ATE477586T1 - System und verfahren für schnelle änderungen der brennweite - Google Patents

System und verfahren für schnelle änderungen der brennweite

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ATE477586T1
ATE477586T1 AT02778501T AT02778501T ATE477586T1 AT E477586 T1 ATE477586 T1 AT E477586T1 AT 02778501 T AT02778501 T AT 02778501T AT 02778501 T AT02778501 T AT 02778501T AT E477586 T1 ATE477586 T1 AT E477586T1
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Dubi Shachal
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Applied Materials Israel Ltd
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010078478A (ja) * 2008-09-26 2010-04-08 Toshiba Corp 欠陥検査装置および欠陥検査方法
US8507855B2 (en) * 2011-07-28 2013-08-13 Applied Materials Israel, Ltd. Inductive modulation of focusing voltage in charged beam system
JP6305703B2 (ja) * 2013-08-07 2018-04-04 東芝メモリ株式会社 画像取得装置、画像取得方法及び欠陥検査装置
DE102015001297B4 (de) 2015-02-02 2023-03-30 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Teilchenstrahlmikroskop und Verfahren zum Betreiben eines Teilchenstrahlmikroskops
DE102015001292A1 (de) 2015-02-02 2016-08-04 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Teilchenstrahlmikroskop und Verfahren zum Betreiben eines Teilchenstrahlmikroskops
CN106813680A (zh) * 2016-12-28 2017-06-09 兰州空间技术物理研究所 一种高精度、高分辨率石英扰性传感器的静态标定方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4142133A (en) * 1976-10-20 1979-02-27 Balandin Genrikh D Cathode-ray tube with variable energy of beam electrons
US4438336A (en) * 1982-03-26 1984-03-20 Fraunhofer-Gesellschaft Zur Forderung Der Angewandten Forschung E.V. Corpuscular radiation device for producing an irradiation pattern on a workpiece
DE3522340A1 (de) * 1985-06-22 1987-01-02 Finnigan Mat Gmbh Linsenanordnung zur fokussierung von elektrisch geladenen teilchen und massenspektrometer mit einer derartigen linsenanordnung
US5089699A (en) * 1989-03-14 1992-02-18 Hitachi, Ltd. Secondary charged particle analyzing apparatus and secondary charged particle extracting section
JPH0766766B2 (ja) * 1989-03-30 1995-07-19 株式会社日立製作所 電子顕微鏡
CA1308203C (en) * 1989-06-01 1992-09-29 Nanoquest (Canada) Inc. Magnification compensation apparatus
JP3717202B2 (ja) * 1995-05-24 2005-11-16 和夫 石塚 電子顕微鏡及びその軸合わせ方法
JP2001210263A (ja) * 2000-01-27 2001-08-03 Hitachi Ltd 走査電子顕微鏡、そのダイナミックフォーカス制御方法および半導体デバイスの表面および断面形状の把握方法

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