ATE86793T1 - Herstellungsverfahren einer niedergeschlagenen schicht. - Google Patents

Herstellungsverfahren einer niedergeschlagenen schicht.

Info

Publication number
ATE86793T1
ATE86793T1 AT87303225T AT87303225T ATE86793T1 AT E86793 T1 ATE86793 T1 AT E86793T1 AT 87303225 T AT87303225 T AT 87303225T AT 87303225 T AT87303225 T AT 87303225T AT E86793 T1 ATE86793 T1 AT E86793T1
Authority
AT
Austria
Prior art keywords
manufacturing process
deposited layer
deposited
layer
manufacturing
Prior art date
Application number
AT87303225T
Other languages
English (en)
Inventor
Yutaka Hirai
Shigeru Shirai
Jinsho Matsuyama
Original Assignee
Canon Kk
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP61083924A external-priority patent/JP2662388B2/ja
Priority claimed from JP8550786A external-priority patent/JPH0639701B2/ja
Priority claimed from JP8550886A external-priority patent/JPS62240767A/ja
Priority claimed from JP8682586A external-priority patent/JPS62243767A/ja
Application filed by Canon Kk filed Critical Canon Kk
Priority claimed from EP87303225A external-priority patent/EP0241317B1/de
Application granted granted Critical
Publication of ATE86793T1 publication Critical patent/ATE86793T1/de

Links

AT87303225T 1986-04-11 1987-04-13 Herstellungsverfahren einer niedergeschlagenen schicht. ATE86793T1 (de)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61083924A JP2662388B2 (ja) 1986-04-11 1986-04-11 堆積膜形成法
JP8550786A JPH0639701B2 (ja) 1986-04-14 1986-04-14 堆積膜形成法
JP8550886A JPS62240767A (ja) 1986-04-14 1986-04-14 堆積膜形成法
JP8682586A JPS62243767A (ja) 1986-04-15 1986-04-15 堆積膜形成法
EP87303225A EP0241317B1 (de) 1986-04-11 1987-04-13 Herstellungsverfahren einer niedergeschlagenen Schicht

Publications (1)

Publication Number Publication Date
ATE86793T1 true ATE86793T1 (de) 1993-03-15

Family

ID=27513521

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
AT87303225T ATE86793T1 (de) 1986-04-11 1987-04-13 Herstellungsverfahren einer niedergeschlagenen schicht.

Country Status (1)

Country Link
AT (1) ATE86793T1 (de)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
ES533351A0 (es) Metodos de fabricacion de un sustrato vitreo revestido de silice.
FI92856C (fi) Menetelmä metallikatalyyttialustasydämen valmistamiseksi
DE3784537D1 (de) Herstellungsverfahren einer niedergeschlagenen schicht.
GB2193346B (en) A method of rinsing a substrate from which the resist layer has been removed
DE3689371D1 (de) Verfahren zur Herstellung einer Halbleiteranordnung einschliesslich der Formierung einer vielschichtigen Interkonnektionsschicht.
DE3851668D1 (de) Zusammengesetzte supraleitende Schicht.
DE3886074D1 (de) Herstellung einer Halbleiterstruktur.
DE3777635D1 (de) Anlage zur bildung einer duennschicht.
DE3280182D1 (de) Verfahren zur herstellung einer monokristallinen schicht.
DE3854208D1 (de) Verfahren zur Herstellung einer Schicht aus supraleitendem Oxidmaterial.
DE3851204D1 (de) Herstellungsverfahren einer integrierten Halbleiterschaltungsanordnung.
DE3852510D1 (de) Verfahren zur Herstellung einer leitenden oder supraleitenden dünnen Schicht.
DE69008974D1 (de) Elektroabscheidung einer Palladiumschicht.
DE68914061D1 (de) Verfahren zum Niederschlagen einer Wolframschicht.
DE3777015D1 (de) Verfahren zur herstellung einer verschleissbestaendigen schicht.
DE3787662D1 (de) Herstellung von Halbleiterbauelementen unter Verwendung gemusterter Metallschichten.
DE3780327D1 (de) Herstellungsverfahren einer halbleiter-kristallschicht.
DE69105753D1 (de) Herstellungsmethode einer dünnschichtmehrlagenstruktur.
DE3689971D1 (de) Herstellung einer halbleiteranordnung.
DE3882856D1 (de) Herstellung einer polykristallinen schicht.
DE3785595D1 (de) Verfahren zur herstellung einer verschleissfesten schicht.
DE3669806D1 (de) Verfahren zur herstellung einer raeumlich periodischen halbleiter-schichtenfolge.
DE3783632D1 (de) Herstellungsverfahren einer niedergeschlagenen schicht.
DE68921253D1 (de) Verfahren zur Abscheidung einer dünnen Supraleiterschicht.
DE3786364D1 (de) Verfahren zur herstellung einer niedergeschlagenen schicht.