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Verfahren zur Herstellung von Rückstrahlkopien.
Bei der Herstellung von Kopien durch Bestrahlung von wenig oder nicht lichtdurchlässigen
Originalen oder solche, die zwar mehr oder weniger durchlässig sind, jedoch auf beiden Seiten ein Bild tragen, wie z. B. zweiseitig beschriebene oder b ? druckte Schrift- oder Dmcksachen u. dgl., ist man auf die vom Original rückgestrahlten (reflektierten) Strahlen angewiesen.
Ausser hiezu dienenden Verfahren, bei denen eine Kamera oder zum mindesten ein Objektiv gebraucht wird, sind auch Verfahren bekannt, bei denen sich das empfindliche Material in Kontakt mit dem Original oder in dessen Nähe befindet, und wob ? i also die Bestrahlung durch das empfindliche Material hindurch stattfindet.
Derartige Verfahren sind unter anderm in August Albert, Die Eeflektographie für Reproduktionen ohne photographische Kamera", (Halle 1922) beschrieben. Eine Erklärung des Wesens dieser Verfahren ist von R. A. Reiss in"Eder's Jahrbuch für Photographie und Reproduktionstechnik für das Jahr 1903", S. 110, gegeben. Die Erfindung berührt-dieses Gebiet, so dass auch im folgenden der Einfachheit halber das beschriebene Verfahren zu den Rückstrahlverfahren (Reflektographie) gerechnet wird und die damit erhaltenen Kopien mit Rüekstrahlkopien ("Reflexkopien") bezeichnet werden sollen.
Die Rückstrahlverfahren sind noch unvollkommen. Bei ihrer Anwendung auf die verschiedenen photographischen Verfahren, wie die mit Silber-, Chrom-und Diazoverbindungen arbeitenden, und auf die vielen andern Verfahren weist sie in mehr oder weniger grossem Masse den Nachteil auf, dass sie selten oder nie schleierfreie bzw. kräftige Kopien liefert.
Es ist aus dem Patent Nr. 145512 bekannt, bei der Herstellung von Rückstrahlkopien die Strahlung, welche das Original trifft, vor oder während des Durchganges durch die empfindliche Schicht in kleine Gebiete von grösserem und kleinerem photochemischem Vermögen aufzuteilen.
In einfacher Weise erhält man diesen Erfolg, wenn man die Bestrahlung durch einen sogenannten Raster hindurch vornimmt, welchen man zwischen der Strahlungsquelle und dem empfindlichen Blatt anbringt, vorzugsweise in der unmittelbaren Nähe des empfindlichen Blattes, gegebenenfalls in direkter Berührung damit oder auf diesem selbst angebracht. Der Raster kann ein Deckungsraster, aber auch ein Linsen-, Prismen-oder ähnlicher Raster, sein.
Bei der Ausführung dieses Verfahrens kann man sich einer empfindlichen Schicht bedienen, die auf einer Folie als Träger angebracht ist. Das Ganze, d. h. der Träger mit der empfindlichen Schicht, wird Blatt genannt. Auch der Raster kann zum Blatte gehören, wenn er darauf angebracht ist.
Es ist auch ein Verfahren bekannt zur Herstellung von photographischem, lichtempfindlichem Material, wobei auf die lichtempfindliche Unterlage eine lichtempfindliche Emulsionsschicht derart aufgetragen wird, dass sie klare lichtdurchlässige Unterbrechungen von gleicher oder variabler Lichtweite erhält. Das so hergestellte gerasterte, lichtempfindliche Material ist jedoch für Rasterrüekstrahl- verfahren ungeeignet, weil die Emulsionsschicht durchlässig ist.
Bei dem Rasterrückstrahlverfahren hat es sich gezeigt, dass die Elementstärke der Rasterung den Erfolg beeinflusst. Als Elementstärke der Rasterung wird im Falle eines Linienrasters, worunter auch schachbrettartige oder ähnliche Rasterungen zu verstehen sind, die Breite oder die grösste Breite der deckenden Teile in Millimeter verstanden, bei Linsen-bzw. Prismenrastem die Breite der ausserhalb den aktinisch konzentrierten Lichtbündeln fallenden Teile, im allgemeinen also die Breite der von der Strahlung wenig oder nicht direkt getroffenen Teile der von dem Raster geschützten Schicht.
Es wurde nun gefunden, dass der Erfolg, welcher mit einer bestimmten Elementstärke der Rasterung verbunden ist, abhängig ist von dem Abstand zwischen der empfindlichen Schicht oder der empfindlichen Schicht und dem Original. Dieser Abstand wird nachfolgend Bildabstand genannt und auch in Millimeter ausgedrückt. Es wurde gefunden, dass bei Verminderung der Elementstärke auch ein geringerer Bildabstand erwünscht ist, weil dadurch die Kopie schärfer wird, während bei einer grösseren Elementstärke auch der Bildabstand etwas grösser genommen werden muss, damit die empfindliche Schicht von der zurückgeworfenen Strahlung in genügendem Masse getroffen wird. Es ist klar, dass deshalb bei grösserer Elementstärke ein grösserer Bildabstand erforderlich ist.
Gemäss der Erfindung wird ein einseitig mit einer empfindlichen Schicht versehener Träger derart auf das Original gelegt, dass die empfindliche Seite dem Original abgewendet ist, womit ein gewisser Bildabstand gegeben ist. Der praktisch mögliche minimale Bildabstand wird dann bestimmt durch die praktisch mögliche minimale Dicke des Trägers, welche wieder vom Trägermaterial abhängt. Der Bildabstand kann erwünschtenfalls vergrössert werden durch Zwischenschaltung einer durchsichtigen Folie zwischen dem Original und dem empfindlichen Blatte. Auch kann man den Bildabstand
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aufeinander einstellen, mit andern Worten, man wählt die Dicke des Trägers grösser in dem Masse als die Elementstärke der Gebiete von geringerem photochemischem Vermögen grösser ist.
Bei Verwendung eines Deckungsrasters wurde gefunden, dass man in bestimmten Fällen bessere
Ergebnisse erzielt, wenn die Rasteroberfläche-wenigstens an der der empfindlichen Schicht zuge- kehrten Seite-stark spiegelt. Ein Rückstrahlvermögen der deckenden Rasterteile nach der Seite der Strahlungsquelle hin besitzt überdies noch den Vorteil, dass die abgefangenen Strahlen nach der
Seite der Lichtquelle zurückgeworfen werden, so dass, wenn diese mit einem Reflektor versehen ist, oder wenn z. B. auf einer rotierenden oder nichtrotierenden Zylinderoberfläche od. dgl. gearbeitet wird, diese Energie nicht oder wenigstens nicht ganz verloren geht.
Auch ist es hiebei von Vorteil, dass der Raster weniger erwärmt wird und daher gegebenenfalls nicht gekühlt zu werden braucht, wie dies bei Rastern, deren deckende Teile die Strahlen absorbieren, notwendig sein kann.
Bisweilen kann man das Blatt mit Rastern versehen, welche vorzugsweise so gewählt sind, dass sie sich wieder von dem empfindlichen Blatt entfernen lassen, z. B. mechanisch oder durch Waschen mit Wasser oder andern Lösungsmitteln oder durch Waschen und gleichzeitige mechanische Behandlung oder auf sonstige Art. Auch in diesem Falle vermag es Vorteile zu bieten, wenn man ein rückstrahlendes
Rastermaterial wählt.
Auch kann man vorteilhaft als Rastermaterial auf dem empfindlichen Blatt einen Stoff anbringen, der photochemisch wirksame Strahlen, z. B. ultraviolette Strahlen, zurückhält, jedoch die übrigen
Strahlen durchlässt. Immer muss dann der Raster unmittelbar auf der empfindlichen Schicht angebracht werden. Es ist vorteilhaft, die empfindlichen Schichten mit dazugehörenden Rastern versehen in den
Handel zu bringen.
Der Verbraucher hat beim Arbeiten gemäss der Erfindung nur die empfindliche Schicht in der richtigen Weise (mit dem empfindlichen Material von dem Original abgewendet) auf das Original zu legen, darauf den Raster anzubringen (wenn dieser nicht schon auf der empfindlichen Schicht selber angebracht ist) und hat bereits die richtige Einrichtung für die Herstellung von Rückstrahlkopien.
Die Erfindung kann auf alle üblichen empfindlichen Schichten, wie solche mit Silber-, Diazound ähnlichen Verbindungen, angewendet werden.
Beispiel : In einer Bromsilberplatte wird auf photographischem Weg eine Punktrasterung angebracht mit einer mittleren Elementstärke von 0'1 mm und einem Deekungsanteil von 0'9, dessen durchlässige Punkte sich in den Ecken von Quadraten befinden. Die Bildschicht der auf diese Weise erhaltenen gerasterten Platte wird in Berührung gebracht mit der empfindlichen Schicht einer Bromsilberfolie von O'l mm Dicke, deren Bromsilbergelatinschicht 0'01 mm dick ist. Gegenüber der nichtempfindlichen Seite dieser Folie befindet sich ein Original, das aus einem Druckorgan besteht. Die drei so vereinigten Teile werden in der üblichen Weise in einem Kopierrahmen zusammengehalten und durch die Rasterplatte hindurchbelichtet, z. B. mittels einer Glühlampe in einer Entfernung von 30 cm.
Nach der Belichtung wird die Bromsilberfolie in üblicher Weise entwickelt, fixiert und gespült.
Man erhält eine negative Kopie des Originals von grösserer Kraft als die Kopie, welche man unter übrigens gleichen Bedingungen erhalten haben würde bei umgekehrter Lage des empfindlichen Blattes mit Bezug auf das Original und den Raster. Wäre die Elementstärke der Rasterung 0'25 gewesen, so hätte man mit dem empfindlichen Blatt eine weniger kräftige Rückstrahlkopie erhalten, weil dann der Bildabstand im Verhältnis zu der Elementstärke ungünstiger wird. Dabei wird auch die Bestrahlungsdauer länger. Vergrössert man den Bildabstand jedoch, indem man ein empfindliches Blatt von z. B.
0'2 mm Dicke nimmt, so erhält man wieder bessere Resultate.
Wenn man statt des oben beschriebenen Rasters einen spiegelnden Raster verwendet, so würde man mit geringerer Bestrahlung ein kräftiges Bild erhalten haben. Die Rasterteile können z. B. auch durch mechanisches Aufdrucken auf die empfindliche Schicht angebracht werden. Man muss den Raster aber entfernen können, z. B. durch Auswaschen, Ausbleichen usw.
PATENT-ANSPRÜCHE :
1. Verfahren zur Herstellung von Rückstrahlkopien, bei dem das Original von einer rasterartig aufgeteilten Strahlung getroffen wird, dadurch gekennzeichnet, dass der Bildabstand und die Elementstärke der Rasterung (Breite der von der Strahlung wenig oder nicht unmittelbar getroffenen Teile der von dem Raster geschützten Schicht) ungefähr von der gleichen Grössenordnung sind und dass der Bildabstand um so grösser gewählt wird, je grösser die Elementstärke der Rasterung ist.
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Process for making retroreflective copies.
When making copies by irradiating little or no translucent
Originals or those that are more or less transparent, but have an image on both sides, such as B. described on both sides or b? printed written or printed matter etc. Like., one is dependent on the reflected (reflected) rays from the original.
In addition to processes that are used for this purpose, in which a camera or at least a lens is used, processes are also known in which the sensitive material is in contact with the original or in its vicinity, and what? i So the irradiation takes place through the sensitive material.
Such processes are described, among other things, in August Albert, Die Eeflektographie für Reproduktionen ohne Photographie Kamera ", (Halle 1922). An explanation of the nature of this process is given by RA Reiss in" Eder's Yearbook for Photography and Reproduction Technology for the Year 1903 ", p. 110. The invention touches on this area, so that in the following, for the sake of simplicity, the method described is included in the retroreflective method (reflectography) and the copies obtained therewith are to be referred to as retroreflective copies ("reflective copies").
The reflection methods are still imperfect. When applied to the various photographic processes, such as those working with silver, chromium and diazo compounds, and to the many other processes, it has the disadvantage, to a greater or lesser extent, that it seldom or never produces veil-free or strong copies .
It is known from patent no. 145512 to divide the radiation which strikes the original into small areas of greater and lesser photochemical properties before or during the passage through the sensitive layer when making retro-reflective copies.
This success is achieved in a simple manner if the irradiation is carried out through a so-called grid, which is attached between the radiation source and the sensitive sheet, preferably in the immediate vicinity of the sensitive sheet, possibly in direct contact with it or attached to it itself. The grid can be a cover grid, but also a lens, prism or similar grid.
When carrying out this process, one can use a sensitive layer that is attached to a film as a carrier. The whole, d. H. the support with the sensitive layer is called the sheet. The grid can also belong to the sheet if it is attached to it.
A method is also known for the production of photographic, light-sensitive material, a light-sensitive emulsion layer being applied to the light-sensitive base in such a way that it contains clear, translucent interruptions of equal or variable light width. The screened, light-sensitive material produced in this way, however, is unsuitable for screening back-radiation processes because the emulsion layer is permeable.
With the raster reflection method, it has been shown that the element thickness of the raster affects the success. In the case of a line grid, which also includes checkerboard-like or similar grids, the element thickness of the grid is understood to be the width or the greatest width of the covering parts in millimeters. Prism grid is the width of the parts falling outside the actinically concentrated light bundles, that is to say generally the width of the parts of the layer protected by the grid that are little or not directly affected by the radiation.
It has now been found that the success associated with a certain element strength of the screening depends on the distance between the sensitive layer or the sensitive layer and the original. This distance is referred to below as the image distance and is also expressed in millimeters. It has been found that when the element thickness is reduced, a smaller image distance is desired because this makes the copy sharper, while with a greater element thickness the image distance also has to be made somewhat larger so that the sensitive layer is hit sufficiently by the reflected radiation . It is clear that a larger image spacing is therefore required with a larger element thickness.
According to the invention, a carrier provided with a sensitive layer on one side is placed on the original in such a way that the sensitive side is turned away from the original, thus providing a certain image distance. The practically possible minimum image distance is then determined by the practically possible minimum thickness of the carrier, which again depends on the carrier material. The image distance can, if desired, be increased by interposing a transparent film between the original and the sensitive sheet. You can also adjust the image distance
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adjust to one another, in other words, the thickness of the support is chosen to be greater than the elemental strength of the areas of lower photochemical capacity.
Using a coverage grid has been found to be better in certain cases
Results achieved when the grid surface - at least on the side facing the sensitive layer - reflects strongly. A retroreflective ability of the opaque grid parts to the side of the radiation source also has the advantage that the intercepted rays after the
Side of the light source are reflected, so that if it is provided with a reflector, or if z. B. od on a rotating or non-rotating cylinder surface. Like. If this energy is not or at least not completely lost.
It is also advantageous here that the grid is heated less and therefore does not need to be cooled, as may be necessary in the case of grids whose covering parts absorb the rays.
Sometimes you can provide the sheet with grids, which are preferably chosen so that they can be removed from the sensitive sheet, z. B. mechanically or by washing with water or other solvents or by washing and simultaneous mechanical treatment or in some other way. In this case, too, it can offer advantages if one uses a retroreflective
Selects grid material.
It is also advantageous to attach a substance as a grid material to the sensitive sheet, the photochemically effective rays, eg. B. ultraviolet rays, but the rest
Lets rays through. The grid must then always be attached directly to the sensitive layer. It is advantageous to provide the sensitive layers with corresponding grids in the
To bring trade.
When working according to the invention, the consumer only has to place the sensitive layer in the correct way (with the sensitive material turned away from the original) on the original, attach the grid to it (if this is not already attached to the sensitive layer itself) and already has the right facility for making retroreflective copies.
The invention can be applied to all common sensitive layers, such as those with silver, diazo and similar compounds.
Example: In a silver bromide plate, a grid of points is applied by photographic means with an average element thickness of 0.1 mm and a percentage of thinning of 0.9, the permeable points of which are located in the corners of squares. The image layer of the gridded plate obtained in this way is brought into contact with the sensitive layer of a silver bromide foil with a thickness of 1 mm, the gelatin bromide layer of which is 0.01 mm thick. Opposite the non-sensitive side of this film is an original that consists of a pressure element. The three parts thus united are held together in the usual way in a copying frame and exposed through the grid plate, e.g. B. by means of an incandescent lamp at a distance of 30 cm.
After exposure, the silver bromide foil is developed, fixed and rinsed in the usual way.
A negative copy of the original is obtained which is more powerful than the copy which would otherwise have been obtained under the same conditions if the sensitive sheet was reversed with respect to the original and the grid. If the element thickness of the grid had been 0'25, one would have obtained a less powerful retro-reflective copy with the sensitive sheet, because the image distance would then be less favorable in relation to the element thickness. The duration of the irradiation is also longer. If you increase the image distance, however, by a sensitive sheet of z. B.
If the thickness increases to 0.2 mm, better results are obtained again.
If a reflective grid is used instead of the grid described above, a strong image would have been obtained with less radiation. The grid parts can, for. B. can also be applied by mechanical printing on the sensitive layer. But you have to be able to remove the grid, e.g. B. by washing out, fading, etc.
PATENT CLAIMS:
1. A method for the production of retro-reflective copies, in which the original is hit by radiation divided up like a grid, characterized in that the image distance and the element thickness of the grid (width of the parts of the layer protected by the grid that are little or not directly affected by the radiation) are of roughly the same order of magnitude and that the larger the element thickness of the grid, the larger the image spacing is chosen.