BRPI0612096A2 - método para prover um utensìlio com uma decoração, e, ferro de passar - Google Patents
método para prover um utensìlio com uma decoração, e, ferro de passar Download PDFInfo
- Publication number
- BRPI0612096A2 BRPI0612096A2 BRPI0612096-2A BRPI0612096A BRPI0612096A2 BR PI0612096 A2 BRPI0612096 A2 BR PI0612096A2 BR PI0612096 A BRPI0612096 A BR PI0612096A BR PI0612096 A2 BRPI0612096 A2 BR PI0612096A2
- Authority
- BR
- Brazil
- Prior art keywords
- sol
- gel
- layer
- precursor
- grid
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 27
- 238000005034 decoration Methods 0.000 title claims abstract description 16
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 title abstract description 18
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 title abstract description 9
- 239000012703 sol-gel precursor Substances 0.000 claims abstract description 25
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 19
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims abstract description 16
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 14
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 claims abstract description 10
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- -1 organosilane compound Chemical class 0.000 claims description 13
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 claims description 6
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 claims description 6
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 5
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 235000000396 iron Nutrition 0.000 claims description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 3
- 238000003892 spreading Methods 0.000 claims description 3
- 239000000725 suspension Substances 0.000 claims description 2
- 238000002454 metastable transfer emission spectrometry Methods 0.000 claims 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 13
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 10
- 238000004049 embossing Methods 0.000 description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 10
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 8
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 6
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 5
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 4
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 4
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 4
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 3
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 3
- CXQXSVUQTKDNFP-UHFFFAOYSA-N octamethyltrisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C CXQXSVUQTKDNFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004987 plasma desorption mass spectroscopy Methods 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000269978 Pleuronectiformes Species 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 150000004645 aluminates Chemical class 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N dodecane Chemical compound CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000006210 lotion Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000935974 Paralichthys dentatus Species 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920004482 WACKER® Polymers 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005055 alkyl alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- DIOQZVSQGTUSAI-NJFSPNSNSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCC[14CH3] DIOQZVSQGTUSAI-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N ethyl acetoacetate Chemical compound CCOC(=O)CC(C)=O XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006261 foam material Substances 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000008240 homogeneous mixture Substances 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010409 ironing Methods 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N n-butylhexane Natural products CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920000555 poly(dimethylsilanediyl) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical group 0.000 description 1
- 239000012686 silicon precursor Substances 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 238000009718 spray deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- WOZZOSDBXABUFO-UHFFFAOYSA-N tri(butan-2-yloxy)alumane Chemical compound [Al+3].CCC(C)[O-].CCC(C)[O-].CCC(C)[O-] WOZZOSDBXABUFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
- G02B5/1847—Manufacturing methods
- G02B5/1852—Manufacturing methods using mechanical means, e.g. ruling with diamond tool, moulding
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B44—DECORATIVE ARTS
- B44C—PRODUCING DECORATIVE EFFECTS; MOSAICS; TARSIA WORK; PAPERHANGING
- B44C1/00—Processes, not specifically provided for elsewhere, for producing decorative surface effects
- B44C1/24—Pressing or stamping ornamental designs on surfaces
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B44—DECORATIVE ARTS
- B44C—PRODUCING DECORATIVE EFFECTS; MOSAICS; TARSIA WORK; PAPERHANGING
- B44C5/00—Processes for producing special ornamental bodies
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B44—DECORATIVE ARTS
- B44F—SPECIAL DESIGNS OR PICTURES
- B44F1/00—Designs or pictures characterised by special or unusual light effects
- B44F1/08—Designs or pictures characterised by special or unusual light effects characterised by colour effects
- B44F1/10—Changing, amusing, or secret pictures
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31652—Of asbestos
- Y10T428/31663—As siloxane, silicone or silane
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Cookers (AREA)
- Adornments (AREA)
Abstract
METODO PARA PROVER UM UTENSìLIO COM UMA DECORAçãO, E, FERRO DE PASSAR A invenção está relacionada a método para prover um utensílio com uma decoração, por meio de uma grade de interferência óptica. O utensílio é provido de um precursor sol-gel que é feito em relevo com um tampão flexível, para criar uma grade de interferência óptica. A grade deinterferência pode ser provida de um segundo precursor de um material com um índice de refração mais elevado que aquele da camada de sol-gel, e provida com um revestimento de topo, sem espalhamento, transparente. A invenção está relacionada ainda a aparelhos, e.g., um ferro de passar roupa ou um barbeador, revestidos com uma camada de organossilano provida de uma grade de interferência óptica.
Description
4 MÉTODO PARA PROVER UM UTENSÍLIO COM UMA DECORAÇÃO,E, FERRO DE PASSAR"
FUNDAMENTOS DA INVENÇÃO
Esta invenção está relacionada a um método para prover umutensílio com uma decoração. Uma decoração, neste pedido, é entendidacomo sendo um ornamento, mas ela pode ser também um retrato, uma figuraou um texto. Os utensílios, e em particular os utensílios para cuidadospessoais podem ser providos com um revestimento de verniz. Foi encontradoque muitas composições para cuidados pessoais contêm ingredientes quepodem corroer o revestimento de verniz. Particularmente as loções parabarbear, tais como as para pré-barba e pós-barba, são achadas agressivas emrelação ao revestimento de verniz. Uma boa resistência a ácidos, bases esolventes é obtida por um revestimento de verniz que contém uma rede decomposto organossilano hidroliticamente condensado. Os revestimentos deverniz que contêm uma rede de composto organossilano hidroliticamentecondensado são conhecidas por si. Esses materiais são obtidos tipicamentepor meio de um processo sol-gel.
Com a finalidade de dar ao utensílio uma aparência atraente,e.g., metálica, o revestimento poderá conter partículas de metal, tal como oassim denominado pigmento de madrepérola. Por impressão por tela essepigmento pode ser aplicado também na forma de uma decoração.
Outra aplicação de uma rede de um composto organossilanohidroliticamente condensado provido de uma decoração, é encontrada emferros de passar roupa. Os ferros de passar poderão compreender, e.g., umaplaca de sola de alumínio anodizado, a qual poderá ser coberta com umrevestimento protetor e de baixo atrito, baseado em uma camada de sol-gel.Um ferro de passar possui tipicamente uma camada à base de sol-gel porcausa da sua boa resistência a temperaturas elevadas. O revestimento protetorcompreende então, em geral, um revestimento base e um revestimento detopo. O revestimento de topo pode ser cheio com sílica, PTFE (Teflon) e/ouiriodine (i.e., partículas de mica) para diminuir seu coeficiente de atrito e paraum efeito ótico desejado. Neste caso, uma decoração pode ser impressa norevestimento de topo sobre o revestimento base. Isto pode ser feito tambémimprimindo por tela uma tinta de sol-gel com pigmento. No entanto, aresolução da impressão por tela é limitada a cerca de 50 a 100 mícrons, o quelimita a qualidade da decoração.
SUMÁRIO DA INVENÇÃO
É um objeto da invenção prover um método que produzadecorações com uma resolução mais elevada.
Este e outros objetos são obtidos pelas características dareivindicação 1.
Com o método da invenção, podem ser produzidas decoraçõescom uma resolução da ordem de centenas de nanômetros. Uma grade deinterferência consiste geralmente de aspectos tipo feixe com dimensões quesão da mesma ordem do comprimento de onda da luz. Para a luz visível, essasdimensões são entre 100 nm e vários mícrons. A grade refrata determinadoscomprimentos de onda em determinados ângulos, dando a eles uma cor viva.
As grades de interferência conhecidas são feitas usando técnicas de litografiaóptica e deposição por borrifo a vácuo. Estas são etapas de processamentocaras e não podem ser portanto aplicadas a solas de ferros de passar. Por meiode um tampão flexível (e.g., de borracha), aspectos com 100 nm podem serreplicados de uma maneira rápida e barata.
Pelo método da invenção são obtidas diversas outrasvantagens. Em primeiro lugar, uma grade de interferência oferece um novométodo para fabricar decorações atrativas e à prova de falsificação.
Uma outra vantagem do método da invenção é que a cor dadecoração não fica limitada a aplicações de alta temperatura, tal como, e.g., asola de um ferro de passar. Nas decorações conhecidas, providas de tintas depigmento que são submetidas a temperaturas elevadas, e escolha de cores élimitada devido à instabilidade térmica insuficiente de algumas tintas depigmento.
No método da invenção, o utensílio é provido de um primeiroprecursor sol-gel. Um precursor sol-gel compreende em geral um compostoorganossilano e partículas de sílica, em particular partículas de sílica coloidal.Um composto organossilano preferido é um silano, que forma um precursorsol-gel híbrido. Um precursor sol-gel híbrido compreendendo um compostoorganossilano é entendido como sendo um composto compreendendo silício,o qual é ligado a pelo menos um grupo orgânico não-hidrolisável, e 2 ou 3grupos orgânicos hidrolisáveis.
Em particular, o precursor sol-gel híbrido poderá compreenderum composto organossilano do grupo dé alquil-alcoxi silanos. De preferência,o precursor sol-gel híbrido poderá compreender uma sílica coloidal (e.g.,Ludox) e metil-trimetoxi silano (MTMS) e/ou metil-trietoxi silano (MTES).Os precursores sol-gel híbridos tais como MTMS e MTES são conhecidoscomo possuindo uma excelente estabilidade à temperatura, até pelo menos450° C. O revestimento por meio de pulverização é um método bemconhecido para aplicar um precursor sol-gel sobre um substrato.
No entanto, com a finalidade de melhor controle da espessurada camada, a impressão por tela é uma técnica mais acurada. Na presenteinvenção, a camada é obtida, de preferência, de um precursor sol-gel pré-polimerizado concentrado. Com o uso desse precursor sol-gel pré-polimerizado concentrado, a quantidade de encolhimento durante a cura ficareduzida de forma considerável. A quantidade de encolhimento reduzidapermite o uso de técnicas acuradas de impressão por tela, para aplicação dacamada a um substrato.
Um precursor organossilano pré-polimerizado é geralmenteuma rede que compreende uma ou mais das seguintes unidades: RiR2R3SiO0;5,R1R2SiOi 5, e S1O4/2, onde Ri, R2 e R3 são, independentemente, selecionadosdo grupo que consiste de hidrogênio e hidrocarbonetos com 1-20 átomos decarbono. Os hidrocarbonetos podem incluir alquil tais como metil, etil, propil,butil e similares, alquenil tais como vinil, alil e similares, e aril tal como fenil.
Na medida em que um grau mais elevado de reticulação é desejado noproduto final curado, o número médio de grupos hidrocarboneto em átomosde silício do precursor sol-gel pré-polimerizado deverá se aproximar de 1. Ascomposições de organossilano curáveis contendo uma variedade de gruposreativos são conhecidas nesta tecnologia. O tipo de grupos reativos presentesno precursor organossilano pré-polimerizado é determinado pela reação usadapara curar a composição. Quando a composição cura por uma reação químicainiciada na ausência de radiação ou outro gerador de radicais livres, os gruposreativos são tipicamente grupos hidroxila, grupos alcoxi ou radicais alquenil,e ficam localizados tipicamente nos átomos de silício terminais de cadamolécula do precursor organossilano pré-polimerizado.
As misturas de pré-polímeros são úteis também aqui. Em umaforma de realização preferida da invenção, pelo menos um dos grupos Racima é metil, por causa da alta resistência contra oxidação do compostoorganossilano curado resultante. Esses materiais formam com freqüênciamelhores revestimentos e possuem propriedades melhoradas em temperaturaselevadas. As resinas de silicone especialmente preferidas incluem unidadescom as estruturas MeSi03/2, MePhSiO2Z2, PhSiO3Z2 e Ph2Si02/2. Essas resinassão conhecidas nesta tecnologia e se acham disponíveis comercialmente (e.g.,Wacker Silres 610).
Os precursores sol-gel são geralmente diluídos/dissolvidos emsolventes para o processamento aqui. Os solventes apropriados sãoconhecidos nesta tecnologia e podem incluir, por exemplo, solventesorgânicos tais como hidrocarbonetos aromáticos (e.g., xileno, benzeno outolueno), alcanos (e.g., n-heptano, decano ou dodecano), álcoois, cetonas,ésteres, éteres, ou solventes inorgânicos tais como dimetilpolissiloxanos debaixo peso molecular. A quantidade usada de solvente varia dependendo daresina, de quaisquer aditivos e do tipo de processamento, mas pode ser, porexemplo, na faixa entre cerca de 10 e cerca de 90 % em peso, com base nopeso da resina.
Com a finalidade de delimitar a quantidade de encolhimento, aquantidade de solvente presente é menor que 40 % em peso. Em uma formade realização mais preferida, a quantidade de solvente é de 15-25 % em peso.
Em seguida, o precursor sol-gel é feito em relevos para criaruma grade de interferência óptica, pela colocação de um tampão flexível. Otampão flexível pode ser, e.g., um tampão de borracha. Uma borrachapreferida apropriada para o tampão é uma borracha à base de silicone, talcomo o polidimetilsilano (PMDS). A borracha à base de silicone possui avantagem de que a maioria dos solventes usados para os precursores éabsorvida pela borracha de silicone do tampão, o que facilita a camada de sol-gel a solidificar antes do tampão ser removido. Caso a camada de sol-gel sejasolidificada por meio de UV, o tampão deverá ser também translúcido.Existem diversos princípios para transferir uma configuração de um tampãopara uma camada de sol-gel.
O primeiro princípio de impressão compreende comprimir otampão e a camada de sol-gel um contra o outro, onde o tampão e a camadade sol-gel entram em contato um com o outro através de um plano. Umavantagem importante deste primeiro princípio de impressão é que oalinhamento do tampão e da camada de sol-gel, um em relação ao outro, podeser levado a efeito de forma muito acurada. Uma importante desvantagemdeste princípio de impressão é que, no movimento do tampão e da camada desol-gel, no sentido um do outro, o ar poderá ficar aprisionado entre as folhas.Como resultado, a transferência da configuração poderá ficar incompleta. Noentanto, essa desvantagem pode ser superada conduzindo o procedimento,conforme acima descrito, sob uma pressão reduzida. A pressão deverá serentão reduzida até uma pressão ligeiramente acima da pressão de vapor dosolvente na camada de sol-gel. A formação de relevo sob uma pressãoreduzida é particularmente vantajosa em superfícies curvas.
Um segundo princípio de impressão está descrito no WO03/099463, e compreende as seguintes etapas: posicionar o tampão e acamada de sol-gel um em relação ao outro, de tal modo que a superfície deestampagem e a superfície receptora fiquem voltadas uma para a outra; fixaras posições do tampão e da camada de sol-gel uma em relação à outra em umadireção na qual a superfície receptora se prolonga; movimentar uma primeiraporção de pelo menos uma das superfícies de estampagem e a superfíciereceptora para diante, em uma direção substancialmente perpendicular àsuperfície receptora, de tal modo que uma primeira área de transferência écriada entre a superfície de estampagem e a superfície receptora, na qual otampão é capaz de transferir localmente a configuração para a camada de sol-gel; e movimentar em seguida uma segunda porção de pelo menos umasuperfície de estampagem e a superfície receptora para diante, em umadireção substancialmente perpendicular à superfície receptora, de tal modoque uma área de transferência aumentada é criada entre a superfície deestampagem e a superfície receptora, na qual o tampão é capaz de transferirlocalmente a configuração para a camada de sol-gel. Por este método épossível controlar os movimentos das porções da superfície de estampagemde tal modo que uma configuração na superfície receptora pode ser obtida,sem a inclusão de ar. O tampão pode ser movimentado para trás após acamada de sol-gel em relevos estar solidificada, até um ponto tal que aestrutura em relevo da grade fica mantida.
Um terceiro princípio de impressão, vantajoso para formaçãode relevos em superfícies não-uniformes é rolar um tampão, o qual é formadopor uma folha enrolada em torno de um cilindro, sobre uma camada de sol-gel. Com a finalidade de obter um contato suficiente entre o tampão e acamada de sol-gel, o cilindro é feito, de preferência, de um material emespuma, flexível o suficiente para seguir a superfície não-uniforme.
Após a camada ter sido feita em relevo com uma grade deinterferência óptica, a camada é curada. Dependendo da temperatura na qual acamada é curada, o tampão é removido antes ou após a cura. Em baixastemperaturas o tampão poderá estar presente durante a cura. Quando a curaocorre em temperaturas mais elevadas, é preferido remover o tampão antes dacura. Em seguida a camada de sol-gel poderá ser solidificada na forma de umacamada que mantém a grade de interferência óptica quando o tampão éremovido. A camada de sol-gel é então curada após o tampão ter sidoremovido.
Com a finalidade de aumentar o índice de refração, o primeiroprecursor de sol-gel poderá ser baseado em, ou compreender um tetra-alquilorto-titanato ou aluminato.
Em alguns utensílios, tal como um ferro de passar roupa, édesejada uma superfície plana. Para uma superfície plana no topo da grade, agrade pode ser coberta com uma segunda camada de sol-gel. Com a finalidadede não perder as propriedades de refração da grade, a grade de interferência éprovida de um segundo precursor de um material com um índice de refraçãomais elevado que aquele da primeira camada de sol-gel, o qual ésubseqüentemente curado, formando deste modo uma grade com altarefração.
O segundo precursor de sol-gel poderá ser baseado em tetra-alquil orto-titanato ou aluminato; ambos os materiais estando disponíveiscomercialmente.
A aplicação do segundo precursor compreendendo um materialcom um índice de refração mais elevado que aquele da primeira camada desol-gel, permite que o primeiro precursor de sol-gel compreenda umcomposto que absorve a luz na faixa de comprimentos de onda para a qual agrade de interferência é projetada para retratar a luz. Isto assegura que a luzque volta para o observador está vindo da grade somente. A cor depende doângulo de visão. O revestimento de alta retração poderá ser provido de umacamada de topo transparente, sem espalhamento, para obter a superfície planadesejada e proteger a estrutura da grade contra danos mecânicos. Orevestimento de topo é de preferência tão transparente e sem espalhamentoquanto possível, para assegurar que a luz que alcança a grade possa interferire que a luz refletida da grade não seja obscurecida devido ao espalhamento.Caso o revestimento de topo venha a espalhar a luz incidente, o efeito ótico dagrade será menor.
O método da invenção está relacionado também a umaparelho, revestido com uma camada de organossilano, caracterizado pelofato de que a camada de organossilano é provida de uma grade deinterferência óptica. Os exemplos desses aparelhos são ferros de passar roupa,com uma decoração, e.g., na sua sola, barbeadores, aparelho para café comuma placa quente decorada e uma panela e outros produtos que utilizam sol-gel ou revestimentos curáveis por UV.
BREVE DESCRIÇÃO DOS DESENHOS
As Figs. IA a IC mostram a fabricação do tampão flexível apartir de uma grade padrão.
As Figs. 2A a 2C mostram a formação de relevo para criaruma grade de interferência óptica pela colocação de um tampão flexível.
As Figs. 3A a 3C mostram a aplicação de um segundoprecursor de um material com um índice de retração mais elevado que aqueleda camada de sol-gel. Na 3D uma segunda camada de sol-gel é aplicada notopo do dito material com o índice de refração mais elevado.
As Figs. 4A e 4B mostram retratos SEM de uma graderefrativa. Na Fig. 4C e 4D é provida um revestimento de topo transparente,sem espalhamento.
As Figs. 5A e 5B mostram retratos óticos das cores deinterferência em um disco de alumínio com um pré-revestimento de sol-gelpreto.
DESCRIÇÃO DETELHADA DA FORMA DE REALIZAÇÃOPREFERIDA
A Fig. 1 mostra a fabricação de um tampão flexível que émoldado de uma grade padrão. A Fig. IA mostra um padrão produzidolitograficamente, e.g., uma pastilha de silício. Na Fig. 1B, um precursor depolidimetil siloxano (PDMS) líquido é vertido sobre o padrão. Após o líquidoestar curado, termicamente ou por UV5 o tampão flexível é separado comomostrado na Fig. 1C. Embora o PDMS tenha sido usado como exemplo paraproduzir o padrão elastomérico, outros materiais elastoméricos podem serempregados. Os elastômeros preferidos são aqueles aos quais o meio foto-registrado que é desejado ser moldado não venha a aderir de formasubstancial.
O utensílio é provido de um primeiro precursor sol-gel. Apóspulverizar ou imprimir por tela o primeiro precursor sol-gel no substrato, acamada se encontra em um estado de gel (Fig. 2A). Durante esse estado umaestrutura de grade é feita em relevo no sol-gel mole, conforme mostrado naFig. 2B. O sol-gel é então solidificado na forma de uma camada que mantéma conformação da grade de interferência óptica quando o tampão é removido(Fig. 2C). Isto pode ser feito por secagem, e.g., pelo aquecimento a cerca de60° C, ou por irradiação com UV. Neste último caso, um precursor de silíciosensível ao UV deverá ser adicionado ao precursor sol-gel. Um exemplo detal precursor de silício sensível ao UV, que pode ser usado, é ometacriloxipropil trimetoxissilano (MEMO). Em utensílios que são usados emtemperatura elevada, tal como um ferro de passar ou uma placa aquecida, aquantidade de MEMO na mistura não deverá ser maior que 30 % em peso emrelação à quantidade de alquil-alcoxi silanos, por causa da estabilidadetérmica mais baixa do material MEMO. Caso o precursor seja adicionado aoalquil-alcoxi silano, o precursor de acrilato é adicionado ao interior da rededurante a hidrólise. Após uma curta etapa de iluminação, a estrutura ficarámantida na camada.
A Fig. 3 A mostra a camada de sol-gel após o tampão ter sidoseparado. A grade reflete determinados comprimentos de onda por causa docontraste periódico no índice de retração, o qual é: o material da grade e o ar.
A camada de sol-gel consiste de partículas de sílica (necessárias para obter aespessura desejada em uma matriz de MTMS e possuem um índice derefração de cerca de 1,4). Caso essa grade esteja coberta diretamente com umrevestimento de topo, o qual consiste, de preferência, de sílica, PTFE eMTMS, também com um índice de refração de cerca de 1,4, não haverá maisum contraste periódico no índice de refração, e portanto nenhuma luzretratada. Assim sendo, (parte) da grade é coberta com um material quepossui um índice de refração mais elevado. A Fig. 3B mostra a grade que estápulverizada com, e.g., um precursor sol-gel de óxido de titânio. A Fig. 3Cmostra a grade com a camada sol-gel de óxido de titânio curada, com o índicede refração mais elevado.
Um sol-gel de óxido de titânio é facilmente preparado a partirde uma rota química a úmido. Uma preparação típica se inicia com umprecursor tetra-alquil orto-titanato como uma fonte de titânio, o qual écombinado com álcoois e ácido. Os ácidos apropriados são ácido fórmico,ácido maleico, e ácido clorídrico. Esta rota proporciona uma camada sol-gelde óxido de titânio com um índice de refração entre 1,8 e 2,3, que vaidepender da temperatura de cura e do comprimento de onda. Após o sol-gelde óxido de titânio estar formado por cura, a grade pode ser incorporada a umrevestimento de topo, como mostrado na Fig. 3D.
Para um efeito ótico ótimo, o utensílio necessita ser liso.Quando isto não é o caso, e.g., como em solas de ferros de passar roupa dealumínio, que tem pontos esbranquiçados espalhados, um pré-revestimentoprecisa ser aplicado. Esse pré-revestimento absorve a luz no comprimento deonda para o qual a grade foi projetada para refratar a luz. Caso as camadassubjacentes venham a espalhar a luz de volta para o observador, através dagrade, o efeito ótico da grade é perdido na interferência de fundo.
EXEMPLOS
Exemplo 1
Uma unidade de barbeador de poliamida preenchida com vidroé revestida com uma decoração de acordo com a invenção. Assim sendo, 11,8g do composto, hidroliticamente condensável, 3-glicidoxipropiltrimetilsiloxano (Fluke), e 2,7 g de água são agitados por 1 hora formandodeste modo uma solução sol-gel. A seguir, 3,28 g de Al(0-sec-Bu)3 sãomisturados com 1,75 g de etil acetoacetato (Aldrich). O composto de alumínioresultante é adicionado à solução sol-gel, o que resulta na formação de umasolução clara. O verniz resultante é aplicado ao alojamento 2 por meio depulverização. Uma grade óptica foi aplicada com um tampão de PDMS. Orevestimento foi curado por 20 minutos, a 80° C, e o tampão removido.
Exemplo 2
Um sol-gel preto é preparado pelo método a seguir: um Sol Aé produzido pela mistura de 7,9 partes de MTMS com 36,5 partes de etanol eadicionando esta mistura a 100 partes de Ludox AS-40. Após hidrólise por 5minutos do Sol A, os seguintes componentes são adicionados: 95,3 partes deMTMS, 1,8 de TEOS, 29,9 de alumina CR-6, 4,5 de Heudocor Black 100-9 e18,3 partes de etanol. O sol B assim formado é hidrolisado por 5 minutos. OSol C é preparado pela adição de 1,76 partes de ácido maleico ao sol B ehidrolisando por 45 minutos sob vigorosa agitação. Todas as partes são empeso.
Um disco de alumínio anodizado foi revestido com o assimobtido pré-revestimento preto, o qual foi subseqüentemente curado a 250° C.
Ao revestimento preto foi dado um tratamento UV-ozônio durante 10 minutospara oxidar sua superfície e tornar esta hidrofílica. Isso assegura uma boaaderência para a camada seguinte. A seguir, foi aplicada uma camada de sol-gel transparente, a qual foi estruturada fazendo a mesma em relevo. Umacamada de sol-gel transparente pode ter a seguinte composição: 8 partes deLudox TM 50, coloidal, em água, 7,5 partes de MTMS e 1,2 parte de ácidofórmico. Essa camada de sol-gel transparente foi feita em relevo e secada atéque a camada de sol-gel mantivesse a grade de interferência óptica quando otampão fosse removido. O tampão foi removido e a camada curada a 250° C.
Após a cura da camada em relevo e o tratamento por UV-ozônio, o material de alto índice é aplicado. Este consiste de uma solução detitânio-iso-propóxido estabilizado e que é preparada de sol D e sol E:
O sol D é preparado pela adição de 6,15 partes de butoxietanole a seguir de 3,67 partes de etil acetoacetonato a 4 gramas de titânio-iso-propóxido, e agitando até ser obtida uma mistura homogênea.
O sol E é uma mistura de 6,15 partes de butoxietanol com0,0317 partes de água. O sol E é em seguida rapidamente adicionado ao sol D.
O titânio forma um complexo com o etil acetoacetonato que é mais resistenteà umidade.
A camada sol-gel de TiO2 é aplicada de uma solução com umabaixa concentração para evitar a rachadura das camadas de TiO2 que são maisespessas que 200 nm, quando aplicadas de uma só vez. As concentraçõestípicas são entre 0,07 e 0,7 M TiO2. O TiO2 aplicado é curado a 250° C.
A Fig. 4A mostra o revestimento base com relevos, resultantee com 2 camadas de TiO2, com uma ampliação na Fig. 4B. De preferência,duas ou mais camadas são aplicadas, com a finalidade de cobrircompletamente a superfície da grade.
A seguir, a grade óptica é coberta com um revestimento detopo transparente. Um revestimento de topo preenchido de PTFE,transparente, pode ser preparado de acordo com o seguinte método: o Sol F éfeito misturando 7,9 partes de MTMS com 36,5 partes de etanol, após o que100 partes de Ludox AS-40 são adicionadas. Após 5 minutos de hidrólise oSol G é preparado pela adição de 95,3 partes de MTMS ao Sol F. O Sol G éhidrolisado por 5 minutos e 1,76 partes de ácido maleico são adicionadas.Após 45 minutos de hidrólise os seguintes componentes foram adicionados àmistura: 51,5 partes de água desionizada, 3,86 partes de Zonyl FS-300, 92,1partes de uma suspensão de PTFE em água, e 7,7 partes de Zonyls FS-300.Todas as partes em peso e sob vigorosa agitação.
Após a aplicação do revestimento de topo transparente, osistema é curado a 250° C. A Fig. 4D mostra o revestimento base em relevocom duas camadas de Ti02, coberto com um revestimento de topo de PTFE.Uma ampliação da mesma está mostrada na Fig. 4C. Essas etapas criam osefeitos de interferência mostrados na figura 5. No disco estão mostradosdiferentes grades e períodos.
O escopo de proteção da invenção não se acha limitado àsformas de realização de exemplo descritas aqui acima. A invenção é definidapor cada uma das características novas e todas as combinações dascaracterísticas. Os números de referencia nas reivindicações não limitam oescopo de proteção das mesmas. O uso do verbo "compreende" e suasconjugações não exclui a presença de elementos outros que não aquelesmencionados nas reivindicações. O uso do artigo indefinido "um" e "uma"precedendo um elemento não exclui a presença de uma pluralidade de taiselementos.
Claims (10)
1. Método para prover um utensílio com uma decoração,caracterizado pelo fato de quea. o utensílio é provido com um primeiro precursor sol-gel queé feito em relevo para criar uma grade de interferência óptica, pela colocaçãode um tampão flexível,b. a camada é curada.
2. Método de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelofato de quea. a grade de interferência é provida de um segundo precursorde um material com um índice de refração mais elevado que aquele dacamada de sol-gel,b. o segundo precursor é curado formando assim uma gradecom alta refração,c. a grade com alta refração é provida opcionalmente de umrevestimento de topo, sem espalhamento, transparente.
3. Método de acordo com a reivindicação 2, caracterizado pelofato de que o primeiro precursor sol-gel compreende um composto queabsorve a luz em uma faixa de comprimentos de onda para a qual a grade deinterferência é projetada para refratar a luz.
4. Método de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelofato de que o primeiro precursor sol-gel é um precursor sol-gel híbridocompreendendo um composto organossilano.
5. Método de acordo com a reivindicação 3 ou reivindicação 4,caracterizado pelo fato de que o composto organossilano compreende metil-trimetoxi silano (MTMS) ou metil-trietoxi silano, MTES.
6. Método de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelofato de que o primeiro precursor sol-gel compreende metacriloxipropiltrimetoxissilano (MEMO).
7. Método de acordo com a reivindicação 2, caracterizado pelofato de que o segundo precursor sol-gel compreende tetra-alquil orto-titanato.
8. Método de acordo com qualquer uma das reivindicações 2 a 7, caracterizado pelo fato de que o revestimento de topo compreende umcomposto organossilano, preenchido com sílica e uma suspensão de PTFE.
9. Aparelho, revestido com uma camada de organossilano,caracterizado pelo fato de que a camada de organossilano é provida com umagrade de interferência óptica.
10. Aparelho de acordo com a reivindicação 9, caracterizadopelo fato de que o aparelho pertence ao grupo de ferros de passar roupa,barbeadores, aparelhos para café, e panelas.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP05105911 | 2005-06-30 | ||
| EP05105911.1 | 2005-06-30 | ||
| PCT/IB2006/052133 WO2007004128A2 (en) | 2005-06-30 | 2006-06-27 | Method for providing an utensil with an interference grating |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| BRPI0612096A2 true BRPI0612096A2 (pt) | 2011-01-04 |
| BRPI0612096B1 BRPI0612096B1 (pt) | 2017-05-16 |
Family
ID=37604859
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| BRPI0612096A BRPI0612096B1 (pt) | 2005-06-30 | 2006-06-27 | método para prover um utensílio com uma decoração, e, ferro de passar |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20100055475A1 (pt) |
| EP (1) | EP1907224B1 (pt) |
| JP (1) | JP5437629B2 (pt) |
| CN (1) | CN101213084B (pt) |
| AT (1) | ATE441538T1 (pt) |
| BR (1) | BRPI0612096B1 (pt) |
| DE (1) | DE602006008954D1 (pt) |
| RU (1) | RU2388614C2 (pt) |
| WO (1) | WO2007004128A2 (pt) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2915810B1 (fr) * | 2007-05-04 | 2009-06-12 | Saint Gobain | Vitrage decoratif nanostructure |
| EP2229600A1 (en) * | 2007-12-06 | 2010-09-22 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Optical faceplate and method of manufacture |
| EP2206801A1 (en) * | 2008-12-24 | 2010-07-14 | Seb Sa | Composite cookware comprising a vitreous protective coating |
| WO2014122023A1 (en) * | 2013-02-06 | 2014-08-14 | Koninklijke Philips N.V. | A treatment plate for a garment treatment appliance |
| US10809426B2 (en) * | 2014-06-23 | 2020-10-20 | Robert Magnusson | Wideband resonant reflectors with zero-contrast gratings |
| GB2576700A (en) * | 2018-08-10 | 2020-03-04 | Bae Systems Plc | Coating material |
| UA121010C2 (uk) * | 2019-04-19 | 2020-03-10 | Денисенко Олег Іванович | Спосіб виготовлення виробу образотворчого та декоративного мистецтв |
| CN110423567B (zh) * | 2019-07-22 | 2021-06-22 | 苏州盛达飞智能科技股份有限公司 | 低折射率膜及用于生产该膜的离心容器 |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5234717A (en) * | 1990-06-14 | 1993-08-10 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Process for producing a minute-patterned substrate |
| WO1995024053A1 (en) * | 1994-03-03 | 1995-09-08 | Philips Electronics N.V. | Display device comprising a display screen provided with a light-absorbing coating |
| US5861113A (en) * | 1996-08-01 | 1999-01-19 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of Commerce | Fabrication of embossed diffractive optics with reusable release agent |
| ATE257505T1 (de) * | 1996-09-24 | 2004-01-15 | Koninkl Philips Electronics Nv | Gegenstand zur körperhygiene |
| US6280838B1 (en) * | 1997-01-10 | 2001-08-28 | U. S. Philips Corporation | Optical element, a display device provided with said optical element, and a method of manufacturing the optical element |
| MY122234A (en) * | 1997-05-13 | 2006-04-29 | Inst Neue Mat Gemein Gmbh | Nanostructured moulded bodies and layers and method for producing same |
| US6514621B1 (en) * | 1997-12-24 | 2003-02-04 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Patterned coated articles and methods for producing the same |
| JP4149021B2 (ja) * | 1998-01-14 | 2008-09-10 | オリンパス株式会社 | 光学系 |
| DE19915943A1 (de) * | 1999-04-09 | 2000-10-12 | Ovd Kinegram Ag Zug | Dekorationsfolie |
| JP4531936B2 (ja) * | 1999-07-07 | 2010-08-25 | 日本板硝子株式会社 | 凹凸表面を有する物品の製造方法 |
| TW500701B (en) * | 1999-07-07 | 2002-09-01 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Articles having an uneven surface and production process therefor |
| PL205719B1 (pl) * | 2000-02-16 | 2010-05-31 | Sicpa Holding Sa | Pigment zawierający strukturę interferencyjną , sposoby wytwarzania takiego pigmentu, zastosowanie takiego pigmentu do zastosowań zabezpieczających |
| US7192629B2 (en) * | 2001-10-11 | 2007-03-20 | California Institute Of Technology | Devices utilizing self-assembled gel and method of manufacture |
| CN100521833C (zh) * | 2002-11-22 | 2009-07-29 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 溶胶-凝胶基加热元件及包含该加热元件的家用电器 |
| DE602004022475D1 (de) * | 2003-05-08 | 2009-09-17 | Samsung Mobile Display Co Ltd | Verfahren zur Herstellung eines Substrats für organische elektrolumineszente Vorrichtungen |
-
2006
- 2006-06-27 BR BRPI0612096A patent/BRPI0612096B1/pt active IP Right Grant
- 2006-06-27 JP JP2008519080A patent/JP5437629B2/ja active Active
- 2006-06-27 AT AT06765912T patent/ATE441538T1/de not_active IP Right Cessation
- 2006-06-27 EP EP06765912A patent/EP1907224B1/en active Active
- 2006-06-27 RU RU2008103332A patent/RU2388614C2/ru active
- 2006-06-27 DE DE200660008954 patent/DE602006008954D1/de active Active
- 2006-06-27 CN CN2006800236018A patent/CN101213084B/zh active Active
- 2006-06-27 US US11/993,624 patent/US20100055475A1/en not_active Abandoned
- 2006-06-27 WO PCT/IB2006/052133 patent/WO2007004128A2/en not_active Ceased
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20100055475A1 (en) | 2010-03-04 |
| EP1907224B1 (en) | 2009-09-02 |
| RU2388614C2 (ru) | 2010-05-10 |
| CN101213084A (zh) | 2008-07-02 |
| WO2007004128A3 (en) | 2007-11-22 |
| JP2009500190A (ja) | 2009-01-08 |
| EP1907224A2 (en) | 2008-04-09 |
| ATE441538T1 (de) | 2009-09-15 |
| CN101213084B (zh) | 2010-06-16 |
| RU2008103332A (ru) | 2009-08-10 |
| BRPI0612096B1 (pt) | 2017-05-16 |
| JP5437629B2 (ja) | 2014-03-12 |
| DE602006008954D1 (de) | 2009-10-15 |
| WO2007004128A2 (en) | 2007-01-11 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6361718B1 (en) | Article having uneven surface, production process for the article, and composition for the process | |
| FI101990B (fi) | Kuumennettava elintarvikevuoka ja sen valmistusmenetelmä | |
| US7042645B2 (en) | Micro-lens array and method of making micro-lens array | |
| US6236493B1 (en) | Optical components with a graded-index structure, and method of manufacturing such components | |
| TWI630235B (zh) | 用以形成具有優異反射及阻燃性質之物件之組合物及由其形成之物件 | |
| JP5607915B2 (ja) | 撥水撥油樹脂組成物および塗装品 | |
| JP2001240800A (ja) | 所定表面形状を有する物品の製造方法 | |
| JPWO1997049775A1 (ja) | 透明被膜形成用塗布液、透明被膜付基材およびその用途 | |
| TW500701B (en) | Articles having an uneven surface and production process therefor | |
| BRPI0612096A2 (pt) | método para prover um utensìlio com uma decoração, e, ferro de passar | |
| JP2020515060A (ja) | ナノインプリントリソグラフィプロセスと、それから得られるパターン化基板 | |
| JP2017001327A (ja) | 撥水部材 | |
| TWI678551B (zh) | 智慧型光學材料、配方、方法、用途、物品、及裝置 | |
| KR20190100231A (ko) | 블랙 매트릭스용 조성물, 블랙 매트릭스, 및 블랙 매트릭스의 제조 방법 | |
| JP4847050B2 (ja) | 膜形成用組成物及び膜の形成方法 | |
| JP4531936B2 (ja) | 凹凸表面を有する物品の製造方法 | |
| JP2002046298A (ja) | サーマルヘッド、その表面処理方法及び表面処理剤 | |
| JP2008050380A (ja) | 撥水剤およびその使用 | |
| JP2000216417A (ja) | 微細凹凸パタ―ン付き基板 | |
| WO2014028320A2 (en) | Antireflective coatings with controllable porosity and refractive index properties using a combination of thermal or chemical treatments | |
| TWI798312B (zh) | 抗裂性聚矽氧烷介電平面化組成物、方法、及膜 | |
| WO2017022175A1 (ja) | 光学膜用組成物、光学膜を有する基材、成形体、および成形体の製造方法 | |
| KR100700435B1 (ko) | 패턴 복제에 사용되는 몰드 제조용 불화 유기규소 화합물,그를 이용하여 제조된 패턴 복제용 유기-무기 혼성 몰드,그 몰드를 이용한 패턴 복제 방법 및 그 방법에 의하여복제된 패턴 | |
| WO2018198936A1 (ja) | 低反射膜付き透明基板、光電変換装置、低反射膜付き透明基板の低反射膜を形成するための塗工液及び低反射膜付き透明基板の製造方法 | |
| JP3545168B2 (ja) | 耐摩耗薄膜形成方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| B06G | Technical and formal requirements: other requirements [chapter 6.7 patent gazette] |
Free format text: SOLICITA-SE A REGULARIZACAO DA PROCURACAO, UMA VEZ QUE BASEADO NO ARTIGO 216 1O DA LPI, O DOCUMENTO DE PROCURACAO DEVE SER APRESENTADO NO ORIGINAL, TRANSLADO OU FOTOCOPIA AUTENTICADA. |
|
| B25D | Requested change of name of applicant approved |
Owner name: KONINKLIJKE PHILIPS N. V. (NL) |
|
| B25G | Requested change of headquarter approved |
Owner name: KONINKLIJKE PHILIPS N. V. (NL) |
|
| B09A | Decision: intention to grant [chapter 9.1 patent gazette] | ||
| B16A | Patent or certificate of addition of invention granted [chapter 16.1 patent gazette] |