BRPI0812708B1 - artigo de óptica com propriedades anti-reflexo e proceso de fabricação de um artigo de óptica com propriedades anti-reflexo - Google Patents
artigo de óptica com propriedades anti-reflexo e proceso de fabricação de um artigo de óptica com propriedades anti-reflexo Download PDFInfo
- Publication number
- BRPI0812708B1 BRPI0812708B1 BRPI0812708A BRPI0812708A BRPI0812708B1 BR PI0812708 B1 BRPI0812708 B1 BR PI0812708B1 BR PI0812708 A BRPI0812708 A BR PI0812708A BR PI0812708 A BRPI0812708 A BR PI0812708A BR PI0812708 B1 BRPI0812708 B1 BR PI0812708B1
- Authority
- BR
- Brazil
- Prior art keywords
- layer
- layers
- fact
- sublayer
- equal
- Prior art date
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 45
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 31
- 230000008569 process Effects 0.000 title claims description 19
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 92
- 239000006117 anti-reflective coating Substances 0.000 claims description 59
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 59
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 52
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 44
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 42
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 42
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 claims description 40
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 40
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 27
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 24
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 claims description 23
- -1 oxygen ions Chemical class 0.000 claims description 22
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 20
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 16
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims description 16
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 15
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims description 13
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 11
- 238000010849 ion bombardment Methods 0.000 claims description 7
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 claims description 7
- 230000004913 activation Effects 0.000 claims description 6
- 230000000703 anti-shock Effects 0.000 claims description 6
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011707 mineral Substances 0.000 claims description 4
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- MRNHPUHPBOKKQT-UHFFFAOYSA-N indium;tin;hydrate Chemical compound O.[In].[Sn] MRNHPUHPBOKKQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 3
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 3
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 230000035939 shock Effects 0.000 claims description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims 1
- 230000004992 fission Effects 0.000 claims 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 225
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N argon Substances [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000002987 primer (paints) Substances 0.000 description 13
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 12
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 11
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 10
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 10
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 9
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 9
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 9
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- JKJWYKGYGWOAHT-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) carbonate Chemical compound C=CCOC(=O)OCC=C JKJWYKGYGWOAHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 7
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 7
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 6
- 241000894007 species Species 0.000 description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 6
- JHQVCQDWGSXTFE-UHFFFAOYSA-N 2-(2-prop-2-enoxycarbonyloxyethoxy)ethyl prop-2-enyl carbonate Chemical compound C=CCOC(=O)OCCOCCOC(=O)OCC=C JHQVCQDWGSXTFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 5
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 5
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 5
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 5
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 5
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 5
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 5
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 5
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- XBIUWALDKXACEA-UHFFFAOYSA-N 3-[bis(2,4-dioxopentan-3-yl)alumanyl]pentane-2,4-dione Chemical compound CC(=O)C(C(C)=O)[Al](C(C(C)=O)C(C)=O)C(C(C)=O)C(C)=O XBIUWALDKXACEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 3
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 3
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 3
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 3
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 3
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 3
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 3
- YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N propane-1,3-diol Chemical compound OCCCO YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000446 sulfanediyl group Chemical group *S* 0.000 description 3
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Polymers 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 229910001610 cryolite Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 208000028659 discharge Diseases 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- XPBBUZJBQWWFFJ-UHFFFAOYSA-N fluorosilane Chemical compound [SiH3]F XPBBUZJBQWWFFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- PLDDOISOJJCEMH-UHFFFAOYSA-N neodymium(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Nd+3].[Nd+3] PLDDOISOJJCEMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 2
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 2
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 2
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 2
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 2
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWWXYLGCHHIKNY-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl prop-2-enoate Chemical compound CCOCCOC(=O)C=C FWWXYLGCHHIKNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N Bisphenol A Natural products C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004429 Calibre Substances 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000511976 Hoya Species 0.000 description 1
- 229920004142 LEXAN™ Polymers 0.000 description 1
- 229910021193 La 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004425 Makrolon Substances 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004419 Panlite Substances 0.000 description 1
- ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N Pentane-1,5-diol Chemical compound OCCCCCO ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020177 SiOF Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004433 Thermoplastic polyurethane Substances 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 1
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 1
- SYFOAKAXGNMQAX-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) carbonate;2-(2-hydroxyethoxy)ethanol Chemical compound OCCOCCO.C=CCOC(=O)OCC=C SYFOAKAXGNMQAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 1
- 239000013626 chemical specie Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000010411 cooking Methods 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000000280 densification Methods 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N endo-cyclopentadiene Natural products C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 238000001033 granulometry Methods 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N hexafluoropropylene Chemical group FC(F)=C(F)C(F)(F)F HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000869 ion-assisted deposition Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012764 mineral filler Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MMKQUGHLEMYQSG-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);praseodymium(3+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Pr+3].[Pr+3] MMKQUGHLEMYQSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 229920000548 poly(silane) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 1
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001021 polysulfide Polymers 0.000 description 1
- 239000005077 polysulfide Substances 0.000 description 1
- 150000008117 polysulfides Polymers 0.000 description 1
- 229920006295 polythiol Polymers 0.000 description 1
- 229920002578 polythiourethane polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N praseodymium atom Chemical compound [Pr] PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 230000008707 rearrangement Effects 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L terephthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=C(C([O-])=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000002207 thermal evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000012815 thermoplastic material Substances 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 150000003553 thiiranes Chemical class 0.000 description 1
- 238000004627 transmission electron microscopy Methods 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 1
- 238000001429 visible spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000003313 weakening effect Effects 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C14/021—Cleaning or etching treatments
- C23C14/022—Cleaning or etching treatments by means of bombardment with energetic particles or radiation
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
- G02B1/115—Multilayers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C14/024—Deposition of sublayers, e.g. to promote adhesion of the coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/10—Glass or silica
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/28—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation
- C23C14/30—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation by electron bombardment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
- C23C14/542—Controlling the film thickness or evaporation rate
- C23C14/545—Controlling the film thickness or evaporation rate using measurement on deposited material
- C23C14/546—Controlling the film thickness or evaporation rate using measurement on deposited material using crystal oscillators
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
- G02B1/115—Multilayers
- G02B1/116—Multilayers including electrically conducting layers
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02C—SPECTACLES; SUNGLASSES OR GOGGLES INSOFAR AS THEY HAVE THE SAME FEATURES AS SPECTACLES; CONTACT LENSES
- G02C7/00—Optical parts
- G02C7/02—Lenses; Lens systems ; Methods of designing lenses
- G02C7/022—Ophthalmic lenses having special refractive features achieved by special materials or material structures
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/28—Interference filters
- G02B5/285—Interference filters comprising deposited thin solid films
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02C—SPECTACLES; SUNGLASSES OR GOGGLES INSOFAR AS THEY HAVE THE SAME FEATURES AS SPECTACLES; CONTACT LENSES
- G02C2202/00—Generic optical aspects applicable to one or more of the subgroups of G02C7/00
- G02C2202/16—Laminated or compound lenses
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24942—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including components having same physical characteristic in differing degree
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24942—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including components having same physical characteristic in differing degree
- Y10T428/2495—Thickness [relative or absolute]
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Ophthalmology & Optometry (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Eyeglasses (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Description
(54) Título: ARTIGO DE ÓPTICA COM PROPRIEDADES ANTI-REFLEXO E PROCESO DE FABRICAÇÃO DE UM ARTIGO DE ÓPTICA COM PROPRIEDADES ANTI-REFLEXO (51) Int.CI.: G02B 1/11; G02C 7/02; C23C 14/32; C03C 17/00 (30) Prioridade Unionista: 13/06/2007 FR 0755749 (73) Titular(es): ESSILOR INTERNATIONAL (72) Inventor(es): LUC NOUVELOT; JOHANN ROTTE; KARIN SCHERER; DANIEL VALLET (85) Data do Início da Fase Nacional: 11/12/2009 “ARTIGO DE ÓPTICA COM PROPRIEDADES ANTI-REFLEXO E PROCESSO DE FABRICAÇÃO DE UM ARTIGO DE ÓPTICA COM PROPRIEDADES ANTI-REFLEXO”
A presente invenção se refere a um artigo de óptica que compreende um substrato revestido de um revestimento anti-reflexo que compreende uma subcamada, possuindo notadamente uma resistência à abrasão aumentada, bem como um processo de preparação de tal artigo de óptica.
No domínio da óptica oftálmica, é clássico cobrir uma lente oftálmica de diversos revestimentos a fim de conferir a esta lente diversas propriedades mecânicas e/ou ópticas. Assim, classicamente, forma-se sobre uma lente oftálmica sucessivamente revestimentos tais como revestimentos anti-choques, anti-abrasão e/ou anti-reflexo.
Um revestimento anti-reflexo é definido como um revestimento, depositado na superfície de um artigo de óptica, que melhora as propriedades anti-reflexivas do artigo de óptica final. Ele permite reduzir a reflexão da luz à interface artigo-ar sobre uma porção relativamente ampla do espectro visível.
Os revestimentos anti-reflexo são bem conhecidos e compreendem classicamente um empilhamento em monocamada ou em multicamadas de materiais dielétricos tais como SiO, SiO2, AI2O3, MgF2, LiF, S13N4, TiO2, ZrO2, Nb2O5, Y2O3, HfO2, Sc2O3, Ta2O5, Pr2C>3, ou suas misturas.
Como isso é igualmente bem conhecido, os revestimentos antireflexo são, preferivelmente, revestimentos multicamadas que compreendem altemativamente camadas de elevado índice de refração e camadas de baixo índice de refração.
E conhecido interpor uma subcamada de espessura relativamente elevada entre o substrato e as camadas de elevado índice de refração e de baixo índice de refração do revestimento anti-reflexo com a finalidade de melhorar a resistência à abrasão e/ou aos arranhões do referido revestimento. Esta subcamada pode compreender uma ou várias camadas.
O depósito de camadas da subcamada e do empilhamento antireflexo multicamada é realizado convencionalmente por depósito em fase vapor, eventualmente assistido por feixe iônico. A técnica do depósito sob assistência iônica ou “IAD” (para Ion Assisted Deposition) é descrita notadamente no pedido de patente US 2006/01701 1 e da patente US 5,268,781. Ela não necessita de aquecimento dos substratos, o que é interessante para o revestimento de substratos termossensíveis tais como substratos de vidro ou de plástico.
A evaporação sob assistência iônica consiste em depositar um filme de um material sobre um substrato por evaporação a vácuo bombardeando simultaneamente a superfície do substrato com um feixe de íons emitido por um canhão a íons. O bombardeamento iônico provoca um rearranjo atômico na camada em curso de depósito, o que aumenta sua densidade. Além de uma densificação, o IAD permite melhorar a aderência das camadas depositadas e aumentar seu índice de refração.
O pedido de patente WO 2005/059603, em nome do depositante, descreve um substrato de lente oftálmica revestido de um revestimento anti-reflexo multicamada colorido, depositado sem assistência iônica, e de um revestimento anti-manchas. O revestimento anti-reflexo é composto de uma subcamada de sílica de 100-110 nm de espessura, e uma alternância de camadas de alto índice de refração absorvente no visível a base de óxido de titânio subestequiométrico TiOx (x < 2) e camadas de baixo índice de refração (Bl) a base de SÍO2 dopada 1-5% em massa de AI2O3, em relação à massa total S1O2 + A12O3.
Antes do depósito do revestimento anti-reflexo, a superfície do substrato é submetido a um tratamento destinado a aumentar a adesão da subcamada. Esta preparação de superfície, nomeada IPC (Ion Pre-cleaning), consiste em uma pré-limpeza iônica por bombardeamento do substrato por íons de argônio através de um canhão a íons.
O artigo de óptica obtido de acordo com o ensino do pedido de patente WO 2005/059603 possui propriedades de resistência à abrasão satisfatórias, mas que podem contudo ser melhoradas.
A patente japonesa H05-034502 descreve a preparação de artigos de óptica que compreendem um revestimento anti-reflexo composto de uma subcamada laminada de espessura 0,125 λ - 0,8 λ, com λ = 500 nm e de um empilhamento anti-reflexo que compreende uma camada de alto índice de refração intercalado entre duas camadas de baixo índice de refração.
A subcamada laminada compreende as três camadas seguintes, todas depositadas sem assistência iônica: uma camada de SiO2 de baixa espessura (0,05 λ - 0,15 λ) e índice de refração n = 1,45-1,47, uma camada de Ta2O5 de espessura muito baixa (0,01 λ - 0,10 λ) e de índice de refração n = 22,1, e uma camada de SiO2/Al2O3 de índice de refração n = 1,48-1,52 de espessura elevada (0,75 λ-1,50 λ), estas três camadas depositadas sobre o substrato na ordem na qual foram citadas.
A utilização desta subcamada tricamada de preferência a uma só camada de SiO2/Al2O3 permite melhorar as propriedades de resistência ao calor do artigo de óptica. Esta patente não se interessa pela melhoria da resistência à abrasão.
As patentes EP 1184685 e EP 1184686 (Hoya Corporation) descrevem um elemento de óptica que compreende um substrato plástico revestido de uma subcamada de Nb (nióbio metal) ou de SiO2 e de um empilhamento anti-reflexo. A subcamada (unicamente quando ela for de nióbio), e algumas camadas do empilhamento anti-reflexo podem ser depositadas por evaporação sob assistência de íons argônio. O artigo preparado possui uma boa resistência ao calor e aos arranhões, mas sua resistência à abrasão não foi avaliada.
A presente invenção tem consequentemente por objetivo fornecer um artigo de óptica transparente, notadamente uma lente oftálmica, compreendendo um substrato de vidro mineral ou orgânico e um revestimento anti-reflexo que inclui uma subcamada, que tem a vantagem de possuir ao mesmo tempo propriedades de resistência à abrasão e adesão melhoradas em relação aos artigos de óptica da técnica anterior.
Os artigos de óptica preparados devem conservar excelentes propriedades de transparência, apresentar uma boa resistência a um tratamento mergulhado em um líquido na água quente seguido de uma solicitação mecânica de superfície, e serem isentos de defeitos ópticos.
Outro objetivo da invenção é um processo de preparação de artigos de óptica tais como acima, que sejam capazes de se integrar facilmente no processo clássico de fabricação dos artigos de óptica, e preferivelmente evitar um aquecimento do substrato.
Os presentes inventores encontraram que uma modificação do processo de formação da subcamada do revestimento anti-reflexo permitia atingir todos os objetivos fixados acima.
Os objetivos fixados acima consequentemente são atingidos de acordo com a invenção por um artigo de óptica com propriedades anti-reflexo, compreendendo um substrato que tem pelo menos uma superfície principal revestida de um revestimento anti-reflexo que compreende, partindo do substrato:
- uma subcamada que compreende duas camadas adjacentes, de preferência formadas do mesmo material, a soma das espessuras destas duas camadas adjacentes sendo superior ou igual a 75 nm; e
- um empilhamento anti-reflexo multicamada que compreende pelo menos uma camada de alto índice de refração e pelo menos uma camada de baixo índice de refração, o depósito da primeira das referidas duas camadas adjacentes subcamada realizado sem assistência iônica e o depósito da segunda das referidas duas camadas adjacentes subcamada realizado sob assistência iônica.
A invenção se refere igualmente a um processo de fabricação de tal artigo de óptica com propriedades anti-reflexo, compreendendo pelo menos as etapas seguintes:
- fornecer um artigo de óptica que compreende um substrato que tem pelo menos uma superfície principal;
- depositar sobre uma superfície principal do substrato uma subcamada que tem uma superfície exposta, a referida subcamada que compreende duas camadas adjacentes, de preferência formadas do mesmo material, o depósito da primeira destas duas camadas adjacentes realizado sem assistência iônica, o depósito da segunda destas duas camadas adjacentes realizado sob assistência iônica, e a soma das espessuras destas duas camadas adjacentes superior ou igual a 75 nm;
- depositar sobre a referida superfície exposta da subcamada um empilhamento anti-reflexo multicamada que compreende pelo menos uma camada de alto índice de refração e pelo menos uma camada de baixo índice de refração,
- recuperar um artigo de óptica que compreende um substrato que tem uma superfície principal revestida de um revestimento anti-reflexo que compreende a referida subcamada e o referido empilhamento multicamada.
No presente pedido, quando um artigo de óptica compreende um ou vários revestimentos em sua superfície, a expressão “depositar uma camada ou um revestimento sobre o artigo” significa que uma camada ou um revestimento é depositado sobre a superfície descoberta (exposta) do revestimento externo do artigo, ou seja, seu revestimento mais afastado do substrato.
Um revestimento que está “sobre” um substrato ou que foi depositado “sobre” um substrato é definido como um revestimento que (i) é posicionado acima do substrato, (ii) não está necessariamente em contato com o substrato, ou seja, que um ou vários revestimentos intermédios podem estar dispostos entre o substrato e o revestimento em questão, e (iii) não recobre » 10 necessariamente o substrato completamente.
Quando “uma camada 1 é localizada sob uma camada 2”, compreender-se-á que a camada 2 é mais afastada do substrato do que a camada 1.
Por “empilhamento anti-reflexo multicamada,” entende-se o 15 empilhamento multicamada do revestimento anti-reflexo que é depositado sobre a subcamada do revestimento anti-reflexo. No resto do pedido, será simplesmente denominado “empilhamento multicamada.”
O artigo de óptica preparado de acordo com a invenção compreende um substrato, de preferência transparente, em vidro orgânico ou mineral, tendo faces principais anterior e posterior, uma pelo menos das referidas faces principais comportando um revestimento anti-reflexo que compreende uma sub-camada revestida de um empilhamento multicamada, de preferência as duas faces principais. O empilhamento multicamada está de preferência diretamente em contato com a subcamada.
Por face traseira (geralmente côncava) do substrato, entende-se a face que, durante a utilização do artigo, está mais próxima do olho do usuário. Inversamente, por face anterior (geralmente convexa) do substrato, entende-se a face que, durante a utilização do artigo, está mais afastada do olho do usuário.
Geralmente, a subcamada e o empilhamento multicamada do revestimento anti-reflexo do artigo de óptica de acordo com a invenção podem ser depositados sobre qualquer substrato, e de preferência sobre substratos de vidro orgânico, por exemplo, um material plástico termoplástico ou termoendurecível.
Entre os materiais termoplásticos que convêm para os substratos, pode-se citar os (co)polímeros (met)acrílicos, em particular o poli(metacrilato de metila) (PMMA), (co)polímeros tio(met)acrílicos, polivinilbutiral (PVB), policarbonatos (PCES), poliuretanos (PU), poli (tiouretanos), (co)polímeros de alilcarbonatos polióis, copolímeros termoplásticos etileno/acetato de vinila, poliésteres tais como poli(tereftalato de etileno) (PET) ou o poli (tereftalato de butileno) (PBT), os poliepissulfetos, os poliepóxidos, copolímeros policarbonatos/poliésteres, copolímeros cicloolefmas tais como os copolímeros etileno/norbomeno ou etileno/ciclopentadieno e suas combinações.
Por (co)polímero, entende-se um copolímero ou um polímero.
Por (met) acrilato, entende-se acrilato ou metacriiato.
Entre os substratos preferidos de acordo com a invenção, pode-se citar substratos obtidos por polimerização de (met)acrilatos de alquila, em particular (met)acrilatos de alquila em CiC4, tais como o (met)acrilato de metila e o (met)acrilato de etila, (met)acrilatos aromáticos polietoxilados tais como os di(met)acrilatos de bisfenóis polietoxilados, derivados alílicos tais como os alilcarbonatos polióis alifáticos ou aromáticos, lineares ou ramificados, tio(met)acrilatos, epissulfetos e de misturas precursoras politióis/poliisocianatos (para a obtenção de politiouretanos).
Por policarbonato (PC), entende-se na acepção da presente invenção, tanto os homopolicarbonatos quanto os copolicarbonatos e os copolicarbonatos sequenciados. Os policarbonatos estão disponíveis no comércio, por exemplo, junto às empresas GENERAL ELECTRIC
COMPANY sob a marca LEXAN®, TEIJIN sob a marca PANLITE®, BAYER sob a marca BAYBLEND®, MOBAY CHEMICHAL Corp. sob a marca MAKROLON® e DOW CHEMICAL Co. sob a marca CALIBRE®.
Como exemplos de (co)polímeros de alil carbonatos de polióis, pode-se citar os (co)polímeros de etilenoglicol bis (alil carbonato), dietilenoglicol bis 2-metila carbonato, dietilenoglicol bis (alil carbonato), etilenoglicol bis (2-cloro alil carbonato), trietilenoglicol bis (alil carbonato),
1.3- propanodiol bis (alil carbonato), propilenoglicol bis (2-etil alil carbonato),
1.3- butenodiol bis (alil carbonato), 1,4-butenodiol bis (2-bromo alil carbonato), dipropilenoglicol bis (alil carbonato), trimetilenoglicol bis (2-etil alil carbonato), pentametilenoglicol bis (alil carbonato), isopropileno bisfenol A bis (alil carbonato).
Os substratos particularmente recomendados são os substratos obtidos por (co)polimerização do bis alil carbonato do dietilenoglicol, vendido, por exemplo, sob a denominação comercial CR-39® pela empresa PPG Indústrias (lentes ORMA® ESSILOR).
Entre os substratos igualmente particularmente recomendados, pode citar os substratos obtidos por polimerização dos monômeros tio(met)acrílicos, tais como estes descritos no pedido de patente francesa FR 2734827.
Obviamente, os substratos podem ser obtidos por polimerização de misturas dos monômeros acima, ou podem ainda compreender misturas destes polímeros e (co)polímeros.
Os substratos orgânicos preferidos no quadro da invenção são estes que apresentam um coeficiente de dilatação térmica de 50.10‘6oC' a 180.1 O^C'1 e de preferência de ÍOO.IO^C'1 a 180.10^01
Antes do depósito da subcamada sobre o substrato eventualmente revestido, por exemplo, de uma camada anti-abrasão e/ou antiarranhões, é corrente submeter a superfície do referido substrato, eventualmente revestida, a um tratamento de ativação físico ou químico, destinado a aumentar a adesão da subcamada. Este pré-tratamento é conduzido geralmente a vácuo. Pode tratar-se de um bombardeamento com espécies energéticas, por exemplo, um feixe de íons (“Ion Pre-Cleaning” ou “IPC”) ou um feixe de elétrons, de um tratamento por descarga corona, por descarga luminescente, de um tratamento UV, ou de um tratamento por plasma a vácuo, geralmente um plasma de oxigênio ou de argônio. Pode igualmente tratar-se de um tratamento de superfície ácido ou básico e/ou por solventes (água ou solvente orgânico). Vários destes tratamentos podem ser combinados. Graças a estes tratamentos de limpeza, a limpeza da superfície do substrato é otimizada.
Por espécies energéticas, entende-se notadamente espécies iônicas que têm uma energia que vai de 1 a 300 eV, de preferência de 1 a 150 eV, melhor de 10 a 150 eV, e melhor ainda de 40 a 150 eV. As espécies energéticas podem ser espécies químicas tais como íons, radicais, ou espécies tais como fótons ou elétrons. O pré-tratamento preferido da superfície do substrato é um tratamento por bombardeamento iônico, efetuado através de um canhão a íons, os íons sendo partículas constituídas de átomos de gases das quais se extraiu um ou vários elétron(s). Utiliza-se de preferência como gás ionizado o argônio (íons Ar+), mas igualmente o oxigênio, ou suas misturas, sob uma tensão de aceleração que vai geralmente de 50 a 200 V, uma densidade de corrente geralmente compreendida entre 10 e 100 μΑ/cm2 sobre a superfície ativada, e geralmente sob uma pressão residual no recinto a vácuo que pode variar de 8.105 mbar a 2.10'4 mbar.
De acordo com a presente invenção, subcamada é utilizada em combinação com um empilhamento multicamada que compreende pelo menos uma camada de alto índice de reffação e pelo menos uma camada de baixo índice de refração.
Por subcamada, ou camada de adesão, entende-se um revestimento que é depositado sobre o substrato (nu ou revestido) antes do depósito de empilhamento multicamada da invenção. A subcamada deve ter uma espessura suficiente para promover a resistência à abrasão do revestimento anti-reflexo, mas de preferência não muito grande para não se ter muitas resistência totais e arriscar problemas de aderência.
Levando em conta sua espessura relativamente grande, a subcamada não participa geralmente na função óptica anti-reflexiva, em particular se possuir um índice de reffação próximo do substrato nu, se a subcamada for depositada sobre o substrato nu, ou do revestimento se a subcamada for depositada sobre um substrato revestido.
A subcamada da invenção é uma subcamada multicamada (laminada), de preferência de duas camadas. Neste último caso, ela não contém outras camadas além das duas camadas adjacentes de preferência formadas do mesmo material e cuja soma das espessuras é superior ou igual a 75 nm.
A soma destas espessuras é de preferência superior ou igual a 80 nm, melhor superior ou igual a 100 nm e ainda melhor superior ou igual a 150 nm. A soma das espessuras destas duas camadas adjacentes é geralmente inferior a 250 nm, melhor inferior a 200 nm.
A subcamada do revestimento anti-reflexo da invenção compreende duas camadas adjacentes de preferência de mesma natureza química, mas que apresenta características diferentes obtidas utilizando duas técnicas de depósito diferentes.
Assim, a segunda destas duas camadas adjacentes a ser depositada apresenta uma densidade superior a esta da primeira pelo fato de que foi formada sob assistência iônica enquanto que a primeira destas duas camadas adjacentes a ser depositada não foi formada sob assistência iônica. No que segue, a primeira destas duas camadas adjacentes a ser depositada poderá ser qualificada “de camada inferior” da subcamada, enquanto que a segunda destas duas camadas adjacentes a ser depositada poderá ser qualificada “de camada superior” da subcamada.
Estas duas camadas adjacentes da subcamada de preferência são formadas do mesmo material, o que significa então, no quadro do presente pedido, que foram formadas a partir do mesmo material, por exemplo, por evaporação do mesmo composto (ou da mesma mistura de compostos).
A camada inferior e a camada superior da subcamada são de preferência camadas a base de SiO2. Elas podem compreender, além da sílica, um ou vários outros materiais convencionalmente utilizados para a fabricação de subcamadas, por exemplo, um ou vários materiais escolhidos entre os materiais dielétricos descritos precedente e posteriormente na presente descrição. São de preferência camadas a base de SiO2 isentas de A12O2, e melhor, elas consistem em camadas de SiO2.
A camada inferior e a camada superior da subcamada da presente invenção compreendem de preferência pelo menos 70% em massa de SiO2, melhor pelo menos 80% em massa e melhor ainda pelo menos 90% em massa de SiO2. Como foi dito, em uma realização ótima, elas compreendem cada uma 100% em massa de sílica.
A relação espessura da camada inferior subcamada/espessura da camada superior da subcamada varia de preferência de 9:1 a 1: 9, melhor de 4:6 a 6:4. De acordo com o modo de realização apresentado na parte experimental, esta relação é de 1:1. As espessuras mencionadas no presente pedido são espessuras físicas, salvo indicação contrária.
Quando são formadas do mesmo material, a camada inferior e a camada superior subcamada podem ser distinguidas, notadamente por análise por microscopia eletrônica por transmissão, por análise por feixe de íons (RBS) ou dependendo do caso disso destacada por divulgação de um material colorido, em função de suas porosidades diferentes.
A subcamada de acordo com a invenção comporta pelo menos as duas camadas adjacentes pré-citadas. Ela pode comportar outras camadas, de preferência no máximo três outras camadas, melhor no máximo duas outras camadas, intercaladas entre o substrato eventualmente revestido e as referidas duas camadas adjacentes, em particular se o substrato eventualmente revestido apresenta um índice de refração elevado. Estas camadas adicionais são de preferência camadas finas, cuja função é limitar as reflexões à interface substrato/subcamada (ou revestimento anti-abrasão e/ou antiarranhões/subcamada, de acordo com o caso).
Assim, quando o substrato possui um índice de refração elevado (termo pelo qual se entende um índice de refração superior ou igual a 1,55, de preferência superior ou igual a 1,57) e que a subcamada é depositada diretamente sobre o substrato ou que o substrato é revestido de um revestimento anti-abrasão e/ou anti-arranhões de índice de refração elevado (ou seja, superior ou igual a 1,55, de preferência superior ou igual a 1,57), de preferência à base de epoxissilanos, e que a subcamada é depositada diretamente sobre este revestimento anti-abrasão e/ou anti-arranhões, a subcamada compreende de preferência, além das duas camadas adjacentes de preferência formadas do mesmo material e cuja soma das espessuras é superior ou igual a 75 nm, uma camada de índice de refração elevado e de espessura inferior ou igual a 80 nm, melhor inferior ou igual a 50 nm e melhor ainda inferior ou igual a 30 nm. Esta camada de índice de refração elevado está diretamente em contato com o substrato de índice elevado ou o revestimento anti-abrasão e/ou anti-arranhões de índice elevado. Naturalmente, este modo de realização pode ser utilizado mesmo que o substrato (ou o revestimento anti-abrasão e/ou anti-arranhões) possuía um índice de refração inferior a 1,55
Em alternativa, a subcamada compreende, além das duas camadas adjacentes de preferência formadas do mesmo material e cuja soma das espessuras é superior ou igual a 75 nm e a camada de índice de refração elevada pré-citada, uma camada de material de baixo índice de refração (ou seja, inferior ou igual a 1,55, de preferência inferior ou igual a 1,52, melhor inferior ou igual a 1,50) a base de SiO2, isenta ou não de A12O3, de espessura inferior ou igual a 80 nm, melhor inferior ou igual a 50 nm e melhor ainda inferior ou igual a 30 nm, sobre a qual é depositada a referida camada de índice de refração elevado.
Tipicamente, neste caso, a subcamada compreende, depositados nesta ordem a partir do substrato, uma camada de 25 nm de SiO2, uma camada de 10 nm de ZrO2, a camada dita “inferior” da subcamada e a camada dita “superior” da subcamada.
As diferentes camadas da subcamada são depositadas de preferência por evaporação a vácuo.
A operação de IAD que sofre a camada superior da subcamada pode ser efetuada através de um canhão a íons, os íons sendo partículas constituídas de átomos de gases das quais se extraiu um ou vários elétron(s). Ela consiste de preferência em um bombardeamento da superfície a tratar pelos íons oxigênio, de uma densidade de corrente geralmente compreendida entre 10 e 200 μΑ/cm , de preferência entre 30 e 100 μΑ/cm sobre a superfície ativada e geralmente sob uma pressão residual no recinto a vácuo que pode variar de 6.10'5 mbar a 2.IO’4 mbar, de preferência de 8.10'5 mbar a 2.10'4 mbar. Outros gases ionizados podem ser empregados em combinação ou não com o oxigênio, como por exemplo, o argônio, o nitrogênio, notadamente uma mistura de O2 e de argônio em uma relação 2:1 a 1:2.
Recomenda-se que a camada inferior da subcamada não seja depositada sob assistência iônica. Caso contrário, isto volta a depositar uma subcamada que compreende somente uma camada de espessura superior ou igual a 75 nm e de densidade elevada, o que acarreta uma diminuição da adesão de certas camadas do revestimento anti-reflexo.
Sem querer ser limitados por qualquer teoria, os inventores pensam que o depósito de uma subcamada de espessura superior ou igual a 75 nm sob assistência iônica conduz a uma subcamada mais densa, o que pode conduzir a uma colocação sob pressão (compressão) muito forte do revestimento anti-reflexo e consequentemente a uma diminuição de suas propriedades de adesão. O fato de realizar o depósito da subcamada de acordo com o processo da invenção permite aumentar a resistência à abrasão do artigo final limitando ao mesmo tempo o aumento da pressão em compressão de forma a evitar um enfraquecimento da estrutura do revestimento antireflexo.
A subcamada da invenção tem uma espessura total superior ou igual a 75 nm, de preferência superior ou igual a 80 nm, melhor superior ou igual a 100 nm e ainda melhor superior ou igual a 150 nm. Sua espessura é geralmente inferior a 250 nm, melhor inferior a 200 nm.
O empilhamento multicamada do revestimento anti-reflexo é de preferência depositado diretamente sobre a superfície exposta da subcamada, ou seja, diretamente sobre a superfície exposta da camada superior subcamada.
De maneira opcional, a superfície exposta da subcamada pode ser submetida, antes do depósito da primeira camada do empilhamento multicamada, a um tratamento de ativação física ou química que pode ser escolhida entre os pré-tratamentos as quais o substrato pode ser submetido antes do depósito da subcamada e que já foram apresentados acima. O prétratamento preferido é um bombardeamento iônico. Habitualmente conduzido a vácuo, utilizando, por exemplo, um feixe de íons argônio gerado através de um canhão a íons, permite geralmente, por um lado, melhorar as propriedades de resistência à abrasão do revestimento anti-reflexo, e por outro lado, aumentar suas propriedades de adesão, em particular a adesão do empilhamento multicamada na subcamada.
Tais tratamentos de ativação física ou química podem igualmente ser realizados sobre a superfície de uma ou várias camadas do empilhamento multicamada, em particular sobre a superfície anterior da última camada deste empilhamento.
No presente pedido, uma camada do empilhamento multicamada do revestimento anti-reflexo (AR) é dita camada de alto índice de refração (HI) quando seu índice de refração é superior a 1,55, de preferência superior ou igual a 1,6, preferivelmente ainda superior ou igual a 1,7, melhor superior ou igual a 1,8 e ainda melhor superior ou igual a 1,9. Uma camada de empilhamento multicamada do revestimento anti-reflexo é dita camada de baixo índice de refração (BI) quando seu índice de refração é inferior ou igual a 1,55, de preferência inferior ou igual a 1,52, melhor inferior ou igual a 1,50.
Salvo indicação contrária, os índices de refração aos quais é feito referência no presente pedido são expressos a 25°C para um comprimento de onda de 550 nm.
As camadas HI são camadas de alto índice de refração clássicos, bem conhecidas na técnica. Elas compreendem geralmente um ou vários óxidos minerais tais como, sem limitação, o zircônio (ZrO2), o óxido de titânio (TiO2), o pentóxido de tântalo (Ta2Os), o óxido de neodímio (Nd2O5), o óxido praseodímio (Pr2O3), titanato de praseodímio (PrTiO3), La2O3, Dy2O5, Nb2O5, Y2O3. Eventualmente, as camadas de alto índice podem conter igualmente sílica ou alumina, desde que seu índice de refração seja superior a 1,55, de preferência superior ou igual a 1,6, melhor superior ou igual a 1,7 e ainda melhor superior ou igual a 1,9. Os materiais preferidos são TiO2, PrTiO3, ZrO2 e as suas misturas.
De acordo com um modo de realização particular da invenção, pelo menos uma camada HI do empilhamento multicamada é uma camada a base de TiO2, cujo índice de refração elevado é particularmente interessante.
Ela é, de preferência, depositada sob assistência iônica (IAD), o que aumenta a compressão desta camada e por isso seu índice de refração.
De acordo com um outro modo de realização particular da invenção, pelo menos uma camada HI do empilhamento multicamada é uma camada a base de PrTiO3, cuja resistência térmica elevada é particularmente interessante.
As camadas BI são igualmente bem conhecidas e podem compreender, sem limitação, SiO2, MgF2, ZrF4, a alumina (A12O3), A1F3, criolita (Na3Al3Fi4j), criolita (Na3[AlF6j), e suas misturas, de preferência SiO2 ou SiO2 dopado com a alumina, o qual contribui para aumentar a resistência térmica do revestimento anti-reflexo. Pode-se igualmente utilizar camadas SiOF (SiO2 dopado ao flúor). Obviamente, as misturas destes compostos com opcionalmente um ou vários outros materiais escolhidos entre os materiais dielétricos descritos precedentemente na presente descrição são tais que o índice de refração da camada resultante é tal como definido acima (< 1,55).
Quando uma camada BI que compreende uma mistura de SiO2 e de A12O3 é utilizada, ela compreende de preferência de 1 a 10%, melhor de 1 a 8% e ainda melhor de 1 a 5% em massa de A12O3 em relação à massa total de SiO2 + A12O3 nesta camada. Uma proporção demasiado grande de alumina pode ser desfavorável para a adesão do revestimento AR.
Por exemplo, SiO2 dopado com 4% ou menos de A12O3 em massa, ou SiO2 dopado com 8% de A12O3 pode ser empregado. Misturas SiO2/Al2O3 disponíveis no comércio podem ser utilizadas, tais como o LIMA® comercializado por Umicore Materials AG (índice de refração n = 1,48-1,50 a 550 nm), ou a substância L5® comercializada por Merck KGaA (índice de refração n = 1,48 a 500 nm).
De acordo com um modo de realização preferencial, pelo menos uma camada BI de empilhamento multicamada compreende uma mistura de SiO2 e de A12O3, de preferência consiste em uma mistura de SiO2 e de AI2O3. De acordo com um outro modo de realização preferencial, todas as camadas BI de empilhamento multicamada compreendem uma mistura de S1O2 e de A12O3, de preferência consistem em uma mistura de SiO2 e de A12O3. Neste último caso, é particularmente preferível que a camada superior e a camada inferior subcamada sejam camadas a base de SÍO2 isentas de AI2O3.
Geralmente, as camadas HI têm uma espessura física que varia de 10 a 120 nm, e as camadas BI têm uma espessura física que varia de 10 a 100 nm.
De preferência, a espessura total do revestimento anti-reflexo é inferior a 1 micrômetro, melhor inferior ou igual a 800 nm e melhor ainda inferior ou igual a 500 nm. A espessura total do revestimento anti-reflexo é geralmente superior a 100 nm, de preferência superior a 150 nm.
Preferivelmente ainda, o empilhamento multicamada compreende pelo menos duas camadas de baixo índice de refração (Bl) e pelo menos duas camadas de alto índice de refração (Hl). De preferência, o número total de camadas de empilhamento multicamada é inferior ou igual a 8, melhor inferior ou igual a 6.
Não é necessário que as camadas Hl e BI sejam alternadas no empilhamento, embora elas possam ser de acordo com um modo de realização da invenção. Duas camadas Hl (ou mais) podem ser depositadas uma sobre a outra, da mesma maneira que duas camadas BI (ou mais) podem ser depositadas uma sobre a outra. Assim, é interessante em termos de resistência à abrasão empilhar uma sobre a outra, por exemplo, uma camada Hl de ZrO2 e uma camada Hl de TiO2 melhor utilizar uma camada de TiO2 no lugar destas duas camadas Hl adjacentes.
Preferivelmente, a subcamada é adjacente a uma camada de alto índice de refração (Hl) do empilhamento multicamada.
De acordo com outra preferência, a camada externa do empilhamento multicamada, ou seja, sua camada mais afastada do substrato, é uma camada que compreende uma mistura de óxido silício e de óxido de alumínio, em proporções preferenciais tais como estas descritas precedentemente.
As diferentes camadas do empilhamento multicamada, ditas “camadas ópticas”, são depositadas de preferência por depósito a vácuo de acordo com uma das técnicas seguintes: i) por evaporação, eventualmente assistida por feixe iônico; ii) por pulverização por feixe de íon; iii) por pulverização catódica; iv) por depósito químico em fase vapor assistido por plasma. Estas diferentes técnicas são descritas nas obras “Thin Film Processes” and “Thin Film Processes II”, Vossen & Kem, Ed., Academic Press, 1978 e 1991 respectivamente. Uma técnica particularmente recomendada é a técnica de evaporação a vácuo.
Preferivelmente, o depósito de cada uma das camadas do revestimento anti-reflexo é realizado por evaporação a vácuo. Tal processo apresenta a vantagem de evitar aquecer o substrato, o que é particularmente interessante no caso dos vidros orgânicos.
E possível realizar uma etapa de tratamento com espécies energéticas tais como definidas precedentemente, de maneira concomitante ao depósito de uma ou várias das diferentes camadas de empilhamento multicamada. Em particular, o recurso a uma assistência iônica, de preferência por íons oxigênio, permite compactar as referidas camadas durante o momento m que são formadas.
De maneira opcional, o depósito de uma ou várias camadas do empilhamento multicamada e/ou da subcamada é efetuado em um recinto a vácuo com aumento de gases durante a etapa de depósito. Concretamente, um gás tal como, sem limitação, o argônio, oxigênio ou suas misturas, é introduzido no recinto de depósito a vácuo durante o depósito de uma camada.
Esta modificação do processo de depósito desta camada permite geralmente limitar a pressão no revestimento anti-reflexo e reforçar a adesão das camadas que o compõe. Quando esta técnica de depósito, nomeada depósito sob regulação de pressão de gases, é empregada, prefere-se empregar uma atmosfera de oxigênio (oxigênio dito “passivo”).
E conhecido que os artigos de óptica têm tendência a se carregar em eletricidade estática, particularmente quando são limpos em condições secas por fricção de sua superfície através de um pano, um pedaço de espuma sintética ou poliéster. Eles são então capazes de atrair e fixar as pequenas partículas que se encontram na proximidade tais como as poeiras, e isto durante todo o tempo onde a carga permanece sobre o artigo. E bem conhecido no estado da técnica que um artigo pode adquirir propriedades antiestáticas graças à presença em sua superfície de uma camada eletricamente condutora. Esta técnica foi aplicada no pedido internacional WO 01/55752 e na patente EP 0834092. Esta camada permite uma dissipação rápida da carga.
“Por antiestático”, entende-se a propriedade de não reter e/ou desenvolver uma carga eletrostática apreciável. Um artigo é considerado geralmente como tendo propriedades antiestáticas aceitáveis, quando não atrai e não fixa a poeira e as pequenas partículas após uma de suas superfícies ter sido friccionada através de um pano apropriado.
Existem diferentes técnicas para quantificar as propriedades antiestáticas de um material.
Uma destas técnicas consiste em levar em conta o potencial estático do material. Quando o potencial estático do material (medido enquanto que o artigo não foi carregado) é de 0 KV + 0,1 KV (em valor absoluto), o material é antiestático, em contrapartida quando seu potencial estático é diferente de 0 KV + 0,1 KV (em valor absoluto), o material é dito estático.
De acordo com outra técnica, a capacidade de um vidro de evacuar uma carga estática obtida após fricção por um tecido ou qualquer outro processo de geração de uma carga eletrostática (carga aplicada por corona...) pode ser quantificada por uma medida do tempo de dissipação da referida carga. Assim, os vidros antiestáticos possuem um tempo de descarga da ordem de algumas centenas de milissegundos, de preferência 200 ms ou menos, enquanto que é da ordem de várias dezenas de segundos para um vidro estático.
O artigo da invenção pode ser tomado antiestático graças a incorporação de pelo menos uma camada eletricamente condutora no empilhamento multicamada. A camada eletricamente condutora pode ser localizada em diferentes lugares do revestimento anti-reflexo, desde que suas propriedades anti-reflexivas não sejam perturbadas. Ela pode, por exemplo, ser depositada sobre a subcamada da invenção e constituir a primeira camada do empilhamento multicamada. Ela está, de preferência, localizada entre duas camadas dielétricas do empilhamento multicamada, e/ou sob uma camada de baixo índice de refração do empilhamento multicamada.
A camada eletricamente condutora deve ser suficientemente fina para não alterar a transparência do revestimento anti-reflexo. Geralmente, sua espessura varia de 0,1 a 150 nm, melhor de 0,1 a 50 nm, de acordo com sua natureza. Uma espessura inferior a 0,1 nm não permite geralmente obter uma condutividade elétrica suficiente, enquanto que uma espessura superior a 150 nm não permite geralmente obter as características de transparência e de baixa absorção requeridas.
A camada eletricamente condutora é de preferência fabricada a partir de um material eletricamente condutor e altamente transparente. Neste caso, sua espessura varia preferivelmente de 0,1 a 30 nm, melhor de 1 a 20 nm e ainda melhor de 1 a 15 nm. A camada eletricamente condutora compreende de preferência um óxido metálico escolhido entre os óxidos de índio, estanho, zinco e suas misturas. O óxido de estanho-índio (ln2O3: Sn, óxido de índio dopado ao estanho) e o óxido de estanho (In2O3) são preferidos. De acordo com um modo de realização ótimo, a camada eletricamente condutora e oticamente transparente é uma camada de óxido de estanho-índio, referenciada camada de ITO.
Geralmente, a camada eletricamente condutora contribui para a obtenção de propriedades anti-reflexivas e constitui uma camada de alto índice de refração no revestimento anti-reflexo. Ε o caso de camadas fabricadas a partir de um material eletricamente condutor e altamente transparente tais como as camadas de ITO.
A camada eletricamente condutora pode igualmente ser uma camada de um metal nobre (Ag, Au Pt etc.) de espessura bastante fina, tipicamente com menos de 1 nm de espessura, melhor menos de 0,5 nm.
De maneira particularmente vantajosa, o empilhamento multicamada do revestimento anti-reflexo compreende pelo menos quatro camadas dielétricas, de preferência quatro ou cinco, e eventualmente uma camada eletricamente condutora que confere propriedades antiestáticas ao artigo.
De acordo com um modo de realização preferido, o revestimento anti-reflexo da invenção compreende, na ordem de depósito sobre a superfície do substrato, uma subcamada de duas camadas de SiO2 de espessura superior ou igual a 75 nm de acordo com a invenção, uma camada de ZrO2, geralmente de 10 a 40 nm de espessura e de preferência de 15 a 35 nm, uma camada de SiO2 ou SiO2/Al2O3, de preferência SiO2/Al2O3, geralmente de 10 a 40 nm de espessura e de preferência de 15 a 35 nm, uma camada de TiO2, geralmente de 40 a 150 nm de espessura, de preferência de 50 a 120 nm, uma camada de ZrO2, geralmente de 8 a 30 nm de espessura e de preferência de 10 a 25 nm, eventualmente uma camada eletricamente condutora, de preferência uma camada de ITO, geralmente de 0,1 a 30 nm de espessura, de preferência de 1 a 20 nm, e uma camada de SiO2 ou SiO2/Al2O3, de preferência SiO2/Al2O3, geralmente de 40 a 150 nm de espessura, de preferência de 50 a 100 nm.
E preferível que empilhamento multicamada da invenção compreenda uma camada eletricamente condutora, e melhor, que o artigo da invenção compreenda um empilhamento TiO2/ZrO2/camada eletricamente condutora, a primeira camada citada estando mais próxima do substrato.
De acordo com um modo de realização particularmente preferido, são depositadas sucessivamente, desde a superfície do substrato eventualmente revestido de um ou vários revestimentos funcionais, uma subcamada de acordo com a invenção de SiO2 de espessura superior ou igual a 120 nm que consiste em duas camadas adjacentes formadas de preferência do mesmo material, uma camada de ZrO2 de 20 a 30 nm de espessura, uma camada de SiO2/Al2O3 de 20 a 30 nm de espessura, uma camada de TiO2 de 75 a 110 nm de espessura, uma camada de ZrO2 de 10 a 20 nm de espessura, uma camada de ITO de 2 a 18 nm de espessura, e uma camada de SiO2/Al2O3 de 60 a 90 nm de espessura.
A camada eletricamente condutora, que é geralmente uma camada de alto índice de refração empilhamento anti-reflexo, pode ser depositada de acordo com qualquer técnica apropriada, por exemplo, por depósito a vácuo por evaporação, de preferência assistida por feixe iônico (IAD), ou ainda por uma técnica de pulverização catódica ou por feixe de íon.
Quando estão presentes, as três camadas sucessivas TiO2/ZrO2/camada eletricamente condutora (preferivelmente ITO) são todas, de preferência, depositadas sob assistência iônica (IAD), preferivelmente sob assistência de íons oxigênio.
A subcamada e o empilhamento multicamada podem ser depositados diretamente sobre um substrato nu. Em certas aplicações, é preferível que a superfície principal do substrato seja revestida de um ou vários revestimentos funcionais previamente ao depósito do revestimento anti-reflexo da invenção. Estes revestimentos funcionais classicamente utilizados em óptica podem ser, sem limitação, uma camada de primário antichoque, um revestimento anti-abrasão e/ou anti-arranhões, um revestimento polarizado, um revestimento fotocromático, um revestimento antiestático ou um revestimento colorido.
A subcamada e o empilhamento multicamada são de preferência depositados sobre um revestimento anti-abrasão e/ou antiarranhões. O revestimento anti-abrasão e/ou anti-arranhões pode ser qualquer camada classicamente utilizada como revestimento anti-abrasão e/ou antiarranhões no domínio das lentes oftálmicas.
Os revestimentos que se opõem à abrasão e/ou arranhões são de preferência revestimento duros a base de poli(met)acrilatos ou silanos que compreendem geralmente uma ou várias cargas minerais destinadas a aumentar a dureza e/ou o índice de refração do revestimento uma vez endurecido
Os revestimentos duros anti-abrasão e/ou anti-arranhões são de preferência elaborados a partir de composições que compreendem pelo menos um alcoxissilano e/ou um hidrolisado deste último, obtido, por exemplo, por hidrólise com uma solução de ácido clorídrico. Após a etapa de hidrólise, cuja duração é compreendida geralmente entre lhe 24h, de preferência entre 2h e
6h, catalisadores de condensação e/ou de endurecimento podem opcionalmente serem acrescentados. Um composto tensoativo é de preferência igualmente acrescentado a fim de favorecer a qualidade óptica do depósito.
Entre os revestimentos recomendados na presente invenção, pode-se citar os revestimentos a base de hidrolisados de epoxissilanos tais como os descritos nas patentes FR 2702486 (EP 0614957), US 4,21 1, 823 e US 5,015,523.
Numerosos exemplos de catalisadores de condensação e/ou de endurecimento utilizáveis são dados nas obras “Chemistry and Technology of the Epoxi Resins”, B. Ellis (Ed.) Chapman Hall, New York, 1993 e “Epoxy Resins Chemistry and Technology” 2a edição, C. A. May (Ed.), Marcei Dekker, New York, 1988.
Uma composição para revestimento anti-abrasão e/ou antiarranhões preferida é esta divulgada na patente FR 2702486, em nome do depositante. Ela compreende um hidrolisado de epóxi trialcoxissilano e diaquil dialcoxissilano, a sílica coloidal e uma quantidade catalítica de catalisador de endurecimento a base de alumínio tal como o acetilacetonato de alumínio, o resto sendo constituído essencialmente por solventes classicamente utilizados para a formulação de tais composições. De preferência, o hidrolisado utilizado é um hidrolisado de γglicidoxipropiltrimetoxissilano (GLYMO) e de dimetildietoxissilano (DMDES).
A composição de revestimento anti-abrasão e/ou antiarranhões pode ser depositada sobre a superfície principal do substrato por têmpera ou centrifugação. Ela é, em seguida, endurecida pela via apropriada (de preferência térmica, ou UV).
A espessura do revestimento anti-abrasão e/ou anti-arranhões varia geralmente de 2 a 10 pm, de preferência de 3 a 5 pm.
Precedentemente ao depósito do revestimento anti-abrasão e/ou anti-arranhões, é possível depositar sobre o substrato um revestimento de primário que melhora a resistência aos choques e/ou a adesão das camadas posteriores no produto final.
Este revestimento pode ser qualquer camada de primário antichoque classicamente utilizada para os artigos de material polímero transparente, tais como lentes oftálmicas.
Entre as composições de primário preferidas, pode-se citar as composições a base de poliuretanos termoplásticos, tais como estas descritas nas patentes japonesas JP 63-141001 e JP 63-87223, as composições de primário poli(met)acrílicas, tais como estas descritas na patente US 5,015,523, as composições a base de poliuretanos termoendurecíveis, tais como estas descrita na patente EP 0404111 e as composições a base de látex poli(met) acrílicos ou látices de tipo poliuretano, tais como estas descrita nas patentes US 5,316,791 e EP 0680492.
As composições de primário preferidas são as composições a base de poliuretanos e as composições a base de látex, em particular os látices de poliuretano.
Os látices poli(met)acrílicos são látices de copolímeros constituídos principalmente por um (met)acrilato, tal como por exemplo, o (met)acrilato de etila, butila, metoxietila ou etoxietila, com uma proporção geralmente menor de pelo menos um outro co-monômero, tal como por exemplo do estireno.
Os látices poli(met)acrílicos preferidos são os látices de copolímeros acrilato-estireno. Tais látices de copolímeros acrilato-estireno estão comercialmente disponíveis junto à empresa ZENECA RESINS sob a denominação NEOCRYL®.
Os látices de poliuretano são conhecidos igualmente e disponíveis no comércio. A título de exemplo, podem-se citar os látices de poliuretano que contêm motivos poliésteres. Tais látices são comercializados igualmente pela empresa ZENECA RESINS sob a denominação NEOREZ® e pela empresa BAXENDEN CHEMICALS sob a denominação WITCOBOND®.
Entre as composições de primário comerciais que convêm à invenção, podem-se citar as composições Witcobond® 232, Witcobond® 234, Witcobond® 240, Witcobond® 242, Neorez® R 962, Neorez® R-972, Neorez® R-986 e Neorez® R-9603.
Pode-se igualmente utilizar nas composições de primário misturas destes látices, em particular de látex de poliuretano e látex poli(met)acrílico.
Estas composições de revestimento primário podem ser depositadas sobre as faces do artigo através d3 têmpera ou centrifugação e depois secas a uma temperatura pelo menos de 70°C e podendo ir até a 100°C, de preferência da ordem de 90°C, durante uma duração de 2 minutos a 2 horas, em geral aproximadamente 15 minutos, para formar camadas de primário que têm espessuras, após cocção, de 0,2 a 2,5 pm, de preferência de 0,5 a 1,5 pm.
O artigo de óptica de acordo com a invenção pode igualmente comportar revestimentos formados sobre o revestimento anti-reflexo e capaz de modificar suas propriedades de superfície, tais como revestimentos hidrófobos e/ou oleófobos (top coat anti-manchas). Estes revestimentos são de preferência depositados sobre a camada externa do revestimento anti-reflexo. Sua espessura é em geral inferior ou igual a 10 nm, de preferência de 1 a 10 nm, melhor de 1 a 5 nm.
Trata-se geralmente de revestimentos de tipo fluorossilano ou de fluorossilazano. Eles podem ser obtidos por depósito de um fluorossilano ou fluorossilazano precursor, compreendendo de preferência pelo menos dois grupos hidrolisáveis por molécula. Os fluorossilanos precursores contêm melhor de preferência grupamentos fluoropoliéteres e grupamentos perfluoropoliéteres. Estes fluorossilanos são bem conhecidos e são descritos, entre outros, nas patentes US 5.081.192, US 5.763.061, US 6.183.872, US 5.739.639, US 5.922.787, US 6.337.235, US 6.277.485 e EP 0933377.
Uma composição de revestimento hidrófobo e/ou oleófobo preferida é comercializada por Shin-Etsu Chemical sob a denominação KP 801 M . Uma outra composição de revestimento hidrófobo e/ou oleófobo preferida é comercializados por Daikin Industries sob a denominação OPTOOL DSX®. Trata-se de uma resina fluorada que compreende grupos perfluoropropileno.
Tipicamente, um artigo de óptica de acordo com a invenção compreende um substrato sucessivamente revestido de uma camada de primário anti-choque, de uma camada anti-abrasão e/ou anti-arranhões, de uma subcamada de acordo com a invenção, de um empilhamento anti-reflexo multicamada e de um revestimento hidrófobo e/ou oleófobo. O artigo de acordo com a invenção é de preferência uma lente óptica, melhor uma lente oftálmica para óculos, ou um esboço de lente óptica ou oftálmica. A lente pode ser uma lente polarizada ou uma lente fotocrômica.
Graças a sua subcamada obtida em conformidade com o processo da invenção, o artigo de óptica de acordo com a invenção possui propriedades de resistência à abrasão aumentadas em relação ao mesmo artigo cuja subcamada foi depositada de maneira clássica. Estas propriedades antiabrasão podem ser avaliadas através do teste BAYER ASTM, descrito na parte experimental.
Os artigos de óptica de acordo com a invenção apresentam de preferência um valor BAYER ASTM superior ou igual a 4,5 de acordo com a norma ASTM F 735.81, melhor superior ou igual e ainda melhor o superior ou igual a 5,2.
As diferentes camadas do revestimento anti-reflexo apresentam boas propriedades de adesão, em particular à interface com o substrato. As propriedades de adesão do conjunto do revestimento anti-reflexo ao substrato foram verificadas através do teste normalmente denominado “nxlO golpes”, seguindo o procedimento descrito no pedido internacional WO
99/49097.
O artigo de óptica de acordo com a invenção possui uma resistência térmica elevada, medida pela sua temperatura crítica, definida como sendo esta a partir da qual se observa o aparecimento de quebradiços no revestimento anti-reflexo. A temperatura crítica de um artigo de acordo com a invenção é de preferência superior ou igual a 80°C, melhor superior ou igual a 85°C e melhor ainda superior ou igual a 90°C.
O artigo de óptica de acordo com a invenção não absorve no visível ou absorve pouco no visível, o que significa, na acepção do presente pedido, que seu fator de transmissão no visível τν, ainda nomeado fator relativo de transmissão no visível, é superior a 90%, melhor superior a 95%, melhor ainda superior a 96% e de maneira ótima superior a 97%.
O fator τν responde a uma definição internacional normalizada (norma ISO 13666:1998) e é medido em conformidade com a norma ISO 8980-3. Ele é definido na gama de comprimento de onda que vai de 380 a 780 nm.
Preferivelmente, a absorção luminosa do artigo revestido de acordo com a invenção é inferior ou igual a 1%. Ainda preferivelmente, o fator médio de reflexão no domínio visível (400-700 nm) de um artigo revestido de um revestimento anti-reflexo de acordo com a invenção, notado Rm, é inferior a 2,5% por face, melhor inferior a 2% por face e ainda melhor inferior a 1% por face do artigo. Em um modo de realização ótimo, o artigo compreende um substrato cujas duas superfícies principais são revestidas de um revestimento anti-reflexo de acordo com a invenção e apresenta um valor de Rm total (acumulação de reflexão devida às duas faces) inferior a 1%, de preferência compreendida entre 0,7 e 0,8%. Os meios para chegar a tais valores de Rm são bem conhecidos do especialista.
No presente pedido, “o fator médio de reflexão” como é definido na norma ISO 13666:1998, e medido em conformidade com a norma ISO 8980-4, ou seja que se trata da média da reflexão espectral sobre o conjunto do espectro visível entre 400 e 700 nm.
Os exemplos seguintes ilustram a invenção de maneira mais detalhada, mas não limitativa.
EXEMPLOS
1. Procedimentos gerais
Os artigos de óptica empregados nos exemplos compreendem um substrato de lente ORMA® ESSILOR de 65 mm de diâmetro, potência 2,00 dioptrias e espessura 1,2 mm, revestidos (exceto exemplo C2) de um revestimento de primário anti-choque a base de um látex poliuretano que contém motivos poliéster, endurecidos a 90°C durante 1 hora (Witcobond® 234 de BAXENDEN CHEMICALS modificado por diluição a fim de diminuir sua viscosidade, depósito centrífugo a 1500 rpm durante 10 a 15 segundos) e depois do revestimento anti-abrasão e anti-arranhões (hard coat) divulgados no exemplo 3 da patente EP 0614957 (de índice de refração igual a 1,50), a base de um hidrolisado de GLIMO e de DMDES, de sílica coloidal e de acetilacetonato de alumínio, de um revestimento anti-reflexo e por fim de um revestimento anti-manchas.
O referido revestimento anti-abrasão e anti-arranhões foi obtido por depósito e endurecimento de uma composição que compreende em massa, 224 partes de GLIMO, 80,5 partes de HCI 0,1 N, 120 partes de DMDES, 718 partes de sílica coloidal a 30% mássico no metanol, 15 partes de acetilacetonato de alumínio e 44 partes de etilcelossolve. A composição comporta igualmente 0,1% de tensoativo FLUORAD™ FC-430® de 3M em massa em relação à massa total da composição.
As camadas da subcamada e do empilhamento multicamada do revestimento anti-reflexo foram depositadas sem aquecimento dos substratos por evaporação a vácuo, eventualmente, quando necessário, assistido por feixe iônico e/ou com aumento de oxigênio durante o depósito (fonte de evaporação: canhão a elétrons).
A mistura SiO2/Al2O3 utilizada nos exemplos é a substância L5 comercializada por Merck KGaA. As camadas antiestáticas são formadas de óxido de estanho-índio (ITO) fornecido por Optron Inc.
O revestimento anti-manchas foi obtido por evaporação a vácuo do composto OF110 fornecido pela empresa Optron Inc. (espessura: 25 nm)
A estrutura de depósito é uma máquina Leybold 1104 equipado de um canhão a elétrons ESV14 (8kV) para a evaporação dos óxidos, de um cadinho com efeito Joule para o depósito do top coat e um canhão a íons tipo End-Hall (KRI para os exemplos 1, 2 e Cl, Commonwealth Mark II para o exemplo C2) para a fase preliminar de preparação da superfície do substrato por íons argônio (IPC) e eventualmente esta da subcamada (apenas exemplo Cl), bem como para os depósitos de camadas sob assistência iônica.
A espessura das camadas é controlada através de uma microbalança a quartzo.
2. Modos operacionais
O processo de preparação dos artigos de óptica compreende a introdução do substrato revestido de um revestimento de primário (exceto exemplo C2) e de um revestimento anti-abrasão em um recinto de depósito a vácuo, uma etapa de bombeamento até a obtenção de um vazio secundário, uma etapa de ativação da superfície do substrato por um feixe de íons argônio (IPC: 2 minutos, 18 cm /min, 3 A para os exemplos 1, 2 e Cl; 2 minutos, 13 sccm, 2,5 A para o exemplo C2), a parada da irradiação iônica, a evaporação sucessiva do número requerido de camadas do revestimento anti-reflexo, uma etapa de depósito do revestimento anti-manchas (top coat) e por fim uma etapa de ventilação.
Formação do revestimento anti-reflexo de acordo com o processo da invenção (exemplos 1 e 2)
A formação do revestimento anti-reflexo da invenção compreende:
- o depósito de uma subcamada bicamada em SiO2 que compreende: i) o depósito sobre o substrato revestido de uma primeira camada de SiO2 com uma velocidade de 1 nm/s (sem assistência iônica) até a obtenção de uma espessura de 75 nm (controle por microbalança a quartzo). O obturador do canhão a elétrons é fechado e a evaporação parada; ii) o depósito sobre esta primeira camada de uma segunda camada de SiO2 com uma velocidade de 1 nm/s sob assistência de íons oxigênio (correspondendo a 15 cm /min - 2 A). O depósito desta segunda camada é realizado detonando o canhão a íons, de preferência com a vazão de oxigênio escolhido. Uma vez o feixe de íons criado e estabilizado, os granulados de sílica são novamente préaquecidos com o canhão a elétrons, e o obturador do canhão a elétrons é aberto para depositar uma espessura de sílica de 75 nm, com bombardeamento iônico simultâneo. O obturador do canhão a elétrons é fechado, e a evaporação e o bombardeamento iônico são parados.
- o depósito de um empilhamento anti-reflexo multicamada que compreende o depósito da Ia camada HI (ZrO2) com uma velocidade de 0,3 nm/s, o depósito da Ia camada BI (SiO2/Al2O3) com uma velocidade de 0,7 nm/s, o depósito do 2a camada HI (TiO2, a partir de granulados préfundidos) com uma velocidade de 0,3-0,5 nm/s e uma assistência de íons φ o oxigênio (que correspondem a 15 cm/min - 2 A para o exemplo 1 e 18 cm /min - 3 A para o exemplo 2), o depósito da 3a camada HI (ZrO2) com uma velocidade de 0,30 nm/s e uma assistência de íons oxigênio (que β
correspondem a 15 cm /min - 2 A), o depósito de uma camada de ITO com uma velocidade de 0,2-0,5 nm/s e uma assistência de íons oxigênio (que correspondem a 15 cm3/min - 2 A), e por fim o depósito da 2a camada BI (S1O2/AI2O3) com uma velocidade de 1 nm/s.
Formação do revestimento anti-reflexo nos exemplos comparativos Cl e C2
A formação do revestimento anti-reflexo compreende uma etapa de depósito sobre o substrato revestido da subcamada em SiO2 com uma velocidade de 1 nm/s, sob atmosfera O2 a uma pressão de 1,5.10’4 mbar (apenas exemplo Cl), opcionalmente uma etapa de ativação da superfície da subcamada através de um feixe de íons argônio (tratamento idêntico a este do IPC já operado diretamente sobre o substrato, unicamente exemplo Cl), a parada da irradiação iônica, o depósito da Ia camada HI (ZrO2) com uma velocidade de 0,3 nm/s, o depósito da Ia camada BI (SiO2/Al2O3) com uma velocidade de 0,7 nm/s, o depósito da 2a camada HI (TiO2, a partir de granulados pré-fundidos) com uma velocidade de 0,3-0,5 nm/s, uma assistência de íons oxigênio (correspondendo a 18 cm /min - 3 A para Cie
2,5 A - 120 V para C2), e opcionalmente sob atmosfera de O2 (a uma pressão de 1.104 mbar, apenas exemplo C2), o depósito de uma 3a camada HI (ZrO2) com uma velocidade de 0,3 nm/s e opcionalmente uma assistência de íons oxigênio (que correspondem a 15 cm /min - 2 A, apenas exemplo Cl), o depósito de uma camada de ITO com uma velocidade de 0,2-0,5 nm/s e uma assistência de íons oxigênio (que correspondem a 15 cm3/min - 2 A para Cie
2,5 A - 120 V para C2), e por fim o depósito da 2a camada BI (SiO2/Al2O3) com uma velocidade de 1 nm/s.
A constituição dos artigos de óptica obtidos de acordo com os exemplos 1, 2 e com os exemplos comparativos Cl e C2 são detalhados abaixo:
| Exemplos 1 e 2 | |
| Substrato+ primário+ hard coat (a) | |
| SiO2 | 75 nm |
| SiO2 (c) | 75 nm |
| ZrO2 | 24 nm |
| SiO2/Al2O3 | 23 nm |
| TiO2 (c) | 90 nm |
| ZrO2 (c) | 15 nm |
| ITO (c) | 13 nm |
| SiO2/Al2O3 | 77 nm |
| Revestimento anti-manchas |
| Exemplos comparativo 1 (C1) | |
| Substrato+ primário+ hard coat (a) | |
| SiO2 (a,b) | 150 nm |
| ZrO2 | 24 nm |
| S1O2/A12O3 | 30 nm |
| TiO2 (c) | 101 nm |
| ZrO2 (c) | 12 nm |
| ITO (c) | 7 nm |
| S1O2/A12O3 | 78 nm |
| Revestimento anti-manchas |
Ar Ar
| Exemplos comparativo 2 (C2) | |
| Substrato+ | lard coat (a) |
| SiO2 (a,b) | 150 mn |
| ZrO2 | 24 nm |
| S1O2/A12O3 | 30 nm |
| TiO2 (b,c) | 101 nm |
| ZrO2 (c) | 12 nm |
| ITO (c) | 7 nm |
| S1O2/A12O3 | 78 nm |
| Revestimento anti-manchas |
Ar
A subcamada aparece em acinzentado.
(a) Tratamento de bombardeamento iônico da superfície da 5 camada antes do depósito da camada posterior.
(b) Aumento de oxigênio durante o depósito.
(c) Depósito da camada sob assistência iônica.
3. Caracterização da resistência à abrasão
A resistência à abrasão dos artigos preparados foi avaliada por 10 determinação de valores BAYER realizando o teste BAYER ASTM (Bayer areia) em conformidade com a norma ASTM F 735.81. Um valor elevado ao teste BAYER ASTM indica um grau elevado de resistência à abrasão. O valor
Bayer areia é qualificado de bom quando R é compreendido entre 3,4 e 4,5, e de excelente para valores de 4,5 e mais.
Este teste consiste em agitar simultaneamente um vidro amostra e um vidro padrão com um movimento alternativo determinado em uma bacia que contém um pó abrasivo (aproximadamente 500 g de areia) de granulometria definida a uma frequência de 100 ciclos/minuto durante 2 minutos. A medida de difusão H “antes/após” do vidro amostra é comparada a esta de um vidro padrão, na ocorrência um vidro nu a base de CR-39®, para o qual o valor BAYER é fixado em 1. O valor Bayer areia é R = H padrão/H vidro amostra.
As medidas de difusão foram efetuadas utilizando um sistema Hazeguard modelo XL- 211 produzido por Pacific Scientific.
4. Resultados
Os resultados das medidas de resistência à abrasão são 15 agrupados na tabela 1 abaixo.
Tabela 1
| Exemplo | Teste Bayer ASTM (BAYER AREIA) |
| 1 | 6,0 |
| 2 | 5,4 |
| Comparativo 1 | 4,7 |
| Comparativo 2 | 4,8 |
As lentes dos exemplos 1 e 2 possuem uma melhor resistência à abrasão do que estas dos exemplos comparativos.
Claims (23)
- REIVINDICAÇÕES1. Artigo de óptica com propriedades anti-reflexo, compreendendo um substrato que tem pelo menos uma superfície principal revestida de um revestimento anti-reflexo que compreende, partindo do substrato:- uma subcamada que compreende duas camadas adjacentes, de preferência formadas do mesmo material, a soma das espessuras destas duas camadas adjacentes superiores ou iguais a 75 nm; e- um empilhamento anti-reflexo multicamada que compreende pelo menos uma camada de alto índice de refração e pelo menos uma camada de baixo índice de refração, caracterizado pelo fato de que o depósito da primeira das referidas duas camadas adjacentes subcamada foi realizado sem assistência iônica e pelo fato de que e o depósito da segunda das referidas duas camadas adjacentes subcamada foi realizado sob assistência iônica.
- 2. Artigo de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que a proporção de espessura das referidas duas camadas adjacentes subcamada varia de 9:1 a 1: 9, de preferência de 4:6 a 6:4.
- 3. Artigo de acordo com qualquer uma das reivindicações precedentes, caracterizado pelo fato de que a soma das espessuras das referidas duas camadas adjacentes é superior ou igual a 80 nm, de preferência superior ou igual a 100 nm e melhor superior ou igual a 150 nm.
- 4. Artigo de acordo com qualquer uma das reivindicações precedentes, caracterizado pelo fato de que as referidos duas camadas adjacentes da subcamada são camadas a base de SiO2, de preferência isentas de A12O3, melhor consistindo em camadas de SiO2.
- 5. Artigo de acordo com qualquer uma das reivindicações precedentes, caracterizado pelo fato de que a subcamada compreende, além das referidas duas camadas adjacentes, no máximo três camadas intercaladas entre o substrato e as referidas duas camadas adjacentes.
- 6. Artigo de acordo com qualquer uma das reivindicações precedentes, caracterizado pelo fato de que apresenta um valor BAYER ASTM superior ou igual a 4,5 de acordo com a norma ASTM F 735.81, de preferência superior ou igual a 5 e melhor superior ou igual a 5,2.
- 7. Artigo de acordo com qualquer uma das reivindicações precedentes, caracterizado pelo fato de que todas as camadas de baixo índice de refração de empilhamento multicamadas compreendem uma mistura de S1O2 e de AI2O3, de preferência consiste em uma mistura de SiO2 e de AI2O3.
- 8. Artigo de acordo com a reivindicação 7, caracterizado pelo fato de que as camadas que compreendem uma mistura de SiO2 e de AI2O3 compreendem de 1 a 10%, de preferência de 1 a 5% em massa de A12O3 em relação à massa total de S1O2 + A12O3 nestas camadas.
- 9. Artigo de acordo com qualquer uma das reivindicações precedentes, caracterizado pelo fato de que as camadas de elevado índice de refração de empilhamento multicamadas compreendem pelo menos um material escolhido dentre T1O2, PrTiCb, ZrO2 e suas misturas.
- 10. Artigo de acordo com qualquer uma das reivindicações precedentes, caracterizado pelo fato de que o empilhamento multicamadas compreende pelo menos uma camada eletricamente condutora.
- 11. Artigo de acordo com a reivindicação 10, caracterizado pelo fato de que a camada eletricamente condutora compreende um óxido metálico escolhido entre os óxidos de índio, estanho, zinco e suas misturas, de preferência o óxido de estanho-índio.
- 12. Artigo de acordo com qualquer uma das reivindicações precedentes, caracterizado pelo fato de que o revestimento anti-reflexo compreende uma subcamada de SÍO2 de espessura superior ou igual a 120 nm que consiste em duas camadas adjacentes formadas do mesmo material, uma camada de ZrCh de 20 a 30 nm de espessura, uma camada de S1O2/AI2O3 de20 a 30 nm de espessura, uma camada de TiO2 de 75 a 110 nm de espessura, uma camada de ZrO2 de 10 a 20 nm de espessura, uma camada de óxido de estanho-índio de 2 a 18 nm de espessura, e uma camada de S1O2/AI2O3 de 60 a 90 nm de espessura.
- 13. Artigo de acordo com qualquer uma das reivindicações precedentes, caracterizado pelo fato de que o substrato é um vidro orgânico ou mineral.
- 14. Artigo de acordo com qualquer uma das reivindicações precedentes, caracterizado pelo fato de que a superfície principal do substrato é revestida por uma camada de primário anti-choque, um revestimento antiabrasão e/ou anti-arranhões, ou uma camada de primário anti-choque revestida por uma camada anti-abrasão e/ou anti-arranhões.
- 15. Artigo de acordo com qualquer uma das reivindicações precedentes, caracterizado pelo fato de que é uma lente óptica, de preferência uma lente oftálmica.
- 16. Processo de fabricação de um artigo de óptica com propriedades anti-reflexo, compreendendo pelo menos as seguintes etapas: - fornecer um artigo de óptica que compreende um substrato que tem pelo menos uma superfície principal;- depositar sobre uma superfície principal do substrato subcamada que tem uma superfície exposta, a referida subcamada que compreende duas camadas adjacentes, de preferência formadas pelo mesmo material, a soma das espessuras destas duas camadas adjacentes sendo superior ou igual a 75 nm;- depositar sobre a referida superfície exposta da subcamada um empilhamento anti-reflexo multicamada que compreende pelo menos uma camada de elevado índice de refração e pelo menos uma camada de baixo índice de refração,- recuperar um artigo de óptica que compreende um substrato que tem uma superfície principal revestida de um revestimento anti-reflexo que compreende a referida subcamada e o referido empilhamento multicamada, caracterizado pelo fato de que o depósito da primeira das referidas duas camadas adjacentes subcamada é realizado sem assistência iônica e pelo fato de que o depósito da segunda das referidas duas camadas adjacentes subcamada é realizado sob assistência iônica.
- 17. Processo de acordo com a reivindicação 16, caracterizado pelo fato de que a soma das espessuras das referidas duas camadas adjacentes é superior ou igual a 80 nm, de preferência superior ou igual a 100 nm e melhor superior ou igual a 150 nm.
- 18. Processo de acordo com qualquer uma das reivindicações 16 ou 17, caracterizado pelo fato de que as referidas duas camadas adjacentes subcamada são camadas à base de SiO2, de preferência isentas de A12O3, melhor consistindo em camadas de SiO2.
- 19. Processo de acordo com qualquer uma das reivindicações 16 a 18, caracterizado pelo fato de que o depósito de cada uma das camadas do revestimento anti-reflexo é realizado por evaporação a vácuo.
- 20. Processo de acordo com qualquer uma das reivindicações 16 a 19, caracterizado pelo fato de que a superfície do substrato é submetido antes do depósito da subcamada a um tratamento de ativação físico ou químico escolhido entre um bombardeamento com espécies energéticas, de preferência um feixe de íons ou um feixe de elétrons, um tratamento por descarga corona, por fissão, por UV, por plasma a vácuo, um tratamento ácido ou básico e/ou por solventes, ou uma combinação destes tratamentos, de preferência um tratamento por bombardeamento iônico.
- 21. Processo de acordo com qualquer uma das reivindicações 16a 20, caracterizado pelo fato de que o depósito de uma ou várias camadas de empilhamento anti-reflexo multicamada é realizado sob assistência iônica.
- 22. Processo de acordo com qualquer uma das reivindicações 16 a 21, caracterizado pelo fato de que o depósito sob assistência iônica é depósito sob assistência de íons oxigênio.
- 23. Processo de acordo com qualquer uma das reivindicações5 16 a 22, caracterizado pelo fato de que a proporção de espessura das referidas duas camadas adjacentes subcamada varia de 9:1 a 1: 9, de preferência de 4:6 a 6:4.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR0755749A FR2917510B1 (fr) | 2007-06-13 | 2007-06-13 | Article d'optique revetu d'un revetement antireflet comprenant une sous-couche partiellement formee sous assistance ionique et procede de fabrication |
| PCT/FR2008/051051 WO2009004222A1 (fr) | 2007-06-13 | 2008-06-12 | Article d'optique revetu d'un revetement antireflet comprenant une sous-couche partiellement formee sous assistance ionique et procede de fabrication |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| BRPI0812708A2 BRPI0812708A2 (pt) | 2014-12-23 |
| BRPI0812708B1 true BRPI0812708B1 (pt) | 2018-09-11 |
| BRPI0812708B8 BRPI0812708B8 (pt) | 2018-12-11 |
Family
ID=39899041
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| BRPI0812708A BRPI0812708B8 (pt) | 2007-06-13 | 2008-06-12 | artigo de óptica com propriedades anti-reflexo e processo de fabricação de um artigo de óptica com propriedades anti-reflexo |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US20100183857A1 (pt) |
| EP (1) | EP2167997B1 (pt) |
| JP (1) | JP5250028B2 (pt) |
| CN (1) | CN101784915B (pt) |
| BR (1) | BRPI0812708B8 (pt) |
| FR (1) | FR2917510B1 (pt) |
| WO (1) | WO2009004222A1 (pt) |
Families Citing this family (39)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI505046B (zh) * | 2008-01-24 | 2015-10-21 | Jsr股份有限公司 | 光阻圖型之形成方法及微細化光阻圖型之樹脂組成物 |
| FR2943798B1 (fr) * | 2009-03-27 | 2011-05-27 | Essilor Int | Article d'optique revetu d'un revetement antireflet ou reflechissant comprenant une couche electriquement conductrice a base d'oxyde d'etain et procede de fabrication |
| DE102010048089B4 (de) * | 2010-10-01 | 2016-09-01 | Carl Zeiss Vision International Gmbh | Verfahren zur Erzeugung einer mehrere Schichten aufweisenden antistatischen Beschichtung für ein Linsenelement |
| DE102010048088A1 (de) | 2010-10-01 | 2012-04-05 | Carl Zeiss Vision Gmbh | Optische Linse mit kratzfester Entspiegelungsschicht |
| FR2965820B1 (fr) * | 2010-10-12 | 2012-11-16 | Essilor Int | Article comprenant une couche mesoporeuse protegee par un revetement faisant barriere au sebum et procede de fabrication |
| FR2970248B1 (fr) * | 2011-01-06 | 2019-08-30 | Saint-Gobain Glass France | Substrat muni d'un empilement a proprietes thermiques, en particulier pour realiser un vitrage chauffant. |
| DE102011007557B4 (de) * | 2011-04-16 | 2023-09-28 | EvoChem Advanced Materials GmbH | Verfahren zur Steigerung der Wischfestigkeit bzw. Kratzfestigkeit von Kunststoffoberflächen |
| JP2012247741A (ja) * | 2011-05-31 | 2012-12-13 | Nikon-Essilor Co Ltd | 光学部品の製造方法 |
| WO2012173596A1 (en) | 2011-06-13 | 2012-12-20 | Essilor Internation (Compagnie General D'optique) | Method for obtaining optical articles having superior abrasion resistant properties, and coated articles prepared according to such method |
| TWI565353B (zh) * | 2012-10-19 | 2017-01-01 | 逢甲大學 | 可撓性電熱發熱體及其製作方法 |
| US9703011B2 (en) | 2013-05-07 | 2017-07-11 | Corning Incorporated | Scratch-resistant articles with a gradient layer |
| US9366784B2 (en) | 2013-05-07 | 2016-06-14 | Corning Incorporated | Low-color scratch-resistant articles with a multilayer optical film |
| US9110230B2 (en) | 2013-05-07 | 2015-08-18 | Corning Incorporated | Scratch-resistant articles with retained optical properties |
| US9359261B2 (en) | 2013-05-07 | 2016-06-07 | Corning Incorporated | Low-color scratch-resistant articles with a multilayer optical film |
| US9684097B2 (en) | 2013-05-07 | 2017-06-20 | Corning Incorporated | Scratch-resistant articles with retained optical properties |
| US9698454B1 (en) * | 2013-07-09 | 2017-07-04 | Calabazas Creek Research, Inc. | High power RF window deposition apparatus, method, and device |
| EP2889339B1 (en) | 2013-12-24 | 2016-08-10 | ESSILOR INTERNATIONAL (Compagnie Générale d'Optique) | Optical article comprising an electrically conductive layer, and production method |
| US11267973B2 (en) | 2014-05-12 | 2022-03-08 | Corning Incorporated | Durable anti-reflective articles |
| US9335444B2 (en) | 2014-05-12 | 2016-05-10 | Corning Incorporated | Durable and scratch-resistant anti-reflective articles |
| CN103984120B (zh) * | 2014-05-30 | 2015-06-10 | 奥特路（漳州）光学科技有限公司 | 一种防蓝光光学镜片的制造方法 |
| US9790593B2 (en) | 2014-08-01 | 2017-10-17 | Corning Incorporated | Scratch-resistant materials and articles including the same |
| CN115712161A (zh) * | 2015-03-09 | 2023-02-24 | 视觉缓解公司 | 抗静电抗反射的涂层 |
| FR3039828B1 (fr) | 2015-08-05 | 2021-12-17 | Essilor Int | Article a proprietes thermomecaniques ameliorees comportant une couche de nature organique-inorganique |
| EP3770649A1 (en) | 2015-09-14 | 2021-01-27 | Corning Incorporated | High light transmission and scratch-resistant anti-reflective articles |
| CA3003972A1 (en) | 2015-11-06 | 2017-05-11 | Essilor International | Optical article cutting blue light |
| CN106977113A (zh) * | 2016-01-19 | 2017-07-25 | 精工爱普生株式会社 | 透光性部件、钟表及透光性部件的制造方法 |
| EP3282292B1 (en) * | 2016-08-09 | 2021-07-07 | Essilor International | Optical article comprising an interferential coating with a high reflection in the near infrared region (nir) |
| WO2019181752A1 (ja) * | 2018-03-22 | 2019-09-26 | 株式会社カネカ | アクリル系樹脂フィルム、積層フィルム、積層フィルムの製造方法、及び成形品 |
| WO2020016620A1 (en) * | 2018-07-18 | 2020-01-23 | Essilor International | Optical article with improved antireflective coating, methods for making the same |
| EP3837223A1 (en) | 2018-08-17 | 2021-06-23 | Corning Incorporated | Inorganic oxide articles with thin, durable anti-reflective structures |
| EP3636796A1 (fr) * | 2018-10-10 | 2020-04-15 | Comadur S.A. | Procede de durcissement d'un traitement antireflet depose sur un substrat transparent et substrat transparent comprenant un traitement antireflet durci |
| EP3640687B1 (en) * | 2018-10-18 | 2024-12-04 | Essilor International | Optical article having an interferential coating with a high abrasion-resistance |
| WO2021150470A1 (en) * | 2020-01-22 | 2021-07-29 | IntriEnergy Inc. | Method of forming anti-reflection coatings |
| CN111575657B (zh) * | 2020-04-23 | 2022-04-05 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 基于离子束辅助纳米叠层解决电子束沉积薄膜龟裂的方法 |
| US12147009B2 (en) | 2020-07-09 | 2024-11-19 | Corning Incorporated | Textured region to reduce specular reflectance including a low refractive index substrate with higher elevated surfaces and lower elevated surfaces and a high refractive index material disposed on the lower elevated surfaces |
| US12522920B2 (en) | 2020-08-25 | 2026-01-13 | Amo Groningen B.V. | Partial coating of intraocular lenses using spatial atomic layer deposition |
| CN113690325B (zh) * | 2021-06-30 | 2023-10-13 | 华灿光电（浙江）有限公司 | 太阳能电池及其制造方法 |
| JP2023150685A (ja) * | 2022-03-31 | 2023-10-16 | 東海光学株式会社 | 光学製品及びその製造方法 |
| JPWO2024116961A1 (pt) * | 2022-12-02 | 2024-06-06 |
Family Cites Families (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62100701A (ja) * | 1985-10-29 | 1987-05-11 | Showa Denko Kk | 反射防止被膜を有するプラスチツク製光学部品の製造方法 |
| JPH02230101A (ja) * | 1989-03-02 | 1990-09-12 | Kyocera Corp | 合成樹脂光学部品の反射防止膜 |
| JP2776553B2 (ja) * | 1989-04-28 | 1998-07-16 | ホーヤ株式会社 | 反射防止膜 |
| JP3012712B2 (ja) | 1991-07-31 | 2000-02-28 | ホーヤ株式会社 | 反射防止膜を有する光学部材 |
| JP3132193B2 (ja) * | 1991-11-08 | 2001-02-05 | 日本ビクター株式会社 | 液晶表示デバイス及び液晶表示デバイスの製造方法 |
| US7261957B2 (en) * | 2000-03-31 | 2007-08-28 | Carl Zeiss Smt Ag | Multilayer system with protecting layer system and production method |
| JP3510845B2 (ja) * | 2000-08-29 | 2004-03-29 | Ｈｏｙａ株式会社 | 反射防止膜を有する光学部材 |
| AU756842B2 (en) | 2000-08-29 | 2003-01-23 | Hoya Corporation | Optical element having antireflection film |
| DE60215168T2 (de) * | 2001-05-29 | 2007-08-23 | Essilor International Compagnie Générale d'Optique | Verfahren zum übertragen einer hydrophobischen deckschicht von einer giessform auf ein optisches substrat |
| WO2004016822A2 (fr) * | 2002-08-08 | 2004-02-26 | Essilor International Compagnie Generale D'optique | Procede d'obtention d'une couche mince |
| FR2843407B1 (fr) * | 2002-08-08 | 2005-04-22 | Procede d'obtention d'une couche mince, stabilisee, de silice dopee au fluor, couche mince obtenue et leur application en optique ophtalmique | |
| JP4145612B2 (ja) * | 2002-08-30 | 2008-09-03 | ユーディナデバイス株式会社 | 光学多層膜及びそれを有する光半導体装置 |
| JP2004157497A (ja) * | 2002-09-09 | 2004-06-03 | Shin Meiwa Ind Co Ltd | 光学用反射防止膜及びその成膜方法 |
| JP2004170500A (ja) | 2002-11-18 | 2004-06-17 | Seiko Epson Corp | プラスチックレンズ及びその製造方法 |
| JP2004341052A (ja) * | 2003-05-13 | 2004-12-02 | Ito Kogaku Kogyo Kk | 光学要素 |
| FR2864251B1 (fr) * | 2003-12-17 | 2006-04-28 | Essilor Int | Article d'optique revetu d'un revetement anti-reflets multicouches absorbant dans le visible et procede de fabrication |
| JP2005234188A (ja) * | 2004-02-19 | 2005-09-02 | Ito Kogaku Kogyo Kk | 光学無機薄膜を備えた光学要素 |
| JP2005232565A (ja) * | 2004-02-23 | 2005-09-02 | Seiko Epson Corp | 薄膜の製造方法 |
| TWI287816B (en) * | 2004-07-22 | 2007-10-01 | Asia Optical Co Inc | Improved ion source with particular grid assembly |
| JP2007065259A (ja) * | 2005-08-31 | 2007-03-15 | Seiko Epson Corp | 光学多層膜フィルタ、及び電子機器装置 |
| JP2007078780A (ja) * | 2005-09-12 | 2007-03-29 | Seiko Epson Corp | 光学物品およびその製造方法 |
| JP5211289B2 (ja) | 2005-11-01 | 2013-06-12 | 東海光学株式会社 | 可視域用プラスチックレンズ |
-
2007
- 2007-06-13 FR FR0755749A patent/FR2917510B1/fr active Active
-
2008
- 2008-06-12 CN CN200880102530.XA patent/CN101784915B/zh active Active
- 2008-06-12 WO PCT/FR2008/051051 patent/WO2009004222A1/fr not_active Ceased
- 2008-06-12 JP JP2010511705A patent/JP5250028B2/ja active Active
- 2008-06-12 EP EP08805986.0A patent/EP2167997B1/fr active Active
- 2008-06-12 US US12/664,642 patent/US20100183857A1/en not_active Abandoned
- 2008-06-12 BR BRPI0812708A patent/BRPI0812708B8/pt active IP Right Grant
-
2016
- 2016-04-08 US US15/094,235 patent/US10962687B2/en active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| BRPI0812708B8 (pt) | 2018-12-11 |
| FR2917510B1 (fr) | 2012-01-27 |
| JP2010529510A (ja) | 2010-08-26 |
| US10962687B2 (en) | 2021-03-30 |
| FR2917510A1 (fr) | 2008-12-19 |
| WO2009004222A1 (fr) | 2009-01-08 |
| EP2167997B1 (fr) | 2016-08-10 |
| US20160223716A1 (en) | 2016-08-04 |
| EP2167997A1 (fr) | 2010-03-31 |
| JP5250028B2 (ja) | 2013-07-31 |
| CN101784915B (zh) | 2016-06-08 |
| BRPI0812708A2 (pt) | 2014-12-23 |
| CN101784915A (zh) | 2010-07-21 |
| US20100183857A1 (en) | 2010-07-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| BRPI0812708B1 (pt) | artigo de óptica com propriedades anti-reflexo e proceso de fabricação de um artigo de óptica com propriedades anti-reflexo | |
| ES2553886T3 (es) | Artículo de óptica revestido de una subcapa y de un revestimiento antirreflectante multicapas resistente a la temperatura, y procedimiento de fabricación | |
| BRPI1016050B1 (pt) | Artigo de óptica com propriedades antiestáticas e anti-reflexo ou reflexivas, processo de fabricação do mesmo, e, utilização de uma camada | |
| KR101478635B1 (ko) | 향상된 부착성 및 내마모성을 갖는 반사방지 코팅 또는 반사 코팅이 피복된 광학 물품의 제조 방법 | |
| US8846140B2 (en) | Method for producing an optical article coated with an antireflection or a reflective coating having improved adhesion and abrasion resistance properties | |
| JP5489604B2 (ja) | 光学物品の製造方法 | |
| US8789944B2 (en) | Optical article and optical article production method | |
| JP5698902B2 (ja) | 光学物品およびその製造方法 | |
| JP5867794B2 (ja) | 眼鏡レンズの製造方法および光学物品の製造方法 | |
| BR112021006664B1 (pt) | Artigo óptico tendo um revestimento interferencial com uma elevada resistência à abrasão e método de fabricação de um artigo óptico | |
| BR112014016069B1 (pt) | Artigo compreendendo um substrato apresentando pelo menos uma superfície principal revestida com um revestimento interferencial multicamada, e, processo de fabricação de um artigo |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| B09A | Decision: intention to grant [chapter 9.1 patent gazette] | ||
| B25A | Requested transfer of rights approved |
Owner name: ESSILOR INTERNATIONAL (FR) |
|
| B16A | Patent or certificate of addition of invention granted [chapter 16.1 patent gazette] |
Free format text: PRAZO DE VALIDADE: 10 (DEZ) ANOS CONTADOS A PARTIR DE 11/09/2018, OBSERVADAS AS CONDICOES LEGAIS. |
|
| B16C | Correction of notification of the grant [chapter 16.3 patent gazette] |
Free format text: PRAZO DE VALIDADE: 10 (DEZ) ANOS CONTADOS A PARTIR DE 11/09/2018, OBSERVADAS AS CONDICOES LEGAIS. (CO) REFERENTE A RPI 2488 DE 11/09/2018, QUANTO AO TITULO. |