ATA9674A - Verfahren zum beschichten eines langgestreckten tragers mit einem dunnen film durch dampfplasmabeschichtung und vorrichtung zur durchfuhrung dieses verfahrens - Google Patents

Verfahren zum beschichten eines langgestreckten tragers mit einem dunnen film durch dampfplasmabeschichtung und vorrichtung zur durchfuhrung dieses verfahrens

Info

Publication number
ATA9674A
ATA9674A AT9674A AT9674A ATA9674A AT A9674 A ATA9674 A AT A9674A AT 9674 A AT9674 A AT 9674A AT 9674 A AT9674 A AT 9674A AT A9674 A ATA9674 A AT A9674A
Authority
AT
Austria
Prior art keywords
coating
carrying
thin film
long stretched
steam plasma
Prior art date
Application number
AT9674A
Other languages
English (en)
Other versions
AT341335B (de
Original Assignee
Coulter Information Systems
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Coulter Information Systems filed Critical Coulter Information Systems
Publication of ATA9674A publication Critical patent/ATA9674A/de
Application granted granted Critical
Publication of AT341335B publication Critical patent/AT341335B/de

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32431—Constructional details of the reactor
    • H01J37/32733—Means for moving the material to be treated
    • H01J37/32752—Means for moving the material to be treated for moving the material across the discharge
    • H01J37/32761—Continuous moving
    • H01J37/3277—Continuous moving of continuous material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/3464—Sputtering using more than one target
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
    • C23C14/541—Heating or cooling of the substrates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
AT9674A 1973-01-12 1974-01-07 Verfahren zum beschichten eines langgestreckten tragers mit einem dunnen film durch dampfplasmabeschichtung und vorrichtung zur durchfuhrung dieses verfahrens AT341335B (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US323133A US3884787A (en) 1973-01-12 1973-01-12 Sputtering method for thin film deposition on a substrate

Publications (2)

Publication Number Publication Date
ATA9674A true ATA9674A (de) 1977-05-15
AT341335B AT341335B (de) 1978-02-10

Family

ID=23257860

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
AT9674A AT341335B (de) 1973-01-12 1974-01-07 Verfahren zum beschichten eines langgestreckten tragers mit einem dunnen film durch dampfplasmabeschichtung und vorrichtung zur durchfuhrung dieses verfahrens

Country Status (15)

Country Link
US (1) US3884787A (de)
JP (1) JPS5747267B2 (de)
AT (1) AT341335B (de)
BE (1) BE809464A (de)
CA (1) CA1018475A (de)
CH (1) CH597622A5 (de)
DD (1) DD109035A5 (de)
DE (1) DE2400587A1 (de)
FR (1) FR2322667A1 (de)
GB (1) GB1461921A (de)
IL (1) IL43966A (de)
IT (1) IT1002650B (de)
LU (1) LU69122A1 (de)
NL (1) NL7317670A (de)
SE (1) SE392919B (de)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4384532A (en) * 1980-10-31 1983-05-24 Staff Arthur B Table extension for the handicapped
EP2508315A1 (de) 2011-04-07 2012-10-10 Dako Werk Dowidat KG Spaltkeil

Families Citing this family (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3939052A (en) * 1975-01-15 1976-02-17 Riley Leon H Depositing optical fibers
GB2010676B (en) * 1977-12-27 1982-05-19 Alza Corp Diffusional drug delivery device with block copolymer as drug carrier
US4331526A (en) * 1979-09-24 1982-05-25 Coulter Systems Corporation Continuous sputtering apparatus and method
US4290877A (en) * 1980-09-08 1981-09-22 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Interior Sputtering apparatus for coating elongated tubes and strips
DE3112104A1 (de) 1981-03-27 1982-10-07 Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln Verfahren und vorrichtung zum herstellen von elektrisch leitfaehigen transparenten oxidschichten
US4343881A (en) * 1981-07-06 1982-08-10 Savin Corporation Multilayer photoconductive assembly with intermediate heterojunction
US4434037A (en) 1981-07-16 1984-02-28 Ampex Corporation High rate sputtering system and method
US4389295A (en) * 1982-05-06 1983-06-21 Gte Products Corporation Thin film phosphor sputtering process
JPS5976571A (ja) * 1982-10-25 1984-05-01 Natl House Ind Co Ltd 塗布装置
GB8332394D0 (en) * 1983-12-05 1984-01-11 Pilkington Brothers Plc Coating apparatus
NL8602759A (nl) * 1986-10-31 1988-05-16 Bekaert Sa Nv Werkwijze en inrichting voor het behandelen van een langwerpig substraat, dat van een deklaag voorzien is; alsmede volgens die werkwijze behandelde substraten en met deze substraten versterkte voorwerpen uit polymeermateriaal.
US5219668A (en) * 1986-10-31 1993-06-15 N.V. Bekaert S.A. Process and apparatus for the treatment of coated, elongated substrate, as well as substrates thus treated and articles of polymeric material reinforced with these substrates
US4849087A (en) * 1988-02-11 1989-07-18 Southwall Technologies Apparatus for obtaining transverse uniformity during thin film deposition on extended substrate
DE3886754D1 (de) * 1988-10-19 1994-02-10 Ibm Deutschland Vorrichtung zum Plasma- oder reaktiven Ionenätzen und Verfahren zum Ätzen schlecht wärmeleitender Substrate.
DE29600991U1 (de) * 1996-01-20 1997-05-22 Strämke, Siegfried, Dr.-Ing., 52538 Selfkant Plasmareaktor
US5725706A (en) * 1996-03-12 1998-03-10 The Whitaker Corporation Laser transfer deposition
US6066826A (en) * 1998-03-16 2000-05-23 Yializis; Angelo Apparatus for plasma treatment of moving webs
ATE326556T1 (de) * 2002-03-15 2006-06-15 Vhf Technologies Sa Vorrichtung und verfahren zur herstellung von flexiblen halbleiter-einrichtungen
CH696013A5 (de) * 2002-10-03 2006-11-15 Tetra Laval Holdings & Finance Vorrichtung zur Behandlung eines bandförmigen Materials in einem Plasma-unterstützten Prozess.
US6906008B2 (en) * 2003-06-26 2005-06-14 Superpower, Inc. Apparatus for consecutive deposition of high-temperature superconducting (HTS) buffer layers
US7169232B2 (en) * 2004-06-01 2007-01-30 Eastman Kodak Company Producing repetitive coatings on a flexible substrate
ATE468797T1 (de) * 2004-12-29 2010-06-15 Sca Hygiene Prod Ab Freihand-papiertuchspender und spendersystem
DE102005058869A1 (de) * 2005-12-09 2007-06-14 Cis Solartechnik Gmbh & Co. Kg Verfahren und Vorrichtung zur Beschichtung von Bändern
KR100750654B1 (ko) * 2006-09-15 2007-08-20 한국전기연구원 장선 테이프 증착장치
KR100928222B1 (ko) * 2007-10-31 2009-11-24 한국전기연구원 가이드 롤러가 구비된 장선 증착 장치
US20090194505A1 (en) * 2008-01-24 2009-08-06 Microcontinuum, Inc. Vacuum coating techniques
EP2113585A1 (de) * 2008-04-29 2009-11-04 Applied Materials, Inc. Vorrichtung und Verfahren zum Vakuumbeschichten eines Bandes durch Verdrehen und mehrmaliges Führen des Bandes entlang einer Walze vorbei an einer Behandlungszone
TW201110831A (en) * 2009-09-03 2011-03-16 Chunghwa Picture Tubes Ltd Plasma apparatus and method of fabricating nano-crystalline silicon thin film
US9869782B2 (en) * 2012-10-22 2018-01-16 Proportional Technologies, Inc. Method and apparatus for coating thin foil with a boron coating
KR20140061808A (ko) * 2012-11-14 2014-05-22 삼성디스플레이 주식회사 유기물 증착 장치
US10112836B2 (en) * 2012-11-26 2018-10-30 The Regents Of The University Of Michigan Continuous nanosynthesis apparatus and process
EP4200461A4 (de) * 2020-08-21 2024-09-18 Applied Materials, Inc. Verarbeitungssystem zur verarbeitung eines flexiblen substrats und verfahren zur messung einer eigenschaft eines flexiblen substrats
CN113413895B (zh) * 2021-07-09 2022-03-29 苏州道一至诚纳米材料技术有限公司 薄膜催化剂的生产设备及生产方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2249710A (en) * 1935-02-18 1941-07-15 Ind Rayon Corp Apparatus for continuously processing thread or the like
NL143409C (de) * 1947-11-20
US3068510A (en) * 1959-12-14 1962-12-18 Radiation Res Corp Polymerizing method and apparatus
BE599444A (de) * 1960-02-03
US3343207A (en) * 1963-10-14 1967-09-26 Monsanto Co Novelty yarn apparatus
US3272175A (en) * 1965-05-12 1966-09-13 Heraeus Gmbh W C Vapor deposition means for strip-coating continuously moving, helically wound ribbon
US3477902A (en) * 1965-10-14 1969-11-11 Radiation Res Corp Process for making tires by exposure to an ionized gas and treatment with resorcinol-formaldehyde/latex composition and the product
DE1802932B2 (de) * 1968-10-14 1974-11-14 W.C. Heraeus Gmbh, 6450 Hanau Verfahren zur Herstellung eines elektrischen Schaltkontaktes
US3598639A (en) * 1968-12-09 1971-08-10 Bror Olov Nikolaus Hansson Method of continuously producing metal wire and profiles
US3700489A (en) * 1970-07-30 1972-10-24 Ethicon Inc Process for applying a thin coating of polytetrafluoroethylene

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4384532A (en) * 1980-10-31 1983-05-24 Staff Arthur B Table extension for the handicapped
EP2508315A1 (de) 2011-04-07 2012-10-10 Dako Werk Dowidat KG Spaltkeil

Also Published As

Publication number Publication date
GB1461921A (en) 1977-01-19
BE809464A (fr) 1974-07-08
CH597622A5 (de) 1978-04-14
US3884787A (en) 1975-05-20
JPS5747267B2 (de) 1982-10-08
DE2400587A1 (de) 1974-07-18
LU69122A1 (de) 1975-12-09
JPS49104972A (de) 1974-10-04
DD109035A5 (de) 1974-10-12
FR2322667A1 (fr) 1977-04-01
CA1018475A (en) 1977-10-04
SE392919B (sv) 1977-04-25
FR2322667B1 (de) 1978-10-27
IL43966A (en) 1976-12-31
IL43966A0 (en) 1974-06-30
NL7317670A (de) 1974-07-16
AT341335B (de) 1978-02-10
IT1002650B (it) 1976-05-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
AT341335B (de) Verfahren zum beschichten eines langgestreckten tragers mit einem dunnen film durch dampfplasmabeschichtung und vorrichtung zur durchfuhrung dieses verfahrens
CH464975A (de) Verfahren zum Bilden und Übertragen eines Films und Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens
CH523489A (de) Verfahren zum Abgleichen eines Schichtdickenmessgerätes und Einrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens
DD130810A5 (de) Verfahren zum behandeln eines substrats durch aufbringen eines photopolymerisierbaren mittels
AT332022B (de) Verfahren zur ausbildung eines metalloxyduberzuges auf einem substrat
AT347617B (de) Verfahren zum beschichten von glas und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens
CH519588A (de) Verfahren zur Bearbeitung eines Werkstückes mittels einer Glimmentladung und Apparatur zur Durchführung des Verfahrens
CH542666A (de) Verfahren und Vorrichtung zum Ausrichten einer Oberfläche eines flachen Gegenstandes
CH504783A (de) Verfahren zum Abtrennen eines Körpers von einem scheibenförmigen Kristall und Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens
CH427075A (de) Verfahren zum Schweissen eines Werkstückes ausserhalb einer Vakuumkammer mit einem Strahl geladener Teilchen und Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens
CH476522A (de) Verfahren und Vorrichtung zum elektrostatischen Sprühbeschichten eines Gegenstandes
AT351748B (de) Verfahren und vorrichtung zum aufbringen eines selbstsichernden belages
CH363676A (de) Vorrichtung zur Durchführung eines Verfahrens zur Herstellung von Schlüsselfolgen sehr grosser Periode
CH555049A (de) Verfahren zur potentiometrischen analyse eines probenstroms und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens.
ATA686173A (de) Verfahren zum verbinden eines ansatzstuckes mit einem rohr aus thermoschweissbarem material durch friktionsschweissen sowie eine vorrichtung zur durchfuhrung des verfahrens
AT340730B (de) Verfahren und vorrichtung zum herstellen eines mit einem isoliermantel versehenen rohres
CH550381A (de) Verfahren zum messen einer abmessung eines werkstuecks und vorrichtung zur durchfuehrung dieses verfahren.
ATA712375A (de) Verfahren zur umsetzung eines fluessigen mikrobiologischen substrates und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens
AT358165B (de) Verfahren zur reinigung von extrakten aus der zoapatl-pflanze mit einem gehalt an uteroevakuierenden substanzen
CH410862A (de) Verfahren zum Konzentrieren eines mehrkomponentigen, flüssigen Materials und Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens
CH558198A (de) Verfahren zur raeumlichen trennung von komponenten eines molekularstrahls und vorrichtung zur durchfuehrung dieses verfahrens.
AT284801B (de) Verfahren und Vorrichtung zum Zerlegen eines Kohlenwasserstoffgemisches unter gleichzeitiger Gewinnung von Acetylen
CH540207A (de) Verfahren zur Pyrolyse eines flüssigen oder gasförmigen Mediums, Anwendung dieses Verfahrens sowie Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
ATA1088470A (de) Verfahren und vorrichtung zur herstellung eines pulvers durch verspruhen einer schmelze
CH464019A (de) Verfahren zur Regulierung der Dicke eines Flüssigkeitsvorhangs, besonders eines Lackvorhangs, und Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens

Legal Events

Date Code Title Description
EFA Change in the company name
ELJ Ceased due to non-payment of the annual fee
UEP Publication of translation of european patent specification
REN Ceased due to non-payment of the annual fee