ATE332518T1 - Eine haftschicht umfassende mikrostruktur und verfahren zur herstellung einer solchen mikrostruktur - Google Patents
Eine haftschicht umfassende mikrostruktur und verfahren zur herstellung einer solchen mikrostrukturInfo
- Publication number
- ATE332518T1 ATE332518T1 AT03799622T AT03799622T ATE332518T1 AT E332518 T1 ATE332518 T1 AT E332518T1 AT 03799622 T AT03799622 T AT 03799622T AT 03799622 T AT03799622 T AT 03799622T AT E332518 T1 ATE332518 T1 AT E332518T1
- Authority
- AT
- Austria
- Prior art keywords
- microstructure
- producing
- adhesive layer
- layer
- micro
- Prior art date
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title abstract 2
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 title 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract 2
- 239000003849 aromatic solvent Substances 0.000 abstract 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 abstract 1
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 abstract 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 abstract 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0035—Multiple processes, e.g. applying a further resist layer on an already in a previously step, processed pattern or textured surface
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/095—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having more than one photosensitive layer
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Architecture (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Micromachines (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
- Catalysts (AREA)
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR0216272A FR2849222B1 (fr) | 2002-12-20 | 2002-12-20 | Microstructure comportant une couche d'adherence et procede de fabrication d'une telle microstructure |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| ATE332518T1 true ATE332518T1 (de) | 2006-07-15 |
Family
ID=32406244
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| AT03799622T ATE332518T1 (de) | 2002-12-20 | 2003-12-18 | Eine haftschicht umfassende mikrostruktur und verfahren zur herstellung einer solchen mikrostruktur |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20060105247A1 (de) |
| EP (1) | EP1573399B1 (de) |
| AT (1) | ATE332518T1 (de) |
| DE (1) | DE60306682T2 (de) |
| FR (1) | FR2849222B1 (de) |
| WO (1) | WO2004063817A1 (de) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20110041925A (ko) * | 2009-10-16 | 2011-04-22 | 삼성전자주식회사 | 이중층 패턴형성용 접착필름, 이의 제조방법, 및 이를 이용한 패턴 접착층의 형성방법 |
| JP2014093385A (ja) * | 2012-11-02 | 2014-05-19 | Fujifilm Corp | インプリント用密着膜の製造方法およびパターン形成方法 |
| BR112018006258A2 (pt) * | 2015-09-28 | 2018-10-16 | Zephyros Inc | ?estrutura adesiva com um substrato e um revestimento adesivo? |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2964401A (en) * | 1957-02-18 | 1960-12-13 | Du Pont | Photopolymerizable elements and processes |
| DE3702897A1 (de) * | 1987-01-31 | 1988-08-11 | Merck Patent Gmbh | Zweischichtensystem |
| JPS63146599A (ja) * | 1986-12-10 | 1988-06-18 | Kyoritsu Kagaku Sangyo Kk | スピ−カのボイスコイルボビン用補強紙 |
| EP0491560B1 (de) * | 1990-12-19 | 1997-10-01 | Canon Kabushiki Kaisha | Herstellungsverfahren für flüssigkeitsausströmenden Aufzeichnungskopf |
| JPH06151671A (ja) * | 1992-11-02 | 1994-05-31 | Nitto Denko Corp | リードフレームの画像形成工程におけるレジスト膜画像の除去方法、及びこれに用いる接着剤あるいは接着シート類 |
| FR2757961B1 (fr) * | 1996-12-27 | 1999-02-26 | Ecole Polytech | Procede de fabrication de microstructures par conformation multicouche d'une resine photosensible et microstructures ainsi obtenues |
| JP2000147778A (ja) * | 1998-11-04 | 2000-05-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光材料 |
| DE19955969A1 (de) * | 1999-11-19 | 2001-05-31 | Inst Mikrotechnik Mainz Gmbh | Verwendung von Polyimid für Haftschichten und lithographisches Verfahren zur Herstellung von Mikrobauteilen |
| JP4280574B2 (ja) * | 2002-07-10 | 2009-06-17 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッドの製造方法 |
-
2002
- 2002-12-20 FR FR0216272A patent/FR2849222B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
2003
- 2003-12-18 AT AT03799622T patent/ATE332518T1/de not_active IP Right Cessation
- 2003-12-18 US US10/538,351 patent/US20060105247A1/en not_active Abandoned
- 2003-12-18 WO PCT/FR2003/003788 patent/WO2004063817A1/fr not_active Ceased
- 2003-12-18 DE DE60306682T patent/DE60306682T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2003-12-18 EP EP03799622A patent/EP1573399B1/de not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FR2849222B1 (fr) | 2005-10-21 |
| EP1573399B1 (de) | 2006-07-05 |
| DE60306682D1 (de) | 2006-08-17 |
| WO2004063817A1 (fr) | 2004-07-29 |
| EP1573399A1 (de) | 2005-09-14 |
| FR2849222A1 (fr) | 2004-06-25 |
| DE60306682T2 (de) | 2007-06-28 |
| US20060105247A1 (en) | 2006-05-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101173314B1 (ko) | 패턴화 물품을 제조하는 방법 | |
| ATE275441T1 (de) | Verfahren zur herstellung eines mikrostrukturierten oberflächenreliefs durch prägen thixotroper schichten und mikrostrukturiertes oberflächenrelief | |
| ATE327211T1 (de) | Verfahren zur uv-aushärtung einer beschichteten faser | |
| PT1363811E (pt) | Processo de fabrico de um componente moldado para automovel, com uma pista condutora integrada e componente moldado de um automovel | |
| ATE230629T1 (de) | Verfahren zur herstellung von strukturierten, selbstorganisierten molekularen monolagen einzelner molekularer spezies, insbesondere von substanzbibliotheken | |
| DE602005022701D1 (de) | Verfahren zur herstellung von mehrschichtigen cholesterischen optischen flüssigkristallkörpern | |
| DE60222741D1 (de) | Verfahren zur herstellung von beschichteter polymerfolie | |
| ATE345396T1 (de) | Verfahren zur herstellung von polymerschichten | |
| DE60230680D1 (de) | Verfahren zum herstellen einer struktur für eine einrichtung für mikroelektromechanische systeme (mems) | |
| DE69707634D1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Mikrostrukturen durch Mehrschicht-Strukturierung eines Photolackes und damit hergestellte Mikrostrukturen | |
| WO2005039868A3 (de) | Strukturierung von elektrischen funktionsschichten mittels einer transferfolie und strukturierung des klebers | |
| ATE507051T1 (de) | Verfahren zur herstellung einer polymer- dünnschicht | |
| ATE325662T1 (de) | Verfahren zur herstellung von hydrophoben oberflächen | |
| ATE494332T1 (de) | Selbsthaftende additionsvernetzende siliconkautschukmischungen, ein verfahren zu deren herstellung, verfahren zur herstellung von verbund-formteilen und deren verwendung | |
| WO2005019503A3 (en) | Sub-micron-scale patterning method and system | |
| DE602004017875D1 (de) | Schichtstruktur und Herstellungsverfahren dafür | |
| ATE531077T1 (de) | Belastungsfreies zusammengesetztes substrat und verfahren zur herstellung eines solchen zusammengesetzten substrats | |
| DE60318100D1 (de) | Mehrschichtiger dünnfilmkörper, einen solchen mehrschichtigen dünnfilmkörper benutzende elektronische einrichtung, betätigungsglied und verfahren zur herstellung des betätigungsglieds | |
| DE60218764D1 (de) | Bioabbaubarer orientierter Film | |
| ATE440995T1 (de) | Trockenlaminierte wässrige klebstoffzusammensetzung für kunstleder und verfahren zur herstellung von kunstleder mit dieser klebstoffzusammensetzung | |
| DE50104278D1 (de) | Verfahren zur Herstellung eines metallisierten Polymers | |
| ATE474724T1 (de) | Sicherheitselement und verfahren zu seiner herstellung | |
| ATE332518T1 (de) | Eine haftschicht umfassende mikrostruktur und verfahren zur herstellung einer solchen mikrostruktur | |
| DE69525157D1 (de) | Glättungsfilm aus novolacpolymer für mikroelektronische strukturen | |
| ATE434518T1 (de) | Verfahren zur herstellung eines negativ arbeitenden lithographischen druckplattenvorläufers |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RER | Ceased as to paragraph 5 lit. 3 law introducing patent treaties |