ATE488345T1 - Vorrichtung und verfahren zum reinigen eines gesägten waferblocks - Google Patents
Vorrichtung und verfahren zum reinigen eines gesägten waferblocksInfo
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- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title abstract 12
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract 4
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 abstract 1
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Landscapes
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Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102005058269A DE102005058269B4 (de) | 2005-12-06 | 2005-12-06 | Vorrichtung zum Reinigen eines gesägten Waferblocks |
| PCT/EP2006/011724 WO2007065665A1 (de) | 2005-12-06 | 2006-12-06 | Vorrichtung und verfahren zum reinigen eines gesägten waferblocks |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| ATE488345T1 true ATE488345T1 (de) | 2010-12-15 |
Family
ID=37728200
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| AT06829352T ATE488345T1 (de) | 2005-12-06 | 2006-12-06 | Vorrichtung und verfahren zum reinigen eines gesägten waferblocks |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20080308125A1 (de) |
| EP (1) | EP1957247B1 (de) |
| AT (1) | ATE488345T1 (de) |
| CA (2) | CA2632387C (de) |
| DE (2) | DE102005058269B4 (de) |
| MY (1) | MY141037A (de) |
| WO (1) | WO2007065665A1 (de) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102006059810A1 (de) * | 2006-12-15 | 2008-06-19 | Rena Sondermaschinen Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zum Reinigen von Gegenständen, insbesondere von dünnen Scheiben |
| DE102007058260A1 (de) | 2007-11-27 | 2009-05-28 | Gebr. Schmid Gmbh & Co. | Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung eines gesägten Waferblocks |
| WO2009074297A2 (de) * | 2007-12-10 | 2009-06-18 | Rena Sondermaschinen Gmbh | Vorrichtung und verfahren zum reinigen von gegenständen |
| ATE545907T1 (de) * | 2007-12-10 | 2012-03-15 | Rena Gmbh | Vorrichtung und verfahren zum reinigen von gegenständen |
| DE102008004548A1 (de) * | 2008-01-15 | 2009-07-16 | Rec Scan Wafer As | Waferstapelreinigung |
| WO2009114043A1 (en) * | 2008-03-07 | 2009-09-17 | Automation Technology, Inc. | Solar wafer cleaning systems, apparatus and methods |
| SG179155A1 (en) * | 2009-09-15 | 2012-04-27 | Quantum Global Tech Llc | Method and apparatus for showerhead cleaning |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5356813A (en) * | 1992-04-30 | 1994-10-18 | Energy Biosystems Corporation | Process for the desulfurization and the desalting of a fossil fuel |
| US5950645A (en) * | 1993-10-20 | 1999-09-14 | Verteq, Inc. | Semiconductor wafer cleaning system |
| JPH07249604A (ja) * | 1994-03-09 | 1995-09-26 | Fujitsu Ltd | 洗浄方法及び洗浄装置 |
| US5772784A (en) * | 1994-11-14 | 1998-06-30 | Yieldup International | Ultra-low particle semiconductor cleaner |
| US5950643A (en) * | 1995-09-06 | 1999-09-14 | Miyazaki; Takeshiro | Wafer processing system |
| JPH10172947A (ja) * | 1996-12-11 | 1998-06-26 | Hitachi Ltd | 単槽式洗浄方法およびその装置 |
| JP3209403B2 (ja) * | 1996-12-24 | 2001-09-17 | 株式会社東京精密 | ウェーハ洗浄装置 |
| JP3697063B2 (ja) * | 1997-05-15 | 2005-09-21 | 東京エレクトロン株式会社 | 洗浄システム |
| US6164297A (en) * | 1997-06-13 | 2000-12-26 | Tokyo Electron Limited | Cleaning and drying apparatus for objects to be processed |
| JP3494202B2 (ja) * | 1997-09-30 | 2004-02-09 | 荒川化学工業株式会社 | ウェハー状ワーク洗浄方法並びに当該洗浄方法に用いる洗浄バスケット及び洗浄ハウジング |
| US6514355B1 (en) * | 1999-02-08 | 2003-02-04 | International Business Machines Corporation | Method and apparatus for recovery of semiconductor wafers from a chemical tank |
| US6837253B1 (en) * | 2002-04-22 | 2005-01-04 | Imtec Acculine, Inc. | Processing tank with improved quick dump valve |
| US20050061775A1 (en) * | 2003-09-19 | 2005-03-24 | Kuo-Tang Hsu | Novel design to eliminate wafer sticking |
-
2005
- 2005-12-06 DE DE102005058269A patent/DE102005058269B4/de not_active Expired - Fee Related
-
2006
- 2006-12-06 US US12/096,227 patent/US20080308125A1/en not_active Abandoned
- 2006-12-06 DE DE502006008357T patent/DE502006008357D1/de active Active
- 2006-12-06 AT AT06829352T patent/ATE488345T1/de active
- 2006-12-06 EP EP06829352A patent/EP1957247B1/de not_active Not-in-force
- 2006-12-06 CA CA2632387A patent/CA2632387C/en not_active Expired - Fee Related
- 2006-12-06 WO PCT/EP2006/011724 patent/WO2007065665A1/de not_active Ceased
- 2006-12-06 CA CA2719395A patent/CA2719395A1/en not_active Abandoned
-
2008
- 2008-06-06 MY MYPI20081980A patent/MY141037A/en unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CA2632387A1 (en) | 2007-12-06 |
| MY141037A (en) | 2010-02-25 |
| DE102005058269A1 (de) | 2007-06-14 |
| US20080308125A1 (en) | 2008-12-18 |
| EP1957247A1 (de) | 2008-08-20 |
| DE502006008357D1 (de) | 2010-12-30 |
| EP1957247B1 (de) | 2010-11-17 |
| WO2007065665A1 (de) | 2007-06-14 |
| DE102005058269B4 (de) | 2011-12-01 |
| CA2719395A1 (en) | 2007-12-06 |
| CA2632387C (en) | 2012-04-17 |
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