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Application filed by ASML Netherlands BVfiledCriticalASML Netherlands BV
Publication of WO2026092920A1publicationCriticalpatent/WO2026092920A1/fr
Un mode de réalisation concerne un procédé consistant à obtenir une transformée de Fourier d'un motif d'interférence, à obtenir une composante de bande centrale à partir de la transformée de Fourier du motif d'interférence, à obtenir une composante de bande latérale à partir de la transformée de Fourier du motif d'interférence, à obtenir une image de transformée de Fourier inverse de bande centrale en effectuant une transformée de Fourier inverse de la composante de bande centrale, à obtenir une image de transformée de Fourier inverse de bande latérale en effectuant une transformée de Fourier inverse de la composante de bande latérale, et à se baser sur une comparaison entre l'image de transformée de Fourier inverse de bande latérale et l'image de transformée de Fourier inverse de bande centrale pour déterminer un facteur de réduction de hauteur de frange, le facteur de réduction de hauteur de frange correspondant à une réduction de hauteur de frange d'interférence due au flou de mouvement dans le motif d'interférence.
PCT/EP2025/0771822024-10-282025-09-23Détermination de facteur de réduction de hauteur de frange pour un motif d'interférence
PendingWO2026092920A1
(fr)