BE538579A - - Google Patents

Description

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  Procédé et dispositif pour le dosage de vapeurs dans les gaz. 



   La présente invention a pour objet un dispositif deidosage de vapeurs dans les gaz, utilisé pour adapter les propriétés de certains gaz à leur emploi ou aux exigences de leurs canalisa- tions de distribution. Il est en effet quelquefois nécessaire de charger ces gaz de vapeur d'eau, d'hydrocarbure ou de toute vapeur connue, la teneur de ces gaz en vapeur devant être indépendante de leur débit avant injection de ladite vapeur. 



   Il est déjà connu de réaliser de telles installations en utilisant un appareil de mesure de débit' du gaz et d'injecter dans celui-ci un débit correspondant de liquide qu'on vaporise ensuite. 



  Un tel dispositif est toujours complexe car il nécessite la mesure de débit du gaz et le réglage du débit de vapeur en fonction de ce débit. 

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   La présente invention a pour objet un procédé évitant la mesure du débit de gaz ainsi que la régulation de proportionnalité. 



   Le principe de la présente invention consiste à dériver une partie du gaz à traiter, le rapport entre le débit dérivé et le débit total étant égal au rapport entre la teneur en vapeur que l'on veut ajouter et la tension de vapeur saturante, le rapport de débits étant obtenu par deux diaphragmes l'un sur la conduite prin- cipale, l'autre sur la conduite dérivée, cette dernière comportant, en outre, un saturateur. 



   La fig.l représente, à titre non limitatif de l'invention, la conduite principale 1, la conduite dérivée 2 placée entre l'amont et l'aval d'un diaphragme 3 installé sur la conduite prin- cipale; un diaphragme 4 est placé sur la dérivation, et sur celle- ci, un saturateur 5 d'un type quelconque. 



   Le fonctionnement est le suivant : 
Le débit principal traversant la conduite 1 subit une con- traction à l'orifice du diaphragme 3, créant une dépression, la différence de pressions aux deux extrémités de la dérivation 2 assurant d'une manière connue un débit dans la dérivation, propor- tionnel au débit principal. La perte de charge créée par le dia- phragme 3 doit être égale à la somme des pertes de charge causées par le diaphragme 4, la dérivation 2 et le saturateur 5. En outre, dans cette somme, le terme 4 doit être prépondérant afin que la proportionnalité entre le débit total et le débit dérivé soit ob- tenue avec une approximation suffisante. 



   Afin que la teneur en vapeurs du gaz traité soit indépendante du débit de gaz, avant injection, il suffit que le saturateur soit capable de saturer un plus grand débit dérivé. 



   On ne sort pas du domaine de l'invention si on réalise un tel dispositif de dosage de vapeurs dans les gaz par des procédés équivalents; par exemple, le diaphragme peut être remplacé par un système   déprimogéne   quelconque, venturis, tuyères, robinets, 

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 etc.. le saturateur peut également être quelconque, d'un type à léchage, barbotage, etc.. sous réserve de conserver le principe d'une dérivation de saturation avec organe d'étranglement sur conduite principale et pièce d'étranglement sur conduite dérivée.

Claims (1)

1. RESUME ----------- Procédé de dosage de vapeurs dans les gaz, évitant la mesure de débit de ce gaz ainsi que la régulation de proportion- nalité et qui consiste à dériver une partie du gaz à traiter dans un saturateur, le rapport entre le débit dérivé et le débit total étant égal au rapport entre la teneur en vapeur que l'on veut ajouter et la tension de vapeur saturante.

   Dispositif pour utilisation de ce procédé par emploi de deux diaphragmes l'un sur la conduite principale, l'autre sur la con- duite dérivée qui comporte le saturateur.