラフルオロエチレン/フルオロアルキルビニルエーテル共重合体であり、メタクリレート樹脂の酸価が、10mgKOH/g以上であり、電着塗料組成物の固形分濃度が、10~70質量%である。
 本開示の第2の電着塗料組成物は、パーフルオロ系高分子化合物としてテトラフルオロエチレン/フルオロアルキルビニルエーテル共重合体を含有しており、かつ、高い酸価を有するメタクリレート樹脂を中和することにより得られるメタクリレート樹脂の中和物を含有する。このような電着塗料組成物は、金属成分を含有する材料を用いることなく調製することができるとともに、このような電着塗料組成物を基材に電着塗装することによって、基材上に割れの無い皮膜を得ることができることが見出された。さらに、得られる皮膜は、表面粗度が低く、基材と強固に接着し、比誘電率も低いものである。
 以下に、本開示の電着塗料組成物に含まれる各成分について、詳細に説明する。
(パーフルオロ系高分子化合物X)
 本開示の電着塗料組成物は、パーフルオロ系高分子化合物Xを含有する。本開示において、パーフルオロ系高分子化合物とは、高分子化合物を構成する全ての重合単位に対するパーフルオロモノマー単位の含有量が90モル%以上である高分子化合物である。
 本開示において、パーフルオロモノマーとは、分子中に炭素原子-水素原子結合を含まないモノマーである。パーフルオロモノマーは、炭素原子及びフッ素原子の他、炭素原子に結合しているフッ素原子のいくつかが塩素原子で置換されたモノマーであってもよく、炭素原子の他、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、燐原子、硼素原子又は珪素原子を有するものであってもよい。パーフルオロモノマーとしては、全ての水素原子がフッ素原子に置換されたモノマーであることが好ましい。
 パーフルオロ系高分子化合物Xの比誘電率は、一層低い比誘電率を示す皮膜が得られることから、好ましくは2.0~2.2である。パーフルオロ系高分子化合物Xの比誘電率は、JIS-C-2138に準拠し、23℃±2℃、相対湿度50%、周波数1KHzにて測定することができる。
 パーフルオロ系高分子化合物Xとしては、パーフルオロ系フッ素樹脂が好ましい。本開示においてフッ素樹脂とは、部分結晶性フルオロポリマーであり、フルオロプラスチックスである。フッ素樹脂は、融点を有し、熱可塑性を有するが、溶融加工性であっても、非溶融加工性であってもよい。
 パーフルオロ系高分子化合物Xとしては、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン(TFE)/フルオロアルキルビニルエーテル(FAVE)共重合体、テトラフルオロエチレン(TFE)/ヘキサフルオロプロピレン(HFP)共重合体、および、TFE/FAVE/HFP共重合体からなる群より選択される少なくとも1種が好ましい。
 ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)は、非溶融加工性のPTFEであってもよいし、溶融加工性のPTFEであってもよいが、非溶融加工性のPTFEが好ましい。一実施形態において、パーフルオロ系高分子化合物Xとして、比誘電率が2.0~2.2であるPTFEを用いることができる。
 非溶融加工性のPTFEは、通常、延伸性、フィブリル化特性および非溶融二次加工性を有する。非溶融二次加工性とは、ASTM D 1238及びD 2116に準拠して、結晶化融点より高い温度でメルトフローレートを測定できない性質、すなわち溶融温度領域でも容易に流動しない性質を意味する。
 PTFEは、テトラフルオロエチレン(TFE)単独重合体であってもよいし、TFE単位および変性モノマー単位を含有する変性PTFEであってもよい。本開示において、「変性PTFE」とは、得られる共重合体に溶融加工性を付与しない程度の少量の共単量体をTFEと共重合してなるものを意味する。共単量体としては特に限定されず、たとえば、ヘキサフルオロプロピレン〔HFP〕、クロロトリフルオロエチレン〔CTFE〕、パーフルオロ(アルキルビニルエーテル)〔PAVE〕等が挙げられる。共単量体が変性PTFEに付加されている割合は、その種類によって異なるが、たとえば、TFEと少量の共単量体との合計質量に対して、0.001~1質量%であることが好ましい。本開示において、PTFEを構成する各単量体単位の含有量は、NMR、FT-IR、元素分析、蛍光X線分析を単量体の種類によって適宜組み合わせることで算出できる。
 PTFEは、標準比重(SSG)が2.280以下であることが好ましく、2.210以下であることがより好ましく、2.200以下であることがさらに好ましく、2.130以上であることが好ましい。SSGは、ASTM D 4895-89に準拠して成形されたサンプルを用い、ASTM D 792に準拠した水置換法により測定することができる。
 PTFEは、ピーク温度が333~347℃の範囲に存在することが好ましい。より好ましくは、335℃以上であり、また、345℃以下である。ピーク温度は、300℃以上の温度に加熱した履歴がないPTFEについて示差走査熱量計〔DSC〕を用いて10℃/分の速度で昇温したときの融解熱曲線における極大値に対応する温度である。
 パーフルオロ系高分子化合物Xとして、溶融加工性のパーフルオロ系高分子化合物を用いることもできる。本開示において、溶融加工性とは、押出機および射出成形機などの従来の加工機器を用いて、ポリマーを溶融して加工することが可能であることを意味する。従って、溶融加工性のパーフルオロ系高分子化合物は、メルトフローレートが0.01~500g/10分であることが通常である。一実施形態において、パーフルオロ系高分子化合物Xとして、比誘電率が2.0~2.2である溶融加工性のパーフルオロ系高分子化合物を用いることができる。
 パーフルオロ系高分子化合物Xのメルトフローレートは、好ましくは0.1~100g/10分であり、より好ましくは80g/10分以下であり、さらに好ましくは70g/10分以下であり、好ましくは5g/10分以上であり、より好ましくは10g/10分以上である。
 パーフルオロ系高分子化合物Xのメルトフローレートは、ASTM D1238に従って、メルトインデクサー(安田精機製作所社製)を用いて、372℃、5kg荷重下で内径2.1mm、長さ8mmのノズルから10分間あたりに流出するポリマーの質量(g/10分)として得られる値である。
 パーフルオロ系高分子化合物Xの融点は、好ましくは200~322℃であり、より好ましくは230℃以上であり、さらに好ましくは250℃以上であり、より好ましくは320℃以下である。
 融点は、示差走査熱量計〔DSC〕を用いて測定できる。
 溶融加工性のパーフルオロ系高分子化合物Xとしては、なかでも、TFE/FAVE共重合体、TFE/HFP共重合体、および、TFE/FAVE/HFP共重合体からなる群より選択される少なくとも1種が好ましい。
 TFE/FAVE共重合体は、テトラフルオロエチレン(TFE)単位およびフルオロアルキルビニルエーテル(FAVE)単位を含有する共重合体である。一実施形態において、パーフルオロ系高分子化合物Xとして、比誘電率が2.0~2.2であるTFE/FAVE共重合体を用いることができる。
 FAVE単位を構成するFAVEとしては、一般式(1):
CF=CFO(CFCFYO)-(CFCFCFO)-Rf  (1)
(式中、YはFまたはCFを表し、Rfは炭素数1~5のパーフルオロアルキル基を表す。pは0~5の整数を表し、qは0~5の整数を表す。)で表される単量体、および、一般式(2):
CFX=CXOCFOR   (2)
(式中、Xは、同一または異なり、H、FまたはCFを表し、Rは、直鎖または分岐した、H、Cl、BrおよびIからなる群より選択される少なくとも1種の原子を1~2個含んでいてもよい炭素数が1~6のフルオロアルキル基、若しくは、H、Cl、BrおよびIからなる群より選択される少なくとも1種の原子を1~2個含んでいてもよい炭素数が5または6の環状フルオロアルキル基を表す。)で表される単量体からなる群より選択される少なくとも1種を挙げることができる。
 FAVEとしては、なかでも、一般式(1)で表される単量体が好ましく、パーフルオロ(メチルビニルエーテル)、パーフルオロ(エチルビニルエーテル)(PEVE)およびパーフルオロ(プロピルビニルエーテル)(PPVE)からなる群より選択される少なくとも1種がより好ましく、PEVEおよびPPVEからなる群より選択される少なくとも1種がさらに好ましく、PPVEが特に好ましい。
 TFE/FAVE共重合体のFAVE単位の含有量は、全モノマー単位に対して、好ましくは1.0~30.0モル%であり、より好ましくは1.2モル%以上であり、さらに好ましくは1.4モル%以上であり、尚さらに好ましくは1.6モル%以上であり、特に好ましくは1.8モル%以上であり、より好ましくは3.5モル%以下であり、さらに好ましくは3.2モル%以下であり、尚さらに好ましくは2.9モル%以下であり、特に好ましくは2.6モル%以下である。
 TFE/FAVE共重合体のTFE単位の含有量は、全モノマー単位に対して、好ましくは99.0~70.0モル%であり、より好ましくは96.5モル%以上であり、さらに好ましくは96.8モル%以上であり、尚さらに好ましくは97.1モル%以上であり、特に好ましくは97.4モル%以上であり、より好ましくは98.8モル%以下であり、さらに好ましくは98.6モル%以下であり、尚さらに好ましくは98.4モル%以下であり、特に好ましくは98.2モル%以下である。
 本開示において、共重合体中の各モノマー単位の含有量は、19F-NMR法により測定する。
 TFE/FAVE共重合体は、TFEおよびFAVEと共重合可能な単量体に由来する単量体単位を含有することもできる。この場合、TFEおよびFAVEと共重合可能な単量体の含有量は、TFE/FAVE共重合体の全モノマー単位に対して、好ましくは0~29.0モル%であり、より好ましくは0.1~5.0モル%であり、さらに好ましくは0.1~1.0モル%である。
 TFEおよびFAVEと共重合可能な単量体としては、HFP、CZ=CZ(CF(式中、Z、ZおよびZは、同一または異なって、HまたはFを表し、Zは、H、FまたはClを表し、nは2~10の整数を表す。)で表されるビニル単量体、および、CF=CF-OCH-Rf(式中、Rfは炭素数1~5のパーフルオロアルキル基を表す。)で表されるアルキルパーフルオロビニルエーテル誘導体、官能基を有する単量体等が挙げられる。なかでも、HFPが好ましい。
 TFE/FAVE共重合体としては、TFE単位およびFAVE単位のみからなる共重合体、および、上記TFE/HFP/FAVE共重合体からなる群より選択される少なくとも1種が好ましく、TFE単位およびFAVE単位のみからなる共重合体がより好ましい。
 TFE/FAVE共重合体の融点は、好ましくは280~322℃であり、より好ましくは285℃以上であり、より好ましくは320℃以下であり、さらに好ましくは315℃以下である。融点は、示差走査熱量計〔DSC〕を用いて測定できる。
 TFE/FAVE共重合体のガラス転移温度(Tg)は、好ましくは70~110℃であり、より好ましくは80℃以上であり、より好ましくは100℃以下である。ガラス転移温度は、動的粘弾性測定により測定できる。
 TFE/HFP共重合体は、テトラフルオロエチレン(TFE)単位およびヘキサフルオロプロピレン(HFP)単位を含有する共重合体である。
 TFE/HFP共重合体のHFP単位の含有量は、全モノマー単位に対して、好ましくは0.1~30.0モル%であり、より好ましくは0.7モル%以上であり、さらに好ましくは1.4モル%以上であり、より好ましくは10.0モル%以下である。
 TFE/HFP共重合体のTFE単位の含有量は、全モノマー単位に対して、好ましくは70.0~99.9モル%であり、より好ましくは90.0モル%以上であり、より好ましくは99.3モル%以下であり、さらに好ましくは98.6モル%である。
 TFE/HFP共重合体は、TFEおよびHFPと共重合可能な単量体に由来する単量体単位を含有することもできる。この場合、TFEおよびHFPと共重合可能な単量体の含有量は、TFE/HFP共重合体の全モノマー単位に対して、好ましくは0~29.9モル%であり、より好ましくは0.1~5.0モル%であり、さらに好ましくは0.1~1.0モル%である。
 TFEおよびHFPと共重合可能な単量体としては、FAVE、CZ=CZ(CF(式中、Z、ZおよびZは、同一または異なって、HまたはFを表し、Zは、H、FまたはClを表し、nは2~10の整数を表す。)で表されるビニル単量体、および、CF=CF-OCH-Rf(式中、Rfは炭素数1~5のパーフルオロアルキル基を表す。)で表されるアルキルパーフルオロビニルエーテル誘導体、官能基を有する単量体等が挙げられる。なかでも、FAVEが好ましい。
 TFE/HFP共重合体の融点は、好ましくは200~322℃であり、より好ましくは210℃以上であり、さらに好ましくは220℃以上であり、特に好ましくは240℃以上であり、より好ましくは320℃以下であり、さらに好ましくは300℃未満であり、特に好ましくは280℃以下である。
 TFE/HFP共重合体のガラス転移温度(Tg)は、好ましくは60~110℃であり、より好ましくは65℃以上であり、より好ましくは100℃以下である。
 含フッ素高分子化合物は、官能基を有していてもよい。
 官能基としては、カルボニル基含有基、アミノ基、ヒドロキシ基、-CFH基、オレフィン基、エポキシ基およびイソシアネート基からなる群より選択される少なくとも1種が好ましい。
 カルボニル基含有基は、構造中にカルボニル基(-C(=O)-)を含有する基である。カルボニル基含有基としては、たとえば、
 カーボネート基[-O-C(=O)-OR(式中、Rは炭素原子数1~20のアルキル基またはエーテル結合性酸素原子を含む炭素原子数2~20のアルキル基である)]、
 アシル基[-C(=O)-R(式中、Rは炭素原子数1~20のアルキル基またはエーテル結合性酸素原子を含む炭素原子数2~20のアルキル基である)]
 ハロホルミル基[-C(=O)X、Xはハロゲン原子]、
 ホルミル基[-C(=O)H]、
 式:-R-C(=O)-R(式中、Rは、炭素原子数1~20の2価の有機基であり、Rは、炭素原子数1~20の1価の有機基である)で示される基、
 式:-O-C(=O)-R(式中、Rは、炭素原子数1~20のアルキル基またはエーテル結合性酸素原子を含む炭素原子数2~20のアルキル基である)で示される基、
 カルボキシル基[-C(=O)OH]、
 アルコキシカルボニル基[-C(=O)OR(式中、Rは、炭素原子数1~20の1価の有機基である)]、
 カルバモイル基[-C(=O)NR(式中、RおよびRは、同じであっても異なっていてもよく、水素原子または炭素原子数1~20の1価の有機基である)]、
 酸無水物結合[-C(=O)-O-C(=O)-]、
などをあげることができる。
 Rの具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基などがあげられる。上記Rの具体例としては、メチレン基、-CF-基、-C-基などがあげられ、Rの具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基などがあげられる。Rの具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基などがあげられる。また、RおよびRの具体例としては、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、フェニル基などがあげられる。
 ヒドロキシ基は、-OHで示される基または-OHで示される基を含む基である。本開示において、カルボキシル基を構成する-OHは、ヒドロキシ基に含まない。ヒドロキシ基としては、-OH、メチロール基、エチロール基などが挙げられる。
 オレフィン基(Olefinic group)とは、炭素-炭素二重結合を有する基である。オレフィン基としては、下記式:
 -CR10=CR1112
(式中、R10、R11およびR12は、同じであっても異なっていてもよく、水素原子、フッ素原子または炭素原子数1~20の1価の有機基である。)で表される官能基が挙げられ、-CF=CF、-CH=CF、-CF=CHF、-CF=CHおよび-CH=CHからなる群より選択される少なくとも1種が好ましい。
 イソシアネート基は、-N=C=Oで示される基である。
 また、官能基として、-CH基、-CFH基などの非フッ素化アルキル基または部分フッ素化アルキル基を挙げることもできる。
 パーフルオロ系高分子化合物Xの官能基数は、基材と一層強固に接着する皮膜を形成できることから、炭素原子10個あたり、5~2000個であることが好ましい。官能基の個数は、炭素原子10個あたり、より好ましくは50個以上であり、さらに好ましくは100個以上であり、特に好ましくは200個以上であり、より好ましくは1000個以下であり、さらに好ましくは800個以下であり、特に好ましくは700個以下であり、最も好ましくは500個以下である。
 また、パーフルオロ系高分子化合物Xの官能基数は、電気特性に優れる皮膜を形成できることから、炭素原子10個あたり5個未満であってよく、0~4個であってもよい。
 上記官能基は、パーフルオロ系高分子化合物Xの主鎖末端または側鎖末端に存在する官能基、および、主鎖中または側鎖中に存在する官能基であり、好適には主鎖末端に存在する。上記官能基としては、-CF=CF、-CFH、-COF、-COOH、-COOCH、-CONH、-OH、-CHOHなどが挙げられ、-CFH、-COF、-COOH、-COOCHおよび-CHOHからなる群より選択される少なくとも1種が好ましい。-COOHには、2つの-COOHが結合することにより形成されるジカルボン酸無水物基(-CO-O-CO-)が含まれる。
 上記官能基の種類の同定および官能基数の測定には、赤外分光分析法を用いることができる。
 官能基数については、具体的には、以下の方法で測定する。まず、共重合体を330~340℃にて30分間溶融し、圧縮成形して、厚さ0.20~0.25mmのフィルムを作製する。このフィルムをフーリエ変換赤外分光分析により分析して、共重合体の赤外吸収スペクトルを得、完全にフッ素化されて官能基が存在しないベーススペクトルとの差スペクトルを得る。この差スペクトルに現れる特定の官能基の吸収ピークから、下記式(A)に従って、共重合体における炭素原子1×10個あたりの官能基数Nを算出する。
   N=I×K/t  (A)
    I:吸光度
    K:補正係数
    t:フィルムの厚さ(mm)
 参考までに、本開示における官能基について、吸収周波数、モル吸光係数および補正係数を表1に示す。また、モル吸光係数は低分子モデル化合物のFT-IR測定データから決定したものである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
 なお、-CHCFH、-CHCOF、-CHCOOH、-CHCOOCH、-CHCONHの吸収周波数は、それぞれ表中に示す、-CFH、-COF、-COOH freeと-COOH bonded、-COOCH、-CONHの吸収周波数から数十カイザー(cm-1)低くなる。
 従って、たとえば、-COFの官能基数とは、-CFCOFに起因する吸収周波数1883cm-1の吸収ピークから求めた官能基数と、-CHCOFに起因する吸収周波数1840cm-1の吸収ピークから求めた官能基数との合計である。
 上記官能基数は、-CF=CF、-CFH、-COF、-COOH、-COOCH、-CONHおよび-CHOHの合計数であってよく、-CFH、-COF、-COOH、-COOCHおよび-CHOHの合計数であってよい。
 上記官能基は、たとえば、パーフルオロ系高分子化合物Xを製造する際に用いた連鎖移動剤や重合開始剤によって、パーフルオロ系高分子化合物Xに導入される。たとえば、連鎖移動剤としてアルコールを使用したり、重合開始剤として-CHOHの構造を有する過酸化物を使用したりした場合、パーフルオロ系高分子化合物Xの主鎖末端に-CHOHが導入される。また、官能基を有する単量体を重合することによって、上記官能基がパーフルオロ系高分子化合物Xの側鎖末端に導入される。パーフルオロ系高分子化合物Xは、官能基を有する単量体に由来する単位を含有してもよい。
 官能基を有する単量体としては、特開2006-152234号に記載のジカルボン酸無水物基((-CO-O-CO-)を有しかつ環内に重合性不飽和基を有する環状炭化水素モノマー、国際公開第2017/122743号に記載の官能基(f)を有する単量体などが挙げられる。官能基を有する単量体としては、なかでも、カルボキシ基を有する単量体(マレイン酸、イタコン酸、シトラコン酸、ウンデシレン酸等);酸無水物基を有する単量体(無水イタコン酸、無水シトラコン酸、5-ノルボルネン-2,3-ジカルボン酸無水物、無水マレイン酸等);水酸基またはエポキシ基を有する単量体(ヒドロキシブチルビニルエーテル、グリシジルビニルエーテル等)等が挙げられる。
 パーフルオロ系高分子化合物Xは、例えば、その構成単位となるモノマーや、重合開始剤等の添加剤を適宜混合して、乳化重合、懸濁重合を行う等の従来公知の方法により製造することができる。
(メタクリレート樹脂の中和物)
 本開示の電着塗料組成物は、メタクリレート樹脂の中和物を含有する。メタクリレート樹脂としては、解重合性メタクリレート樹脂が好ましい。本開示において、解重合とは、樹脂を形成するポリマーが、加熱によりモノマーに分解することを意味する。
 電着塗料組成物中のメタクリレート樹脂の中和物は、水中でイオンを形成することで乳化能を示し、界面活性剤などを用いなくとも、パーフルオロ系高分子化合物Xとともに乳化粒子を形成して水中に安定して分散し、電着塗料組成物を調製することができる。また、メタクリレート樹脂の中和物はパーフルオロ系高分子化合物Xにアニオン性を付与し、パーフルオロ系高分子化合物Xの電着を円滑に進めさせる。さらに、メタクリレート樹脂としては、解重合性メタクリレート樹脂を用いる場合には、解重合性メタクリレート樹脂の中和物は、皮膜を形成する際の加熱により徐々に解重合して、割れの無い皮膜の形成を助ける。皮膜の形成が完了した後には、解重合性メタクリレート樹脂の多くが解重合し、一部の解重合性メタクリレート樹脂のみが皮膜中に残存する。解重合性メタクリレート樹脂の中和物は、非解重合性メタクリレート樹脂の中和物に比べて、皮膜中に残存しにくいことから、割れの無い皮膜の形成を円滑にし、さらには、皮膜の比誘電率を大きく低下させることもない。非解重合性メタクリレート樹脂の中和物を用いると、割れの無い皮膜を得ることが困難になるおそれがある。
 さらに、本開示においては、酸価が10mgKOH/g以上のメタクリレート樹脂を用いる。メタクリレート樹脂の酸価は、好ましくは15mgKOH/g以上であり、より好ましくは20mgKOH/g以上であり、さらに好ましくは25mgKOH/g以上であり、特に好ましくは30mgKOH/g以上である。メタクリレート樹脂の酸価の上限は、たとえば、150mgKOH/g以下である。上記の範囲内の酸価を有するメタクリレート樹脂を用いることにより、金属成分を含有する界面活性剤などの材料を用いることなく、電着塗料組成物を容易に調製することができ、パーフルオロ系高分子化合物Xにアニオン性を付与することができ、割れの無い皮膜を得ることができる。
 メタクリレート樹脂の酸価は、メタクリレート樹脂を中和する前のメタクリレート樹脂の酸価である。メタクリレート樹脂の酸価は、JIS K5601に準拠して、電位差滴定法を用いて測定することができる。例えば、メタクリレート樹脂をキシレンとイソプロピルアルコールの混合溶剤に溶かした後、電位差滴定法により0.1mol/L水酸化カリウム・エタノール溶液で滴定して滴定曲線上の変曲点を終点とし、水酸化カリウム溶液の終点までの滴定量から算出することができる。メタクリレート樹脂の酸価は、また、メタクリレート樹脂の単量体組成から計算により求めることもできる。
 メタクリレート樹脂の中和物の一実施形態においては、メタクリレート樹脂に上記の酸価を与える程度の数の酸基であって、アルカリ化合物により中和された酸基を有している。酸基は、たとえば、カルボキシル基であり、アルカリ化合物は、たとえば、アミン化合物である。
 メタクリレート樹脂は、たとえば、(メタ)アクリル酸エステル単位、水酸基含有(メタ)アクリル酸エステル単位、不飽和カルボン酸単位などを含有することができる。本開示において、「(メタ)アクリル酸」は、アクリル酸またはメタクリル酸を意味する。
 メタクリレート樹脂の一実施形態においては、(メタ)アクリル酸エステル単位および不飽和カルボン酸単位を含有する。また、メタクリレート樹脂の一実施形態においては、(メタ)アクリル酸エステル単位、水酸基含有(メタ)アクリル酸エステル単位および不飽和カルボン酸単位を含有する。
 (メタ)アクリル酸エステルとしては、メチルアクリレート、エチルアクリレート、n-プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、n-ブチルアクリレート、メチルメタクリレート、n-プロピルメタクリレート、エチルメタクリレート、n-ブチルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、2-エチルへキシルアクリレート、2-エチルヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレートなどの(メタ)アクリル酸アルキルエステルなどが挙げられる。(メタ)アクリル酸エステルとしては、なかでも、メチルメタクリレート、n-ブチルメタクリレートおよびn-ブチルアクリレートからなる群より選択される少なくとも1種が好ましい。
 水酸基含有(メタ)アクリル酸エステルとしては、2-ヒドロキシエチルメタクリレート、2-ヒドロキシエチルアクリレート、3-ヒドロキシプロピルメタクリレート、3-ヒドロキシプロピルアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタクリレート、2-ヒドロキシプロピルアクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレート、4-ヒドロキシブチルメタクリレート、2-ヒドロキシブチルアクリレート、2-ヒドロキシブチルメタクリレート、6-ヒドロキシヘキシルアクリレート、6-ヒドロキシヘキシルメタクリレートなどが挙げられる。水酸基含有(メタ)アクリル酸エステルとしては、なかでも、2-ヒドロキシエチルメタクリレートおよび2-ヒドロキシエチルアクリレートからなる群より選択される少なくとも1種が好ましい。
 (メタ)アクリル酸エステル単位および水酸基含有(メタ)アクリル酸エステル単位は、メタクリレート樹脂の中和物のガラス転移温度を調整し、電着塗料組成物に適切な造膜性を与える。(メタ)アクリル酸エステル単位および水酸基含有(メタ)アクリル酸エステル単位の含有量は、たとえば、電着塗料組成物に要求される適切な造膜性を与えるように調整される。
 不飽和カルボン酸としては、アクリル酸、メタクリル酸、ビニル酢酸、クロトン酸、桂皮酸、3-アリルオキシプロピオン酸、3-(2-アリロキシエトキシカルボニル)プロピオン酸、イタコン酸、イタコン酸モノエステル、マレイン酸、マレイン酸モノエステル、マレイン酸無水物、フマル酸、フマル酸モノエステル、フタル酸ビニル、ピロメリット酸ビニル、ウンデシレン酸などが挙げられる。不飽和カルボン酸としては、なかでも、アクリル酸およびメタクリル酸からなる群より選択される少なくとも1種が好ましい。
 不飽和カルボン酸単位は、メタクリレート樹脂に適切な酸価を付与する。不飽和カルボン酸単位の含有量は、たとえば、メタクリレート樹脂に対して、上記の範囲内の酸価を与えるように調整される。
 メタクリレート樹脂の一実施形態においては、カルボキシル基を有しており、好適には不飽和カルボン酸単位を含有する。メタクリレート樹脂がカルボキシル基を有している場合、メタクリレート樹脂の中和物としては、カルボキシ基を有するメタクリレート樹脂を、アミン化合物により中和することにより得られる中和物であることが好ましい。メタクリレート樹脂の中和物が、カルボキシ基を有するメタクリレート樹脂を、アミン化合物により中和することにより得られたものであると、金属成分を含有する界面活性剤などの材料を用いることなく、電着塗料組成物を一層容易に調製することができ、割れの無い皮膜を一層容易に得ることができる。さらには、メタクリレート樹脂の中和物の乳化能も向上することから、電着塗料組成物を後述する転相乳化により調製する場合には、パーフルオロ系高分子化合物Xを水性分散液中に極めて安定して分散させることができるようになり、金属成分を含有する界面活性剤などの材料を用いることなく、電着塗料組成物を一層容易に調製することができる。
 カルボキシ基を有するメタクリレート樹脂を中和するための用いるアミン化合物としては、第1級アミン、第2級アミンおよび第3級アミンのいずれであってもよいが、第3級アミンが好ましい。また、アミン化合物としては、脂肪族アミンが好ましく、エチルアミン、ジエチルアミン、ジエチルプロピルアミン、トリエチルアミン、プロピルアミン、ジプロピルアミン、トリプロピルアミン、ブチルアミン、ジブチルアミン、トリブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジメチルエタノールアミンおよびジエチルエタノールアミンからなる群より選択される少なくとも1種が好ましい。アミン化合物としては、なかでも、トリエチルアミンが好ましい。
 アミン化合物の使用量は、所望するメタクリレート樹脂の中和物の中和度によって決められる。メタクリレート樹脂の中和物の中和度は、好ましくは50%以上であり、より好ましくは60%以上であり、さらに好ましくは70%以上であり、好ましくは95%以下であり、より好ましくは90%以下である。メタクリレート樹脂の中和物の中和度が上記範囲内にあると、金属成分を含有する界面活性剤などの材料を用いることなく、電着塗料組成物を一層容易に調製することができ、割れの無い皮膜を一層容易に得ることができる。さらには、メタクリレート樹脂の中和物の乳化能も向上することから、電着塗料組成物を後述する転相乳化により調製する場合には、パーフルオロ系高分子化合物Xを水性分散液中に極めて安定して分散させることができるようになり、金属成分を含有する界面活性剤などの材料を用いることなく、電着塗料組成物を一層容易に調製することができる。
 メタクリレート樹脂の中和物の中和度は、電位差滴定法により測定されるアミン価を酸価で除することにより測定することができる。例えば、メタクリレート樹脂にテトラヒドロフランを加えた後、電位差滴定法により0.1mol/L塩酸溶液で当量点まで滴定し、この滴定曲線上の変曲点をアミン価として、アミン価を酸価で除することにより中和度を算出することができる。メタクリレート樹脂の中和物の中和度は、また、メタクリレート樹脂の単量体組成、および、中和に用いるアミン化合物などの化合物の使用量から計算により求めることもできる。
 メタクリレート樹脂の中和物は、たとえば、上記した範囲内の酸価を与える含有量で不飽和カルボン酸単位を含有するメタクリレート樹脂を、上記した範囲内の中和度になるような使用量のアミン化合物を用いて、中和することにより得られるものであることが好適である。
(電着塗料組成物)
 本開示の電着塗料組成物は、メタクリレート樹脂の中和物および有機溶媒を含有する溶液に、パーフルオロ系高分子化合物Xおよび水を含有する水分散組成物を添加して、転相乳化させる製造方法により製造することができる。このような製造方法により得られる電着塗料組成物を用いることにより、割れの無い皮膜を一層容易に得ることができる。
 メタクリレート樹脂の中和物を含有する溶液の有機溶媒としては、メタクリレート樹脂の中和物を溶解させることができる有機溶媒が好ましい。有機溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、n-ブタノール等のアルコール;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルケトン等のケトン;ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル;酢酸エチル、酢酸イソプロピル等の酢酸エステルが挙げられる。
 転相乳化は、たとえば、溶液を撹拌しながら、溶液に水分散組成物を添加することにより、行うことができる。溶液および水分散組成物の温度は、常温(たとえば10~40℃)であってよい。
 電着塗料組成物は、パーフルオロ系高分子化合物Xおよびメタクリレート樹脂の中和物を含有するものであり、水をさらに含有することが好ましい。
 電着塗料組成物は、パーフルオロ系高分子化合物Xおよびメタクリレート樹脂の中和物を含有するものであり、有機溶媒をさらに含有することが好ましい。有機溶媒としては、メタクリレート樹脂の中和物を含有する溶液の有機溶媒として上述したものが挙げられる。
 電着塗料組成物の固形分濃度は、電着塗装による皮膜の形成を効率的に進める観点から、好ましくは10~70質量%であり、より好ましくは50質量%以下であり、さらに好ましくは30質量%以下である。
 電着塗料組成物中のパーフルオロ系高分子化合物Xとメタクリレート樹脂の中和物との質量比は、好ましくは10/90~90/10であり、より好ましくは20/80以上であり、さらに好ましくは25/75以上であり、より好ましくは80/20以下であり、さらに好ましくは75/25以下である。
 電着塗料組成物中のアルカリ金属含有量は、好ましくは1質量ppm未満である。本開示の電着塗料組成物は、金属成分を含有する材料を用いることなく調製することができることから、従来の電着塗料組成物に比べて、アルカリ金属含有量を低減することができる。
 電着塗料組成物中のアルカリ金属含有量は、誘導結合プラズマ質量分析法により測定することができる。
 本開示の電着塗料組成物は、塗装性、得られる皮膜の性質向上等を目的として、添加剤を含むものであってもよい。
 本開示の電着塗料組成物は、アニオン電着塗料組成物として好適に利用できる。
(親水基を有する含フッ素化合物)
 一実施形態において、親水基を有する含フッ素化合物の含有量が低減された電着塗料組成物を用いることができる。電着塗料組成物中の親水基を有する含フッ素化合物の含有量を低減することによって、接触角が大きく、摩擦係数が小さい皮膜を得ることができる。この理由は明確ではないが、電着塗料組成物中の親水基を有する含フッ素化合物の含有量が低減されていると、電着塗料組成物中でのパーフルオロ系高分子化合物Xの分散安定性が適度に低く、したがって、皮膜の形成の際に、パーフルオロ系高分子化合物Xが他の成分よりも皮膜の表面に浮き上がりやすく、結果として、皮膜表面のパーフルオロ系高分子化合物Xの含有割合が高くなるためと推測される。
 親水基を有する含フッ素化合物には、重合の際に添加する含フッ素界面活性剤およびフルオロモノマーの重合により生成する親水基を有する含フッ素化合物が含まれる。
 含フッ素化合物が有する親水基としては、酸基などのアニオン性基が好ましく、たとえば、-NH、-POM、-OPOM、-SOM、-OSOM、-COOM(各式において、Mはカチオンを表す)が挙げられる。上記親水基としては、なかでも、-SOMまたは-COOMが好ましく、-COOMがより好ましい。
 電着塗料組成物中の親水基を有する含フッ素化合物の含有量は、パーフルオロ系高分子化合物Xに対して、好ましくは50質量ppb以下であり、より好ましくは45質量ppb以下であり、好ましくは0質量ppb超である。
 電着塗料組成物中の親水基を有する含フッ素化合物の含有量は、公知な方法で定量できる。例えば、LC/MS分析にて定量することができる。
 まず、電着塗料組成物にメタノールを加え、抽出を行ない、得られた抽出液をLC/MS分析する。さらに抽出効率を高めるために、ソックスレー抽出、超音波処理等による処理を行ってもよい。得られた抽出液を適宜窒素パージで濃縮し、濃縮後の抽出液中の含フッ素化合物をLC/MS測定する。
 得られたLC/MSスペクトルから、分子量情報を抜出し、候補となる親水基を有する含フッ素化合物の構造式との一致を確認する。
 その後、確認された親水基を有する含フッ素化合物の5水準以上の含有量の水溶液を作製し、それぞれの含有量の水溶液のLC/MS分析を行ない、含有量と、その含有量に対するエリア面積と関係をプロットし、検量線を描く。
 そして、検量線を用いて、抽出液中の親水基を有する含フッ素化合物のLC/MSクロマトグラムのエリア面積を、親水基を有する含フッ素化合物の含有量に換算することができる。
 なお、得られた抽出液を窒素パージすることで濃縮できることから、測定方法の定量下限を下げることが出来る。
 電着塗料組成物の一実施形態においては、親水基を有する含フッ素化合物として、含フッ素界面活性剤を少なくとも含有する。含フッ素界面活性剤は、フルオロモノマーの重合の際に通常用いられる含フッ素界面活性剤であってよい。含フッ素界面活性剤として、典型的な化合物は、分子量1000g/mol以下、好ましくは800g/mol以下の含フッ素界面活性剤である。
 含フッ素界面活性剤は、少なくとも1個のフッ素原子を含有する界面活性剤であれば特に限定されず、従来公知の含フッ素界面活性剤を用いることができる。
 含フッ素界面活性剤としては、アニオン性含フッ素界面活性剤等が挙げられる。アニオン性含フッ素界面活性剤は、たとえば、アニオン性基を除く部分の総炭素数が20以下のフッ素原子を含む界面活性剤であってよい。
 上記含フッ素界面活性剤としてはまた、アニオン性部分の分子量が1000以下のフッ素を含む界面活性剤であってよい。
 なお、上記「アニオン性部分」は、上記含フッ素界面活性剤のカチオンを除く部分を意味する。たとえば、後述する式(I)で表されるF(CFn1COOMの場合には、「F(CFn1COO」の部分である。
 上記含フッ素界面活性剤としてはまた、LogPOWが3.5以下の含フッ素界面活性剤が挙げられる。上記LogPOWは、1-オクタノールと水との分配係数であり、LogP[式中、Pは、含フッ素界面活性剤を含有するオクタノール/水(1:1)混合液が相分離した際のオクタノール中の含フッ素界面活性剤濃度/水中の含フッ素界面活性剤濃度比を表す]で表されるものである。
 上記LogPOWは、カラム;TOSOH ODS-120Tカラム(φ4.6mm×250mm、東ソー(株)製)、溶離液;アセトニトリル/0.6質量%HClO水=1/1(vol/vol%)、流速;1.0ml/分、サンプル量;300μL、カラム温度;40℃、検出光;UV210nmの条件で、既知のオクタノール/水分配係数を有する標準物質(ヘプタン酸、オクタン酸、ノナン酸及びデカン酸)についてHPLCを行い、各溶出時間と既知のオクタノール/水分配係数との検量線を作成し、この検量線に基づき、試料液におけるHPLCの溶出時間から算出する。
 上記含フッ素界面活性剤として具体的には、米国特許出願公開第2007/0015864号明細書、米国特許出願公開第2007/0015865号明細書、米国特許出願公開第2007/0015866号明細書、米国特許出願公開第2007/0276103号明細書、米国特許出願公開第2007/0117914号明細書、米国特許出願公開第2007/142541号明細書、米国特許出願公開第2008/0015319号明細書、米国特許第3250808号明細書、米国特許第3271341号明細書、特開2003-119204号公報、国際公開第2005/042593号、国際公開第2008/060461号、国際公開第2007/046377号、特開2007-119526号公報、国際公開第2007/046482号、国際公開第2007/046345号、米国特許出願公開第2014/0228531号、国際公開第2013/189824号、国際公開第2013/189826号に記載されたもの等が挙げられる。
 上記アニオン性含フッ素界面活性剤としては、下記一般式(N):
n0-Rfn0-Y   (N
(式中、Xn0は、H、Cl又は及びFである。Rfn0は、炭素数3~20で、直鎖状、分枝鎖状または環状で、一部または全てのHがFにより置換されたアルキレン基であり、該アルキレン基は1つ以上のエーテル結合を含んでもよく、一部のHがClにより置換されていてもよい。Yはアニオン性基である。)で表される化合物が挙げられる。
 Yのアニオン性基は、-COOM、-SOM、又は、-SOMであってよく、-COOM、又は、-SOMであってよい。
 Mは、H、金属原子、NR 、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Rは、H又は有機基である。
 上記金属原子としては、アルカリ金属(1族)、アルカリ土類金属(2族)等が挙げられ、たとえば、Na、K又はLiである。
 Rとしては、H又はC1-10の有機基であってよく、H又はC1-4の有機基であってよく、H又はC1-4のアルキル基であってよい。
 Mは、H、金属原子又はNR であってよく、H、アルカリ金属(1族)、アルカリ土類金属(2族)又はNR であってよく、H、Na、K、Li又はNHであってよい。
 上記Rfn0は、Hの50%以上がフッ素に置換されているものであってよい。
 上記一般式(N)で表される化合物としてより具体的には、下記一般式(I)で表されるパーフルオロカルボン酸(I)、下記一般式(II)で表されるω-Hパーフルオロカルボン酸(II)、下記一般式(III)で表されるパーフルオロエーテルカルボン酸(III)、下記一般式(IV)で表されるパーフルオロアルキルアルキレンカルボン酸(IV)、下記一般式(V)で表されるパーフルオロアルコキシフルオロカルボン酸(V)、下記一般式(VI)で表されるパーフルオロアルキルスルホン酸(VI)、下記一般式(VII)で表されるω-Hパーフルオロスルホン酸(VII)、下記一般式(VIII)で表されるパーフルオロアルキルアルキレンスルホン酸(VIII)、下記一般式(IX)で表されるアルキルアルキレンカルボン酸(IX)、下記一般式(X)で表されるフルオロカルボン酸(X)、下記一般式(XI)で表されるアルコキシフルオロスルホン酸(XI)、下記一般式(XII)で表される化合物(XII)、下記一般式(XIII)で表される化合物(XIII)などが挙げられる。
 上記パーフルオロカルボン酸(I)は、下記一般式(I)
   F(CFn1COOM    (I)
(式中、n1は、3~13の整数であり、Mは、H、金属原子、NR 、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Rは、H又は有機基である。)で表されるものである。
 上記ω-Hパーフルオロカルボン酸(II)は、下記一般式(II)
   H(CFn2COOM    (II)
(式中、n2は、4~15の整数であり、Mは、上記定義したものである。)で表されるものである。
 上記パーフルオロエーテルカルボン酸(III)は、下記一般式(III)
   Rf-O-(CF(CF)CFO)n3CF(CF)COOM    (III)
(式中、Rfは、炭素数1~5のパーフルオロアルキル基であり、n3は、0~3の整数であり、Mは、上記定義したものである。)で表されるものである。
 上記パーフルオロアルキルアルキレンカルボン酸(IV)は、下記一般式(IV)
   Rf(CHn4RfCOOM        (IV)
(式中、Rfは、炭素数1~5のパーフルオロアルキル基であり、Rfは、直鎖状又は分岐状の炭素数1~3のパーフルオロアルキレン基、n4は、1~3の整数であり、Mは、上記定義したものである。)で表されるものである。
 上記アルコキシフルオロカルボン酸(V)は、下記一般式(V)
   Rf-O-CYCF-COOM    (V)
(式中、Rfは、炭素数1~12のエーテル結合及び/又は塩素原子を含み得る直鎖状または分枝鎖状の部分または完全フッ素化されたアルキル基であり、Y及びYは、同一若しくは異なって、H又はFであり、Mは、上記定義したものである。)で表されるものである。
 上記パーフルオロアルキルスルホン酸(VI)は、下記一般式(VI)
   F(CFn5SOM        (VI)
(式中、n5は、3~14の整数であり、Mは、上記定義したものである。)で表されるものである。
 上記ω-Hパーフルオロスルホン酸(VII)は、下記一般式(VII)
   H(CFn6SOM    (VII)
(式中、n6は、4~14の整数であり、Mは、上記定義したものである。)で表されるものである。
 上記パーフルオロアルキルアルキレンスルホン酸(VIII)は、下記一般式(VIII)
   Rf(CHn7SOM      (VIII)  
(式中、Rfは、炭素数1~13のパーフルオロアルキル基であり、n7は、1~3の整数であり、Mは、上記定義したものである。)で表されるものである。
 上記アルキルアルキレンカルボン酸(IX)は、下記一般式(IX)
   Rf(CHn8COOM      (IX)  
(式中、Rfは、炭素数1~13のエーテル結合を含み得る直鎖状または分岐鎖状の部分または完全フッ素化されたアルキル基であり、n8は、1~3の整数であり、Mは、上記定義したものである。)で表されるものである。
 上記フルオロカルボン酸(X)は、下記一般式(X)
   Rf-O-Rf-O-CF-COOM    (X)
(式中、Rfは、炭素数1~6のエーテル結合及び/又は塩素原子を含み得る直鎖状または分枝鎖状の部分または完全フッ素化されたアルキル基であり、Rfは、炭素数1~6の直鎖状または分枝鎖状の部分または完全フッ素化されたアルキル基であり、Mは、上記定義したものである。)で表されるものである。
 上記アルコキシフルオロスルホン酸(XI)は、下記一般式(XI)
   Rf-O-CYCF-SOM    (XI)
(式中、Rfは、炭素数1~12のエーテル結合を含み得る直鎖状または分枝鎖状であって、塩素を含んでもよい、部分または完全フッ素化されたアルキル基であり、Y及びYは、同一若しくは異なって、H又はFであり、Mは、上記定義したものである。)で表されるものである。
 上記化合物(XII)は、下記一般式(XII):
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
(式中、X、X及びXは、同一若しくは異なってもよく、H、F及び炭素数1~6のエーテル結合を含み得る直鎖状または分岐鎖状の部分または完全フッ素化されたアルキル基であり、Rf10は、炭素数1~3のパーフルオロアルキレン基であり、Lは連結基であり、Yはアニオン性基である。)で表されるものである。
 Yは、-COOM、-SOM、又は、-SOMであってよく、-SOM、又は、COOMであってよい(式中、Mは上記定義したものである。)。
 Lとしては、たとえば、単結合、炭素数1~10のエーテル結合を含みうる部分又は完全フッ素化されたアルキレン基が挙げられる。
 上記化合物(XIII)は、下記一般式(XIII):
   Rf11-O-(CFCF(CF)O)n9(CFO)n10CFCOOM   (XIII)
(式中、Rf11は、塩素を含む炭素数1~5のフルオロアルキル基であり、n9は、0~3の整数であり、n10は、0~3の整数であり、Mは、上記定義したものである。)で表されるものである。化合物(XIII)としては、CFClO(CFCF(CF)O)n9(CFO)n10CFCOONH(平均分子量750の混合物、式中、n9およびn10は上記定義したものである。)が挙げられる。
 上述したように上記アニオン性含フッ素界面活性剤としては、カルボン酸系界面活性剤、スルホン酸系界面活性剤等が挙げられる。
 含フッ素界面活性剤は、1種の含フッ素界面活性剤であってもよいし、2種以上の含フッ素界面活性剤を含有する混合物であってもよい。
 含フッ素界面活性剤は、好ましくはメチレン基(-CH-)、より好ましくはC-H結合を有しない。
 含フッ素界面活性剤の疎水基が有するH原子の数は、好ましくは0または1であり、より好ましくは0である。疎水基および親水基を有する含フッ素界面活性剤の疎水基の炭素数は、好ましくは1~50であり、より好ましくは3~20であり、さらに好ましくは6~12である。疎水基は、通常、含フッ素界面活性剤の分子構造のうち、上述した「アニオン性基を除く部分」を構成する。親水基としては、Yのアニオン性基として例示した基が挙げられる。含フッ素界面活性剤は、疎水基に結合する炭素原子がすべてフッ素原子により置換された飽和フッ素化界面活性剤であってよい。
 含フッ素界面活性剤としては、上述したアニオン性含フッ素界面活性剤のなかでも、一般式(N)で表される化合物、一般式(N)で表される化合物、一般式(N):
   Rfn4-O-(CYn1F)CF-Y   (N
(式中、Rfn4は、炭素数1~12のエーテル結合を含み得る直鎖状または分枝鎖状の部分または完全フッ素化されたアルキル基(ただし、-CH-を有するものを除く)であり、Yn1は、H又はFであり、pは0又は1であり、Yは、上記定義したものである。)で表される化合物、及び、一般式(N):
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
(式中、Xn2、Xn3及びXn4は、同一若しくは異なってもよく、H、F、又は、炭素数1~6のエーテル結合を含んでよい直鎖状または分岐鎖状の部分または完全フッ素化されたアルキル基(ただし、-CH-を有するものを除く)であり、ただし、Xn3及びXn4の両方がHになることはない。Rfn5は、炭素数1~3のエーテル結合を含み得る直鎖状または分岐鎖状の部分または完全フッ素化されたアルキレン基(ただし、-CH-を有するものを除く)であり、Lは連結基であり、Yは、上記定義したものである。但し、Xn2、Xn3、Xn4及びRfn5の合計炭素数は18以下である。)で表される化合物が挙げられる。
 含フッ素界面活性剤としては、上述したアニオン性含フッ素界面活性剤のなかでも、一般式(I)で表されるパーフルオロカルボン酸(I)、一般式(II)で表されるω-Hパーフルオロカルボン酸(II)、一般式(III)で表されるパーフルオロエーテルカルボン酸(III)、一般式(IV)で表されるパーフルオロアルキルアルキレンカルボン酸(IV)、一般式(V)で表されるパーフルオロアルコキシフルオロカルボン酸(V)、一般式(VI)で表されるパーフルオロアルキルスルホン酸(VI)、一般式(VII)で表されるω-Hパーフルオロスルホン酸(VII)、一般式(VIII)で表されるパーフルオロアルキルアルキレンスルホン酸(VIII)、一般式(X):Rf-O-Rf-O-CF-COOM
(式中、Rfは、炭素数1~6のエーテル結合及び/又は塩素原子を含み得る直鎖状または分枝鎖状の部分または完全フッ素化されたアルキル基(ただし、-CH-を有するものを除く)であり、Rfは、炭素数1~6の直鎖状または分枝鎖状の部分または完全フッ素化されたアルキル基(ただし、-CH-を有するものを除く)であり、Mは、上記定義したものである。)で表されるフルオロカルボン酸(X)、一般式(XI):Rf-O-CYFCF-SO
(式中、Rfは、炭素数1~12のエーテル結合を含み得る直鎖状または分枝鎖状であって、塩素を含んでもよい、部分または完全フッ素化されたアルキル基(ただし、-CH-を有するものを除く)であり、Yは、H又はFであり、Mは、上記定義したものである。)で表されるアルコキシフルオロスルホン酸(XI)、一般式(XII):
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
(式中、X、X及びXは、同一若しくは異なってもよく、H、F及び炭素数1~6のエーテル結合を含み得る直鎖状または分岐鎖状の部分または完全フッ素化されたアルキル基(ただし、-CH-を有するものを除く)であり、ただし、X及びXの両方がHになることはなく、Rf10は、炭素数1~3のパーフルオロアルキレン基であり、Lは連結基であり、Yはアニオン性基である。)
で表される化合物(XII)、および、一般式(XIII):Rf11-O-(CFCF(CF)O)n9(CFO)n10CFCOOM
(式中、Rf11は、塩素を含む炭素数1~5のフルオロアルキル基(ただし、-CH-を有するものを除く)であり、n9は、0~3の整数であり、n10は、0~3の整数であり、Mは、上記定義したものである。)で表される化合物(XIII)からなる群より選択される少なくとも1種がより好ましい。
 電着塗料組成物が、親水基を有する含フッ素化合物として、含フッ素界面活性剤を少なくとも含有する場合、電着塗料組成物中の含フッ素界面活性剤の含有量は、パーフルオロ系高分子化合物Xに対して、好ましくは50質量ppb以下であり、より好ましくは45質量ppb以下であり、好ましくは0質量ppb超である。
 電着塗料組成物の一実施形態においては、親水基を有する含フッ素化合物として、パーフルオロエーテルカルボン酸を含有する。パーフルオロエーテルカルボン酸としては、下記の一般式(III)で表される化合物(III)が好ましい。
   一般式(III):Rf-O-(CF(CF)CFO)n3CF(CF)COOM
(式中、Rfは、炭素数1~5のパーフルオロアルキル基であり、n3は、0~3の整数であり、Mは、H、金属原子、NR 、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Rは、H又は有機基である。)
 電着塗料組成物が、親水基を有する含フッ素化合物として、パーフルオロエーテルカルボン酸を少なくとも含有する場合、電着塗料組成物中のパーフルオロエーテルカルボン酸の含有量は、パーフルオロ系高分子化合物Xに対して、好ましくは50質量ppb以下であり、より好ましくは45質量ppb以下であり、好ましくは0質量ppb超である。
 電着塗料組成物の一実施形態においては、親水基を有する含フッ素化合物として、下記の一般式(H1)で表される化合物を含有する。
  一般式(H1):[X-Rf-Ai+
(式中、Xは、H、Cl、Br、FまたはI、Rfは、直鎖若しくは分枝鎖の部分フッ素化若しくは完全フッ素化脂肪族基、または、少なくとも1個の酸素原子により中断された直鎖若しくは分枝鎖の部分フッ素化若しくは完全フッ素化脂肪族基、Aは酸基、Mi+は価数iを有するカチオン、iは1~3の整数を表す)
 電着塗料組成物の一実施形態においては、親水基を有する含フッ素化合物として、下記の一般式(H2)で表される化合物を含有する。
   一般式(H2):[Cn-12n-1COO]M
(式中、nは4~14の整数、Mはカチオンを表す。)
 一般式(H2)で表される化合物(パーフルオロアルカン酸)は、パーフルオロアルキルビニルエーテルなどを変性モノマーとして用いた場合に、重合中に形成されることが知られている(国際公開第2019/161153号参照)。
 電着塗料組成物が、親水基を有する含フッ素化合物として、一般式(H2)で表される化合物を少なくとも含有する場合、電着塗料組成物中の一般式(H2)で表される化合物の含有量は、パーフルオロ系高分子化合物Xに対して、好ましくは50質量ppb以下であり、より好ましくは45質量ppb以下であり、好ましくは0質量ppb超である。
 電着塗料組成物の一実施形態においては、親水基を有する含フッ素化合物として、下記の一般式(H3)で表される化合物を含有する。
   一般式(H3):[R-O-L-CO ]M
(式中、Rは、直鎖若しくは分枝鎖の部分フッ素化若しくは完全フッ素化脂肪族基、または、少なくとも1個の酸素原子により中断された直鎖若しくは分枝鎖の部分フッ素化若しくは完全フッ素化脂肪族基、Lは、直鎖若しくは分枝鎖の非フッ素化、部分フッ素化または完全フッ素化アルキレン基、Mはカチオンを表す。)
 電着塗料組成物が、親水基を有する含フッ素化合物として、一般式(H3)で表される化合物を少なくとも含有する場合、電着塗料組成物中の一般式(H3)で表される化合物の含有量は、パーフルオロ系高分子化合物Xに対して、好ましくは50質量ppb以下であり、より好ましくは45質量ppb以下であり、好ましくは0質量ppb超である。
 電着塗料組成物の一実施形態においては、親水基を有する含フッ素化合物として、一般式(H4)で表される化合物を含有する。
   一般式(H4):H-Rfn0-Y
(式中、Rfn0は、炭素数3~20で、直鎖状、分枝鎖状または環状で、一部または全てのHがFにより置換されたアルキレン基であり、該アルキレン基は1つ以上のエーテル結合を含んでもよく、一部のHがClにより置換されていてもよい。Yはアニオン性基である。)
 一般式(H4)で表される化合物としては、以下のいずれかの一般式で表される化合物が挙げられる。
   一般式:[H-(CFCO ]M
(式中、mは3~19の整数、Mはカチオンを表す。)
   一般式:[H-(CFm2-(CF(CF))m3-CO ]M
(式中、m2は1~17の整数、m3は1~9の整数、Mはカチオンを表す。ただし、m2およびm3は3≦(m2+2×m3)≦19を満たすように選択され、各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。)
 電着塗料組成物が、親水基を有する含フッ素化合物として、一般式(H4)で表される化合物を少なくとも含有する場合、電着塗料組成物中の一般式(H4)で表される化合物の含有量は、パーフルオロ系高分子化合物Xに対して、好ましくは50質量ppb以下であり、より好ましくは45質量ppb以下であり、好ましくは0質量ppb超である。
 親水基を有する含フッ素化合物の含有量が低減された電着塗料組成物は、パーフルオロ系高分子化合物Xおよび水を含有する水分散組成物であって、親水基を有する含フッ素化合物の含有量が低減された水分散組成物を製造し、それを電着塗料組成物の原料として用いることによって調製することができる。
 水分散組成物中の親水基を有する含フッ素化合物の含有量は、たとえば、含フッ素界面活性剤、重合開始剤および水性媒体の存在下に、フルオロモノマーを重合することにより、パーフルオロ系高分子化合物Xおよび水を含有する水性分散液を作製するとともに、水性分散液に対して、比較的多量のラジカル発生剤を添加し、熱処理をすることにより調整することができる。
 親水基を有する含フッ素化合物の含有量が低減された水分散組成物は、たとえば、
 反応器内で、含フッ素界面活性剤、重合開始剤および水性媒体の存在下に、フルオロモノマーを重合することにより、パーフルオロ系高分子化合物Xを含有する水性分散液を作製し、
 前記水性分散液を作製した後、前記反応器内に残留する前記フルオロモノマーを前記反応器内から除去するか、および、前記反応器内の前記水性分散液を回収して前記反応器とは異なる容器に収容するかの少なくともいずれか一方の操作を実施し、
 前記水性分散液に、重合に用いた含フッ素界面活性剤のモル量に対して、5モル倍以上の量に相当するラジカル発生剤を添加し、
 前記ラジカル発生剤を含有する前記水性分散液に対して熱処理をする
製造方法により、製造することができる。
(フルオロモノマーの重合)
 上記の製造方法においては、まず、反応器内で、含フッ素界面活性剤、重合開始剤および水性媒体の存在下に、フルオロモノマーを重合することにより、パーフルオロ系高分子化合物Xを含有する水性分散液を調製する。
 フルオロモノマーの重合は、反応器に、フルオロモノマー、含フッ素界面活性剤、重合開始剤、水性媒体および必要に応じて他の添加剤を仕込み、反応器の内容物を撹拌し、そして反応器を所定の重合温度に保持し、次に所定量の重合開始剤を加え、重合反応を開始することにより行うことができる。重合反応開始後に、目的に応じて、フルオロモノマー、重合開始剤、含フッ素界面活性剤、連鎖移動剤などを追加添加してもよい。フルオロモノマーの重合方法は、特に限定されないが、乳化重合法が好ましい。
(含フッ素界面活性剤)
 フルオロモノマーの重合に用いる含フッ素界面活性剤としては、本開示の電着塗料組成物が含有し得る含フッ素界面活性剤が挙げられ、同様のものが好ましく用いられる。
 含フッ素界面活性剤の添加量としては、水性媒体に対して、好ましくは10質量ppm~10質量%であり、より好ましくは100質量ppm以上であり、さらに好ましくは300質量ppm以上であり、より好ましくは5質量%以下であり、さらに好ましくは1質量%以下である。
(重合開始剤)
 フルオロモノマーの重合に用いる重合開始剤としては、重合温度範囲でラジカルを発生しうるものであれば特に限定されず、公知の油溶性及び/又は水溶性の重合開始剤を使用することができる。更に、還元剤等と組み合わせてレドックスとして重合を開始することもできる。上記重合開始剤の濃度は、モノマーの種類、目的とするパーフルオロ系高分子化合物Xの分子量、反応速度によって適宜決定される。
 上記重合開始剤としては、油溶性ラジカル重合開始剤、または水溶性ラジカル重合開始剤を使用できる。
 油溶性ラジカル重合開始剤としては、公知の油溶性の過酸化物であってよく、たとえばジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジsec-ブチルパーオキシジカーボネートなどのジアルキルパーオキシカーボネート類、t-ブチルパーオキシイソブチレート、t-ブチルパーオキシピバレートなどのパーオキシエステル類、ジt-ブチルパーオキサイドなどのジアルキルパーオキサイド類などが代表的なものとしてあげられる。
 水溶性ラジカル重合開始剤としては、公知の水溶性過酸化物であってよく、たとえば、過硫酸、過ホウ素酸、過塩素酸、過リン酸、過炭酸などのアンモニウム塩、カリウム塩、ナトリウム塩、ジコハク酸パーオキシド、ジグルタル酸パーオキシド等の有機過酸化物、t-ブチルパーマレエート、t-ブチルハイドロパーオキサイドなどがあげられる。サルファイト類のような還元剤も併せて含んでもよく、その使用量は過酸化物に対して0.1~20倍であってよい。
(水性媒体)
 フルオロモノマーの重合に用いる水性媒体は、重合を行わせる反応媒体であって、水を含む液体を意味する。上記水性媒体は、水を含むものであれば特に限定されず、水と、たとえば、エーテル、ケトン等のフッ素非含有有機溶媒、及び/又は、沸点が40℃以下であるフッ素含有有機溶媒とを含むものであってもよい。
 水性媒体としては、フルオロモノマーの重合を円滑に進めることができ、親水基を有する含フッ素化合物の除去効率の低下も抑制できることから、水のみを含有する水性媒体、または、水およびフッ素非含有有機溶媒のみを含有する水性媒体が好ましく、水のみを含有する水性媒体がより好ましい。
 水性媒体中の水の含有量は、フルオロモノマーの重合を円滑に進めることができ、親水基を有する含フッ素化合物の除去効率の低下も抑制できることから、水性媒体の質量に対して、好ましくは90%以上であり、より好ましくは95%以上であり、さらに好ましくは99.0%以上であり、尚さらに好ましくは99.5%以上であり、特に好ましくは99.9%以上であり、100%であってよい。
(連鎖移動剤)
 上記の製造方法において、さらに、連鎖移動剤の存在下に、フルオロモノマーを重合することができる。連鎖移動剤を用いることによって、重合速度、分子量を調整することができる。連鎖移動剤としては、たとえばマロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、コハク酸ジメチルなどのエステル類のほか、イソペンタン、メタン、エタン、プロパン、メタノール、イソプロパノール、アセトン、各種メルカプタン、四塩化炭素などの各種ハロゲン化炭化水素、シクロヘキサンなどがあげられる。
 連鎖移動剤の使用量は、通常、供給されるフルオロモノマー全量に対して、1~50,000質量ppmであり、好ましくは1~20,000質量ppmである。連鎖移動剤の使用量は、親水基を有する含フッ素化合物の除去効率をできる限り低下させないように、フルオロモノマーの重合中に全て消費し尽くされ、パーフルオロ系高分子化合物Xを含有する水性分散液に残留しない量であることが好ましい。したがって、連鎖移動剤の使用量は、供給されるフルオロモノマー全量に対して、より好ましくは10,000質量ppm以下であり、さらに好ましくは5,000質量ppm以下であり、尚さらに好ましくは1,000質量ppm以下であり、特に好ましくは500質量ppm以下であり、最も好ましは200質量ppm以下である。
 上記連鎖移動剤は、重合開始前に一括して反応容器中に添加してもよいし、重合開始後に一括して添加してもよいし、重合中に複数回に分割して添加してもよいし、また、重合中に連続的に添加してもよい。
(その他の添加剤)
 フルオロモノマーの重合において、緩衝剤、pH調整剤、安定化助剤、分散安定剤などの添加剤を用いることができる。また、フルオロモノマーの重合において、ラジカル捕捉剤、分解剤を添加し、重合速度、分子量の調整を行うこともできる。また、フルオロモノマーの重合において、フッ素非含有アニオン性界面活性剤、フッ素非含有非イオン性界面活性剤、フッ素非含有カチオン性界面活性剤などを用いてもよい。
 安定化助剤としては、パラフィンワックス、フッ素系オイル、フッ素系溶剤、シリコーンオイルなどが好ましい。安定化助剤は、1種単独で又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。安定化助剤としては、パラフィンワックスがより好ましい。パラフィンワックスとしては、室温で液体でも、半固体でも、固体であってもよいが、炭素数12以上の飽和炭化水素が好ましい。パラフィンワックスの融点は、通常40~65℃が好ましく、50~65℃がより好ましい。
 安定化助剤の使用量は、使用する水性媒体の質量基準で0.1~12質量%が好ましく、0.1~8質量%がより好ましい。安定化助剤は十分に疎水的で、重合後に水性分散液と完全に分離されて、コンタミ成分とならないことが望ましい。
(重合条件)
 フルオロモノマーの重合は、通常の圧力および温度で行うことができる。通常、重合温度は、5~120℃であり、重合圧力は、0.05~10MPaGである。重合温度、重合圧力は、モノマーの種類、目的とするパーフルオロ系高分子化合物Xの分子量、反応速度などによって適宜決定される。
(重合により得られる水性分散液)
 フルオロモノマーの重合により、パーフルオロ系高分子化合物Xを含有する水性分散液が得られる。重合上りの水性分散液中のパーフルオロ系高分子化合物Xの含有量は、通常、水性分散液に対して、8~50質量%である。
 フルオロモノマーを重合することにより得られる水性分散液には、パーフルオロ系高分子化合物X以外に、親水基を有する含フッ素化合物として、フルオロモノマーを重合する際に用いた含フッ素界面活性剤が含まれることが通常である。また、フルオロモノマーを重合することにより得られる水性分散液には、パーフルオロ系高分子化合物X以外に、フルオロモノマーの重合により生成する親水基を有する含フッ素化合物が含まれることがある。
 重合により得られる水性分散液中の親水基を有する含フッ素化合物として、典型的な化合物は、分子量1000g/mol以下の親水基を有する含フッ素化合物である。上記の製造方法によれば、最終的に、分子量1000g/mol以下の親水基を有する含フッ素化合物の含有量が低減された水分散組成物を製造することができる。
 重合により得られる水性分散液の一実施形態においては、親水基を有する含フッ素化合物として、重合の際に添加した含フッ素界面活性剤を含有する。重合の際に添加した含フッ素界面活性剤については、フルオロモノマーの重合に用いる含フッ素界面活性剤として上述したとおりである。
 重合により得られる水性分散液中の親水基を有する含フッ素化合物の含有量は、水性分散液に対して、200質量ppb以上であってよく、300質量ppb以上であってよく、400質量ppb以上であってよく、10質量%以下であってよく、1質量%以下であってよく、0.5質量%以下であってよい。
 重合により得られる水性分散液中の、フルオロモノマーを重合する際に用いた含フッ素界面活性剤の含有量は、水性分散液に対して、200質量ppb以上であってよく、300質量ppb以上であってよく、400質量ppb以上であってよく、10質量%以下であってよく、1質量%以下であってよく、0.5質量%以下であってよい。
 重合により得られる水性分散液の一実施形態においては、親水基を有する含フッ素化合物として、パーフルオロエーテルカルボン酸を含有する。パーフルオロエーテルカルボン酸としては、下記の一般式(III)で表される化合物(III)が好ましい。
   一般式(III):Rf-O-(CF(CF)CFO)n3CF(CF)COOM
(式中、Rfは、炭素数1~5のパーフルオロアルキル基であり、n3は、0~3の整数であり、Mは、H、金属原子、NR 、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Rは、H又は有機基である。)
 重合により得られる水性分散液が、親水基を有する含フッ素化合物として、パーフルオロエーテルカルボン酸を少なくとも含有する場合、重合により得られる水性分散液中のパーフルオロエーテルカルボン酸の含有量は、水性分散液に対して、200質量ppb以上であってよく、300質量ppb以上であってよく、400質量ppb以上であってよく、10質量%以下であってよく、1質量%以下であってよく、0.5質量%以下であってよい。
 重合により得られる水性分散液の一実施形態においては、親水基を有する含フッ素化合物として、下記の一般式(H1)で表される化合物を含有する。
  一般式(H1):[X-Rf-Ai+
(式中、Xは、H、Cl、Br、FまたはI、Rfは、直鎖若しくは分枝鎖の部分フッ素化若しくは完全フッ素化脂肪族基、または、少なくとも1個の酸素原子により中断された直鎖若しくは分枝鎖の部分フッ素化若しくは完全フッ素化脂肪族基、Aは酸基、Mi+は価数iを有するカチオン、iは1~3の整数を表す)
 重合により得られる水性分散液の一実施形態においては、親水基を有する含フッ素化合物として、下記の一般式(H2)で表される化合物を含有する。
   一般式(H2):[Cn-12n-1COO]M
(式中、nは4~14の整数、Mはカチオンを表す。)
 一般式(2)で表される化合物(パーフルオロアルカン酸)は、パーフルオロ(アルキルビニルエーテル)などをフルオロモノマーとして用いた場合に、重合中に形成されることが知られている(国際公開第2019/161153号参照)。
 重合により得られる水性分散液の一実施形態においては、親水基を有する含フッ素化合物として、下記の一般式(H3)で表される化合物を含有する。
   一般式(H3):[R-O-L-CO ]M
(式中、Rは、直鎖若しくは分枝鎖の部分フッ素化若しくは完全フッ素化脂肪族基、または、少なくとも1個の酸素原子により中断された直鎖若しくは分枝鎖の部分フッ素化若しくは完全フッ素化脂肪族基、Lは、直鎖若しくは分枝鎖の非フッ素化、部分フッ素化または完全フッ素化アルキレン基、Mはカチオンを表す。)
 重合により得られる水性分散液の一実施形態においては、親水基を有する含フッ素化合物として、一般式(H4)で表される化合物を含有する。
   一般式(H4):H-Rfn0-Y
(式中、Rfn0は、炭素数3~20で、直鎖状、分枝鎖状または環状で、一部または全てのHがFにより置換されたアルキレン基であり、該アルキレン基は1つ以上のエーテル結合を含んでもよく、一部のHがClにより置換されていてもよい。Yはアニオン性基である。)
 一般式(H4)で表される化合物としては、以下のいずれかの一般式で表される化合物が挙げられる。
   一般式:[H-(CFCO ]M
(式中、mは3~19の整数、Mはカチオンを表す。)
   一般式:[H-(CFm2-(CF(CF))m3-CO ]M
(式中、m2は1~17の整数、m3は1~9の整数、Mはカチオンを表す。ただし、m2およびm3は3≦(m2+2×m3)≦19を満たすように選択され、各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。)
(フルオロモノマーの除去または水性分散液の回収)
 上記の製造方法においては、重合により水性分散液を作製した後、水性分散液に対してラジカル発生剤を添加する前に、(a)反応器内に残留するフルオロモノマーを反応器内から除去するか、および、(b)反応器内の水性分散液を回収して反応器とは異なる容器に収容するかの少なくとも一方の操作を実施することができる。特に、反応器内のフルオロモノマーを除去する方法を用いると、重合で用いた同一の反応器内でその後の工程を行うことができ、水分散組成物の生産性が向上することから好ましい。
 水性分散液を調製した後、反応器の内容物の攪拌を停止してから、フルオロモノマーの除去または水性分散液の回収を行うと、その後の操作が容易になったり、フルオロモノマーの重合を円滑に停止できたりすることから好ましい。
 反応器内からフルオロモノマーを除去する方法は特に限定されない。水性分散液を調製した後、所望により反応器の内容物の攪拌を停止し、反応器内の圧力が常圧になるまで排気することにより、フルオロモノマーを反応器から除去してもよいし、反応器内の圧力を0.0MPaG未満まで低下させることにより、フルオロモノマーを反応器から除去してもよいし、反応器内に不活性ガスを供給することにより、反応器内のフルオロモノマーを窒素ガスなどの不活性ガスにより置換してもよい。また、反応器内のフルオロモノマーの全量を反応させて、パーフルオロ系高分子化合物Xに変換することにより、結果としてフルオロモノマーを反応器から除去してもよい。反応器内に残留するフルオロモノマーの反応器内からの除去は、フルオロモノマーの重合反応を十分に停止させる程度に行うことができれば、僅かな量のフルオロモノマーが反応器内に残留してもよい。除去したフルオロモノマーは、公知の手段により回収することができる。回収したフルオロモノマーを、フルオロポリマーを製造するために再利用してもよい。
 反応器内からフルオロモノマーを除去する方法として、水性分散液を調製した後、所望により反応器の内容物の攪拌を停止し、反応器内の圧力を0.0MPaG未満まで低下させ、次に反応器内に不活性ガスを供給する方法も好適である。反応器内の減圧と不活性ガスの供給とを複数回繰り返してもよい。
 常温を超える温度でフルオロモノマーの重合を行った場合は、反応器内からフルオロモノマーを除去する前に、または、反応器内からフルオロモノマーを除去した後に、反応器を冷却してもよい。排気や窒素置換などの手段によりフルオロモノマーを反応器内から除去する場合、特に液状の未反応のフルオロモノマーが反応器内に残留する可能性があるが、反応器を冷却することにより、未反応のフルオロモノマーの反応の進行を十分に抑制できる。
 反応器内の水性分散液を回収して、重合に用いた反応器とは異なる容器に収容する方法は特に限定されない。たとえば、水性分散液を調製した後、所望により反応器の内容物の攪拌を停止し、反応器を開放して、反応器内の水性分散液を他の容器に注いでもよいし、水性分散液を調製した後、所望により反応器の内容物の攪拌を停止し、反応器と他の容器とを接続する配管を介して水性分散液を反応器から他の容器に供給してもよい。
 フルオロモノマーの重合反応を停止させるために、重合停止剤(ラジカル捕捉剤)を添加してもよい。
 重合停止剤としては、重合系内の遊離基に付加もしくは連鎖移動した後に再開始能力を有しない化合物が用いられる。具体的には、一次ラジカルまたは成長ラジカルと容易に連鎖移動反応を起こし、その後単量体と反応しない安定ラジカルを生成するか、あるいは、一次ラジカルまたは成長ラジカルと容易に付加反応を起こして安定ラジカルを生成するような機能を有する化合物が用いられる。一般的に連鎖移動剤と呼ばれるものは、その活性は連鎖移動定数と再開始効率で特徴づけられるが連鎖移動剤の中でも再開始効率がほとんど0%のものが重合停止剤と称される。重合停止剤としては、たとえば、芳香族ヒドロキシ化合物、芳香族アミン類、N,N-ジエチルヒドロキシルアミン、キノン化合物、テルペン、チオシアン酸塩、および、塩化第二銅(CuCl)からなる群より選択される少なくとも1種が好ましい。芳香族ヒドロキシ化合物としては、非置換フェノール、多価フェノール、サリチル酸、m-またはp-のサリチル酸、没食子酸、ナフトール等が挙げられる。上記非置換フェノールとしては、о-、m-またはp-のニトロフェノール、о-、m-またはp-のアミノフェノール、p-ニトロソフェノール等が挙げられる。多価フェノールとしては、カテコール、レゾルシン、ハイドロキノン、ピロガロール、フロログルシン、ナフトレゾルシノール等が挙げられる。芳香族アミン類としては、о-、m-またはp-のフェニレンジアミン、ベンジジン等が挙げられる。上記キノン化合物としては、ハイドロキノン、о-、m-またはp-のベンゾキノン、1,4-ナフトキノン、アリザリン等が挙げられる。チオシアン酸塩としては、チオシアン酸アンモン(NHSCN)、チオシアン酸カリ(KSCN)、チオシアン酸ソーダ(NaSCN)等が挙げられる。上記重合停止剤としては、なかでも、キノン化合物が好ましく、ハイドロキノンがより好ましい。
(ラジカル発生剤)
 上記の製造方法においては、(a)および(b)の少なくとも一方の操作を実施した後、水性分散液に対して熱処理をする前に、水性分散液に対して、重合に用いた含フッ素界面活性剤のモル量に対して、5モル倍以上の量に相当するラジカル発生剤を添加する。比較的多量のラジカル発生剤を添加することによって、親水基を有する含フッ素化合物の含有量を十分に低減することができる。
 ラジカル発生剤を添加する水性分散液は、反応器内に残る水性分散液であってもよいし、反応器から回収して別の容器に収容した水性分散液であってもよい。
 ラジカル発生剤としては、熱処理の際の温度で分解して、ラジカルを発生させることができる化合物であれば特に限定されない。ラジカル発生剤としては、水性分散液中にラジカルを容易に拡散させることができることから、水溶性ラジカル発生剤が好ましい。
 ラジカル発生剤としては、有機過酸化物、無機過酸化物、有機アゾ化合物、酸化剤と還元剤との組み合わせなどが挙げられ、無機過酸化物、有機過酸化物および酸化剤と還元剤との組み合わせからなる群より選択される少なくとも1種が好ましい。
 無機過酸化物としては、水溶性無機過酸化物が好ましい。無機過酸化物としては、過酸化水素、過塩素酸塩、過ホウ酸塩、過リン酸塩、過炭酸塩、過硫酸塩などが挙げられ、過硫酸塩が好ましい。過硫酸塩としては、過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリウムおよび過硫酸カリウムからなる群より選択される少なくとも1種が好ましく、過硫酸アンモニウムがより好ましい。
 有機過酸化物としては、水溶性有機過酸化物が好ましい。有機過酸化物としては、ジコハク酸パーオキシド、ジグルタル酸パーオキシドなどのパーオキシジカーボネートが挙げられる。
 ラジカル発生剤として、酸化剤と還元剤との組み合わせて用いることができる。酸化剤と還元剤とを組み合わせて用いることにより、酸化剤と還元剤とのレドックス反応によってラジカル発生剤からラジカルを発生させることができるので、熱処理の際の温度を低下させることができる。
 酸化剤としては、過硫酸塩、有機過酸化物、過マンガン酸カリウム、三酢酸マンガン、セリウム硝酸アンモニウムなどが挙げられる。還元剤としては、亜硫酸塩、重亜硫酸塩、臭素酸塩、ジイミン、シュウ酸等が挙げられる。過硫酸塩としては、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウムが挙げられる。亜硫酸塩としては、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸アンモニウムが挙げられる。酸化剤の分解速度を上げるため、銅塩、鉄塩を添加することも好ましい。銅塩としては、硫酸銅(II)、鉄塩としては硫酸鉄(II)が挙げられる。
 酸化剤と還元剤との組み合わせとしては、たとえば、過マンガン酸カリウム/シュウ酸、過硫酸アンモニウム/重亜硫酸塩/硫酸鉄、三酢酸マンガン/シュウ酸、セリウム硝酸アンモニウム/シュウ酸、臭素酸塩/重亜硫酸塩などが挙げられ、過マンガン酸カリウム/シュウ酸が好ましい。酸化剤と還元剤との組み合わせを用いる場合は、酸化剤または還元剤のいずれかをあらかじめ水性分散液に添加し、ついでもう一方を連続的または断続的に加えてもよい。
 ラジカル発生剤の添加量は、親水基を有する含フッ素化合物の除去効率を一層向上させることができることから、重合に用いた含フッ素界面活性剤のモル量に対して、好ましくは5モル倍以上であり、より好ましくは10モル倍以上であり、好ましくは1000モル倍以下であり、より好ましくは500モル倍以下であり、さらに好ましくは100モル倍以下である。
 ラジカル発生剤の添加方法は、特に限定されない。ラジカル発生剤をそのまま水性分散液に添加してもよいし、ラジカル発生剤を含有する溶液を調製し、溶液を水性分散液に対して添加してもよい。また、水性分散液を攪拌しながらラジカル発生剤を添加してもよいし、ラジカル発生剤を添加した後、水性分散液を攪拌してもよい。
 ラジカル発生剤を添加する水性分散液の温度は、特に限定されず、フルオロモノマーを重合した後の水性分散液の温度であってもよいし、フルオロモノマーを重合した後の水性分散液を冷却することにより到達した温度であってもよいし、熱処理の温度であってもよい。すなわち、ラジカル発生剤を水性分散液に対して添加した後、熱処理のために水性分散液を加熱してもよいし、熱処理のための温度まで水性分散液を加熱した後、ラジカル発生剤を水性分散液に対して添加してもよい。
(熱処理)
 上記の製造方法においては、ラジカル発生剤を添加した水性分散液(ラジカル発生剤を含有する水性分散液)に対して、熱処理をする。比較的多量のラジカル発生剤を含有する水性分散液に対して熱処理をすることによって、水性分散液中の親水基を有する含フッ素化合物の含有量を驚くほど低減することができる。
 熱処理をする前に、水性分散液中のパーフルオロ系高分子化合物Xの含有量を調整してもよい。パーフルオロ系高分子化合物Xの含有量の調整は、濃縮、希釈などの公知の方法により行うことができる。
 熱処理に供する水性分散液中のパーフルオロ系高分子化合物Xの含有量は、親水基を有する含フッ素化合物の除去効率を損なうことなく、高い生産性でパーフルオロ系高分子化合物Xを含有する水性分散液を製造できることから、水性分散液の質量に対して、好ましくは1質量%以上であり、より好ましくは5質量%以上であり、さらに好ましくは10質量%以上である。パーフルオロ系高分子化合物Xの含有量の上限は、好ましくは60質量%以下であり、より好ましくは55質量%以下であり、さらに好ましくは50質量%以下である。
 熱処理に供する水性分散液中の、重合の際に添加した含フッ素界面活性剤の含有量は、水性分散液中のパーフルオロ系高分子化合物Xの質量に対して、好ましくは500質量ppm以上であり、より好ましくは1000質量ppm以上であり、好ましくは10質量%以下であり、より好ましくは5質量%以下であり、さらに好ましくは1質量%以下である。
 熱処理に供する水性分散液中の、フルオロモノマーの重合により生成する親水基を有する含フッ素化合物の含有量は、水性分散液中のパーフルオロ系高分子化合物Xの質量に対して、好ましくは500質量ppb以上であり、さらに好ましくは1000質量ppb以上であり、好ましくは1.0質量%以下であり、より好ましくは0.1質量%以下であり、さらに好ましくは0.01質量%以下である。
 熱処理に供する水性分散液中の親水基を有する含フッ素化合物の含有量(重合の際に添加した含フッ素界面活性剤の含有量とフルオロモノマーの重合により生成する親水基を有する含フッ素化合物の含有量との合計量)は、水性分散液中のパーフルオロ系高分子化合物Xに対して、好ましくは500質量ppm以上であり、より好ましくは1000質量ppm以上であり、好ましくは10質量%以下であり、より好ましくは5質量%以下であり、さらに好ましくは1質量%以下である。
 熱処理の温度は、親水基を有する含フッ素化合物の除去効率を一層向上させることができることから、好ましくは35℃以上であり、より好ましくは40℃以上であり、さらに好ましくは45℃以上であり、特に好ましくは50℃以上であり、好ましくは120℃以下であり、より好ましくは110℃以下であり、さらに好ましくは100℃以下であり、特に好ましくは90℃以下である。ラジカル発生剤を添加した水性分散液に対して熱処理をする場合、熱処理の温度は、ラジカル発生剤が分解してラジカルが発生する温度(分解温度)以上が好ましい。
 水性分散液の熱処理において、水性分散液を所望の温度以上に維持できるのであれば、必ずしも水性分散液を加熱する必要はない。たとえば、フルオロモノマーを重合する温度が十分に高く、得られる水性分散液の温度も十分に高い場合には、得られる水性分散液が冷却される前に、熱処理を開始することができる。しかしながら、熱処理の温度の制御が容易になることから、反応器内からのフルオロモノマーの除去または反応器内の水性分散液の回収の前後で水性分散液を冷却し、該水性分散液を上記の温度範囲にまで加熱し、一定の期間その温度を維持することが好ましい。熱処理に供する水性分散液の温度は、たとえば、30℃以下であってよい。
 水性分散液を加熱しながら熱処理を行う場合の加熱手段は特に限定されない。たとえば、水性分散液を収容した容器を恒温槽に設置して加熱してもよいし、ヒータを備える容器に水性分散液を収容し、ヒータにより水性分散液を加熱してもよい。
 熱処理の圧力は、特に限定されず、常圧であってよい。たとえば、熱処理の温度が比較的高く、水性分散液の沸騰を抑制する必要がある場合には、熱処理の圧力は、常圧を超える圧力であってもよい。
 熱処理の時間は、親水基を有する含フッ素化合物の除去効率を一層向上させることができることから、好ましくは15分以上であり、より好ましくは30分以上であり、さらに好ましくは60分以上であり、好ましくは1200分以下であり、より好ましくは900分以下であり、さらに好ましくは600分以下である。
 水性分散液を攪拌しながら熱処理を行ってもよい。
(皮膜および被覆物品)
 本開示の電着塗料組成物を用いて、皮膜を形成することができる。本開示の電着塗料組成物から形成される皮膜は、割れが無く、表面粗度が低く、比誘電率も低い。
 電着塗料組成物から形成される皮膜は、たとえば、基材上に形成することができる。基材と、本開示の電着塗料組成物から形成される皮膜とを備える被覆物品においては、皮膜に割れが無く、皮膜の表面粗度が低く、皮膜の比誘電率も低く、さらには、基材と皮膜とが強固に接着している。
 基材を形成する材料としては、鉄、アルミニウム、銅等の金属単体及びこれらの合金類等の金属などが挙げられる。上記合金類としては、ステンレス等が挙げられる。基材は、金属材料とともに、他の材料を含んでもよい。
 また、基材は、銅、銅合金、アルミニウム、アルミニウム合金、鉄、銀、ニッケルなどの材料により構成することができ、銅、銅合金、アルミニウムまたはアルミニウム合金により構成されたものが好ましい。
 皮膜の膜厚は、好ましくは2~100μmであり、より好ましくは5μm以上であり、より好ましくは70μm以下であり、さらに好ましくは30μm以下である。
 皮膜の比誘電率は、好ましくは2.0~2.4であり、より好ましくは2.3以下である。
 被覆物品としては、フライパン、圧力鍋、鍋、グリル鍋、炊飯釜、オーブン、ホットプレート、パン焼き型、包丁、ガステーブル等の調理器具;電気ポット、製氷トレー、金型、レンジフード等の厨房用品;練りロール、圧延ロール、コンベア、ホッパー等の食品工業用部品;オフィースオートメーション(OA)用ロール、OA用ベルト、OA用分離爪、製紙ロール、フィルム製造用カレンダーロール等の工業用品;発泡スチロール成形用等の金型、鋳型;合板・化粧板製造用離型板等の成形金型離型;工業用コンテナ(特に半導体工業用);のこぎり、やすり等の工具;アイロン、鋏、包丁等の家庭用品;金属箔;被覆電線;プリント基板;食品加工機、包装機、紡織機械等のすべり軸受;カメラ・時計の摺動部品;パイプ、バルブ、ベアリング等の自動車部品;雪かきシャベル;すき;シュート等が挙げられる。
 被覆物品としては、なかでも、被覆電線またはプリント基板が好ましい。
(被覆電線)
 本開示の電着塗料組成物を用いて、被覆電線を被覆する皮膜を形成することができる。被覆電線は、たとえば、電線基材と、平角電線基材の外周に形成された皮膜とを備えている。本開示の電着塗料組成物から形成される皮膜を備える被覆電線においては、皮膜に割れが無く、皮膜の表面粗度が低く、皮膜の比誘電率も低く、さらには、基材と皮膜とが強固に接着している。
 被覆電線の一実施形態においては、平角電線基材と、平角電線基材の外周に形成されており、電着塗料組成物から形成される皮膜とを備えている。
 平角電線基材の形状は、その断面が略長方形の平角線の形状であれば特に限定されない。平角電線基材の断面の角部は直角であってもよいし、平角電線基材の断面の角部が丸みを有していてもよい。また、平角電線基材は、全体の断面が略長方形であれば、単線、集合線、撚線などであってよいが、単線であることが好ましい。
 平角電線基材としては、導電材料から構成されるものであれば特に限定されないが、銅、銅合金、アルミニウム、アルミニウム合金、鉄、銀、ニッケルなどの材料により構成することができ、銅、銅合金、アルミニウムまたはアルミニウム合金により構成されたものが好ましい。また、銀めっき、ニッケルめっきなどのめっきを施した平角電線基材を用いることもできる。銅としては、無酸素銅、低酸素銅、銅合金などを用いることができる。
 平角電線基材の断面の幅は1~75mmであってよく、平角電線基材の断面の厚さは0.1~30mmであってよい。平角電線基材の外周径は、6.5mm以上であってよく、200mm以下であってよい。また、幅の厚さに対する比は、1超30以下であってよい。
 平角電線基材の面粗さSzは、平角電線基材と皮膜とが一層強固に密着することから、好ましくは0.2~12μmであり、より好ましくは1μm以上であり、さらに好ましくは5μm以上であり、より好ましくは10μm以下である。
 平角電線基材の面粗さは、エッチング処理、ブラスト処理、レーザー処理などの表面処理方法により、平角電線基材を表面処理することにより調整することができる。また、表面処理により、平角電線基材の表面に凹凸を設けてもよい。凸部から凸部の凹凸間距離は小さいほど好ましく、たとえば、5μm以下である。また、凹凸の大きさは、たとえば、未加工面に対する凸部を切断した時の1つあたりの凹部面積が1μm以下である。凹凸形状は、クレーター型の単一な凹凸形状でもよく、アリの巣状に枝分かれしているものでもよい。
 平角電線基材等の基材上の皮膜は、基材に電着塗料組成物を電着塗装することにより、形成することができる。電着塗装は、たとえば、電着塗料組成物に基材を浸漬させ、基材を陽極として通電することにより、行うことができる。電着塗装の条件は、基材の種類などに応じて、適宜選択される。たとえば、電着塗料組成物の温度を10~40℃とし、電圧を50~500Vとし、通電時間を1~10分間とすることができる。
 電着塗装後、基材上に析出した皮膜を水洗してもよい。電着塗装後、基材上に析出した皮膜を焼き付け乾燥させる。乾燥は、1回行ってもよいし、複数回行ってもよい。たとえば、低温で予備乾燥をした後、高温で焼き付け乾燥をしてもよい。
 本開示の電着塗料組成物は、メタクリレート樹脂の中和物を含有する。したがって、乾燥条件として、皮膜を基材に焼き付けることができ、なおかつ、電着塗料組成物中のメタクリレート樹脂の中和物の一部のみが皮膜中に残存する条件を選択することが好ましい。このような条件を選択することによって、割れが無く、表面粗度が低く、基材と強固に接着し、比誘電率も低い皮膜が得られる。
 乾燥温度は、好ましくは300℃以上であり、より好ましくは350℃以上である。乾燥温度の上限は、基材の酸化および皮膜の劣化を抑制する観点から、400℃以下であってよい。乾燥時間は、好ましくは5分間以上であり、より好ましくは10分間以上である。乾燥時間の上限は、基材の酸化および皮膜の劣化を抑制する観点から、60分間以下であってよい。
 乾燥を、無酸素下で行うことにより、基材の酸化を抑制することができる。酸素下で基材上に析出した皮膜を乾燥させると、基材が破損することがある。乾燥は、たとえば、酸素ガスを多くても1質量%しか含まない不活性ガス中で行うことができる。不活性ガスとして、たとえば、窒素ガスを用いることができる。
(被覆電線の被覆層)
 本開示の被覆電線は、皮膜の外周に形成された被覆層をさらに備えることができる。被覆層は、塗料組成物から形成される塗膜、または、押出成形用組成物から形成される押出物であってよい。被覆層は、1層であってもよいし、2層以上であってもよい。
 塗料組成物は、液状塗料組成物または粉体塗料組成物であってよいが、比較的厚い被覆層を容易に形成できることから、粉体塗料組成物が好ましい。
 粉体塗料組成物として、含フッ素高分子化合物Yの粉体を含有する粉体塗料組成物を用いることができる。本開示においては、粉体塗料組成物が、含フッ素高分子化合物Yの粉体のみを含有する場合であっても、すなわち、粉体塗料組成物が複数の成分を含有しない場合であっても、「粉体塗料組成物」との用語を用いる。
 塗料組成物から形成される層は、塗料組成物を皮膜の外周に塗布することにより、形成することができる。
 粉体塗料組成物の塗布により層を形成する方法としては特に限定されず、たとえば、静電塗装、流動浸漬塗装などの方法が挙げられる。
 粉体塗料組成物を塗布したのち、得られた塗布膜を焼成することにより、層を形成してもよい。焼成は、従来公知の方法により行うことができるが、含フッ素高分子化合物Yの融点もしくは硬化温度以上の温度で5~60分間行うことが好ましい。焼成は、塗料組成物を塗布する毎に行ってもよいし、塗料組成物を複数回塗布して複数の層(塗布膜)を形成させた後に行ってもよい。
 押出成形用組成物として、含フッ素高分子化合物Zを含む組成物を用いることができる。本開示においては、押出成形用組成物が、含フッ素高分子化合物Zのみを含有する場合であっても、すなわち、押出成形用組成物が複数の成分を含有しない場合であっても、「押出成形用組成物」との用語を用いる。
 含フッ素高分子化合物Z(押出成形用組成物)を押し出すことにより層を形成する方法として、押出成形法を用いる。たとえば、押出機を用いて、含フッ素高分子化合物を加熱して溶融させ、溶融した状態の含フッ素高分子化合物を皮膜上に押し出して、層を形成することができる。
 押出機の種類は特に限定されず、また、押出機が備えるスクリューの形状も特に限定されない。たとえば、押出機バレル30mmφでL/D24、スクリューはフルフライト、圧縮比2.8、押出の温度条件は、ホッパー下をC1、順にC2、C3、C4とシリンダーの温度を調整し、ヘッド、ダイ、ダイスの各部の温度を調整する。ダイ形状は、クロスヘッドで押出に対して、垂直に電線が挿入され含フッ素高分子化合物が被覆される。ダイ/チップに関しては所望の形状の平角電線基材、被覆厚みに合わせて、調整されたものを使用する。チュービングダイ、プレッシャーダイ等、使い分けることも可能である。押出被覆後の樹脂の冷却は、空冷、水冷、保温冷却と所望する含フッ素高分子化合物の物性、電線物性を考慮し制御することができる。
 被覆電線に対して、熱処理をしてもよい。熱処理は、被覆層を形成した後であれば、冷却の前に行ってもよいし、冷却の後に行ってもよい。熱処理の温度は、通常、含フッ素高分子化合物のガラス転移点以上であり、好ましくは含フッ素高分子化合物の融点から10~15℃低い温度である。
 一実施形態において、被覆層は、押出成形法によって押出成形用組成物から形成される押出物である。押出物は、塗料組成物から形成される塗膜よりも厚みが大きい層を容易に形成することができる。たとえば、押出物の厚み(押出成形用組成物から形成される層の厚み)は90μm以上であってよく、塗膜の厚み(塗料組成物から形成される層の厚み)は90μm未満であってよい。
 含フッ素高分子化合物Yを含む塗料組成物から形成される塗膜の厚みは、好ましくは5~100μmであり、より好ましくは50μm以上であり、さらに好ましくは75μm以上であり、より好ましくは90μm未満である。
 含フッ素高分子化合物Zを含む押出成形用組成物の押出成形により形成される層の厚みは、好ましくは25~400μmであり、より好ましくは50μm以上であり、さらに好ましくは75μm以上であり、尚さらに好ましくは90μm以上であり、より好ましくは290μm以下であり、さらに好ましくは240μm以下である。
 被覆層の比誘電率は、好ましくは2.0~2.4であり、より好ましくは2.3以下である。
 粉体塗料組成物に含まれる含フッ素高分子化合物Yとしては、ポリテトラフルオロエチレン、TFE/FAVE共重合体、TFE/HFP共重合体、TFE/FAVE/HFP共重合体、TFE/エチレン共重合体〔ETFE〕、TFE/エチレン/HFP共重合体、エチレン/クロロトリフルオロエチレン(CTFE)共重合体〔ECTFE〕、ポリクロロトリフルオロエチレン〔PCTFE〕、CTFE/TFE共重合体、ポリビニリデンフルオライド〔PVdF〕、TFE/ビニリデンフルオライド(VdF)共重合体〔VT〕、ポリビニルフルオライド〔PVF〕、TFE/VdF/CTFE共重合体〔VTC〕、TFE/HFP/VdF共重合体などが挙げられる。
 粉体塗料組成物に含まれる含フッ素高分子化合物Yとしては、なかでも、パーフルオロ系高分子化合物が好ましい。パーフルオロ系高分子化合物として、パーフルオロ系高分子化合物Xとして説明した高分子を用いることができる。含フッ素高分子化合物Yとしては、溶融加工性のパーフルオロ系高分子化合物が好ましく、TFE/FAVE共重合体、TFE/HFP共重合体、および、TFE/FAVE/HFP共重合体からなる群より選択される少なくとも1種がより好ましい。
 押出成形用組成物に含まれる含フッ素高分子化合物Zとしては、ポリテトラフルオロエチレン、TFE/FAVE共重合体、TFE/HFP共重合体、TFE/FAVE/HFP共重合体、TFE/エチレン共重合体〔ETFE〕、TFE/エチレン/HFP共重合体、エチレン/クロロトリフルオロエチレン(CTFE)共重合体〔ECTFE〕、ポリクロロトリフルオロエチレン〔PCTFE〕、CTFE/TFE共重合体、ポリビニリデンフルオライド〔PVdF〕、TFE/ビニリデンフルオライド(VdF)共重合体〔VT〕、ポリビニルフルオライド〔PVF〕、TFE/VdF/CTFE共重合体〔VTC〕、TFE/HFP/VdF共重合体などが挙げられる。
 押出成形用組成物に含まれる含フッ素高分子化合物Zとしては、なかでも、パーフルオロ系高分子化合物が好ましい。パーフルオロ系高分子化合物として、パーフルオロ系高分子化合物Xとして説明した高分子を用いることができる。含フッ素高分子化合物Zとしては、溶融加工性のパーフルオロ系高分子化合物が好ましく、TFE/FAVE共重合体、TFE/HFP共重合体、および、TFE/FAVE/HFP共重合体からなる群より選択される少なくとも1種がより好ましい。
 塗料組成物、押出成形用組成物および被覆層は、必要に応じて他の成分を含んでもよい。他の成分としては、架橋剤、帯電防止剤、耐熱安定剤、発泡剤、発泡核剤、酸化防止剤、界面活性剤、光重合開始剤、摩耗防止剤、表面改質剤、有機・無機系の各種顔料、銅害防止剤、気泡防止剤密着付与剤、潤滑剤、加工助剤、着色剤、リン系安定剤、潤滑剤、離型剤、摺動材、紫外線吸収剤、染顔料、補強材、ドリップ防止剤、充填材、硬化剤、紫外線硬化剤、難燃剤等の添加剤等を挙げることができる。
 本開示の被覆電線は、たとえば、LAN用ケーブル、USBケーブル、Lightningケーブル、HDMIケーブル、QSFPケーブル、航空宇宙用電線、地中送電ケーブル、海底電力ケーブル、高圧ケーブル、超電導ケーブル、ラッピング電線、自動車用電線、ワイヤーハーネス・電装品、ロボット・FA用電線、OA機器用電線、情報機器用電線(光ファイバケーブル、LANケーブル、HDMIケーブル、ライトニングケーブル、オーディオケーブル等)、通信基地局用内部配線、大電流内部配線(インバーター、パワーコンディショナー、蓄電池システム等)、電子機器内部配線、小型電子機器・モバイル配線、可動部配線、電気機器内部配線、測定機器類内部配線、電力ケーブル(建設用、風力/太陽光発電用等)、制御・計装配線用ケーブル、モーター用ケーブル等に好適に使用できる。
 本開示の被覆電線は、巻回されて、コイルとして使用することができる。本開示の被覆電線およびコイルは、モータ、発電機、インダクターなどの電気機器または電子機器に好適に用いることができる。また、本開示の被覆電線およびコイルは、車載用モータ、車載用発電機、車載用インダクターなどの車載用電気機器または車載用電子機器に好適に用いることができる。
 被覆電線は、長尺電線であってもよいし、短尺電線であってもよいし、図1に示すような曲げ部を有する被覆電線であってもよい。
 一実施形態に係る曲げ部を有する被覆電線は、エッジワイズ方向に曲げられた1以上の曲げ部を有する平角電線基材と、平角電線基材の外周に形成された皮膜とを備えている。曲げ部を有する被覆電線は、たとえば、ステータコアまたはロータコアに形成されたスロットに挿入するセグメントコイルとして好適に使用することができる。たとえば、セグメントコイルとして、曲げ部を有する被覆電線をスロットに挿入し、各被覆電線の端部を接合することによりコイルを形成することができる。
 図1は、一実施形態に係る曲げ部を有する被覆電線体の正面図および上面図である。図2は、一実施形態に係る曲げ部を有する被覆電線の断面図である。図1に示す曲げ部を有する被覆電線100は、回転電機のコアの各スロットに挿入することによりコイルを形成するための樹脂被覆導体(セグメントコイル)である。樹脂被覆導体100は、所定の長さの樹脂被覆導体を、フラットワイズ方向にU字状に曲げることにより構成される。図2に示すように、樹脂被覆導体100は、平角電線基材21と、平角電線基材21の外周に形成された皮膜22とを備えている。
 図1に示すように、樹脂被覆導体100は、略U字形状を有しており、湾曲部11と、湾曲部11の両端から伸びるスロット挿入部12とから構成されている。湾曲部11とスロット挿入部12とを繋ぐ部分には、平角電線基材をエッジワイズ方向に曲げることにより形成される肩部13aおよび13bが形成されている。また、湾曲部11には、平角電線基材をエッジワイズ方向に曲げることにより形成される凸形状部14、および、平角電線基材をフラットワイズ方向に曲げることにより形成されるクランク形状部15が形成されている。
 以上、実施形態を説明したが、特許請求の範囲の趣旨および範囲から逸脱することなく、形態や詳細の多様な変更が可能なことが理解されるであろう。
<1> 本開示の第1の観点によれば、
 パーフルオロ系高分子化合物Xおよびメタクリレート樹脂の中和物を含有する電着塗料組成物であって、
 前記パーフルオロ系高分子化合物Xの比誘電率が、2.0~2.2であり、
 前記メタクリレート樹脂の酸価が、10mgKOH/g以上であり、
 前記電着塗料組成物の固形分濃度が、10~70質量%である
電着塗料組成物が提供される。
<2> 本開示の第2の観点によれば、
 パーフルオロ系高分子化合物Xおよびメタクリレート樹脂の中和物を含有する電着塗料組成物であって、
 前記パーフルオロ系高分子化合物Xが、テトラフルオロエチレン/フルオロアルキルビニルエーテル共重合体であり、
 前記メタクリレート樹脂の酸価が、10mgKOH/g以上であり、
 前記電着塗料組成物の固形分濃度が、10~70質量%である
電着塗料組成物が提供される。
<3> 本開示の第3の観点によれば、
 親水基を有する含フッ素化合物の含有量が、前記パーフルオロ系高分子化合物Xに対して、50質量ppb以下である第1または第2の観点による電着塗料組成物が提供される。
<4> 本開示の第4の観点によれば、
 水をさらに含有する第1~第3のいずれかの観点による電着塗料組成物が提供される。
<5> 本開示の第5の観点によれば、
 前記メタクリレート樹脂の中和物および有機溶媒を含有する溶液に、前記パーフルオロ系高分子化合物Xおよび水を含有する水分散組成物を添加して、転相乳化させる製造方法により得られる第1~第4のいずれかの観点による電着塗料組成物が提供される。
<6> 本開示の第6の観点によれば、
 前記メタクリレート樹脂が、カルボキシル基を有しており、前記メタクリレート樹脂の中和物が、カルボキシ基を有する前記メタクリレート樹脂を、アミン化合物により中和することにより得られる中和物である第1~第5のいずれかの観点による電着塗料組成物が提供される。
<7> 本開示の第7の観点によれば、
 前記メタクリレート樹脂の中和物の中和度が、50%以上である第1~第6のいずれかの観点による電着塗料組成物が提供される。
<8> 本開示の第8の観点によれば、
 前記パーフルオロ系高分子化合物Xが、官能基を有しており、前記パーフルオロ系高分子化合物Xの官能基数が、炭素原子10個あたり、5~2000個である第1~第7のいずれかの観点による電着塗料組成物が提供される。
<9> 本開示の第9の観点によれば、
 アルカリ金属含有量が、1質量ppm未満である第1~第8のいずれかの観点による電着塗料組成物が提供される。
<10> 本開示の第10の観点によれば、
 前記パーフルオロ系高分子化合物Xと前記メタクリレート樹脂の中和物との質量比が、10/90~90/10である第1~第9のいずれかの観点による電着塗料組成物が提供される。
<11> 本開示の第11の観点によれば、
 第1~第10のいずれかの観点による電着塗料組成物から形成される皮膜が提供される。
<12> 本開示の第12の観点によれば、
 基材と、前記基材を被覆する皮膜とを備えており、
 前記皮膜が、第1~第10のいずれかの観点による電着塗料組成物から形成される皮膜である
被覆物品が提供される。
<13> 本開示の第13の観点によれば、
 前記基材の形成材料が、銅、銅合金、アルミニウムおよびアルミニウム合金からなる群より選択される少なくとも1種である第12の観点による被覆物品が提供される。
<14> 本開示の第14の観点によれば、
 平角電線基材と、前記平角電線基材の外周に形成された皮膜とを備えており、
 前記皮膜が、第1~第10のいずれかの観点による電着塗料組成物から形成される皮膜である
被覆電線が提供される。
<15> 本開示の第15の観点によれば、
 前記平角電線基材の形成材料が、銅、銅合金、アルミニウムおよびアルミニウム合金からなる群より選択される少なくとも1種である第14の観点による被覆電線が提供される。
<16> 本開示の第16の観点によれば、
 曲げ部を有する第14または第15の観点による被覆電線が提供される。
<17> 本開示の第17の観点によれば、
 長尺電線である第14または第15の観点による被覆電線が提供される。
<18> 本開示の第18の観点によれば、
 前記皮膜の外周に形成された被覆層をさらに備えており、
 前記被覆層が、含フッ素高分子化合物Yを含む粉体塗料組成物から形成される層である
第14~第17のいずれかの観点による被覆電線が提供される。
<19> 本開示の第19の観点によれば、
 前記皮膜の外周に形成された被覆層をさらに備えており、
 前記被覆層が、含フッ素高分子化合物Zの押出成形により形成される層である
第14~第17のいずれかの観点による被覆電線が提供される。
<20> 本開示の第20の観点によれば、
 含フッ素高分子化合物Yが、パーフルオロ系高分子化合物であり、
 含フッ素高分子化合物Yの比誘電率が、2.0~2.2であり、
 含フッ素高分子化合物Yの融点が、250~320℃である
第18の観点による被覆電線が提供される。
<21> 本開示の第21の観点によれば、
 含フッ素高分子化合物Yのメルトフローレートが、0.1~100g/10分である第18の観点による被覆電線が提供される。
<22> 本開示の第22の観点によれば、
 含フッ素高分子化合物Yが、官能基を有しており、官能基数が、炭素原子10個あたり、5~1000個である第18の観点による被覆電線が提供される。
<23> 本開示の第23の観点によれば、
 含フッ素高分子化合物Yが、官能基を有しており、官能基数が、炭素原子10個あたり、0~4個である第18の観点による被覆電線が提供される。
<24> 本開示の第24の観点によれば、
 基材と、前記基材を被覆する皮膜とを備えており、
 前記皮膜が、第1~第10のいずれかの観点による電着塗料組成物から形成される皮膜である
プリント基板が提供される。
<25> 本開示の第25の観点によれば、
 前記基材の形成材料が、銅、銅合金、アルミニウムおよびアルミニウム合金からなる群より選択される少なくとも1種である第24の観点によるプリント基板が提供される。
 つぎに本開示の実施形態について実施例をあげて説明するが、本開示はかかる実施例のみに限定されるものではない。
 実施例に示す諸性状は、以下の方法により測定した。
(パーフルオロ系高分子化合物X、含フッ素高分子化合物Yおよび含フッ素高分子化合物Zの官能基数)
 高分子化合物を330~340℃にて30分間溶融し、圧縮成形して、厚さ0.20~0.25mmのフィルムを作製した。このフィルムをフーリエ変換赤外分光分析装置FT-IR(商品名:1760X型、パーキンエルマー社製)により40回スキャンし、分析して赤外吸収スペクトルを得、完全にフッ素化されて官能基が存在しないベーススペクトルとの差スペクトルを得た。この差スペクトルに現れる特定の官能基の吸収ピークから、下記式(A)に従って、高分子化合物における炭素原子10個あたりの官能基数Nを算出した。
   N=I×K/t   (A)
    I:吸光度
    K:補正係数
    t:フィルムの厚さ(mm)
 参考として、本開示における官能基について、吸収周波数、モル吸光係数および補正係数を表に示す。また、モル吸光係数は低分子モデル化合物のFT-IR測定データから決定したものである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
(樹脂酸価)
 解重合性メタクリレート樹脂をキシレンとイソプロピルアルコールの混合溶剤に溶かした後、電位差滴定法により0.1mol/L水酸化カリウム・エタノール溶液で滴定して滴定曲線上の変曲点を終点とし、水酸化カリウム溶液の終点までの滴定量から算出した。
(解重合性メタクリレート樹脂の中和度)
 解重合性メタクリレート樹脂にテトラヒドロフランを加えた後、電位差滴定法により0.1mol/L塩酸溶液で当量点まで滴定し、滴定曲線上の変曲点をアミン価とした。このアミン価を酸価で除することにより、中和度を算出した。
(高分子化合物の比誘電率)
 JIS-C-2138に準拠し、23℃±2℃、相対湿度50%、周波数1KHzにて測定した。
(メルトフローレート(MFR))
 ASTM D1238に従って、メルトインデクサー(安田精機製作所社製)を用いて、372℃、5kg荷重下で、内径2.1mm、長さ8mmのノズルから10分間あたりに流出する共重合体の質量(g/10分)を求めた。
(電着塗料組成物中のアルカリ金属含有量)
 誘導結合プラズマ質量分析法により、電着塗料組成物に含まれるアルカリ金属含有量を測定した。
(皮膜の膜厚)
 ケット科学研究所社製膜厚計LZ-373により、皮膜の膜厚を測定した。目視で皮膜に割れが認められたものについては膜厚を測定せず、「割れあり」と表記した。
(皮膜の表面粗度)
 テーラーホブソン社製表面粗さ測定機サートロニックDUOIIにより、皮膜の表面粗度Raを測定した。目視で皮膜に割れが認められたものについては膜厚を測定せず、「割れあり」と表記した。
(皮膜と基材との密着強度)
 AGS-Jオートグラフ(50N)(島津製作所社製)を用いて、皮膜と基材との密着強度を測定した。長軸方向に50mm略平行に2本、その両端を短軸方向に皮膜に直角に切り込み、端を10cm剥離させ、上部チャックに挟んだ。導体は長面方向が水平になるよう下部に固定した。引張方向に装置を動かしたとき、その縦方向の移動距離に応じて横方向に連動して動く治具を用い、剥離した皮膜が常に長面方向の導体と垂直になるよう角度を調整した。30mm剥離させるまでに100mm/minで引っ張った時の引張応力を測定し、その最大点応力を密着強度とした。目視で皮膜に割れが認められたものについては密着強度を評価せず、「割れあり」と表記した。
(皮膜の比誘電率)
 HIOKI社製LCRハイテスタ3522-50を用い、静電容量を得て下記の式より比誘電率を算出した。目視で皮膜に割れが認められたものについては比誘電率を評価せず、「割れあり」と表記した。
   C=Ca+Cb
(式中、Cは皮膜の単位長さ当たりの静電容量(pf/m)で、平坦部の静電容量Caと角曲部の静電容量Cbの合成である。)
   Ca=(ε/ε)×2×(L+L)/T
   Cb=(ε/ε)×2πε/Log{(r+T)/r}/r
(式中、εは真空の誘電率、銅板の長辺L、短辺L、Tは皮膜の厚みである。)
解重合性メタクリレート樹脂Aの製造:
 窒素雰囲気下で液温70℃を保ちながら撹拌中のイソプロピルアルコール(335g)中に、モノマーとしてメタクリル酸メチル(1.44g)、n-メタクリル酸ブチル(123.13g)、メタクリル酸2-ヒドロキシエチル(13.92g)、メタクリル酸(11.51g)、重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル(1.5g)を3時間かけて滴下した。さらに、滴下終了後は液温70℃を保って撹拌を2時間継続した。こうして、樹脂酸価:50mgKOH/g、固形分:30質量%である、解重合性メタクリレート樹脂Aの溶液を得た。
解重合性メタクリレート樹脂Bの製造:
 窒素雰囲気下で液温70℃を保ちながら撹拌中のイソプロピルアルコール(335g)中に、モノマーとしてメタクリル酸メチル(7.03g)、n-メタクリル酸ブチル(122.15g)、メタクリル酸2-ヒドロキシエチル(13.92g)、メタクリル酸(6.9g)、重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル(1.5g)を3時間かけて滴下した。さらに、滴下終了後は液温70℃を保って撹拌を2時間継続した。こうして、樹脂酸価:30mgKOH/g、固形分:30質量%である、解重合性メタクリレート樹脂Bの溶液を得た。
解重合性メタクリレート樹脂Cの製造:
 窒素雰囲気下で液温70℃を保ちながら撹拌中のイソプロピルアルコール(335g)中に、モノマーとしてメタクリル酸メチル(13.67g)、n-メタクリル酸ブチル(104g)、メタクリル酸2-ヒドロキシエチル(13.92g)、メタクリル酸(18.41g)、重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル(1.5g)を3時間かけて滴下した。さらに、滴下終了後は液温70℃を保って撹拌を2時間継続した。こうして、樹脂酸価:80mgKOH/g、固形分:30質量%である、解重合性メタクリレート樹脂Cの溶液を得た。
電着塗料組成物Aの製造:
 解重合性メタクリレート樹脂Aの溶液に、中和度80%となるようにトリエチルアミンを添加して、中和された解重合性メタクリレート樹脂Aの溶液を得た。さらに撹拌しながら、パーフルオロ系高分子化合物/メタクリレート樹脂=50/50(質量%)となるようにPTFE(比誘電率:2.2、官能基数:炭素原子10個あたり18個)粒子の水分散組成物(固形分:30質量%)と純水を添加することにより転相乳化を実施し、PTFE粒子と解重合性メタクリレート樹脂Aの中和物粒子とが乳化された、固形分15質量%である電着塗料組成物Aを得た。
電着塗料組成物Bの製造:
 解重合性メタクリレート樹脂Aの溶液に、中和度80%となるようにトリエチルアミンを添加して、中和された解重合性メタクリレート樹脂Aの溶液を得た。さらに撹拌しながら、パーフルオロ系高分子化合物/メタクリレート樹脂=50/50(質量%)となるようにPFA(比誘電率:2.2、官能基数:炭素原子10個あたり220個)粒子の水分散組成物(固形分:30質量%)と純水を添加することにより転相乳化を実施し、PFA粒子と解重合性メタクリレート樹脂Aの中和物粒子とが乳化された、固形分15質量%である電着塗料組成物Bを得た。
電着塗料組成物Cの製造:
 解重合性メタクリレート樹脂Aの溶液に、中和度80%となるようにトリエチルアミンを添加して、中和された解重合性メタクリレート樹脂Aの溶液を得た。さらに撹拌しながら、パーフルオロ系高分子化合物/メタクリレート樹脂=50/50(質量%)となるようにFEP(比誘電率:2.2、官能基数:炭素原子10個あたり625個)粒子の水分散組成物(固形分:20質量%)と純水を添加することにより転相乳化を実施し、FEP粒子と解重合性メタクリレート樹脂Aの中和物粒子とが乳化された、固形分15質量%である電着塗料組成物Cを得た。
電着塗料組成物Dの製造:
 解重合性メタクリレート樹脂Aの溶液に、中和度80%となるようにトリエチルアミンを添加して、中和された解重合性メタクリレート樹脂Aの溶液を得た。さらに撹拌しながら、パーフルオロ系高分子化合物/メタクリレート樹脂=30/70(質量%)となるようにPFA(比誘電率:2.2、官能基数:炭素原子10個あたり220個)粒子の水分散組成物(固形分:30質量%)と純水を添加することにより転相乳化を実施し、PFA粒子と解重合性メタクリレート樹脂Aの中和物粒子とが乳化された、固形分15質量%である電着塗料組成物Dを得た。
電着塗料組成物Eの製造:
 解重合性メタクリレート樹脂Aの溶液に、中和度80%となるようにトリエチルアミンを添加して、中和された解重合性メタクリレート樹脂Aの溶液を得た。さらに撹拌しながら、パーフルオロ系高分子化合物/メタクリレート樹脂=70/30(質量%)となるようにPFA(比誘電率:2.2、官能基数:炭素原子10個あたり220個)粒子の水分散組成物(固形分:30質量%)と純水を添加することにより転相乳化を実施し、PFA粒子と解重合性メタクリレート樹脂Aの中和物粒子とが乳化された、固形分15質量%である電着塗料組成物Eを得た。
電着塗料組成物Fの製造:
 解重合性メタクリレート樹脂Bの溶液に、中和度80%となるようにトリエチルアミンを添加して、中和された解重合性メタクリレート樹脂Bの溶液を得た。さらに撹拌しながら、パーフルオロ系高分子化合物/メタクリレート樹脂=50/50(質量%)となるようにPFA(比誘電率:2.2、官能基数:炭素原子10個あたり220個)粒子の水分散組成物(固形分:30質量%)と純水を添加することにより転相乳化を実施し、PFA粒子と解重合性メタクリレート樹脂Bの中和物粒子とが乳化された、固形分15質量%である電着塗料組成物Fを得た。
電着塗料組成物Gの製造:
 解重合性メタクリレート樹脂Cの溶液に、中和度80%となるようにトリエチルアミンを添加して、中和された解重合性メタクリレート樹脂Cの溶液を得た。さらに撹拌しながら、パーフルオロ系高分子化合物/メタクリレート樹脂=50/50(質量%)となるようにPFA(比誘電率:2.2、官能基数:炭素原子10個あたり220個)粒子の水分散組成物(固形分:30質量%)と純水を添加することにより転相乳化を実施し、PFA粒子と解重合性メタクリレート樹脂Cの中和物粒子とが乳化された、固形分15質量%である電着塗料組成物Fを得た。
電着塗料組成物Hの製造:
 非解重合性アクリル樹脂の溶液(三井化学社製アルマテックスWA911、樹脂酸価48mgKOH/g)に、中和度80%となるようにトリエチルアミンを添加して、中和された非解重合性アクリル樹脂の溶液を得た。さらに撹拌しながら、パーフルオロ系高分子化合物/アクリル樹脂=50/50(質量%)となるようにPFA(比誘電率:2.2、官能基数:炭素原子10個あたり220個)粒子の水分散組成物(固形分:30質量%)と純水を添加することにより転相乳化を実施し、PFA粒子と非解重合性アクリル樹脂の中和物粒子とが乳化された、固形分15質量%である電着塗料組成物Hを得た。
電着塗料組成物Jの製造:
 解重合性メタクリレート樹脂粒子の水分散組成物(日本触媒社製アクリセットTF-300、固形分:40質量%、樹脂酸価0.5mgKOH/g)に、パーフルオロ系高分子化合物/メタクリレート樹脂=50/50(質量%)となるようにPTFE(比誘電率:2.2、官能基数:炭素原子10個あたり18個)粒子の水分散組成物(固形分:60質量%)と純水を混合して、固形分15質量%である電着塗料組成物Jを得た。
電着塗料組成物Kの製造:
 PTFE(比誘電率:2.2、官能基数:炭素原子10個あたり18個)粒子の水分散組成物(固形分:60質量%)20kg、イオン交換水10kg、ラウリル硫酸ナトリウム6gを加え、窒素雰囲気下で30分間撹拌し、70℃に昇温し、過硫酸アンモニウム6g、亜硫酸水素ナトリウム2gを純水20gに溶解させた液を加え、直ちにメチルメタクリレート600gを30分かけて滴下した。さらに、滴下終了後は液温70℃を保って撹拌を2時間継続し、解重合性メタクリレート樹脂D(樹脂酸価:0.4mgKOH/g)の粒子の水分散組成物を得た。次に純水を添加し、PTFE粒子と解重合性メタクリレート樹脂Dの粒子が混合された、固形分20質量%である電着塗料組成物Kを得た。
実施例1~7、比較例1~3
 電着塗料組成物A~H、J、Kを用い、液温25℃、印加電圧150V、120秒間の条件で銅板上に電着塗装を実施した。これを100℃で20分間予備乾燥を行った後に、窒素置換された無酸素雰囲気下の乾燥炉内において380℃で20分間加熱して、皮膜を得た。この皮膜の性状を評価した。
実施例8
 実施例2で得られた皮膜の上に、含フッ素高分子化合物YとしてPFA(比誘電率:2.2、官能基数:炭素原子10個あたり220個、MFR:27g/10min)の粉体塗料組成物からなる被覆層を形成し、皮膜および被覆層(表3において皮膜および被覆層を合わせて「皮膜」と表記する)の性状を評価した。
実施例9
 実施例2で得られた皮膜の上に、含フッ素高分子化合物YとしてPFA(比誘電率:2.2、官能基数:炭素原子10個あたり2個,MFR:28g/10min)の粉体塗料組成物からなる被覆層を形成し、皮膜および被覆層(表3において皮膜および被覆層を合わせて「皮膜」と表記する)の性状を評価した。
実施例10
 実施例2で得られた皮膜の上に、含フッ素高分子化合物ZとしてPFA(比誘電率:2.2、官能基数:炭素原子10個あたり55個,MFR:12g/10min)を押し出すことにより、被覆層を形成し、皮膜および被覆層(表3において皮膜および被覆層を合わせて「皮膜」と表記する)の性状を評価した。
実験例1
 電着塗料組成物Bを用い、液温25℃、印加電圧150V、120秒間の条件で銅板上に電着塗装を実施した。これを100℃で20分間予備乾燥を行った後に、外気が導入された酸素存在下の乾燥炉内において380℃で20分間加熱して、皮膜を得た。ところが、銅板の酸化が進行しており、銅板に割れが認められた。
 以上の結果を表3に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
 表3中、「同時乳化粒子」とは、メタクリレート樹脂(アクリル樹脂)および有機溶媒を含有する溶液に、パーフルオロ系高分子化合物Xおよび水を含有する水分散組成物を添加して、転相乳化させる製造方法により得られる電着塗料組成物中のパーフルオロ系高分子化合物の粒子およびメタクリレート樹脂(アクリル樹脂)の粒子を意味する。
 表3中、「混合粒子」とは、メタクリレート樹脂(アクリル樹脂)および水を含有する水分散組成物と、パーフルオロ系高分子化合物Xおよび水を含有する水分散組成物とを混合することにより得られる電着塗料組成物中のパーフルオロ系高分子化合物の粒子およびメタクリレート樹脂(アクリル樹脂)の粒子を意味する。
 表3中の各記載は次のポリマーを表しており、各ポリマーの詳細な特性は上述したとおりである。
パーフルオロ系高分子化合物X
PTFE:ポリテトラフルオロエチレン、比誘電率:2.2、官能基数:18個/C10
PFA(1):テトラフルオロエチレン/パーフルオロ(プロピルビニルエーテル)共重合体、比誘電率:2.2、官能基数:220個/C10
FEP:テトラフルオロエチレン/ヘキサフルオロプロピレン共重合体、比誘電率:2.2、官能基数:625個/C10
メタクリレート樹脂(アクリル樹脂)
メタクリレート樹脂A:解重合性メタクリレート樹脂、樹脂酸価:50mgKOH/g
メタクリレート樹脂B:解重合性メタクリレート樹脂、樹脂酸価:30mgKOH/g
メタクリレート樹脂C:解重合性メタクリレート樹脂、樹脂酸価:80mgKOH/g
アクリル樹脂E:非解重合性アクリル樹脂、三井化学社製アルマテックスWA911、樹脂酸価:48mgKOH/g
メタクリレート樹脂F:解重合性メタクリレート樹脂、日本触媒社製アクリセットTF-300、樹脂酸価:0.5mgKOH/g
メタクリレート樹脂D:解重合性メタクリレート樹脂、樹脂酸価:0.4mgKOH/g
含フッ素高分子化合物Y
PFA(3):テトラフルオロエチレン/パーフルオロ(プロピルビニルエーテル)共重合体、比誘電率:2.2、官能基数:炭素原子10個あたり220個、MFR:27g/10min
PFA(4):テトラフルオロエチレン/パーフルオロ(プロピルビニルエーテル)共重合体、比誘電率:2.2、官能基数:炭素原子10個あたり2個,MFR:28g/10min
含フッ素高分子化合物Z
PFA(5):テトラフルオロエチレン/パーフルオロ(プロピルビニルエーテル)共重合体、比誘電率:2.2、官能基数:炭素原子10個あたり55個,MFR:12g/10min
<親水基を有する含フッ素化合物の測定>
0.水性分散液または水分散組成物からの親水基を有する含フッ素化合物の抽出
 水性分散液5.0gを秤量し、メタノールを10g加え、円筒ろ紙に流しいれ、抽出溶媒としてメタノールが全量で150gになるようソックスレー抽出を行い、得られた抽出液を250mlになるようにメタノールで定容し、親水基を有する含フッ素化合物を含む抽出液を得た。
<パーフルオロエーテルカルボン酸Aの測定>
1.パーフルオロエーテルカルボン酸Aの検量線
 濃度既知のパーフルオロエーテルカルボン酸Aのメタノール標準溶液を5水準調製し、液体クロマトグラフ質量分析計(Agilent,Ultivo トリプル四重極LC-MS)を用いて測定を行った。それぞれの濃度範囲において、メタノール標準溶液濃度とピークの積分値から一次近似を用い、検量線を作成した。
測定機器構成とLC-MS測定条件
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000007
MRM測定パラメータ
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000008
2.水性分散液または水分散組成物に含まれるパーフルオロエーテルカルボン酸Aの含有量
 液体クロマトグラフ質量分析計を用い、パーフルオロエーテルカルボン酸Aを測定した。測定溶液中のパーフルオロエーテルカルボン酸A量が検量線内に収まるように、抽出液をメタノールで適宜希釈し、測定溶液を調製した。測定溶液についてMRM法を用いてパーフルオロエーテルカルボン酸Aのピーク面積を求め検量線よりパーフルオロエーテルカルボン酸Aの含有量を求めた。
<一般式(H2)で表される化合物の含有量>
 一般式(H2)で表される化合物の含有量は同じ炭素数の直鎖パーフルオロカルボン酸の検量線により求めた。
1.パーフルオロカルボン酸の検量線
 濃度既知のパーフルオロブタン酸、パーフルオロペンタン酸、パーフルオロヘキサン酸、パーフルオロヘプタン酸、パーフルオロオクタン酸、パーフルオロノナン酸、パーフルオロデカン酸、パーフルオロウンデカン酸、パーフルオロドデカン酸、パーフルオロトリデカン酸、パーフルオロテトラデカン酸のメタノール標準溶液を5水準調製し、液体クロマトグラフ質量分析計(Agilent,Ultivo トリプル四重極LC-MS)を用いて測定を行った。それぞれの濃度範囲において、メタノール標準溶液濃度とピークの積分値から一次近似を用い、検量線を作成した。
測定機器構成とLC-MS測定条件
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000009
MRM測定パラメータ
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000010
3.水性分散液または水分散組成物に含まれる一般式(H2)で表される化合物の含有量
 液体クロマトグラフ質量分析計を用い、検量線から、抽出液に含まれる炭素数nの一般式(H2)で表される化合物の含有量を測定した。抽出液について、MRM法により一般式(H2)で表される親水基を有する含フッ素化合物のピーク面積を求め、水性分散液または水分散組成物に含まれる一般式(H2)で表される親水基を有する含フッ素化合物の含有量を求めた。
MRM測定パラメータ
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000011
合成例1
 国際公開第2021/045228号の合成例1に記載された方法により、分子量1000以下であるパーフルオロエーテルカルボン酸Aの白色固体Aを得た。
製造例1
 内容量6Lの撹拌機付きSUS製反応器に、3750gの脱イオン水及び含フッ素界面活性剤として5.49gの合成例1で得られた白色固体Aを入れた。次いで、反応器の内容物を60℃まで加熱しながら、吸引すると同時にTFEでパージして反応器内の酸素を除き、内容物を攪拌した。反応器中に6.9gの塩化メチレン及び27gのパーフルオロ(プロピルビニルエーテル)(PPVE)を加えた後、1.3MPaGの圧力となるまでTFEを加えた。20gの脱イオン水に溶解した990mgの過硫酸アンモニウム(APS)開始剤を反応器に注入した。開始剤の注入後に圧力の低下が起こり、重合の開始が観測された。反応器にTFEを加えて、圧力を1.3MPaG一定となるように保った。重合開始後、100gのTFEに対して4gのPPVEとなるように連続的に加えた。反応で消費したTFEが約1600gに達した時点でTFEの供給を止め、撹拌を停止して反応を終了した。その後、反応器内の圧力が常圧になるまで排気し、テトラフルオロエチレン/パーフルオロ(プロピルビニルエーテル)共重合体(PFA)水性分散液を得た。
調製例1
 製造例1で得られたPFA水性分散液を別の反応器内に入れ、反応器の内容物を80℃まで加熱し、ラジカル発生剤として、30.3gの過硫酸アンモニウム(重合に用いた含フッ素界面活性剤のモル量に対して、10モル倍の量)を添加した。その後、80℃のまま3時間保持し、熱処理されたPFAを含有する水分散組成物を得た。
 次に、製造例1で得られた水性分散液または調製例1で得られた水分散組成物を含有する電着塗料組成物の実施形態について実施例をあげて説明する。
電着塗料組成物Bの製造:
 解重合性メタクリレート樹脂Aの溶液に、中和度80%となるようにトリエチルアミンを添加して、中和された解重合性メタクリレート樹脂Aの溶液を得た。さらに攪拌しながら、パーフルオロ系高分子化合物/メタクリレート樹脂=50/50(質量%)となるように、調製例1で得られた水性分散液(PFAの比誘電率:2.2、PFAの官能基数:炭素原子10個あたり220個、PFAに対する親水基を有する含フッ素化合物の含有量:42質量ppb、固形分:30質量%)と純水を添加することにより転相乳化を実施し、PFA粒子と解重合性メタクリレート樹脂Aの中和物粒子とが乳化された、固形分15質量%である電着塗料組成物Bを得た。
電着塗料組成物Lの製造:
 解重合性メタクリレート樹脂Aの溶液に、中和度80%となるようにトリエチルアミンを添加して、中和された解重合性メタクリレート樹脂Aの溶液を得た。さらに攪拌しながら、パーフルオロ系高分子化合物/メタクリレート樹脂=50/50(質量%)となるように製造例1で得られた水性分散液(PFAの比誘電率:2.2、PFAの官能基数:炭素原子10個あたり220個、PFAに対する親水基を有する含フッ素化合物の含有量:551質量ppb、固形分:30質量%)と純水を添加することにより転相乳化を実施し、PFA粒子と解重合性メタクリレート樹脂Aの中和物粒子とが乳化された、固形分15質量%である電着塗料組成物Lを得た。
実施例11、実験例2
 電着塗料組成物B(実施例11)、電着塗料組成物L(実験例2)を用い、液温25℃、印加電圧150V、120秒間の条件で銅板上に電着塗装を実施した。これを100℃で20分間予備乾燥を行った後に、窒素置換された無酸素雰囲気下の乾燥炉内において380℃で20分間加熱して、皮膜を得た。この皮膜について、以下の要領で接触角と摩擦係数を測定した。
<接触角>
 協和界面科学社製接触角計CA-DT型を用い、水、および、n-セタンに対する接触角を測定した。
<摩擦係数>
 新東科学社製表面性試験機HEIDON Type38を用い、(ボール圧子)を荷重(1kg)で押し当て、600mm/分の速度で移動させた際の静摩擦係数と動摩擦係数を測定した。
 以上の結果を表9に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000012

Claims (25)

  1.  パーフルオロ系高分子化合物Xおよびメタクリレート樹脂の中和物を含有する電着塗料組成物であって、
     前記パーフルオロ系高分子化合物Xの比誘電率が、2.0~2.2であり、
     前記メタクリレート樹脂の酸価が、10mgKOH/g以上であり、
     前記電着塗料組成物の固形分濃度が、10~70質量%である
    電着塗料組成物。
  2.  パーフルオロ系高分子化合物Xおよびメタクリレート樹脂の中和物を含有する電着塗料組成物であって、
     前記パーフルオロ系高分子化合物Xが、テトラフルオロエチレン/フルオロアルキルビニルエーテル共重合体であり、
     前記メタクリレート樹脂の酸価が、10mgKOH/g以上であり、
     前記電着塗料組成物の固形分濃度が、10~70質量%である
    電着塗料組成物。
  3.  親水基を有する含フッ素化合物の含有量が、前記パーフルオロ系高分子化合物Xに対して、50質量ppb以下である請求項1または2に記載の電着塗料組成物。
  4.  水をさらに含有する請求項1~3のいずれかに記載の電着塗料組成物。
  5.  前記メタクリレート樹脂の中和物および有機溶媒を含有する溶液に、前記パーフルオロ系高分子化合物Xおよび水を含有する水分散組成物を添加して、転相乳化させる製造方法により得られる請求項1~4のいずれかに記載の電着塗料組成物。
  6.  前記メタクリレート樹脂が、カルボキシル基を有しており、前記メタクリレート樹脂の中和物が、カルボキシ基を有する前記メタクリレート樹脂を、アミン化合物により中和することにより得られる中和物である請求項1~5のいずれかに記載の電着塗料組成物。
  7.  前記メタクリレート樹脂の中和物の中和度が、50%以上である請求項1~6のいずれかに記載の電着塗料組成物。
  8.  前記パーフルオロ系高分子化合物Xが、官能基を有しており、前記パーフルオロ系高分子化合物Xの官能基数が、炭素原子10個あたり、5~2000個である請求項1~7のいずれかに記載の電着塗料組成物。
  9.  アルカリ金属含有量が、1質量ppm未満である請求項1~8のいずれかに記載の電着塗料組成物。
  10.  前記パーフルオロ系高分子化合物Xと前記メタクリレート樹脂の中和物との質量比が、10/90~90/10である請求項1~9のいずれかに記載の電着塗料組成物。
  11.  請求項1~10のいずれかに記載の電着塗料組成物から形成される皮膜。
  12.  基材と、前記基材を被覆する皮膜とを備えており、
     前記皮膜が、請求項1~10のいずれかに記載の電着塗料組成物から形成される皮膜である
    被覆物品。
  13.  前記基材の形成材料が、銅、銅合金、アルミニウムおよびアルミニウム合金からなる群より選択される少なくとも1種である請求項12に記載の被覆物品。
  14.  平角電線基材と、前記平角電線基材の外周に形成された皮膜とを備えており、
     前記皮膜が、請求項1~10のいずれかに記載の電着塗料組成物から形成される皮膜である
    被覆電線。
  15.  前記平角電線基材の形成材料が、銅、銅合金、アルミニウムおよびアルミニウム合金からなる群より選択される少なくとも1種である請求項14に記載の被覆電線。
  16.  曲げ部を有する請求項14または15に記載の被覆電線。
  17.  長尺電線である請求項14または15に記載の被覆電線。
  18.  前記皮膜の外周に形成された被覆層をさらに備えており、
     前記被覆層が、含フッ素高分子化合物Yを含む粉体塗料組成物から形成される層である
    請求項14~17のいずれかに記載の被覆電線。
  19.  前記皮膜の外周に形成された被覆層をさらに備えており、
     前記被覆層が、含フッ素高分子化合物Zの押出成形により形成される層である
    請求項14~17のいずれかに記載の被覆電線。
  20.  含フッ素高分子化合物Yが、パーフルオロ系高分子化合物であり、
     含フッ素高分子化合物Yの比誘電率が、2.0~2.2であり、
     含フッ素高分子化合物Yの融点が、250~320℃である
    請求項18に記載の被覆電線。
  21.  含フッ素高分子化合物Yのメルトフローレートが、0.1~100g/10分である請求項18に記載の被覆電線。
  22.  含フッ素高分子化合物Yが、官能基を有しており、官能基数が、炭素原子10個あたり、5~1000個である請求項18に記載の被覆電線。
  23.  含フッ素高分子化合物Yが、官能基を有しており、官能基数が、炭素原子10個あたり、0~4個である請求項18に記載の被覆電線。
  24.  基材と、前記基材を被覆する皮膜とを備えており、
     前記皮膜が、請求項1~10のいずれかに記載の電着塗料組成物から形成される皮膜である
    プリント基板。
  25.  前記基材の形成材料が、銅、銅合金、アルミニウムおよびアルミニウム合金からなる群より選択される少なくとも1種である請求項24に記載のプリント基板。
PCT/JP2023/039665 2022-11-02 2023-11-02 電着塗料組成物、皮膜、被覆物品、被覆電線およびプリント基板 Ceased WO2024096106A1 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202380089887.3A CN120457176A (zh) 2022-11-02 2023-11-02 电沉积涂料组合物、被膜、被覆制品、被覆电线和印刷基板
EP23885860.9A EP4600318A4 (en) 2022-11-02 2023-11-02 Electrodeposition coating composition, film, coated article, coated wire and printed circuit board
US19/194,687 US20250270727A1 (en) 2022-11-02 2025-04-30 Electrodeposition coating composition, coating, coated article, coated electric wire and printed board

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2022-176619 2022-11-02
JP2022176619 2022-11-02

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
US19/194,687 Continuation US20250270727A1 (en) 2022-11-02 2025-04-30 Electrodeposition coating composition, coating, coated article, coated electric wire and printed board

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2024096106A1 true WO2024096106A1 (ja) 2024-05-10

Family

ID=90930660

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2023/039665 Ceased WO2024096106A1 (ja) 2022-11-02 2023-11-02 電着塗料組成物、皮膜、被覆物品、被覆電線およびプリント基板

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20250270727A1 (ja)
EP (1) EP4600318A4 (ja)
JP (1) JP7495652B2 (ja)
CN (1) CN120457176A (ja)
TW (1) TW202432741A (ja)
WO (1) WO2024096106A1 (ja)

Citations (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3250808A (en) 1963-10-31 1966-05-10 Du Pont Fluorocarbon ethers derived from hexafluoropropylene epoxide
US3271341A (en) 1961-08-07 1966-09-06 Du Pont Aqueous colloidal dispersions of polymer
JPS6142822A (ja) 1984-08-06 1986-03-01 三菱電機株式会社 低誘電率銅張り絶縁皮膜の製造方法
JP2002298674A (ja) 2001-03-29 2002-10-11 Mitsubishi Cable Ind Ltd 絶縁電線の製造方法および絶縁電線
JP2003119204A (ja) 2001-10-05 2003-04-23 Daikin Ind Ltd 含フッ素重合体ラテックスの製造方法
WO2005042593A1 (ja) 2003-10-31 2005-05-12 Daikin Industries, Ltd. 含フッ素重合体水性分散体の製造方法及び含フッ素重合体水性分散体
JP2006152234A (ja) 2004-10-28 2006-06-15 Asahi Glass Co Ltd 含フッ素共重合体及びその用途
US20070015864A1 (en) 2005-07-15 2007-01-18 3M Innovative Properties Company Method of making fluoropolymer dispersion
US20070015866A1 (en) 2005-07-15 2007-01-18 3M Innovative Properties Company Aqueous emulsion polymerization of fluorinated monomers using a fluorinated surfactant
US20070015865A1 (en) 2005-07-15 2007-01-18 3M Innovative Properties Company Aqueous emulsion polymerization of fluorinated monomers using a perfluoropolyether surfactant
WO2007046377A1 (ja) 2005-10-20 2007-04-26 Asahi Glass Company, Limited 溶融成形可能なフッ素樹脂の製造方法
WO2007046482A1 (ja) 2005-10-20 2007-04-26 Asahi Glass Company, Limited ポリテトラフルオロエチレン水性分散液およびその製品
WO2007046345A1 (ja) 2005-10-17 2007-04-26 Asahi Glass Company, Limited ポリテトラフルオロエチレン水性乳化液、それから得られるポリテトラフルオロエチレンファインパウダーおよび多孔体
JP2007119526A (ja) 2005-10-25 2007-05-17 Asahi Glass Co Ltd 含フッ素重合体の製造方法
US20070117914A1 (en) 2005-11-24 2007-05-24 3M Innovative Properties Company Fluorinated surfactants for use in making a fluoropolymer
US20070142541A1 (en) 2005-12-21 2007-06-21 3M Innovative Properties Company Fluorinated surfactants for making fluoropolymers
US20070276103A1 (en) 2006-05-25 2007-11-29 3M Innovative Properties Company Fluorinated Surfactants
US20080015319A1 (en) 2006-07-13 2008-01-17 Klaus Hintzer Explosion taming surfactants for the production of perfluoropolymers
WO2008060461A1 (en) 2006-11-09 2008-05-22 E. I. Du Pont De Nemours And Company Aqueous polymerization of fluorinated monomer using polymerization agent comprising fluoropolyether acid or salt and short chain fluorosurfactant
WO2013189826A1 (en) 2012-06-20 2013-12-27 Solvay Specialty Polymers Italy S.P.A. Tetrafluoroethylene copolymers
WO2013189824A1 (en) 2012-06-20 2013-12-27 Solvay Specialty Polymers Italy S.P.A. Tetrafluoroethylene copolymers
US20140228531A1 (en) 2008-07-08 2014-08-14 Solvay Solexis S.P.A. Method for manufacturing fluoropolymers
WO2017122743A1 (ja) 2016-01-14 2017-07-20 旭硝子株式会社 硬化性組成物、硬化物、プリプレグおよび繊維強化成形品
JP2017179209A (ja) * 2016-03-31 2017-10-05 株式会社Lixil フッ素樹脂含有電着塗料
WO2019161153A1 (en) 2018-02-15 2019-08-22 3M Innovative Properties Company Fluoropolymers, fluoropolymer compositions and fluoropolymer dispersions
WO2021045228A1 (ja) 2019-09-05 2021-03-11 ダイキン工業株式会社 ポリテトラフルオロエチレン水性分散液
WO2022050430A1 (ja) * 2020-09-07 2022-03-10 ダイキン工業株式会社 変性ポリテトラフルオロエチレン水性分散液
JP2022108653A (ja) * 2021-01-13 2022-07-26 三菱マテリアル株式会社 電着液、絶縁皮膜の製造方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3902981A (en) * 1971-05-11 1975-09-02 Du Pont Process for electrophoretic deposition
JPS6187765A (ja) * 1984-10-06 1986-05-06 Kansai Paint Co Ltd 高耐候性電着塗料組成物

Patent Citations (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3271341A (en) 1961-08-07 1966-09-06 Du Pont Aqueous colloidal dispersions of polymer
US3250808A (en) 1963-10-31 1966-05-10 Du Pont Fluorocarbon ethers derived from hexafluoropropylene epoxide
JPS6142822A (ja) 1984-08-06 1986-03-01 三菱電機株式会社 低誘電率銅張り絶縁皮膜の製造方法
JP2002298674A (ja) 2001-03-29 2002-10-11 Mitsubishi Cable Ind Ltd 絶縁電線の製造方法および絶縁電線
JP2003119204A (ja) 2001-10-05 2003-04-23 Daikin Ind Ltd 含フッ素重合体ラテックスの製造方法
WO2005042593A1 (ja) 2003-10-31 2005-05-12 Daikin Industries, Ltd. 含フッ素重合体水性分散体の製造方法及び含フッ素重合体水性分散体
JP2006152234A (ja) 2004-10-28 2006-06-15 Asahi Glass Co Ltd 含フッ素共重合体及びその用途
US20070015864A1 (en) 2005-07-15 2007-01-18 3M Innovative Properties Company Method of making fluoropolymer dispersion
US20070015866A1 (en) 2005-07-15 2007-01-18 3M Innovative Properties Company Aqueous emulsion polymerization of fluorinated monomers using a fluorinated surfactant
US20070015865A1 (en) 2005-07-15 2007-01-18 3M Innovative Properties Company Aqueous emulsion polymerization of fluorinated monomers using a perfluoropolyether surfactant
WO2007046345A1 (ja) 2005-10-17 2007-04-26 Asahi Glass Company, Limited ポリテトラフルオロエチレン水性乳化液、それから得られるポリテトラフルオロエチレンファインパウダーおよび多孔体
WO2007046377A1 (ja) 2005-10-20 2007-04-26 Asahi Glass Company, Limited 溶融成形可能なフッ素樹脂の製造方法
WO2007046482A1 (ja) 2005-10-20 2007-04-26 Asahi Glass Company, Limited ポリテトラフルオロエチレン水性分散液およびその製品
JP2007119526A (ja) 2005-10-25 2007-05-17 Asahi Glass Co Ltd 含フッ素重合体の製造方法
US20070117914A1 (en) 2005-11-24 2007-05-24 3M Innovative Properties Company Fluorinated surfactants for use in making a fluoropolymer
US20070142541A1 (en) 2005-12-21 2007-06-21 3M Innovative Properties Company Fluorinated surfactants for making fluoropolymers
US20070276103A1 (en) 2006-05-25 2007-11-29 3M Innovative Properties Company Fluorinated Surfactants
US20080015319A1 (en) 2006-07-13 2008-01-17 Klaus Hintzer Explosion taming surfactants for the production of perfluoropolymers
WO2008060461A1 (en) 2006-11-09 2008-05-22 E. I. Du Pont De Nemours And Company Aqueous polymerization of fluorinated monomer using polymerization agent comprising fluoropolyether acid or salt and short chain fluorosurfactant
US20140228531A1 (en) 2008-07-08 2014-08-14 Solvay Solexis S.P.A. Method for manufacturing fluoropolymers
WO2013189824A1 (en) 2012-06-20 2013-12-27 Solvay Specialty Polymers Italy S.P.A. Tetrafluoroethylene copolymers
WO2013189826A1 (en) 2012-06-20 2013-12-27 Solvay Specialty Polymers Italy S.P.A. Tetrafluoroethylene copolymers
WO2017122743A1 (ja) 2016-01-14 2017-07-20 旭硝子株式会社 硬化性組成物、硬化物、プリプレグおよび繊維強化成形品
JP2017179209A (ja) * 2016-03-31 2017-10-05 株式会社Lixil フッ素樹脂含有電着塗料
WO2019161153A1 (en) 2018-02-15 2019-08-22 3M Innovative Properties Company Fluoropolymers, fluoropolymer compositions and fluoropolymer dispersions
WO2021045228A1 (ja) 2019-09-05 2021-03-11 ダイキン工業株式会社 ポリテトラフルオロエチレン水性分散液
WO2022050430A1 (ja) * 2020-09-07 2022-03-10 ダイキン工業株式会社 変性ポリテトラフルオロエチレン水性分散液
JP2022108653A (ja) * 2021-01-13 2022-07-26 三菱マテリアル株式会社 電着液、絶縁皮膜の製造方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP4600318A4

Also Published As

Publication number Publication date
JP2024067024A (ja) 2024-05-16
EP4600318A4 (en) 2026-03-11
EP4600318A1 (en) 2025-08-13
CN120457176A (zh) 2025-08-08
TW202432741A (zh) 2024-08-16
US20250270727A1 (en) 2025-08-28
JP7495652B2 (ja) 2024-06-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7177377B2 (ja) 含フッ素共重合体
JP5757862B2 (ja) フルオロポリエーテル酸またはその塩の混合物を使用するフッ素化モノマーの水性重合
JP5217090B2 (ja) テトラフルオロエチレン重合体水性分散液、その製造方法、テトラフルオロエチレン重合体粉末及びテトラフルオロエチレン重合体成形体
JP5397424B2 (ja) 含フッ素重合体水性分散体の製造方法及び含フッ素重合体水性分散体
EP2927247B1 (en) Polytetrafluoroethylene aqueous dispersion, and polytetrafluoroethylene fine powder
US8796370B2 (en) Coating composition
JP5958467B2 (ja) 含フッ素共重合体組成物
JP5445583B2 (ja) エチレン/テトラフルオロエチレン共重合体、電線及び回転成形用フッ素樹脂粉末
JP2010235667A (ja) 含フッ素ポリマーの製造方法
WO2004094491A1 (en) Melt-processible thermoplastic fluoropolymers having improved processing characteristics and method of producing same
JP7265210B2 (ja) 含フッ素共重合体
JP2023103270A (ja) 含フッ素共重合体
JP2022132229A (ja) 含フッ素共重合体
JP7495652B2 (ja) 電着塗料組成物、皮膜、被覆物品、被覆電線およびプリント基板
JP7397390B1 (ja) 組成物、射出成形体、粉体塗料および被覆電線
JP7121326B1 (ja) 含フッ素共重合体
JP2012513474A (ja) エチレン−テトラフルオロエチレンカルボン酸および塩
JP7074998B2 (ja) エチレン/テトラフルオロエチレン共重合体
JP7381981B1 (ja) 含フッ素共重合体
WO2024024914A1 (ja) フルオロポリマーの粒子を含有する粉体およびその製造方法、粉体塗料並びに液状塗料組成物
WO2023171777A1 (ja) 塗料組成物、皮膜、積層皮膜、及び、塗装物品
JP2026050216A (ja) 被覆金属線
JP2024102463A (ja) フッ素樹脂組成物、塗料組成物、塗装物品およびシート状組成物

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 23885860

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2023885860

Country of ref document: EP

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2023885860

Country of ref document: EP

Effective date: 20250509

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 202380089887.3

Country of ref document: CN

WWP Wipo information: published in national office

Ref document number: 202380089887.3

Country of ref document: CN

WWP Wipo information: published in national office

Ref document number: 2023885860

Country of ref document: EP