CH625893A5 - - Google Patents

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CH625893A5
CH625893A5 CH214477A CH214477A CH625893A5 CH 625893 A5 CH625893 A5 CH 625893A5 CH 214477 A CH214477 A CH 214477A CH 214477 A CH214477 A CH 214477A CH 625893 A5 CH625893 A5 CH 625893A5
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Hoechst Ag
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Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Flachdruckformen, bei dem ein mit einer Aufzeichnungsschicht bedeckter Aluminium-Träger bildmässig mit einem Laserstrahl bestrahlt wird und dadurch in der Aufzeichnungsschicht oleo-phile oder unlösliche Bildstellen erzeugt werden.
Bei der photomechanischen Herstellung von Flachdruckformen wird normalerweise ein mit einer UV-lichtempfindlichen Schicht - beispielsweise Diazo-, Azido- oder photopolymeri-sierbare Verbindungen enthaltend - versehenes Kopiermaterial bildmässig belichtet und dann mit einer geeigneten Entwicklerbzw. Entschichter-Lösung entwicklet, wobei man oleophile Bildstellen und hydrophile Nichtbildsteilen erhält. Die oleophi-len Bildstellen sind normalerweise die nach der Entwicklung bzw. Entschichtung zurückgebliebenen Schichtbereiche, während die Nichtbildstellen die bei der Entwicklung bzw. Entschichtung freigelegten Bereiche der Trägeroberfläche sind.
Es ist bekannt, anstelle der Kontaktbelichtung mit aktini-schem Licht eine bildmässig gesteuerte Bestrahlung mit einem Laserstrahl durchzuführen.
In der US-PS 3 664 737 wird eine Druckplatte beschrieben, die eine UV-lichtempfindliche Schicht, vorzugsweise eine Dia-zoschicht, trägt und die mit Laser bestrahlt wird.
In der DT-AS 1 571 833 wird ein Verfahren zur Herstellung von Flachdruckformen oder hektographischen Druckformen beschrieben, bei dem ein Laserstrahl oder Elektronenbündel eine Silikonschicht von schlechter Haftfähigkeit zerstört.
Aus der DT-OS 2 302 398 ist ein Verfahren zur Herstellung von Druckformen bekannt, bei dem eine handelsübliche vorsensibilisierte Durckplatte mit photopolymerisierbarer Schicht durch bildmässige Laserbestrahlung gehärtet und dann entwik-kelt wird.
In den älteren deutschen Patentanmeldungen P 24 48 325 und P 25 43 820 wird die Herstellung von Druckplatten durch Laserbestrahlung von nicht lichtempfindlichen Aufzeichnungsschichten vorgeschlagen, wobei die bestrahlten Stellen der Aufzeichnungsschicht dauerhaft oleophil oder, falls die Schicht bereits oleophil war, in einer geeigneten Entwicklerflüssigkeit unlöslich werden. Als Trägermaterial wird. u.a. anodisiertes Aluminium genannt.
Aufgabe der Erfindung war es, die Eigenschaften derartiger Aufzeichnungsmaterialien mit nicht lichtempfindlicher oder mit lichtempfindlicher Schicht, insbesondere die Empfindlichkeit gegenüber Laserstrahlung, zu verbessern.
Die Erfindung geht aus von einem Verfahren zur Herstellung von Flachdruckformen, bei dem ein Aufzeichnungsmaterial mit einem Schichtträger aus anodisch oxydiertem Aluminium und einer Aufzeichnungsschicht auf der Oxidschicht bildmässig mit einem Laserstrahl bestrahlt und dadurch die bestrahlten Teile der Aufzeichnungsschicht oleophil und bzw. oder unlöslich gemacht und dann gegebenenfalls die nicht bestrahlten bildfreien Bereiche der Aufzeichnungsschicht mit einer Entwicklerflüssigkeit entschichtet werden.
Das erfindungsgemässe Verfahren ist dadurch gekennzeich-5 net, dass man einen Schichtträger mit einer Oxidschicht verwendet, die ein Gewicht von mindestens 3 g/m2, vorzugsweise von 5 bis 12 g/m2 hat.
Durch die Verwendung von Oxidschichten der genannten Mindestdicken wird es möglich, mit wesentlich kürzeren Be-io strahlungszeiten bzw. mit geringeren Strahlungsintensitäten auszukommen als bei Oxidschichten geringerer Dicke. Dieses Ergebnis ist überraschend.
Die Schichtträger der bei dem erfindungsgemässen Verfahren verwendeten Aufzeichnungsmaterialen werden in bekann-15 ter Weise hergestellt. Vorzugsweise wird das Aluminium vor der anodischen Oxydation mechanisch, chemisch oder elektrolytisch aufgerauht. Die Kombination einer elektrolytischen Aufrauhung mit einer anodischen Oxydation hat sich im kontinuierlichen Verfahren besonders bewährt. Die Aufrauhung erfolgt 20 in einem Bad aus verdünnter wässriger Mineralsäure, z.B. von Salz- oder Salpetersäure, unter Anwendung von Gleich- oder Wechselstrom.
Die Anodisierung erfolgt ebenfalls in wässriger Säure, z.B. in Schwefelsäure oder Phosphorsäure, vorzugsweise unter An-25 wendung von Gleichstrom. Die Stromdichten und Anodisierzei-ten werden dabei so abgestimmt, dass Oxidschichtdicken in den angegebenen Bereichen erhalten werden. Die Schichtdicke soll mindestens 3 g/m2 betragen. Die obere Grenze der Schichtdicke ist nicht kritisch, doch werden im allgemeinen oberhalb 15 g/m2 30 keine wesentlichen Verbesserungen mehr erzielt. Bei wesentlich höheren Schichtdicken, etwa oberhalb 30 g/m2, besteht zusätzlich die Gefahr, dass sich beim Biegen Risse in der Oxidschicht bilden können.
Als Aufzeichnungsschichten sind UV-lichtempfindliche und 35 UV-lichtunempfindliche ebenso geeignet wie hydrophile und oleophile Schichten, wobei die letztgenannten nach der bildmäs-sigen Laserbestrahlung entwickelt bzw. an den bildfreien Stellen entschichtet werden müssen, bevor sie in eine Offsetdruckmaschine gespannt werden können und der Druck in üblicher Wei-4o se mit fetter Farbe und Wischwasser erfolgt.
Als UV-lichtempfindliche Schichten sind die bekannten Diazo-, Azido- und photopolymerisierbaren Schichten geeignet, die Bindemittel, Farbstoffe, Weichmacher und dgl. enthalten können. Auch bei den normalerweise, d.h. bei UV-Belichtung, 45 positiv arbeitenden Schichten, werden bei dem erfindungsgemässen Verfahren die druckenden Bildstellen immer an den bestrahlten Stellen erzeugt, die Schicht arbeitet also in jedem Fall negativ.
50 Als UV-lichtunempfindliche und oleophile Aufzeichnungsschichten sind solche geeignet, die überwiegend aus wasserunlöslichen polymeren organischen Stoffen bestehen, z.B. Novola-ken, Epoxyharzen, Maleinatharzen, Polyvinylacetalen, Poly-estern, Harnstoff oder Melaminharzen, Resolen, Methoxy-S5 methylpolycaprolactam oder Polystyrol. Auch Mischungen derselben sind brauchbar. Den Schichten können zusätzlich in kleinen Mengen Farbstoffe, Weichmacher, Fettsäuren und Netzmittel zugesetzt werden. Derartige Schichten sind in der deutschen Offenlegungsschrift 2 543 820 beschrieben. 60 Die UV-lichtempfindlichen und die lichtunempfindlichen, oleophilen Schichten werden nach der Bestrahlung entwickelt bzw. entschichtet.
Als Entwickler sind alkalische oder saure wässrige Lösungen geeignet, die anorganische Salze, schwache Säuren und ggf. 65 Netzmittel und Farbstoffe enthalten. Brauchbar sind auch wässrige Lösungen, die bis zu etwa 40% ihres Volumens niedere aliphatische Alkohole, z.B. Propanole, oder andere mit Wasser mischbare organische Lösungsmittel enthalten.
3 625 893
Als nicht lichtempfindliche hydrophile Aufzeichnungs- Schichten werden diesen oftmals noch Äther und/oder Ester schichten können Schichten und Oberflächen der unterschied- wie Dioxan, Tetrahydrofuran, Butylacetat und Äthylenglykol-
lichsten Art in Betracht kommen, wie sie z.B. in der deutschen methylätheracetat zugesetzt.
Offenlegungsschrift 2 448 325 beschrieben sind. Zur Herstellung des erfindungsgemässen Kopiermaterials
Eine wichtige Gruppe bilden Schichten aus wasserlöslichen, s für die Druckplattenherstellung werden die oben genannten zur Bildung gleichmässiger, dünner, nicht kristallisierender Fil- Stoffe in einem oder mehreren der genannten Lösungsmittel me geeigneten organischen Substanzen, die monomer oder po- gelöst, auf den erfindungsgemäss verwendeten Schichtträger lymer sein können. aufgebracht, und die aufgetragene Lösung wird getrocknet. Die
Geeignete wasserlösliche Polymere sind z.B. Polyvinylalko- Beschichtung kann durch Aufschleudern, Sprühen, Tauchen,
hol, Polyvinylpyrrolidon, Plyalkylenoxide, Polyalkylenimine, 10 Antragen mittels Walzen oder mit Hilfe eines Flüssigkeitsfilmes Celluloseäther wie Carboxymethylcellulose oder Hydroxyäthyl- erfolgen.
cellulose, Polyacrylamid, Polyacrylsäure, Polymethacrylsäure, Obwohl über die Natur der Veränderung der Aufzeich-
Stärke, Dextrin, Casein, Gelatine, Gummiarabicum und Tan- nungsschichten durch Laserbestrahlung keine sicheren Vorstel-nin. denen vorteilhaft Farbstoffe, die eine sensibilisierende Wir- lungen bestehen, kann angenommen werden, dass dabei eine kung haben, zugefügt werden. 15 Polymerisation oder eine Vernetzung, ggf. unter Abspaltung Geeignete monomere oder niedermolekulare wasserlösliche oder Umwandlung hydrophiler Gruppen, insbesondere von
Substanzen sind z.B. wasserlösliche Farbstoffe, wie Rhodamine, OH-Gruppen, in hydrophobe Gruppierungen erfolgt.
Methylenblau, Astrazonorange, Eosin oder Triphenylmethan- Geeignet für die Zwecke vorliegender Erfindung sind lei-
farbstoffe, z.B. Kristallviolett. stungsgerechte kürzerwellige Laser, beispielsweise Ar-Laser,
Mit Vorteil können auch wasserunlösliche hydrophile 20 Krypton-Ionen-Laser, Helium/Cadmium-Laser, die etwa zwi-
Schichten verwendet werden, die sowohl anorganischer als auch sehen 300 und 600 nm emittieren, aber für einige Schichten organischer Natur sein können. auch C02-Laser, welche bei 10,6 pim emittieren, oder YAG-
Geeignete organische wasserunlösliche hydrophile Substan- Laser, die bei 1,06 (xm emittieren.
zen sind z.B. Assoziationsprodukte aus Phenolharzen und Poly- Der Laserstrahl wird mittels einer vorgegebenen program-
äthylenoxiden, wie sie in der DT-OS 1 447 978 beschrieben 2s mierten Strich- und/oder Rasterbewegung gesteuert. Verfahren sind, gehärtete Melamin-Formaldehyd-Harze gemäss der DT- und Vorrichtung zur Regelung des Laserstrahls durch Computer
AS 1 169 467 oder Amin-Harnstoff-Formaldehyd-Kondensa- sowie die Bündelung, Modulation bzw. Ablenkung des Strahles tionsharze oder sulfonierte Harnstoff-Formaldehydharze, wie sind nicht Gegenstand dieser Erfindung; sie sind mehrfach be-
sie in der DT-AS 1 166 217 beschrieben sind ; ferner vernetzte schrieben, beispielsweise in den deutschen Offenlegungsschrif-
hydrophile Kolloide, z.B. vernetzter Polyvinylalkohol, die ggf. 30 ten 2 318 133, Seiten 3 ff., 2 344 233, Seiten 8 ff. und in den hydrophile anorganische Pigmente enthalten können. US-PS 3 751 587,3 745 586,3 747 117,3 475 760,3 506 779
Weiterhin geeignet sind wasserunlösliche hydrophile anor- und 3 664 737.
ganische Pigmentschichten, die in die anodische Oxidschicht des Die Schichten werden vorzugsweise mit einem Argon-Laser
Trägers eingebettet sind, z.B. Schichten aus pyrogener Kiesel- von 1 bis 25 Watt oder mit einem C02-Laser bildmässig be-
säure. 35 strahlt. Je nach Empfindlichkeit bzw. Absorptionsvermögen der
Eine wichtige Gruppe von erfindungsgemäss verwendbaren eingesetzten Schichten werden Geschwindigkeiten bis 110 m wasserunlöslichen hydrophilen Schichten sind die Schichten, die und mehr pro Sekunde erreicht. Durch Fokussierung des Laser-durch Behandlung der Aluminiumoxidoberfläche mit monome- strahles mit einem Objektiv entstehen auf der Schicht Brennren oder polymeren organischen oder anorganischen Säuren flecke von weniger als 50 |im Durchmesser. Wenn die Schich-oder deren Salzen oder bestimmten Komplexsäuren oder -sai- 40 ten lichtunempfindlich sind, kann die Bestrahlung im Tageslicht zen erhalten worden sind. Derartige Schichten sind in der Flach- erfolgen.
drucktechnik bekannt und werden verbreitet zur Vorbehand- Durch die Laserbestrahlung wird eine sehr dauerhafte Oleo-
lung von Metallträgern für das Aufbringen lichtempfindlicher philierung der Oberfläche erreicht, so dass häufig hohe Druck-
Schichten verwendet. Beispiele für geeignete Behandlungsmit- auflagen erreicht werden können.
tel sind Alkalisilikate (DT-AS 1 471 707), Phosphonsäuren 45 Die folgenden Beispiele erläutern bevorzugte Ausführungsoder deren Derivate (DT-OS 1 621 478), Titan- oder Zirkon- formen. Prozentangaben sind, wenn ni"uts anderes angegeben, hexahalogenide, (DT-AS 1 183 919 und 1 192 666), organische Gewichtsprozente. Als Gewichtsteil (Gt.) ist 1 g zu setzen, wenn Polysäuren (DT-AS 1 091 433), monomere Carbonsäuren oder als Volumenteil (Vt.) 1 ml gewählt wird.
deren Derivate, Phosphormolybdate, Silicomolybdate usw. Für die Zwecke der vorliegenden Erfindung werden jedoch im all- so gemeinen Behandlungslösungen mit höheren Konzentrationen Beispiel 1
der angegebenen Substanzen als sonst üblich eingesetzt, vor- Eine walzblanke Al-Rolle wird im Bandverfahren elektroly-
zugsweise Lösungen mit einem Gehalt von etwa 3 bis 15 tisch aufgerauht und 146 Sekunden bei 40 °C mit Gleichstrom
Gew.%. von 9A/dm2 in einem wässrigen Bad, das 150 g H2S04 je Liter
Im Falle der hydrophilen Schichten wird die bestrahlte Plat- ss enthält, anodisch oxydiert. Dabei wird eine 10 g/m2 dicke ante ohne weitere Behandlung in eine Offsetmaschine einge- odische Oxydschicht gebildet. Danach wird 30 Sekunden bei spannt, und es werden in üblicher Weise ölige bzw. fette Druck- 90 °C mit einer 2 %igen Lösung von Polyvinylphosphonsäure in färben und Feuchtwasser angetragen. Dabei kann, wenn die ur- Wasser behandelt und getrocknet.
sprüngliche hydrophile Oberflächenschicht wasserlöslich war, Man bestrahlt bildmässig mit einem Argon-Ionen-Laser mit diese Schicht vom Feuchtwasser abgetragen werden. Wenn die 60 5 Watt über alle Spektrallinien bei einer Geschwindigkeit von hydrophile Schicht wasserunlöslich ist, erfolgt praktisch keine mindestens 3,5 m/sec.
Abtragung von Substanz durch das Feuchtwasser, die unbe- Die Platte ist an den bestrahlten Stellen voll oleophil gewor-
strahlten Stellen dienen unmittelbar als Bildhintergrund. den und wird ohne weitere Arbeitsgänge der Entwicklung bzw.
Als Lösungsmittel für die fabrikatorische Herstellung der Entschichtung direkt in eine Offsetmaschine eingespannt, und
Schichten kommen allgemein als gute Löser bekannte Flüssig- es der Druck kann beginnen.
keiten in Frage. Bevorzugt sind Äthylenglykolmonomethyl- Eine 2,0 g/m2 dicke anodische Oxidschicht, auf AI, herge-
äther, Äthylenglykolmonoathyläther, Dimethylformamid, Di- stellt durch 26 Sekunden Anodisieren in gleicher Weise, die acetonalkohol und Butyrolacton. Zur Erzielung gleichmässiger ebenso mit Polyvinylphosphonsäure behandelt ist, wird mit der
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fünffachen Stromstärke also mit 25 Watt und 3,5 m/sec. bestrahlt und ist selbst dann an den bestrahlten Stellen nicht ausreichend oleophil.
Beispiel 2
Eine AI-Platte mit einer Oxidschicht von 3 g/m2, hergestellt durch 40 Sekunden Anodisieren wie in Beispiel 1, wird mit einer wässerigen Lösung beschichtet, die 2% Polyvinylalkohol mit einem Hydrolysegrad von 88% und einer Viskosität von 4 cP (bezogen auf 4%ige wässrige Lösung bei 20 °C) und 1 % Kristallviolett enthält. Man bestrahlt mit einem Argonlaser bei 5 Watt Strahlleistung und überwischt mit Wasser, wodurch die nicht vom Laserstrahl getroffenen Stellen entschichtet werden, während die Bildstellen nicht angegriffen werden.
Eine ebenso beschichtete AI-Platte mit einer 1 g/m2 dicken Oxidschicht (8,5 Sekunden anodisiert) muss mit über 10 Watt bestrahlt werden, um ein annähernd gleichwertiges Ergebnis erhalten zu können.
Beispiel 3
Eine AI-Platte mit einer anodischen Oxidschicht von 5 g/m2 (75 Sekunden wie in Beispiel 1 anodisiert) wird mit einer Lösung von 1 % eines Diazopolykondensates, hergestellt durch Kondensieren von 32,3 g 3-Methoxy-diphenylamin-4-diazo-niumsulfat und 25,8 g 4,4'-Bismethoxymethyl-diphenyläther in 170 g 85 %iger Phosphorsäure bei 40 °C und Isolieren als Mesi-tylensulfonat, und 0,5% eines Polyvinylformals (Molgewicht 30 000, OH-Gruppengehalt 7 Mol-%,Acetatgehalt 20-27 Mol-%) beschichtet. Man bestrahlt bildmässig mit einem Argonlaser bei 10 Watt Leistung und überwischt anschliessend mit einem Entwickler folgender Zusammensetzung: 6% Mg-sulfat, 0,7 % Netzmittel (Fettalkoholpolyglykoläther), 65 % Wasser und 32% n-Propanol. Die nicht vom Strahl getroffenen Stellen werden dadurch vom Träger entfernt.
Eine ebenso beschichtete Platte mit einer 1,0 g/m2 dicken Oxidschicht muss mit über 20 Watt bestrahlt werden, um ein ähnliches Ergebnis zu erhalten.
Beispiel 4
Eine AI-Platte mit einer anodischen Oxidschicht von 10 g/m2 wird mit einer wässrigen Lösung beschichtet, die 1 % eines Polyvinylalkohols mit einem Hydrolysegrad von 98 % und einer Viskosität von 10 cP (bezogen auf 4%ige wässrige Lösung bei 20 °C) und 0,3 % Eosin enthält.
Man bestrahlt bildmässig mit einem 300 Watt C02-Laser, dessen Strahlleistung auf 30 Watt gedrosselt ist. Damit wird an den vom Strahl getroffenen Stellen volle Oleophilierung erreicht. Nach Überwischen mit Wasser kann mit dem Durckvor-gang begonnen werden.
Eine ebenso beschichtete AI-Platte mit einer 1 g/m2 dicken Oxidschicht ist nach der Bestrahlung mit 140 Watt noch nicht voll oleophil gehärtet.
Beispiel 5
Die in Beispiel 3 beschriebene Platte wird am C02-Laser bildmässig bestrahlt. Es genügen 30 Watt Strahlleistung für die oleophile Härtung der Schicht.
Die gleiche Schicht auf nur 1 g/m2 dickem Oxid erfordert eine Bestrahlung am C02-Laser mit mindestens 140 Watt, um ein annähernd gleiches Ergebnis erhalten zu können.
Beispiel 6
Eine AI-Platte mit einer anodischen Oxidschicht von 10 g/m2 wird mit folgender Lösung beschichtet:
1,15 Gew.-Teile des Veresterungsproduktes aus 1 Mol 2,3,4-Trihydroxy-benzophenon und 3 Mol Naphthochinon-( 1,2)-diazid-(2)-5-sulfonsäurechlorid.
0,70 Gew.-Teile des Veresterungsproduktes aus 1 Mol 2,2'-Dihydroxy-dinaphthyl-(l,l')-methan und 2 Mol Naphtho-chinon-(l,2)-diazid-(2)-5-Sulfonsäurechlorid>
7,0 Gew.-Teile eines Novolak-Typs vom Erweichungspunkt 112 °-l 19 0 und dem Gehalt an phenolischen OH-Gruppen von 14 Gew.-%,
io 90,0 Gew.-Teile Äthylenglykolmonomethyläther.
Man bestrahlt bildmässig mit einem 25 Watt Argon-Ionen-Laser, belichtet danach die gesamte Oberfläche mit einer Me-tall-Halogenid-Lampe und überwischt anschliessend mit einem Entwickler folgender Zusammensetzimg: 5 % Na-metasilikat, 15 3,3% Trinatriumphosphat und 0,4% Mononatriumphosphat in Wasser.
Dabei werden die nicht vom Laserstrahl getroffenen Bereiche abgelöst, während die bestrahlten Bereiche als oleophile Bildstellen stehenbleiben.
20 Setzt man eine AI-Platte mit 1 g/m2 Oxid ein und beschichtet und bestrahlt in gleicher Weise mit 25 Watt Leistung, so muss die maximale Geschwindigkeit wesentlich geringer sein, um die bestrahlten Teile im Entwickler auch nach der UV-Belichtung vollständig unlöslich zu machen.
25
Beispiel 7
Eine AI-Platte mit einer anodischen Oxidschicht von 10 g/m2 wird mit einer Lösung beschichtet, die 1 % eines nichtpla-30 stifizierten Harnstoffharzes (Resamin SHF 237) und 0,5 % Rhodamin 6 GDN in Äthylenglykolmonomethyläther enthält.
Man bestrahlt bildmässig mit einem 5 Watt Argonlaser bei 3,5 m/sec. und entschichtet danach die nicht vom Strahl getroffenen Stellen mit einer wässrigen Lösung folgender Zusammen-35 setzung:
3,7% Mg-sulfat. 7 H20 15,6% n-Propanol 40 0,6% Äthylenglykolmonobutyläther 0,4%nichtionisches Netzmittel
(Polyoxyäthylenalkylphenoläther).
Die gleiche Schicht auf einem anodischen Oxid mit der 45 Schichtdicke von etwa 1 g/m2 kann auch bei Bestrahlung mit 25 Watt Strahlleistung nicht ausreichend oleophil gehärtet werden.
Die Dicke der anodisch erzeugten Oxidschichten wurde in den Ausführungsbeispielen wie folgt bestimmt:
Eine Probe der anodisierten Aluminiumfolie, deren Rück-50 seite zuvor von der Luftoxidschicht befreit worden war, wurde ausgewogen und dann 4 Minuten bei 60 °C in eine Lösung der folgenden Zusammensetzung getaucht:
55
300 ml Wasser
960 ml Phosphorsäure (85%ig) 480 g Chromsäureanhydrid.
Dabei wurde die Oxidschicht abgelöst, während das Alumi-60 nium selbst unangegriffen blieb. Die Probe wurde nach dem Trocknen wieder ausgewogen und aus der Gewichtsdifferenz und der Oberfläche das Schichtgewicht berechnet.
C

Claims (3)

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1. Verfahren zur Herstellung von Flachdruckformen, bei dem man ein Aufzeichnungsmaterial, welches einen Schichtträger aus anodisch oxydiertem Aluminium und eine auf der Oxydschicht angeordnete Aufzeichnungsschicht aufweist, bildmässig mit einem Laserstrahl bestrahlt, wodurch die bestrahlten Bereiche der Aufzeichnungsschicht oleophil und/oder unlöslich gemacht werden, dadurch gekennzeichnet, dass man einen Schichtträger mit einer Oxydschicht, die ein Gewicht von mindestens 3 g/m2 hat, verwendet.
2. Verfahren nach Patentanspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass man einen Schichtträger mit einer Oxydschicht, die ein Gewicht von 5 bis 12 g/m2 hat, verwendet.
2
PATENTANSPRÜCHE
3. Verfahren nach Patentanspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass man die bildfreien Bereiche durch Waschen mit einer Entwicklerflüssigkeit entschichtet.
CH214477A 1976-02-23 1977-02-21 CH625893A5 (de)

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JP (1) JPS52103209A (de)
AT (1) AT352151B (de)
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BE (1) BE851664A (de)
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CA (1) CA1094376A (de)
CH (1) CH625893A5 (de)
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DE (1) DE2607207C2 (de)
DK (1) DK74777A (de)
ES (1) ES456164A1 (de)
FI (1) FI770549A7 (de)
FR (1) FR2341881A1 (de)
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IL (1) IL51506A (de)
IT (1) IT1073191B (de)
LU (1) LU76815A1 (de)
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