CA1311211C - Procede de depot metallique sur titane par voie electrolytique - Google Patents
Procede de depot metallique sur titane par voie electrolytiqueInfo
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Abstract
L'invention concerne un procédé de dépôt métallique sur titane par voie électrolytique comprenant une étape de décapage avec de l'acide sulfurique à 95% RP, la température de bain étant comprise entre 30.degree. et 80.degree.C, la concentration étant comprise entre 20 et 80% dans de l'eau, le temps d'immersion étant compris entre 30 secondes et 5 minutes. Ce procédé s'applique notamment dans le domaine de l'industrie aérospatiale.
Description
131121~
, Procédé_de dépôt métallique sur titane par voi _ lectrolytique Actuellement, il n'existe que peu de solutions vraiment ~iables pour ~raiter électrolytiquement le titane.
La p.lus utilisée est celle qui consiste a décaper le titane dans de l'acide chlorhydrique pur à 90~C puis à ~aire un passage dans de l'acide sulfo-chlorydrique. Mais avec cette solution il apparaît plus de 50 % de dé~aut3 d~adhérence sur la matière de base, provoqllés par 1'oxydation rapide du titane.
L'invention a pour objet de pallier ces inconvénient3.
L'inventior. propoqe, en effet, un procédé de dépôt métallique sur titane par voie électrolytique, caractérisé en ce qu'il comprend une étape de décapage avec de l'acide sulfurique à 95 % RP, la tempéra-ture de bain étant comprise entre 30C et 80C, la concentration étant comprise ertre 20 et 80 % dans de l'eau, le temps d'immersion étant compris entre 30 secondes et 5 minutes.
Plus précisament le procédé d~invention comprend les étapes sui-vantes . dégraissage chimique puis rinçag 9;
. dégraissage électrolytique puis rinçages;
. décapage avec de 1'acide sulfurique à 95 ~ RP puis rinçages rapides.
. dépôt d'une sous-couche de nickel;
. dépôt d'une couche ~inale (or, argent...).
Le nouveau procédé consiste donc en un changement de décapage c5 qui garantit un taux de réussite de l'ordre de de 99 ~, et qui répond aux exigences sévères des normes imposée~ sur les équipements spatiaux : notamment le respect d'une bonne adhérence aux températures compri-ses entre - 100C et + 260C.
De plus ce procédé réduit considérablement le temps de main-d'oeuvre (de l'ordre de 30 %), et les coûts m&t-ières (de l'ordre de 50 %).
Les caractéristiques et avantages de l~invention ressortiront d'ailleurs de la description qui va suivrs, à titre d'exemple non limitati~.
Dans le domaine aérospatial, notamment, le titane est utilisé
comme support en microélectrique en couche mince ou épaisse sur céra-mique, en raison de di~érentes propriétés spPci~ iques : en ef~et il présente des qualités de iégèreté, ~'amagnétisme. De plus son
, Procédé_de dépôt métallique sur titane par voi _ lectrolytique Actuellement, il n'existe que peu de solutions vraiment ~iables pour ~raiter électrolytiquement le titane.
La p.lus utilisée est celle qui consiste a décaper le titane dans de l'acide chlorhydrique pur à 90~C puis à ~aire un passage dans de l'acide sulfo-chlorydrique. Mais avec cette solution il apparaît plus de 50 % de dé~aut3 d~adhérence sur la matière de base, provoqllés par 1'oxydation rapide du titane.
L'invention a pour objet de pallier ces inconvénient3.
L'inventior. propoqe, en effet, un procédé de dépôt métallique sur titane par voie électrolytique, caractérisé en ce qu'il comprend une étape de décapage avec de l'acide sulfurique à 95 % RP, la tempéra-ture de bain étant comprise entre 30C et 80C, la concentration étant comprise ertre 20 et 80 % dans de l'eau, le temps d'immersion étant compris entre 30 secondes et 5 minutes.
Plus précisament le procédé d~invention comprend les étapes sui-vantes . dégraissage chimique puis rinçag 9;
. dégraissage électrolytique puis rinçages;
. décapage avec de 1'acide sulfurique à 95 ~ RP puis rinçages rapides.
. dépôt d'une sous-couche de nickel;
. dépôt d'une couche ~inale (or, argent...).
Le nouveau procédé consiste donc en un changement de décapage c5 qui garantit un taux de réussite de l'ordre de de 99 ~, et qui répond aux exigences sévères des normes imposée~ sur les équipements spatiaux : notamment le respect d'une bonne adhérence aux températures compri-ses entre - 100C et + 260C.
De plus ce procédé réduit considérablement le temps de main-d'oeuvre (de l'ordre de 30 %), et les coûts m&t-ières (de l'ordre de 50 %).
Les caractéristiques et avantages de l~invention ressortiront d'ailleurs de la description qui va suivrs, à titre d'exemple non limitati~.
Dans le domaine aérospatial, notamment, le titane est utilisé
comme support en microélectrique en couche mince ou épaisse sur céra-mique, en raison de di~érentes propriétés spPci~ iques : en ef~et il présente des qualités de iégèreté, ~'amagnétisme. De plus son
- 2 ~ 2 1 1 coefficient de dilatation est adapté à celui des céramiques que l'on veut souder dessu~.
Mai3 une soudure de la céramique sur du titane n'est pas possible à basse température. On réa].i3e donc un dépôt métallique (or, argent....) à sa surface. Ce qui permet d~obtenir en hautes ~réquences une excellente conductibilité électrique super~icielle.
Le procédé de l'invention consiste en un décapage appliqué à la nuance titane T40. Ce décapage présente les caractéristiques suivantes :
. nature du produit de décapage : acide sulfurique 95 RP ("recta pur");
. température du bain : 30~ à 80 C;
. concentration : 20 à 80 % dans de l'eau;
. temps d'immersion : 30 ~econdes à 5 minutes.
Il est bien entendu que l'application de ce décapage à une nuance quelconque de titane, fait partie du cadre de la présente invention.
Un tel traitement permet de pallier le défaut d'adhérence d'une sous-couche de nickel sur du titane. Il permet d~améliorer l'adhérsnce d'un dépôt électrolytique d~un métal tel que de l'or, de l'argent, ou 20 du cuivresur cette 90U9 couche d'accrochage réali~ée en nickel.
Un tel procédé peut être utilisé, notamment, dans le domaine de l'in-dustrie aéro-spatiale.
Le traitement du titane comporte donc les étapes suivantes :
. dégraissage chimique pUi9 rinçages;
. dégrais~age électrolytique puis rinçages;
. décapage suivant le procédé de l'invention puis rinçages rapides ~entre 15 et 20 secondes);
. dépôt d'une sous-couche de nickel :
- par nickelage électrolytique mat (plonger les pièces SOU9 tension dans le bain, par exemple avec 3 ampère par dm2);
- ou par nickelage chimique . dépôt éventuel d~une couche métallique ~inale telle que :
or, argent, cuivre Il est bien entendu que la présente invention n'a ~té décrite et représentée qu'à titre d'exemple pré~érentiel et que l'on pour-a rem-placer ses aléments constituti~s par des éléments équiva'ents sans, pour autant, sortir du cadre de l'invention.
Mai3 une soudure de la céramique sur du titane n'est pas possible à basse température. On réa].i3e donc un dépôt métallique (or, argent....) à sa surface. Ce qui permet d~obtenir en hautes ~réquences une excellente conductibilité électrique super~icielle.
Le procédé de l'invention consiste en un décapage appliqué à la nuance titane T40. Ce décapage présente les caractéristiques suivantes :
. nature du produit de décapage : acide sulfurique 95 RP ("recta pur");
. température du bain : 30~ à 80 C;
. concentration : 20 à 80 % dans de l'eau;
. temps d'immersion : 30 ~econdes à 5 minutes.
Il est bien entendu que l'application de ce décapage à une nuance quelconque de titane, fait partie du cadre de la présente invention.
Un tel traitement permet de pallier le défaut d'adhérence d'une sous-couche de nickel sur du titane. Il permet d~améliorer l'adhérsnce d'un dépôt électrolytique d~un métal tel que de l'or, de l'argent, ou 20 du cuivresur cette 90U9 couche d'accrochage réali~ée en nickel.
Un tel procédé peut être utilisé, notamment, dans le domaine de l'in-dustrie aéro-spatiale.
Le traitement du titane comporte donc les étapes suivantes :
. dégraissage chimique pUi9 rinçages;
. dégrais~age électrolytique puis rinçages;
. décapage suivant le procédé de l'invention puis rinçages rapides ~entre 15 et 20 secondes);
. dépôt d'une sous-couche de nickel :
- par nickelage électrolytique mat (plonger les pièces SOU9 tension dans le bain, par exemple avec 3 ampère par dm2);
- ou par nickelage chimique . dépôt éventuel d~une couche métallique ~inale telle que :
or, argent, cuivre Il est bien entendu que la présente invention n'a ~té décrite et représentée qu'à titre d'exemple pré~érentiel et que l'on pour-a rem-placer ses aléments constituti~s par des éléments équiva'ents sans, pour autant, sortir du cadre de l'invention.
Claims (5)
1/ Procédé de dépôt métallique sur titane par voie électrolytique caractérisé en ce qu'il comprend une étape de décapage avec de l'acide sulfurique à 95 % RP , la température de bain étant comprise entre 30°C
et 80°C, la concentration étant comprise entre 20 et 80 % dans de l'eau, le temps d'immersion étant compris entre 30 secondes et 5 minu-tés.
et 80°C, la concentration étant comprise entre 20 et 80 % dans de l'eau, le temps d'immersion étant compris entre 30 secondes et 5 minu-tés.
2/ Procédé selon la revendication 1, comprenant les étapes suivantes :
. dégraissage chimique puis rinçages;
. dégraissage électrolytique puis rinçages;
. dépôt d'une sous-couche de nickel;
. dépôt d'une couche finale, caractérisé en ce qu'avant le dépôt de la sous-couche de nickel ledit procédé comprend une étape de décapage selon la revendication 1 suivie de rinçages rapides.
. dégraissage chimique puis rinçages;
. dégraissage électrolytique puis rinçages;
. dépôt d'une sous-couche de nickel;
. dépôt d'une couche finale, caractérisé en ce qu'avant le dépôt de la sous-couche de nickel ledit procédé comprend une étape de décapage selon la revendication 1 suivie de rinçages rapides.
3/ Procédé selon la revendication 2, caractérisé en ce que le dépôt d'une sous-couche de nickel est réalisé par nickelage électrolytique.
4/ Procédé selon la revendication 2, caractérisé en ce que le dépôt d'une sous-couche de nickel est réalisé par nickelage chimique.
5/ Procédé selon la revendication 1, 2, 3 ou 4 caractérisé en ce que le titane est un titane T 40.
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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| EP (1) | EP0247525A1 (fr) |
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| DE4224316C1 (en) * | 1992-07-23 | 1993-07-29 | Freiberger Ne-Metall Gmbh, O-9200 Freiberg, De | Metal coating of titanium@ (alloys) - by oxidising in acidic, fluorine-free soln., removing oxide layer, treating with ultrasound, and galvanically coating |
| US9267218B2 (en) | 2011-09-02 | 2016-02-23 | General Electric Company | Protective coating for titanium last stage buckets |
| CN103160892A (zh) * | 2011-12-13 | 2013-06-19 | 贵州黎阳航空动力有限公司 | 一种钛合金镀银层的制备方法 |
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| US4412892A (en) * | 1981-07-13 | 1983-11-01 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Pretreatment of superalloys and stainless steels for electroplating |
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1986
- 1986-05-26 FR FR8607475A patent/FR2599052B1/fr not_active Expired
-
1987
- 1987-05-21 EP EP87107410A patent/EP0247525A1/fr not_active Withdrawn
- 1987-05-21 NO NO87872129A patent/NO169353C/no unknown
- 1987-05-25 DK DK265087A patent/DK265087A/da not_active Application Discontinuation
- 1987-05-25 CA CA000537852A patent/CA1311211C/fr not_active Expired - Fee Related
- 1987-05-25 JP JP62126073A patent/JPS6324094A/ja active Pending
- 1987-05-26 US US07/053,895 patent/US4787962A/en not_active Expired - Fee Related
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| NO872129D0 (no) | 1987-05-21 |
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