ATE223520T1 - Verfahren und vorrichtung zum ätzen - Google Patents

Verfahren und vorrichtung zum ätzen

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ATE223520T1
ATE223520T1 AT98201092T AT98201092T ATE223520T1 AT E223520 T1 ATE223520 T1 AT E223520T1 AT 98201092 T AT98201092 T AT 98201092T AT 98201092 T AT98201092 T AT 98201092T AT E223520 T1 ATE223520 T1 AT E223520T1
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AT
Austria
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anode
substrate
face
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magnetic circuit
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AT98201092T
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Brande Pierre Vanden
Alain Weymeersch
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Cockerill Rech & Dev
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10252178A1 (de) * 2002-11-09 2004-05-27 Sms Demag Ag Verfahren und Vorrichtung zum Entzundern und/oder Reinigen eines Metallstrangs
EP1783814A1 (de) * 2005-11-07 2007-05-09 ARCELOR France Verfahren und Einrichtung zum Reinigen eines Metallbandes mittels Magnetron-Zerstäubung
EP1783815A1 (de) * 2005-11-07 2007-05-09 ARCELOR France Verfahren und Anlage zum Ätzen eines Metallbandes mittels Vakuum-Magnetron-Zerstäubung
US20090145747A1 (en) * 2005-11-07 2009-06-11 Acrelormittal France Method and installation for the vacuum colouring of a metal strip by means of magnetron sputtering
JP5828770B2 (ja) * 2012-01-24 2015-12-09 株式会社神戸製鋼所 真空成膜装置
FR3088346B1 (fr) * 2018-11-14 2025-12-05 Safran Aircraft Engines Procede de decapage d’une piece de turbomachine

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59175125A (ja) * 1983-03-24 1984-10-03 Toshiba Corp ドライエツチング装置
FR2592520B1 (fr) * 1985-12-27 1988-12-09 Atelier Electro Thermie Const Dispositif de creation d'un champ magnetique glissant, en particulier pour gravure ionique rapide sous champ magnetique
US4896813A (en) * 1989-04-03 1990-01-30 Toyo Kohan Co., Ltd. Method and apparatus for cold rolling clad sheet
US5082542A (en) * 1990-08-02 1992-01-21 Texas Instruments Incorporated Distributed-array magnetron-plasma processing module and method
US5079481A (en) * 1990-08-02 1992-01-07 Texas Instruments Incorporated Plasma-assisted processing magneton with magnetic field adjustment
KR100297358B1 (ko) * 1991-07-23 2001-11-30 히가시 데쓰로 플라즈마에칭장치
JPH0768620B2 (ja) * 1991-09-30 1995-07-26 中外炉工業株式会社 金属ストリップの表面清浄化装置
US5262030A (en) * 1992-01-15 1993-11-16 Alum Rock Technology Magnetron sputtering cathode with electrically variable source size and location for coating multiple substrates
US5399253A (en) * 1992-12-23 1995-03-21 Balzers Aktiengesellschaft Plasma generating device

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