ATE456286T1 - Verfahren und vorrichtung zur regulierung der stromversorgung eines magnetrons und anlage zur behandlung von thermoplastischen behältern, bei dem diese zum einsatz kommen - Google Patents

Verfahren und vorrichtung zur regulierung der stromversorgung eines magnetrons und anlage zur behandlung von thermoplastischen behältern, bei dem diese zum einsatz kommen

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ATE456286T1 AT07118496T AT07118496T ATE456286T1 AT E456286 T1 ATE456286 T1 AT E456286T1 AT 07118496 T AT07118496 T AT 07118496T AT 07118496 T AT07118496 T AT 07118496T AT E456286 T1 ATE456286 T1 AT E456286T1
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Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5820661B2 (ja) * 2010-09-14 2015-11-24 東京エレクトロン株式会社 マイクロ波照射装置
EP2469974B1 (de) * 2010-12-21 2017-01-25 Whirlpool Corporation Verfahren zum Steuern der Kühlung in einer Mikrowellen-Heizvorrichtung und Vorrichtung dafür
CN103869871B (zh) * 2014-03-21 2015-10-28 毛晓娟 微波功率控制方法
CN104090624B (zh) * 2014-04-03 2016-03-02 湖南华冶微波科技有限公司 控制工业微波设备的功率的方法及装置
CN104315564B (zh) * 2014-10-29 2017-02-15 广东美的厨房电器制造有限公司 微波炉及微波炉的微波功率调整方法
WO2017012338A1 (zh) * 2015-07-20 2017-01-26 广东美的厨房电器制造有限公司 一种微波炉及微波炉变频电源的启动控制装置和方法
CN105744667B (zh) * 2015-07-20 2019-07-02 广东美的厨房电器制造有限公司 微波炉及微波炉变频电源的启动控制装置和方法
JP6754665B2 (ja) * 2016-10-18 2020-09-16 東京エレクトロン株式会社 マイクロ波出力装置及びプラズマ処理装置
CN106535456B (zh) * 2016-11-14 2019-10-08 上海联影医疗科技有限公司 功率控制组件以及控制磁控管到设定功率的方法
CN106604517B (zh) * 2016-11-14 2019-10-08 上海联影医疗科技有限公司 功率和频率控制组件以及相应的控制磁控管的方法
CN109936346B (zh) * 2017-12-19 2023-04-14 关英怀 I/o口隔离功率可校准的微波治疗机控制装置
CN109287020A (zh) * 2018-11-15 2019-01-29 四川蔚宇电气有限责任公司 一种用于提升微波输出稳定性的微波源系统及方法
BE1029582B1 (de) * 2021-07-12 2023-02-06 Miele & Cie Hochfrequenz-Haushaltsgerät, vorzugsweise Hochfrequenz-Küchengerät
CN115800995B (zh) * 2023-02-06 2023-05-02 中国科学院合肥物质科学研究院 一种回旋管振荡器的输出波功率控制方法、装置及设备
CN116367374B (zh) * 2023-04-19 2025-12-12 华瓷聚力(厦门)新材料有限公司 一种微波加热炉功率控制及展平方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4317977A (en) 1979-09-06 1982-03-02 Litton Systems, Inc. Power controlled microwave oven
US4447693A (en) * 1979-09-06 1984-05-08 Litton Systems, Inc. Power controlled microwave oven
US4433232A (en) * 1981-05-29 1984-02-21 Hitachi Heating Appliances Co., Ltd. Heating apparatus
US4420668A (en) * 1981-06-25 1983-12-13 Litton Systems, Inc. Constant power microwave oven
SE453043B (sv) * 1986-07-04 1988-01-04 Alfastar Ab Forfarande och anordning for att styra mikrovagseffekten hos flera magnetroner medelst endast ett kraftaggregat
FR2776540B1 (fr) 1998-03-27 2000-06-02 Sidel Sa Recipient en matiere a effet barriere et procede et appareil pour sa fabrication
FR2792854B1 (fr) 1999-04-29 2001-08-03 Sidel Sa Dispositif pour le depot par plasma micro-ondes d'un revetement sur un recipient en materiau thermoplastique
DE20113445U1 (de) * 2001-08-13 2001-12-06 Grundke, Reinhold, 84489 Burghausen Vorrichtung zur Ableitung von unkontrolliertem Harnabgang bei männlichen Personen
US6828696B2 (en) * 2002-07-03 2004-12-07 Fusion Uv Systems, Inc. Apparatus and method for powering multiple magnetrons using a single power supply
JP2004055308A (ja) 2002-07-18 2004-02-19 Daihen Corp マイクロ波電力供給システム及びマイクロ波電力供給システムの進行波電力制御方法
WO2004033753A1 (ja) * 2002-10-09 2004-04-22 Toyo Seikan Kaisha,Ltd. 金属酸化膜の形成方法及び該方法に用いるマイクロ波電源装置
FR2847912B1 (fr) 2002-11-28 2005-02-18 Sidel Sa Procede et dispositif pour deposer par plasma micro-ondes un revetement sur une face d'un recipient en materiau thermoplastique

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