CH289455A - Verfahren zur Herstellung von Zeichen mit durch optisch homogene Flächen begrenzter Form auf einer Unterlage und durch dieses Verfahren erhaltene Unterlage mit Zeichen. - Google Patents

Verfahren zur Herstellung von Zeichen mit durch optisch homogene Flächen begrenzter Form auf einer Unterlage und durch dieses Verfahren erhaltene Unterlage mit Zeichen.

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CH289455A
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Description


  Verfahren zur Herstellung von Zeichen mit durch optisch homogene Flächen begrenzter  Form auf einer Unterlage und durch dieses Verfahren erhaltene Unterlage mit Zeichen.    Vorliegende Erfindung betrifft ein Ver  l'ahren zur Herstellung von Zeichen mit durch  optisch homogene Flächen begrenzter Form  auf einer Unterlage. Unter optisch homogenen  Begrenzungsflächen werden Flächen verstan  den, die auch bei Betrachtung mit optischen       Vergrösserungsgeräten    mit Einfall sichtbaren  Lichtes auf die zu untersuchende Fläche keine  Unregelmässigkeiten erkennen lassen.

   Es     han-          dlelt    sich also beispielsweise um auf Glas, Me  tallen, glasartigen und metallähnlichen Stof  fen, Kunstharzen usw. aufzubringende Zei  chen, insbesondere Teilstriche von Skalen,  Fadenkreuze und Anordnungen für Phasen  kontrastverfahren in der Mikroskopie, wobei  lhauptsächlich Seheiben zur Anwendung     kom-          mnen,    die getrennte Phasen- und Absorptions  ringe besitzen. Derartige Zeichen wurden bis  her durch Prägen, Drücken, Ätzen, Gravieren       oder    auch auf photographischem Wege er  zeugt.

   Bei Anwendung aller dieser Verfahren  weisen jedoch die so hergestellten Zeichen  keine optisch homogene Begrenzungsflächen  auf, das heisst, betrachtet man diese Zeichen  unter starker mikroskopischer Vergrösserung,  so besitzen sie sämtlich unregelmässige Begren  zungsflächen, weil die Ränder bei Herstellung  der Zeichen     zaekenartig    ausreissen und die  angegebenen     Ausnehmungen    als Keilnuten  mit völlig unregelmässigen     Begrenzungsflä-          ehen        erscheinen.    Das     trifft    auch für photo  graphisch hergestellte Zeichen zu, weil ihrer  Regelmässigkeit durch die Körnung der photo-    graphischen Schicht eine Grenze gesetzt ist.

    Sie weisen daher ebenfalls in der Vergrösse  rung starke Unregelmässigkeiten auf.  



  Vorliegende Erfindung setzt sich die Be  seitigung dieser Nachteile zur Aufgabe. Das  angewandte Verfahren führt dazu, dass es erst  malig möglich wird, strichförmige Zeichen von  einer Breite von einem     Zweitausendstel-Milli-          meter    und weniger herzustellen und trotzdem  Zeichen mit mathematisch ausgerichteten Be  grenzungsflächen zu erhalten.  



  Das erfindungsgemässe Verfahren ist da  durch gekennzeichnet, dass unmittelbar auf  der Unterlage mindestens eine dünne, der  Dicke nach höchstens einer Wellenlänge des  Lichtes entsprechende, wieder     entfernbare     Hilfsschicht erzeugt, die Unterlage durch die       Hilfsschicht    hindurch in einem Flächenaus  mass freigelegt     wird,    das gerade den herzustel  lenden Zeichen entspricht, alsdann eine zei  chenbildende Haftschicht aufgebracht und die  verbliebene Hilfsschicht entfernt wird.  



  Als Wellenlänge des Lichtes kann dabei  auf die dem     Schwerpiuikt    der Augenemp  findlichkeit entsprechende Wellenlänge von  .5500     AE    abgestellt werden, ohne dass andere       Lichtwellenlängen    als Bezugsmass, beispiels  weise die obere und untere     Grenzwellenlänge     des (sichtbaren) Lichtes,     ausscheiden.     



  Das     erfindiuigsgemässe    Verfahren kann zu        < mathematisch    definierten Raumformen der  Zeichen führen, weil durch das Zusammenwir  ken von Haftschichten und     entfernbaren              Hilfssehiehten    erreicht werden kann, dass man  unabhängig von der Formgebung der die Be  grenzungsflächen beeinflussenden Werkzeug  formen wird. Bekanntlich geht auch die  feinste Spitze eines Werkzeuges zu im Quer  schnitt stärkeren Werkzeugteilen über, weil es  unmöglich ist, den Querschnitt der Spitze  auf eine grössere Länge zu erhalten. Das gilt  auch für die Quersehnittsflächen eines     Sti-          ehels,    wie er in der Gravurteehnik Anwen  dung findet.

   Das bedeutet also, dass neben der  schneidenden Spitze oder Schneide an der Bil  dung der Zeichen Werkzeugflächen beteiligt  sind, die nicht als ausgesprochene Schneiden  ausgebildet sind, so dass sie den Werkstoff,  der die Zeichen begrenzt, wegdrücken statt  wegschneiden. Auf diese Weise kommt es zu  Ausbröekelungen des Werkstoffes und damit  zu den oben erörterten unregelmässigen Be  grenzungsflächen der bisher erzeugten Zei  chen. Durch das vorgeschlagene Verfahren  können diese Erscheinungen beseitigt werden.  Denn durch die     Entfernung    der Hilfsschicht  verlieren die Teile der Haftschicht, die nicht  unmittelbar an der Unterlage haften, das  heisst diejenigen Teile der Haftsehieht, die  von der Unterlage durch die Hilfsschicht ge  trennt sind, ihren Halt.

   Sie brechen ab, und  es bleiben gegebenenfalls nur quaderförmige  Blöcke der Haftschicht bestehen. Damit wird  man unabhängig von den Unregelmässigkei  ten, die durch die nichtschneidenden Werk  zeugteile erzeugt werden, und man kann  Raumformen der Zeichen gewinnen, die durch  mathematisch definierte Ebenen bestimmt  sind.  



  Das Verfahren kann nach verschiedenen  Richtungen hin abgewandelt werden, je nach  dem, ob die zu erzeugenden Zeichen in erhabe  ner Form     auf    einer Unterlage auftreten sollen,  ob sie als Ausnehmungen in einer auf die Un  terlage aufgebrachten Schicht erscheinen oder  ob sie optisch lückenlos aneinanderliegen müs  sen. Der erste Fall wird durch ein dunkles  Fadenkreuz auf hellem Untergrund in Durch  sieht, der zweite Fall durch ein helles Faden  kreuz auf     dunklem        Untergrund    in Durchsicht  und der dritte Fall durch die Phasenringe bei    den Phasenkontrastverfahren der Mikroskopie  beispielsweise veranschaulicht.  



  Im folgenden soll nur der erste Fall näher  behandelt werden. Uni die Aufgabe der Her  stellung erhabener Zeichen mit optisch homo  genen Begrenzungsflächen zu lösen, wird vor  erst eine dünne, wieder entfernbare     Hilfs-          sehieht    erzeugt und die Unterlage durch diese  hindurch in einem Flächenausmass freigelegt,  das gerade den herzustellenden Zeichen     und     vorzugsweise möglichst genau der Projektion  der herzustellenden Zeichen auf die Unterlage  entspricht. Dadurch entstehen also     erhabene     Zeichen, die auf einer Unterlage aufruhen.  



  Weitere Einzelheiten des Verfahrens seien  an Hand der Zeichnung beispielsweise veran  schaulicht. Es sei nur festgehalten, dass sieh  nach vorliegendem Verfahren Zeichen herstel  len lassen, deren Raunform durch Flächen  begrenzt ist, die in der Grenzsehieht zwischen  Unterlage und zeichenbildenden Stoffen, in zu  dieser Grenzsehieht parallelen und in zu ihr  senkrechten, mathematischen Ebenen liegen.  In der     Zeichnung    geben die  Fig.1 bis 3 Phasen eines erfindungsgemäss  durchgeführten Verfahrens wieder, bei wel  chem ein auf einer Unterlage liegendes, er  habenes Zeichen     erzeugt    werden soll.  



  In den     Fig.    Ibis 3 ist die Unterlage,     auf     der ein durch mathematisch definierte Ebe  nen bestimmtes Zeichen erzeugt werden soll.  mit 1 bezeichnet. Es ist also 1. etwa ein Glas  körper, auf welchem ein Fadenkreuz mit zwei  Balken aufzubringen ist.

   In der Schnittdar  stellung der     Fig.3    werden dabei die Balken  dieses Fadenkreuzes in den schraffiert. ange  legten Flächen ? und 3     geschnitten.    Um der  artige     Fadenkreuze        erzeugen        zii    können, wird  wie folgt     vorgegangen          Auf    die gläserne Unterlage 1 wird durch       Aufdampfen    im     Hoehvakuiun    eine Hilfs  schicht 4 aufgebracht, die in     Fig.1        als    solche  zu erkennen ist.

   Unter     Hochvakuum    werden  Drücke von 1 .     10-3    mm     H-    und kleinere  Drücke verstanden. Je     feiner    die     herzustellen-          den    Zeichen sein sollen,     um    so geringer ist die  Dicke dieser     Hilfssehielit    4. Die Dicke ist. in      jedem Falle kleiner als die Wellenlänge des  Lichtes, wobei die Wellenlänge auf den     Emp-          findliehkeitssehwerpunkt    des Auges für das  sichtbare Spektrum bezogen sein kann. Für  feinste Teilstriche kann die Hilfssehieht 4 nur  wenige Sehiehten von Molekülen, möglichst  nur eine einzige Molekülschicht umfassen.

         Zur        Herstellung    der Schicht     kommen    daher  vor allem Stoffe mit langen Molekülketten  und polaren Endgruppen in Betracht. Die  Dicke der Schicht 4 wird dabei während der  Herstellung optisch, insbesondere     interfero-          metrisch    überwacht. Die zur Erzeugung der  Schicht 4 zur Verwendung kommenden Stoffe  sollten weiter gravierfähig sein. Daher kom  men insbesondere niehtduktile, das heisst  nichtsebmierende, in gewisser Beziehung eher  spröde Stoffe, in Betracht.

   Die weiter zu     er-          tiillende    Eigenschaft der Entfernbarkeitwird  in einfachster Weise dadurch verwirklicht,  dass in Lösungsmitteln lösungsfähige Stoffe  zur Anwendung kommen. Als Lösungsmittel  wird man hauptsächlich Wasser, Alkohole,  Äther usw. in Betracht ziehen. Trotz der Lö  sungsfähigkeit der Stoffe dürfen sie sich nicht  durch Wasseraufnahme aus der Luft selbst  tätig lösen, unm ein Zerfliessen der Begrenzun  gen zu vermeiden. Die Stoffe sollten also nicht  lhygroskopiseh sein. Sämtliche diese Eigen  schaften erfüllende Stoffe sind beispielsweise  Fluoride, insbesondere das Aluminium- und  das Natriumfluorid; sie kommen daher als  Stoffe zur Erzeugung der Hilfsschichten vor  zugsweise in Betracht.  



  In weiterer Durchfülrung des erfindungs  gemässen Verfahrens werden nun in diese  Hilfssehicht 4 durch Gravieren oder sonstwie  Furchen 5 und 6 so eingebracht, dass die Be  reiche, in denen die Unterlage 1 freigelegt  wird, gerade und genau der Projektion der       herzustellenden    Zeichen auf die Unterlage ent  sprechen. Bezogen auf die Zeichnungsebene  bedeutet das, dass die Breiten 7 und 8 des  Bodens der Furchen, auf die sie die Unter  lage 7 freilegen, gerade und genau der Breite  7 und 8 der nach     Fig.    3 herzustellenden     Zei-          ehen    entsprechen. Dasselbe gilt selbstverständ  lich für die dritte, quer oder senkrecht zur    Zeichenebene verlaufende und nicht mehr er  kennbare     Dimension.     



  Nach Durchführung des in     Fig.1    darge  stellten     Verfahrensschrittes    wird auf die  Hilfsschicht 4 die zeichenbildende Haftschicht  9 aufgebracht. Auch die zeichenbildende Haft  schicht 9 wird man vorzugsweise durch Auf  dampfen im Hochvakuum herstellen. Auch die  Dicke der Haftschicht 9 kann weniger als eine  Lichtwellenlänge betragen. Durch     optische     Überwachung während der Herstellung ge  lingt es, die Dicke des Belages 9 innerhalb  engster Toleranzen ausreichend gleichmässig  zu erhalten. Zur Herstellung der Schicht 9  kommen dabei     lichtdurchlässige    oder auch  lichtabsorbierende Stoffe, beispielsweise Me  talle, in Betracht.

   Ein     Rhodiumbelag    zeigt bei  spielsweise 30 bis 40 % Absorption, wenn er in  einer Dicke von     10m,cc    = 100     AE    aufgetragen  wird. Selbstverständlich muss der den Belag  9 bildende Stoff gegen das Lösungsmittel der  Hilfsschicht 4 widerstandsfähig sein. Das Er  gebnis dieses Verfahrensschrittes ist in     Fig.    2       gezeigt.     



  Nunmehr wird der dritte Verfahrensschritt  durchgeführt, der in dem Auflösen, das heisst  in dem Entfernen der verbliebenen Hilfs  schicht 4, besteht. Durch dieses Auflösen ver  lieren sämtliche Teile der Schicht 9, die nicht.  unmittelbar an der Unterlage 1 anhaften,  ihren Halt und bröckeln ab. Das gilt vor allem  für die     Zwickelräume    9', 9" der Haftschicht  9, so     da.ss    dadurch, dass auch diese Zwickel  9', 9" ihren Halt verlieren, nach     Fig.    3 die  Zeichen 2, 3 mit der Raumform übrig bleiben,  die durch mathematisch definierte Begren  zungsebenen bestimmt ist.  



  Die so erzeugten Zeichen 2, 3 sind bei ge  eigneter Natur des Stoffes, aus dem sie her  gestellt     sind,    wisch- und kratzfest. Sie eignen  sich infolge ihrer optisch homogenen Begren  zungsflächen zur Beobachtung bei stärksten  Vergrösserungen, so dass Genauigkeitsgrade  der Einstellung erzielt werden können, wie sie  bisher unerreichbar waren.  



  Zur Herstellung der Furchen 5 und 6 kön  nen Gravierstichel mit abgerundeten Spitzen  verwendet werden, so dass nur die als Schnei-      den ausgebildeten Stiehelfüsse mit der Unter  lage zur Berührung kommen. Wenn der Belag  9 ganz oder teilweise lichtdurchlässig ist, so  ergeben sich infolge Reflexion des einfallen  den Lichtes an den äussern und innern     Grenz-          flächen    der Zeichen Interferenzerscbeinungen,  welche die Zeichen in einer bestimmten Farbe  erscheinen lassen. Durch entsprechende Dicke  der Haftsehiclht 9 können dabei beliebige Far  ben erzeugt werden. Man kann auch die Far  ben der Zeichen verändern, indem man sie mit  verschiedenen Dicken herstellt.  



  Unter den zahlreichen Anwendungsgebie  ten des neuen Verfahrens ist insbesondere die  physikalische Messtechnik zu erwähnen,     wel-          ehe    Zeichen mit Formen verlangt, die optisch       homogene     aufweisen und  mit äusserster Genauigkeit und mit geringsten  Dimensionen     auszuführen    sind, soweit die  Messtechnik zur Aufstellung entsprechender       Forderungen    Anlass gibt.

Claims (1)

  1. P ATEN T AN SPRÜCHE I. Verfahren zur Herstellung von Zeichen mit durch optisch homogene Flächen begrenz ter Form auf einer Unterlage, dadurch ge kennzeichnet, dass unmittelbar auf der Unter lage mindestens eine dünne, der Dicke nach höchstens einer Wellenlänge des Lichtes ent sprechende, wieder entfernbare Hilfsschicht erzeugt, die Unterlage durch die Hilfsschicht hindurch in einem Flächenausmass freigelegt wird, das gerade den herzustellenden Zeichen entspricht, alsdann eine zeichenbildende Haft- sehieht aufgebracht und die verbliebene Hilfs schicht entfernt wird. Il.
    Nach dem Verfahren gemäss Patent- ansprueh I erhaltene Unterlage mit aufge brachten Zeichen mit durch optisch homogene Flächen begrenzter Form. UNTERANSPRÜCHE: 1. Verfahren nach Patentanspruch I, da durch gekennzeichnet, dass die Unterlage in einem Flächenausmass freigelegt wird, das zu gleich genau der Projektion der herzustellen den Zeichen auf die Unterlage entspricht. 2. Verfahren nach Patentanspruch I und Unteranspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, dass eine Hilfsschicht aus einem wasserlösli- ehen Stoff erzeugt wird. 3. Verfahren nach Patentanspruch I, da durch gekennzeichnet, dass eine Hilfsschicht aus einem nichtduktilen Stoff hergestellt wird. 4.
    Verfahren nach Patentanspruch I, da durch gekennzeichnet, dass eine Hilfsschieht aus einem nichthygroskopischen Stoff herge stellt wird. 5. Verfahren nach Patentanspruch I, da durch gekennzeichnet, dass eine Hilfsschicht ans einem Fluorid hergestellt wird. 6. Verfahren nach Patentanspruch I, da durch gekennzeichnet, dass eine Hilfsschicht aus Alumniniumfluorid hergestellt wird. 7. Verfahren nach Patentanspruch I, da durch gekennzeichnet, dass eine Hilfsschicht aus Natriumfluorid hergestellt wird. 8. Verfahren nach Patentanspruch I, da durch gekennzeichnet, dass die Hilfsschicht im Hoclhv akuum aufgedampft wird. 9. Verfahren nach Patentanspruch I, da durch gekennzeichnet, dass die Hilfsschieht in der Dicke von wenigen Moleküllagen herge stellt wird. 10.
    Verfahren nach Patentanspruch I, da durch gekennzeichnet, dass die Hilfsschicht aus einer einzigen Moleküllage hergestellt wird. 11. Verfahren nach Patentanspruch I, da durch gekennzeichnet, dass die haftfeste Schicht in einer Dicke von weniger als einer Lichtwellenlänge aufgetragen wird. 12. Verfahren nach Patentanspruch I, da durch gekennzeichnet, dass die haftfeste Schicht. aus einem Metall erzeugt wird. 13. Verfahren nach Patentanspruch I, da durch gekennzeichnet, dass die haftfeste Schicht im Hochvakuum aufgedampft. wird. 14.
    Unterlage nach Patentanspruch II, da durch --el,:ennzeiehnet, dass die Schiehtdieke der Zeichen derart ist, da.ss diese infolge Inter ferenz in einer Farbe erscheinen.
CH289455D 1952-06-13 1950-04-08 Verfahren zur Herstellung von Zeichen mit durch optisch homogene Flächen begrenzter Form auf einer Unterlage und durch dieses Verfahren erhaltene Unterlage mit Zeichen. CH289455A (de)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1024409B (de) * 1955-07-30 1958-02-13 Wenczler & Heidenhain Verfahren zur Herstellung scharf begrenzter Zeichen auf Traegern unter Verwendung zweier Hilfsschichten

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1024409B (de) * 1955-07-30 1958-02-13 Wenczler & Heidenhain Verfahren zur Herstellung scharf begrenzter Zeichen auf Traegern unter Verwendung zweier Hilfsschichten

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