BRPI0513474A2 - processo e dispositivo para decapagem de metais - Google Patents
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Abstract
PROCESSO E DISPOSITIVO PARA DECAPAGEM DE METAIS. A invenção refere-se a um processo e dispositivo (13) para decapagem eletrolítica de produtos planos (2)metálicos, especialmente tiras de aço nobre e/ou de aço C, caracterizado pelo fato de que é empregado ao menos um par de eletrodos contrapostos com ao menos um eletrodo de diamante e/ou ao menos um eletrodo de chumbo/estanho, p.ex. um eletrodo de chumbo93/estanho7 (15) . A propriedade especial dos eletrodos de diamante ou eletrodos de chumbo/estanho é a forma da decomposição da água. Enquanto que na eletrólise usualmente água é dissociada em hidrogênio e oxigênio, o eletrodo de diamante e/ou eletrodo de chumbo/estanho fornece uma área de trabalho, em que, em lugar de oxigênio, são formados ou ozónio ou radicais hidroxila altamente reativos. Assim, os tempos de decapagem podem ser nitidamente reduzidos frente à decapagem química convencional, e também frente à decapagem eletrolítica convencional.
Description
PROCESSO E DISPOSITIVO PARA DECAPAGEM DE METAIS
A invenção refere-se a um processo e a um dispositivo para decapagem eletrolitica de produtos planos metálicos, especialmente tiras de aço nobre e/ou de aço C.
Por produtos planos metálicos se entendem, sobretudo, tiras e chapas metálicas. A invenção pode também ser aplicada a produtos longos metálicos (p.ex. fios, perfilados, tubos) ou, sobretudo, a superfícies metálicas.
Para obtenção de um bom grau de pureza de tiras laminadas a frio, resistentes a corrosão e a ácido, sua superfície deve ser liberada no curso do processamento ulterior de camadas de óxido aderentes, da carepa que se formou quando do tratamento a quente precedente. A remoção da carepa se processa na pré-fabricação ainda mecanicamente através de jatos em remoinho ou de areia. Carepa restante residual, como carepa de recozimento resultante no decurso de produção ulterior de recozimento intermediário e final, é dissolvida e removida por uma operação química, a decapagem, durante a passagem das tiras cobertas de carepa por vários banhos de ácido. Como meio de decapagem ( = solução de decapagem = líquido eletrolítico = eletrólito) serve para o aço nobre, via de regra, uma mistura de ácido (ácido misto) pré-aquecida consistindo em ácido nítrico diluído com água e ácido fluprídrico. Mediante atuação de temperatura nos banhos de decapagem, durante a operação de decapagem sempre ocorrem novamente reações, muito desagradáveis e também poluidoras do meio ambiente, do ânion de NO3 para formação de NOX.
É conhecida a decapagem de tiras de aço nobre laminadas a frio pelo assim chamado processo "eletrolítico neutro". A tensão é indiretamente aplicada à tira. Isso significa que não há pontos:c de contato entre eventuais rolos de corrente e tira. Uma outra característica desse processo é que os ânodos e cátodos estão completamente cobertos pelo eletrólito e são horizontais, isto é, trata- se de células horizontalmente inundadas.
A AT406385B descreve um processo para a decapagem eletrolítica, sendo que como variante de processo é descrita uma tira verticalmente guiada. Trata-se aqui de uma disposição vertical dos eletrodos. A tensão é então indiretamente aplica à tira. O líquido eletrolítico (Na2SO4) é conduzido na fenda entre ânodo e tira. Nesse processo eletrolítico é vantajoso que não ocorra formação de NOX, porque não é empregado ácidó*"ní tricô. A desvantagem desse processo resulta do estreito campo de emprego. Esse processo com esse dispositivo é empregado exclusivamente quando da decapagem de aço nobre laminado a frio.
No livro técnico "Decapagem de Metais", Dr. Rafael Rituper (Eugen G. Leuze Verlag) são descritos métodos, que se ocupam exclusivamente com a decapagem de superfícies de metal. Em princípio, sempre é possível apontar novamente para a geração de oxigênio diretamente no ânodo, que possibilita a decapagem.
A DE 3937438A1 descreve uma possibilidade de decapagem de superfícies metálicas, em combinação de sais de Fe3+ e/ou portadores de oxigênio gasosos ou líquidos, como p.ex.: H2O2, ar e oxigênio adicional, que é obtido de uma oxidação anódica. São então empregados 0,5 a 1,0 A/dm2 para a eletrólise.
Além disso, da AT 373922B é conhecido um processo para a galvanização eletrolítica de tira. Trata-se aqui de uma disposição vertical dos eletrodos. O liquido eletrolitico é conduzido na fenda entre ânodo e tira. A tensão é diretamente aplicada à tira - os cátodos são executados como rolos de corrente.
Além disso, da patente US 4363709 é conhecida a decapagem de tira de aço nobre com altas densidades de corrente. São mencionadas densidades de corrente de 40 a 60 A/dm2, sem que, no entanto, se entre em detalhes da aparelhagem com a qual isso pode ser concretizado em uma instalação de grande porte, em uma faixa razoável (<40 volt).
A GB 2140036 descreve ainda um dispositivo para a decapagem eletrolítica com condução de tira vertical, adução de corrente indireta e por corrente de eletrólito forçada pela força da gravidade na fenda entre tira e eletrodos. A corrente deve ai percorrer longos trechos na tira, havendo o perigo de que seja derivada em um dos rolos de desvio e, por conseguinte, não mais esteja disponível para o processo de decapagem.
Um objetivo da presente invenção reside em aperfeiçoar processos eletrolíticos ou correspondentes dispositivos existentes no sentido de que possa ser reduzido o tempo de decapagem.
O objetivo é alcançado por um processo segundo a reivindicação 1 ou por um dispositivo segundo a reivindicação 15. Então é empregado ao menos um eletrodo de diamante e/ou ao menos um eletrodo de chumbo/estanho, p.ex. um eletrodo de chumbo93/estanho7. A propriedade especial dos eletrodos de diamante ou eletrodos de chumbo/estanho é a forma da decomposição de água. Enquanto que quando da eletrólise usualmente água é decomposta em hidrogênio e oxigênio, o eletrodo de diamante e/ou eletrodo de chumbo/estanho fornece uma esfera de trabalho, em que em lugar de oxigênio são formados ou ozônio ou radicais hidroxila altamente reativos. Um dos resultados destacados desta invenção é que os tempos de decapagem são nitidamente reduzidos em comparação com o descarepamento químico convencional e também em comparação com a decapagem eletrolítico convencional. Δ razão para isso é a formação de radical OH altamente eficaz, oxigênio em statu nascendi e simultânea remoção ou dissolução química do óxido na superfície metálica. Pelo emprego de eletrodos de diamante sinteticamente fabricados e/ou de eletrodos de chumbo/estanho, quando da eletrólise da solução de decapagem, em lugar de oxigênio, são aí formados os radicais OH extremamente eficazes. Estes oxidam todos os insumos dissolvidos dentro da solução de decapagem. 0 eletrodo de diamante e/ou eletrodo de chumbo/estanho apresenta, além disso, uma elevada estabilidade perante soluções de decapagem agressivas.
Uma possível configuração da invenção prevê que sendo que a alimentação de corrente é feita de um lado diretamente ao produto plano (p.ex. através de rolos de corrente ou escovas de corrente) e, de outro lado, a um par de eletrodos. Pode estar então previsto, por exemplo, que o produto plano e um eletrodo sejam ligados como ânodo e o outro eletrodo como cátodo. Pela alimentação direta da corrente elétrica ao ânodo (ao produto plano) de um lado oxigênio é gerado em statu nascendi e, simultaneamente, pelo emprego do eletrodo de diamante e/ou eletrodo de chumbo/estanho como ânodo são formados radicais OH, que possibilitam a decapagem de superfícies metálicas.
A produção do oxigênio no ânodo (tira de aço ou placa de aço) e/ou a formação de radicais OH no ânodo (eletrodo) substituem assim o ácido nítrico HNO3, sendo que a solução de decapagem forma os complexos metálicos e assim pode liberar da carepa a superfície do aço nobre e/ou do aço C. A solução de decapagem (ácidos minerais, como HF, H2SO4, H3PO4, HCl, ácido misto ou Na2SO4) serve aqui como meio de transporte da corrente elétrica contínua, e simultaneamente como solução de decapagem para o descarepamento químico da superfície de aço. Graças à alimentação de corrente ao ânodo - podendo ser a tira metálica - oxigênio é gerado em statu nascendi pela oxidação anódica. 0 ânodo pode também consistir em um eletrodo fabricado sinteticâmente e/ou eletrodo de chumbo/estanho, sendo que o diamante é aplicado a um material de suporte correspondente e tornado condutor por dotação de elementos apropriados.
Métodos de fabricação para eletrodos de diamante são conhecidos do especialista. Como exemplo cabe mencionar as seguintes modalidades de fabricação:
1) por produção direta de camadas de diamante dotadas de boro sobre materiais de substrato (p.ex. nióbio), especialmente por processos CVD (Chemical Vapor Deposition),
2) por embutimento de um pó de diamantes dotados, fabricados sinteticâmente, na- superfície de um metal ou de uma liga de metal de tal maneira que resulta uma união eletricamente condutora entre o metal ou a liga de metal e as partículas de diamante (ver W02004005585A1).
3) por embutimento de um pó de diamantes dotados, fabricados sinteticamente, em um plástico eletricamente condutor.
Uma configuração vantajosa da invenção é caracterizada pelo fato de que a corrente contínua é aplicada de preferência diretamente pulsante ao produto plano (tira) a ser mordentado e ao eletrodo de diamante ou eletrodo de chumbo/estanho. Mas também pode ser previsto que a corrente contínua seja aplicada continuamente, portanto de modo constante.
Uma outra configuração vantajosa dessa invenção é caracterizada pelo fato de que a corrente contínua é aplicada alternadamente sobre o produto plano (tira) a ser mordentado e ao(s) eletrodo(s), significando isso que os eletrodos podem ser ativados sempre alternadamente catodicamente depois anodicamente e novamente catodicamente com corrente contínua.
Como eletrólito podem ser empregados sais minerais, ácido misto e/ou eletrólitos alcalinos, como Na2SO4.
Para a remoção e/ou dissolução da carepa na superfície do produto plano metálico (p.ex. tira) pode ρ. ex. ser empregada uma mistura de sais minerais e água na concentração de 10 g/l até 250 g/l de ácido mineral, sendo que a concentração dos ácidos minerais importa especialmente entre 50 e 200 g/l, de preferência 150 g/l. Especialmente, o líquido eletrolítico pode ser uma mistura de agia e Na2SO4 (sulfato de sódio), sendo que a composição de eletrólito é especificamente ajustada ao produto plano a ser mordentado e sendo que a concentração de Na2SO4 importa entre 100 e 350 g/l, de preferência 150 g/l Na2SO4.
Mas também pode ser previsto que o liquido eletrolitico empregue um ácido misto (mistura de HF e HNO3) , e a composição de ácido misto seja especificamente ajustada ao produto plano (tira) a ser mordentado, sendo que a concentração do ácido misto importa entre 20 e 100 g/l HF e 50 e 300 g/l HNO3, de preferência a 50 g/l HF e 150 g/l HNO3. Mesmo quando do emprego de ácido misto, tem lugar apenas um desenvolvimento mínimo de NOX, ou até mesmo nenhum, pois o oxigênio gerado ou os radicais OH, permitem a produção de NOX imediatamente de novo para HNO3.
Também como líquido eletrolitico podem ser empregados ácidos mistos, em que a concentração e a composição correspondem àquelas quando da decapagem química convencional.
Pelo emprego de acordo com a invenção da corrente contínua, que substitui HNO3, não precisam ser tomadas medidas para redução do NOX inevitavelmente resultante. Dispensa-se o emprego de uréia ou peróxido de hidrogênio.
Em todo caso podem ser previstos dispositivos que garantam que seja possível uma precisa observância da concentração do banho de decapagem. É assim possível um aumento da qualidade da superfície do produto plano, p.ex. da tira de aço.
As densidades de corrente (ampères por unidade de área) podem ser ajustadas especificamente ao produto plano a ser mordentado, sendo que as densidades de corrente nos eletrodos importam entre 0,5 e 150 A/dm2.
A temperatura do eletrólito pode ser ajustada especificamente à tira a ser mordentada, sendo que a temperatura de eletrólito importa entre 20 e 90°C, de preferência 75°C.
Uma configuração vantajosa da invenção é caracterizada pelo fato de que a tensão elétrica pode ser ajustada variável e, portanto, a superfície metálica da tira é também polida se necessário.
Uma configuração vantajosa da invenção é caracterizada pelo fato de que a quantidade de alimentação de eletrólito (quantidade de solução de decapagem) é feita de modo regulado na fenda entre o par de eletrodos de diamante e/ou par de eletrodos de chumbo/estanho e a tira. Com isso a tira pode ser precisamente posicionada, hidráulica ou mecanicamente, no meio entre o par de eletrodos. Assim, a distância entre os eletrodos de diamante e/ou eletrodo de chumbo/estanho e a tira pode ser reduzida a um mínimo.
Uma configuração vantajosa da invenção é caracterizada pelo fato de que a fenda entre os eletrodos de diamante e/ou os eletrodos de chumbo/estanho pode ser variada. Assim, a tira pode ser facilmente adaptada à ondulação da tira.
Uma outra execução vantajosa da invenção é caracterizada pelo fato de que a ondulação da tira é determinada e os eletrodos de diamante e/ou eletrodos de chumbo/estanho são removidos da tira, de modo que é evitado um contato entre tira e eletrodos de diamante e/ou eletrodos de chumbo/estanho, que conduziriam obrigatoriamente a curtos-circuitos.
Pode ainda ser previsto que seja disposto um dispositivo para ajuste ou regulagem da distância entre tira e eletrodos de diamante e/ou eletrodos de chumbo/estanho. A distância ajustada entre tira e eletrodos de diamante e/ou eletrodos de chumbo/estanho possibilita uma adaptação do fluxo de corrente e, por conseguinte, uma queda dos custos de corrente.
Uma outra forma de execução possível de um dispositivo de acordo com a invenção é uma célula de decapagem, onde a corrente elétrica contínua é aplicada diretamente a um contato eletricamente condutor entre tira e eletrodo (cátodo e/ou ânodo). Podem então estar previstos dispositivos de guia, com os quais uma tira pode ser guiada em um ângulo para com a horizontal, que eletrodos estejam dispostos no mesmo ângulo e que estejam previstos dispositivos, com os quais líquido eletrolítico possa ser introduzido entre tira e eletrodos. Especialmente uma tira pode ser guiada inclinadamente a um ângulo agudo, especialmente um ângulo de 30 a 45 para baixo e, em seguida, depois de ao menos um rolo de desvio, inclinadamente a um ângulo, especialmente um ângulo de 30 a 45 °, para cima, de modo que a tira pode ser introduzida na célula de decapagem de modo fácil e eficaz. Graças à disposição inclinada, a célula é econômica em espaço. A demanda de espaço é essencialmente menor em comparação com as instalações de decapagem químicas convencionais. Resulta ainda uma guia muito boa da tira pelo fato de que a tira não apresenta pendência.
Ademais pode ser previsto que a posição de ao menos um eletrodo de um par de eletrodos e do rolo de desvio seja ajustável em sentido normal à direção de movimento do produto plano. Com isso, os eletrodos e o rolo de desvio podem ser levantados hidráulica e/ou mecanicamente durante a introdução da tira.
Tal célula de decapagem inclinada pode ser empregada tanto em decapagem de cisalhamento como também em assim chamadas mordentagens yyKonti", pois a introdução da tira é essencialmente facilitada pelo desdobramento dos eletrodos de diamante e/ou eletrodos de chumbo/estanho e simultâneo levantamento do rolo de desvio.
Uma variante vantajosa da invenção reside em que é previsto um dispositivo de regulagem para a quantidade de alimentação do liquido eletrolítico (solução de decapagem), sendo que por entrada de liquido entre tira e eletrodos de diamante e eletrodos de chumbo/estanho é previsto um dispositivo de regulagem próprio, podendo assim a corrente ser adaptada à largura da tira e também otimamente empregada para tiras de distinta largura. Graças à resultante guia hidráulica ou mecânica da tira, a posição da tira pode ser especificamente ajustada entre o par de eletrodos de diamante e/ou o par de eletrodos de chumbo/estanho.
Uma vantagem da invenção é que a decapagem reciclada, isto é, a solução dé decapagem usada, não contém nitratos e, por isso, pode ser regenerada mais facilmente e a custos mais baixos. 0 consumo energético quando da hidropirólise das soluções usadas é essencialmente menor do que em técnicas convencionais.
Todas as unidades de dosagem, monitoramento e armazenagem ou bombas para HNO3 e uréia podem ser dispensadas, resultando assim uma grande economia de custos.
Graças a distanciadores dispostos na direção de curso da tira é garantido que a tira seja disposta tão próxima quanto possível dos eletrodos sem que então seja possibilitado um contato da tira com o eletrodo. Garante-se assim que a tira não estabeleça um curto-circuito elétrico com o eletrodo.
Uma variante vantajosa da invenção é caracterizada pelo fato de que graças à regulagem do fluxo de corrente a superfície da tira pode ser mordentada de modo rápido, eficiente e em correspondência ao tipo da qualidade, sem poluir o meio ambiente por gases nocivos, como NOX ou sais de nitrato na decapagem de .reciclagem.
A invenção será agora explicada, a título de exemplo, com auxílio dos desenhos, onde mostram:
A Fig. 1 mostra um teste padrão de uma cuba de decapagem convencional com erosão química pelas mostras de mistura ácidas,
A Fig. 2 mostra uma instalação do sistema eletrólito neutro,
A Fig. 3 mostra uma célula de decapagem de acordo com a presente invenção,
A Fig. 4 mostra uma instalação de acordo com a presente invenção.
Fig. 1 mostra uma cuba de decapagem 1 segundo o estado atual da técnica. A tira de metal 2 é guiada pela desdobadoura 44 através das cubas de desengorduramento 5, em seguida limpa com água desionizada na lavadora 4 e, depois, na cuba de decapagem 1 com o ácido misto 3 (HF/HNO3) tem início a remoção da carepa. 0 ácido misto 3 é dirigido por uma bomba 7 através de um conduto 6 para a cuba de decapagem 1 e através de um conduto 8, por exemplo, passado para um recipiente ,.intermediário 9, onde o ácido misto 3 é novamente recirculado. A dosagem de uma solução de uréia 10 é feita através de uma bomba 11 diretamente na cuba de decapagem 1 e por razões ecológicas, sendo assim reduzida a fração do NOX. A tira de metal 2, depois da cuba de decapagem 1, é limpa com água desionizada na lavadora 12 de ácido misto aderente, em seguida liberada de água por meio de ventoinhas no secador 16 e enrolada na dobadoura 45.
A Fig. 2 mostra uma cuba de decapagem 1 segundo o estado atual da técnica. A tira de metal 2 é conduzida através do eletrólito 3, por exemplo, Na2SO4, entre cátodo 34 e ânodo 35. A distância 'entre eletrodos e tira importa usualmente em cerca de 70 a 150 mm, apresentando a tira de metal 2 uma certa pendência, que pode ser reduzida por rolos de apoio, p.ex. no meio da instalação. O eletrólito 3 é derivado de um conduto 8, por exemplo, para um recipiente intermediário 9, e reconduzido por uma bomba 7 através do conduto 6 à cuba de decapagem 1, de onde o eletrólito 3 é recirculado.
A fig. 3 mostra uma célula de decapagem 13, que cumpre a função da cuba de decapagem 1, segundo a invenção.
A tira de metal 2, p.ex. tira de aço nobre e/ou tira de aço C, é guiada na fenda entre os eletrodos 15 de um par de eletrodos. Respectivamente, um eletrodo de um par de eletrodos 15 e um rolo de corrente 14 (ou a tira de metal 2) está unido com um retificador 19.
Os eletrodos 15 respectivamente superiores podem ser movidos na direção 20, e o rolo de desvio 14' na direção 20' , de modo que a distância entre tira de metal 2 e eletrodos 15 é ajustável. Isso possibilita um ótimo aproveitamento de corrente. A. alimentação de eletrólito ou solução de decapagem 3 se faz novamente por meio de bomba 7 através de um conduto 6, estando previstos condutos 21, 21', 21'', 21''', que alimentam o eletrólito 3 nas fendas 24, 24', 24'', 24''' entre tira de metal 2 e eletrodos 15. A alimentação de eletrólito ou solução de decapagem pode então ser adaptada às condições requeridas pelas válvulas de regulagem 22, 22', 22", 22"'.
Após a passagem entre tira de metal 2 e eletrodos 15, o eletrólito é coletado na parte inferior 23 da célula de decapagem 13 eletrolitica e novamente aduzido à bomba 7. Os distanciadores 25, 25', 25", 25"' estão dispostos na direção de curso da tira.
O eletrodo inferior está respectivamente unido com a saida negativa do retificador 19, a saida positiva do retificador 19 está unida com o rolo de corrente 14. 0 eletrodo 15 superior é unido respectivamente com a saida negativa do retificador 19, a tira de metal 2 está unida com a saida positiva do retificador 19. Para que os eletrodos 15, que são executados como eletrodos de diamante ou eletrodos de chumbo/estanho, possam ser operados como ânodo, a corrente continua deveria ser aplicada alternadamente.
Uma configuração mais vantajosa da invenção (que não está restrita ao exemplo em questão) reside em unir o eletrodo inferior do lado de entrada com a saida positiva de um retificador, de modo que sirva como ânodo. À tira de metal é aplicado igualmente potencial positivo. 0 eletrodo superior é então unido com a saida negativa do retificador e serve como cátodo. No lado de saida, os eletrodos são ligados inversamente: o eletrodo inferior serve ali como cátodo, o superior como ânodo. Dessa maneira tanto o lado superior como também o lado inferior da tira chegam à região dos radicais OH formados no ânodo. Nessa configuração, tanto para o lado de entrada como também para o lado de saida poderia estar previsto apenas um retificador 19 cada.
Uma alternativa à última possibilidade de execução (que não está restrita ao exemplo em questão) é ligar a tira de metal 2 sem corrente, portanto ativar com corrente apenas respectivamente o par de eletrodos como cátodo e ânodo.
A fig. 4 mostra uma instalação com uma desdobadoura 44 e uma dobadoura 45, que possibilitam puxar a tira de metal 2 com uma correspondente velocidade pelo tratamento.
O tratamento consiste em um desengorduramento 5 químico e/ou eletrolitico, para se poder limpar a tira oleosa, e em uma célula de decapagem 13 eletrolítica. A célula de decapagem 13 está unida com 4 retificadores. A disposição dos pares de eletrodos 15 foi selecionada de tal maneira que respectivamente apenas um par de eletrodos 15 está unido com um rolo de corrente 14 e com um retificador. Pelo ajuste de retificador podem ser aplicadas aos eletrodos tensões elétricas variáveis, de modo pulsante, alternado e/ou contínuo, que se necessário produzem um polimento da superfície da tira de metal 2. A tira de metal 2 é invertida pelos rolos de corrente 14 e pelo rolo de desvio 14' .
LISTA DE REFERÊNCIAS:
1 cuba de decapagem
2 tira de metal
3 eletrólito
4 lavadora
5 cuba de desengorduramento
6 conduto de bomba 6 a cuba de decapagem 1 ou célula de decapagem 13
7 bomba
8 conduto de cuba de decapagem 1 a recipiente intermediário 9
9 recipiente intermediário
10 solução de uréia
11 bomba para solução de uréia 10
12 lavadora
13 célula de decapagem eletrolitica
14 rolo de corrente
14' rolo de desvio
15 eletrodos
16 secador
19 retificador
20 direção do movimento dos eletrodos 15
20' direção do movimento do rolo de desvio 14'
21, 21', 21'', 21''' condutos para alimentação de eletrólito
22, 22', 22'', 22''' válvulas de regulagem para alimentação de eletrólito
23 parte inferior da célula de decapagem 13
24, 24', 24'', 24''' fenda entre tira de metal 2 e eletrodo 15
25, 25', 25", 25"' distanciadores
30 nível de liquido
34 cátodo
35 ânodo
44 desdobadoura
45 dobadoura
Claims (20)
1. Processo para decapagem eletrolítica de produtos planos (2) metálicos, especialmente tiras de aço nobre e/ou de aço C7 caracterizado pelo fato de que é empregado ao menos um par de eletrodos contrapostos com ao menos um eletrodo de diamante e/ou ao menos um eletrodo de chumbo/estanho, por exemplo/ um eletrodo de chumbo93/estanho7 (15), sendo que a alimentação de corrente é feita de um lado diretamente ao produto plano (2) e, de outro lado, ao par de eletrodos, o eletrodo de diamante e/ou de chumbo/estanho (15) do par de eletrodos e eventualmente o produto plano (2) é ligado como ânodo e o outro eletrodo (15) como cátodo, e o produto plano (2) é atravessado entre os eletrodos (15) do par de eletrodos.
2. Processo, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que a alimentação de corrente é pulsante.
3. Processo, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 ou 2, caracterizado pelo fato de que a alimentação de corrente é constante.
4. Processo, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1, 2 ou 3, caracterizado pelo fato de que corrente contínua é alternadamente (Reverse pulse plating) aplicada ao produto plano (2) a ser mcíkientado e aos eletrodos (15).
5. Processo, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1, 2, 3 ou 4, caracterizado pelo fato de que é empregada uma mistura de sais minerais e água na concentração de 10 g/l até 250 g/l de ácido mineral, especialmente entre 50 e 200 g/l, de preferência 150 g/l.
6. Processo, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1, 2, 3, 4 ou 5, caracterizado pelo fato de que é empregada uma mistura de água e Na2SO4 (sulfato de sódio) , sendo que a concentração de Na2SO4 é ajustada em função do produto plano a ser mordentado entre 100 e 350 g/l, de preferência 150 g/l Na2SO4.
7. Processo, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1, 2, 3, 4, 5 ou 6, caracterizado pelo fato de que é empregado ácido misto, sendo que a concentração é ajustada em função do produto plano (2) a ser mordentado entre 20 e 100 g/l HF e 50 e 300 g/l HNO3, de preferência a -50 g/l HF e 150 g/l HNO3.
8. Processo, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1, 2, 3, 4, 5, 6 ou 7, caracterizado pelo fato de que as densidades de corrente nos eletrodos são ajustadas em função do produto plano (2) a ser mordentado entre 0,5 e 150 A/dm2.
9. Processo, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7 ou 8, caracterizado pelo fato de que a temperatura do eletrólito ê ajustada em função do produto plano (2) a ser mordentado entre 20 e 90 °C, de preferência a 75 °C.
10. Processo, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8 ou 9, caracterizado pelo fato de que a tensão elétrica é ajustada variável.
11. Processo, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9 ou 10, caracterizado pelo fato de que com a quantidade de alimentação do fluido de eletrólito entre produto plano (2) e eletrodo (15) é regulada a distância entre produto plano e eletrodo.
12. Processo, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10 ou 11, caracterizado pelo fato de que a distância entre os eletrodos (15) de um par de eletrodos ou entre eletrodo (15) e produto plano (2) é ajustada à ondulosidade do produto plano.
13. Dispositivo para execução do processo de acordo com qualquer uma das reivindicações 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, -9, 10, 11 ou 12 para decapagem eletrolítica de produtos planos (2) metálicos, especialmente tiras de aço nobre e/ou de aço C, caracterizado pelo fato de que é previsto ao menos um par de eletrodos (15) contrapostos, entre os quais é atravessável um produto plano (2) , sendo que o par de eletrodos apresenta ao menos um eletrodo de diamante e/ou ao menos um eletrodo de chumbo/estanho, por exemplo um eletrodo de chumbo93/estanho7 (15), e sendo que está previsto um dispositivo (19) para alimentação de corrente de um lado diretamente ao produto plano (2) e, de outro lado, aos eletrodos (15) , de modo que um eletrodo do par de eletrodos é ligado como cátodo e o outro eletrodo, que apresenta ao menos um eletrodo de diamante e/ou ao menos um eletrodo de chumbo/estanho, como ânodo, e o produto plano pode ser eventualmente ligado como ânodo.
14. Dispositivo, de acordo com a reivindicação 13, caracterizado pelo fato de que estão previstos dispositivos de guia (14, 14'), com os quais uma tira (2) pode ser guiada a um ângulo para com a horizontal, sendo que eletrodos (15) estão dispostos no mesmo ângulo, e sendo que estão previstos dispositivos (21, 21', 21", 21"', 22, 22', -22", 22"'), com os quais fluido de eletrólito pode ser introduzido entre tira (2) e eletrodos (15).
15. Dispositivo, de acordo com a reivindicação 14, caracterizado pelo fato de que uma tira pode ser guiada inclinadamente a um ângulo, especialmente um ângulo de 30 a -45°, para cima, e em seguida após ao menos um rolo de desvio (14') inclinadamente a um ângulo, especialmente um ângulo de 3 0 a 45°, para cima.
16. Dispositivo, de acordo com qualquer uma das reivindicações 13, 14 ou 15, caracterizado pelo fato de que a posição de ao menos um eletrodo (15) de um par de eletrodos e do rolo de desvio (14') é ajustável normal à direção de movimento do produto plano.
17. Dispositivo, de acordo com qualquer uma das reivindicações 13, 14, 15 ou 16, caracterizado pelo fato de que a fenda entre os eletrodos de um par de eletrodos é ajustável.
18. Dispositivo, de acordo com qualquer uma das reivindicações 13, 14, 15, 16 ou 17, caracterizado pelo fato de que é previsto um dispositivo de regulagem para a quantidade de alimentação do fluido de eletrólito.
19. Dispositivo, de acordo com qualquer uma das reivindicações 13, 14, 15, 16, 17 ou 18, caracterizado pelo fato de que um distanciador está montado em ao menos um eletrodo.
20. Dispositivo, de acordo com qualquer uma das reivindicações 13, 14, 15, 16, 17, 18 ou 19, caracterizado pelo fato de que está previsto um dispositivo de regulagem para o fluxo de corrente para os eletrodos (15).
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Free format text: EXIGENCIA PUBLICADA NA RPI 2071 DE 14/09/2010 ANULADA POR TER SIDO INDEVIDA. |
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| B08F | Application dismissed because of non-payment of annual fees [chapter 8.6 patent gazette] |
Free format text: REFERENTE AS 5A, 6A E 7A ANUIDADES. |
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| B08K | Patent lapsed as no evidence of payment of the annual fee has been furnished to inpi [chapter 8.11 patent gazette] |
Free format text: REFERENTE AO DESPACHO 8.6 PUBLICADO NA RPI 2158 DE 15/05/2012. |