ATE114062T1 - Verfahren und vorrichtung zur gleichmässigen beschichtung eines substrats mit einer photolackschicht. - Google Patents

Verfahren und vorrichtung zur gleichmässigen beschichtung eines substrats mit einer photolackschicht.

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ATE114062T1
ATE114062T1 AT89402448T AT89402448T ATE114062T1 AT E114062 T1 ATE114062 T1 AT E114062T1 AT 89402448 T AT89402448 T AT 89402448T AT 89402448 T AT89402448 T AT 89402448T AT E114062 T1 ATE114062 T1 AT E114062T1
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rotation
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AT89402448T
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Gilbert Cavazza
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Karl Suss Tech
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    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
    • G03F7/162—Coating on a rotating support, e.g. using a whirler or a spinner

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AT89402448T 1988-09-15 1989-09-07 Verfahren und vorrichtung zur gleichmässigen beschichtung eines substrats mit einer photolackschicht. ATE114062T1 (de)

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