CH473904A - Verfahren und Bad zum elektrolytischen Glanzvernickeln - Google Patents
Verfahren und Bad zum elektrolytischen GlanzvernickelnInfo
- Publication number
- CH473904A CH473904A CH915467A CH915467DA CH473904A CH 473904 A CH473904 A CH 473904A CH 915467 A CH915467 A CH 915467A CH 915467D A CH915467D A CH 915467DA CH 473904 A CH473904 A CH 473904A
- Authority
- CH
- Switzerland
- Prior art keywords
- sep
- dichloropropene
- bath
- primary
- chloride
- Prior art date
Links
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 13
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 title claims description 10
- 238000007747 plating Methods 0.000 title claims description 9
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 34
- -1 1,2-dichloropropene-3,4 - dimethylpyridinium chloride Chemical compound 0.000 claims description 25
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 7
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 4
- CTDOGLFXPWYJSY-UHFFFAOYSA-N [Cl-].[NH+]1=CC=CC=C1.ClC=C(C)Cl Chemical group [Cl-].[NH+]1=CC=CC=C1.ClC=C(C)Cl CTDOGLFXPWYJSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- NCCOQFSIHNNRIB-UHFFFAOYSA-N [I-].[NH+]1=CC=CC=C1.ClC=C(C)Cl Chemical compound [I-].[NH+]1=CC=CC=C1.ClC=C(C)Cl NCCOQFSIHNNRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 claims description 3
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 3
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 2
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 1
- 150000002815 nickel Chemical class 0.000 claims 1
- 238000005282 brightening Methods 0.000 description 25
- CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N saccharin Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NS(=O)(=O)C2=C1 CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 229940081974 saccharin Drugs 0.000 description 19
- 235000019204 saccharin Nutrition 0.000 description 19
- 239000000901 saccharin and its Na,K and Ca salt Substances 0.000 description 19
- YSJZWXFVNXMVCR-UHFFFAOYSA-M sodium;3-chlorobut-2-ene-1-sulfonate Chemical compound [Na+].CC(Cl)=CCS([O-])(=O)=O YSJZWXFVNXMVCR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 15
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 9
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- MZSDGDXXBZSFTG-UHFFFAOYSA-M sodium;benzenesulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 MZSDGDXXBZSFTG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical class C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 6
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 6
- OVQABVAKPIYHIG-UHFFFAOYSA-N n-(benzenesulfonyl)benzenesulfonamide Chemical compound C=1C=CC=CC=1S(=O)(=O)NS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 OVQABVAKPIYHIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- NURQLCJSMXZBPC-UHFFFAOYSA-N 3,4-dimethylpyridine Chemical compound CC1=CC=NC=C1C NURQLCJSMXZBPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- SMUQFGGVLNAIOZ-UHFFFAOYSA-N quinaldine Chemical compound C1=CC=CC2=NC(C)=CC=C21 SMUQFGGVLNAIOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 4
- DIKJULDDNQFCJG-UHFFFAOYSA-M sodium;prop-2-ene-1-sulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)CC=C DIKJULDDNQFCJG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- HIILBTHBHCLUER-IWQZZHSRSA-N (z)-1,2,3-trichloroprop-1-ene Chemical compound ClC\C(Cl)=C\Cl HIILBTHBHCLUER-IWQZZHSRSA-N 0.000 description 3
- AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C=CC1=CC=CC=C1 AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 3
- FVAUCKIRQBBSSJ-UHFFFAOYSA-M sodium iodide Chemical compound [Na+].[I-] FVAUCKIRQBBSSJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- MNCGMVDMOKPCSQ-UHFFFAOYSA-M sodium;2-phenylethenesulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)C=CC1=CC=CC=C1 MNCGMVDMOKPCSQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- LDHXNOAOCJXPAH-UHFFFAOYSA-M sodium;prop-2-yne-1-sulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)CC#C LDHXNOAOCJXPAH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 2-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC=N1 BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ITQTTZVARXURQS-UHFFFAOYSA-N 3-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=CN=C1 ITQTTZVARXURQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FKNQCJSGGFJEIZ-UHFFFAOYSA-N 4-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=NC=C1 FKNQCJSGGFJEIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JDHVLXORBUXOHD-UHFFFAOYSA-N C=CCC.[Na] Chemical compound C=CCC.[Na] JDHVLXORBUXOHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 2
- 150000001805 chlorine compounds Chemical group 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000003701 inert diluent Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 2
- AOJFQRQNPXYVLM-UHFFFAOYSA-N pyridin-1-ium;chloride Chemical compound [Cl-].C1=CC=[NH+]C=C1 AOJFQRQNPXYVLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- QLAJNZSPVITUCQ-UHFFFAOYSA-N 1,3,2-dioxathietane 2,2-dioxide Chemical compound O=S1(=O)OCO1 QLAJNZSPVITUCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZPFAVCIQZKRBGF-UHFFFAOYSA-N 1,3,2-dioxathiolane 2,2-dioxide Chemical compound O=S1(=O)OCCO1 ZPFAVCIQZKRBGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SOSQXPIKTBUEKF-UHFFFAOYSA-N 1,4-dihexoxy-1,4-dioxobutane-2-sulfonic acid Chemical compound CCCCCCOC(=O)CC(S(O)(=O)=O)C(=O)OCCCCCC SOSQXPIKTBUEKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ADSOSINJPNKUJK-UHFFFAOYSA-N 2-butylpyridine Chemical compound CCCCC1=CC=CC=N1 ADSOSINJPNKUJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRGGMCIBEHEAIL-UHFFFAOYSA-N 2-ethylpyridine Chemical compound CCC1=CC=CC=N1 NRGGMCIBEHEAIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K Citrate Chemical compound [O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- JGXHLBSOHAZNHR-UHFFFAOYSA-M ClC(CS(=O)(=O)[O-])=CC.[Na+] Chemical compound ClC(CS(=O)(=O)[O-])=CC.[Na+] JGXHLBSOHAZNHR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M Sodium laurylsulphate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical group 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003841 chloride salts Chemical group 0.000 description 1
- FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-M chloroacetate Chemical compound [O-]C(=O)CCl FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940089960 chloroacetate Drugs 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 1
- 239000002932 luster Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Inorganic materials [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- UIIIBRHUICCMAI-UHFFFAOYSA-N prop-2-ene-1-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CC=C UIIIBRHUICCMAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003222 pyridines Chemical class 0.000 description 1
- CQLFBEKRDQMJLZ-UHFFFAOYSA-M silver acetate Chemical compound [Ag+].CC([O-])=O CQLFBEKRDQMJLZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940071536 silver acetate Drugs 0.000 description 1
- 235000009518 sodium iodide Nutrition 0.000 description 1
- 235000019333 sodium laurylsulphate Nutrition 0.000 description 1
- MNCGMVDMOKPCSQ-UHDJGPCESA-N sodium;(e)-2-phenylethenesulfonic acid Chemical compound [Na+].OS(=O)(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 MNCGMVDMOKPCSQ-UHDJGPCESA-N 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/12—Electroplating: Baths therefor from solutions of nickel or cobalt
- C25D3/14—Electroplating: Baths therefor from solutions of nickel or cobalt from baths containing acetylenic or heterocyclic compounds
- C25D3/18—Heterocyclic compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D213/06—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom containing only hydrogen and carbon atoms in addition to the ring nitrogen atom
- C07D213/16—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom containing only hydrogen and carbon atoms in addition to the ring nitrogen atom containing only one pyridine ring
- C07D213/20—Quaternary compounds thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D215/00—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems
- C07D215/02—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D215/04—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms, directly attached to the ring carbon atoms
- C07D215/10—Quaternary compounds
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
Verfahren und Bad zum elektrolytischen Glanzvernickeln Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Ver fahren und ein Bad, zum elektrolytischen Glanzvernik- keln und nach dem Verfahren erhaltene Nickelschichten.
Das erfindungsgemässe Verfahren zum elektrolyti schen Glanzvernickeln ist dadurch gekennzeichnet, dass man in einem Bad vernickelt, das ein sekundäres Glanz mittels enthält, das ein Kation der Formel
EMI0001.0007
enthält, worin a eine ganze Zahl von 0 bis 3, R ein Alkyl- radikal mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen, ein Halogenatom oder ein Hydroxyalkylradikal mit 1 bis 4 Kohlenstoff atomen,
ein Halogenatom oder ein Hydroxyalkylradikal mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen und
EMI0001.0014
ein Pyridin- oder Chinolinring ist.
Das primäre Glanzmittel ist vorzugsweise in Mengen von 0,01 bis 0,05 pro Liter zugegen.
Das Grundmetall, auf dem das Metall gemäss der Erfindung auf elektrolytischem Wege niederschlagen wird, besteht vorzugsweise aus Kupfer oder Kupferlegie rungen, Eisenmetallen einschliesslich Blech und anderen Metallen. wie Nickel usw.
Die in Blankvernickelungsbädern als Glanzmittel ver wendeten Zusatzstoffe können hinsichtlich ihrer Funk tion ganz allgemein in zwei Klassen aufgeteilt werden. Sekundäre Glanzmittel können 1. den Glanz einer ge wöhnlich matten oder stumpfen Abscheidung verbessern, jedoch nicht bis zu einer vollkommen glänzenden oder spiegelartigen Stufe und 2. einen Duktilisierungseffekt hervorrufen. Die Verwendung von primären Glanzmit teln in Verbindung mit sekundären Glanzmitteln kann zu spiegelblanken Abscheidungen führen.
Es wird vor- gezogen, mit den neuen primären Glanzmitteln gemäss der Erfindung ein weiteres Hilfsglanzmittel zu verwen den, um spiegelglänzende Abscheidungen zu erzeugen. Diese Hilfsglanzmittel können vorzugsweise ungesättig te Kohlenwasserstoffsulfonate sein, einschliesslich 2-Pro- pen-l-sulfonat, Natrium-3-chlor-2-butensulfonat, die ge mischten Isomere von Natrium-3-buten-2-hydroxysulfo- nat und Natrium-3-buten-l-hydroxy-2-sulfonat,
Natrium- -2-propyn-l-sulfonat, sowie Natrium-l-phenyläthen-2-sul- fonat.
Die erfindungsgemäss als primäre Glanzmittel verwen deten Pyridiniumsalze können dadurch hergestellt wer den, dass eine Chinolin- oder Pyridinbasenverbindung mit 1,2,3-Trichlorpropen umgesetzt wird.
Typische Py- ridinbasenverbindungen sind solche, in denen R Alkyl ist, sie können Pyridin selbst sein, 2-Methylpyridin, 3- -Methylpyridin, 4-Methylpyridin, 2-Äthylpyridin, 2-n-Bu- tylpyridin, 3,5-Dimentylpyridin oder 3,4-Dimethylpyridin. Eine typische Verbindung, in der der heterocyclische Ring aus Chinolin besteht,
kann das 2-Methylchinolin (d.h. Chinaldin) sein. Die bevorzugten Verbindungen sind Pyridin an sich und 3,4-Dimethylpyridin.
Das bevorzugte 1,2,3-Trichlorpropen kann aus der im Handel verfügbaren Mischung bestehen, welche etwa gleiche Teile der optischen Isomere enthält. Die Umset zung kann dadurch erfolgen, dass die Pyridin- oder Chi- nolinbasenverbindung und die Trichlorverbindung mit einander vermischt werden. Die Umsetzung kann vor zugsweise in Gegenwart eines inerten Verdünnungs- oder Lösungsmittels, wie Dimethylformamid, durchgeführt werden.
Die Reaktionsmischung, beispielsweise die Py- ridinbasenverbindung, und vorzugsweise das inerte Ver dünnungsmittel, können auf 10 C bis -10 C abgekühlt werden und die Reaktionsmischung wird bei dieser Tem peratur 48 bis 240 Stunden gehalten. Vorzugsweise wird jedoch die Umsetzung bei Raumtemperatur, d.h. bei 20 bis 30 C durchgeführt. Die Reaktionsmischung wird da bei vorzugsweise einige Tage lang bei Raumtemperatur gehalten, wobei das Pyridiniumsalz sich als kristalliner Stoff abscheiden kann.
Das Produktsalz kann in Form von gut ausgebildeten Kristallen ausfallen, welche aus der Reaktionsmischung beispielsweise durch Filtrieren abgeschieden und dann gewaschen werden. Die Wasch behandlung kann vorzugsweise in einer ersten Stufe mit dem Lösungs- oder Verdünnungsmittel, beispielsweise Dimethylformamid, durchgeführt werden, worauf sich eine weitere Waschbehandlung mit Azeton anschliesst. Das aus dem quaternären Pyridiniumsalz bestehende Produkt kann vorzugsweise unter Vakuum getrocknet werden. Diese Salze können stark wasserlöslich sein.
Das Pyridiniumchloridsalz kann direkt aus dem 1,2,3- -Trichlorpropen hergestellt werden. Das Chloridanion, welches sich beim Auflösen des quaternären Chlorid- salzes in einer wässrigen Lösung bildet, kann durch an dere lösliche, mit dem Bad verträgliche Anionen, ersetzt werden.
Ein lösliches, mit dem Bad verträgliches Anion, kann ein Anion sein, welches in Verbindung mit der be zeichneten Verbindung die letztere in einem wässrigen Vernickelungsbad in einer ausreichenden Menge löslich macht, um einen primären Glanzeffekt zu ergeben, und das mit den Verbindungen des Bades verträglich ist, d.h. dass eine befriedigende Anwendungsmöglichkeit des Ba des nicht gestört wird. Typische Anionen können Azetat, Sulfat, Methosulfat, Äthosulfat, Citrat und Chlorazetat sein.
Bevorzugte Anionen sind die Halogenide, d.h. Fluo- rid, Chlorid, Jodid und Perchlorat. Diese und andere Anionen können durch Ersatz des Chloridanions einge führt werden, beispielsweise kann das Azetatanion ein geführt werden, indem das quaternäre Chlorid beispiels weise mit dem Azetatanion umgesetzt wird, und zwar durch Umsetzen des quaternären Chlorids,
beispielsweise mit Silberazetat. Jodid kann anstelle des Chlorids substi tuiert werden, indem das Pyridiniumchlorid in wässriger Lösung beispielsweise mit Natriumjodid in Äthanol usw. umgesetzt wird.
Bevorzugte Pyridiniumsalze sind z.B. 1,2-Dichlorpro- penpyridiniumchlorid, 1,2-Dichlorpropenpyridiniumjodid, 1,2-Dichlorpropen-3,4-dimethylpyridiniumchlorid, 1,2- -Dichlorpropen-3,4-dimethylpyridiniumjodid, 1,2-Dichlor- propen-4-methylpyridiniumchlorid, 1,2-Dichlorpropen-4- -methylpyridiniumjodid, 1,2-Dichlorpropen-2-methylpyri- diniumchlorid, 1,
2-Dichlorpropen-2-methylpyridiumjodid, 1,2- Dichlorpropen - 3,5-dimethylpyridiniumchlorid, 1,2- -Dichlorpropen-3,5-dimethylpyridiniumjodid, 1,2-Dichlor- propenchinolinchlorid, 1,2-Dichlorpropen-2-methylchino- linchlorid. Die besonders bevorzugte Konzentration des Pyridinsalzes in einem Bad kann von dem sekundären Glanzmittel abhängen, das verwendet wird, dem Hilfs- glanzmittel, sowie von weiteren Faktoren, wie dem je weiligen Grad des gewünschten Glanzes, der Geschwin digkeit,
mit der der Glanz erzeugt wird, dem gewünsch ten Ausgleich sowie von der Vorbereitung des Grund metalles. Das bevorzugte sekundäre Hilfsglanzmittel kann mindestens eine Sulfon- od. Sulfonsäuregruppe enthalten, die an einen Kohlenstoffkern eines aromatischen Kohlen wasserstoffringes, wie Benzol, Naphthalin usw. gebunden ist. Das sekundäre Glanzmittel kann in Mengen von 1 bis 75, vorzugsweise von 1 bis 20 g pro Liter verwendet werden.
Bevorzugte sekundäre Glanzmittel, welche eine Sulfon- oder Sulfonsäuregruppe an eine aromatische Ver bindung gebunden enthalten können, sind beispielsweise Saccharin, Dibenzolsulfonamid, sowie Natriumbenzolmo- nosulfonat.
Die erfindungsgemässen Vernickelungsbäder sind da durch gekennzeichnet, dass sie das sekundäre Glanzmit tel und 0,005 bis 0,1g pro Liter eines primären Glanz- mittels enthalten, wobei dieses primäre Glanzmittel ein Kation der Formel
EMI0002.0073
enthält, worin a eine ganze Zahl von 0 bis 3 ist, R ein Alkylradikal mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen, ein Halo genatom oder ein Hydroxyalkylradikal mit 1 bis 4 Koh- lenstoffatomen und
EMI0002.0080
ein Pyridin- oder Chinolin- ring ist.
Besonders geeignet sind z.B. Bäder vom Watts -Typ und High Chloride -Typ, wie sie beispielsweise in den folgenden Tabellen 1 und 2 angegeben sind.
EMI0002.0088
TABELLE <SEP> 1
<tb> <I>Bäder <SEP> des <SEP> Watts-Typs</I>
<tb> Nickelsulfat <SEP> 200 <SEP> bis <SEP> 400 <SEP> g <SEP> pro <SEP> Liter
<tb> Nickelchlorid <SEP> 30 <SEP> bis <SEP> 75g <SEP> pro <SEP> Liter
<tb> Borsäure <SEP> 30 <SEP> bis <SEP> 50 <SEP> g <SEP> pro <SEP> Liter <SEP> Arbeitstemperatur <SEP> 30 <SEP> bis <SEP> 65 <SEP> C
<tb> pH-Wert <SEP> 3,5 <SEP> bis <SEP> 5,0 <SEP> elektrometrisch Die Bäder werden mit Vorteil unter Bewegen angewen det, das mechanisch, durch Luft oder durch Umpumpen erfolgen kann.
EMI0002.0089
TABELLE <SEP> 2
<tb> <I>Bäder <SEP> des <SEP> High <SEP> Chloride-Typs</I>
<tb> Nickelchlorid <SEP> 150 <SEP> bis <SEP> 300 <SEP> g <SEP> pro <SEP> Liter
<tb> Nickelsulfat <SEP> 40 <SEP> bis <SEP> <B>150</B> <SEP> g <SEP> pro <SEP> Liter
<tb> Borsäure <SEP> 30 <SEP> bis <SEP> 50 <SEP> g <SEP> pro <SEP> Liter
<tb> Arbeitstemperatur <SEP> 30 <SEP> bis <SEP> 65 <SEP> C
<tb> pH-Wert <SEP> 3,5 <SEP> bis <SEP> 5,0 <SEP> elektrometrisch Die Bäder werden im allgemeinen unter Bewegen angewendet, das mechanisch, durch Luft oder Umpum pen erfolgen kann.
Die Arbeitsbedingungen für die elektrolytische Ab scheidung von Belägen aus den erwähnten Bädern kön nen Temperaturen von 40 bis 70 C und einen pH-Wert von 3,5 bis 5 (elektrometrisch) und vorzugsweise von 3,8 bis 4,5 umfassen, wobei eine Kathodenstromdichte von 1 bis 10 A pro dm2 angewendet wird. Besonders bevor zugte Stromdichten bei Bädern der Tabelle 1 können bei 4 bis 6 A pro dm2 und bei Bädern der Tabelle 2 bei 5 bis 10 A pro dm2 liegen. Die Elektrolyse erfolgt vor zugsweise unter Bewegung des Bades.
Im folgenden sind einige Beispiele für die Durchfüh rung des erfindungsgemässen Verfahrens angegeben.
In den Beispielen 1 bis 21 wurde ein Bad vom Watts- Typ verwendet, das pro Liter 300 g Nickelsulfat, 60 g Nickelchlorid und 45 g Borsäure enthielt. Die übrigen Beispiele wiesen einen hohen Chloridgehalt auf und ent hielten pro Liter 45 g Nickelsulfat, 250g Nickelchlorid und 45 g Borsäure. In den Beispielen 1 bis 7, 9, 10 und 14 bis 29 wurde als Netzmittel Dihexylsulfosuccinat in einer Menge von 0,1 g pro Liter unter Rühren verwen det und in den verbleibenden Beispielen wurde Natrium- laurylsulfat verwendet und mechanisch gerührt.
In sämt lichen Versuchen wurden spiegelglänzende, weitgehend ausgeglichene Niederschläge erzeugt.
In den Beispielen 1 bis 29 wurden primäre Glanz mittel nach folgender Aufstellung verwendet:
EMI0003.0005
Primäres <SEP> Verbindung
<tb> Glanzmittel
<tb> A <SEP> 1,2-Dichlorpropenpyridiniumchlorid
<tb> B <SEP> 1,2-Dichlorpropenpyridiniumjodid
<tb> C <SEP> 1,2-Dichlorpropen-3,4-dimethylpyridi niumjodid
<tb> D <SEP> 1,2-Dichlorpropen-4-methylpyridinium jodid
<tb> E <SEP> 1,2-Dichlorpropen-2-methylpyridinium jodid
<tb> F <SEP> 1,2-Dichlorpropen-3,5-dimethylpyridi niumjodid
EMI0003.0006
Beispiel <SEP> Zusatzstoff <SEP> Gehalt <SEP> Stromdichte <SEP> pIi-Wert <SEP> Temp.
<tb> Nr. <SEP> Nr.
<SEP> A/dm= <SEP> elektrometrisch <SEP> OC
<tb> 1 <SEP> Primäres <SEP> Glanzmittel <SEP> A <SEP> 0,02 <SEP> 4,0 <SEP> 4,0 <SEP> 55
<tb> Saccharin <SEP> 2
<tb> Natrium-2-propen-l-sulfonat <SEP> 2
<tb> 2 <SEP> Primäres <SEP> Glanzmittel <SEP> B <SEP> 0,02 <SEP> 4,0 <SEP> 4,0 <SEP> 55
<tb> Saccharin <SEP> 2
<tb> Natrium-3-chlor-2-butensulfonat <SEP> 3
<tb> 3 <SEP> Primäres <SEP> Glanzmittel <SEP> C <SEP> 0,03 <SEP> 4,0 <SEP> 4,0 <SEP> 55
<tb> Saccharin <SEP> 2
<tb> Natrium-3-chlor-2-butensulfonat <SEP> 3
<tb> 4 <SEP> Primäres <SEP> Glanzmittel <SEP> D <SEP> 0,03 <SEP> 4,0 <SEP> 4,0 <SEP> 55
<tb> Saccharin <SEP> 2
<tb> Natrium-3-chlor-2-butensulfonat <SEP> 3
<tb> 5 <SEP> Primäres <SEP> Glanzmittel <SEP> E <SEP> 0,03 <SEP> 4,0 <SEP> 4,
0 <SEP> 55
<tb> Saccharin <SEP> 2
<tb> Natrium-2-chlor-2-butensulfonat <SEP> 3
<tb> 6 <SEP> Primäres <SEP> Glanzmittel <SEP> F <SEP> 0,03 <SEP> 4,0 <SEP> 4,0 <SEP> 55
<tb> Saccharin <SEP> 2
<tb> Natrium-3-chlor-2-butensulfonat <SEP> 3
<tb> 7 <SEP> Primäres <SEP> Glanzmittel <SEP> A <SEP> 0,02 <SEP> 5,0 <SEP> 3,5 <SEP> 60
<tb> Dibenzolsulfonamid <SEP> 2
<tb> Natrium-3-chlor-2-butensulfonat <SEP> 3
<tb> 8 <SEP> Primäres <SEP> Glanzmittel <SEP> A <SEP> 0,02 <SEP> 5,0 <SEP> 4,2 <SEP> 60
<tb> Saccharin <SEP> 2
<tb> Isomerengemisch <SEP> von <SEP> Natrium-3-buten- <SEP> 4
<tb> -2-hydroxy-l-sulfonat <SEP> und <SEP> Natrium -3-buten-l-hydroxy-2-sulfonat
<tb> 9 <SEP> Primäres <SEP> Glanzmittel <SEP> A <SEP> 0,02 <SEP> 5,0 <SEP> 4,0 <SEP> 60
<tb> Saccharin <SEP> 2
<tb> Natrium-2-propin-l-sulfonat <SEP> 2
<tb> 10 <SEP> Primäres <SEP> Glanzmittel <SEP> B <SEP> 0,
02 <SEP> 4,0 <SEP> 4,0 <SEP> 60
<tb> Natriumbenzolmonosulfonat <SEP> 4
<tb> Natrium-3-chlor-2-buten-l-sulfonat <SEP> 4
<tb> 11 <SEP> Primäres <SEP> Glanzmittel <SEP> B <SEP> 0,02 <SEP> 4,0 <SEP> 3,8 <SEP> 55
<tb> Dibenzolsulfonamid <SEP> 2
<tb> Natrium-2-propen-1-sulfonat <SEP> 2
<tb> 12 <SEP> Primäres <SEP> Glanzmittel <SEP> C <SEP> 0,05 <SEP> 4,0 <SEP> 4,0 <SEP> 55
<tb> Saccharin <SEP> 2
<tb> Natrium-3-chlor-2-buten-l-sulfonat <SEP> 3
EMI0004.0001
Beispiel <SEP> Zusatzstoff <SEP> Gehalt <SEP> Stromdichte <SEP> pH-Wert <SEP> Temp.
<tb> Nr. <SEP> Nr.
<SEP> Aldm= <SEP> elektrometrisch <SEP> oC'
<tb> 13 <SEP> Primäres <SEP> Glanzmittel <SEP> D <SEP> 0,05 <SEP> 4,0 <SEP> 3,5 <SEP> 60r
<tb> Natriumbenzolmonosulfonat <SEP> 4
<tb> Natrium-2-propen-l-sulfonat <SEP> 2
<tb> 14 <SEP> Primäres <SEP> Glanzmittel <SEP> E <SEP> 0,05 <SEP> 6,0 <SEP> 4,0 <SEP> 65
<tb> Saccharin <SEP> 2
<tb> Natrium-3-chlor-2-buten-l-sulfonat <SEP> 4
<tb> 15 <SEP> Primäres <SEP> Glanzmittel <SEP> F <SEP> 0,05 <SEP> 4,0 <SEP> 4,5 <SEP> 5ü
<tb> Natriumbenzolmonosulfonat <SEP> 4
<tb> Natrium-2-propen-l-sulfonat <SEP> 2
<tb> 16 <SEP> Primäres <SEP> Glanzmittel <SEP> A <SEP> 0,02 <SEP> 4,0 <SEP> 4,0 <SEP> 55
<tb> Saccharin <SEP> 2
<tb> Natrium- <SEP> 1-phenyläthen-2-sulfonat <SEP> 2
<tb> 17 <SEP> Primäres <SEP> Glanzmittel <SEP> A <SEP> 0,04 <SEP> 4,0 <SEP> 4,
0 <SEP> 55
<tb> Natriumbenzolmonosulfonat <SEP> 4
<tb> Natrium-l-phenyläthen-2-sulfonat <SEP> 2
<tb> 18 <SEP> Primäres <SEP> Glanzmittel <SEP> A <SEP> 0,04 <SEP> 4,0 <SEP> 4,0 <SEP> 55
<tb> Dibenzolsulfonamid <SEP> 2
<tb> Natrium- <SEP> 1-phenyläthen-2-sulfonat <SEP> 2
<tb> 19 <SEP> Primäres <SEP> Glanzmittel <SEP> C <SEP> 0,02 <SEP> 4,0 <SEP> 4,0 <SEP> 55
<tb> Saccharin <SEP> 2
<tb> Natrium-l-phenyläthen-2-sulfonat <SEP> 2
<tb> 20 <SEP> Primäres <SEP> Glanzmittel <SEP> C <SEP> 0,04 <SEP> 4,0 <SEP> 4,0 <SEP> 55
<tb> Natriumbenzolmonosulfonat <SEP> 4
<tb> Natrium- <SEP> 1-phenyläthen-2-sulfonat <SEP> 2
<tb> 21 <SEP> Primäres <SEP> Glanzmittel <SEP> C <SEP> 0,04 <SEP> 4,0 <SEP> 4,0 <SEP> 55
<tb> Dibenzolsulfonamid <SEP> 2
<tb> Natrium-l-phenyläthen-2-sulfonat <SEP> 2
<tb> 22 <SEP> Primäres <SEP> Glanzmittel <SEP> A <SEP> 0,02 <SEP> 5,0 <SEP> 4,
0 <SEP> 55
<tb> Natriumbenzolmonosulfonat <SEP> 4
<tb> Isomerengemisch <SEP> von <SEP> Natrium-3-buten- <SEP> 4
<tb> -2-hydroxy-l-sulfonat <SEP> und <SEP> Natrium -3-buten-l-hydroxy-2-sulfonat
<tb> 23 <SEP> Primäres <SEP> Glanzmittel <SEP> A <SEP> 0,02 <SEP> 5,0 <SEP> 4,0 <SEP> 55
<tb> Natriumbenzolmonosulfonat <SEP> 4
<tb> Natrium-2-propin-l-sulfonat <SEP> 2
<tb> 24 <SEP> Primäres <SEP> Glanzmittel <SEP> A <SEP> 0,02 <SEP> 4,0 <SEP> 4,0 <SEP> 55
<tb> Saccharin <SEP> 2
<tb> Natrium-3-chlor-2-buten-1-sulfonat <SEP> 3
<tb> 25 <SEP> Primäres <SEP> Glanzmittel <SEP> B <SEP> 0,03 <SEP> 4,0 <SEP> 4,0 <SEP> 55
<tb> Saccharin <SEP> 2
<tb> Natrium-3-chlor-2-buten-1-sulfonat <SEP> 3
<tb> 26 <SEP> Primäres <SEP> Glanzmittel <SEP> C <SEP> 0,05 <SEP> 4,0 <SEP> 4,
0 <SEP> 55
<tb> Saccharin <SEP> 2
<tb> Natrium-3-chlor-2-buten-1-sulfonat <SEP> 3
<tb> 27 <SEP> Primäres <SEP> Glanzmittel <SEP> D <SEP> 0,05 <SEP> 4,0 <SEP> 4,0 <SEP> 55
<tb> Saccharin <SEP> 2
<tb> Natrium-3-chlor-2-buten-l-sulfonat <SEP> 3
EMI0005.0001
Beispiel <SEP> Zusatzstoff <SEP> Gehalt <SEP> Stromdichte <SEP> pH-Wert <SEP> Temp.
<tb> Nr. <SEP> Nr.
<SEP> Aldm= <SEP> elektrometrisch <SEP> OC
<tb> 28 <SEP> Primäres <SEP> Glanzmittel <SEP> E <SEP> 0,05 <SEP> 4,0 <SEP> 4,0 <SEP> 55
<tb> Saccharin <SEP> 2
<tb> Natrium-3-chlor-2-buten-l-sulfonat <SEP> 3
<tb> 29 <SEP> Primäres <SEP> Glanzmittel <SEP> F <SEP> 0,05 <SEP> 4,0 <SEP> 4,0 <SEP> 55
<tb> Saccharin <SEP> 2
<tb> Natrium-3-chlor-2-buten-l-sulfonat <SEP> 3 Durch die vorangegangenen Beispiele und die dort an gegebenen Bäder und Arbeitsweisen lassen sich spiegel blanke, stark ausgeglichene Nickelschichten erzeugen.
Die Nickelschichten, welche unter Verwendung von Bädern mit den neuen Glanzmittelkombinationen gemäss der Erfindung erzeugt werden, besitzen einen spiegelar tigen Glanz, einen hohen Grad der Duktilität und zwar über einen weiten Bereich der angewendeten Stromdich ten.
Claims (1)
- PATENTANSPRÜCHE I. Verfahren zum elektrolytischen Glanzvernickeln, dadurch gekennzeichnet, dass man in einem Bad ver nickelt, das ein sekundäres Glanzmittel und 0,005 bis 0,1 g pro Liter eines primären Glanzmittels enthält, das ein Kation der Formel EMI0005.0005 aufweist, worin a eine ganze Zahl von 0 bis 3 ist, R ein Alkylradikal mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen, ein Halo genatom oder ein Hydroxyalkylradikal mit 1 bis 4 Koh- lenstoffatomen und EMI0005.0012 ein Pyridin- oder Chinolin- ring ist.II. Bad zur Durchführung des Verfahrens gemäss Patentanspruch I, das lösliche Nickelsalze enthält, da- durch gekennzeichnet, dass das Bad das sekundäre Glanz mittel und 0,005 bis 0,1 pro Liter des primären Glanz mittels enthält. <B>111.</B> Nach dem Verfahren gemäss Patentanspruch I erhaltene Nickelschicht. UNTERANSPRÜCHE 1. Verfahren nach Patentanspruch I, dadurch gekenn zeichnet, dass das primäre Glanzmittel in einer Menge von 0,01 bis 0,05 g pro Liter enthalten ist. 2. Verfahren nach Patentanspruch I, dadurch gekenn zeichnet, dass das Bad noch ein ungesättigtes Kohlen- wasserstoffsulfonat als sekundäres Hilfsglanzmittel ent hält. 3.Verfahren nach Patentanspruch I, dadurch gekenn zeichnet, dass das primäre Glanzmittel 1,2-Dichlorpropen- pyridiniumchlorid, 1,2-Dichlor-propen-pyridiniumjodid, 1,2- Dichlorpropen-3,4 - dimethylpyridiniumchlorid, 1,2 - -Dichlorpropen-3,4-dimethylpyridiniumjodid, 1,2-Dichlor- propen-4-methylpyridiniumchlorid, 1,2-Dichlorpropen-4- -methylpyridiniumjodid, 1,2-Dichlorpropen-2-methyl-l- -pyridiniumchlorid, 1,2 - Dichlorpropen - 2-methylpyridi- niumjodid, 1,2-Dichlorpropen-3,5-dimethylpyridinium- chlorid oder 1,2-Dichlorpropen-3,5-dimethylpyridinium- jodid ist. 4. Bad nach Patentanspruch 1I, dadurch gekennzeich net, dass das primäre Glanzmittel in einer Menge von 0,01 bis 0,05 g pro Liter enthalten ist. 5. Bad nach Patentanspruch II, dadurch gekennzeich net, dass es noch ein ungesättigtes Kohlenwasserstoffsul- fonat als sekundäres Hilfsglanzmittel enthält.Sollten Teile der Beschreibung mit der im Patentan spruch gegebenen Definition der Erfindung nicht in Ein klang stehen, so sei daran erinnert, dass gemäss Art. 51 des Patentgesetzes der Patentanspruch für den sachli chen Geltungsbereich des Patentes massgebend ist.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US255692A US3218244A (en) | 1963-02-01 | 1963-02-01 | Nickel electroplating bath containing a 1, 2-dichloropropene pyridinium or quinolinium brightener |
| CH104464A CH454850A (de) | 1963-02-01 | 1964-01-29 | Verfahren zur Herstellung von 1,2-Dichlorpropenpyridinium- resp. Chinoliniumsalzen |
| US444482A US3413295A (en) | 1963-02-01 | 1965-02-25 | Certain 1, 2-dichloro-propene pyridinium and quinolinium halide derivatives |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CH473904A true CH473904A (de) | 1969-06-15 |
Family
ID=27172634
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CH915467A CH473904A (de) | 1963-02-01 | 1964-01-29 | Verfahren und Bad zum elektrolytischen Glanzvernickeln |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CH (1) | CH473904A (de) |
-
1964
- 1964-01-29 CH CH915467A patent/CH473904A/de not_active IP Right Cessation
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US2647866A (en) | Electroplating of nickel | |
| DE69007345T2 (de) | Nichtwässeriges Galvanisierbad zur Abscheidung von Aluminium. | |
| DE2318985C2 (de) | Wäßriges alkalisches Bad zur galvanischen Abscheidung von glänzenden Zinkschichten | |
| DE1066068B (de) | Elektrolyt zur galvanischen Abscheidung spiegelglänzender, eingeebneter, duktiler Nickelniederschläge | |
| DE2231988A1 (de) | Verfahren zur galvanischen abscheidung von zinn | |
| DE2630980A1 (de) | Verfahren zur elektrolytischen abscheidung einer eisenlegierung | |
| DE1621113A1 (de) | Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung von Nickel | |
| DE68908944T2 (de) | Plattierungsbad für die Elektroplattierung von Aluminium und Plattierungsverfahren, das dieses Bad verwendet. | |
| US3218244A (en) | Nickel electroplating bath containing a 1, 2-dichloropropene pyridinium or quinolinium brightener | |
| CH473904A (de) | Verfahren und Bad zum elektrolytischen Glanzvernickeln | |
| DE1470061B2 (de) | Glanznickelbad | |
| DE1621116C3 (de) | Glanznickelbad | |
| DE2623055A1 (de) | Platierungsbad zur elektroplatierung von nickel | |
| DE888191C (de) | Bad und Verfahren zur galvanischen Vernicklung | |
| DE1595944C2 (de) | Galvanisches Glanznickelbad | |
| DE1470061C3 (de) | Glanznickelbad | |
| US3245887A (en) | Electrodeposition of nickel | |
| US3170853A (en) | Bright nickel plating baths containing a vinyl pyridinium compound brightener | |
| DE1092744B (de) | Saures galvanisches Nickelbad | |
| CH495989A (de) | Verfahren zur Herstellung von 1,2-Dibrompropenpyridinium-resp. Chinolinium- bzw. Isochinoliniumsalzen | |
| DE1621157A1 (de) | Saures galvanisches Nickelbad | |
| US3678055A (en) | N-2,3-dibromopropenyl pyridinium, quinolinium and isoquinolinium derivatives | |
| CH495977A (de) | Verfahren zur Herstellung von w-Sulfokohlenwasserstoffoxy-cumarinverbindungen | |
| DE1228886C2 (de) | Saures galvanisches Bad | |
| DE2017343A1 (de) | Wäßriges galvanisches Bad |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PL | Patent ceased |