WO2024106459A1

WO2024106459A1 - 投映像表示用積層フィルム、投映像表示用合わせガラス、投映像表示システム

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Publication number: WO2024106459A1
Application number: PCT/JP2023/041065
Authority: WO
Inventors: 啓吾植木; 真内村; 昭裕安西; 晋也渡邉
Original assignee: Fujifilm Corp
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2022-11-17
Filing date: 2023-11-15
Publication date: 2024-05-23
Anticipated expiration: 2025-05-17
Also published as: JPWO2024106459A1; EP4621474A4; EP4621474A1; CN120112834A; US20250277975A1

Abstract

本発明は、２枚のガラス基板で挟んで投映像表示用合わせガラスとした場合に、投映像表示用合わせガラスの耐衝撃性に優れ、投映像表示用合わせガラスに投映される画像の視認性に優れる、投映像表示用積層フィルム、投映像表示用合わせガラス、および、投映像表示システムを提供する。本発明の投映像表示用積層フィルムは、支持体と、支持体の一方の表面側に配置される、選択反射層と、支持体の他方の表面側に配置される、ヒートシール層とを有し、ヒートシール層の平均厚みが５μｍ以上であり、ヒートシール層の支持体側とは反対側の表面が所定の特性を示す、投映像表示用積層フィルム。

Description

投映像表示用積層フィルム、投映像表示用合わせガラス、投映像表示システム

　本発明は、投映像表示用積層フィルム、投映像表示用合わせガラス、および、投映像表示システムに関する。

　自動車のウインドシールドなどに使用される合わせガラスにハーフミラーフィルム（反射フィルム）を内蔵することにより、ハーフミラーフィルム（合わせガラス）をヘッドアップディスプレイシステムなどの投映像表示システムに利用できる。
　特許文献１では、投映像表示用装置に好適に用いられる、投映像表示用積層フィルムが開示されている。なお、上記投映像表示用積層フィルムは、２枚のガラス基板で挟まれて、投映像表示用合わせガラスとして用いられる。

国際公開第２０２０／１７９７８７号

　一方で、上記のような投映像表示用積層フィルムを用いて得られる投映像表示用合わせガラスにおいては、更なる性能の向上が求められている。
　例えば、自動車への応用の点からは、投映像表示用合わせガラスは耐衝撃性に優れることが求められる。
　さらに、投映像表示用合わせガラスには、歪みのない投映像の投映が可能であることが求められている。

　本発明者らは特許文献１に記載の投映像表示用積層フィルムについて検討したところ、この投映像表示用積層フィルムを含む投映像表示用合わせガラスに関しては、上述した特性の両立ができず、更なる改良が必要であることが分かった。

　本発明は、２枚のガラス基板で挟んで投映像表示用合わせガラスとした場合に、投映像表示用合わせガラスの耐衝撃性に優れ、投映像表示用合わせガラスに投映される画像の視認性に優れる、投映像表示用積層フィルムを提供することを課題とする。
　また、本発明は、投映像表示用合わせガラス、および、投映像表示システムを提供することも課題とする。

　本発明者らは、以下の構成により上記課題を解決できることを見出した。

（１）　支持体と、
　支持体の一方の表面側に配置される、選択反射層と、
　支持体の他方の表面側に配置される、ヒートシール層とを、有し、
　ヒートシール層の平均厚みが５μｍ以上であり、
　ヒートシール層の支持体側とは反対側の表面の異なる３箇所の位置における縦３７００μｍ×横４９００μｍの視野範囲での算術平均高さＳａを測定して、各箇所における算術平均高さＳａの平均値Ａが４０ｎｍ以下であり、
　ヒートシール層の支持体側とは反対側の表面の異なる３箇所の位置における縦１８０μｍ×横２４０μｍの視野範囲での算術平均高さＳａを測定して、各箇所における算術平均高さＳａの平均値Ｂが７ｎｍ以上である、投映像表示用積層フィルム。
（２）　ヒートシール層の支持体側とは反対側の表面の水接触角が９０°以下である、（１）に記載の投映像表示用積層フィルム。
（３）　ヒートシール層がポリビニルアセタール樹脂を含む、（１）または（２）に記載の投映像表示用積層フィルム。
（４）　ヒートシール層がシリカ粒子を含み、
　シリカ粒子の含有量が、ヒートシール層全質量に対して、１質量％以上である、（１）～（３）のいずれかに記載の投映像表示用積層フィルム。
（５）　シリカ粒子の含有量が、ヒートシール層全質量に対して、７質量％以上である、（４）に記載の投映像表示用積層フィルム。
（６）　２枚のガラス基板と、
　２枚のガラス基板の間に配置された、（１）～（５）のいずれかに記載の投映像表示用積層フィルムとを含む、投映像表示用合わせガラス。
（７）　（６）に記載の投映像表示用合わせガラスと、投映像表示用合わせガラスに投映光を出射するプロジェクターとを含む、投映像表示システム。

　本発明によれば、２枚のガラス基板で挟んで投映像表示用合わせガラスとした場合に、投映像表示用合わせガラスの耐衝撃性に優れ、投映像表示用合わせガラスに投映される画像の視認性に優れる、投映像表示用積層フィルムを提供できる。
　また、本発明によれば、投映像表示用合わせガラス、および、投映像表示システムを提供できる。

平均値Ａが本発明の範囲より大きい投映像表示用積層フィルムの一例を示す図である。平均値Ａが本発明の範囲より大きい投映像表示用積層フィルムをガラス基板に貼合して得られる積層体を示す図である。本発明の投映像表示用積層フィルムの一例を示す図である。本発明の投映像表示用合わせガラスの一例を示す図である。本発明の投映像表示システムの一例を示す図である。

　以下、本発明について詳細に説明する。
　以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
　なお、本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。

　また、本明細書において、角度（例えば「９０°」等の角度）、および、その関係（例えば、「平行」、「水平」、「鉛直」等）については、本発明が属する技術分野において許容される誤差の範囲を含むものとする。例えば、厳密な角度±１０°未満の範囲内であることなどを意味し、厳密な角度との誤差は、５°以下であることが好ましく、３°以下であることがより好ましい。

　本明細書において、円偏光につき「選択的」というときは、光の右円偏光成分および左円偏光成分のいずれかの光量が、他方の円偏光成分よりも多いことを意味する。具体的には「選択的」というとき、光の円偏光度は、０．３以上が好ましく、０．６以上がより好ましく、０．８以上がさらに好ましい。実質的に１．０であることが特に好ましい。ここで、円偏光度とは、光の右円偏光成分の強度をＩＲ、左円偏光成分の強度をＩＬとしたとき、｜ＩＲ－ＩＬ｜／（ＩＲ＋ＩＬ）で表される値である。

　本明細書において、円偏光につき「センス」というときは、右円偏光であるか、または左円偏光であるかを意味する。円偏光のセンスは、光が手前に向かって進んでくるように眺めた場合に電場ベクトルの先端が時間の増加に従って時計回りに回る場合が右円偏光であり、反時計回りに回る場合が左円偏光であるとして定義される。

　本明細書においては、コレステリック液晶の螺旋の捩れ方向について「センス」との用語を用いることもある。コレステリック液晶の螺旋の捩れ方向（センス）が右の場合は右円偏光を反射し、左円偏光を透過し、センスが左の場合は左円偏光を反射し、右円偏光を透過する。

　本明細書において、「光」という場合、特に断らない限り、可視光かつ自然光（非偏光）の光を意味する。可視光線は電磁波のうち、ヒトの目で見える波長の光であり、通常、３８０～７８０ｎｍの波長域の光を示す。
　本明細書において、単に「反射光」または「透過光」というときは、散乱光および回折光を含む意味で用いられる。

　なお、光の各波長の偏光状態は、円偏光板を装着した分光放射輝度計またはスペクトルメータを用いて測定することができる。この場合、右円偏光板を通して測定した光の強度がＩＲ、左円偏光板を通して測定した光の強度がＩＬに相当する。また、照度計または光スペクトルメータに円偏光板を取り付けても測定きる。右円偏光透過板をつけ、右円偏光量を測定し、左円偏光透過板をつけ、左円偏光量を測定することにより、比率を測定できる。

　本明細書において、ｐ偏光は光の入射面に平行な方向に振動する偏光を意味する。入射面は反射面（合わせガラス表面など）に垂直で入射光線と反射光線とを含む面を意味する。ｐ偏光は電場ベクトルの振動面が入射面に平行である。

　本明細書において、正面位相差（面内レタデーション）は、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製のＡｘｏＳｃａｎを用いて測定した値である。測定波長は特に言及のないときは、５５０ｎｍとする。

　本明細書において、「投映像（projection image）」は、前方などの周囲の風景ではない、使用するプロジェクターからの光の投射に基づく映像を意味する。投映像は、観察者から見てウインドシールドガラスの投映像表示部位の先に浮かび上がって見える虚像として観測される。
　本明細書において、「画像（screen image）」は画像表示装置（イメージャー）に表示される像または、画像表示装置により中間像スクリーン等に描画される像を意味する。虚像に対して、画像は実像である。
　画像および投映像は、いずれも単色の像であっても、２色以上の多色の像であっても、フルカラーの像であってもよい。

　本発明の投映像表示用積層フィルムの特徴点としては、ヒートシール層の支持体側とは反対側の表面が所定の粗さを示すこと、および、ヒートシール層が所定の厚みを有することが挙げられる。
　後述する算術平均高さＳａの平均値Ａは、広い観察視野において測定される算術平均高さＳａの平均値であり、ヒートシール層の表面の大きな周期な凹凸構造の高さの程度を表す。図１および２を用いて、平均値Ａが本発明の範囲より大きい投映像表示用積層フィルムをガラス基板に貼り付けた場合について説明する。図１に示す投映像表示用積層フィルム１００は、支持体１０２と、支持体１０２の一方の表面上に配置された選択反射層１０４と、支持体１０２の他方の表面上に配置されたヒートシール層１０６とを含む。ヒートシール層１０６の支持体１０２側とは反対側の表面１０６Ａは、平均値Ａが大きく、図に示すような周期の大きな凹凸構造を有する。図２は、このような投映像表示用積層フィルム１００をガラス基板１０８に貼り合わせた際の図である。図２に示すように、図１に示すヒートシール層１０６の表面１０６Ａ側でガラス基板１０８と貼り合わせると、表面１０６Ａにあった凹凸構造が反対側の表面（ヒートシール層１０６の支持体１０２側の表面）に転写され、結果として選択反射層１０４の表面にもその凹凸構造が転写される。選択反射層１０４の表面がこのような凹凸構造を有すると、投映像の歪みなどにつながる。本発明では、上記のような問題が生じないように、平均値Ａを所定値以下となるように調整している。
　また、後述する算術平均高さＳの平均値Ｂは、狭い観察視野における測定される算術平均高さＳａの平均値であり、ヒートシール層の表面の小さな周期な凹凸構造の高さの程度を表す。平均値Ｂが所定値以上であるヒートシール層とガラス基板とを貼り合わせると、その凹凸構造によって貼合時においてガラス基板とヒートシール層との間に小さな空隙が生じる。このような空隙は、貼合時にガラス基板とヒートシール層との間に含まれる空気（エア）の抜け道となり、結果として、ガラス基板とヒートシール層との間に気泡が存在しにくくなり、投映像の視認性が向上する。本発明では、上記のような効果が得られるように、平均値Ｂを所定値以上となるように調整している。
　さらに、本発明においては、ヒートシール層を所定厚み以上とすることにより、投映像表示用積層フィルムを用いて得られる投映像表示用合わせガラスの耐衝撃性を向上させている。

　図３に、本発明の投映像表示用積層フィルムの一例の概略図を示す。
　図３に示す投映像表示用積層フィルム１０Ａは、支持体１２と、支持体１２の一方の表面上に配置された選択反射層１４と、支持体１２の他方の表面上に配置されたヒートシール層１６とを含む。ヒートシール層１６の支持体１２側とは反対側の表面は、後述する平均値Ａおよび平均値Ｂの要件を満たす。
　以下では、まず、本発明の特徴点である平均値Ａおよび平均値Ｂ、並びに、ヒートシール層の厚みについて詳述する。
　なお、平均値Ａおよび平均値Ｂは観察領域の範囲が異なる測定条件にて得られる値であり、上述したように、平均値Ａはヒートシール層の表面のうねりのような大きな凹凸構造の高さを表し、平均値Ｂはヒートシール層の表面のうねりの一部の範囲におけるより微小な凹凸構造の高さを表す。

　平均値Ａを算出する際には、まず、投映像表示用積層フィルムのヒートシール層の支持体側とは反対側の表面の算術平均高さＳａを算出する。より具体的には、投映像表示用積層フィルムのヒートシール層表面の異なる３箇所について、Ｖｅｒｔｓｃａｎ２．０（株式会社菱化システム社製）を用い、視野サイズ（縦３７００μｍ×横４９００μｍ）での範囲における算術平均高さＳａを測定する。なお、上記測定の際の諸条件は以下の通りである。
レンズ倍率：×２．５
鏡筒倍率：×０．５
モード：Ｗａｖｅモード
　上記測定によって算出された３箇所における算術平均高さＳａの平均値（算術平均値）を算出し、得られた値を平均値Ａとする。
　平均値Ａは、４０ｎｍ以下である。なかでも、２枚のガラス基板と投映像表示用積層フィルムとを用いて得られる投映像表示用合わせガラスに投映される画像の視認性がより優れる点で、平均値Ａは、３０ｎｍ以下が好ましく、２０ｎｍ以下がより好ましい。下限は特に制限されないが、１ｎｍ以上が挙げられ、５ｎｍ以上の場合が多い。

　平均値Ｂを算出する際には、まず、投映像表示用積層フィルムのヒートシール層の支持体側とは反対側の表面の算術平均高さＳａを算出する。より具体的には、投映像表示用積層フィルムのヒートシール層表面の異なる３箇所について、Ｖｅｒｔｓｃａｎ２．０（株式会社菱化システム社製）を用い、視野サイズ（縦１８０μｍ×横２４０μｍ）での範囲における算術平均高さＳａを測定する。なお、上記測定の際の諸条件は以下の通りである。
レンズ倍率：×５０
鏡筒倍率：×０．５
モード：Ｗａｖｅモード
　上記測定によって算出された３箇所における算術平均高さＳａの平均値（算術平均値）を算出し、得られた値を平均値Ｂとする。
　平均値Ｂは、７ｎｍ以上である。なかでも、２枚のガラス基板と投映像表示用積層フィルムとを用いて得られる投映像表示用合わせガラスに投映される画像の視認性がより優れる点で、平均値Ｂは、１５ｎｍ以上が好ましく、２０ｎｍ以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、４０ｎｍ以下が挙げられ、３０ｎｍ以下の場合が多い。

　ヒートシール層の平均厚みは、５μｍ以上であり、２枚のガラス基板と投映像表示用積層フィルムとを用いて得られる投映像表示用合わせガラスの耐衝撃性がより優れる点で、７μｍ以上が好ましく、９μｍ以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、薄膜化の点から、２０μｍ以下が好ましく、１５μｍ以下がより好ましい。
　上記平均厚みの測定方法としては、ヒートシール層をミクロトームで切削して断面を切り出し、断面をＳＥＭ（Scanning Electron Microscope、走査型電子顕微鏡）を用いて観察し、ヒートシール層の異なる３箇所の位置における厚みを測定して、その測定値の平均値（算術平均値）を算出し、平均厚みとする。

　なお、ヒートシール層は、単層構造であってもよいし、２層以上の複層構造であってもよい。
　ヒートシール層が複層構造である場合、ヒートシール層の合計厚みの平均値が、上記範囲であればよい。つまり、ヒートシール層が、ヒートシール層１とヒートシール層２との２層から構成される場合、ヒートシール層１とヒートシール層２との合計厚みの平均値（平均厚み）が、５μｍ以上であればよい。

　以下、投映像表示用積層フィルムを構成する部材について詳述する。

＜支持体＞
　支持体は、選択反射層およびヒートシール層を支持する部材である。
　支持体の正面位相差Ｒｅは特に制限されないが、１０ｎｍ以下が好ましく、５ｎｍ以下がより好ましい。
　支持体の厚さ方向の位相差Ｒｔｈの絶対値は特に制限されないが、４０ｎｍ以下が好ましく、３０ｎｍ以下がより好ましい。
　正面位相差Ｒｅおよび厚み方向の位相差Ｒｔｈが小さいと、支持体による偏光の乱れが小さくなり好ましい。

　支持体の構成材料は特に制限されず、セルロースアシレート樹脂、および、アクリル樹脂などの樹脂が挙げられる。なかでも、セルロースアシレート樹脂が好ましく、トリアセチルセルロース樹脂またはジアセチルセルロース樹脂がより好ましい。

　支持体の厚さは特に制限されず、５．０～１０００μｍが好ましく、１０～２５０μｍがより好ましく、１５～９０μｍがさらに好ましい。

＜選択反射層＞
　選択反射層は、波長選択的に光を反射する層である。選択反射層は、可視光波長域の一部において選択反射を示すことが好ましい。選択反射層は投映像表示のための光を反射していればよい。
　投映像表示用積層フィルムにおいて、選択反射層は１層のみ含まれていてもよいし、２層以上含まれていてもよい。

　本明細書において、選択反射層の選択反射の中心波長λは、選択反射層の法線方向から測定した反射スペクトルの反射ピークの重心位置にある波長を意味する。

　投映像表示用積層フィルムが２層以上の選択反射層を含む場合、２層以上の選択反射層の選択反射の中心波長は同一であってもよく、異なっていてもよいが、異なっていることが好ましい。選択反射の中心波長が異なる選択反射層を２層以上含むことにより、二重像を低減できる。例えば、投映像表示用積層フィルムが選択反射層を２層含む場合、この２層の選択反射の中心波長は、６０ｎｍ以上異なることが好ましく、８０ｎｍ以上異なることがより好ましく、１００ｎｍ以上異なることがさらに好ましい。
　２層以上の選択反射層を用いる場合、選択反射の中心波長が５００～６５０ｎｍ（好ましくは、５００～６００ｎｍ）である選択反射層と、選択反射の中心波長が６５０～９００ｎｍ（好ましくは、６５０～７８０ｎｍ）である選択反射層とを用いることが好ましい。

　選択反射層は偏光反射層であることが好ましい。偏光反射層は、直線偏光、円偏光、または楕円偏光を、選択的に反射する層である。
　偏光反射層は、円偏光反射層または直線偏光反射層であることが好ましい。円偏光反射層は、選択反射の中心波長において、いずれか一方のセンスの円偏光を反射し、かつ、他方のセンスの円偏光を透過する層である。
　また、直線偏光反射層は、選択反射の中心波長において、１つの偏光方向の直線偏光を反射し、かつ上記偏光方向に直交する偏光方向の直線偏光を透過する層である。
　偏光反射層は反射しない偏光を透過させることができ、選択反射層が反射を示す波長域においても一部の光を透過させることができる。
　円偏光反射層である選択反射層としては、コレステリック液晶層が好ましい。

（コレステリック液晶層）
　コレステリック液晶層は、コレステリック液晶相を固定した層である。
　コレステリック液晶層は、コレステリック液晶相となっている液晶化合物の配向が保持されている層であればよい。コレステリック液晶層は、典型的には、重合性液晶化合物をコレステリック液晶相の配向状態としたうえで、紫外線照射または加熱などによって重合、硬化し、流動性が無い層を形成して、同時に、また外場または外力によって配向形態に変化を生じさせることがない状態に変化した層であればよい。
　なお、コレステリック液晶層においては、コレステリック液晶相の光学的性質が層中において保持されていれば十分であり、層中の液晶化合物はもはや液晶性を示していなくてもよい。例えば、重合性液晶化合物は、硬化反応により高分子量化して、もはや液晶性を失っていてもよい。

　コレステリック液晶層は、右円偏光および左円偏光のいずれか一方のセンスの円偏光を選択的に反射させるとともに他方のセンスの円偏光を透過する円偏光選択反射を示すことが知られている。
　円偏光選択反射性を示すコレステリック液晶相を固定した層として、重合性液晶化合物を含む組成物から形成された層は従来から数多く知られており、コレステリック液晶層については、それらの従来技術を参照することができる。

　コレステリック液晶層の選択反射の中心波長λは、コレステリック相における螺旋構造のピッチＰ（＝螺旋の周期）に依存し、コレステリック液晶層の平均屈折率ｎとλ＝ｎ×Ｐの関係に従う。この式からわかるように、ｎ値とＰ値を調節することにより、選択反射の中心波長を調節できる。

　コレステリック液晶層の選択反射中心波長と半値幅は、下記のように求めることができる。
　分光光度計ＵＶ３１５０（島津製作所製）を用いてコレステリック液晶層の透過スペクトル（コレステリック液晶層の法線方向から測定したもの）を測定すると、選択反射帯域に透過率の低下ピークがみられる。このピークの極小透過率と低下前の透過率との中間（平均）の透過率となる２つの波長のうち、短波長側の波長の値をλｌ（ｎｍ）、長波長側の波長の値をλｈ（ｎｍ）とすると、選択反射の中心波長λと半値幅Δλは下記式で表すことができる。
　　λ＝（λｌ＋λｈ）／２
　　Δλ＝（λｈ－λｌ）
　上記のように求められる選択反射の中心波長はコレステリック液晶層の法線方向から測定した円偏光反射スペクトルの反射ピークの重心位置にある波長と略一致する。

　コレステリック液晶相のピッチは重合性液晶化合物とともに用いるキラル剤の種類、またはその添加濃度に依存するため、これらを調節することによって所望のピッチを得ることができる。なお、螺旋のセンスやピッチの測定法については「液晶化学実験入門」日本液晶学会編シグマ出版２００７年出版、４６頁、および「液晶便覧」液晶便覧編集委員会丸善１９６頁に記載の方法を用いることができる。

　また、投映像表示用積層フィルムが２層以上のコレステリック液晶層を含む場合、投映像表示用合わせガラスにおいて、コレステリック液晶層は、視認側（車内側）からみて、選択反射の中心波長が短いものから順に配置されていることが好ましい。

　各コレステリック液晶層としては、螺旋のセンスが右および左のいずれかであるコレステリック液晶層が用いられる。コレステリック液晶層の反射円偏光のセンスは螺旋のセンスに一致する。選択反射の中心波長が異なるコレステリック液晶層の螺旋のセンスは全て同じであっても、異なるものが含まれていてもよいが、同じであることが好ましい。

　また、投映像表示用積層フィルムは、同一または重複する波長域で選択反射を示すコレステリック液晶層として、異なる螺旋のセンスのコレステリック液晶層を含まないことが好ましい。特定の波長域での透過率が例えば５０％未満に低下することを避けるためである。

　選択反射を示す選択反射帯の半値幅Δλ（ｎｍ）は、Δλが液晶化合物の複屈折Δｎと上記ピッチＰに依存し、Δλ＝Δｎ×Ｐの関係に従う。そのため、選択反射帯の幅の制御は、Δｎを調節して行うことができる。Δｎの調節は重合性液晶化合物の種類や混合比率を調節したり、配向固定時の温度を制御したりすることで行うことができる。
　選択反射の中心波長が同一の１種のコレステリック液晶層の形成のために、ピッチＰが同じで、同じ螺旋のセンスのコレステリック液晶層を複数積層してもよい。ピッチＰが同じで、同じ螺旋のセンスのコレステリック液晶層を積層することによって、特定の波長で円偏光選択性を高くすることができる。

　複数のコレステリック液晶層の積層の際は、別に作製したコレステリック液晶層を接着剤などを用いて積層してもよく、後述の方法で形成された先のコレステリック液晶層の表面に直接、重合性液晶化合物などを含む液晶組成物を塗布し、配向および固定の工程を繰り返してもよい。

　コレステリック液晶層の厚さは、０．０５～１０μｍが好ましく、０．１～８．０μｍがより好ましく、０．２～６．０μｍがさらに好ましい。
　また、投映像表示用積層フィルムにおけるコレステリック液晶層の厚さの総計は、２．０～３０μｍが好ましく、２．５～２５μｍがより好ましく、３．０～２０μｍがさらに好ましい。

（コレステリック液晶層の作製方法）
　以下、コレステリック液晶層の作製材料および作製方法について説明する。
　上記コレステリック液晶層の形成に用いる材料としては、重合性液晶化合物とキラル剤（光学活性化合物）とを含む液晶組成物などが挙げられる。液晶組成物は、必要に応じて、さらに界面活性剤および重合開始剤などを有してもよい。
　これらの成分を混合して溶剤などに溶解した上記液晶組成物を、支持体、配向層、または、下層となるコレステリック液晶層などに塗布し、コレステリック配向熟成後、液晶組成物の硬化により固定化してコレステリック液晶層を形成できる。

　重合性液晶化合物は、棒状液晶化合物であっても、円盤状液晶化合物であってもよいが、棒状液晶化合物であることが好ましい。
　コレステリック液晶層を形成する棒状の重合性液晶化合物の例としては、棒状ネマチック液晶化合物が挙げられる。棒状ネマチック液晶化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類、および、アルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましい。

　重合性液晶化合物は、重合性基を液晶化合物に導入することで得られる。
　重合性基の例には、不飽和重合性基、エポキシ基、および、アジリジニル基が含まれ、不飽和重合性基が好ましく、エチレン性不飽和重合性基がより好ましい。重合性基は種々の方法で、液晶化合物の分子中に導入できる。重合性液晶化合物が有する重合性基の個数は、１～６個が好ましく、１～３個がより好ましい。
　重合性液晶化合物としては、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ　Ｍａｔｅｒｉａｌｓ　５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許第４６８３３２７号明細書、米国特許５６２２６４８号明細書、米国特許第５７７０１０７号明細書、国際公開第９５／０２２５８６号、国際公開第９５／０２４４５５号、国際公開第９７／０００６００号、国際公開第９８／０２３５８０号、国際公開第９８／０５２９０５号、特開平１－２７２５５１号公報、特開平６－０１６６１６号公報、特開平７－１１０４６９号公報、特開平１１－０８００８１号公報、および、特開２００１－３２８９７３号公報などに記載の化合物が挙げられる。

　重合性液晶化合物は、１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
　液晶組成物中の重合性液晶化合物の含有量は、液晶組成物の固形分質量（溶媒を除いた質量）に対して、８０～９９．９質量％が好ましく、８５～９９．５質量％がより好ましく、９０～９９質量％がさらに好ましい。

　キラル剤はコレステリック液晶相の螺旋構造を誘起する機能を有する。キラル化合物は、化合物によって誘起する螺旋のセンスまたは螺旋ピッチが異なるため、目的に応じて選択すればよい。
　キラル剤は特に制限されず、公知の化合物を用いることができる。キラル剤としては、液晶デバイスハンドブック（第３章４－３項、ＴＮ、ＳＴＮ用カイラル剤、１９９頁、日本学術振興会第１４２委員会編、１９８９）、特開２００３－２８７６２３号公報、特開２００２－３０２４８７号公報、特開２００２－０８０４７８号公報、特開２００２－０８０８５１号公報、特開２０１０－１８１８５２号公報、および、特開２０１４－０３４５８１号公報の各公報に記載の化合物が挙げられる。

　キラル剤は、一般に不斉炭素原子を含むが、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物または面性不斉化合物も、キラル剤として用いることができる。
　軸性不斉化合物または面性不斉化合物の例には、ビナフチル、ヘリセン、パラシクロファン、および、これらの誘導体が含まれる。
　キラル剤は、重合性基を有していてもよい。キラル剤と液晶化合物とがいずれも重合性基を有する場合は、重合性キラル剤と重合性液晶化合物との重合反応により、重合性液晶化合物から誘導される繰り返し単位と、キラル剤から誘導される繰り返し単位とを有するポリマーを形成することができる。この態様では、重合性キラル剤が有する重合性基は、重合性液晶化合物が有する重合性基と、同種の基であることが好ましい。従って、キラル剤の重合性基も、不飽和重合性基、エポキシ基またはアジリジニル基であるのが好ましく、不飽和重合性基であるのがより好ましく、エチレン性不飽和重合性基であるのがさらに好ましい。
　また、キラル剤は、液晶化合物であってもよい。

　キラル剤としては、イソソルビド誘導体、イソマンニド誘導体、および、ビナフチル誘導体等を好ましく用いることができる。イソソルビド誘導体としては、ＢＡＳＦ社製のＬＣ－７５６等の市販品を用いてもよい。
　キラル剤は、１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
　液晶組成物中のキラル剤の含有量は、重合性液晶化合物全モル量に対して、０．０１～２００モル％が好ましく、１～３０モル％がより好ましい。

　液晶組成物は、重合開始剤を含むことが好ましい。紫外線照射により重合反応を進行させる態様では、使用する重合開始剤は、紫外線照射によって重合反応を開始可能な光重合開始剤であることが好ましい。
　重合開始剤は、１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
　液晶組成物中の光重合開始剤の含有量は、重合性液晶化合物の含有量に対して、０．１～２０質量％が好ましく、０．５～５質量％がより好ましい。

　液晶組成物は、溶媒を含むことが好ましい。溶媒としては、有機溶媒が好ましい。
　有機溶媒は特に制限されず、例えば、ケトン類、アルキルハライド類、アミド類、スルホキシド類、ヘテロ環化合物、炭化水素類、エステル類、および、エーテル類が挙げられる。

　液晶組成物は、硬化後の膜強度向上、耐久性向上のため、架橋剤を含んでいてもよい。架橋剤としては、紫外線、熱、および湿気などで硬化するものが好適に使用できる。
　液晶組成物中の架橋剤の含有量は、重合性液晶化合物の含有量に対して、３～２０質量％が好ましく、５～１５質量％がより好ましい。

　液晶組成物は、配向制御剤を含むことが好ましい。
　配向制御剤としては、特開２００７－２７２１８５号公報の段落［００１８］～［００４３］等に記載のフッ素（メタ）アクリレート系ポリマー、特開２０１２－２０３２３７号公報の段落［００３１］～［００３４］等に記載の式（Ｉ）～（ＩＶ）で表される化合物、および、特開２０１３－１１３９１３号公報に記載の化合物などが挙げられる。
　液晶組成物中の配向制御剤の含有量は、重合性液晶化合物の全質量に対して、０．０１～１０質量％が好ましく、０．０１～５質量％がより好ましい。

　液晶組成物は、必要に応じて、さらに、界面活性剤、重合禁止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、色材、および、金属酸化物粒子などの添加剤を含んでいてもよい。

　コレステリック液晶層は、重合性液晶化合物およびキラル剤、さらに、必要に応じて添加される重合開始剤、および、界面活性剤等を溶媒に溶解させた液晶組成物を、支持体、配向層、または、先に作製されたコレステリック液晶層等の上に塗布し、乾燥させて塗膜を得、この塗膜に活性光線を照射してコレステリック液晶組成物を重合し、コレステリック規則性が固定化されたコレステリック液晶層を形成することができる。
　なお、複数のコレステリック液晶層からなる積層膜は、コレステリック液晶層の上記製造工程を繰り返し行うことにより形成することができる。

　液晶組成物の塗布方法は特に制限されず、例えば、ワイヤーバーコーティング法、カーテンコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スピンコーティング法、ディップコーティング法、スプレーコーティング法、および、スライドコーティング法が挙げられる。
　また、別途支持体上に塗設した液晶組成物を転写することによっても実施できる。

　塗布した液晶組成物を加熱することにより、重合性液晶化合物を配向させる。
　加熱温度は、２００℃以下が好ましく、１３０℃以下がより好ましい。この配向処理により、重合性液晶化合物が、フィルム面に対して実質的に垂直な方向に螺旋軸を有するようにねじれ配向している光学薄膜が得られる。

　配向させた液晶化合物をさらに重合させることにより、液晶組成物を硬化できる。重合は、熱重合および光照射を利用する光重合のいずれでもよいが、光重合が好ましい。
　光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ^２～５０Ｊ／ｃｍ^２が好ましく、１００～１，５００ｍＪ／ｃｍ^２がより好ましい。
　光重合反応を促進するため、加熱条件下または窒素雰囲気下で光照射を実施してもよい。照射紫外線波長は３５０～４３０ｎｍが好ましい。

（直線偏光反射層）
　選択反射層としては、直線偏光反射層を用いてもよい。
　直線偏光反射層としては、例えば屈折率異方性の異なる薄膜を積層した偏光子が挙げられる。
　屈折率異方性の異なる薄膜を積層した偏光子としては、例えば、特表平９－５０６８３７号公報などに記載されたものを用いることができる。
　屈折率異方性の異なる薄膜を積層した偏光子としては、市販品を用いることができる。市販品は、反射型偏光板と仮支持体との積層体となっているものを用いてもよい。
　市販品としては、例えば、ＤＢＥＦ（登録商標）（３Ｍ社製）、ＡＰＦ（高度偏光フィルム（Advanced Polarizing Film（３Ｍ社製）））として販売されている市販の光学フィルムなどが挙げられる。

＜ヒートシール層＞
　ヒートシール層は、上述したように、ガラス基板との密着性を担保する機能を有する。
　ヒートシール層は、投映像表示用積層フィルムとガラス基板とを物理的に接合するための層である。

　ヒートシール層は、熱可塑性樹脂を含むことが好ましい。
　熱可塑性樹脂としては、ガラス基板との親和性および接着性がよいものが好ましく、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）樹脂を代表とするポリビニルアセタール樹脂、エチレン－酢酸ビニル共重合体および塩素含有樹脂からなる群から選択される樹脂が好ましく、ポリビニルアセタール樹脂がより好ましい。
　熱可塑性樹脂としては、ポリビニルブチラールまたはエチレン－酢酸ビニル共重合体が好ましく、ポリビニルブチラールがより好ましい。

　ポリビニルブチラールは、ポリビニルアルコールをブチルアルデヒドによりアセタール化して得ることができる。
　ポリビニルブチラールのアセタール化度は特に制限されないが、４０％以上が好ましく、６０％以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、８５％以下が好ましく、７５％以下がより好ましい。
　ポリビニルブチラールの合成に用いられるポリビニルアルコールは、通常、ポリ酢酸ビニルを鹸化することにより得られ、鹸化度８０～９９．８モル％のポリビニルアルコールが一般的に用いられる。
　また、上記ポリビニルアルコールの重合度は、２００～３０００が好ましい。

　熱可塑性樹脂は、ヒートシール層の主成分であることが好ましい。なお、主成分であるとは、ヒートシール層全質量の５０質量％以上の割合を占める成分のことをいう。
　より具体的には、ヒートシール層中の熱可塑性樹脂の含有量は、ヒートシール層全質量に対して、６０～９９質量％が好ましく、７０～９７質量％がより好ましい。

　ヒートシール層は、無機粒子含んでいてもよい。
　ヒートシール層に含まれる無機粒子としては、無機酸化物粒子が好ましく、シリカ（二酸化ケイ素）粒子、酸化アルミニウム粒子、二酸化チタン粒子、または、酸化ジルコニウム粒子がより好ましく、シリカ粒子がさらに好ましい。

　無機粒子は、一次粒子からなり、その一次粒子の凝集からなる二次粒子を形成していることが好ましい。
　無機粒子の平均一次粒子径は特に制限されないが、５～５０ｎｍが好ましく、５～１５ｎｍがより好ましい。
　無機粒子の平均二次粒子径は特に制限されないが、１００～５００ｎｍが好ましい。

　ヒートシール層中の無機粒子の含有量は特に制限されないが、ヒートシール層全質量に対して、１質量％以上が好ましく、９質量％以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、４０質量％以下が好ましく、３０質量％以下がより好ましい。
　なお、上記ヒートシール層中の無機粒子の含有量は、上述した平均値Ｂに影響を与える場合があるため、上記範囲内に調整することが好ましい。

　無機粒子の平均一次粒子径の測定は、透過型電子顕微鏡観察により行う。具体的には、任意に選択した５０個の一次粒子について、一次粒子に外接する円の直径を求め、その算術平均を、平均一次粒子径とする。透過型電子顕微鏡の観察倍率は、５０万倍～５００万倍の間の一次粒子径が判別できる任意の倍率とする。
　上記平均二次粒子径は、レーザー回折散乱式粒子径分布測定装置を用いて真球形フィッティング（屈折率１．４６）を行い測定される値である。測定装置としては、例えばマイクロトラック・ベル社製ＭｉｃｒｏＴｒａｃＭＴ３０００を用いることができる。

　ヒートシール層は、レベリング剤を含んでいてもよい。ヒートシール層がレベリング剤を含むことにより、ヒートシール層の表面の平滑化が進行し、上述した平均値Ａを低減させることができる。
　レベリング剤としては、公知のレベリング剤を用いることができ、例えば、界面活性剤が挙げられ、なかでも、フッ素系界面活性剤、または、シリコーン系界面活性剤が好ましい。
　フッ素系界面活性剤中のフッ素含有率は、３～４０質量％が好ましく、５～３０質量％がより好ましく、７～２５質量％がさらに好ましい。フッ素含有率がこの範囲内であるフッ素系界面活性剤は、塗布膜の厚さの均一性や省液性の点で効果的である。

　ヒートシール層中のレベリング剤の含有量は特に制限されないが、ヒートシール層全質量に対して、０．００５～０．５質量％が好ましく、０．０１～０．１質量％がより好ましい。

　ヒートシール層は、上述したように、支持体側とは反対側の表面において所定の平均値Ａおよび平均値Ｂを示す。
　ヒートシール層の支持体側とは反対側の表面の水接触角は特に制限されないが、２枚のガラス基板と投映像表示用積層フィルムとを用いて得られる投映像表示用合わせガラスの耐衝撃性がより優れる点で、９０°以下が好ましく、８０°以下がより好ましく、７０°以下がさらに好ましい。下限は特に制限されないが、１０°以上の場合が多く、３０°以上の場合がより多い。
　上記水接触角の測定方法は、以下の通りである。
　まず、投映像表示用積層フィルムのヒートシール層表面の異なる３箇所について、接触角計ＣＡ－Ｘ（協和界面科学社製）を用い、２０℃、６５％ＲＨの環境下において、純水を使用して直径１．０ｍｍの液滴を針先に作り、これを上記のヒートシール層の表面に接触させて液滴を作る。ヒートシール層表面と純水が接してから２５秒後の、ヒートシール層表面と純水が接する点における、純水表面に対する接線とヒートシール層表面がなす角で、純水を含む側の角度を測定し、それらの平均値を投映像表示用積層フィルムの水接触角とする。

（ヒートシール層の形成方法）
　ヒートシール層の形成方法は特に制限されず、上述した平均値Ａおよび平均値Ｂ、並びに、平均厚みが所定の範囲であるヒートシール層を形成できれば特に制限されない。
　なかでも、熱可塑性樹脂および無機粒子を含むヒートシール層形成用組成物を用いる方法が好ましい。より具体的には、上記ヒートシール層形成用組成物を支持体上に塗布して、ヒートシール層を形成する方法が好ましい。
　ヒートシール層形成用組成物中における熱可塑性樹脂および無機粒子の含有量は、上述したヒートシール層中の熱可塑性樹脂および無機粒子の含有量となるように調整されることが好ましい。

　ヒートシール層形成用組成物は、上述したレベリング剤を含んでいてもよい。
　ヒートシール層形成用組成物中におけるレベリング剤の含有量は、上述したヒートシール層中のレベリング剤の含有量となるように調整されることが好ましい。

　ヒートシール層形成用組成物は塗布性の点から、溶媒を含むことが好ましい。
　溶媒の種類は特に制限されず、水および有機溶媒が挙げられ、有機溶媒が好ましい。有機溶媒としては、ケトン類、アルキルハライド類、アミド類、スルホキシド類、ヘテロ環化合物、炭化水素類、エステル類、および、エーテル類が挙げられる。
　ヒートシール層形成用組成物中における固形分濃度を調整することにより、ヒートシール層の平均値Ａを調整することができる。ヒートシール層形成用組成物中における固形分濃度は、平均値Ａをより低くできる点で、ヒートシール層形成用組成物全質量に対して、３質量％以上が好ましく、５質量％以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、３０質量％以下が好ましく、２０質量％以下がより好ましい。
　なお、ヒートシール層形成用組成物がレベリング剤を含まない場合、ヒートシール層形成用組成物中における固形分濃度は、平均値Ａをより低くできる点で、ヒートシール層形成用組成物全質量に対して、１６質量％以上が好ましい。
　上記固形分とは、溶媒を除く、ヒートシール層を形成する成分を意味する。その成分の形状が液状であっても、固形分として計算する。

　ヒートシール層形成用組成物の塗布方法は特に制限されず、例えば、ワイヤーバーコーティング法、カーテンコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スピンコーティング法、ディップコーティング法、スプレーコーティング法、および、スライドコーティング法が挙げられる。

　塗布して得られる塗膜に対しては、必要に応じて乾燥処理を施してもよい。
　乾燥処理としては、加熱処理が挙げられる。加熱処理における加熱温度は特に制限されないが、５０～１５０℃が好ましく、６０～１４０℃がより好ましい。加熱時間は特に制限されないが、０．５～２０分間が好ましく、０．５～１０分間がより好ましい。

　形成されたヒートシール層の表面（支持体側とは反対側の表面）に対して、必要に応じて表面処理を施してもよい。
　例えば、ヒートシール層の表面の水接触角を下げるために、ヒートシール層の表面に対して親水化処理を実施してもよい。親水化処理としては、プラズマ処理、紫外線照射処理、コロナ処理、および、電子線照射処理が挙げられ、コロナ処理が好ましい。
　親水化処理の条件は実施される処理の種類に応じて適宜選択され、上述したヒートシール層の表面の水接触角の範囲となるように調整されることが好ましい。

　また、ヒートシール層の表面に対して、粗面化処理を実施してもよい。粗面化処理を実施することにより、上述した平均値Ａおよび平均値Ｂ（特に、平均値Ｂ）の範囲を調整することができる。
　粗面化処理としては、サンディング処理、および、ブラスト処理が挙げられる。サンディング処理は、砥粒を保持するディスクまたはベルトなどの基材を用いて被研磨体の表面に凹凸形状を形成する処理である。ブラスト処理とは、砥粒を噴射して被噴射体の表面に凹凸形状を形成する処理である。

＜その他の部材＞
　投映像表示用積層フィルムは、上述した部材（支持体、選択反射層、および、ヒートシール層）以外の他の部材を含んでいてもよい。

（配向層）
　投映像表示用積層フィルムは、配向層を含んでいてもよい。配向層は、上述したコレステリック液晶層および後述する位相差層の下層として機能し得る。
　配向層は、ポリマーなどの有機化合物のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、および、ラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）を用いた有機化合物の累積等の手段で、設けることができる。
　さらに、電場の付与、磁場の付与または光照射により、配向機能が生じる配向層を用いてもよい。
　特にポリマーからなる配向層は、ラビング処理を行ったうえで、ラビング処理面に液晶組成物を塗布することが好ましい。ラビング処理は、ポリマー層の表面を、紙、布で一定方向に、擦ることにより実施することができる。
　上記ポリマーとしては、例えば、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリエステル、ポリアリレート、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリアミド、および、変性ポリアミドが挙げられる。
　配向層の厚さは、０．０１～５．０μｍが好ましく、０．０５～２．０μｍがより好ましい。

（位相差層）
　投映像表示用積層フィルムは、位相差層を含んでいてもよい。
　位相差層は、直交する２つの偏光成分に位相差（光路差）をつけて、入射した偏光の状態を変えるものである。
　位相差層は、使用時に全ての選択反射層（コレステリック液晶層）に対して視認側にあるように設けられることが好ましい。
　位相差層は、支持体と選択反射層との間に配置されるのが好ましい。

　位相差層としては、例えば、延伸されたポリカーボネートフィルム、延伸されたノルボルネン系ポリマーフィルム、炭酸ストロンチウムのような複屈折を有する無機粒子を含む配向させた透明フィルム、支持体上に無機誘電体を斜め蒸着した薄膜、および、液晶化合物を一軸配向させて配向固定したフィルムが挙げられる。

　位相差層としては、重合性液晶化合物を一軸配向させて配向固定したフィルムが好ましい。例えば、位相差層は、仮支持体または配向層表面に重合性液晶化合物を含む液晶組成物を塗布し、塗膜中の重合性液晶化合物を液晶状態においてネマチック配向に形成後、硬化によって固定化して、形成することができる。この場合の位相差層の形成は液晶組成物中にキラル剤を添加しない以外は、上記のコレステリック液晶層の形成と同様に行うことができる。ただし、液晶組成物の塗布後のネマチック配向の際、加熱温度は５０～１２０℃が好ましく、６０～１００℃がより好ましい。

　位相差層が直線偏光を円偏光に変換するものである場合には、位相差層の正面位相差は、λ／４を与えるもので構成されることが好ましく、正面位相差として３λ／４を与えるもので構成してもよい。また、遅相軸の角度は、入射する直線偏光を円偏光に変える向きとなるように配置すればよい。
　この場合、位相差層は、例えば、波長５５０ｎｍにおける正面位相差が１００～４５０ｎｍの範囲であるのが好ましく、１２０～２００ｎｍまたは３００～４００ｎｍの範囲であることがより好ましい。

　位相差層の厚さは特に制限されず、０．２～３００μｍが好ましく、０．４～１５０μｍがより好ましい。
　液晶組成物から形成される位相差層の厚さは特に制限されず、０．２～１０μｍが好ましく、０．４～５．０μｍがより好ましい。

（偏光変換層）
　投映像表示用積層フィルムは、偏光変換層を含んでいてもよい。
　偏光変換層は、選択反射層の支持体側とは反対側に配置されることが好ましい。
　偏光変換層を設けることにより、ｐ偏光を投映する投映像表示システムにおいて、偏光サングラス適性を向上させることができる。上記機構に関しては、国際公開第２０２０／０８０３５５号の段落０１０２に詳述される。

　偏光変換層としては、液晶化合物の螺旋配向構造を固定化した層が挙げられる。
　液晶化合物の螺旋配向構造を固定化した層としては、偏光変換層の螺旋構造のピッチ数をｘ、偏光変換層の膜厚をｙ（単位μｍ）とした場合、下記関係式（ｉ）および（ii）を満足する偏光変換層が好ましい。
（ｉ）　０．３≦ｘ≦２．０
（ii）　０．５≦ｙ≦７．０
　螺旋構造のピッチ（螺旋１ピッチ）とは、コレステリック液晶層と同様、螺旋配向構造を構成する液晶化合物のダイレクターが３６０度回転する螺旋軸方向の長さである。液晶化合物の螺旋配向構造を固定化した偏光変換層は、液晶化合物のダイレクターが３６０度回転する１ピッチをピッチ数１とする。
　液晶化合物の螺旋配向構造を固定化した偏光変換層は、ピッチ数が０．３～２．０で、膜厚が０．５～７．０μｍであるのが好ましい。

（接着層）
　投映像表示用積層フィルムは、接着層を含んでいてもよい。接着層は、層間の密着性を確保するために用いられる。
　接着層の位置には特に制限されないが、例えば、コレステリック液晶層間、および、選択反射層と位相差層との間、および、選択反射層と偏光変換層との間が挙げられる。
　接着層は、接着剤から形成されるものであればよい。
　接着剤としては、ホットメルトタイプ、熱硬化タイプ、光硬化タイプ、反応硬化タイプ、および、硬化の不要な感圧接着タイプがある。
　接着層の厚さは、０．５～１０μｍが好ましく、１．０～５．０μｍがより好ましい。
　ＯＣＡテープを用いて形成された接着層の厚さは、１０～５０μｍが好ましく、１５～３０μｍがより好ましい。

＜投映像表示用合わせガラス＞
　上述した投映像表示用積層フィルムは、２枚のガラス基板で挟むことにより、投映像表示用合わせガラスとして好適に用いることができる。
　投映像表示用合わせガラスは、車および電車などの車両、飛行機、船舶、二輪車、ならびに、遊具などの乗り物一般の窓ガラスおよび風防ガラスに好適に適用できる。投映像表示用合わせガラスは、乗り物の進行方向の前方にあるフロントガラスまたは風防ガラスとして利用することが好ましい。

　図４に、本発明の投映像表示用合わせガラスの一例の概略図を示す。
　図４に示す投映像表示用合わせガラス２０は、第１ガラス基板２２と、投映像表示用積層フィルム１０Ａと、中間膜２４と、第２ガラス基板２６とを含む。なお、投映像表示用積層フィルム１０Ａ中のヒートシール層は第１ガラス基板２２側に配置されている。

　以下、投映像表示用合わせガラスを構成する部材について詳述する。
　なお、投映像表示用積層フィルムは上述した通りであり、説明を省略する。

（第１ガラス基板および第２ガラス基板）
　第１ガラス基板および第２ガラス基板としては、合わせガラスに一般的に用いられるガラス基板が挙げられる。例えば、遮熱性の高いグリーンガラスなどの、可視光線透過率が７３％および７６％などの８０％以下となるガラス基板を使用してもよい。
　第１ガラス基板および第２ガラス基板の厚さは特に制限されず、０．５～５．０ｍｍが好ましく、１．０～３．０ｍｍがより好ましい。
　第１ガラス基板および第２ガラス基板の材料または厚さは同一であっても異なっていてもよい。

（中間膜）
　中間膜は、車両の合わせガラスに用いられる、公知のいずれの中間膜を用いてもよい。例えば、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）、エチレン－酢酸ビニル共重合体および塩素含有樹脂からなる群から選ばれる樹脂を含む樹脂膜が挙げられる。
　上記樹脂は、中間膜の主成分であることが好ましい。なお、主成分であるとは、中間膜の５０質量％以上の割合を占める成分のことをいう。

　これらの樹脂のうち、ポリビニルブチラールまたはエチレン－酢酸ビニル共重合体が好ましく、ポリビニルブチラールがより好ましい。
　ポリビニルブチラールは、ポリビニルアルコールをブチルアルデヒドによりアセタール化して得ることができる。
　ポリビニルブチラールのアセタール化度は特に制限されないが、４０％以上が好ましく、６０％以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、８５％以下が好ましく、７５％以下がより好ましい。
　ポリビニルブチラールの合成に用いられるポリビニルアルコールは、通常、ポリ酢酸ビニルを鹸化することにより得られ、鹸化度８０～９９．８モル％のポリビニルアルコールが一般的に用いられる。
　また、上記ポリビニルアルコールの重合度は、２００～３０００が好ましい。

　本発明の投映像表示用合わせガラスの製造方法は特に制限されず、公知の方法を採用できる。
　一般的には、合わせガラス用の中間膜を２枚のガラス基板に挟んだ後、加熱処理と加圧処理（ゴムローラーを用いた処理等）とを数回繰り返し、最後にオートクレーブなどを利用して加圧条件下での加熱処理を行う方法により製造することができる。
　投映像表示用積層フィルムと中間膜とを含む投映像表示用合わせガラスの製造方法の一例としては、投映像表示用積層フィルムのヒートシール層を第１ガラス基板に貼合させて、得られた積層体と第２ガラス基板とを中間膜を介して積層し、加熱処理および／まあは加圧処理を実施する方法が挙げられる。

＜投映像表示システム＞
　本発明の投映像表示システムは、上述した投映像表示用合わせガラスと、プロジェクターとを含むシステムである。
　図５に、投映像表示システムの一例を示す。
　図５に示す、投映像表示システム３０は、投映像表示用合わせガラス３２と、プロジェクター３４とを有する。投映像表示システム３０は、例えば、乗用車などの車両に用いられる。
　投映像表示用合わせガラス３２は、第１ガラス基板２２と、投映像表示用積層フィルム１０Ｂと、中間膜２４と、第２ガラス基板２６とを含む。
　投映像表示用積層フィルム１０Ｂは、ヒートシール層と、支持体と、位相差層と、選択反射層とをこの順で有する。投映像表示用積層フィルム１０Ｂは、ヒートシール層を介して第１ガラス基板２２に貼合されている。

　投映像表示システム３０では、プロジェクター３４がｐ偏光の投映光を出射し、投映像表示用合わせガラス３２が、ｐ偏光を反射することで、画像を表示する。
　具体的には、投映像表示用合わせガラス３２では、まず、位相差層が、入射したｐ偏光の投映光を円偏光に変換する。次いで、選択反射層が、この円偏光を選択的に反射して、位相差層に再入射する。さらに、位相差層が、円偏光をｐ偏光に変換する。投映像表示用積層フィルム１０Ｂは、これにより、入射したｐ偏光の投映光を、ｐ偏光のまま反射する。
　従って、位相差層は、選択反射層が選択的に反射する円偏光のセンスに応じて、入射したｐ偏光を、選択反射層が反射する旋回方向の円偏光に変換するように設定される。すなわち、選択反射層が、右円偏光を選択的に反射する場合には、位相差層は、入射したｐ偏光を右円偏光にするように設定される。逆に、選択反射層が、左円偏光を選択的に反射する場合には、位相差層は、入射したｐ偏光を左円偏光にするように設定される。

　投映像表示システム３０において、プロジェクター３４は、ｐ偏光の投映光を投映像表示用合わせガラス３２に照射することが好ましい。プロジェクター３４が投映像表示用合わせガラス３２に照射する投映光をｐ偏光とすることにより、投映光を投映像表示用合わせガラス３２の第１ガラス基板２２および第２ガラス基板２６による投映光の反射を大幅に低減して、二重像が観察される等の不都合を抑制できる。
　好ましくは、プロジェクター３４は、ｐ偏光の投映光をブリュースター角でウインドシールドに照射する。これにより、第１ガラス基板２２および第２ガラス基板２６での投映光の反射をなくして、より鮮明な画像の表示が可能になる。

（プロジェクター）
　「プロジェクター」は「光または画像を投映する装置」であり、「描画した画像を投射する装置」を含み、表示する画像を担持する投映光を出射するものである。プロジェクターは、ｐ偏光の投映光を出射するものが好ましい。
　プロジェクターは、投映像表示用合わせガラスに対して、表示する画像を担持するｐ偏光の投映光を斜めの入射角度で入射できるように配置されていればよい。

　プロジェクターは、描画デバイスを含み、小型の中間像スクリーンに描画された画像（実像）をコンバイナにより虚像として反射表示するものが好ましい。
　また、プロジェクターは、虚像の結像距離、すなわち、虚像の結像位置が可変であるものであるのが好ましい。

　プロジェクターにおける虚像の結像距離の変更方法としては、例えば、画像の生成面（スクリーン）を移動する方法（特開２０１７－０２１３０２号公報参照）、光路長の異なる複数の光路を切り換えて使用する方法（ＷＯ２０１５／１９０１５７号参照）、ミラーの挿入および／または移動によって光路長を変更する方法、結像レンズとして組レンズを用いて焦点距離を変更する方法、プロジェクターの移動による方法、および、虚像の結像距離が異なる複数台のプロジェクターを切り換えて使用する方法、および可変焦点レンズを用いる方法（ＷＯ２０１０／１１６９１２号参照）が挙げられる。

　なお、プロジェクターは、連続的に虚像の結像距離が変更可能なものでも、２点または３点以上の複数点で、虚像の結像距離を切り換え可能なものでもよい。

　描画デバイスは、それ自体が画像を表示するデバイスであってもよく、画像を描画できる光を発するデバイスであってもよい。
　描画デバイスでは、光源からの光が、光変調器、レーザー輝度変調手段、または、描画のための光偏向手段などの描画方式で調整されていればよい。描画デバイスは、光源を含み、さらに、描画方式に応じて光変調器、レーザー輝度変調手段、または、描画のための光偏向手段等を含むデバイスを意味する。

　光源には制限はなく、ＬＥＤ（発光ダイオード）、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）、放電管、および、レーザー光源などの、プロジェクター、描画デバイスおよびディスプレイなどで用いられる公知の光源が利用可能である。
　これらのうち、ＬＥＤおよび放電管は、直線偏光を出射する描画デバイスの光源に適していることから好ましく、ＬＥＤがより好ましい。

　描画方式は、使用する光源等に応じて選択でき、特に制限されない。
　描画方式の例としては、蛍光表示管、液晶を利用するＬＣＤ（Liquid Crystal Display）方式およびＬＣＯＳ（Liquid Crystal on Silicon）方式、ＤＬＰ（登録商標）（Digital Light Processing）方式、ならびに、レーザーを利用する走査方式が挙げられる。描画方式は、光源と一体となった蛍光表示管を用いた方式であってもよい。描画方式としてはＬＣＤ方式が好ましい。

　描画デバイスからの出射光は、直線偏光であっても自然光（非偏光）であってもよい。
　描画方式がＬＣＤ方式またはＬＣＯＳ方式である描画デバイスおよびレーザー光源を用いた描画デバイスは、本質的には出射光が直線偏光となる。出射光が直線偏光である描画デバイスであって出射光が複数の波長（色）の光を含むものである場合は、複数の波長の光の偏光方向（透過軸方向）は同一であることが好ましい。市販の描画デバイスは、出射光の赤、緑、青の光の波長域での偏光方向が均一ではないものがあることが知られている（特開２０００－２２１４４９号公報参照）。具体的には、緑色光の偏光方向が赤色光の偏光方向および青色光の偏光方向と直交している例が知られている。

　上述のように、描画デバイスは中間像スクリーンを使用するものであってもよい。「中間像スクリーン」は、画像が描画されるスクリーンである。すなわち、描画デバイスを出射した光がまだ画像として視認できるものではない場合などにおいて、この光によって描画デバイスは中間像スクリーンに視認可能な画像を形成する。中間像スクリーンにおいて描画された画像は中間像スクリーンを透過する光によりコンバイナに投映されていてもよく、中間像スクリーンを反射してコンバイナに投映されていてもよい。

　投映像表示用合わせガラスは、特に、発光波長が可視光領域において連続的でないレーザー、ＬＥＤ、および、ＯＬＥＤ（有機発光ダイオード）などを光源に用いたプロジェクターと組み合わせて用いると好ましい。

　入射光は、投映像表示用合わせガラス中の投映像表示用積層フィルムの法線に対し４５～７０°の斜め入射角度で入射させることが好ましい。屈折率１．５１程度のガラスと屈折率１の空気との界面のブリュースター角は約５６°であり、上述の角度の範囲でｐ偏光を入射させることにより、投映像表示のための入射光の選択反射層に対して視認側の投映像表示用合わせガラスの表面からの反射光が少なく、二重像の影響が小さい画像表示が可能である。
　上述の角度は５０～６５°であることも好ましい。このとき、投映像の観察を投映光の入射側において、選択反射層の法線に対し、入射光とは反対側で４５～７０°、好ましくは５０～６５°の角度で行うことができる構成であればよい。

　入射光は、投映像表示用合わせガラスの上下左右等、いずれの方向から入射してもよく、視認方向と対応させて、決定すればよい。例えば、使用時の下方向から上述のような斜め入射角度で入射する構成が好ましい。
　また、投映像表示用合わせガラスの投映像表示用積層フィルムは、入射するｐ偏光を反射するように配置されているのが好ましい。

　本発明は、基本的に以上のように構成されるものである。以上、本発明の投映像表示用合わせガラス、投映像表示用合わせガラスおよび投映像表示システムについて詳細に説明したが、本発明は上述の実施形態に限定されず、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々の改良または変更をしてもよいのはもちろんである。

　以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例、比較例、作製例に示す材料、試薬、物質量とその割合、および、操作などは本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更できる。従って、本発明の範囲は、以下の実施例に限定されるものではない。

＜コレステリック液晶層形成用組成物、位相差層形成用組成物、および、偏光変換層形成用組成物の調製＞
　下記表１に示す配合で各成分を混合し、得られた混合物を孔径１０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、コレステリック液晶層形成用組成物ＢＧ１、Ｒ１、ＩＲ１、位相差層形成用組成物Ａ１、および、偏光変換層形成用組成物ＴＷ－１を調製した。

　上記表１中の数値の単位は、質量部である。
　表１に記載した各化合物の詳細を以下に示す。

＜セルロースアシレートフィルムの鹸化＞
　国際公開第２０１４／１１２５７５号の実施例２０と同一の作製方法で、厚み４０μｍセルロースアシレートフィルムを作製した。なお、このセルロースアシレートフィルムには、紫外線吸収剤として、帝盛化工社製のＵＶ－５３１を添加した。添加量は、３ｐｈｒ（per hundred resin）とした。
　作製したセルロースアシレートフィルムを、温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させて、フィルムの表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムの片面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍＬ／ｍ²で塗布し、１１０℃に加熱したスチーム式遠赤外ヒーター（ノリタケカンパニーリミテド社製）の下に１０秒間滞留させた。
　次いで、同じくバーコーターを用いて、純水を３ｍＬ／ｍ²塗布した。
　次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、７０℃の乾燥ゾーンに５秒間滞留させて乾燥し、鹸化処理したセルロースアシレートフィルム１を作製した。

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アルカリ溶液の組成
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・水酸化カリウム　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４．７質量部
・水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１５．７質量部
・イソプロパノール　　　　　　　　　　　　　　　　　６４．８質量部
・界面活性剤（Ｃ₁₆Ｈ₃₃Ｏ（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₁₀Ｈ）　　　　　１．０質量部
・プロピレングリコール　　　　　　　　　　　　　　　１４．９質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

＜配向層の形成＞
　上述で得られた鹸化処理したセルロースアシレートフィルム１（支持体）の鹸化処理面に、下記に示す組成の配向層形成用塗布液をワイヤーバーコーターで２４ｍＬ／ｍ²塗布し、１００℃の温風で１２０秒乾燥し、厚み０．５μｍの配向層を得た。

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配向層形成用塗布液の組成
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・下記に示す変性ポリビニルアルコール　　　　　　　　　　２８質量部
・クエン酸エステル（ＡＳ３、三共化学社製）　　　　　　１．２質量部
・光開始剤（イルガキュア２９５９、ＢＡＳＦ社製）　　０．８４質量部
・グルタルアルデヒド　　　　　　　　　　　　　　　　　２．８質量部
・水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　６９９質量部
・メタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２２６質量部
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（変性ポリビニルアルコール）

＜反射フィルムの作製＞
　上記で作製した配向層に、支持体の長辺方向を基準に時計回りに４５°回転させた方向にラビング処理（レーヨン布、圧力：０．１ｋｇｆ（０．９８Ｎ）、回転数：１０００ｒｐｍ（revolutions per minute）、搬送速度：１０ｍ／ｍｉｎ、回数：１往復）を施した。

　上記でラビングした配向層表面に、位相差層形成用組成物Ａ１をワイヤーバーを用いて塗布、乾燥させた後、５０℃のホットプレート上に置き、酸素濃度１０００ｐｐｍ以下の環境で、フュージョンＵＶシステムズ社製の無電極ランプ「Ｄバルブ」（６０ｍＷ／ｃｍ²）によって６秒間、紫外線を照射し、位相差層を形成した。
　作製した位相差層の波長５５０ｎｍにおける正面位相差をＡｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製のＡｘｏＳｃａｎを用いて測定したところ、１２６ｎｍであった。

　上記で作製した位相差層表面に、さらにコレステリック液晶層形成用組成物ＩＲ１を、乾燥後の乾膜の厚さが０．４μｍになるようにワイヤーバーを用いて室温にて塗布し、塗布層を室温で３０秒間乾燥させた後、８５℃の雰囲気で２分間加熱した。その後、酸素濃度１０００ｐｐｍ以下の環境で、６０℃でフュージョン社製のＤバルブ（９０ｍＷ／ｃｍ²のランプ）によって、出力６０％で６～１２秒間、紫外線を照射し、コレステリック液晶相を固定して、厚さ０．４μｍのコレステリック液晶層ＩＲ１を得た。
　次に、得られたコレステリック液晶層ＩＲ１の表面にさらに、コレステリック液晶層形成用組成物ＢＧ１を用いて同様の工程を繰り返し、厚さ０．８４μｍのコレステリック液晶層ＢＧ１を積層した。
　次に、得られたコレステリック液晶層ＢＧ１の表面にさらに、コレステリック液晶層形成用組成物Ｒ１を用いて同様の工程を繰り返し、厚さ０．３６μｍのコレステリック液晶層Ｒ１を積層した。
　こうして３層のコレステリック液晶層からなる反射層を有するフィルムを得た。このフィルムの透過スペクトルを分光光度計（日本分光社製、Ｖ－６７０）で測定したところ、波長５１５ｎｍ、波長６８５ｎｍ、および、波長７７５ｎｍに選択反射中心波長を有する透過スペクトルが得られた。

　上記で作製したコレステリック液晶層Ｒ１の上に偏光変換層形成用組成物ＴＷ１を、乾燥後の乾膜の厚さが０．８μｍになるようにワイヤーバーを用いて室温にて塗布した後、塗布層を室温で３０秒間乾燥し、８５℃の雰囲気で２分間加熱した。その後、酸素濃度１０００ｐｐｍ以下の環境で、６０℃でフュージョン社製のＤバルブ（９０ｍＷ／ｃｍ²のランプ）によって、出力６０％で６～１２秒間、紫外線を照射し、偏光変換層を固定して反射フィルムを得た。

＜ヒートシール層形成用組成物の調製＞
　下記表２に示す配合で各成分を混合し、得られた混合物を孔径１０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、ヒートシール層形成用組成物ＨＳ－１～ＨＳ－８を調製した。

　上記表２中の数値の単位は質量部である。

　ＡＥＲＯＳＩＬＲＸ３００（日本アエロジル社製、平均一次粒子径７ｎｍ）を、固形分濃度が５質量％になるように、酢酸ブチルへ添加し、マグネチックスターラーで３０分間撹拌した。その後、超音波分散機（エスエムテー社製、ＵｌｔｒａｓｏｎｉｃＨｏｍｏｇｅｎｉｚｅｒＵＨ－６００Ｓ）で１０分間、超音波分散し、シリカ粒子分散液を作製した。
　得られたシリカ粒子分散液から一部を平均二次粒子径測定用に採取し、ＭｉｃｒｏｔｒａｃＭＴ３０００（マイクロトラックベル社製）を用いて、シリカ粒子分散液中のシリカ粒子の平均二次粒子径を測定したところ、１９０ｎｍであった。
　なお、上記で得られたシリカ粒子分散液を用いて、上記ヒートシール層形成用組成物を作製した。
　また、表２中のシリカ粒子の含有量は、シリカ粒子自体の含有量を表す。

＜実施例１＞
　反射フィルムの支持体の位相差層を塗布していない側の表面に、ヒートシール層形成用組成物ＨＳ－１を、乾燥後の膜厚が１μｍとなるようにワイヤーバーを用いて塗布した後、１００℃にて１分間乾燥処理を行い、ヒートシール層１を形成した。
　次に、得られたヒートシール層１の表面にさらに、ヒートシール層形成用組成物ＨＳ－２を、乾燥後の膜厚が５μｍとなるようにワイヤーバーを用いて塗布した後、１００℃にて２分間乾燥処理を行い、ヒートシール層２を形成した。
　上記で作製した積層フィルムのヒートシール層２表面に対して、ブラスト処理（時間：３秒）を行い、支持体の一方の表面に、位相差層、３層のコレステリック液晶層（選択反射層）、および、偏光変換層を有し、他方の表面に厚み６．０μｍのヒートシール層を有する投映像表示用積層フィルム１を得た。

＜実施例２および３＞
　ヒートシール層２を形成する際のヒートシール層形成用組成物を表３に示すとおりに変更した以外は、実施例１と同様の手順にて、投映像表示用積層フィルム２および３を得た。

＜実施例４＞
　ブラスト処理時間を１０秒間に変更した以外は、実施例３と同様の手順にて、実施例投映像表示用積層フィルム４を得た。

＜実施例５＞
　ブラスト処理時間を１５秒間に変更した以外は、実施例３と同様の手順にて、実施例投映像表示用積層フィルム５を得た。

＜実施例６＞
　ブラスト処理後のヒートシール層２表面に、さらに８８Ｗ・ｍｉｎ／ｍ²の処理量でコロナ処理を行った以外は、実施例５と同様の手順にて、投映像表示用積層フィルム６を得た。

＜実施例７＞
　ヒートシール層２の乾燥後の膜厚が９μｍとなるように塗布した以外は、実施例６と同様の手順にて、投映像表示用積層フィルム７を得た。

＜実施例８＞
　上記で作製した反射フィルムの支持体の位相差層を塗布していない側の表面に、ヒートシール層形成用組成物ＨＳ－１を、乾燥後の膜厚が１μｍとなるようにワイヤーバーを用いて塗布した後、１００℃にて１分間乾燥処理を行い、ヒートシール層１を形成した。
　次に、得られたヒートシール層１の表面にさらに、ヒートシール層形成用組成物ＨＳ－５を、乾燥後の膜厚が９μｍとなるようにワイヤーバーを用いて塗布した後、１２０℃にて２分間乾燥処理を行い、ヒートシール層２を形成した。
　上記手順により、支持体の一方の表面に、位相差層、３層のコレステリック液晶層（選択反射層）、および、偏光変換層を有し、支持体の他方の表面に厚み１０．０μｍのヒートシール層を有する、投映像表示用積層フィルム８を得た。

＜実施例９および１０＞
　ヒートシール層２を形成する際のヒートシール層形成用組成物を表３に示すとおりに変更した以外は、実施例８と同様の手順にて、投映像表示用積層フィルム９および１０を得た。

＜比較例１＞
　ヒートシール層２を形成する際のヒートシール層形成用組成物を表３に示すとおりに変更し、さらに乾燥後の膜厚を１．５μｍとなるようにワイヤーバーを用いて塗布した以外は、実施例８と同様の手順にて、投映像表示用積層フィルムＣ１を得た。

＜比較例２および３＞
　ヒートシール層２を形成する際のヒートシール層形成用組成物を表３に示すとおりに変更し、さらに乾燥後の膜厚を５μｍとなるようにワイヤーバーを用いて塗布した以外は、比較例１と同様の手順にて、投映像表示用積層フィルムＣ２およびＣ３を得た。

＜測定＞
（算術平均高さＳａの平均値Ａ）
　実施例および比較例にて得られた投映像表示用積層フィルムのヒートシール層表面の異なる３箇所について、Ｖｅｒｔｓｃａｎ２．０（株式会社菱化システム社製）を用い、レンズ倍率×２．５、鏡筒倍率×０．５、Ｗａｖｅモードにて、視野サイズ３７００μｍ×４９００μｍでの算術平均高さＳａを測定し、それらの平均値（算術平均値）を平均値Ａとした。

（算術平均粗さＳａの平均値Ｂ）
　実施例および比較例にて得られた投映像表示用積層フィルムのヒートシール層表面の異なる３箇所について、Ｖｅｒｔｓｃａｎ２．０（株式会社菱化システム社製）を用い、レンズ倍率×５０、鏡筒倍率×０．５、Ｗａｖｅモードにて、視野サイズ１８０μｍ×２４０μｍでの算術平均高さＳａを測定し、それらの平均値（算術平均値）を平均値Ｂとした。

（水接触角）
　実施例および比較例にて得られた投映像表示用積層フィルムのヒートシール層表面の異なる３箇所について、接触角計ＣＡ－Ｘ（協和界面科学社製）を用い、２０℃、６５％ＲＨの環境下において、純水を使用して直径１．０ｍｍの液滴を針先に作り、これを上記のヒートシール層の表面に接触させて液滴を作った。ヒートシール層表面と純水が接してから２５秒後の、ヒートシール層表面と純水が接する点における、純水表面に対する接線とヒートシール層表面がなす角で、純水を含む側の角度を測定し、それらの平均値を投映像表示用積層フィルムの水接触角とした。

＜合わせガラスの作製＞
　縦２６０ｍｍ×横３３０ｍｍ、厚み２ｍｍの凸の曲面ガラス基板の上に、縦２２０×横２９０ｍｍの実施例および比較例にて得られた投映像表示用積層フィルムを、ヒートシール層側の表面を接触面にしてガラス基板の中央部に配置した。これにより、第１ガラス基板、ヒートシール層２、ヒートシール層１、支持体、位相差層、選択反射層、および、偏光変換層を、この順番で有する積層体を形成した。
　この積層体の上に、縦２６０ｍｍ×横３３０ｍｍ、厚み０．７６ｍｍの積水化学工業社製のＰＶＢフィルム（中間膜）を配置し、さらにその上に、縦２６０ｍｍ×横３３０ｍｍ、厚み２ｍｍの凸の曲面ガラス基板（第２ガラス基板）を配置した。これを１１５℃、１０ｋＰａ（０．１気圧）下で１時間保持した後に、後述のエア抜けの評価を行った後、オートクレーブ（栗原製作所製）にて１４０℃、１．３Ｍｐａ（１３気圧）で６０分間加熱して気泡を除去し、合わせガラスを得た。

＜評価＞
（画像視認性）
　実施例および比較例の投映像表示用積層フィルムを用いて得られた上記合わせガラスの凹面にＰ偏光を当て、映像を投映し、評価者と合わせガラスの距離を変えて発生した虚像の歪みを観察して、画像視認性として下記基準で評価した。評価Ｃ以上を合格とした。
Ａ：２ｍの距離から観察して歪み無し。
Ｂ：１ｍの距離から観察して歪みが無いが、２ｍの距離から観察して殆ど歪み無し。
Ｃ：１ｍの距離から観察して歪みが無いが、２ｍの距離から観察すると僅かな歪みが有る。
Ｄ：１ｍの距離から観察して歪みが無いが、２ｍの距離から観察すると歪みが有る。
Ｅ：１ｍの距離から観察して歪みが有る。

（エア抜け）
　上記＜合わせガラスの作製＞の手順において説明したように、合わせガラスを作製する際において１４０℃、１．３Ｍｐａ（１３気圧）で６０分間加熱した後に目視で合わせガラス内の１ｍｍより大きい気泡が潰れて形成された痕の数を測定し、下記基準で評価した。気泡が潰れて形成された痕が少ないほど、エアの抜けがよいことを表す。
Ａ：１ｍｍより大きい気泡が潰れて形成された痕が存在しない。
Ｂ：１ｍｍより大きい気泡が潰れて形成された痕が１～５個存在する。
Ｃ：１ｍｍより大きい気泡が潰れて形成された痕が５～２０個存在する。
Ｄ：１ｍｍより大きい気泡が潰れて形成された痕が２０個以上存在する。

（耐衝撃性）
　実施例および比較例の投映像表示用積層フィルムを用いて得られた上記合わせガラスについて、ＪＩＳ　Ｒ　３２１２に基づいて、落球試験を行った。
　具体的には、－２０℃で冷却した合わせガラスに、鋼球（２２７ｇ、直径３８ｍｍ）を９ｍの高さから合わせガラスの第１ガラス基板側に落とし、第２ガラス基板からのガラスの落下量を測定した。以下の評価基準で、評価を行った。評価Ｃ以上を合格とした。
　　Ａ：ガラスの落下量が５ｇ未満
　　Ｂ：ガラスの落下量が５ｇ以上１０ｇ未満
　　Ｃ：ガラスの落下量が１０ｇ以上１５ｇ未満
　　Ｄ：ガラスの落下量が１５ｇ以上

　表３中、「コロナ処理」欄は、ヒートシール層２の表面にコロナ処理を実施したかを示し、「なし」は実施していないことを示し、「有り」は実施したことを示す。
　表３中、「ブラスト処理」欄は、ヒートシール層２の表面にブラスト処理を実施したかを示し、「なし」は実施していないことを示し、「有り」は実施したことを示す。また、「有り　弱」はブラスト処理の時間が３秒であり、「有り　中」はブラスト処理の時間が１０秒であり、「有り　強」はブラスト処理の時間が２０秒であることを意味する。
　表３中の「ヒートシール層１」の「層厚［μｍ］」と「ヒートシール層２」の「層厚［μｍ］」との合計値が、ヒートシール層の平均厚みに該当する。

　表３に示すように、本発明の投映像表示用積層フィルムは所定の効果を示すことが確認された。
　なかでも、実施例１～３の比較より、平均値Ａが３０ｎｍ以下（好ましくは、２０ｎｍ以下）の場合、より効果が優れることが確認された。
　また、実施例３～５の比較より、平均値Ｂが１５ｎｍ以上（好ましくは、２０ｎｍ以上）の場合、より効果が優れることが確認された。
　また、実施例５と６との比較より、ヒートシール層の支持体側とは反対側の表面の水接触角が９０°以下の場合、より効果が優れることが確認された。

　１０Ａ，１０Ｂ，１００　　投映像表示用積層フィルム
　１２，１０２　　支持体
　１４，１０４　　選択反射層
　１６，１０６　　ヒートシール層
　２０，３２　　投映像表示用合わせガラス
　２２　　第１ガラス基板
　２４　　中間層
　２６　　第２ガラス基板
　３０　　投映像表示システム
　３４　　プロジェクター
　１０８　　ガラス基板

Claims

　支持体と、
　前記支持体の一方の表面側に配置される、選択反射層と、
　前記支持体の他方の表面側に配置される、ヒートシール層とを、有し、
　前記ヒートシール層の平均厚みが５μｍ以上であり、
　前記ヒートシール層の前記支持体側とは反対側の表面の異なる３箇所の位置における縦３７００μｍ×横４９００μｍの視野範囲での算術平均高さＳａを測定して、各箇所における前記算術平均高さＳａの平均値Ａが４０ｎｍ以下であり、
　前記ヒートシール層の前記支持体側とは反対側の表面の異なる３箇所の位置における縦１８０μｍ×横２４０μｍの視野範囲での算術平均高さＳａを測定して、各箇所における前記算術平均高さＳａの平均値Ｂが７ｎｍ以上である、投映像表示用積層フィルム。
　前記ヒートシール層の前記支持体側とは反対側の表面の水接触角が９０°以下である、請求項１に記載の投映像表示用積層フィルム。
　前記ヒートシール層がポリビニルアセタール樹脂を含む、請求項１に記載の投映像表示用積層フィルム。
　前記ヒートシール層がシリカ粒子を含み、
　前記シリカ粒子の含有量が、前記ヒートシール層全質量に対して、１質量％以上である、請求項１に記載の投映像表示用積層フィルム。
　前記シリカ粒子の含有量が、前記ヒートシール層全質量に対して、７質量％以上である、請求項４に記載の投映像表示用積層フィルム。
　２枚のガラス基板と、
　前記２枚のガラス基板の間に配置された、請求項１～５のいずれか１項に記載の投映像表示用積層フィルムとを含む、投映像表示用合わせガラス。
　請求項６に記載の投映像表示用合わせガラスと、前記投映像表示用合わせガラスに投映光を出射するプロジェクターとを含む、投映像表示システム。