CH382857A - Verfahren und Vorrichtung zum Anbringen von Kontaktorganen an Halbleiterkörpern - Google Patents

Verfahren und Vorrichtung zum Anbringen von Kontaktorganen an Halbleiterkörpern

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CH382857A
CH382857A CH548960A CH548960A CH382857A CH 382857 A CH382857 A CH 382857A CH 548960 A CH548960 A CH 548960A CH 548960 A CH548960 A CH 548960A CH 382857 A CH382857 A CH 382857A
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CH
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semiconductor bodies
attaching contact
contact organs
organs
attaching
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Application number
CH548960A
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H Bornemann Edmond
Meyerhoff Alfred
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Westinghouse Electric Corp
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3296573A (en) * 1967-01-03 Substrate configurations for hall elements
US3303427A (en) * 1962-02-27 1967-02-07 Ibm Cryogenic hall-effect semimetal electronic element
DE3438658C1 (de) * 1984-10-22 1986-03-20 Nukem Gmbh, 6450 Hanau Anordnung von Hallgeneratoren
EP1895170B1 (de) * 2005-06-21 2016-03-09 ASA Electronics Industry Co., Ltd. Zylindersteuerungseinheit

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2877394A (en) * 1959-03-10 Hall effect device
US2486110A (en) * 1943-11-16 1949-10-25 Hartford Nat Bank & Trust Co Combination of two or more than two blocking-layer cells
US2498890A (en) * 1947-06-03 1950-02-28 Kotron Rectifier Corp Rectifier unit
US2562120A (en) * 1948-08-26 1951-07-24 Bell Telephone Labor Inc Magnetic field strength meter
USRE25161E (en) * 1953-03-24 1962-04-17 Filament bar casing and method
US2914728A (en) * 1956-10-02 1959-11-24 Ibm Hall effect probe

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