BE547954A - - Google Patents

Info

Publication number
BE547954A
BE547954A BE547954DA BE547954A BE 547954 A BE547954 A BE 547954A BE 547954D A BE547954D A BE 547954DA BE 547954 A BE547954 A BE 547954A
Authority
BE
Belgium
Prior art keywords
jet
support
film
temperature
longitudinal
Prior art date
Application number
Other languages
English (en)
Publication of BE547954A publication Critical patent/BE547954A/fr

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors

Landscapes

  • Surface Treatment Of Glass (AREA)

Description


   <Desc/Clms Page number 1> 
 



   La présente invention concerne un procédé de produc- tion d'un objet électroconducteur et elle se rapporte également à un tel objet électroconducteur. 



     L'invention   vise un procédé perfectionné pour le dépôt de revêtements non uniformes sur des enceintes transparentes en matières céramiques ou réfractaires. D'une part, l'invention concerne le dépôt de revêtements transparents électroconducteurs sur des enceintes transparentes en matières céramiques ou réfractai- res, en particulier celles qui sont pourvues de bandes électrocon- ductrices ou barres omnibus espacées latéralement en contact élec- trique avec la pellicule de revêtement et pouvant faciliter l'e pas- sage du courant électrique à travers le revêtement.

   D'autre part, 

 <Desc/Clms Page number 2> 

 l'invention se rapporte à un procédé   perfectionn'  de production de revêtements d'épaisseur non uniforme sur des enceintes transparentes en matières céramiques ou réfractaires en vue de constituer un écran vis-à-vis de la chaleur ou de la lumière dont les propriétés d'absorption varient suivant un dessin ou modèle désiré. 



   En particulier, dans la mise en oeuvre de la présente invention, des procédés classiques utilisés jusqu'ici pour produire des pellicules d'un oxyde métallique, dans lesquels on applique un jet d'une composition formant une pellicule sur un support en   matiè-   re réfractaire chauffée au préalable, sont modifiés conformément à la présente invention en vue de l'obtention de pellicules d'un oxyde métallique d'épaisseur variable.

   En particulier, on chauffe une feuille de matière réfractaire dans un four   jusqu'à une   tempéra- ture supérieure à la température de formation d'une pellicule et inférieure à la température à laquelle le support commence à fondre,on la retire du four en l'orientant de manière convenable par rapport à un jet de composition formant une pellicule, jet présentant au moins une zone dense et une zone peu dense et on l'expose immédiatement à ce jet. On détermine un mouvement relatif entre le support et le jet avec une vitesse telle qu'une pellicule continue dont les variations d'épaisseur transversales correspondent aux variations de la densité du jet soit formée sur le support. 



  Cependant, étant donné que chaque fraction du support le long de l'axe géométrique du mouvement relatif est refroidie lors de sa venue en contact avec le jet, il est nécessaire de faire cesser.le contact entre chaque fraction et le jet avant que la température d'une partie quelconque de cette f'raction tombe en dessous de la      température minimum de formation de la pellicule. Si on ne parvient pas à faire cesser ce contact à temps, la dimension de la pellicule, transversalement à l'axe géométrique de déplacement, a tendance à cesser de varier et son épaisseur devient beaucoup plus uniforme. 

 <Desc/Clms Page number 3> 

 



   On sait qu'on peut déposer des pellicules électro- conductrices transparentes sur du verre en appliquant du chlorure stannique sur la surface du verre chauffé au-dessus de 204 C, de préférence entre   454   et 732 C. On peut obtenir des pellicules de conductibilité supérieure en pulvérisant sur le verre à glaces, le verre à vLtres ou un autre verre, pendant que ce verre est chauffé à une température supérieure à   204 C   mais inférieure à la tem- pérature à   laquelle   il   commence   à fondre, du tétrachlorure d'étain ou d'autres sels d'étain, en solution aqueuse ou à l'état de vapeur, en présence d'un agent réducteur tel que le méthanol, le chlorhy- drate de phénylhydrazine, ou d'autresagents.

   On ne connaît pas la composition des pellicules ainsi obtenues, mais il semble qu'elles contiennent une quantité prépondérante, de l'ordre de 97 à 99%, d'oxyde d'étain et certaines impuretés pouvant comprendre de l'étain métallique, du carbone, du silicium, du sodium et du chlore, selon la composition de la solution contenant de l'étain qui a été appliquée. Ces pellicules ont une épaisseur d'environ 50 à 800 millimicrons, elles sont transparentes et elles présentent la caractéristique inhabituelle d'être électroconductrices. Le degré particulier   d'électroconductivité   dépend.dans une large mesure de la nature du procédé de dépôt des pellicules et de la composition de la solution contenant de l'étain.

   Ces pellicules d'oxyde'd'étain ont une résistance inférieure d'environ 500 ohms par unité de sur- face et une résistancespécifique inférieure à environ 0,01 ohm/cm. 



  On donnera par la suite d'autres détails concernant la production de ces pellicules. 



   Bien que des objets ou articles recouverts de ces pellicules soient utiles dans de nombreux domaines, on a constaté qu'ils étaient particulièrement utiles comme pare-brise ou comme enceintes transparentes dans les automobiles, les avions, les trains .et dans des véhicules analogues. Pour une telle utilisation, on place le revêtement en série avec une source de potentiel électri- que et on l'utilise comme élément chauffant en vue de chauffer 

 <Desc/Clms Page number 4> 

   l'enceinte   et d'éviter le dépôt de glace, de   brouillard,   etc... sur celle-ci. 



   Au cours de la fabrication d'articles électrcconducteurs de ce genre, on munit une plaque de verre, habituellement en verre à vitres ou en autre verre similaire de structure plate (y compris les verres de structure courbe ou incurvée; de bandes de métal con- ducteur convenant comme barres omnibus. Ces bandes sont généralement disposées au voisinage'des bords du verre (habituellement à 12,7 mm du bord) et, dans les modes de réalisation préférés, elles sont -disposées sur les bords marginaux opposés. Par exemple, dans des enceintes transparentes pratiquement   .rectangulaires   telles qu'un pare-brise, on dispose deux barres omnibus sur deux bords marginaux opposés.

   Ces bandes métallisées doivent pouvoir supporter les tem- pératures et les conditions oxydantes du traitement et, par consé- quent, elles doivent être de préférence de nature céramique. En outre, elles   doiven't   pouvoir se vitrifier ou former de toute autre manière un revêtement adhérent fermement uni au verre. Les bandes doivent adhérer fermement à la plaque ou feuille de verre et elles doivent avoir une conductivité d'au moins 10 à 20 fois celle du revêtement conducteur. Généralement, les bandes ont environ 2,5 à 25 mm de large. De plus, on peut placer des bandes d'argent non cuit séchant à l'air sur le revêtement électroconducteur des barres omnibus. 



   Dans la pratique, on a constaté que les compositions les plus satisfaisantes pour la préparation des barres omnibus compren- nent une poudre d'un métal fortement conducteur (de préférence l'or ou l'argent) et un liant vitrifiant. Les ingrédients formant le liant vitrifiant par exemple la litharge, l'acide borique et la si- lice, sont chauffés à une température suffisante (par exemple    927 C) pour être amenés à fondre et à former une masse analogue à   du verre. On peut ensuite transformer cette masse en une fritte en la broyant ordinairement dans un broyeur à boulets.

   On ajoute en- suite à cette fritte le métal électroconducteur,   telque   de l'argent      

 <Desc/Clms Page number 5> 

 
 EMI5.1 
 fincm0nt d,1,vi,nô, ct on c;j,nl,F: ri t'; v'h1 eulc th: rwI¯Ta:x 1 .rti u --n formant écran aux COlupo'.5itLonr; pOll1' facilit(r'] cHr' a i>11<;atic>;i* Certains .des véhicules C0rr1ÜUnflJlont utilisés sofit l'huile <1>ce téré-   benthine,   l'essence de térébenthine, l'eau et l'alcool éthylique. 



   Pour éviter de produire des barresomnibus qui engendreraient en cours d'utilisation des contraintes excessives dans le verre,   elle'.   doivent de préférence être disposées sur les bords extrêmes du verre et leur épaisseur ne doit pas dépasser environ 0,12 mm et, de préférence, doit être inférieure à 0,07 mm environ. 



   Après avoir appliqué les barres omnibus métalliques à la feuille de verre, au pinceau ou autrement, on chauffe la feuille à la température à laquelle on peut appliquer le revête- ment conducteur, par exemple au-dessus d'environ   204   à 427 C, mais en dessous du point de fusion du verre. Habituellement, la gamme de températures préférée est comprise entre 510 et   621 C.   Pendant cette phase de chauffage, le revêtement céramique métallique se vitrifie et est appliqué sur le verre par fusion, de sorte qu'il s'établit une liaison solide entre le verre et le revêtement métallique. 



   Quand on a chauffé le verre comme on vient de le décrire, pendant deux minutes ou plus, on le retire de la chambre de chauffa- ge et on y pulvérise immédiatement la solution de revêtement avant qu'un refroidissement notable de la plaque de verre puisse se pro- duire. On place une certaine quantité de la solution de revêtement dans un pistolet atomiseur et on pulvérise sur la plaque de verre chauffée un jet atomisé de cette matière. Habituellement, on effectue cette opération de pulvérisation dans de l'air ayant 
 EMI5.2 
 une teneur en humidité ou en oxygène égale à celle de 1-*atiiiosphedre. 



  On a cependant obtenu des revêtements conducteurs même quand il semble ne pas y avoir d'oxygène, bien qu'il soit probable que de l'oxygène, qu'il provienne de l'atmosphère ou qu'il soit cola- biné dans l'eau ou un composé similaire, soit présent. Ce procédé permet d'obtenir un support enduit d'une pellicule électroconductri- 

 <Desc/Clms Page number 6> 

 ce d'oxyde d'étain. 



   Des articles obtenus conformément à la description précédente dont d'autres détails seront donnés par la suite con- viennent comme enceintes transparentes ou comme fenêtres. Habi- tuellement, on les assemble sous forme de couches avec une couche de matière plastique .appropriée telle que du   butyra   polyvinylique . pour   renforcer   le verre et obtenir une structure dite "verre de sécurité". On peut   ehauffer   ces emceintes de manière satisfai- sante en appliquant) un potentiel électrique aux barres omnibus, ce qui fait qu'on urtilise la pellicule comme élément de résistance. 



   Des produits ainsi fabriqués ont donné satisfaction   lorsque*l'énergie   requise pour le chauffage du verre n'était pas trop. élevée. Toutefois, dans de nombreux cas ces produits doivent être capables de fournir des quantités de chaleur très élevées, par exemple supérieures à 40,6 à   54,2   kilocalories dm2 heure. Cela   signi-   fié que des courants électriques d'une intensité notable traversent la pellicule. 



   On a constaté qu'un nombre anormalement élevé de pare- brise ou de panneaux analogues du type décrit ici n'ont pas donné satisfaction en cours d'utilisation ou en ce qui concerne le point de vue thermique en raison d'une rupture du verre pendant le passage du courant à travers la pellicule électroconductrice. On peut mettre en oeuvre la présente invention pour fabriquer des ar- ticles qui sont moins sujets à rupture. On obtient ce résultat en appliquant des pellicules électroconductrices ayant une   résistan-   ce. non uniforme par unité de surface.

   La distribution de la résistivité superficielle de la pellicule ainsi appliquée est telle que des zones de la pellicule qui tendent à engendrer la tempéra- ture la plus élevée ou à engendrer le plus de chaleur, ou à présen- ter ces deux phénomènes à la fois, se trouvent en des points situés à une distance notable des barres omnibus, par exemple à au moins 5 à   10%   de la distance séparant ces barres. Cet écart est d'au moins 25   mm   à 50 mm pour des pare-brise du commerce. On peut 

 <Desc/Clms Page number 7> 

 
 EMI7.1 
 Obtdll1' et;' J'tn!1.l.D t'il de;.! 11e] 1.1 e111ûD r ,¯ I rC', f,Wr:r,Xr:trs:i.1 r.:: dunt 1.

   C'OUdl1L'UVJ.tl: ,,\j{ÍlrnlH {J rrlVr7i.i'e:;-i;c: 1111I'.rrljHt'.:!:r>nt f'.U voisinage de la 1.><1).'1'(- ol[,nibUA et, dont la conduc1.i vll.:é ndnir'lmfL se manifeste dans une one écarhéc dos barres oiun:Ll><J.: , dans le trajet suivi par le courant entre cesbarres. 



   En principe, il est désirable que chaque zone ou toutes les zones engendrant une chaleur maximum ou développant une température   maximum   soient écartées des barres omnibus de la. manière envisagée ici. Cependant, ceci peut ne pas être entièrement possible en raison de la configuration de la. plaque de verre ou du support. 



   Par exemple, de nombreux articles portant des pellicules électroconductrices ne sont pas rectangulaires. En c onséquence, les barres   omnibus   disposées près de leurs bords opposés peuvent avoir une longueur inégale et peuvent ne pas être disposées paral-   lèlement.   Dans de tels cas, des densités'élevées de courant tendent   fréquemment   à s'établir aux extrémités des barres omnibus, en particulier quand celles-ci sont biseautées jusqu'à former une pointe à leurs extrémités. De manière similaire, la distance entre des parties 'opposées des barres omnibus peut varier si fortement   qu'il   s'établisse des densités de courant élevées en certaines zones le long d'une barre omnibus.

   Dans ces zones, la production de cha- leur tend à être élevée et peut même dépasser la production de cha- leur dans d'autres zones de la plaque ou support. Ceci est indési- rable et doit être évité. 



   Même dans des cas où il est impossible ou extrêmement difficile d'éviter quelques points chauds à l'endroit des barres omnibus ou près de celles-ci, on peut réduire l'augmentation de la quantité de 'chaleur engendrée ou   l'augmentation   de température, ou ces deux   phénomènes   à la fois, en réalisant, dans le trajet suivi par le courant vers ces points chauds, une zone de pellicule ayant une résistance par unité de surface qui est supérieure à celle de la pellicule   voisine   de la barre omnibus. 



   La réalisation de pelliculesdans lesquelles les 

 <Desc/Clms Page number 8> 

 zones prépondérantes de résistance maximum par unité de surface sont écartées d'une distance notable des barres omnibus présente   certains avantages en plus du fait qu'elle réduit au minimum la    rupture et le bris de la pellicule au voisinage des barres omnibus. 



   Lorsque les articles conformes à la présente invention servent d'en- ceintes transparentes dans un avion ou dans d'autres véhicules, la zone centrale de la pellicule reste exempte de glace, de neige ou de brouillard dans des conditions atmosphériques si dures qu'il n'est pas possible avec l'énergie dont on dispose d'empêcher leur accumulation sur la surface entière du panneau. 



   On a découvert que lorsqu'on pulvérise du chlorure stan- nique ou un composé analogue formant une pellicule sur la surface d'un verre chaud même pendant,une période de temps relativement courte pendant laquelle le verre est refroidi en dessous de la température de formation de pellicule, la pellicule transparente obtenue a une épaisseur essentiellement uniforme, même si la densité de la pulvérisation n'est pas uniforme: Cependant, conformé- ment à la présente invention, on a constaté que, lorsqu'on utilise un jet de densité non uniforme, on peut obtenir une pellicule d'épaisseur non uniforme si on interrompt l'opération de pulvérisa- tion assez tôt et avant d'avoir obtenu une pellicule d'une épaisseur essentiellement uniforme. 



   Ainsi, conformément à la présente invention, on a dé-   aouvert   un nouveau procédé pour revêtir, en une seule opération de pulvérisation, un support réfractaire d'une pellicule électro- conductrice ayant une résistance non uniforme prescrite par unité de surface. Conformément à ce procédé, on pulvérise, sur un support chauffé en matière réfractaire, une solution appropriée formant une pellicule tout en maintenant un type de jet de densité non uniforme, c'est-à-dire un type de jet qui est plus concentré en certains de ses points qu'en J'autres, et on cesse la pulvérisation lorsqu'une pellicule essentiellement continue a été formée, mais avant que la température d'une zone quelconque du support tombe en 

 <Desc/Clms Page number 9> 

 dessous de la température minimum de formation de pellicule. 



   On doit effectuer la phase de pulvérisation entre cer- taines limites déterminantes afin de pouvoir obtenir une pellicule ayant une résistance non uniforme par unité, de surface. Si on effectue l'opération de pulvérisation pendant un temps trop long,   =la   quantité de pellicule formée sur toutes les parties du support chauffé tend à être uniforme et une pellicule ayant une épaisseur et une résistance par unité de surface sensiblement uniformes est obtenue. En conséquence, on doit effectuer l'opération de pul- vérisation entière en quelques secondes seulement. 



   La quantité'de pellicule qui peut être déposée sur le support est fonction de la quantité de solution de pulvérisation amenée en contact avec ce support, tandis que ce dernier est à une température de formation de pellicule. Ainsi,afin d'obtenir une pellicule électroconductrice transparente ayant une épaisseur et une résistance par unité de surface non uniformes, grâce à l'utilisation d'un type de jet de densité non uniforme, on doit réaliser la pulvérisation entre certaines limites en ce qui concerne la quantité de solution formant une pellicule qui est amenée en contact avec le support chauffé. Cette quantité varie entre une quantité suffisante pour former une pellicule essentiellement conti- nue et une quantité qui est inférieure à celle qui est nécessaire pour former une quantité maximum. de pellicule sur toutes les parties du support chauffé.

   Il est bien entendu que si on poursuit l'opéra- tion de pulvérisation jusqu'à ce point de formation d'une quantité maximum de pellicule, ou au delà de ce point, il se forme une pellicule ayant une résistance sensiblement uniforme par imité de surface. Ce résultat indésirable est dû au fait que, pendant que les zones du support exposées aux régions denses du jet sont re- froidies au-dessous de la température de formation de pellicule, d'autres zones du support exposas aux parties moins denses du jet sont encore au-dessus de la   température   minimum de formation   .:le   pellicule.

   De ce fait, la pellicule continue à se former dans 

 <Desc/Clms Page number 10> 

 les autres zones, à moins qu'on cesse la pulvérisation ou qu'on fasse cesser d'une autre manière l'exposition du support à l'action de la pulvérisation avant qu'une zone quelconque se soit refroidie en dessous de la temporaire minimum de formation de pellicule par contact avec le jet. 



   On sait que la quantité de pellicule formée et la résistivité de la pellicule sont également modifiées par les ingrédients de la solution de pulvérisation, l'humidité de l'at- mosphère dans laquelle on effectue la pulvérisation, et la tempé- rature du support au moment de la pulvérisation, mais ces facteurs   n'ont   pas une grande importance quand il s'agit d'obtenir une pelli- cule dont la résistance par unité de surface n'est pas uniforme à l'aide d'une seule opération de pulvérisation, car ils exercent le même effet sur toutes les parties de la pellicule, et tendent ainsi à modifier à un degré égal les diverses zones du support recevant la pulvérisation. 



   Les pellicules transparentes et électroconductrices formées par de telles techniques de pulvérisation ne se limitent pas à celles qui sont constituées essentiellement d'oxyde de zinc comme décrit ci-dessus. On peut   obtenir des   pellicules d'oxyde d'indium, d'oxyde de cadmium, d'oxyde de zinc et d'autres oxydes métalliques ainsi que de mélanges de ces oxydes les uns avec les autres et avec des quantités faibles d'autres oxydes ayant les propriétés de transparence et d'électroconductivité en pulvérisant sur les plaques de verre chauffées des solutions des sels de métaux appropriés ou de leur mélange. On peut utiliser les moyens géné- raux mentionnés ci-dessus pour obtenir des pellicules contenant ces autres oxydes et ayant la caractéristique de conductivité non uniforme désirée. 



   On peut utiliser pour d'autres fins des pellicules d'oxyde métallique obtenues en pulvérisant des composés métalliques appropriés sur un support réfractaire. Des exemples de telles pellicules sont décrits dans le brevet des Etats-Unis   d'Amérique   

 <Desc/Clms Page number 11> 

 n  2.564.708. On peut également utiliser les moyens généraux décrits ci-dessus pour produire des pellicules ayant une électro- conductivité non uniforme en vue de produire des pellicules d'oxyde métallique qui assurent une transmission non uniforme de la chaleur ou de la   lumière   en raison de leur épaisseur non uniforme. 



   Ces dernières pellicules peuvent être électroconductrices ou non, mais leur utilité réside principalement dans leur   aptitude   à éliminer par effet d'écran une partie de la chaleur et de la lu- mière qui, autrement, traverseraient un verre utilisé comme enceinte transparente. Dans des vitrages pour automobiles dans lesquels le verre s'étend jusque dans le toit de l'automobile, il est spéciale- ment important que la partie du verre correspondant au toit com- porte un revêtement épais et que l'épaisseur de ce revêtement diminue le long d'un axe géométrique s'étendant depuis le toit et allant jusqu'au capot du véhicule, afin de produire un effet d'écran allant en diminuant.

   Il peut également être désirable d'augmenter l'effet d'écran dans la zone la plus basse du verre afin d'absorber la lumière et la chaleur réfléchies par la route et le capot du véhicule. Les fenêtres latérales des autobus comportent de préfé- rence des bandes foncées espacées, supérieure et inférieure, afin de protéger les passagers de la lumière solaire directe et réflé- chie, et de constituer en même temps une zone transparente inter- médiaire permettant de voir sans gêne le paysage. 



   L'obtention des caractéristiques mentionnées précé- demment est l'objet de la présente invention et d'autres   carac-   téristiques apparaîtront au cours   déjà.   description qui va   suivre   et qu'on a faite en se référant au dessin annexé sur lequel : la   fige   1 est une vue en plan à l'échelle d'un panneau de verre pourvu d'une couche transparente électroconductrice de conductivité variable, qui est approprié comme enceinte transparente pour un avion militaire; la fig. 2 est une coupe schématique faite par II-II   (le   la fig. 1; 

 <Desc/Clms Page number 12> 

 la fig. 3 est une vue en perspective schématique d'un procédé de préparation d'un panneau de verre conformément à la présente invention;

   la fig.   4   est une coupe faite par IV-IV de la fig. 3 et perpendiculairement au trajet de la pulvérisation; la fig.5 est une vue schématique en perspective d'un autre procédé   depréparation   d'un panneau de verre conformément à la présente invention ; la fig. 6 est une coupe faite par   VI-VI   de la fig. 5 et perpendiculairement au trajet de la pulvérisation; la fig. 7 est une vue en perspective schématique d'encore un autre procédé de préparation d'un panneau de verre con- formément à la présente invention, procédé dans lequel on munit le panneau d'une pellicule d'une épaisseur décroissante pour faire varier les propriétés de transmission; la fig. 8 est une coupe schématique d'un panneau traité par le procédé représenté sur la fig. 7 et .est faite par VIII-VIII de cette figure;

   la fig. 9 est une coupe faite par IX-IX de la fig. 7 et est prise perpendiculairement à l'axe géométrique d'application de la pulvérisation; la fig. 10 est une coupe transversale d'un panneau montrant comment on l'oriente pour y déposer une pellicule ayant une épaisseur décroissante quand on applique au panneau le type de pulvérisation de la fig.   (De   la fig. 11 est une coupe schématique montrant un panneau traité conformément au procédé représenté sur la fig. 3 et comportant à sa surface un revêtement d'une transparence variable; la fig. 12 est une élévation transversale illustrant une variante du procédé de pulvérisation de plaques de verre avec le châssis de la présente invention; la fig. 13, enfin, est une élévation longitudinale prise par XIII-XIII de la fig. 12. 

 <Desc/Clms Page number 13> 

 



   Le panneau représente sur la fig. 1 comprend une plaque de verre 12 de forme sensiblement rectangulaire et présen- tant des coins arrondis, qui comporte des barres omnibus ou des bandes conductrices marginales 13 en métal électroconducteur tel    que de l'argent, de l'or, etc... disposées le long des côtés opposés et au voisinage des bords (de préférence à 5,08 mm du bord de la   plaque de verre). Ces barres omnibus, qui ont approximativement 3,17 à 25,4 mm de largeur sont disposées le long des bords au voisinage des deux bords opposés les plus longs du panneau, ce qui fait que la distance entre les barres omnibus est maintenue à un minimum. Dans une variante, elles peuvent être disposées sur les deux bords opposés les plus courts du panneau.

   La surface entière de la zone comprise entre les barres omnibus est pourvue d'une pellicule électroconductrice transparente 14 en oxyde d'étain ou en une autre matière, comme on l'a décrit auparavant. 



   Comme illustré sur la   fig.   1, la largeur de 1 a plaque de verre 12 n'est pas constante, mais varie depuis un minimum au centre jusqu'à un maximum près de ses extrémités. En outre, les coins de la plaque sont courbes ou arrondis. Ces coins arrondis sont désirables pour certaines raisons de structure. Toutefois, lorsque des barres omnibus sont disposées sur de telles plaques, la pellicule voisine de leurs extrémités devient trop chaude pour être plastique et brise parfois le verre ou "brûle", particulièrement quand la feuille est revêtue sur sa surface en- tière du revêtement électroconducteur ayant une résistivité super-   ficielle   uniforme. 



   On a constaté qu'on peut remédier à cette difficulté à un degré appréciable en utilisant des barres omnibus qui sont effi- lées jusqu'à former une pointe à l'endroit de leurs extrémités arrondies. Ce chanfrein commence généralement après le début du changement de courbure de la plaque et s'étend sur une distance d'en- viron 3,1 mm à 25 ou 50 mm pour se terminer avant l'extrémité de la courbure.   Fréquemment,   la partie chanfreinée s'étend autour du coin 

 <Desc/Clms Page number 14> 

 de la feuille bien que cela ne soit pas absolument essentiel. 



   Quand on utilise des barres omnibus de ce genre, la pellicule voi- sine des barres omnibus a moins tendance à brûler pendant l'utili- sation du panneau conducteur. 



   Comme représenté sur la fig. 2 sur laquelle on a illustré une pellicule fortement agrandie, la pellicule électro- conductrice   14   est plus épaisse à ses bords voisins des barres omnibus et est plus mince dans:la zone centrale. En raison de cette variation;de l'épaisseur, la conductivité des zones voisines des barres omnibus est plus grande que celle des zones centrales. 



   On peut déposer ce revêtement conformément au procédé illustré sur les fig. 3 et   4.   Conformément à ce procédé, on munit une plaque de verre de barres omnibus 13 appropriées en appliquant un mince revêtement de composition céramique de métallisation con- ductrice, comme décrit ci-dessus. 



   Après l'application des barres omnibus métalliques à la plaque de verre au pinceau ou par un autre procédé, on chauffe la plaque à la température à laquelle on peut effectuer   l'applica-   tion du revêtement conducteur, par exemple à une température supé- rieure à environ 316 à   427 C,   mais inférieure au point de fusion du verre, habituellement 510 à 677 C. Pendant cette phase de chauffage, le revêtement céramique métallisé se vitrifie et est cuit contre le verre, ce qui fait qu'une adhérence parfaite est établie entre le verre et le revêtement métallique. Il est bien entendu qu'on peut appliquer certains types de barres omnibus mé- talliques après avoir appliqué la pellicule électroconductrice. 



  Dans de tels cas, on chauffe la plaque de verre et on la soumet à la pulvérisation avant d'appliquer les barres omnibus. 



   Quand le verre a été chauffé pendant 1 ou 2 minutes, ou plus, on le retire de la chambre de chauffage et on y pulvérise immédiatement la solution de revêtement avant qu'un refroidissement notable du verre ait pu se produire. Au cours de cette opération, on place une certaine quantité de la solution de revêtement dans un 

 <Desc/Clms Page number 15> 

   pistolet   pulvérig teur et on   pulvérise sur   la plaque de   verre   
 EMI15.1 
 c&...'e mi jet atomise de cette ma bière pondant un laps de t;a:

  >ps   bref -    
Afin   d'obtenir   une pellicule dont l'épaisseur varie de la manière désirée, on monte le pistolet pulvérisateur et on le règle de manière à produire un et dirigé horizontalement du type "scindé" ou "en haltère" dont la configuration est celle qui est représentée par les traits pointillés de la fig. 4, ce type de pulvérisation étant plus large et plus dense au   voisinage des   ré- gions terminales écartées supérieure et inférieure 15 et 16 de la section de pulvérisation que dans sa région centrale 17. 



  On peut obtenir ce type de pulvérisation d'une   manière   classique avec   des,pistolets   -pulvérisateurs classiques simplement en utilisant des pressions d'air d'atomisation supérieures à celles qui sont 
 EMI15.2 
 nécessaires pour produire une iw-iforme. ou en réglant l'ajutage du pistolet de   manière   à élargir le jet pour des pression*; pour lesquelles on   obtient   une   pulvérisation   uniforme. 



   Quand on a réglé le pistolet   pulvérisateur   de   :::tanière   à 
 EMI15.3 
 obtenir le type de jetreprésenté sur la fig 4, le verre est sup- porté verticalement et est déplacé transversalement à travers le jet de manière que les bords   supérieur et   inférieur de la   plaque   (sur laquelle sont disposées les barres omnibus 13) passent hori- zontalement à travers les zones denses supérieure et inférieure du jet,   respectivement.   On fait passer la plaque à travers le jet à 
 EMI15.4 
 une cadence telle quuuc plaque dont la dnnà>ri ;

   i,on ia plus grande est d'*PÎI" Xl"làl"L'VeT'lnt b6 C111 et dont 1 profil est apjyroxµ,ùia.tivéio>ent celui qui est représenté sur la. it13* 1 .l'.'I;;,<,;.)lV8 une pulvérisatiLon en l'espace de 2 à 20   secondes     environ.   Eusulte,   on refroidit   la   plaque. Si   cela est   nécessaire,   on peut chauffer à nouveaule verre et pratiquer une nouvelle   pulvérisation   es   vile   d'épaissir le revêtement. 
 EMI15.5 
 



  Il est. bien en 1;E3ndu qu.' 011 peut ubiiispr d' autres pro- cédés pour appliquer la pulvéj.dsation sur le support. Par exple. 

 <Desc/Clms Page number 16> 

 on peut maintenir le support fixe et faire passer le jet horizon- talement au-dessus du support, de manière que les zones denses supérieure et inférieure passent respectivement sur les bords supérieur et inférieur du support. En outre., quand on soumet à la pulvérisation un support relativement petit ou lorsqu'on utilise un grand jet, on peut les maintenir tous deux immobiles. En tout cas, l'exposition d'une partie transversale quelconque à l'action du jet doit être terminée avant qu'une partie quelconque de la section transversale soit refroidie au-dessous   de 1.   température minimum de formation de pellicule. 



   On peut utiliser diverses solutions à cet effet. Des solutions ou des mélanges typiques appropriés sont les suvants: 
1. SnCl4.5H2O 90% 
Formaldéhyde aqueux (contenant 
40% en poids de formaldéhyde) 10% 
2. SnCl4.5H2O 900 gr 
Chlorhydrate de phényl hydrazine 21 gr 
Méthanol 90 cm3 
3. Chlorure stannique anhydre 20.430 gr 
Méthanol   1.854   cm3 
Phényl hydrazine 21 gr 
Eau 7.056 cm3 
Solution de dioctyl sulfosucci- nate de sodium 918 gr 
Une telle solution est composée de : 
Dioctyl sulfosuccinate de sodium 10 gr 
Méthanol   45   cm3 
Eau 45 cm3 
Solution n  3 (sans dioctyl sulfo- succinate de sodium) 70 cm3 
Formaldéhyde aqueux contenant   40%   en poids de formaldéhyde)   45   gr 
Bifluorure d'ammonium 3 gr 
5.

   Solution n 2   ' 100   gr 
Tri chlorure d'antimoine l ou 
2 gr par gr de chlorure stannique dans la solution n  3   6. Fluorure stanneux 5 gr Méthanol 4 gr   
Eau 25 gr 
7. Méthanol 1000 cm3 
Chlorure stannique anhydre 170 cm3 
Bifluorure d'ammonium 6 gr 

 <Desc/Clms Page number 17> 

 
En outre, on peut pulvériser de cette manière du chlo- rues stannique anhydre à l'état liquide ou de vapeur. De plus, on peut utiliser d'autres sels d'étain, tels que le chlorure stanneux, l'iodure stannique, le fluorure stannique ainsi que des sels d'autres métaux qui sont capables de donner des revêtements électroconducteurs transparents (chlorure ou bromure de cadmium, acétate ou bromure de zinc, triiodure d'indium, tétrachlorure de titane, etc...). 



   Les articles ainsi obtenus comprennent un support ou une plaque en verre sur lesquels est déposée une pellicule électro- conductrice du type décrit ci-dessus. L'épaisseur de la plaque de verre est représentée schématiquement sur la fig. 2 et on peut ainsi remarquer la variation appréciable de conductivité de   la'pellicule.   



   En utilisant une plaque typique obtenue   conformément   au procédé ci-dessus, on mesure la résistance par unité de surface en divers emplacements appelés A, B, C, D, E, F, G, H et I   (fig.l).   



  Les zones A, D, G, C, F et I sont disposées à environ 25 à 50 mm des bords latéraux, les zones A, G, C et I n'étant   qu'à   environ   @   50 mm des extrémités de la plaque et les zones D et F étant situées environ au milieu de la plaque. Les zones B, E et H sont disposées approximativement à mi-distance entre les zones A et C, D et F et      G et I, respectivement. La résistance par unité de surface exprimée en ohms par unité de surface (la résistance de surface d'une zone d'un centimètre carré) est la suivante : 
Zone A 14,25   ohms/cm2   
Zone B 21   ohms/cm2   " C 15   ohms/cm2.   



   " D 14,25 ohms/cm2 " E   15,80   ohms/cm2 " F 11,95 ohms/cm2 . 



   " G 21,40 ohms/cm2 " H 27,10 chms/cm2 " I 21,70 ohms/cm2 
Il est bien entendu que les résistances mentionnées sont les résistances moyennes par cm2. Ainsi, même si la résistance peut avoir été élevée ou même extrêmement grande en un seul point de surface minuscule dans le carré de 1 cm de coté, la résistance 

 <Desc/Clms Page number 18> 

 par cm2 est celle qui est mentionnée sur le tableau. De ce tableau, on peut voir que la zone de résistance maximum de la pellicule est celle qui est écartée des barres omnibus et qui est désignée par H. 



   On peut encore constater que, en générale la résistance d'une zone située à mi-distance dans le trajet le plus court entre les barres omnibus, sensiblement en un point quelconque le long des barres, est plus grande que celle des zones situées dans le même trajet et voisines de la barre omnibus. Il n'est pas nécessaire que la résistance de la zone centrale soit plus élevée que la résistance sur toute la longueur des barres omnibus.

   Il est seulement désirable que, lors de la détermination de la résistance, tout trajet linéaire le   '-''''3 court   d'un point d'une barre omnibus à l'autre barre omnibus (par exemple de A à C par B   ou   de D à F par E) passe par une zone centrale écartée d'au moins l'une des barres omnibus d'une distance égale à au moins   5 il.,   de la longueur du trajet qui soit supérieure en ce qui concerne la résistance par unité de surface à la zone   située à   une distance des barres omnibus égale à 5% de la longueur du trajet (par exemple à 25 mm). Habituellement, la résistance moyenne par unité de surface de la pellicule mesurée sur cette distance d'une barre omnibus est inférieure à la résistan- ce moyenne de la pellicule. 



   Il est bien entendu qu'on peut admettre une grande variation de la résistance dans la pellicule. Cette variation peut être admise du moment que la répartition du   courant   pendant le passage de ce dernier est telle que les   sones   ou surfaces de température (ou densité de courant)   maximwn   sont écartées d'au moins 25 mm (ou de plusieurs fois 25 Lui) de la barre omnibus et que   la   température de la pellicule, au voisinage de la barre omnibus, e%t inférieure à celle de la surface de la pellicule de température maximum ou engendrant   la   chaleur. 



   Il n'est pas nécessaire que la variation de résistance entre la zone centrale et les surfais voisines des barres omnibus 

 <Desc/Clms Page number 19> 

 soit importante. Ainsi, comme on le représente sur le tableau précédent, la résistance de la zone D est inférieure de 5% à la résistance dans la zone centrale E. Dans tous les cas, la différence doit être au moins suffisante pour   empêcher l'établissement   d'une production de chaleur ou d'une densité de courant maxima dans la zone conductrice de la pellicule au voisinage de la barre omnibus.

   Pour obtenir ce résultat, il faut habituellement que la résistance par unité de surface (résistivité de surface) dans les zones voisines des barres omnibus soit d'au moins 3 à 5% inférieure à la résistance de la zone de surface maximum dans la pellicule entière (mesurée en cm2) et, de préférence, que la résistivité de surface des zones de la pellicule, en la plupart des points situés le long des barres .omnibus, soit d'au moins 5 à 10% inférieure à celle de la zone centrale qui est située dans le trajet le plus court entre les barres omnibus opposées. Par exemple, la résistance dans les zones A,. D et G doit être inférieure d'au moins 3 à 5% à la résistance dans les zones B, E et H, respectivement.

   En général, la résistivité moyenne de surface d'une bande prise le long de la barre omnibus et   d'une   largeur égale à 5% de la distance séparant les barres   oimibus   doit être inférieure à celle de la plaque entière ou au moins à celle d'une bande de même dimension située entre les barres omnibus et écartée de celles-ci. De préférence, la modification de la résistivité de surface est graduelle et on évite normalement des changements brusques. 



   Un procédé commode pour observer et déterminer l'em- placement de la zone dégageant la chaleur maximum sur le panneau consiste à enduire la pellicule électroconductrice d'un revêtement mince (d'environ   0,025   mm d'épaisseur) d'une matière facilement fusible telle que de la cire d'abeille, à appliquer un potentiel convenable, par exemple   10-.00   volts entre les barres omnibus, et à observer l'endroit où la cire fond tout d'abord. On peut consi-   dérer   ce point comme étant la zone ou la surface engendrant le   maximum   de chaleur. 

 <Desc/Clms Page number 20> 

 



   Dans certains cas, il n'est pas nécessaire que des zones de faible résistivité de surface soient voisines des deux barres omnibus. Par exemple, quand la configuration d'un article est telle que l'une des deux barres omnibus parallèles est essentiellement plus longue que l'autre, la densité maximum de courant tend à se produire au voisinage de la barre omnibus la plus courte. Pour évi- ter un dégagement de chaleur excessif, la zone qui est voisine de la barre omnibus la. plus courte doit avoir une résistivité de surface moyenne plus basse que l'autre zone qui en est écartée. 



   D'autre part, les zones situées le long de la barre la plus longue n'ont pas tendance à dégager une chaleur excessive et, de ce fait, il n'est pas nécessaire de prendre des précautions spéciales le long de cette barre. 



   On attire l'attention sur le fait que la résistance des zones G, H et I est notablement plus élevée que la résistance dans les zones situées sur le côté gauche du panneau A, B et C ou dans les zones centrales D, E et F. Cette variation s'établit lors du déplacement de la plaque ou feuille à travers le jet de pulvé- risation, le bord avant ayant habituellement la résistance la plus élevée. Quand on désire obtenir des résistivités de surface plus élevées à l'une des extrémités qu'à   l'autre,   on peut obtenir ce résultat en faisant simplement passer le panneau à travers le jet de manière que l'extrémité à laquelle on désire conférer la résisti- vité de surface la plus élevée constitue le bord avant. 



   Dans certains cas, il n'est pas nécessaire que les zones ayant une faible résistivité de surface soient voisines des deux barres omnibus sur leur longueur entière. On désire parfois que de telles zones ayant une faible résistivité de surface se   trou-   vent en un endroit quelconque entre les barres omnibus. Il en est ainsi dans les panneaux dont le contour est tel que   1 es   barres on¯ nibus doivent être disposées de manière non parallèle l'une par rapport à l'autre. Une représentation typique de ce genre de panneau est donnée sur la fig. 5 sur laquelle on   aillustré   un panneau avant 

 <Desc/Clms Page number 21> 

 la forme d'un trapèze. 



     Sur.la   fig. 5, on a représenté en perspective un pane 20 sur lequel on pulvérise une solution d'un sel métallique cons- nant à la production d'un revêtement transparentélectroconducteur. 



  Le panneau 20 est- constitué par un support 22 en verre ayant la forme d'un trapèze sur lequel des barres omnibus sont   disposer le   long des côtés non parallèles. Si on dépose une pellicule ayan. une résistivité de surface uniforme sur cette   -,)laque   de verre   20,   les sections du panneau situées entre les extremités plus rappro- chées supérieures des barres omnibus auront tendance à s'échauffer davantage   qu@le   reste du panneau, parce que le courant passe plus facilement à travers le revêtement électroconducteur aux endroits où la distance entre les sections opposées des barres   omnibus   est   la plus   courte,

   il en résulte fréqu emment des défauts ou ruptures de la pellicule au voisinage des extrémités les plus rapprochées des barres omnibus. 



     Toutefois,   conformément à la présente invention, si on applique une pellicule ayant une résistivité de surface non uniforme, de manière telle que la résistance   de ?.   pellicule entre les barres omnibus soit sensiblement la   même   sur toute leur longueur, de tels défauts ne se présentent pas. On applique une telle pelli- cule de résistivité de surface non uniforme sur le panneau 20 de la fig. 5 en réglant le pistolet pulvérisateur de manière à obtenir   un   type de jet allongée tel que celui qui est représenté sur la fig. 6. Le type de jet est plus large et plus dense dans sa moitié inférieure 23 que dans sa moitié supérieure 25.

   On peut obtenir ce modèle de jet avec des pistolets classiques simplement en réglant la pression   d'air   du pistolet 26 pourvu de deux orifices d'air de manière que la pression d'air soit plus élevée à l'un des orifices   qu'à   l'autre. 



   La région dense 23 du type de jet représenté sur la fig.6 est alignée de manière telle avecles zones du support 22 en verre de la fig.5.que la région dense du jet frappe le verre dans la 

 <Desc/Clms Page number 22> 

 zone dans laquelle on désire que la rétistivité de   surface de   la pellicule soit la plus faible. Dans le panneau   représente   sur la fige 5, une telle zone est celle qui est située entre les extré- mités des barres omnibus qui sont le plus écartées   l'une   de   13'autre.,   c'est-à-dire le bord 27 le plus long du panneau. De manière ana- logue, la région peu dense 25 du jet est alignée avec le support de manière à frapper celui-ci dans la zone dans %quelle on désire obtenir une pellicule ayant une résistivité de surface plus élevée. 



   Cette zone sera la partie marginale 28 la plus courte comprise entre les extrémités les plus rapprochées des barres omnibus dans le panneau de la fig.   5,   c'est-à-dire la partie supérieure du panneau. 



   Les exemples suivants   illustrentle   fait qu'on doit mettre en oeuvre l'opération de pulvérisation dans certaines con- ditions spécifiées en vue de produire des pellicules transparentes électroconductrices ayant une résistivité non uniforme. 



    EXEMPLE,],   
On chauffe individuellement 6 plaques de verre rectangulaires de 50,8 x 66 x 0,35 cm dans un four porté à une température de 650 C pendant environ 3 minutes, on les fait sortir du four sur un transporteur horizontal préchauffé et on y pulvérise immédiatement une solution de chlorure stannique   conten@@@   des ingrédients suivants :    Chlorure stannique 20. 



  Chlorhydrate de phényl hydrazine 639 gr Solution aqueuse à 48% en poids d'acide fluorhydrique 84 Eau distillée 7.056 Dioctyl sulfosuccinate de sodium 918 cm3 Methanol 2.256 cm3   
On maintient le pistolet de pulvérisation dans une position fixe à environ 35 cm au-dessus de la plaque de verre et on fait passer chaque plaque de verre à travers le jet en les inclinant a environ 90  par rapport au trajet du jet, pour une vi- tesse constante du transporteurd'environ 23 cm/seconde. En effec- tuant la pulvérisation de cette manière, le temps de contact 

 <Desc/Clms Page number 23> 

 avec le jet est à peu près le même pour toutes les plaques. 



   La pression d'air appliquée au pistolet pulvérisateur est d'environ 4,35   kg/cm2.   On règle la quantité de solution de pulvérisation qui vient frapper chaque plaque en faisant varier la pression dans le conduit d'alimentation de cette solution. 



   La configuration du jet est celle d'un jet "en   forme   d'haltère" ou d'un jet scindé, c'est-à-dire celle d'un jet allongé qui est plus concentré à ses extrémités qu'à son centre, comme re- présenté sur la fig. 4. On fait passer la plaque à travers le jet de manière que les bords de la plaque qui ont 66 cm de long traver- sent les régions écartées denses 15 et 16 du jet allongé. 



   La répartition de la résistance des pellicules électro- conductrices transparentes d'oxyde de zinc ainsi obtenues est men- tionnée sur le tableau 1 ci-dessous en même temps que les condi- tions de pulvérisation correspondantes : 
TABLEAU 1 
 EMI23.1 
 
<tb> Quantité <SEP> de
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> solution <SEP> Pression <SEP> de <SEP> Répartition <SEP> de <SEP> la <SEP> résis-
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> Plaque <SEP> pulvérisée, <SEP> la <SEP> solution <SEP> tivité <SEP> de <SEP> surface <SEP> en
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> N  <SEP> gr/sec.

   <SEP> kg/cm2 <SEP> ohms/cm2
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> haut <SEP> Centre <SEP> Bas
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 1 <SEP> - <SEP> 0,21 <SEP> 12,65 <SEP> 26,45 <SEP> 13,80
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 2 <SEP> 9,65 <SEP> 0,49 <SEP> 10,90 <SEP> 14,95 <SEP> 10,90
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 3 <SEP> 11,5 <SEP> 0,56 <SEP> 12,65 <SEP> 13,80 <SEP> 10,90
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 4 <SEP> 12,0 <SEP> 0,63 <SEP> 12,65 <SEP> 13,80 <SEP> 10,90
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 5 <SEP> 20,5 <SEP> 1,05 <SEP> 8,60 <SEP> 8,60 <SEP> 7,45
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 6 <SEP> 26,7 <SEP> 1,40 <SEP> 8,05 <SEP> 6,90 <SEP> 8,60
<tb> 
 
Les mesures de résistance "haut" et   "bas"   ont été prises à environ 25 ou 50 mm des bords de la plaque de verre qui mesure 66 cm de long.

   On les a mesurées en des zones similaires à celles qui sont désignées par les .lettres D et F sur la   fig.   1, au voisinage des parties centrales des bords de la plaque de verre. 



     -On   peut déduire des résultats de   Inexpérience     ci-dessus   que pour obtenir et maintenir une distribution de résistance dans laquelle la résistance de la pellicule transparente électroconductri ce d'oxyde d'étain est plus grande aux bords de la pellicule qu'au centre de celle-ci,l'opération de pulvérisation doit être interrom- 

 <Desc/Clms Page number 24> 

 
 EMI24.1 
 pue quand une certaine quam t t é de solution est pliyu e sur le verre. Quand on applique des quantités plus grandes de solution, le rapport entre la résistance du centre et des bords de la plaque de verre diminue graduellement jusqu'au point pour lequel on obtient une résistivité de surface sensiblement uniforme. 



   EXEMPLE II 
On exécute une autre série d'expériences pour véri- fier les résultats obtenus dans l'exemple I. Dans cette série d'expériences, la vitesse du transporteur est modifiée, ce qui fait varier la longueur du temps pendant lequel chaque fraction de sur- face de la plaque, prise transversalement à l'axe géométrique du déplacement, reste dans la zone de pulvérisation. Toutes les autres conditions restent constantes. 



   On chauffe individuellement une série de 5   plaques   de verre de 50,8 x 66 x 0,35 cm dans un four porté à la température de   650 C   pendant environ 3 minutes, on les sort du four sur un transporteur horizontal préchauffé et on les soumet à la pulvérisa- tion de la même manière que dans l'exemple I avec une solution de chlorure stannique comportant les mêmes ingrédients que la solution décrite dans l'exemple I. Dans ces essais, la cadence d'écoule- ment de la solution est maintenue constante, mais on fait varier la vitesse du transporteur. 



   Les répartitions de la résistivité de surface des pelli- cules électroconductrices transparentes ainsi obtenues sont men- tionnées sur le tableau II ainsi que les conditions de pulvérisation correspondantes. 



   TABLEAU II 
 EMI24.2 
 
<tb> Répartition <SEP> de <SEP> la <SEP> résistivité
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> Vitesse <SEP> du <SEP> de <SEP> surface <SEP> en <SEP> chms/cm2
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> Plaque <SEP> transporteur
<tb> 
 
 EMI24.3 
 N  cm/seconde . Haut Centre Bas 
 EMI24.4 
 
<tb> 7 <SEP> 22,8 <SEP> 12,65 <SEP> 18,4 <SEP> 12,65
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 17,8 <SEP> 8,62 <SEP> 13,80 <SEP> 10,90
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 9 <SEP> 13,9 <SEP> 8,62 <SEP> 13,80 <SEP> 10,90
<tb> 
 
 EMI24.5 
 10 . Il,4 7,45 ,75 8,05 
 EMI24.6 
 
<tb> 9,4 <SEP> 8,05 <SEP> 7,45 <SEP> 8,60
<tb> 
 

 <Desc/Clms Page number 25> 

 
 EMI25.1 
 Ces résultats perùicttfjnt do voir qu'<:fi dli!1JmJ,.nt la vi- tesse du transporteur., ce qui augnientc le te1JJII de pulvérisation ou le teMps pendit lequel la plaque de verre reste dans la.

   Z01H: de pulvérisation, le rapport entre la résistivité de   surface     delà.   
 EMI25.2 
 pellicule au centre delà plaque et la r(;,dftlv1. V: de surface aux bords de la plaque diminue graduellement   jusque,   un pointtel au'on obtient une   résistivité   de surface sensiblement uniforme de la pellicule. 
 EMI25.3 
 



  FXI;",-'x...'T'T, 0n mesure approximativc1.1Jent la quantité de solution qui frappe les diverses zones Ct'llCl' pl a,,1--., de verre; é( ¯. >;l ."- ',1, :: C:3 "c se déplaçant à travers un jet ayant une fOTI.18 èJ'111::.1tèr'8 ou I2t "scinde'* 8. une vitesse de 228 cr.i/seconde, quand le clébi t G '4-e?"ale- ment delà solution de pulvérisation utilisée est de Ë; ,67 gr/sec#de. 



  On pèse trois récipients rectangulaires ayant 16,95   n'il   de largeur et on les dispose   côte     à   côte de   Manière que leur largeur     totale   
 EMI25.4 
 soit .-lapprorii,,ative7Aent 50,8 cai. On les fait ensuite passer à tra- vers le jet de   manière   que les bords des   récipients dont la   largeur totale est de 50,8 cm   traversent   le jet   parallèlement  au jet allonge. 



  La quantité de liquide frappant chaque récipient est recueillie et on pèse les récipients contenant le liquide.. Les récipients exté- rieurs recueillent respectivement 3,84 et 2,80 gr de solution et le récipient central recueille 0,40 gr de solution. Ces   Mesures   donnent   'une   indication de la   variation   de   la.     quantité   de   solution     frappant     la   surface du support en verre quand on utilise un jet "scindé" ou ayant la forme d'une haltère. 



    EXEMPLE   IV 
On chauffe   individuellement   une série de trois   plaques   de 
 EMI25.5 
 verre de 508 x 66 x o,35 CM. dans un four porte a une température d environ 649*C pendant environ 3 minutes on les sort du four sur un transporteur horizontal ,1-e'chauff et on y pulvérise immédiate- ment une solution de chloj-ure stannique tJjrant la. carxpc;::L't;3¯rrn dcx.a'e dans 5 1 ' =xeùipl <-: I. 

 <Desc/Clms Page number 26> 

 
 EMI26.1 
 



  L'appareil de pulv{;!"5 f-'3.tic : utili: e=t le 1,'nÚ que dans l'exemple I. La pression d' ai::L;npp1 iquée au pistolet pulvérisa- teur est de 2,25   kg/cm2   et la pression de la solution est   d'environ   0,28kg/cm2, la quantité de solution débitée étant d'environ 0,42 gr/seconde. 



   Le type de jet utilisé est un jet rond dans lequel la région centrale est plus concentrée que les parties latérales. 



  On fait passer la plaque de verre à travers le jet de manière que les bords de la plaque, qui mesure 66 cm de   long.,   traversent les régions les moins denses ou latérales du jet. La vitesse du transpor- teur varie comme représenté ci-dessous, ce qui permet d'utiliser différents temps de pulvérisation. La forme circulaire du jet tend à produire une pellicule avec laquelle la répartition de la résistance est telle que la partie centrale du verre ait une résistance plus faible que les bords du verre. Les résultats de telles expériences sont mentionnés sur le tableau III ci-après. 



   TABLEAU III 
 EMI26.2 
 
<tb> Vitesse <SEP> du <SEP> Répartition <SEP> de <SEP> la <SEP> résistivité
<tb> 
 
 EMI26.3 
 Plaque transporteur de surface e ohnfcxz.2 T. en ç!/secor¯de Haut Centre Bas 
 EMI26.4 
 
<tb> 12 <SEP> 76,2 <SEP> 80,5 <SEP> 20,9 <SEP> 69
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 13 <SEP> 50,8 <SEP> 32,2 <SEP> 14,9 <SEP> 21,85
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 14 <SEP> 22,8 <SEP> 7,45 <SEP> ' <SEP> 8,85 <SEP> 8,05
<tb> 
 
On peut utiliser des formes de jet autres que celles qui sont décrites ci-dessus pour produire des pellicules électroconductrices transparentes ayant une résistance non uniforme par unité de surface. Par exemple, on peut régler le pistolet dernière à former un jet allongé dans lequel l'une des régions terminales ou la   régio   centrale est plus concentrée que les autres régions.

   Le type de la forme de jet qui est utilisé dépend de la forme du support sur lequel on doit déposer une pellicule ainsi que de la distribution de résistivité de surface désirée. 



   On peut voir de ces exemples que le temps admis pour la mise en oeuvre de 1 opération de pulvérisation tout en conservent une forme de jet donnée, telle qu'un jet en haltère, varie en fonc- 

 <Desc/Clms Page number 27> 

 tion de la densité du jet,   c'est-à-dire   de la. quantité totale de solution frappant la surface à soumettre à la pulvérisation. On a constaté que des temps de 2 à 10 secondes conviennent pour la mise en oeuvre de l'invention. Pour une cadence quelconque, on a constaté qu'un temps de pulvérisation supérieur à 20 secondes doit générale- ment être évité. 



   L'invention peut particulièrement être mise en oeuvre conjointement avec le dépôt d'une pellicule transparente d'oxyde d'étain. Cependant, on peut également mettre l'invention en pratique avec de l'oxyde d'étain et d'autres oxydes métalliques en combinai- son avec la même pellicule, par exemple des pellicules conte- nant une quantité prépondérante, au moins 70 à   80%   en poids, d'oxyde d'étain et des quantités faibles d'oxyde d'antimoine, de cuivre, de zinc, de thallium, de vanadium, de chrome, de maganèse, de cobalt, de cadmium, d'indium ou de titanium ou desmélanges de ces oxydes. 



  En outre, on peut mettre l'invention en oeuvre avec d'autres pelli- cules transparentes électroconductrices d'un oxyde métallique, par exemple des pellicules d'oxyde de cadmium, d'oxyde de zinc, d'oxyde   d'indium,   etc... qu'on peut préparer en utilisant le bromure, le chlorure ou l'acétate du métal correspondant. Des pellicules trans- parentes obtenues à partir d'un oxyde métallique ont normalement une faible capacité de transmission de la lumière mais elles sont appropriées lorsque cette caractéristique ne constitue pas une objection importante. 



   Les pellicules d'oxydes métalliques déposées sur des panneaux de verre conviennent également pour absorber une propor- tion de la lumière et d'autres radiations tombant sur le panneau. 



  Diverses pellicules d'oxyde métallique peuvent assurer les résultats désirés. En appliquant des solutions d'un sel métallique capable de former ces pellicules d'oxyde métallique ou de certains de leurs mélanges, conformément aux moyens généraux de la présente invention, on obtient des pellicules ayant une transparence non uniforme. 

 <Desc/Clms Page number 28> 

 



   Les revêtements d'oxyde Métallique les plus   appropriés   à cet effet sont ceux qui contiennent. de l'oxyde d'étain, de l'oxyde d'indium, de l'oxyde de cadmium ou leurs mélangea des mélanges d'oxyde d'étain et d'oxyde d'antimoine, avec ou sans petites addi- tions des oxydes du bismuth, du fer, du zinc, du cuivre, du vana- dium, du chrome, du manganèse, du cobalt ou de leurs mélanges, des pellicules d'oxyde de fer comportant ou non de faibles proportions d'oxyde d'étain, des pellicules d'oxyde de titane, et des pellicules d'oxyde de cobalt. Sur le tableau IV, on a mentionné des solutions particulières qui sont utilisées pour préparer des pulvérisations qui forment des pellicules d'oxyde métallique lors de leur venue en contact avec des supports chauds en verre.

   L'invention n'est pas limitée à ces solutions particulières de pulvérisation, pace qu'on peut utiliser les moyens généraux de formation d'une pellicule non uniforme avec toute composition formant une pellicule qui doit être pulvérisée sur un support chaud en matière réfractai,. re pour réagir à la surface du support en formant la pellicule d' oxyde métallique colorée nécessaire. 



   Les solutions mentionnées sur le tableau IV donnent des pellicules ayant une épaisseur uniforme. Cependant, on peut communiquer diverses épaisseurs à ces pellicules si on applique la solution de pulvérisation sous forme d'une dispersion non   uniforme   et si la durée du temps d'exposition du support en verre chaud à l'action du jet est limitée conformément aux moyens généraux de la présente invention. 



   TABLEAU   IV   
 EMI28.1 
 
<tb> Composition <SEP> Couleur <SEP> transde <SEP> la <SEP> solution <SEP> % <SEP> d'oxyde <SEP> mise <SEP> par <SEP> la
<tb> (Sels) <SEP> métallique <SEP> L <SEP> E <SEP> pellicule
<tb> ¯¯¯(Solvants)
<tb> 
<tb> IV-I <SEP> 73, <SEP> 2 <SEP> g <SEP> SnO271,2% <SEP> 10% <SEP> 19,5% <SEP> Bleu <SEP> foncé
<tb> SnCl4
<tb> 
<tb> 27 <SEP> gr <SEP> Sb20328,8%
<tb> SbCl3
<tb> 
<tb> 75,6 <SEP> gr
<tb> H2O
<tb> 
<tb> 10 <SEP> gr
<tb> HCl
<tb> 
 

 <Desc/Clms Page number 29> 

 
 EMI29.1 
 IV-2 73,2 gr 7nO2$o,, 20% 25'l Bleu-;

  v1olet 
 EMI29.2 
 
<tb> IV-2 <SEP> 73,2 <SEP> gr <SEP> 2 <SEP> foncé
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 15,5 <SEP> gr <SEP> Sb203 <SEP> 19,1% <SEP> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> SbCl3
<tb> 
<tb> 
<tb> 70,6 <SEP> gr
<tb> 
<tb> 
<tb> H2O
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 15 <SEP> gr
<tb> 
<tb> 
<tb> HCl
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> IV-3 <SEP> 73,2 <SEP> gr <SEP> SnO2 <SEP> 95,4% <SEP> 59% <SEP> 39% <SEP> Bleu <SEP> pâle
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> SnC14
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 3,3 <SEP> gr <SEP> Sb2O3 <SEP> 4,6%
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> SbC13
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 70,6 <SEP> gr
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> H20
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 15 <SEP> gr
<tb> 
<tb> HCl
<tb> 
 
 EMI29.3 
 IV-l 73,2 gr sno2 82,,6% 27% 15% Bleu-noir 
 EMI29.4 
 
<tb> SnCl4
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 6,9 <SEP> gr <SEP> Sb203 <SEP> 7,6% <SEP> Très <SEP> neutre
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> SbCl3
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 6,

  8 <SEP> gr <SEP> Bi2O3 <SEP> 9,8%
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> BiCl3
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 70,6 <SEP> gr
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> H2O
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 15gr
<tb> 
<tb> 
<tb> HCl
<tb> 
 
 EMI29.5 
 IV-5 73,2 gr Sn02 71,7% -24% 22% Brun vert oli- 
 EMI29.6 
 
<tb> IV-5 <SEP> SnCl4
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 7,7 <SEP> gr <SEP> Sb2O3 <SEP> 8,7%
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> SbCl3
<tb> 
 
 EMI29.7 
 12 8 gr Biz03 1686% 
 EMI29.8 
 
<tb> Bil3
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 70,6 <SEP> gr
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> H2O
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 15 <SEP> gr
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> HCl
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> IV-6 <SEP> 132 <SEP> gr <SEP> Sn02 <SEP> 75% <SEP> 26% <SEP> 25% <SEP> Bleu <SEP> vert
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> SnCl4 <SEP> neutre
<tb> 
 
 EMI29.9 
 36,1 gr Sb2 0322e7% 
 EMI29.10 
 
<tb> SbCl3
<tb> 
<tb> 
<tb> 7,

  8 <SEP> gr <SEP> Fe203 <SEP> 2,3% <SEP> 
<tb> 
<tb> 
<tb> FeC136H20
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 70,6 <SEP> gr
<tb> 
<tb> H20
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 15 <SEP> gr
<tb> 
<tb> HCl
<tb> 
 

 <Desc/Clms Page number 30> 

 
 EMI30.1 
 IV-7 132 gr Silo 2 6'/ ,97) 55;. J+?2b Vert el,ir SnCl Dl1vant.;û snel 4 rJ:: f'c:r .r0- 
 EMI30.2 
 
<tb> 36,1 <SEP> gr <SEP> Sb203 <SEP> 19,2 <SEP> voque <SEP> des
<tb> SbCl3 <SEP> taches
<tb> 73,5 <SEP> gr
<tb> 
 
 EMI30.3 
 FeCl3 bF2o Fe2o3 17 9 
 EMI30.4 
 
<tb> 70,6 <SEP> gr
<tb> H20
<tb> 
<tb> 15 <SEP> gr
<tb> H2O
<tb> 
<tb> IV-8 <SEP> 45 <SEP> gr
<tb> 
 
 EMI30.5 
 FeCl3 6H20 17J 48>';

   Transmission 
 EMI30.6 
 
<tb> de <SEP> couleur <SEP> am-
<tb> 
<tb> 
<tb> 45 <SEP> gr <SEP> bre.Cette <SEP> pel-
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> méthanol <SEP> licule <SEP> arrête
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> le. <SEP> transmission
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> par <SEP> suite <SEP> d'
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> une <SEP> réflexion
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> élevée.
<tb> 
 
 EMI30.7 
 



  IV-9 '45 gr Fe2a3 86,5% 51% 46 â Couleur ambre 
 EMI30.8 
 
<tb> FeCl3 <SEP> 6H20
<tb> 
<tb> 3 <SEP> gr <SEP> SnO2 <SEP> 13,5%
<tb> SnCl4
<tb> 45 <SEP> gr
<tb> méthanol
<tb> 
<tb> 5 <SEP> gr
<tb> HCl
<tb> 
<tb> 
<tb> IV-10 <SEP> 30 <SEP> gr <SEP> TiO2 <SEP> 100% <SEP> 62% <SEP> 60% <SEP> Ambre, <SEP> lumière <SEP> 
<tb> TiCl4 <SEP> argentée <SEP> trans
<tb> 
 
 EMI30.9 
 mise par ré- 70 gr flexion. 
 EMI30.10 
 
<tb> méthanol <SEP> flexion.
<tb> 
<tb> 



  IV-11 <SEP> 20 <SEP> gr <SEP> CoO <SEP> 100% <SEP> 9% <SEP> 26% <SEP> Ambre
<tb> Acétate <SEP> de
<tb> cobalt
<tb> 4H2O
<tb> 
<tb> 20 <SEP> gr
<tb> H20
<tb> 
   L transmittance lumineuse déterminée à l'aide d'un luxmètre du type "Weston"   
 EMI30.11 
 E z énergie totale déterminée par une téte ü=Lct i^e du type   "Radiomatic"   
Le moyen général de la présente invention qui concerne 
 EMI30.12 
 la variation de la transmit.sion de Im1ière par la pellicule est représenta sur. les fige 7 à 13.

   En se reportant part;icuiièrement aux fig. 7 et 8, on voit 0,"eu" vl1:rac d'Lutr:.robtle 30, qui peut comprendre une seule vitre de verre ou pbi #1<;u;s; plaques de VC1''T'(> 

 <Desc/Clms Page number 31> 

 entre lesquellee est disposée une couche de matière thermoplastique, peut être enduit conformément à la   présent(invention   d'un revêtement dont l'épaisseur varie le long d'un axe géométrique transversal à l'axe géométrique du déplacement relatif, entre l'axe géométrique central du jet et le verre, ce qui donne une densité graduée dans le sens vertical quand le panneau est monté sur une automobile. 



  La densité du revêtement pulvérisé sur le pare-brise de l'automobile est sensiblement uniforme le long de tout axe géométrique horizontal, qui coïncide sensiblement avec l'axe géométrique du . déplacement entre le panneau de verre et le jet. 



   Le panneau 30 comporte une partie centrale 32 qui est destinée à s'étendre transversalement à une automobile et à se raccorder à chacune de ses extrémités dans le sens   ongitudinal   avec des parties latérales 34. Ces dernières s'étendent depuis la partie centrale dans des plans verticaux sensiblement perpendicu- laires au plan tangent au centre de la partie   cert@@e   32. La partie supérieure de la partie centrale est courbée de   @   grère à former une partie 36 de toit et à former en cetendroit   @  partie   margi-   nale du toit de l'automobile.

   Il est désirable que la partie de toit soit sensiblement opaque et la partie centrale 32 comporte une par- tie supérieure 33 pourvue d'un revêtement dont l'épaisseur va en décroissant vers le bas à partir de la partie de toit,   jusqu'^   ce que le revêtement devienne inexistant environ à mi-chemin   du .    du panneau, ce qui constitue une partie transparente 35 qui -tend horizontalement en dessous de la partie supérieure 33. 



   On peut former un panneau de ce genre en chauffant une plaque de verre de la même manière que pour former un revêtement transparent électroconducteur et en y pulvérisant immédiatement une solution   d'un   sel métallique qui constitue un revêtement d'un oxyde métallique ayant un effet   d'écran,   à la chaleur.   Lorsqu'on   oriente le panneau 30 de manière que sa surface convexe soit orientée vers le jet, il est important que les positions relatives du panneau et du jet soient telles que la partie de toit 36 soit 

 <Desc/Clms Page number 32> 

 alignée avec la région dense 23 du jet et que la partie transparente 
35 soit maintenue hors de conta.ct avec le jet, à mesure que le panneau est déplacé à tiavers la pulvérisation (fig. 7, 8 et   9).   



   Dans une variante,les pistolets peuvent être déplacés par rapport   à   un support fixe et chauffé, ce qui assure le mouvement relatif nécessaire. En tout cas, il est nécessaire que chaque petite frac- tion du panneau 30 soit exposée au jet pendant un temps limité. 



   Cette exposition doit eesser avant que la température d'une partie quelconque de la fraction tombe en dessous de la température minimum de formation d'une pellicule, afin que la pellicule d'oxyde métalli- que résultant de l'exposition du support chaud à l'action de la composition de pulvérisation soit graduée suivant une configuration désirée. 



   On doit prendre des précautions pour que les effets des bords avant et arrière, décrits dans   la   demande de brevet des Etats-Unis   d'Amérique   déposée le 16 février 1950 sous le n    144.429.   soient   éliminés.   On peut obtenir ce résultat en augmentant la pério- de d'application du jet sur les bords avant et arrière du support chaud par rapport à la période   d'application   sur les parties inter- médiaires, soit en diminuant la vitesse de déplacement des bords avant et arrière du panneau à travers le jet,   poit   en faisant tour- ner le pistolet pulvérisateur dans le sens du   déplacement   du panneau à travers le jet.

   Cependant, la   période   d'une exposition unique de n'importe quelle fraction du panneau à   l'action   de la pulvérisation est limitée par les points Critiques sus-mentionnés. 



   Etant donné que 1.'épaisseur du jet détermine l'opacité de la pellicule formée, on produit un revêtement ayant une densité qui est sensiblement uniforme le long de l'axe du déplacement entre une plaque et le jet et qui varie le   long   de l'axe perpendiculaire à   3.'axe   de déplacement relatif. Si la densité ] 'une telle pellicule est insuffisante en raison des limitations du temps d'exposit'on mentionnées ci-dessus, on peut   répéter   le processus de revêtement en chauffant à nouveau le panneau enduit et en le soumettant à une 

 <Desc/Clms Page number 33> 

 autre opération de pulvérisation.

   S'il faut plus d'un revêtement pour obtenir la densité appropriée de la pellicule, on peut obte- nir des revêtements plus uniformes le long de l'axe du   .ouvert   relatif en inversant les bords avant et arrière de la plaque expose au jet pour la seconde pulvérisation. 



   Un autre procédé de production d'une pellicule d'une densité graduelle de ce genre consiste à placer le pare-brise sens dessus-dessous (fig.   la),   de manière que la partie 36 de toit soit située en bas et que les surfaces concaves du panneau 30 soient exposées au jet de pulvérisation. On applique cette derniè- re sous la forme représentée sur la fig. 6,   douanière   que la ré- gion dense 23 frappe la partie de toit 36, la région moins dense 25 frappant la bande 33 du panneau et la bande 35 du panneau maintenues au delà des limites du jet: La pellicule formée par ce procédé se trouve sur la surface interne de la vitre de l'automobile et, de ce fait, elle n'est pas exposée aux intempéries ou aux autres causes de Détérioration de la pellicule. 



    EXEMPLE   
On monte une plaque de verre plate, coupée à l'avance, ayant   35,6   cm de large,   106,7   cm de long et 0,63 cm d'épaisseur, sur un moule à courber le verre du type à châssis femelle, comportant des surfaces supérieures de mise en forme qui épousent par leur profil et en élévation, le contour qu'on désire impartir au verre. On place la plaque et le moule sur un support. 



  On laisse le support muni du moule dans un four horizontal pendant 
5 minutes et 30 secondes, temps pendant lequel le verre chauffé s'affaisse sous l'effet de la pesanteur en épousant la surface de mise en forme du moule. On fait passer horizontalement le verre courbé sous un jet fourni par un pistolet pulvérisateur disposé à 
30  en dessous de l'horizontale et dirigé transversalement au trajet horizontal suivi par le verre par rapport au pistolet de pulvérisa- tion. La densité du jet va en diminuant et il est orienté de manié¯ re que sa région épaisse se trouve le long d'un bord longitudinal 

 <Desc/Clms Page number 34> 

 
 EMI34.1 
 de la plaque de verre courbée et que le bor(l 1..! .,cIl (1(;uf,C (le la région mince du jet soit alî,-nnav,2c la partie 4e 1:. pln(U8 dans laquelle on désire terminer la pulvérisation.

   On   transporte le   
 EMI34.2 
 verre au delà du pistolet pulvérisateur oi,1<àrit/ bzz une due celui-ci d'environ 101 mm, mesurée le long de 1 ,az<j gòj;i,µtrj¯oue central du jet. La pression d'air appliqua :-1l iÜ;to2.G!; ust d'en- viron   4,2   kg/cm2 et la solution de   pulvérisation   est   amenée   sous l'effet de la pesanteur dans le pistolet pulvérisateur. 



   La solution de pulvérisation forme un   revêtement   d'oxyde comprenant principalement un mélange   d'oxyde   d'antimoine et 
 EMI34.3 
 d'oxyde d'étain, dans lequel lla-ati-1-aoîne constitue environ 20; en poids du poids total de l'étain et de l'antimoine.

   La composition de la solution de pulvérisation est la suivante : 
H2O 151 gr 
HCl concentré 30 gr 
SnCl4 146 gr 
SbCl3 31 gr 
Le pourcentage de transmission en différents points de la plaque ayant   @   la pulvérisation, le long de diffé- rents axes longitudinaux, est le   suivant :   
TABLEAU V 
 EMI34.4 
 
<tb> Bord <SEP> avant <SEP> Bord <SEP> supérieur <SEP> Bord <SEP> arrière
<tb> 
 
 EMI34.5 
 10% 6% 8J 14% /..VJ 3vj.J % 20% 15% 31% 32 46p 77% 60% 46f 63 7/,:"-J 7Sil 85o 79% 70 74% : ."1 $2; 89% 87% 8'1 . 83; 85G 89% 87% 155,; ë7;":.) s7jF 
Bord inférieur Le développement de la pellicule n'est pas aussi 
 EMI34.6 
 important au bord arrière du ..anneau qu'éia bord a.V;1n ou cru centre.

   Ce résultat met en évidence la nôces>iL t8 du.ur le temps d'exposition des fractions du panneau situées au bord 

 <Desc/Clms Page number 35> 

 arrière,à   Inaction   de pulvérisation formant une pellicule, quand on enduit de grands panneaux, en tenant compte des limitations de la présente invention. On peut obtenir ce résultat soiten fai- sant tourner le pistolet pulvérisateur dans le sens de déplacement du panneau, soit en ralentissant le déplacement relatif des fractions du bord arrière du panneau au delà du jet. Le panneau doit se déplacer à une vitesse minimum par rapport au jet, de manière que chacune de ses fractions quitte le jet avant que la température de l'une quelconque de leurs parties tombe au-dessous d'une   tempé-   rature minimum de formation de pellicule. 



   Bien entendu, on peut obtenir les mêmes résultats en exposant le support revêtu d'une pellicule à la chaleur et à une seconde pulvérisation dans laquelle le bord qui constituait le bord arrière lors de la première pulvérisation est devenu le bord avant pour la seconde pulvérisation. 



   Un autre avantage de, la présenteinvention pour la forma- tion de revêtements de densité non uniforme   cohorte   l'utilisation d'un jet en forme d'haltère (fig. 4) pour former sur une plaque de verre une pulvérisation dont le dessin présente des zones écartées recouvertes d'une pulvérisation dense et une zone intermédiaire ayant      reçu une pulvérisation légère. On a représenté un tel type de pulvérisation sur la fig. 11 sur laquelle on a représenté une plaque de verre   40   qui, après avoir été chauffée dans un four à une tempé- rature bien supérieure à la température minimum requise pour la formation d'une pellicule, est sortie du four et est déplacée   à   travers un jet de forme en haltère.

   La bande supérieure de la plaque   40   est enduite d'un revêtement 44 relativement dense qui se raccorde par une bande revêtue intermédiairement en une partie centrale   46   dela plaque pourvue d'un revêtement relativement mince. 



  L'épaisseur du revêtement est augmentée vers le bas par une bande intermédiaire 47 jusqu'à la bande inférieure 48. Ce Mode de pulvé- risation provient du fait que les bandes 44 et 48 de la plaque 40 sont alignées avec les régions denses de pulvérisation 15 et 16 

 <Desc/Clms Page number 36> 

 et que la partie centrale   46   de ia plaque est alignée avec la région moins dense 17 du jet, du fait que le jet de forme en haltère est orienté vers le verre 40 en déplacement pen- dant la période limitée d'exposition décrite ci-dessus. 



   EXEMPLE VI 
On prépare une solution contenant 73,2 gr de 
SnCl4, 75,6 gr de H2O,10 gr de HCl et 27 gr de SbCl3,ce qui correspond à une concentration de 30 % en poids d'anti- moine par rapport au poids total de l'antimoine et de l'étain dans la solution. On suspend les plaques de verre sur un support et on les laisse dans un four réglé à   6770   C. Après un chauffage d'environ 8 minutes, on enlève les plaques   (45,7   x 45,7 x 0,63 cm) du four et on les fait passer à tra- vers la solution de pulvérisation décrite ci-dessus. Un pis- tolet de pulvérisation, orienté le long d'un axe perpeodicu- laire au plan délimité par la plaque chauffée, envoie un jet de type scindé, similaire au jet en haltère représenté sur la figure 4, autour de l'axe d'orientation du jet.

   Les par- ties marginales de la plaque de verre sont recouvertes d'une pellicule épaisse. L'épaisseur de'la pellicule diminue gra- duellement en direction de l'axe central de déplacement de la feuille à travers le jet. Le tableau suivant mentionne les pourcentages typiques de transmission visible et totale d'énergie lumineuse, mesurés à l'aide d'une lame "Weston" et d'une tête de radiomètre, respectivement. 

 <Desc/Clms Page number 37> 

 
 EMI37.1 
 



  T.'\fl.,Bi\.U- VI   PLAQUE   VI-I 
 EMI37.2 
 Bande Transmission visible Transmission totale o.',ner:: ###" gie 44 20% l8- 28% 30% 23% 33ft 45 27'fié 22% 27 38 36 37% 46 47% 41% 42% 47% 44% 44% 47 23% 20> 2ë% 37% 32% 36% 48 17% 16% 26% 29% 26% 31% PLAQUE VI-2 
 EMI37.3 
 44 10% 7% 10% 17% 17% 19% 45 13% loula 15% 22% 21% 24'o 46 26% 26o' 29% 31% 31% 34% 47 8% 6% 12% 17% 17% 19% 48 6% 5% 8% 16% 15% 10% EXEMPLE VII 
On dispose deux pistolets pouvant donner un jet tel que celui qui est représenté sur la figure 6, au-dessus de la ligne de déplacement de plaques de verre montées sur des moules de courbure du verre disposés horizontalement et comprenant des surfaces de mise en forme de châssis   supérieu'   qui ont, en élévation,

   une forme concave qui épouse le   proflJ   courbe qu'on désire communiquer à la plaque de verre. Les pistolets sont disposés à un angle de 30  en dessous de l'he- rizontale et sont dirigés dans des sens opposés de manière que les régions denses 23 soient alignées avec les bords lon- gitudinaux des plaques et que les régions 25 moins denses frappent les plaques en mouvement à l'intérieur par rapport à leurs bords longitudinaux. Les plaques sont chauffées dans un four horizontal maint,enu à   6770   C pendant 5 minutes et de- mie. Pendant le chauffage, les plaques de verre plates flé- chissent et   épousent:a   surface supérieure de mise en forme du moule. Immédiatement après l'avoir enlevée du four, on 

 <Desc/Clms Page number 38> 

 fait passer la plaque sous la solution de pulvérisation.

   Les deux pistolets pulvérisateurs sont orientés ae manière telle que la région épaisse du jet émis par l'un des pistolets soit alignée avec l'une des extrémités, prise dans le sens   longi-   tudinal, de la plaque de verre courbée et que le région épais- se du jet soit alignée avec l'autre extrémité, dans le sens longitudinal,   de.   la plaque de verre en mouvement. Les pisto- lets sont espacés d'approximativement 10 cm de la plaque, mesurés sur   l'axe   géométrique du jet. 



   On courbe et on soumet à la pulvérisation quatre plaques de verre au total. On fait passer la première plaque sous les pistolets pulvérisateurs une fois. On chauffe à nouveau la seconde plaque et on la fait passer sous les pisto- lets une seconde fois. On chauffe également la troisième et la quatrième plaque et on les soumet deux fois à la pulvéri- sation. Cependant, on inverse bout pour bout le moule sup- portant ces deux dernières plaques avant le second chauffage et la seconde opération de pulvérisation.

   La vitesse de pas- sage des plaques à travers le jet est de 17,8   cm/seconde.   On envoie le jet sur la plaque VII-3 sous une pression de   4,2   kg/cm2, tandis qu'on envoie le jet sur la plaque VII-4 sous une pression de 3,15   kg/cm2   pour augmenter la transmission de lumière à travers cette plaque par rapport à la plique VII-3. 



  On détermine le pourcentage de transmission à l'aide d'un ra- diomètre   Weston.   Les pourcentages de transmission d'un bord marginal longitudinal à l'autre bord narginal longitudinal et du bord avant au bord arrière des plaques sont mentionnés. sur le tableau VII. 

 <Desc/Clms Page number 39> 

 
TABLEAU VII PLAQUE VII-1 
 EMI39.1 
 
<tb> Bord <SEP> avant <SEP> Bord <SEP> supérieur <SEP> Bord <SEP> arrière
<tb> 
 
 EMI39.2 
 34% 20% 32% 26% 31ïú 45% 
 EMI39.3 
 
<tb> 60% <SEP> 48% <SEP> 44% <SEP> 42% <SEP> 56% <SEP> 62%
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 74% <SEP> 58% <SEP> 58% <SEP> 59% <SEP> 70% <SEP> 70%
<tb> 
 
 EMI39.4 
 76% .

   66 62% 59% 7arc, 70% 
 EMI39.5 
 
<tb> 62% <SEP> 56% <SEP> 52% <SEP> 51% <SEP> 53% <SEP> 52%
<tb> 
<tb> 38% <SEP> 28% <SEP> 26% <SEP> 30% <SEP> 35% <SEP> 42%
<tb> 
 
Bord inférieur PLAQUE VII-2 
 EMI39.6 
 
<tb> Bord <SEP> avant <SEP> Bord <SEP> supérieur <SEP> Bord.arrière
<tb> 
<tb> 12% <SEP> 10% <SEP> 9% <SEP> 13% <SEP> 24% <SEP> 50%
<tb> 
<tb> 40% <SEP> 45% <SEP> 27% <SEP> 36% <SEP> 59% <SEP> 84%
<tb> 
<tb> 62% <SEP> 59% <SEP> - <SEP> 60% <SEP> 71% <SEP> 86%
<tb> 
<tb> 66% <SEP> 58% <SEP> 51% <SEP> 54% <SEP> 62% <SEP> 74%
<tb> 
<tb> 55% <SEP> 39% <SEP> 22% <SEP> 27% <SEP> 33% <SEP> 44%
<tb> 
 
 EMI39.7 
 24% 13% 11% il% 1 7% 24% 
Bord inférieur PLAQUE  VII-3   
 EMI39.8 
 
<tb> Bord <SEP> avant <SEP> Bord <SEP> supérieur <SEP> Bord <SEP> arrière
<tb> 
 
 EMI39.9 
 18% 14% 10% 10% 10% 1 18% 
 EMI39.10 
 
<tb> 18% <SEP> 16% <SEP> 14% <SEP> 14% <SEP> 14% 

  <SEP> 18% <SEP> 24%
<tb> 
 
 EMI39.11 
 24% 26% 22% 24% 22% 24% 30% 42% 30- 24% 26% 26% 32% z 40% z 24% z 24% 27% 40% 24% 16% 18% 16% 15% 16; 22% 14% 14% 10% 10% 10% 12% 14% Bord inférieur 

 <Desc/Clms Page number 40> 

 
 EMI40.1 
 PL1\\)Ug VJ I-J+ 
 EMI40.2 
 
<tb> Bord <SEP> avant <SEP> Bord <SEP> supérieur <SEP> bord <SEP> arrière
<tb> 
 
 EMI40.3 
 3 z f 2Bjù 26% 27. 26o 27o 3 li" 49jl 3 5 36% 3 U5 357 :35 47 iu 55 5T!; 56', 497 56>1 60% 67'ù ' bu 63% 6c , 60% 58% 64% 7 3 bzz 61 60% 56p 6 C 6bzz 70ji 52% 47'-/0 5 lso 45)o 54% 5 0fi 63%  41% 36% 38% 38% 3 8, 39% 41G 
Bord inférieur 
On peut utiliser les plaques ainsi enduites comme vitrages ou bien on peut les transformer ,en ensem- bles de verre de sécurité.

   Cette dernière opération comporte la courbure d'au moins deux plaques de verre pour leur donner la configuration désirée, le revêtement conformément aux moyens généraux mentionnés ci-dessus d'au moins l'une des plaques de verre et l'union des plaques aux surfaces opposées   d'une feuille   en matière plastique transparente, telle que du butyral polyvinyli- que. 



   Il est évident qu'on peut,apporter aux modes      de réalisation décrits diverses modifications sans sor- tir du cadre de l'invention. Lorsqu'on enduit de revê- tements d'épaisseur variable des petites plaques, on peut traiter la plaque entière comme une fraction de plaque. Ce terme "fraction de plaque" s'applique, dans son sens le plus étendu, aussi bien à une petite plaque tout entière qu'à une partie transversale d'une grande plaque de verre. 

**ATTENTION** fin du champ DESC peut contenir debut de CLMS **.

Claims (1)

  1. REVENDICATIONS 1. Article de manufacture comprenant un support courbe et alloua on matière réfractaire suc lequel est déposée une pellicule d'un oxyde métallique dont l'épais- <Desc/Clms Page number 41> seur varie transversalement au support, cette pellicule étant plus épaisse au voisinage d'une partie marginale longitudinale du support et -ayant une épaisseur relati- EMI41.1 /vement uniforme le lond d'un axe longitudinal <u<;1,cw>'1q:1,3 de ce support.
    2. Article de manufacture, comprenant un suppôt allongé en matière réfractaire courbé à la fois longitu- dinalement et transversalement sur lequel est déposée une pellicule d'oxyde métallique, dont l'épaisseur va en diminuant dans le sens transversal du support, mais ne varie pas dans son'sens longitudinal, la partie la plus épaisse de cette pellicule se trouvant au voisinage d'une partie'marginale longitudinale du support.
    3. Article de manufacture comprenant une plaque de verre allongée qui présente une partie principale et est fortement courbée au voisinage de chacune de ses ex- trémités longitudinales où elle constitue des ailes s'é- tendant dans-une première direction dans des plans sensi- EMI41.2 blement parallèles qui sont sensiblement perpendiculai- res au plan tangent à l'axe central de la partie princi- pale, cette partie principale étant, en outre, fortement courbée au voisinage de l'un des côtés pour former une partie de toit s'étendant dans la direction précitée de- puis cette partie principale dans un plan sensiblement perpendiculaire aux parties d'aile,
    et un revêtement d'oxyde métallique présentant une épaisseur maximum dans cette partie de toit et son épaisseur diminuele long d'un axe géométrique transversal à l'axe longitudinal dans le plan de la surface enduite qui s'étend entre les parties, d'ailes, tandis que cette épaisseur e st sensible- ment uniforme le long d'un axe géométrique longitudinal quelconque. EMI41.3
    4. );m3eJl1blc destiné à former un }kll'...:-bJ."'Ü;.3 \.1 T ).u-- <Desc/Clms Page number 42> tomobile et constitué par plusieurs couches formées par deux plaques de verre ayant des formes et des contours identiques entre lesquelles est placée une couche d'une matière thermoplastique transparante, chaque plaque de verre comportant une partie principale s'étendant longi- tudinalement qui est destinée à constituer l'avant du pare-brise et fortement courbée au voisinage de chacune de ses extrémités longitudinales pour former des parties d'aile qui s'étendent dans une direction dans des plans sensiblement parallèles qui sont sensiblement perpendi- culaires au plan tangent à l'axe central de la partie principale,
    cette partie principale étant également for- tement courbée au voisinage de l'un des bords longitudi- naux de manière à former une partie de toit s'étendant dans la direction précitée à partir de la partie princi- pale dans un plan sensiblement perpendiculaire aux plans tangents aux parties d'aile, l'ensemble comprenant éga- lement une pellicule d'oxyde métallique dont l'épaisseur va en diminuant depuis au moins 1!une des plaques de verre profilées, l'épaisseur maximum de cette pellicule se trouvant dans la partie de toit et cette épaisseur diminuant le long d'un axe géométrique transversal à un axe longitudinal situé dans le plan de la surface revê- tue, entre les parties d'aile, mais étant sensiblement uniforme le long d'un axe longitudinal quelconque.
    5. Procédé pour revêtir une surface d'un support en matière réfractaire s'étendant longitudinalement avec. une pellicule d'un oxyde métallique dont l'épaisseur transversale varie suivant un mode prédéterminé, ce pro- cédé consistant : à chauffer le support en matière ré- fractaire jusqutà une température supérieure à 2040 C, mais inférieure à la température à laquelle le support commence à fondre, à constituer un jet d'une composition <Desc/Clms Page number 43> de formation de pellicule.
    12. Procédé pour revêtir la surface d'un support en matière réfractaire s'étendant longitudinalement compor- tant des barres omnibus s'étendant longitudinalement dans ses parties marginales longitudinales avec une pellicule électroconductrice et transparente d'oxyde métallique ayant des zones épaisses au voisinage des barres omnibus et une zone mince entre ces dernières, ce procédé consis- tant à chauffer le support en matière réfractaire à une température supérieure à 2040 C mais inférieure à la tem- pérature à laquelle le support commence à fondre, à créer @ un jet d'une composition pouvant former une pellicule'' métallique dirigé le long d'un axe central, ce jet étant plus large et plus dense au voisinage de ses extrémités qu'entre celles-ci,
    à aligner les extrémités espacées denses du jet avec les barres omnibus espacées s'éten- dant longitudinalement et la zone intermédiaire du jet avec la partie intermédiaire du support, à créer un mou- vement relatif entre le support chauffé et le jet, de manière que des fractions des parties-marginales longi- tudinales du support soient successivement exposées aux extrémités du jet et que des fractions de la partie lon- gitudinale intermédiaire du support soient successivement exposées à la région intermédiaire du jet,
    et à cesser l'exposition au jet de chaque fraction de la surface du support chauffé après un laps de temps suffisant pour former une pellicule continue ayant des zones épaisses . au voisinage des parties marginales longitudinales espa. cées du support et une zone épaisse dans la partie longi- tudinale intermédiaire du support, et cela avant qu'une partie quelconque des fractions soit refroidie en dessous de la température minimum de formation de pellicule.
    13. Procédé pour revêtir une surface d'un support <Desc/Clms Page number 44> EMI44.1 se soit abaissée en dessous de la température minimum de formation de pellicule.
    11. Procédé pour revêtir une surface d'un support en matière réfractaire s'étendant longitudinalement d'u- ne pellicule d'oxyde métallique présentant des zones épaisses au voisinage des parties marginales longitudi- nales de la surface et une zone mince dans la partie intermédiaire de la surface comprise entre les parties marginales longitudinales, ce procédé consistant à chauf- fer ledit support en matière réfractaire à une tempéra- ture supérieure à 204 C mais inférieure à la température à laquelle le support commence à fondre, à créer un jet d'une composition pouvant former une pellicule d'oxyde métallique dirigé le long dtun axe central, ce jet étant plus large et plus dense au voisinage de ses extrémités que dans sa zone intermédiaire,
    à aligner les extrémités denses espacées du jet avec les parties marginales lon- gitudinales espacées d'une surface d'un support chauffé et la zone intermédiaire moins dense avec la partie intermédiaire du support, à créer un mouvement relatif entre le support chauffé en matière réfractaire et le jet, de manière que des fractions des parties marginales longitudinales du support soient successivement exposées aux extrémités du jet et que des fractions de la partie intermédiaire du support soient successivement exposées à la zone intermédiaire du jet,
    et à faire cesser ltex- position de chaque fraction de la surface du support chauffé en matière réfractaire au det après un laps de temps suffisant pour la formation d'une pellicule conti- nue ayant des zones épaisses au voisinage des parties marginales longitudinales espacées du support et une zone mince dans la partie intermédiaire de ce support, et ce- la avant que la température d'une partie quelconque d'une fraction tombe au-dessous de la température minimun - 49 - . ' <Desc/Clms Page number 45> les barres omnibus sont le plus largement, espacées et étant mince dans la zone dans laquelle les barras omnibus EMI45.1 sont le plus étroite;a<3nt rapprochées, le p:::rJ:
    ' f'3ctionne- ment consistant à chauffer le support en matière réfrac- taire à une température supérieure à 2040 C et inférieu- re à la température à laquelle le support commence à fondre, à créer un jet d'une composition pouvant former une pellicule d'oxyde métallique dirigé le long d'un axe central, ce jet étant relativement dense à l'une de ses extrémités et de moins en moins dense en direc- tion de l'autre extrémité, à orienter le support chauffé de manière que l'un des bords non parallèles constitue un bord avant et que la surface sur laquelle sont dépo- sées les barres omnibus soit.exposée au jet,
    à aligner la région dense du jet avec la partie marginale longitu- dinale longue du support chauffé s'étendant entre les barres omnibus non parallèles et la région moins dense du jet avec la partie marginale longitudinale courte du support comprise entre les barres omnibus non parallè- les, à créer un déplacement relatif entre le support chauffé en matière réfractaire et le jet, de manière que des fractions de la partie marginale longitudinale lon- gue du support soient successivement exposées à la partie dense du jet et que des fractions de la partie marginale longitudinale courte du support soient successivement exposées à la région moins dense du jet, et à cesser l'exposition au jet de chaque fraction de la surface du,
    support réfractaire chauffé après un laps de temps suffi- sant pour former une pellicule continue comportant une zone relativement épaisse dans la partie marginale lon- gitudinale longue et une zone relativement mince dans la partie marginale longitudinale courte, mais avant que la température d'une partie quelconque de la fraction <Desc/Clms Page number 46> procédé consistant, à chauffer le support en matière ré- EMI46.1 fractaire jusqu'à une températL1.e sup4rieure à 20J G¯ et inférieure à la température à laquelle le support coin- mence à fondre,
    à former un jet ayant une densité non u- niforme d'une composition pouvant forcer une pellicule d'oxyde métallique orienté le long d'un axe centra ce jet étant relativement dense à l'une de ses extraites et relativement. moins dense à son autre extrémité, à aligner la zone dense du jet avec la partie marginale longitudinale longue du support chauffé et la région moins dense du jet avec la partie marginale longitudinal- le courte du support, à créer un mouvement relatif entre le support chauffé en matière réfractaire et le jet,
    de manière que des fractions de la partie marginale longi- tudinale longue du support soient successivement expo- sées à la région dense du jet et que des fractions de la partie marginale longitudinale courte du souppore soient exposées successivement à la région moins dense du jet, et interrompre l'exposition à l'action du jet de chaque fraction de la surface du support chauffé en matière réfractaire après un laps de temps suffisant pour forcer sur ce support une pellicule continue pré- sentant une zone relativement épaisse à l'endroit de la partie marinal longitudinale longue et urne zone rela- tivement mince ci l'endroit de la partie marginale lon- gitudinale courte, mais avant qu'une partie quiconque de chaque fraction ait atteint une température inférieur re à la température minimum de formation de pellicule.
    EMI46.2
    10. Dans le procédé d 'obt,,:}l1Gion d'un article 41<*e- trocondueLeur transpareub "'"lP r13"ni deux b,xrxrss omnibus non parallèles et une pelilcul. d'épaisseur nonuniform. en contact électrique avec les barres omnibus, cette Pellicule plus épaisse dans la zone dans laquelle <Desc/Clms Page number 47> support commence à fondre, à former un jet ayant une densité non uniforme d'une composition pouvant former une pellicule d'oxyde métallique orienté lé long d'un axe central, ce jet étant relativement dense à l'une de ses extrémités et relativement moins dense à son autre extrémité, à aligner la zone dense du jet avec la partie marginale longitudinale longue du support chauffé et la , région moins dense du jet avecla partie marginale lon- gitudinale courte du support,
    à créer un mouvement rela- tif entre le.support, chauffé en matière réfractaire et le jet, de'manière que des fractions de la partie margi- nale longitudinale longue du support soient successive- ment exposées à la région dense du jet et que des frac- tions de la partie-marginale longitudinale courte du support soient exposées successivement à la région moins dense du jet, et à interrompre l'exposition à l'action du jet de chaque fraction de la surface du support chauf fé en matière réfractaire après un laps de temps suffi- sant pour former sur ce support une pellicule continue présentant une zone relativement épaisse à l'endroit de la partie marginale longitudinale longue et une,-zone re- lativement mince à l'endroit de la partie marginale lon- gitudinale courte,
    mais avant qu'une partie quelconque de chaque fraction ait atteint'une température inférieu- re à la température minimum de formation de pellicule.
    9. Procédé pour enduire une surface d'un support' en matière réfractaire s'étendant longitudinalement ayant des bords avant et arrière non parallèles avec une pellicule d'oxyde métallique transparente et électrocon- ductrice présentant une, .zone-épaisse s'étendant longitu- dinalement le long de:
    la partie marginale longitudinale longue et une zone mince s'étendant longitudinalement le long de la partie marginale longitudinale courte, ce <Desc/Clms Page number 48> l'une de ses zones et décroissant en densité à partir de cette zone dense, à aligner la zone dense du jet avec la partie marginale longitudinale du suppo-rt chauffé,.
    et à aligner la zone moins denze du jet avec une zone, s'éten- dant longitudinalement, du support, zone qui est écartée de la partie marginale longitudinale, à déterminer un mouvement relatif entre le support en matière réfractaire chauffé et le jet, de manière que des fractions de la partie marginale longitudinale du support soient succes- sivement exposées à l'action de la zone dense du jet et que des fractions de la zone s'étendant longitudinalement qui est espacée de cette partie marginale longitudinale soient successivement exposées à la zone moins dense du jet, et à interrompre l'exposition à l'action du jet de chaque fraction de la surface du support réfractaire chauffé,
    après un laps de temps suffisant pour former sur ce support une pellicule continue ayant une partie rela- tivement épaisse à l'endroit de la partie marginale lon- gitudinale et dont l'épaisseur diminue depuis cette par- tie, et cela avant qu'une partie quelconque de la frac- tion ait atteint une température inférieure à la tempé- rature minimum.. de formation de pellicule.
    8. Procédé pour revêtir une surface dtun support en matière réfractaire, s'étendant longitudinalement, et comportant des bords avant et arrière non parallèles, avec une pellicule d'oxyde métallique ayant une zone épaisse s'éludant longitudinalement qui est disposa le .
    Ion. de la partie marginale longitudinale la plus longue et une zone mince s'étendant longitudinalementqui est disposée le long de la partie marginale longitudinale courte, ce procédé consistant à chauffer le support en matière réfractaire jusqu'à une température supérieure à 204 C et inférieure à la tampérature à laquelle le <Desc/Clms Page number 49> du jet avec la partie marginale longitudinale précitée du support chauffé et la zone moins dense du jet avec une zone du support qui est espacée'de la partie margi- nale longitudinale, à déterminer un mouvement relatif entre le support en matière réfractaire chauffé et le jet, ,
    de manière que des fractions de la partie marginale lon- gitudinale du support soient successivement exposées à l'action de la zone dense du jet et que des fractions de la zone s'étendant longitudinalement qui est espacée de cette partie marginale longitudinale soient successi- vement exposées à la zone moins dense du jet et à ces- ser l'exposition à l'action du jet de chaque fraction de la surface du support chauffé en matière réfractaire après un laps de temps suffisant pour former sur celui- ci une pellicule continue ayant une zone relativement épaisse dans la région du bord longitudinal et présentant une zone relativement mince écartée de la première, et cela avant que la température d'une partie quelconque de la fraction soit refroidie à une température inférieure à la température minimum de formation de pellicule.
    7. Procédé pour revêtir la surface d'un support en matière réfractaire courbe et s'étendant longitudina- lement avec une pellicule d'un oxyde métallique ayant une région épaisse qui s'étend longitudinalement et qui est disposée sur une partie marginale longitudi de, pellicule dont l'épaisseur/diminue graduellement à par- tir de ladite partie, le procédé consistant à chauffer le support en matière réfractaire jusqu'à une températu- re supérieure à 204 C et infériez à la température à laquelle le support commence à fondre, à former un jet ayant une densité non uniforme d'une composition pouvant former une pellicule d'oxyde métallique orienté le long d'un axe central,
    ce jet étant relativement dense dans <Desc/Clms Page number 50> pouvant former une pellicule d'oxyde métallique et diri- gé le long d'un axe central, la densité de ce jet variant depuis l'une de ses extrémités à l'autre confortaient au mode prédéterminée, à aligner le jet le long d'un axe géométrique transversal à l'axe longitudinal de support, à créer un mouvement relatif entre le support chauffé en matière réfractaire et le jet, de manière que des fractions du support, prises le long de son axe longitu- dinal, soient exposées successivement à l'action du jet, en accordance avec les variations de densité de ce jet dans le sens transversal, et à faire cesser l'exposition.
    à l'action du jet de chaque fraction de la surface du support en matière réfractaire .chauffé après un laps de temps suffisant pour former sur ce support une pellicule contenue ayant la forme désirée en coupe transversale, mais avant que la température d'une partie quelconque de cette fraction ait diminué jusqu'en dessous de la tem- pérature minimum de formation de pellicule.
    6. Procédé pour revêtir une surface d'un support en matière réfractaire s'étendant longitudinalement avec une pellicule d'oxyde métallique présentant une zone épaisse s'étendant longitudinalement et située le long d'une partie marginale longitudinale du support et une zone mince s'étendant longitudinalement et écartée de la partie marginale longitudinale, le procédé précité con- sistant à chauffer le support en matière réfractaire jusqu'à une température supérieure à 2040 C et inférieu- ' re à la température à laquelle le support commence à fon- dre, à former un jet ayant une densité non uniforme d'une composition pouvant former une pellicule d'oxyde métal- lique orienté le long d'un axe central,
    ce jet étant re- lativement dense dans l'une de ses zones et relativement moins denze dans une autre zone, à aliter la zone dense <Desc/Clms Page number 51> en matière réfractaire s'étendant longitudinalement avec une pellicule d'oxyde métallique présentant des zones épaisses au voisinage des parties marginales longitudina- les de la surface et une zone mince dans la partie inter- médiaire de la surface comprise entre les parties margi- nales longitudinales, ce procédé consistant à chauffer ledit support en matière réfractaire à une température supérieure à 2040 C mais inférieure à la température à laquelle le support commence à fondre, à créer un jet d'une composition pouvant former une pellicule d'oxyde métallique dirigé le long d'un axe central,
    ce jet étant large et dense au voisinage d'une deses extrémités et mince et moins dense à son autre extrémité, à créer un second jet similaire au premier, à aligner la région den- se de chaque jet avec une partie marginale longitudinale différente d'une surface de support chauffé, à espacer les jets l'un par rapport à l'autre de manière que leurs extrémités minces et peu denses soient au voisinage étroit l'une de l'autre, à créer un mouvement relatif entre le support réfractaire chauffé et le jet de manière que des fractions de chaque partie longitudinale margina- le du support soient successivement exposées à ltextré- mité dense du jet avec lequel elle est alignée,
    et à en- lever la surface du support chauffé en matière réfractai- re après .un laps de temps suffisant pour qu'il se soit formé une bande continue de pellicule relativement épais- se au voisinage des parties marginales longitudinales es pacées du support et relativement mince dans des zones s'étendant longitudinalement à l'intérieur de la partie marginale longitudinale,'et cela avant que la température d'une partie quelconque des fractions tombe en dessous de la température minimum de formation de pellicule.
    14. Procédé suivant la revendication 13, dans le- <Desc/Clms Page number 52> quel on utilise, pour former les jets,.des pistolets pulvérisateurs dont chacun est disposé sur'uh côté diffé- rent du plan médian longitudinal passant par l'axe médian longitudinal du support chauffé en matière réfractaire; et on incline chacun de ces pistolets en direction d'une-' extrémité longitudinale différe'nte du plan délimitant le déplacement relatif entre le jet et la support.
    15. Procédé pour revêtir une surface d'un support en matière réfractaire s'étendant longitudinalement avec une pellicule d'oxyde métallique dont l'épaisseur trans- versale varie suivant une configuration prédéterminée et dont l'épaisseur est sensiblement uniforme le long de tout axe longitudinal de cette pellicule, ce procédé con- sistant à chauffer le support en matière réfractaire jusqu'à une température supérieure à environ 204 C mais inférieure à la température de fusion du support, à créer un jet d'une composition capable de former une pel- licule d'oxyde métallique dirigé le long d'un de ses axes médians, la densité de ce jet variant d'une de ses extrémités à son autre extrémité conformément à la con- figuration prédéterminée, à aligner le jet le long d'un axe transversal à l'axe longitudinal du support,
    à créer un mouvement relatif entre le support chauffé en matière réfractaire et le jet, de manière que des fractions'du support, le long de son axe longitudinal, soient succes- sivement exposées à la configuration transversale du jet, à faire cesser l'exposition au jet de chaque fraction de la surface du support chauffé en matière réfractaire après un laps de temps suffisant pour y former une pel- licule continue ayant la configuration transversale dé- sirée, mais avant qu'une partie quelconque de la frac- tion se soit refroidie jusqu'au-dessous de la tempéra- ture minimum de formation de pellicule, à chauffer à <Desc/Clms Page number 53> nouveau le support en matière réfractaire jusqu'à la température de la première phase de chauffage,
    à remet- tre le jet en alignement comme précédemment par rapport au support, à établir un mouvement relatif entre le sup- port chauffé et le jet, dans le sens opposé au sens du premier mouvement relatif, et à cesser l'exposition au jet de chaque fraction de la surface du support chauffé en matière réfractaire après un laps de temps suffisant pour y former une pellicule continue ayant la configu- ration transversale désirée, mais avant qu'une partie quelconque de la fraction ait été refroidie à une tempé- rature inférieure à la température minimum de formation de la pellicule.
    1 6. Procédé pour revêtir une surface d'un support en matière réfractaire s'étendant longitudinalement avec une pellicule d'oxyde métallique comportant une zone épaisse s'étendant longitudinalement le long d'une partie marginale longitudinale du support et une zone mince s'étendant longitudinalement à distance de la partie mar- ginale longitudinale, ce procédé consistant à chauffer le support en matière réfractaire jusqu'à une température Supérieure à environ 204 C mais inférieure à la tempé- rature de fusion du support, à créer un jet d'une densi- té non uniforme,ce jet étant relativement dense dans l'une de ses zones et relativement moins dense dans une autre zone,
    à aligner la zone dense du jet avec la partie marginale longitudinale précitée du support chauffé et ' la zone moins dense du jet avec une zone du support qui est espacée de la partie marginale longitudinale, à dé- terminer un mouvement relatif entre le support en matiè- re réfractaire chauffé'et le jet, de manière que des fractions de la partie marginale longitudinale du support soient successivement exposées à l'action de la zone den- <Desc/Clms Page number 54> se du jet et que des fractions de la zone s'étendant.
    .longitudinalement qui est espacée de cette partie margi- nale longitudinale soient successivement exposées à la zone moins dense du jet, à cesser l'exposition à l'action du jet de chaque fraction de la surface du support chauf- fé en matière réfractaire après un laps de temps suffi- sant pour former sur celui-ci une pellicule continue ayant une zone relativement épaisse dans la région du bord longitudinal et présentant une zone relativement mince écartée.de la première, et cela avant que la tem- pérature d'une partie quelconque de la fraction soit refroidie à une température inférieure à la température à chauffer à nouveau le support/ minimum de formation de pellicule, jusqu'à la températu- re de la première phase de chauffage, à inverser l'orien- tation des bords avant et arrière du support,
    à réali- gner la région dense du jet avec l'une des parties mar- ginales longitudinales du support chauffé et la région moins dense du jet avec la zone du support qui est écar- tée de la partie marginale longitudinale, à créer un mouvement relatif entre le support chauffé et le jet, de manière que des fractions de la partie marginale l'on- gitudinale du support soient successivement exposées à la région dense du jet et que des fractions des zones s'étendant longitudinalement soient successivement ex- posées à la région moins dense du jet, et à faire cesser l'exposition au jet de chaque fraction de la surface du support réfractaire chauffé après un laps de temps suf- fisant pour y former une seconde pellicule continue ayant une zone relativement épaisse dans sa partie mar- ginale longitudinale et une partie relativement mince dans la zone qui en est espacée,
    et cela avant que la ' température d'une partie quelconque de la fraction soit inférieure à la température minimum de formation de la <Desc/Clms Page number 55> pellicule.
    17. Procédé pour revêtir une surface d'un support en matière réfractaire s'étendant longitudinalement avec une pellicule d'oxyde métallique dont l'épaisseur varie suivant une configuration prédéterminée dans le sens EMI55.1 transversal et liUe (épaisseur (sensiblement uniforme le long d'un de ses aces longitudinaux quelconques, ce pro- .
    cédé consistant à chauffer le support eh matière réfrac-' taire jusqu'à une température supérieure à environ 204 C mais inférieure à la température de fusion du support, à créer un jet d'une composition capable de former une pellicule d'oxyde métallique dirigé le long d'un de ses axes médians, la densité de ce jet variant d'une de ses extrémités à son autre extrémité conformément à la con- figuration prédéterminée, à aligner le jet le long d'un axe transversal à l'axe longitudinal du support, à faire passer le support chauffé en matière réfractaire longi- tudinalement à travers le jet, de manière que des frac- tions du support, le long de son axe longitudinal, soient exposées successivement à l'action de la confi- guration transversale du jet,
    à enlever chaque fraction du jet après un laps de temps suffisant pour y former une pellicule continue ayant la configuration transversa le désirée, mais avant que la température d'une partie quelconque de la fraction soit abaissée jusqu'en dessous de la température minimum de formation de la pellicule.
    18. Procédé pour revêtir une surface d'un support en matière réfractaire s'étendant longitudinalement avec une pellicule d'oxyde métallique dont l'épaisseur transversale varie suivant une configuration prédétermi- née et dont l'épaisseur est sensiblement uniforme le long de tout axe longitudinal de cette pellicule, ce procédé consistant à chauffer le support en matière <Desc/Clms Page number 56> réfractaire jusqu'à une température supérieure à envi- ron .04 C mais inférieure à la température de fusion du support, à créer un jet d'une composition capable de former une pellicule d'oxyde métallique dirigé le long d'un de ses axes médians, la densité de ce jet variant d'une de ses extrémités à son autre extrémité conformé- ment à la configuration prédéterminée,
    aligner le jet le long d'un axe transversal à l'axe longitudinal du support, à faire passer le support chauffé en matière réfractaire dans une première direction., longitudinale- ment à travers le jet, de manière que des fractions du support, le long de son axe longitudinal, soient expo- sées successivement à la configuration transversale du jet, à retirer chaque fraction du jet après un laps de temps suffisant pour y former une pellicule continue ayant la configuration transversale désirée, mais avant que la température d'une partie quelconque de la frac- tion se soit refroidie à une température inférieure à la température minimum de formation dlpellicule, à chauffer à nouveau le support pour l'amener dans la gam- me de température de la première phase, de chauffage,
    à remettre le jet dans l'alignement tran'sversal antérieur par rapport au support, à faire passer le support ré- fractaire chauffé dans une direction opposée à la pre- mière direction, dans un sens longitudinal, à travers le jet de manière que des fractions du support, le long de son axe longitudinal, soient successivement exposées à la configuration transversale du jet, à enlever chaque fraction du jet après un laps'de temps suffisant pour former une pellicule continue Payant la configuration transversale désirée, mais avant que l'une quelconque des portions de la fraction se soit refroidie à une tem- . pérature inférieure à la température de formation de <Desc/Clms Page number 57> pellicule.
    19. Procédé de production d'un article constitué par une feuille ou plaque de verre courbe pourvu d'une pellicule d'oxyde métallique ayant une configuration transversale prédéterminée quant à son épaisseur et une épaisseur sensiblement uniforme le long d'un axe longitu- dinal quelconque, ce procédé consistant à monter une plaque de verre plate sur un moule de courbure du verre comportant une surface de mise en forme supérieure dont le profil est destiné à correspondre en élévation à la courbure qu'on désire communiquer à la plaque de verre, à chauffer cette plaque de verre et le moule de courbure jusqu'à une température supérieure à 2040 C et en des- sous de la température à laquelle le support commence à fondre, jusqu'à ce que la plaque de verre fléchisse et épouse la surface de mise en forme du moule,
    à établir un jet d'une composition pouvant former une pellicule d'oxyde métallique dirigé le long d'un de ses axes, la densité de ce jet variant d'une de ses extrémités à l'autre selon la configuration prédéterminée, à aligner le jet le long d'un axe transversal à l'axe longitudi- nal, à créer un mouvement relatif entre le support chauf- fé en matière réfractaire et le jet, de manière que des fractions du support, le long de son axe longitudinal, soient successivement exposées à la configuration trans- versale du jet, à enlever chaque fraction du jet après un laps de temps suffisant pour y former une pellicule continue ayant la configuration transversale désirée,
    mais avant que la température d'une partie quelconque de la fraction se soit refroidie à une température in- férieure à la température minimum de formation de pelli- cule.
    20. Procédé suivant la revendication 14, dans le-, <Desc/Clms Page number 58> quel on fait passer la plaque de verre chauffée longitu- dinalement à travers le jet de manière que des fractions de la plaque, le long de son axe longitudinal, soient exposées successivement à la configuration transversale du jet et on enlève chaque fraction du jet après un laps de temps suffisant pour y former une'pellicule continue ayant la configuration transversale désirée, mais avant que la température de l'une quelconque des fractions soit abaissée en dessous de la température minimum de formation de pellicule.
    21. Procédé de production d'une plaque de verre courbe pourvue d'une pellicule d'oxyde métallique dont l'épaisseur est maximum le long d'un de ses bords lon- gitudinaux et dont l'epaisseur diminue transversalement depuis ce bord et est sensiblement uniforme le long d'un axe longitudinal quelconque de ladite pellicule, ce pro- cédé consistant à monter une plaque de verre plate sur un moule de courbure du verre comportant une surface de mise en forme supérieure dont le profil est destiné à correspondre enelévation à la courbure qu'on désire com- muniquer à la plaque de verre, à chauffer cette plaque de verre et le moule de courbure jusqu'à une température supérieure à 2040 C et en dessous de la température à laquelle le support commence à fondre, jusqu'à ce que la plaque de verre fléchisse et épouse la surface de mise en forme du moule,
    à établir un jet d'une composition pouvant former une pellicule d'oxyde métallique dirigé le long d'un de ses axes, le jet étant relativement dense à l'une de ses extrémités et sa densité décroissant depuis cette extrémité dense, à aligner le jet de manière que son extrémité dense soit alignée avec la partie marginale longitudinale de la plaque de verre et que son autre extrémité soit alignée avec la plaque transversalement <Desc/Clms Page number 59> à la partie marginale, à créer un mouvement relatif en- EMI59.1 tre la plagie de venne, #tt. le,, jje.t le long de l'axe longituâirial de la plaque, d'e'l mallliffièr.e que d.e:
    5. fractions de la plaque, le long de son axe longitudinal, soient suc- cessivement exposées au jet dont la région dense,, frappe des fractions successives le long de la partie margina- le longitudinale'du support, à cesser l'exposition de chaque fraction au jet après un laps de temps suffisant pour former une pellicule continue ayant la configura- tion transversale désirée mais insuffisant pour que la température d'une partie quelconque de la fraction se soit abaissée jusqu'au dessous de la température-minimum de formation de pellicule.
    22. Procédé suivant la revendication 21,, dans le- quel on rechauffe le support, on l'oriente à nouveau d'avant en arrière, on aligne à nouveau le jet par rap- port au support de manière que sa région dense soit alignée avec la partie marginale longitudinale et que la région môins dense doit alignée avec la plaque, transversalement à la partie marginale, on crée un mou- vement relatif entre la plaque de verre et le jet dans une direction qui est opposée à celle du mouvement rela- tif mentionné dans la revendication 21, le long de l'axe longitudinal de la plaque, de manière que des fractions de celle-ci, le long de son axe longitudinal, soient suc- cessivement exposées au jet, la région dense du jet frappant des fractions successives le long de la partie marginale longitudinale du support,
    on cesse l'exposi- tion de chaque fraction à l'action du jet après un laps de temps suffisant pour y former une pellicule continue ayant la configuration transversale désirée, mais avant qu'une partie quelconque de la fraction se soit refroi- die jusqu'en dessous de la température minimum de forma- tion de pellicule.
BE547954D BE547954A (fr)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
BE547954A true BE547954A (fr)

Family

ID=174719

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
BE547954D BE547954A (fr)

Country Status (1)

Country Link
BE (1) BE547954A (fr)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0728711B1 (fr) Vitrage pour véhicule automobile
EP0353140B1 (fr) Procédé de fabrication d&#39;un vitrage bombé
LU87019A1 (fr) Vitrage a couche pour vehicule,procede de fabrication d&#39;un tel vitrage et vehicule equipe d&#39;un vitrage
KR970008986B1 (ko) 열처리 변환가능의 피복유리 및 그를 변환하는 방법(heat-treament convertible coated glass and method of converting same)
EP3615485B1 (fr) Vitrage colore et son procede d&#39;obtention
EP0162756B1 (fr) Dispositif pour la pulvérisation d&#39;un mélange réactionnel apte à former une couche de protection transparente de haute qualité optique
JPH0911860A (ja) 透明体およびその製造方法
CH628600A5 (fr) Procede pour deposer en continu, sur la surface d&#39;un substrat porte a haute temperature, une couche d&#39;une matiere solide et installation pour la mise en oeuvre de ce procede.
CN102395536A (zh) 涂覆的基材
BE1004164A3 (fr) Substrat en verre portant un circuit electrique et sa methode de fabrication.
JP5964883B2 (ja) 薄膜層堆積方法及び得られる製品
WO1987005595A1 (fr) Procede de lubrification d&#39;une surface telle qu&#39;un moule pour la fabrication d&#39;un objet en verre
JPH02129043A (ja) ガラスエナメル塗料組成物
US3252829A (en) Method of producing transparent electrically conducting glass sheets and article resulting therefrom
EP2342167B1 (fr) Miroir
US3019135A (en) Method of producing coated glass articles
EP3927671A1 (fr) Feuille de verre revetue d&#39;une couche de peinture minerale et d&#39;un empilement de couches minces
FR2725978A1 (fr) Substrat transparent muni d&#39;un empilement de couches d&#39;argent, application aux vitrages feuilletes chauffants
CA1337172C (fr) Vitrage feuillete a couche electro-conductrice
EP3568720B1 (fr) Film composite réfléchissant les infrarouges et conducteur électrique et son procédé de fabrication
KR930009324B1 (ko) 백금층등이 피복된 프레스트레스 된 및/또는 만곡된 유리판의 제조방법
WO2023242040A1 (fr) Procédé d&#39;obtention d&#39;un vitrage bombé feuilleté
EP4416112B1 (fr) Procédé d&#39;obtention d&#39;un vitrage bombé feuilleté
EP3931163B1 (fr) Substrat transparent revêtu d&#39;une couche organique transparente incolore ou colorée discontinue texturée selon des points, et d&#39;une couche réflechissante
WO2026078042A1 (fr) Composition d&#39;émail, article verrier la comprenant et leurs procédés d&#39;obtention