CH426743A - Verfahren zur Gewinnung von reinstem Halbleitermaterial, insbesondere Silizium - Google Patents

Verfahren zur Gewinnung von reinstem Halbleitermaterial, insbesondere Silizium

Info

Publication number
CH426743A
CH426743A CH106061A CH106061A CH426743A CH 426743 A CH426743 A CH 426743A CH 106061 A CH106061 A CH 106061A CH 106061 A CH106061 A CH 106061A CH 426743 A CH426743 A CH 426743A
Authority
CH
Switzerland
Prior art keywords
purest
production
semiconductor material
particular silicon
silicon
Prior art date
Application number
CH106061A
Other languages
English (en)
Inventor
Kersting Arno
Konrad Dr Reuschel
Original Assignee
Siemens Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Siemens Ag filed Critical Siemens Ag
Publication of CH426743A publication Critical patent/CH426743A/de

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B29/00Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
    • C30B29/02Elements
    • C30B29/06Silicon
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B25/00Single-crystal growth by chemical reaction of reactive gases, e.g. chemical vapour-deposition growth
    • C30B25/02Epitaxial-layer growth

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)
CH106061A 1960-03-31 1961-01-30 Verfahren zur Gewinnung von reinstem Halbleitermaterial, insbesondere Silizium CH426743A (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DES67835A DE1199234B (de) 1960-03-31 1960-03-31 Verfahren zur Gewinnung von reinstem Halbleitermaterial, insbesondere Silicium

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CH426743A true CH426743A (de) 1966-12-31

Family

ID=7499847

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CH106061A CH426743A (de) 1960-03-31 1961-01-30 Verfahren zur Gewinnung von reinstem Halbleitermaterial, insbesondere Silizium

Country Status (2)

Country Link
CH (1) CH426743A (de)
DE (1) DE1199234B (de)

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1124028B (de) 1960-01-15 1962-02-22 Siemens Ag Verfahren zum Herstellen von einkristallinem Silicium

Also Published As

Publication number Publication date
DE1199234B (de) 1965-08-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CH437243A (de) Verfahren zur Herstellung von Äthylenoxyd
CH425738A (de) Verfahren zur Gewinnung von kristallinem Halbleitermaterial
CH392699A (de) Verfahren zur Herstellung von Halbleiter-Gleichrichteranordnungen mit tablettenförmigen Gleichrichterelementen
CH392704A (de) Verfahren zur Herstellung von mehrschichtigen Halbleiteranordnungen
CH442255A (de) Verfahren zur Herstellung von Siliciumcarbid
CH429673A (de) Verfahren zur Abscheidung von Halbleitermaterial
CH357121A (de) Verfahren zur Herstellung von Halbleiteranordnungen
CH402191A (de) Verfahren zur Umwandlung von n- in p-leitendes Halbleitermaterial
CH444352A (de) Verfahren zur Herstellung von Klebstoffen
CH381419A (de) Verfahren zur Herstellung von Formstücken aus Zellmaterial
AT260508B (de) Verfahren zur Nachbehandlung von formgepreßten Gegenständen
CH428675A (de) Verfahren zur Gewinnung von reinstem Halbleitermaterial, insbesondere Silizium
CH428676A (de) Verfahren zur Gewinnung von reinstem Halbleitermaterial für elektronische Zwecke
CH401633A (de) Verfahren zum Ätzen von im wesentlichen einkristallinen Halbleiterkörpern
CH414570A (de) Verfahren zur Gewinnung von reinstem Halbleitermaterial, insbesondere Silizium
CH404966A (de) Verfahren zur Herstellung von Einkristallen, insbesondere aus Halbleitermaterial
CH385813A (de) Verfahren zur Herstellung von Dioxyaceton
CH401357A (de) Verfahren zur Herstellung von Rufomycin
CH426743A (de) Verfahren zur Gewinnung von reinstem Halbleitermaterial, insbesondere Silizium
CH401634A (de) Verfahren zum formgebenden Bearbeiten von Halbleiterkristallen
CH382296A (de) Verfahren zur Herstellung von einkristallinem Halbleitermaterial
CH418648A (de) Verfahren zur Herstellung von Mischpolymerisaten von Olefinen
CH417557A (de) Verfahren zur Herstellung von Äthylenoxyd
CH437556A (de) Verfahren zur Herstellung von ferromagnetischem Material
CH397878A (de) Verfahren zur Herstellung von Halbleiteranordnungen