CH522954A - Verfahren zum Herstellen einer Transistoranordnung - Google Patents

Verfahren zum Herstellen einer Transistoranordnung

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CH522954A
CH522954A CH304271A CH304271A CH522954A CH 522954 A CH522954 A CH 522954A CH 304271 A CH304271 A CH 304271A CH 304271 A CH304271 A CH 304271A CH 522954 A CH522954 A CH 522954A
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CH304271A
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Helmuth Dr Murrmann
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Siemens Ag
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    • H10P95/00—Generic processes or apparatus for manufacture or treatments not covered by the other groups of this subclass
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W20/00—Interconnections in chips, wafers or substrates
    • H10W20/40—Interconnections external to wafers or substrates, e.g. back-end-of-line [BEOL] metallisations or vias connecting to gate electrodes
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DE19702013220 DE2013220A1 (de) 1970-03-19 1970-03-19 Verfahren zum Herstellen einer Transistor anordnung aus Silicium

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CH522954A true CH522954A (de) 1972-05-15

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ES374318A1 (es) * 1968-12-10 1972-03-16 Matsushita Electronics Corp Un metodo de fabricar un dispositivo semiconductor sensiblea la presion.

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DE2013220A1 (de) 1971-11-25
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FR2083421A1 (de) 1971-12-17
AT312054B (de) 1973-12-10
US3754321A (en) 1973-08-28
SE378154B (de) 1975-08-18
NL7103588A (de) 1971-09-21

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