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Verfahren zur Herstellung von Rückstrahlkopien.
Bei der Herstellung von Kopien durch Bestrahlung von wenig oder nicht lichtdurchlässigen
Originalen oder solche, die zwar mehr oder weniger durchlässig sind, jedoch auf beiden Seiten ein Bild tragen, wie z. B. zweiseitig beschriebene oder b ? druckte Schrift- oder Dmcksachen u. dgl., ist man auf die vom Original rückgestrahlten (reflektierten) Strahlen angewiesen.
Ausser hiezu dienenden Verfahren, bei denen eine Kamera oder zum mindesten ein Objektiv gebraucht wird, sind auch Verfahren bekannt, bei denen sich das empfindliche Material in Kontakt mit dem Original oder in dessen Nähe befindet, und wob ? i also die Bestrahlung durch das empfindliche Material hindurch stattfindet.
Derartige Verfahren sind unter anderm in August Albert, Die Eeflektographie für Reproduktionen ohne photographische Kamera", (Halle 1922) beschrieben. Eine Erklärung des Wesens dieser Verfahren ist von R. A. Reiss in"Eder's Jahrbuch für Photographie und Reproduktionstechnik für das Jahr 1903", S. 110, gegeben. Die Erfindung berührt-dieses Gebiet, so dass auch im folgenden der Einfachheit halber das beschriebene Verfahren zu den Rückstrahlverfahren (Reflektographie) gerechnet wird und die damit erhaltenen Kopien mit Rüekstrahlkopien ("Reflexkopien") bezeichnet werden sollen.
Die Rückstrahlverfahren sind noch unvollkommen. Bei ihrer Anwendung auf die verschiedenen photographischen Verfahren, wie die mit Silber-, Chrom-und Diazoverbindungen arbeitenden, und auf die vielen andern Verfahren weist sie in mehr oder weniger grossem Masse den Nachteil auf, dass sie selten oder nie schleierfreie bzw. kräftige Kopien liefert.
Es ist aus dem Patent Nr. 145512 bekannt, bei der Herstellung von Rückstrahlkopien die Strahlung, welche das Original trifft, vor oder während des Durchganges durch die empfindliche Schicht in kleine Gebiete von grösserem und kleinerem photochemischem Vermögen aufzuteilen.
In einfacher Weise erhält man diesen Erfolg, wenn man die Bestrahlung durch einen sogenannten Raster hindurch vornimmt, welchen man zwischen der Strahlungsquelle und dem empfindlichen Blatt anbringt, vorzugsweise in der unmittelbaren Nähe des empfindlichen Blattes, gegebenenfalls in direkter Berührung damit oder auf diesem selbst angebracht. Der Raster kann ein Deckungsraster, aber auch ein Linsen-, Prismen-oder ähnlicher Raster, sein.
Bei der Ausführung dieses Verfahrens kann man sich einer empfindlichen Schicht bedienen, die auf einer Folie als Träger angebracht ist. Das Ganze, d. h. der Träger mit der empfindlichen Schicht, wird Blatt genannt. Auch der Raster kann zum Blatte gehören, wenn er darauf angebracht ist.
Es ist auch ein Verfahren bekannt zur Herstellung von photographischem, lichtempfindlichem Material, wobei auf die lichtempfindliche Unterlage eine lichtempfindliche Emulsionsschicht derart aufgetragen wird, dass sie klare lichtdurchlässige Unterbrechungen von gleicher oder variabler Lichtweite erhält. Das so hergestellte gerasterte, lichtempfindliche Material ist jedoch für Rasterrüekstrahl- verfahren ungeeignet, weil die Emulsionsschicht durchlässig ist.
Bei dem Rasterrückstrahlverfahren hat es sich gezeigt, dass die Elementstärke der Rasterung den Erfolg beeinflusst. Als Elementstärke der Rasterung wird im Falle eines Linienrasters, worunter auch schachbrettartige oder ähnliche Rasterungen zu verstehen sind, die Breite oder die grösste Breite der deckenden Teile in Millimeter verstanden, bei Linsen-bzw. Prismenrastem die Breite der ausserhalb den aktinisch konzentrierten Lichtbündeln fallenden Teile, im allgemeinen also die Breite der von der Strahlung wenig oder nicht direkt getroffenen Teile der von dem Raster geschützten Schicht.
Es wurde nun gefunden, dass der Erfolg, welcher mit einer bestimmten Elementstärke der Rasterung verbunden ist, abhängig ist von dem Abstand zwischen der empfindlichen Schicht oder der empfindlichen Schicht und dem Original. Dieser Abstand wird nachfolgend Bildabstand genannt und auch in Millimeter ausgedrückt. Es wurde gefunden, dass bei Verminderung der Elementstärke auch ein geringerer Bildabstand erwünscht ist, weil dadurch die Kopie schärfer wird, während bei einer grösseren Elementstärke auch der Bildabstand etwas grösser genommen werden muss, damit die empfindliche Schicht von der zurückgeworfenen Strahlung in genügendem Masse getroffen wird. Es ist klar, dass deshalb bei grösserer Elementstärke ein grösserer Bildabstand erforderlich ist.
Gemäss der Erfindung wird ein einseitig mit einer empfindlichen Schicht versehener Träger derart auf das Original gelegt, dass die empfindliche Seite dem Original abgewendet ist, womit ein gewisser Bildabstand gegeben ist. Der praktisch mögliche minimale Bildabstand wird dann bestimmt durch die praktisch mögliche minimale Dicke des Trägers, welche wieder vom Trägermaterial abhängt. Der Bildabstand kann erwünschtenfalls vergrössert werden durch Zwischenschaltung einer durchsichtigen Folie zwischen dem Original und dem empfindlichen Blatte. Auch kann man den Bildabstand
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aufeinander einstellen, mit andern Worten, man wählt die Dicke des Trägers grösser in dem Masse als die Elementstärke der Gebiete von geringerem photochemischem Vermögen grösser ist.
Bei Verwendung eines Deckungsrasters wurde gefunden, dass man in bestimmten Fällen bessere
Ergebnisse erzielt, wenn die Rasteroberfläche-wenigstens an der der empfindlichen Schicht zuge- kehrten Seite-stark spiegelt. Ein Rückstrahlvermögen der deckenden Rasterteile nach der Seite der Strahlungsquelle hin besitzt überdies noch den Vorteil, dass die abgefangenen Strahlen nach der
Seite der Lichtquelle zurückgeworfen werden, so dass, wenn diese mit einem Reflektor versehen ist, oder wenn z. B. auf einer rotierenden oder nichtrotierenden Zylinderoberfläche od. dgl. gearbeitet wird, diese Energie nicht oder wenigstens nicht ganz verloren geht.
Auch ist es hiebei von Vorteil, dass der Raster weniger erwärmt wird und daher gegebenenfalls nicht gekühlt zu werden braucht, wie dies bei Rastern, deren deckende Teile die Strahlen absorbieren, notwendig sein kann.
Bisweilen kann man das Blatt mit Rastern versehen, welche vorzugsweise so gewählt sind, dass sie sich wieder von dem empfindlichen Blatt entfernen lassen, z. B. mechanisch oder durch Waschen mit Wasser oder andern Lösungsmitteln oder durch Waschen und gleichzeitige mechanische Behandlung oder auf sonstige Art. Auch in diesem Falle vermag es Vorteile zu bieten, wenn man ein rückstrahlendes
Rastermaterial wählt.
Auch kann man vorteilhaft als Rastermaterial auf dem empfindlichen Blatt einen Stoff anbringen, der photochemisch wirksame Strahlen, z. B. ultraviolette Strahlen, zurückhält, jedoch die übrigen
Strahlen durchlässt. Immer muss dann der Raster unmittelbar auf der empfindlichen Schicht angebracht werden. Es ist vorteilhaft, die empfindlichen Schichten mit dazugehörenden Rastern versehen in den
Handel zu bringen.
Der Verbraucher hat beim Arbeiten gemäss der Erfindung nur die empfindliche Schicht in der richtigen Weise (mit dem empfindlichen Material von dem Original abgewendet) auf das Original zu legen, darauf den Raster anzubringen (wenn dieser nicht schon auf der empfindlichen Schicht selber angebracht ist) und hat bereits die richtige Einrichtung für die Herstellung von Rückstrahlkopien.
Die Erfindung kann auf alle üblichen empfindlichen Schichten, wie solche mit Silber-, Diazound ähnlichen Verbindungen, angewendet werden.
Beispiel : In einer Bromsilberplatte wird auf photographischem Weg eine Punktrasterung angebracht mit einer mittleren Elementstärke von 0'1 mm und einem Deekungsanteil von 0'9, dessen durchlässige Punkte sich in den Ecken von Quadraten befinden. Die Bildschicht der auf diese Weise erhaltenen gerasterten Platte wird in Berührung gebracht mit der empfindlichen Schicht einer Bromsilberfolie von O'l mm Dicke, deren Bromsilbergelatinschicht 0'01 mm dick ist. Gegenüber der nichtempfindlichen Seite dieser Folie befindet sich ein Original, das aus einem Druckorgan besteht. Die drei so vereinigten Teile werden in der üblichen Weise in einem Kopierrahmen zusammengehalten und durch die Rasterplatte hindurchbelichtet, z. B. mittels einer Glühlampe in einer Entfernung von 30 cm.
Nach der Belichtung wird die Bromsilberfolie in üblicher Weise entwickelt, fixiert und gespült.
Man erhält eine negative Kopie des Originals von grösserer Kraft als die Kopie, welche man unter übrigens gleichen Bedingungen erhalten haben würde bei umgekehrter Lage des empfindlichen Blattes mit Bezug auf das Original und den Raster. Wäre die Elementstärke der Rasterung 0'25 gewesen, so hätte man mit dem empfindlichen Blatt eine weniger kräftige Rückstrahlkopie erhalten, weil dann der Bildabstand im Verhältnis zu der Elementstärke ungünstiger wird. Dabei wird auch die Bestrahlungsdauer länger. Vergrössert man den Bildabstand jedoch, indem man ein empfindliches Blatt von z. B.
0'2 mm Dicke nimmt, so erhält man wieder bessere Resultate.
Wenn man statt des oben beschriebenen Rasters einen spiegelnden Raster verwendet, so würde man mit geringerer Bestrahlung ein kräftiges Bild erhalten haben. Die Rasterteile können z. B. auch durch mechanisches Aufdrucken auf die empfindliche Schicht angebracht werden. Man muss den Raster aber entfernen können, z. B. durch Auswaschen, Ausbleichen usw.
PATENT-ANSPRÜCHE :
1. Verfahren zur Herstellung von Rückstrahlkopien, bei dem das Original von einer rasterartig aufgeteilten Strahlung getroffen wird, dadurch gekennzeichnet, dass der Bildabstand und die Elementstärke der Rasterung (Breite der von der Strahlung wenig oder nicht unmittelbar getroffenen Teile der von dem Raster geschützten Schicht) ungefähr von der gleichen Grössenordnung sind und dass der Bildabstand um so grösser gewählt wird, je grösser die Elementstärke der Rasterung ist.