CZ292739B6 - Pozitivně pracující, oleofilní, tepelně citlivá kompozice, litografická výchozí tisková deska obsahující tuto kompozici a způsob výroby litografické výchozí tiskové desky - Google Patents

Pozitivně pracující, oleofilní, tepelně citlivá kompozice, litografická výchozí tisková deska obsahující tuto kompozici a způsob výroby litografické výchozí tiskové desky Download PDF

Info

Publication number
CZ292739B6
CZ292739B6 CZ19974008A CZ400897A CZ292739B6 CZ 292739 B6 CZ292739 B6 CZ 292739B6 CZ 19974008 A CZ19974008 A CZ 19974008A CZ 400897 A CZ400897 A CZ 400897A CZ 292739 B6 CZ292739 B6 CZ 292739B6
Authority
CZ
Czechia
Prior art keywords
composition
compound
printing plate
lithographic printing
solubility
Prior art date
Application number
CZ19974008A
Other languages
English (en)
Other versions
CZ400897A3 (cs
Inventor
Gareth Rhodri Parsons
David Stephen Riley
Richard David Hoare
Alan Stanley Victor Monk
Original Assignee
Horsell Graphic Industries Limited
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=27268256&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=CZ292739(B6) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Priority claimed from GBGB9608394.4A external-priority patent/GB9608394D0/en
Priority claimed from GBGB9614693.1A external-priority patent/GB9614693D0/en
Priority claimed from PCT/GB1996/001973 external-priority patent/WO1997007986A2/en
Priority claimed from GBGB9700884.1A external-priority patent/GB9700884D0/en
Application filed by Horsell Graphic Industries Limited filed Critical Horsell Graphic Industries Limited
Publication of CZ400897A3 publication Critical patent/CZ400897A3/cs
Publication of CZ292739B6 publication Critical patent/CZ292739B6/cs

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41MPRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/26Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
    • B41M5/36Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using a polymeric layer, which may be particulate and which is deformed or structurally changed with modification of its' properties, e.g. of its' optical hydrophobic-hydrophilic, solubility or permeability properties
    • B41M5/368Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using a polymeric layer, which may be particulate and which is deformed or structurally changed with modification of its' properties, e.g. of its' optical hydrophobic-hydrophilic, solubility or permeability properties involving the creation of a soluble/insoluble or hydrophilic/hydrophobic permeability pattern; Peel development
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00Forme preparation
    • B41C1/10Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00Forme preparation
    • B41C1/10Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • B41C1/1016Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials characterised by structural details, e.g. protective layers, backcoat layers or several imaging layers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/02Positive working, i.e. the exposed (imaged) areas are removed
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/06Developable by an alkaline solution
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/14Multiple imaging layers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/22Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by organic non-macromolecular additives, e.g. dyes, UV-absorbers, plasticisers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/24Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. acrylics, vinyl polymers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/26Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions not involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • B41C2210/262Phenolic condensation polymers, e.g. novolacs, resols
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/145Infrared
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/146Laser beam
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/165Thermal imaging composition

Landscapes

  • Optics & Photonics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
  • Heat Sensitive Colour Forming Recording (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
  • Developing Agents For Electrophotography (AREA)
  • Liquid Developers In Electrophotography (AREA)
  • Polyesters Or Polycarbonates (AREA)

Abstract

Pozitivně pracující, oleofilní, tepelně citlivá kompozice, obsahuje ve vodné alkalické vývojce rozpustnou polymerní substanci a sloučeninu, snižující rozpustnost polymerní látky ve vodné vývojce. Jako polymerní substance je použita látka vykazující zvýšenou rozpustnost ve vodné alkalické vývojce při zahřátí avšak stálost ve vodné alkalické vývojce při působení UV záření. Litografická výchozí tisková deska obsahuje tuto kompozici. Způsob výroby takové výchozí litografické tiskové desky spočívá v tom, že obraz se přenese pomocí záření, ozářením laserovým paprskem o vlnové délce nad 600 nm nebo tepelným ozářením.ŕ

Description

Pozitivně pracující, oleofílní, tepelně citlivá kompozice, litografická výchozí tisková deska obsahující tuto kompozici a způsob výroby litografické výchozí tiskové desky
Oblast techniky
Vynález se týká pozitivně pracující, oleofílní, tepelně citlivé kompozice, litografické výchozí tiskové desky obsahující tuto kompozici a způsobu její výroby.
Dosavadní stav techniky
Technika litografického tisku je založena na nesmísitelnosti vody a oleje, kdy olejový materiál nebo tiskařská barva je přednostně zachycena v místech kresby a voda nebo roztok vodní nádrže je přednostně zachycen v místech bez kresby. Je-li vhodně připravená plocha zvlhčena vodou a na ni je nanesena barva, pak pozadí, nebo plocha bez kresby, zachytí vodu a plocha kresby přijme barvu, ale vodu odpudí. Barva v místech kresby je pak přenesena na plochu materiálu, na níž má být obraz reprodukován, např. a papír, látku a pod. Obvykle je tiskařská barva přenesena na mezilehlý materiál, nazývaný potahem, který barvu přenese na povrch materiálu na němž má být obraz vytvořen.
Obvykle používaný typ litografické výchozí tiskové desky má na světlo citlivou polevu, nanesenou na hliníkovité podložce. Negativně působící litografické výchozí tiskové desky mají polevu citlivou na záření, která, je-li pod kresbou vystavena světlu, tvrdne v exponovaných místech. Neexponovaná místa polevové kompozice jsou při vyvolání odstraněna, ale kresba zůstává. Naopak pozitivně působící litografické výchozí tiskové desky mají kompozici opatřenou polevou, která po osvícení pod kresbou světlem příslušné vlnové délky je v exponovaných oblastech více rozpustní ve vývojce než v neexponovaných místech. Tato světlem vyvolaná rozdílná rozpustnost se nazývá fotorozpustitelností. U velkého počtu komerčně dostupných, pozitivně působících výchozích litografických tiskových desek, s polevou chinon diazidu spolu s fenolovou pryskyřicí, je obraz vytvářen fotorozpustitelností. V obou případech je oblast kresby na vlastní tiskařské formě barvo-pohlcující, tj. oleofílní a část bez kresby nebo pozadí je vodo-pohlcující neboli hydrofilní.
K odlišení oblasti s kresbou od oblasti bez kresby dochází během expozice, kdy je za vakua, které zaručuje dobrý kontakt, k výchozí tiskové desce přiložen film. Výchozí tisková deska je pak vystavena expozici světelným zdrojem, vydávajícím částečně UV záření. V případě užití pozitivně pracující výchozí tiskové desky je oblast, která na výchozí tiskové desce odpovídá kresbě, neprůhledná, takže na výchozí tiskovou desku nedopadne žádné světlo, zatímco oblast filmu, která odpovídá místům bez kresby, je jasná a dovoluje dopad světla na polevu, která se tak stane rozpustnější a je odstraněna.
Spis EP 631 189 popisuje výchozí tiskové desky, které mají na UV záření citlivou vrstvu obsahující diazovou pryskyřici a diazoniovou sůl.
Nejnovější výzkumy na poli výchozích tiskových desek přinesly kompozice citlivé na záření, které jsou vhodné pro tiskové desky připravované pomocí přímého ozáření laserem. Pro vytvoření obrazu na výchozí tiskové desce lze použít digitální zobrazovací informace, aniž by bylo třeba obrazového originálu, jako je fotografický diapozitiv.
Příkladem pozitivně pracující, výchozí tiskové desky, kterou je možno zpracovat přímým ozářením laserem, je deska popsaná ve spise US 4 708 925 z roku 1987. Tento patent popisuje litografíckou výchozí tiskovou desku, kde zobrazovací vrstva obsahuje fenolovou pryskyřici a na ozáření citlivou kationtovou sůl. Jak je v tomto patentu popsáno, interakcí mezi fenolovou pryskyřicí a kationtovou solí vzniká alkalicky nerozpustná kompozice, jíž je alkalická rozpust
-1 CZ 292739 B6 nost vrácená fotólitičkým rozkladem kationtovou soli. Výchozí tisková deska může pracovat jako pozitivně nebo negativně působící deska, s využitím dalších technologických kroků mezi expozicí a vyvoláním, které jsou podrobně popsány v britském patentu GB 2 082 339. Výchozí tisková deska, popsaná ve spise US 4 709 925, je ze své podstaty citlivá na UV záření a lze ji 5 navíc učinit citlivou na viditelné a infračervené záření. Obdobné řešení, jaké popisuje spis US 4
709 925, je uvedené rovněž v německém spise DE 1 915 273.
Další příklad výchozí tiskové desky, na niž lze podlohu přenést laserem, a jíž lze použít jako přímo pozitivně pracujícího systému, je popsán ve spise US 5 372 907, a US 5 491 046. Oba ío spisy popisují zářením vyvolaný rozklad latentní Bronstedovy kyseliny pro zvýšení rozpustnosti piyskyřicové matrice při expozici pod kresbou. Tak jako u výchozí tiskové desky, popsané v US 4 708 925, tyto systémy mohou být navíc užity jako negativně pracující systém, který je po osvícení pod kresbou a předvyvolání dále zpracováván. U negativně účinkujícího procesu jsou vedlejší produkty rozkladu následně užity jako katalyzátory reakcí meziřetězcových vazeb 15 použitých pryskyřic pro dosažení nerozpustnosti míst kresby před vyvoláním. Jak je uvedeno ve spise US 4 708 925, jsou tyto výchozí tiskové desky ve své podstatě citlivé na UV záření díky použitým kyselinotvomým materiálům. Všechny tyto výše popsané, dosud známé výchozí tiskové desky, které lze použít jako desky pro přímé pozitivní vytvoření kresby, postrádají jednu nebo více vlastností. Žádnou z popsaných výchozích tiskových desek nelze použít, aniž by byly 20 patřičně vyhodnoceny světelné podmínky v pracovní oblasti. Aby bylo možno pracovat s výchozími tiskovými deskami po neomezenou dobu, je třeba dodržet určité podmínky bezpečného osvětlení, které nedovolí nežádoucí působení UV záření. Výchozí tiskové desky mohou být použity při působení bílého pracovního světla pouze po omezenou dobu, v závislosti na výstupním spektru zdroje tohoto světla. Pro zefektivnění příslušného procesuje žádoucí používat 25 zařízení pracující s digitálním přenosem obrazu a výchozí tiskové desky v prostředí neomezovaným typem zdroje bílého světla. Citlivost na UV záření by byla nevýhodou. Navíc práce za bílého světla by znamenala zlepšení pracovního prostředí v místech, kde probíhají veškeré operace před vlastním tiskem a kde je dosud třeba dodržovat omezující podmínky bezpečného osvětlení.
Dále, oba systémy výchozí tiskové desky obsahují komponenty mající vlastnosti, způsobující obtíže při optimalizaci vlastnosti desek vzhledem k optimálním účinkům v širokém pásku požadovaných parametrů litografických desek, včetně rozpustnosti vývojky, a pohltivosti, rozplývavosti a přilnavosti barvy.
Systém popsaný v US 4 708 925 nedovoluje přítomnost funkčních skupin, vázajících fenolovou pryskyřici v přítomnosti kationtové soli, ať jako modifikaci alkalicky rozpustné pryskyřice nebo jako přídavných komponentů, neboť by snížily rozpustnost při expozici.
Zásadním požadavkem kompozice, popsané v US 5 491 046, je přítomnost jak rosolové, tak novolakové pryskyřice, dovolující použití systému v negativně pracujícím režimu. To je výhodný režim pro tento systém, jak dokládají příklady negativně působícího systému v patentu popsané a první komerční produkt odvozený od této technologie, výrobky firmy Kodak. Optimalizace pro podmínky negativního působení omezují optimalizaci pro pozitivně pracující režim, který takové 45 požadavky nemá. Celá řada za tepla se rozpouštějících kompozicí, které lze použít jako termografické záznamové materiály, je popsána v patentovém spise GB 1 245 924 z roku 1971. U těchto materiálů může být rozpustnost kterékoliv oblasti vrstvy, na níž lze vytvořit obraz, pro dané rozpustidlo zvýšena zahřátím vrstvy nepřímým vystavením krátkodobému působení vysoce intenzivního viditelného světla a/nebo infračerveného záření, vysílaného nebo odráženého 50 z oblasti pozadí grafického originálu, který je v kontaktu ze záznamovým materiálem. Popsané systémy jsou proměnné a mohou být provozovány pomocí různých mechanizmů a mohou používat různé vývojkové materiály, od vody po chlomatá organická rozpouštědla. Křadě popsaných kompozicí, které je možno vyvolávat ve vodném přípravku, patří ty, které obsahují fenolové pryskyřice typu novolaku. Podle uvedeného patentu, filmy, opatřené polevou obsahující takové pryskyřice, budou při zahřátí vykazovat zvýšenou rozpustnost. Kompozice mohou
-2CZ 292739 B6 obsahovat teplo absorbující sloučeniny, jako je uhelná čerň nebo Milori modrá, označovaná jako C.I. pigmentová modř 27. Tyto materiály dobarvují kresby pro použití jako záznamové médium.
Úroveň rozdílu v rozpustitelnosti je u kompozice, popsané v GB 1 145 924, ve srovnání s komerčními pozitivně pracujícími kompozicemi litografických výchozích tiskových desek, nicméně velmi nízká. Standardní litografické výchozí tiskové desky jsou schopny skvěle snášet silné vývojkové roztoky, rozdíly při uživatelském zpracování a mohou být optimalizovány pro použití silných vývojkových roztoků a velké počty vytištěných vyobrazení. Pro velmi nízkou expoziční pružnost vývojky, již vykazuje kompozice podle spisu GB 1 245 924, nejsou vhodné jako komerčně použitelné, litografické výchozí tiskové desky.
Účelem tohoto vynálezu je řešení tepelně citlivé kompozice, vhodné pro tepelně citlivé, pozitivně pracující, výchozí tiskové desky, určené pro tepelný způsob vytváření obrazu, nevykazující nevýhody současných, výše popsaných řešení.
Podstata vynálezu
Výše uvedeného účelu je dosaženo a danou problematiku řeší pozitivně pracující, oleofilní, tepelně citlivá kompozice, obsahující ve vodné alkalické vývojce rozpustnou polymemí substanci, v provedení podle vynálezu, jehož podstata spočívá v tom, že polymemí substancí je látka se zvýšenou rozpustností ve vodné alkalické vývojce při zahřátí a stálostí ve vodné alkalické vývojce při působení UV záření. Kromě polymemí substance rozpustné ve vodné vývojce, v dalším označované jako „aktivní polymer“, předmětná kompozice obsahuje sloučeninu snižující rozpustnost této polymemí substance ve vodné vývojce. Tato sloučenina, která je v dalším označována jako „vratně znerozpustňující sloučenina“, působí tak, že rozpustnost kompozice ve vodném roztoku vývojky se zahřátím zvyšuje, zatímco rozpustnost této kompozice ve vodné vývojce se nezvyšuje působením UV záření. Rovněž podle tohoto vynálezu je řešena pozitivně pracující litografická výchozí tisková deska, která má polevu obsahující předmětný aktivní polymer a předmětnou vratně znerozpustňující sloučeninu, nanesenými na podložce s hydrofilním povrchem, kde rozpustnost kompozice ve vodné vývojce zahřátím vzrůstá, ale při ozáření UV zářením neroste.
Pro zvýšení citlivosti tepelně citlivé kompozice podle předmětného vynálezu je použito pomocné složky, která je v dalším označována jako „záření pohlcující sloučenina“, která je schopná absorbovat záření a měnit je na teplo.
Dalším význakem předmětného vynálezu je litografická výchozí tisková deska, kde poleva je vhodně upravená tak, že absorbuje záření a mění toto záření na teplo. Dle předmětného vynálezu je upřednostněno provedení tepelně pracující, litografické výchozí tiskové desky, která na podložce s hydrofilním povrchem má oleofilní, tepelně citlivou kompozici, obsahující aktivní polymer, vratně znerozpustňující sloučeninu a záření absorbující sloučeninu, kde rozpustnost kompozice ve vodné vývojce zahřátím vzrůstá, ale neroste ozářením UV paprsky. Podle předmětného vynálezu je dále upřednostněno provedení tepelně pracující litografické výchozí tiskové desky, kde předmětná poleva obsahuje pomocnou vrstvu, nanesenou pod oleofilní, tepelně citlivou kompozicí, kterážto přídavná vrstva obsahuje záření absorbující sloučeninu.
Podle předmětného vynálezu je dále upřednostněno provedení tepelně pracující litografické výchozí tiskové desky, která na podložce s hydrofilním povrchem má oleofilní, tepelně citlivou kompozici, obsahující aktivní polymer, vratně znerozpustňující sloučeninu, která je rovněž záření absorbující sloučeninou, kde rozpustnost kompozice ve vodné vývojce zahřátím vzrůstá, ale při ozáření UV paprsky neroste.
Pokud se zde v popise hovoří o tom, že rozpustnost kompozice ve vodné vývojce zahřátím vzrůstá, rozumí se tím, že vzrůstá podstatně, tj. natolik, že tento nárůst je možno využít
-3CZ 292739 B6 v technice litografíckého tisku. Pokud se zde v popise hovoří o tom, že rozpustnost kompozice ve vodní vývojce neroste ozářením UV paprsky, rozumí se tím, že neroste podstatně, tedy natolik, že by bylo nezbytné používat bezpečné osvětlení. Bezvýznamný nárůst rozpustnosti při ozáření UV paprsky je tak možno v rámci tohoto vynálezu tolerovat.
Jako tisková deska je upřednostňována litografická deska, o níž bude pojednáno dále.
U všech výhodných provedení předmětného vynálezu výsledkem tepelného přenosu kresby a následného zpracování je pozitivně pracující litografická tisková deska. Rozpustnost nanesené kompozice ve vodné vývojce je vzhledem k rozpustnosti samotného aktivního polymeru hodně snížena. Následným ozářením vhodným zářením se zahřátá místa kompozice stávají v roztoku vývojky lépe rozpustnými. Při expozici pod kresbou se tak rozpustnost neexponované a exponované kompozice mění rozdílně. V exponovaných místech je kompozice rozpuštěna a odkrývá podkladní hydrofilní povrch desky.
Na desky s povlakem podle vynálezu lze kresbu tepelným způsobem přenést nepřímo, vystavením krátkodobému, vysoce intenzivnímu ozáření, vysílanému nebo odráženému z oblastí pozadí grafického originálu, jenž je v dotyku se záznamovým materiálem.
Podle dalšího přínosu vynálezu může být obraz na desky tepelně přenesen s výhodou pomocí zahřátého tělesa. Např. může být deska, ať ze zadní strany, nebo ještě lépe ze strany tepelně citlivé kompozice, v dotyku s tepelným záznamovým hrotem.
Podle vynálezu může být dále deska s výhodou exponována přímo pomocí laseru a tak na polevě kresba tepelně vytvořena. Nejlépe laserem, vydávajícím záření o vlnové délce nad 600 nm.
Vynález není nijak omezen teoretickým výkladem principů na nichž pracuje. Považuje se za skutečnost, že aktivní polymer a vratně znerozpustňující sloučenina vytvářejí tepelně křehký komplex. Tento komplex je vytvářet vratně a může být rozložen pomocí působení tepla a tak obnovena rozpustnost kompozice ve vodné vývojce. Předpokládá se, že polymemí substance, vhodné pro použití u tohoto vynálezu, po rozložení obsahují funkční skupiny s volnými elektronovými vazbami, tj. skupiny bohaté na elektrony, a dále, že vhodné sloučeniny, redukující rozpustnost polymemích substancí ve vodné vývojce, jsou chudé na elektrony. Není třeba rozkladu složek kompozice, alespoň u dosud testovaných příkladů k jakémukoliv podstatnému rozkladu nedošlo.
Příklady funkčních skupin předmětných aktivních polymerů, vhodných pro vynález zahrnují hydroxy, karboxylové kyseliny, amino, amido a maleinimido funkční skupiny. Vhodný je široký rozsah polymemích materiálů zahrnující fenolové pryskyřice, kopolymery 4-hydroxystyrenu, např. s 3-methyl-4-hydroxystyrenem, kopolymery (meth)akrylové kyseliny, např. se styrenem, kopolymery maleinimidů, např. se styrenem, hydroxycelulózy nebo karboxycelulózy, kopolymery anhydridu kyseliny maleinové, např. se styrenem, částečně hydrolyzované polymery anhydridu kyseliny maleinové.
Výhodným řešením je použití fenolové pryskyřice ve funkci aktivního polymeru. Zvláště vhodnými fenolovými pryskyřicemi pro řešení podle tohoto vynálezu jsou kondenzační produkty reakce mezi fenolem, C-alkyl substituovanými fenoly, jako jsou kresoly a p-terc-butyl-fenol), difenoly, jako je bisfenol-A a aldehydy, jako je formaldehyd. V závislosti na způsobu průběhu kondenzace je možno vytvořit celou řadu fenolových materiálů odlišné struktury a vlastností. Zvláště výhodné jsou novolakové pryskyřice, reselové pryskyřice a směsi novolakových a rosolových pryskyřic.
-4CZ 292739 B6
Příklady vhodných novolakových pryskyřic mají obecně následující strukturu
Jako vratné znerozpustňující sloučeniny lze užít velký počet sloučenin, redukujících vodorozpustnost vhodných polymemích substancí.
Vhodnými, vratně znerozpustňujícími sloučeninami, jsou dusíkaté sloučeniny, kde alespoň jeden atom dusíku je kvarterizován, začleněn do heterocyklického kruhu nebo kvarterizován a začleněn do heterocyklického kruhu.
Příklady vhodné sloučeniny s obsahem kvartémího dusíku jsou triaiyl metanové sloučeniny, barviva, jako je Crystal Violet, označovaná též jako Cl basic violet 3, Ethyl violet a tetraalkyl amoniové sloučeniny jako je Cetrimid.
Ještě výhodnější, vratně znerozpustňující sloučeninou je dusík obsahující heterocyklická sloučenina.
Příkladem vhodné dusík obsahující heterocyklické sloučeniny jsou chinolin a triazoly, jako 1,2,4-triazol.
Ještě dále výhodnější vratně znerozpustňující sloučeninou je kvartemizovaná heterocyklická sloučenina.
Příklady vhodné kvarterizované heterocyklické sloučeniny jsou imidiazolinové sloučeniny, jako jsou sloučeniny vyráběné firmou Mona Industries pod označením Monazolin C, Monazolin O, Monazolin CY a Monazolin T. Vhodnými sloučeninami tohoto typu jsou též chinolinové sloučeniny, jako l-ethyl-2-methyl chinolinium jodid a l-ethyl-4-methyl chinolinium jodid, a dále benzotiazolové sloučeniny, jako benzotiazol jodid a dále pyridiniové sloučeniny, jako jsou cetyl pyridinium bromid, ethyl viologen dibromid a fluoropyridinium tetrafluoroborát.
Vhodnou chinolinovou nebo benzotiazolovou sloučeninou jsou kationická kyaninová barviva, jako je Dye A, Quinoldine Blue a 3-ethyl-2[3-(3-ethyl-2(3H)-benzothiazolydin)-2-methyl-lpropenyljbenzothiazolium j odid.
Barvivo označené jako Dye A má tento vzorec
Další vhodnou skupinou vratně znerozpustňujících sloučenin jsou sloučeniny obsahující karbonylové funkční skupiny.
-5CZ 292739 B6
K vhodným sloučeninám obsahujícím karbonylové funkční skupiny patří alfa-nafitoflavon, beta-naftoflavon, 2,3-difenyl-l-inden, flavon, flavanon, xanthon, benzofenon, N-(4-bromobutyl)phtalimid a fenantrenechinon.
Vratně znerozpustňující sloučeninou může být sloučenina s obecným vzorcem
Qi-S(O)n-Q2 kde Qi představuje volitelně substituovaný fenyl nebo alkylovou skupinu, n je celé číslo z řady 0,1, 2, a Q2 představuje halogenový atom či alkoxylovou skupinu. S výhodou Qi představuje CM alkylofenolovou skupinu, např. tolylovou skupinu, či skupinu Ci4 alkylovou. Index n má s výhodou hodnotu 1, nejlépe 2. S výhodou Q2 představuje atom chloru či C!4 alkoxylovou skupinu, zejména pak ethoxylovou skupinu. Jinou vhodnou vratně znerozpustňující sloučeninou je akridinové zásadité oranžové barvivo, označované jako „Cl solvent orange 15“.
Další vhodnou vratně znerozpustňující sloučeninou jsou feroceniové sloučeniny, jako je ferocenium hexafluorfosfát.
Kromě aktivních polymerů, jež reagují se sloučeninou vratně znerozpustňující způsobem zde popsaným, může kompozice obsahovat polymemí substanci, která takto nereaguje. V takové kompozici, kde je směs polymemích substancí, může být aktivní polymer obsažen v menším výhodném množství, než zaujímá pomocná(é) polymemí látka, λ/hodný obsah aktivního polymeru je nejméně 10 %, výhodný je alespoň 25 %, ještě výhodnější je alespoň 50 % hmota. Nicméně nejvýhodnější je obsah aktivního polymeru do výše, která vylučuje jakoukoliv polymemí substanci, která uvedeným způsobem nereaguje.
Majoritní podíl kompozice je tvořen jednou nebo více polymemími substancemi, včetně aktivního polymeru a, pokud je, pomocnou polymemí substancí, která nereaguje. S výhodou je minoritní podíl kompozice tvořen vratně znerozpustňující sloučeninou.
Majoritní podíl kompozice, zde definovaný, dosahuje hodnoty s výhodou alespoň 50 %, s výhodou alespoň 65 %, nejlépe alespoň 80 % celkové hmotnosti kompozice.
Minoritní podíl kompozice, zde definovaný, dosahuje hodnoty s výhodou méně než 50%, s výhodou do 20 %, nejlépe do 15 % celkové hmotnosti kompozice.
Podíl vratně znerozpustňující sloučeniny v kompozici činí alespoň 1 %, s výhodou alespoň 2 %, s výhodou do 5 %, ještě lépe do 15 % celkové hmotnosti kompozice. Celkově lze říci, že výhodný podíl vratně znerozpustňující sloučeniny se pohybuje v rozmezí 2 až 15 % celkové hmotnosti kompozice.
Může existovat více než jedna polymemí substance reagující s předmětnou kompozicí. Uváděné hmotnostní podíly takové či takových substancí se vztahují k jejich celkovému obsahu. Obdobně může existovat více než jedna polymemí substance, která takto nereaguje. Uváděné podíly takové či takových substancí se vztahují k jejich celkovému obsahu. Může být obdobně i více než jedna vratně znerozpustňující sloučenina. Uváděné podíly takové látky či látek se vztahují k jejich celkovému obsahu.
Složení vodného roztoku vývojky závisí na povaze polymemí látky. Běžnými složkami vodného roztoku litografické vývojky jsou surfaktanty, chelátová činidla jako soli ethylendiamin tetraoctové kyseliny, organická rozpouštědla jako benzylalkohol a zásadité složky, jako anorganické metasilikáty, organické metasilikáty, hydroxidy nebo bikarbonáty.
Je-li polymemí látkou fenolová piyskyřice, je vodnou vývojkou s výhodou zásaditá vývojka, obsahující anorganické nebo organické metasilikáty.
-6CZ 292739 B6
Kompozice podle předmětného vynálezu je tepelně citlivá tak, že lokální ohřev kompozice, s výhodou vhodným zářením, způsobí zvýšenou rozpustnost exponovaných míst ve vodné vývojce.
Pro stanovení, zda sloučenina, obsahující aktivní polymer a vratně znerozpustňující sloučeninu a vhodná vodná vývojka jsou vhodné pro předmětný vynález, slouží šest jednoduchých testů, v dalším označených číslicemi 1 až 6.
TEST 1. Kompozice, obsahující aktivní polymer v nepřítomnosti vratně znerozpustňující sloučeniny, je nanesena na hydrofílní podložku a vysušena. Poté je na povrch naneseno barvivo. Je-li tak získán jednolitý barevný povlak, pak je kompozice oleofilní, je-li položena jako vrstva.
TEST 2. Hydrofílní podložka, pokrytá kompozicí s aktivním polymerem v nepřítomnosti vratně znerozpustňující sloučeniny, je za pokojové teploty podrobena působení vhodné vodné vývojky po vhodnou dobu, která může být určena pokusně, ale obvykle se pohybuje mezi 30 až 60 sekundami, pak opláchnuta, osušena a naneseno barvivo. Pokud barvivo na ploše neulpí, pak se kompozice ve vývojce rozpustila.
TEST 3. Kompozice, obsahující aktivní polymer a vratně znerozpustňující sloučeninu je nanesena na hydrofílní podložku a vysušena. Poté je na povrch naneseno barvivo. Je-li tak získán jednolitý barevný povlak, pak je kompozice oleofilní, je-li položena jako vrstva.
TEST 4. Hydrofílní podložka, pokrytá kompozicí s aktivním polymerem a vratně znerozpustňující sloučeninou, je za pokojové teploty podrobena působení vhodné vodné vývojky po vhodnou dobu, již lze určit pokusně, ale obvykle se pohybuje mezi 30 až 60 sekundami, pak je opláchnuta, osušena a naneseno barvivo. Je-li tak získán jednolitý barevný povlak, pak je kompozice v podstatě v roztoku vývojky nerozpustná.
TEST 5. Hydrofílní podložka, pokrytá kompozicí s aktivním polymerem a vratně znerozpustňující sloučeninou, je zahřáta v peci tak, že kompozice dosáhne za vhodnou dobu vhodné teploty. Pak na ni při pokojové teplotě, po přiměřenou dobu, působí vhodná vodná vývojka.
Povrch je pak vysušen a pokryt barvivém. Pokud barvivo na ploše neulpí, pak se zahřátá kompozice ve vývojce rozpustila.
Teplota a doba závisejí na složkách kompozice a jejich poměru. Metodou zkoušek lze dospět ke stanovení vhodných podmínek. Pokud zkouškami nelze podmínky pro provedení testu stanovit, znamená to, že kompozice testu nevyhověla.
Lze říci, že při typickém složení je kompozice, obsahující aktivní polymer a vratně znerozpustňující sloučeninu, zahřívána v peci po dobu 5 až 20 sekund, až dosáhne teploty 50 až 120 °C. Pak je za pokojové teploty podrobena působení vhodné vodné vývojky po vhodnou, pokusně stanovenou dobu, která typicky činí od 30 do 120 sekund.
Výhodnějším postupem je zahřátí kompozice, obsahující aktivní polymer a vratně znerozpustňující sloučeninu, v peci na teplotu 50 až 120 °C, po dobu 10 až 15 sekund. Pak je za pokojové teploty podrobena působení vhodné vodné vývojky po vhodnou, pokusně stanovenou dobu, která obvykle činí od 30 do 90 sekund.
TEST 6. Hydrofílní podložka, pokrytá kompozicí s aktivním polymerem a vratně znerozpustňující sloučeninou, je po vhodnou, pokusně stanovenou dobu, obvykle se rovnající 30 sekundám, vystavena působení UV záření. Pak je při pokojové teplotě, po přiměřenou dobu, jež obvykle činí 30 až 60 sekund, podrobena působení vhodné vodné vývojky. Povrch je pak vysušen a pokryt barvivém. Pokud barvivo na ploše ulpí, pak
-7CZ 292739 B6 nedošlo k rozpuštění kompozice vlivem UV záření a kompozice je dostatečně odolná běžným pracovním, světelným podmínkám.
Pokud kompozice vyhoví všem šesti testům, je vhodná pro použití v rámci tohoto vynálezu.
Pro výhodné provedení předmětného vynálezu lze jako záření absorbující sloučeninu použít celou řadu sloučenin nebo jejich kombinací.
Ve výhodném provedení je jako záření absorbující sloučenina použita taková, která absorbuje infračervené záření. Nicméně, i jiné materiály, absorbující záření jiných vlnových délek, vyjma UV záření, např. záření Ar-ion zdroje laserového záření o vlnové délce 488 nm, mohou být pro přeměnu záření na teplo použity.
Jako sloučeninu pohlcující záření je vhodné použít uhlíku, jako je uhelná čerň nebo grafit. Může jí být i komerčně dostupný pigment, jako Heliogen Green, dodávaný firmou BASF nebo Nigrosine Base NG1, dodávaný firmou Aldrich.
Způsob podle tohoto vynálezu je s výhodou prováděn tak, že podložka s polevou je pod kresbou přímo exponována laserem. Nejvýhodnější je použít laser, vydávající záření o vlnové délce nad 600 nm a jako záření absorbující sloučenina je vhodné barvivo pohlcující infračervené záření.
Infračervené záření pohlcující sloučeninou je s výhodou ta, jejíž absorpční spektrum leží okolo vlnové délky záření laseru, použitého v rámci předmětného způsobu. Vhodné je použít organický pigment nebo barvivo, jako je ftalokyaninový pigment. Může to být též barvivo či pigment ze tříd squarylium, merokyanin, indolizin, pyrylium nebo metal ditiolin.
Příkladem takových sloučenin je
aDye B
-8CZ 292739 B6 a barvivo Dye C, KF654b ΡΙΝΑ, dodávané firmou Riedel de Haen, UK, které má mít vzorec
Sloučenina absorbující záření, tvoří alespoň 1 %, s výhodou alespoň 2 %, celkově s výhodou do 25 %, lépe do 15 % celkové hmotnosti kompozice. Výhodný hmotnostní podíl záření absorbující sloučeniny činí 2 až 15 % celkové hmotnosti kompozice. Může být též použito více než jedné záření absorbující sloučeniny. Údaje, týkající se podílu takové sloučeniny nebo sloučenin, se proto vztahuj í na j ej ich celkový obsah.
S výhodou lze též použít pomocnou vrstvu, která obsahuje záření absorbující sloučeninu. Takové vícevrstvé provedení nabízí cestu k vyšší citlivosti, neboť lze použít větší množství záření absorbující sloučeniny, bez vlivu na funkci obrazotvomé vrstvy. Zásadně platí, že jakýkoliv záření pohlcující materiál, který je v daném vlnovém rozmezí dostatečně účinný, může být vpraven do nebo vyroben jako jednolitá poleva. Barviva, kovy a pigmenty, včetně oxidů kovů, mohou být použity ve formě vrstev, nanesených srážením par. Způsoby nanášení a užití takových filmů je známo, např. ze spisu EP 0 652 483. Přednost v předmětném vynálezu mají komponenty, které jsou ve formě jednolitého povlaku hydrofilní, nebo z nichž lze vytvořit hydrofilní plochu, např. použitím hydrofilní vrstvy.
Sloučeninami, které snižují rozpustnost polymemí substance ve vodné vývojce a jsou též záření absorbujícími sloučeninami, vhodnými pro tento vynález, jsou s výhodou kyaninová barviva, nejlépe chinolino-kyaninová barviva, absorbující záření o vlnové délce nad 600 nm. Příklady takovýchto sloučenin jsou:
2-[3-chlor-5-(l-ethyl-2(lH)-chmolinyliden)-l,3-pentadienyl]-l-ethylchmolin bromid
—Ethyl—2—[5—ζ l-ethyl-2( lH)-chinolinyliden)-l ,3-pentadienyl]chinolin jodid
-9CZ 292739 B6
4—[3-chlor-5-( l-ethyl-4( 1 H)-chinolinyliden}-l ,3-pentadienyl)-l-ethylchinolin jodid
Cl
H-CH~C=CH-CH
Γ
Dye D, l-Ethyl-4—[5-(l-ethyl-4(lH)-chinolmyliden)-l,3-pentadienyl]chinolin jodid
Vratně znerozpustňující sloučenina, která je současně záření pohlcující sloučeninou, tvoří alespoň 1 %, s výhodou alespoň 2 %, s výhodou do 25 %, lépe do 15 % celkové hmotnosti kompozice. Výhodný hmotnostní podíl záření absorbující sloučeniny tak činí 2 až 15 % celkové hmotnosti kompozice.
Jako podložku lze s výhodou použít hliníkovou desku, která byla v litografii obvyklými způsoby podrobena elektrolytickému okysličování, úpravě povrchu a post-anodickému ošetření, aby bylo možno na její povrch nanést polevu kompozice citlivé na záření, a povrch podložky tak mohly plnit svou funkci.
Dalším podkladovým materiálem použitelným pro předmětný vynález je podložka z plastu nebo upraveného papíru, jejichž užití je známé ve fotografickém průmyslu. Zvláště vhodným plastovým materiálem je polyethylen tereftalát, který byl opatřen spodní vrstvou filmu a jeho povrch se tak stal hydrofilním. Také lze použít tzv. piyskyřicí potažený papír, ošetřený koránovým výbojem.
Příkladem laserů, které lze použít pro předmětný vynález, je polovodičový laser, nanometr vysílající záření v rozmezí 600 až 1100 nm. Takovým typem je např. Nd YAG laser vydávající záření 1064 nm. Je však možno použít jakýkoliv laser s dostatečnou schopností vytvářet obraz, tj. laser vydávající záření, které kompozice absorbuje. Kompozice podle vynálezu může obsahovat další přísady, jako stabilizační aditiva, inertní barviva, pomocná polymemí pojivá, která jsou součástí mnoha kompozicí litografických desek.
Je výhodné, když tepelně citlivé kompozice dle předmětného vynálezu neobsahují složky citlivé na UV záření. Komponenty, jež jsou sice citlivé na UV záření, ale nejsou aktivovány vzhledem k přítomnosti jiných komponentů, jako inertní barviva pohlcující UV záření, nebo nejhořejší, UV záření pohlcující vrstva, však nicméně mohou být přítomny.
Kterýkoliv význak nebo vlastnost předmětného vynálezu nebo zde popsaného provedení, může být kombinován skteiýmkoliv dalším aspektem kteréhokoliv zde popsaného vynálezu nebo provedení.
Příklad provedení
Následující příklady podrobněji popisují různé aspekty výše popsaného vynálezu. Pro komerční produkty uvedené v příkladech byla použita následná označení, výraz RESIN znamená pryskyřici:
-10CZ 292739 B6
RESINA LB6564 -fenol/kresol-novolaková pryskyřice, prodávaná firmou Bakelite,
RESINB R17620 -fenol/formaldehyd-resolová pryskyřice, výrobek firmy B.P. Chemicals Ltd., UK
RESINC SMD995 -alkyl fenol/formaldehyd-resolová piyskyřice, uvedená na trh Schenectady Midland Ltd, UK.
RESIND Maruka Lyncur M(S-2) - polyhydroxystyrenová pryskyřice, prodávaná Maruzen Petrochemical Co. Ltd, JP.
RESINE Ronacoat 300 - polymer na bázi dimethylmaleimidu, prodávaný firmou Rohner, Ltd, CH.
RESINF Gantrez Ani 19 - methylvinylether-co-maleinový anhydrid kopolymer firmy Gaf Chemicals Co., UK
RESING SMA 2625P - styren-maleinový poloester, prodávaný firmou, Elf Atochem UK Ltd.
RESINH celulóz-acetátový propionát (mol. váha 75 000),
o obsahu 2,5 % acetátu, 45 až 49 % propionátu, prodávaný firmou Eastman Fine Chemicals, USA,
Metody zkoušky expozice:
Z polevou opatřeného substrátu, na němž měla být vytvořena kresba, byly nařezány kotouče o průměru 105 mm a umístěny na disku, který mohl rotovat stálou rychlostí 100 až 2500 ot/min. Vedle otáčejícího se disku byl umístěn postupně se pohybující stůl s laserovým zdrojem, nasměrovaným tak, že laserový paprsek dopadal kolmo na substrát, přičemž při pohybu stolu se paprsek pohyboval přímočaře, v radiálním směru rotujícího kotouče.
Použit byl laser vybavený v jednovidovém režimu pracujícím polovodičovým zdrojem o výkonu 200 mV, dávajícím záření o vlnové délce 830 nm. Laser byl zaostřen na rozlišení 10 mikronů. Napájen byl stabilizovaným zdrojem stejnosměrného proudu.
Exponovaný obraz měl tvar spirály, kde kresba ve středu spirály představovala nízkou snímací rychlost laseru a dlouhou expoziční dobu a vnější okraj spirály znamenal velkou snímací rychlost a krátkou dobu expozice. Velikost energie zobrazovací vycházela z měření průměru místa, kde byla kresba vytvářena. Minimální energie, kterou je možno při tomto způsobu expozice dodat je 150 mJ/cm2, při otáčkách 2500 ot/min.
Porovnávací příklady Cl až C5, příklady 1 až 9
Polevy u všech následujících příkladů byly připraveny jako roztoky v l-methoxypropan-2-olu, vyjma příkladů 4, 5, 8, kde byly připraveny jako roztoky v l-methoxypropan-2-ol/DMF 40:60 (v:v), a vyjma příkladu 7, kde byl použit roztok v l-methoxypropan-2-ol/DMF 35:65 (v:v). Použitým substrátem byla 0,3 mm tlustá hliníková fólie, jejíž povrch byl elektrometodou upraven na zrnitý, elektrolyticky okysličen a pak následně upraven vodným roztokem anorganického fosfátu. Polevové roztoky byly na substrát naneseny pomocí z drátu vinuté mřížky (wirewound bar). Koncentrace roztoků byly zvoleny tak, že vznikl suchý film určeného složení a vytvořená vrstva měla po vysušení v peci, při 100 °C po dobu 3 minut, plošnou hmotnost 1,3 g/m2.
-11 CZ 292739 B6
Srovnávací vzorek
Cl C2 C3 C4 C5
složka počet vá tových dílů
Resin A 100 95,7 90 90 90
DyeB 4,25 4 4 4
kyselina benzoová 6
p-nitrofenol 6
3',3 , 5', 5 -tetrabromofenylftalein 6
V další tabulce uvedené látky mají následující složení
Benzotiazolium A:
3-ethyI-2-/3-ethyl-2(3H)-benzotiazolidyn-2-methyl-l-propenyl/benzotiazolium bromid.
Benzotiazolium B:
3-ethyl-2-methyl benzotiazolium jodid.
Příklad
1 2 3 4 5 6 7 8 9
složka počet vá íovýc i dílů
Resin A 86 90 90 90 90 90 90 90 90
DyeB 4 4 4 4 4 4 4 4 4
Dye A 10
l-ethyl-4-methyl bromid quinolinia 6
Monazoline C 6
Benzothiazolium A 6
Benzothiazolium B 6
Cetyl pyridium bromid 6
Ethyl viologen dibromid 6
Cetrimid 6
Crystal Violet 6
Desky byly zkoušeny na chování v procesu vyvolávání, ponořením na 30 sekund do vodného roztoku, níže definovaného:
Vývojka A: 14% vodní roztok sodium matasilikát pentahydrátu.
Vývojka B: 7% vodní roztok sodium matasilikát pentahydrátu.
Následující tabulka ukazuje výsledky chování kompozic ve vývojce.
Vývojka B
srovnávací vzorky 1 až 5 povlak úplně odstraněn
vzorky 1 až 9 žádné patrné změny
Kompozice uvedené jako srovnávací vzorky nevykazují odolnost proti účinkům vývojky. Kompozice uvedené jako příklady 1 až 9, dokreslují účinek snížené rozpustnosti polymeru ve vývojce pomocí sloučenin popsaných ve vynálezu.
Další vzorky desek byly opatřeny obrazem pomocí popsaného laseru o záření vlnové délky 830 nm. Exponované kotouče byly poté zpracovány ponořením na 30 sekund do vodného roztoku vývojky, jejíž složení je uvedeno výše. Pak byly stanoveny citlivosti desek, uvedené v následující tabulce.
-12CZ 292739 B6
srovnávací vzorek vývojka A vývojka B
1 poleva oc straněna
2 poleva odstraněna
3 poleva odstraněna
4 poleva odstraněna
5 poleva odstraněna
Příklad
1 < 150 mJ/cm3
2 < 150 mJ/cm3
3 <150 mJ/cm3
4 <150 mJ/cm3
5 <150 mJ/cm3
6 <150 mJ/cm3
7 <150 mJ/cm3
8 < 150 mJ/cm3
9 <150 mJ/cm3
Na tiskovou desku zhotovenou postupem podle příkladu 1 byl též pomocí přenosového zařízení Trendsetter, od firmy Creo Products of Vancouver, CDN, přenesen obraz. Touto deskou bylo na litografickém tiskařském lisu zhotoveno nejméně 10 000 dobrých výtisků.
Příklad 10
Postupem dle příkladů 1 až 9, byl připraven roztok obsahující 8,15 g l-methoxypropan-2-olu, 2,40 g vodného roztoku pryskyřice RESIN A v l-methoxypropan-2-olu, 0,12 g barviva Dye A a 0,24 g 50% hmota, vodní disperze uhelné černě a nanesen na podložku.
složka počet váhových dílů
Resin A 80
Dye A 10
uhelná čerň 10
Na výslednou desku byla laserem o výkonu 200 mW a záření o vlnové délce 830 nm a pomocí dříve popsaného zařízení přenesena kresba. Deska byla pak po 30 sekund podrobena působení vývojky B. Hustota zobrazovací energie požadovaná pro získání vhodného obrazu byla <150mJ7m3.
Na tiskovou desku, zhotovenou podle příkladu 10, byl dále pomocí komerčního přenosového zařízení Trendsetter přenesen obraz. S touto deskou bylo na litografickém tiskařském lisu zhotoveno nejméně 10 000 dobrých výtisků.
Přikladli
Výchozí tiskařská deska s kompozicí popsanou v předcházející tabulce byla zhotovena postupem uvedeným v příkladu 4
složka počet váhových dílů
Resin A 90
Dye A 10
-13CZ 292739 B6
Na výslednou desku byla laserem o výkonu 200 mW a záření o vlnové délce 830 nm a pomocí dříve popsaného zařízení přenesena kresba. Deska byla pak po 30 sekund podrobena působení vývojky B. Hustota zobrazovací energie požadovaná pro získání vhodného obrazu byla <150 mJ/m1.
Na tiskovou desku zhotovenou podle příkladu 11, byl též pomocí komerčního přenosového zařízení Trendsetter, vyráběného firmou Creo Products of Vancouver, CDN, přenesen obraz. S touto deskou bylo na litografickém tiskařském lisu zhotoveno nejméně 10 000 dobrých výtisků.
Příklady 12 až 18
Výše popsaným postupem byly připraveny polevové hmoty jako roztoky v l-methoxypropan-2olu s výjimkou příkladu 16, kde byly sloučeniny rozpuštěny v l-methoxypropan-2-ol/DMF 80:20 (v:v).
Tyto polevové hmoty byly naneseny na podložku tak, jak je popsáno v příkladech 1 až 9, čímž byly získány kompozice ve formě suchého filmu a složení uvedeného v následující tabulce.
Příklad
12 13 14 15 16 17 18
složka počet váhových dílů
Crystal violet 6 6 6 6 6 6 6
Dye C 4 4 4 4 4 4 4
Resin A 45
ResinB 90
Resin C 45
Resin D 90
Resin E 90
Resin F 90
Resin G 90
Resin H 90
Na vzorky desek byly pak pomocí výše popsaného laserového zařízení, které dávalo záření o vlnové délce 830 nm, přeneseny kresby. Exponované kotouče byly poté po vhodnou dobu podrobeny působení vhodného vodného roztoku vývojky, jak je popsáno dříve a dále. Pak byly stanoveny citlivosti desek. Výsledky jsou uvedeny v následující tabulce.
Příklad Vývojka Doba (sec) Citlivost (mJ/cm3)
12 B 90 248
13 A 90 277
14 C 45 277
15 D 5 253
16 E 60 461
17 D 90 300
18 A 120 700
Další použité vývojky měly tato složení
Vývojka C: 15 % betar-naftylethoxylát, 5 % benzylalkohol, 2 % trisodium soli nitrilotrioctové kyseliny, 78 % vody.
Vývojka D: 3 % beta-naftylethoxylát, 1 % benzylalkohol, 2 % trisodium soli nitrilotrioctové kyseliny, 94 % vody.
-14CZ 292739 B6
Vývojka E: 1,5 % beta-naftylethoxylát, 0,5 % benzylalkohol, 2 % trisodium soli nitrilo-trioctové kyseliny, 94 % vody
Příklady 19-30
Výše popsaným postupem byly připraveny polevové hmoty jako roztoky v l-methoxypropan-2olu, s výjimkou příkladu 26, kde byly sloučeniny rozpuštěny v l-methoxypropan-2-ol/DMF 50:50 (v:v).
Tyto polevové hmoty byly naneseny na podložku tak, jak je popsáno v příkladech 1 až 9, čímž byly získány kompozice ve formě suchého filmu a složení uvedeného v následující tabulce.
Příklad
19 20 21 22 23 24 25 26 27 28 29 30
složka počet váhovýc li dílů
Resin A 90 90 90 90 90 90 90 90 90 90 90 90
Dye B 4 4 4 4 4 4 4 4
DyeC 4 4 4 4
a-Naftoflavon 6
β-Naftoflavon 6
Flavon 6
Xanton 6
Flavanon 6
Benzofenon 6
2,3 Difenyl-I-indeneon 6
N-(4-bromobutyl)ftalimid 6
Fenanthren chinon 6
Cl solvent orange 15 6
p-toluen sulfonyl chlorid 6
Ethyl-p-toluen sulfonát 6
Na vzorky desek byly pak pomocí výše popsaného laserového zařízení, které dávalo záření o vlnové délce 830 nm, přeneseny kresby. Exponované kotouče byly poté po vhodnou dobu podrobeny působení vhodného vodného roztoku vývojky. Pak byly stanoveny citlivosti desek.
Výsledky jsou uvedeny v následující tabulce.
Příklad Vývojka Doba (sec) Citlivost (mJ/cmj)
19 A 30 < 150
20 A 30 íS 150
21 A 30 290
22 A 30 < 150
23 A 30 <150
24 B 30 220
25 B 30 < 150
26 B 15 < 150
27 B 60 250
28 A 90 250
29 B 10 400
30 B 60 250
-15CZ 292739 B6
Příklad 31
Výše popsaným postupem byly připraveny polevové hmoty jako roztoky v l-methoxypropan-2olu. Tyto polevové hmoty byly naneseny na podložku tak, jak je popsáno v příkladech 1 až 9, čímž byly získány kompozice ve formě suchého filmu a složení uvedeného v následující tabulce.
složka počet váhových dílů
Resin A 90
Dye A 4
uhelná čerň 6
Vzorky desek byly pak vystaveny teplu vyzařovanému páječkou typu Weller Soldering Iron EC2100M o teplotě 311 °C. Rychlost pohybu páječky nad povrchem desky je uvedena v následující tabulce. Exponované vzorky desek byly poté ponořením na 60 sekund podrobeny působení vývojky A.
Výsledky jsou uvedeny v následující tabulce:
Rychlost pohybu páječky (cm/sec) Místo působení tepla výsledek testu rozpustitelnosti
1 poleva desky poleva v místě ohřevu zcela odstraněna
10 poleva desky poleva v místě ohřevu zcela odstraněna
20 poleva desky poleva v místě ohřevu zcela odstraněna
50 poleva desky poleva v místě ohřevu zcela odstraněna
1 opačná strana desky, přímo na A - odložku poleva v místě ohřevu zcela odstraněna
10 opačná strana desky, přímo na A - odložku poleva v místě ohřevu zcela odstraněna
V popise je v mnoha případech uváděno UV záření. Pokud by nebylo jasné, co je míněno pojmem typická vlnová délka UV záření, rozumí se tímto pojmem záření o vlnovém rozsahu 190 až 400 nm.
Všechny význaky uvedené v popise, včetně kteréhokoliv patentového nároku, anotace a obrázku, a/nebo všechny kroky kteréhokoliv popsaného postupu nebo způsobu, mohou být jakkoliv kombinovány, vyjma kombinací a/nebo kroků, kde alespoň některé z takových význaků a/nebo kroků se vzájemně vylučují.
Kterýkoliv význak uvedený v tomto popise, vč. kteréhokoliv patentového nároku, anotace a obrázku, může být nahrazen alternativními význaky stejného nebo ekvivalentního či obdobného účelu, pokud není výslovně uvedeno jinak. Pokud tak není výslovně uveden opak, každý popsaný význak je pouze jedním příkladem generické řady ekvivalentních nebo obdobných význaků.
Vynález není omezen na podrobnosti výše uvedených provedení. Vynález se vztahuje též na kterýkoliv nový význak nebo novou kombinaci význaků uvedených v tomto popise, včetně kteréhokoliv patentového nároku, anotace a obrázku, nebo na kterýkoliv nový krok jakéhokoliv zde uvedeného postupu či metody nebo na novou kombinaci postupů či metod zde popsaných.

Claims (39)

  1. PATENTOVÉ NÁROKY
    1. Pozitivně pracující, oleofilní, tepelně citlivá kompozice, obsahující ve vodné alkalické vývojce rozpustnou polymemí substanci a sloučeninu, snižující rozpustnost polymemí látky ve vodné vývojce, vyznačující se tím, že polymemí substancí je látka se zvýšenou rozpustností ve vodné alkalické vývojce při zahřátí a stálostí ve vodné alkalické vývojce při působení UV záření.
  2. 2. Kompozice podle nároku 1, vyznačující se tím, že ve vodné alkalické vývojce rozpustná polymemí substance obsahuje funkční skupinu nebo funkční skupiny ze skupin hydroxy, karboxy, amino, amid a maleinimid.
  3. 3. Kompozice podle nároku 1, vyznačující se tím, že ve vodné alkalické vývojce rozpustnou polymemí substancí je látka zvolená ze skupiny polymer nebo kopolymer hydroxystyrenu, polymer či kopolymer kyseliny akrylové, polymer nebo kopolymer kyseliny metakrylové, polymer či kopolymer maleinimidu, polymer nebo kopolymer anhydridu kyseliny maleinové, hydroxycelulóza, karboxycelulóza, fenolová pryskyřice.
  4. 4. Kompozice podle nároku 1, vyznačující se tím, že ve vodné alkalické vývojce rozpustnou polymemí látkou je fenolová pryskyřice.
  5. 5. Kompozice podle nároku 1,vyznačující se tím, že sloučenina, snižující rozpustnost polymemí substance ve vodné alkalické vývojce, obsahuje alespoň jeden kvartémí atom dusíku.
  6. 6. Kompozice podle nároku 1,vyznačující se tím, že sloučenina, snižující rozpustnost polymemí substance ve vodné alkalické vývojce, obsahuje alespoň jeden atom dusíku v heterocyklickém řetězci.
  7. 7. Kompozice podle nároku 6, vyznačující se tím, že sloučenina, snižující rozpustnost polymemí substance ve vodné alkalické vývojce je chinolin nebo triazol.
  8. 8. Kompozice podle nároku 1,vyznačující se tím, že sloučenina, snižující rozpustnost polymemí substance ve vodné alkalické vývojce, obsahuje alespoň jeden kvartémí atom dusíku, patřící do heterocyklického řetězce.
  9. 9. Kompozice podle nároku 8, vyznačující se tím, že sloučenina, snižující rozpustnost polymemí substance ve vodné alkalické vývojce, je zvolena ze sloučenin imidazolinu, chinolinu, benzothiazolu a pyridinia.
  10. 10. Kompozice podle nároku 9, vyznačující se tím, že chinolinovou sloučeninou je kyaninové barvivo.
  11. 11. Kompozice podle nároku 9, vyznaču j í cí se tí m , žebenzothiazolovou sloučeninou je kyaninové barvivo.
  12. 12. Kompozice podle nároku 1, vyznačující se tím, že sloučeninou snižující rozpustnost polymemí substance ve vodné alkalické vývojce, je triarylmethanová sloučenina.
  13. 13. Kompozice podle nároku 1, vyznačující se tím, že sloučenina snižující rozpustnost polymemí substance ve vodné alkalické vývojce obsahuje karbonylovou funkční skupinu.
    -17CZ 292739 Β6
  14. 14. Kompozice podle nároku 13, vyznačující se tím, že sloučenina snižující rozpustnost polymemí substance ve vodné alkalické vývojce, je některou ze sloučenin flavonových.
  15. 15. Kompozice podle nároku 13, vyznačující se tím, že sloučeninou snižující rozpustnost polymemí substance ve vodné alkalické vývojce, je buď N-4(4-bromobutyl)ftalimid, nebo flavanon nebo benzofenon nebo 2,3-difenyl-l-indeneon nebo xanton nebo fenantrenechinon.
  16. 16. Kompozice podle nároku 1,vyznačující se tím, že sloučenina snižující rozpustnost polymemí substance ve vodné alkalické vývojce, má obecný vzorec
    Qi-SÍO^-Qz kde Q! představuje volitelně substituovanou fenylovou nebo alkylovou skupinu, n je celé číslo z řady 0, 1, 2 a Q2 představuje halogenový atom či alkoxylovou skupinu.
  17. 17. Kompozice podle nároku 1,vyznačující se tím, že sloučeninou snižující rozpustnost polymemí substance ve vodné alkalické vývojce, je sloučenina ethyl-p-toluen sulfonát a ptoluensulfonyl chloridu.
  18. 18. Kompozice podle nároku 1,vyznačující se tím, že sloučeninou, snižující rozpustnost polymemí substance ve vodné alkalické vývojce, je oranžové akridinové zásadité barvivo.
  19. 19. Kompozice podle nároku 1,vyznačující se tím, že sloučeninou, snižující rozpustnost polymemí substance ve vodné vývojce, je sloučenina feroceniová.
  20. 20. Pozitivně pracující litografická výchozí tisková deska, opatřená polevou obsahující kompozici podle kteréhokoliv z předcházejících nároků, vyznačující se tím, že poleva je nesena podložkou s hydrofílním povrchem.
  21. 21. Litografická výchozí tisková deska podle nároku 20, vyznačující se tím, že kompozice polevy je upravena pro absorpci záření a jeho přeměnu na teplo.
  22. 22. Litografická výchozí tisková deska podle nároku 21, vyznačující se tím, že kompozice obsahuje látku schopnou absorbovat dopadající záření a měnit je na teplo.
  23. 23. Litografická výchozí tisková deska podle nároku 21, vyznačující se tím, že poleva obsahuje pomocnou vrstvu, uspořádanou pod vrstvou kompozice, přičemž pomocná vrstva obsahuje látku schopnou absorbovat dopadající záření a měnit je na teplo.
  24. 24. Litografická výchozí tisková deska podle nároku 21, vyznačující se tím, že sloučenina, snižující rozpustnost polymemí látky ve vodné alkalické vývojce, je současně látkou schopnou absorbovat dopadající záření a měnit je na teplo.
  25. 25. Litografická výchozí tisková deska podle nároku 22 nebo 23,vyznačující se tím, že záření absorbující sloučeninou je uhelná čerň.
  26. 26. Litografická výchozí tisková deska podle nároku 22 nebo 23,vyznačující se tím, že záření absorbující sloučeninou je pigment.
  27. 27. Litografická výchozí tisková deska podle nároku 26, vyznačující se tím, že záření absorbující sloučeninou je organický pigment.
  28. 28. Litografická výchozí tisková deska podle nároku 27, vyznačující se tím, že organickým pigmentem je ftalocyaninový pigment.
    -18CZ 292739 B6
  29. 29. Litografícká výchozí tisková deska podle nároku 26, vyznačující se tím, že záření absorbující sloučeninou je anorganický pigment.
  30. 30. Litografícká výchozí tisková deska podle nároku 26, vyznačující se tím, že pigmentem je Pruská modř, Heliogen zelená či Nigrosin.
  31. 31. Litografícká výchozí tisková deska podle nároku 22 nebo 23, vyznačující se tím, že záření absorbující sloučeninou je barvivo, a to buď squarylium nebo merokyanin nebo indolizin nebo pyrylium nebo metal ditiolin.
  32. 32. Litografícká výchozí tisková deska podle nároku 23, vyznačující se tím pomocnou vrstvou je tenká vrstva barviva nebo pigmentu.
  33. 33. Litografícká výchozí tisková deska podle nároku 23, vyznačující se tím pomocnou vrstvou je tenká vrstva kovu nebo oxidu kovu.
    že že
  34. 34. Litografícká výchozí tisková deska podle nároku 24, vyznačující se tím, že sloučeninou, která snižuje rozpustnost polymemí látky ve vodné vývojce a současně absorbuje záření, je kyaninové barvivo s obsahem chinolinu.
  35. 35. Litografícká výchozí tisková deska podle nároku 26, 31 nebo 34, vyznačující se t í m, že záření absorbující sloučeninou je látka pohlcující záření o vlnové délce nad 600 nm.
  36. 36. Způsob výroby litografícké výchozí tiskové desky podle kteréhokoliv z nároků 20 až 35, vyznačující se tím, že na výchozí tiskovou desku se pomocí záření přenese obraz.
  37. 37. Způsob výroby podle nároku 36, vyznačující se tím, že na výchozí tiskovou desku se obraz přenese ozářením laserovým paprskem.
  38. 38. Způsob výroby podle nároku 37, vyznačující se tím,že výchozí tisková deska se ozáří laserovým paprskem o vlnové délce nad 600 nm.
  39. 39. Způsob výroby podle nároku 36, vyznačující se tím, že na výchozí tiskovou desku se obraz přenese tepelným ozářením.
CZ19974008A 1996-04-23 1997-04-22 Pozitivně pracující, oleofilní, tepelně citlivá kompozice, litografická výchozí tisková deska obsahující tuto kompozici a způsob výroby litografické výchozí tiskové desky CZ292739B6 (cs)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GBGB9608394.4A GB9608394D0 (en) 1996-04-23 1996-04-23 Lithgraphic plates
GBGB9614693.1A GB9614693D0 (en) 1996-07-12 1996-07-12 Lithographic plates
PCT/GB1996/001973 WO1997007986A2 (en) 1995-08-15 1996-08-13 Water-less lithographic plates
GBGB9700884.1A GB9700884D0 (en) 1997-01-17 1997-01-17 Lithographic plates

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CZ400897A3 CZ400897A3 (cs) 1998-04-15
CZ292739B6 true CZ292739B6 (cs) 2003-12-17

Family

ID=27268256

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CZ19974008A CZ292739B6 (cs) 1996-04-23 1997-04-22 Pozitivně pracující, oleofilní, tepelně citlivá kompozice, litografická výchozí tisková deska obsahující tuto kompozici a způsob výroby litografické výchozí tiskové desky

Country Status (16)

Country Link
US (2) US6280899B1 (cs)
EP (2) EP0825927B1 (cs)
JP (1) JP3147908B2 (cs)
CN (1) CN1078132C (cs)
AT (2) ATE183136T1 (cs)
AU (1) AU707872B2 (cs)
BR (1) BR9702181A (cs)
CA (1) CA2225567C (cs)
CZ (1) CZ292739B6 (cs)
DE (4) DE69714225T2 (cs)
ES (2) ES2181120T3 (cs)
IL (1) IL122318A (cs)
NO (1) NO976002L (cs)
PL (1) PL324248A1 (cs)
RU (1) RU2153986C2 (cs)
WO (1) WO1997039894A1 (cs)

Families Citing this family (227)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB9516723D0 (en) 1995-08-15 1995-10-18 Horsell Plc Water-less lithographic plates
JP3814961B2 (ja) 1996-08-06 2006-08-30 三菱化学株式会社 ポジ型感光性印刷版
US5858626A (en) 1996-09-30 1999-01-12 Kodak Polychrome Graphics Method of forming a positive image through infrared exposure utilizing diazonaphthoquinone imaging composition
GB9622657D0 (en) 1996-10-31 1997-01-08 Horsell Graphic Ind Ltd Direct positive lithographic plate
US6060222A (en) 1996-11-19 2000-05-09 Kodak Polcyhrome Graphics Llc 1Postitve-working imaging composition and element and method of forming positive image with a laser
EP0864420B2 (en) 1997-03-11 2005-11-16 Agfa-Gevaert Heat-sensitive imaging element for making positive working printing plates
US6090532A (en) * 1997-03-21 2000-07-18 Kodak Polychrome Graphics Llc Positive-working infrared radiation sensitive composition and printing plate and imaging method
US6083662A (en) * 1997-05-30 2000-07-04 Kodak Polychrome Graphics Llc Methods of imaging and printing with a positive-working infrared radiation sensitive printing plate
BR9810545A (pt) * 1997-07-05 2000-09-05 Kodak Polychrome Graphics Llc Métodos para a formação de configuração
GB9714526D0 (en) * 1997-07-11 1997-09-17 Horsell Graphic Ind Ltd Pattern Formation
DE69827882T2 (de) * 1997-08-13 2005-11-03 Mitsubishi Chemical Corp. Positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung, lichtempfindliche Druckplatte und Verfahren zur Herstellung eines positiven Bildes
JP2003533707A (ja) 1997-08-14 2003-11-11 コダック ポリクロム グラフィックス カンパニーリミテッド マスク及び電子パーツの製造方法
GB9722861D0 (en) 1997-10-29 1997-12-24 Horsell Graphic Ind Ltd Improvements in relation to the manufacture of lithographic printing forms
US6060217A (en) * 1997-09-02 2000-05-09 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal lithographic printing plates
US6117613A (en) * 1997-09-12 2000-09-12 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positive photosensitive composition for use with an infrared laser
EP0908306B3 (en) 1997-10-08 2009-08-05 Agfa-Gevaert A method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive imaging element
EP0908305B2 (en) 1997-10-08 2006-07-19 Agfa-Gevaert A method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive imaging element
EP1258369B1 (en) 1997-10-17 2005-03-30 Fuji Photo Film Co., Ltd. A positive type photosensitive image-forming material for an infrared laser and a positive type photosensitive composition for an infrared laser
EP0913253B1 (en) * 1997-10-28 2002-12-18 Mitsubishi Chemical Corporation Positive photosensitive composition, positive photosensitive lithographic printing plate and method for forming an image thereon
GB9722862D0 (en) * 1997-10-29 1997-12-24 Horsell Graphic Ind Ltd Pattern formation
EP0914942B1 (en) * 1997-11-07 2005-05-25 Toray Industries, Inc. Directly imageable waterless planographic printing plate precursor and a method of producing planographic printing plates
JP3810538B2 (ja) 1997-11-28 2006-08-16 富士写真フイルム株式会社 ポジ型画像形成材料
US6399279B1 (en) 1998-01-16 2002-06-04 Mitsubishi Chemical Corporation Method for forming a positive image
US5922512A (en) * 1998-01-29 1999-07-13 Kodak Polychrome Graphics Llc Processless direct write printing plate having heat sensitive polymer and methods of imaging and printing
DE69925053T2 (de) 1998-02-04 2006-03-02 Mitsubishi Chemical Corp. Positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung, lichtempfindliche Druckplatte und Verfahren zur Herstellung eines positiven Bildes
US6143471A (en) * 1998-03-10 2000-11-07 Mitsubishi Paper Mills Limited Positive type photosensitive composition
GB2335283B (en) 1998-03-13 2002-05-08 Horsell Graphic Ind Ltd Improvements in relation to pattern-forming methods
GB2335282B (en) 1998-03-13 2002-05-08 Horsell Graphic Ind Ltd Improvements in relation to pattern-forming methods
US6444393B2 (en) * 1998-03-26 2002-09-03 Fuji Photo Film Co., Ltd. Anionic infrared-ray absorbing agent, photosensitive composition and planographic printing plate precursor using same
US6447977B2 (en) * 1998-04-15 2002-09-10 Agfa-Gevaert Heat mode sensitive imaging element for making positive working printing plates
IT1299220B1 (it) 1998-05-12 2000-02-29 Lastra Spa Composizione sensibile sia a radiazioni ir che a radiazioni uv e lastra litografica
GB9811813D0 (en) * 1998-06-03 1998-07-29 Horsell Graphic Ind Ltd Polymeric compounds
US6352811B1 (en) * 1998-06-23 2002-03-05 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal digital lithographic printing plate
US6358669B1 (en) 1998-06-23 2002-03-19 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal digital lithographic printing plate
US6534238B1 (en) * 1998-06-23 2003-03-18 Kodak Polychrome Graphics, Llc Thermal digital lithographic printing plate
DE19834746A1 (de) 1998-08-01 2000-02-03 Agfa Gevaert Ag Strahlungsempfindliches Gemisch mit IR-absorbierenden, betainischen oder betainisch-anionischen Cyaninfarbstoffen und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
DE19834745A1 (de) 1998-08-01 2000-02-03 Agfa Gevaert Ag Strahlungsempfindliches Gemisch mit IR-absorbierenden, anionischen Cyaninfarbstoffen und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
US6190831B1 (en) * 1998-09-29 2001-02-20 Kodak Polychrome Graphics Llc Processless direct write printing plate having heat sensitive positively-charged polymers and methods of imaging and printing
JP3635203B2 (ja) * 1998-10-06 2005-04-06 富士写真フイルム株式会社 平版印刷版用原版
GB2342460A (en) * 1998-10-07 2000-04-12 Horsell Graphic Ind Ltd Method of making an electronic part
GB2342459B (en) * 1998-10-07 2003-01-15 Horsell Graphic Ind Ltd Improvements in relation to electronic parts
IL143158A0 (en) 1998-11-16 2002-04-21 Mitsubishi Chem Corp Positive-working photosensitive lithographic printing plate and method for producing the same
US6344306B1 (en) 1999-03-16 2002-02-05 Toray Industries, Inc. Directly imageable waterless planographic printing plate precursor, and directly imageable waterless planographic printing plate
US6124425A (en) * 1999-03-18 2000-09-26 American Dye Source, Inc. Thermally reactive near infrared absorption polymer coatings, method of preparing and methods of use
JP2000275828A (ja) 1999-03-25 2000-10-06 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版
DE60037951T2 (de) * 1999-05-21 2009-02-05 Fujifilm Corp. Fotoempfindliche Zusammensetzung und Flachdruckplatte, die diese Zusammensetzung verwendet
CA2314520A1 (en) 1999-07-30 2001-01-30 Domenico Tiefenthaler Composition sensitive to ir radiation and to heat and lithographic plate coated therewith
EP1072404B1 (en) * 1999-07-30 2003-05-21 Lastra S.P.A. Composition sensitive to IR radiation and to heat and lithographic plate coated with this composition
ATE240833T1 (de) 1999-07-30 2003-06-15 Lastra Spa Infrarotstrahlungs- und wärme-empfindliche zusammensetzung, und lithographische druckplatte, die mit dieser zusammensetzung beschichtet ist
US6255033B1 (en) 1999-07-30 2001-07-03 Creo, Ltd. Positive acting photoresist compositions and imageable element
EP1072405B1 (en) * 1999-07-30 2003-06-04 Lastra S.P.A. Composition sensitive to IR radiation and to heat and lithographic plate coated therewith
US6706466B1 (en) 1999-08-03 2004-03-16 Kodak Polychrome Graphics Llc Articles having imagable coatings
US6251559B1 (en) 1999-08-03 2001-06-26 Kodak Polychrome Graphics Llc Heat treatment method for obtaining imagable coatings and imagable coatings
US6461794B1 (en) 1999-08-11 2002-10-08 Kodak Polychrome Graphics Llc Lithographic printing forms
US6550989B1 (en) 1999-10-15 2003-04-22 Kodak Polychrome Graphics Llc Apparatus and methods for development of resist patterns
ATE314204T1 (de) 1999-10-19 2006-01-15 Fuji Photo Film Co Ltd Fotoempfindliche zusammensetzung und flachdruckplatte, die diese zusammensetzung verwendet
US6232031B1 (en) 1999-11-08 2001-05-15 Ano-Coil Corporation Positive-working, infrared-sensitive lithographic printing plate and method of imaging
US6300038B1 (en) 1999-11-19 2001-10-09 Kodak Polychrome Graphics Llc Articles having imagable coatings
US6391524B2 (en) * 1999-11-19 2002-05-21 Kodak Polychrome Graphics Llc Article having imagable coatings
US6294311B1 (en) * 1999-12-22 2001-09-25 Kodak Polychrome Graphics Llc Lithographic printing plate having high chemical resistance
US6558787B1 (en) 1999-12-27 2003-05-06 Kodak Polychrome Graphics Llc Relation to manufacture of masks and electronic parts
US6787291B2 (en) 2000-04-06 2004-09-07 Toray Industries, Inc. Directly imageable planographic printing plate and production method thereof
JP2001305722A (ja) * 2000-04-18 2001-11-02 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
US6506533B1 (en) 2000-06-07 2003-01-14 Kodak Polychrome Graphics Llc Polymers and their use in imagable products and image-forming methods
US6458511B1 (en) 2000-06-07 2002-10-01 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermally imageable positive-working lithographic printing plate precursor and method for imaging
AU2001273085A1 (en) 2000-07-06 2002-01-21 Cabot Corporation Modified pigment products, dispersions thereof, and compositions comprising the same
DE60127684T2 (de) 2000-08-04 2007-09-06 Kodak Polychrome Graphics Co. Ltd., Norwalk Lithographische druckform, herstellungsverfahren und verwendung davon
US6555291B1 (en) 2000-08-14 2003-04-29 Kodak Polychrome Graphics, Llc Thermal digital lithographic printing plate
US6649324B1 (en) * 2000-08-14 2003-11-18 Kodak Polychrome Graphics Llc Aqueous developer for lithographic printing plates
US6558872B1 (en) 2000-09-09 2003-05-06 Kodak Polychrome Graphics Llc Relation to the manufacture of masks and electronic parts
US6451502B1 (en) 2000-10-10 2002-09-17 Kodak Polychrome Graphics Llc manufacture of electronic parts
US6864040B2 (en) 2001-04-11 2005-03-08 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal initiator system using leuco dyes and polyhalogene compounds
EP1333977A1 (en) 2000-10-26 2003-08-13 Kodak Polychrome Graphics LLC Compositions comprising a pigment
US6596460B2 (en) 2000-12-29 2003-07-22 Kodak Polychrome Graphics Llc Polyvinyl acetals having azido groups and use thereof in radiation-sensitive compositions
US6548215B2 (en) 2001-02-09 2003-04-15 Kodak Polychrome Graphics Llc Method for the production of a printing plate using the dual-feed technology
US6613494B2 (en) 2001-03-13 2003-09-02 Kodak Polychrome Graphics Llc Imageable element having a protective overlayer
US6899994B2 (en) 2001-04-04 2005-05-31 Kodak Polychrome Graphics Llc On-press developable IR sensitive printing plates using binder resins having polyethylene oxide segments
US7049046B2 (en) * 2004-03-30 2006-05-23 Eastman Kodak Company Infrared absorbing compounds and their use in imageable elements
US7592128B2 (en) 2001-04-04 2009-09-22 Eastman Kodak Company On-press developable negative-working imageable elements
US6777164B2 (en) 2001-04-06 2004-08-17 Kodak Polychrome Graphics Llc Lithographic printing forms
EP1256444B1 (en) 2001-04-09 2004-06-30 Agfa-Gevaert Positive-working lithographic printing plate precursor
EP1258349B1 (en) * 2001-05-17 2005-04-20 Agfa-Gevaert Method for the preparation of a negative working printing plate
US6739260B2 (en) 2001-05-17 2004-05-25 Agfa-Gevaert Method for the preparation of a negative working printing plate
BR0102218B1 (pt) 2001-05-31 2012-10-16 produto sensìvel à radiação, e processo de impressão ou revelação de imagem utilizando o referido produto.
US6706454B2 (en) 2001-07-05 2004-03-16 Kodak Polychrome Graphics Llc Method for the production of a printing plate using particle growing acceleration by an additive polymer
JP3917422B2 (ja) 2001-07-26 2007-05-23 富士フイルム株式会社 画像形成材料
US7056639B2 (en) 2001-08-21 2006-06-06 Eastman Kodak Company Imageable composition containing an infrared absorber with counter anion derived from a non-volatile acid
US6593055B2 (en) 2001-09-05 2003-07-15 Kodak Polychrome Graphics Llc Multi-layer thermally imageable element
US7294447B2 (en) 2001-09-24 2007-11-13 Agfa Graphics Nv Positive-working lithographic printing plate precursor
EP1295717B1 (en) 2001-09-24 2007-07-25 Agfa Graphics N.V. Heat-sensitive positive-working lithographic printing plate precursor
KR100406460B1 (ko) * 2001-09-29 2003-11-19 한국과학기술연구원 커플링된 스티릴시아닌 색소 및 그의 제조 방법
US6723490B2 (en) 2001-11-15 2004-04-20 Kodak Polychrome Graphics Llc Minimization of ablation in thermally imageable elements
US6699636B2 (en) 2001-12-12 2004-03-02 Kodak Polychrome Graphics Llc Imaging element comprising a thermally activated crosslinking agent
US6960423B2 (en) 2001-12-26 2005-11-01 Creo Inc. Preparation of gravure and intaglio printing elements using direct thermally imageable media
US6723489B2 (en) 2002-01-30 2004-04-20 Kodak Polychrome Graphics Llp Printing form precursors
US6830862B2 (en) 2002-02-28 2004-12-14 Kodak Polychrome Graphics, Llc Multi-layer imageable element with a crosslinked top layer
US20050003296A1 (en) * 2002-03-15 2005-01-06 Memetea Livia T. Development enhancement of radiation-sensitive elements
US6732653B2 (en) 2002-04-26 2004-05-11 Kodak Polychrome Graphics Llc Method to remove unwanted, unexposed, positive-working, radiation-sensitive layer
US6843176B2 (en) * 2002-04-26 2005-01-18 Kodak Polychrome Graphics, Llc Method to remove unwanted, unexposed, radiation-sensitive layer in a lithographic printing plate
DE60213236T2 (de) 2002-09-04 2007-06-21 Agfa-Gevaert Wärmeempfindlicher Flachdruckplattenvorläufer
US20040067435A1 (en) 2002-09-17 2004-04-08 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image forming material
US6858359B2 (en) 2002-10-04 2005-02-22 Kodak Polychrome Graphics, Llp Thermally sensitive, multilayer imageable element
JP2006501505A (ja) 2002-10-04 2006-01-12 アグフア−ゲヴエルト リトグラフ印刷版前駆物質の製法
EP1551642B1 (en) 2002-10-04 2007-10-10 Agfa Graphics N.V. Method of making a lithographic printing plate precursor
US20060234161A1 (en) 2002-10-04 2006-10-19 Eric Verschueren Method of making a lithographic printing plate precursor
US7455949B2 (en) 2002-10-15 2008-11-25 Agfa Graphics, N.V. Polymer for heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US7458320B2 (en) 2002-10-15 2008-12-02 Agfa Graphics, N.V. Polymer for heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US7198877B2 (en) 2002-10-15 2007-04-03 Agfa-Gevaert Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US6794107B2 (en) 2002-10-28 2004-09-21 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal generation of a mask for flexography
CN1332809C (zh) * 2002-12-26 2007-08-22 富士胶片株式会社 平版印刷版前体
EP1433594B1 (en) 2002-12-27 2008-04-09 FUJIFILM Corporation Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
JP4163964B2 (ja) 2003-01-07 2008-10-08 岡本化学工業株式会社 画像形成組成物およびそれを用いた感光性平版印刷版
US7160667B2 (en) * 2003-01-24 2007-01-09 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image forming material
US7087359B2 (en) 2003-01-27 2006-08-08 Agfa-Gevaert Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US6790590B2 (en) * 2003-01-27 2004-09-14 Kodak Polychrome Graphics, Llp Infrared absorbing compounds and their use in imageable elements
US6953652B2 (en) 2003-01-27 2005-10-11 Agfa-Gevaert Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
DE602004008224T2 (de) * 2003-02-11 2008-05-15 Agfa Graphics N.V. Wärmeempfindlicher lithographischer druckplattenvorläufer
US7229744B2 (en) * 2003-03-21 2007-06-12 Eastman Kodak Company Method for preparing lithographic printing plates
US6908726B2 (en) * 2003-04-07 2005-06-21 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermally imageable elements imageable at several wavelengths
US20040214108A1 (en) * 2003-04-25 2004-10-28 Ray Kevin B. Ionic liquids as dissolution inhibitors in imageable elements
JP4703104B2 (ja) * 2003-06-06 2011-06-15 株式会社東芝 通信端末装置
DE602004015778D1 (de) * 2003-06-30 2008-09-25 Think Labs Kk Positive lichtempfindliche zusammensetzung
JP4657276B2 (ja) * 2003-07-03 2011-03-23 株式会社シンク・ラボラトリー ポジ型感光性組成物
US7371454B2 (en) * 2003-12-15 2008-05-13 Eastman Kodak Company Imageable element comprising sulfated polymers
DE602004003700T2 (de) 2003-07-08 2007-10-04 Eastman Kodak Co. Bebilderbares Element mit sulfatierten Polymeren
US6942957B2 (en) * 2003-07-17 2005-09-13 Kodak Polychrome Graphics Llc Ionic liquids as developability enhancing agents in multilayer imageable elements
US6844141B1 (en) 2003-07-23 2005-01-18 Kodak Polychrome Graphics Llc Method for developing multilayer imageable elements
US6992688B2 (en) * 2004-01-28 2006-01-31 Eastman Kodak Company Method for developing multilayer imageable elements
JP2005047181A (ja) * 2003-07-30 2005-02-24 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版の製版方法、平版印刷方法および平版印刷原版
US7226724B2 (en) 2003-11-10 2007-06-05 Think Laboratory Co., Ltd. Positive-type photosensitive composition
BR0318606A (pt) 2003-12-04 2006-10-24 Ibf Ind Brasileira De Filmes L Conjunto de formação de imagem térmica de funcionamento positivo, método para a sua fabricação e placa de impressão litográfica
US7297465B2 (en) 2003-12-18 2007-11-20 Agfa Graphics Nv Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US7205084B2 (en) 2003-12-18 2007-04-17 Agfa-Gevaert Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
EP1697144A1 (en) 2003-12-18 2006-09-06 Agfa-Gevaert N.V. Positive-working lithographic printing plate precursor
US7467587B2 (en) 2004-04-21 2008-12-23 Agfa Graphics, N.V. Method for accurate exposure of small dots on a heat-sensitive positive-working lithographic printing plate material
US7348126B2 (en) 2004-04-27 2008-03-25 Agfa Graphics N.V. Negative working, heat-sensitive lithographic printing plate precursor
EP1604818B1 (en) 2004-06-11 2007-04-25 Agfa Graphics N.V. Negative working, heat-sensitive lithographic printing plate precursor
DE602004015513D1 (de) * 2004-05-27 2008-09-11 Think Labs Kk Positive lichtempfindliche zusammensetzung
DE102004029501A1 (de) * 2004-06-18 2006-01-12 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Modifizierte Polymere und ihre Verwendung bei der Herstellung von Lithographie-Druckplattenvorläufern
US7279263B2 (en) * 2004-06-24 2007-10-09 Kodak Graphic Communications Canada Company Dual-wavelength positive-working radiation-sensitive elements
US7195861B2 (en) 2004-07-08 2007-03-27 Agfa-Gevaert Method for making a negative working, heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US7425405B2 (en) 2004-07-08 2008-09-16 Agfa Graphics, N.V. Method for making a lithographic printing plate
US7354696B2 (en) 2004-07-08 2008-04-08 Agfa Graphics Nv Method for making a lithographic printing plate
JP4152928B2 (ja) * 2004-08-02 2008-09-17 株式会社シンク・ラボラトリー ポジ型感光性組成物
JP4242815B2 (ja) * 2004-08-27 2009-03-25 株式会社シンク・ラボラトリー ポジ型感光性組成物
US7198883B2 (en) 2004-09-24 2007-04-03 Agfa-Gevaert Processless lithographic printing plate
EP1640175B1 (en) 2004-09-24 2007-08-15 Agfa Graphics N.V. Processless lithographic printing plate
JP2006154477A (ja) * 2004-11-30 2006-06-15 Think Laboratory Co Ltd ポジ型感光性組成物
JP4474296B2 (ja) 2005-02-09 2010-06-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
EP1705003B1 (en) 2005-03-21 2007-10-24 Agfa Graphics N.V. Processless lithographic printing plates
JP2006293162A (ja) 2005-04-13 2006-10-26 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
KR100693357B1 (ko) * 2005-04-19 2007-03-12 가부시키가이샤 씽크. 라보라토리 포지티브형 감광성 조성물
BRPI0611018B1 (pt) 2005-06-03 2017-03-07 American Dye Source Inc copolímeros de acetal de absorção próxima do infravermelho termicamente reativos, métodos de preparo e métodos de uso
US7678533B2 (en) 2005-06-30 2010-03-16 Agfa Graphics, N.V. Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US20070292802A1 (en) * 2005-07-12 2007-12-20 Think Laboratiory Co., Ltd. Positive Photosenstive Composition
US8313885B2 (en) 2005-11-10 2012-11-20 Agfa Graphics Nv Lithographic printing plate precursor comprising bi-functional compounds
US7338745B2 (en) * 2006-01-23 2008-03-04 Eastman Kodak Company Multilayer imageable element with improved chemical resistance
DE602006004839D1 (de) 2006-02-28 2009-03-05 Agfa Graphics Nv Positiv arbeitende Lithografiedruckformen
WO2007099053A1 (en) 2006-02-28 2007-09-07 Agfa Graphics Nv Method for making a lithographic printing plate
EP1834764B1 (en) 2006-03-17 2009-05-27 Agfa Graphics N.V. Negative working, heat-sensitive lithographic printing plate precursor
DE602006010342D1 (de) 2006-05-24 2009-12-24 Agfa Graphics Nv Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform
ATE449683T1 (de) 2006-05-24 2009-12-15 Agfa Graphics Nv Negativ arbeitender hitzeempfindlicher lithographiedruckformvorläufer
GB2439734A (en) * 2006-06-30 2008-01-09 Peter Andrew Reath Bennett Coating for a lithographic precursor and use thereof
JP5038434B2 (ja) * 2006-11-28 2012-10-03 イーストマン コダック カンパニー 良好な耐溶剤性を有する多層画像形成性要素
JPWO2008126722A1 (ja) * 2007-04-05 2010-07-22 株式会社シンク・ラボラトリー ポジ型感光性組成物
EP1985445B1 (en) 2007-04-27 2011-07-20 Agfa Graphics N.V. A lithographic printing plate precursor
EP2002987B1 (en) 2007-06-13 2014-04-23 Agfa Graphics N.V. A method for treating a lithographic printing plate
US7582407B2 (en) * 2007-07-09 2009-09-01 Eastman Kodak Company Imageable elements with low pH developer solubility
EP2025512B1 (en) 2007-08-14 2011-05-18 Agfa Graphics N.V. Method for making a lithographic printing plate
WO2009030279A1 (en) 2007-09-07 2009-03-12 Agfa Graphics Nv A heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US7989146B2 (en) 2007-10-09 2011-08-02 Eastman Kodak Company Component fabrication using thermal resist materials
EP2062728B1 (en) 2007-11-13 2011-08-31 Agfa Graphics N.V. Method for making a lithographic printing plate
DE602007006822D1 (de) 2007-11-30 2010-07-08 Agfa Graphics Nv Verfahren zur Behandlung einer Lithografiedruckplatte
JP2009132974A (ja) 2007-11-30 2009-06-18 Fujifilm Corp 微細構造体
ATE481240T1 (de) 2008-02-28 2010-10-15 Agfa Graphics Nv Verfahren zur herstellung einer lithografiedruckplatte
EP2098376B1 (en) 2008-03-04 2013-09-18 Agfa Graphics N.V. A method for making a lithographic printing plate support
ES2365885T3 (es) 2008-03-31 2011-10-13 Agfa Graphics N.V. Un método para tratar una plancha de impresión litográfica.
EP2159049B1 (en) 2008-09-02 2012-04-04 Agfa Graphics N.V. A heat-sensitive positive-working lithographic printing plate precursor
EP2194429A1 (en) 2008-12-02 2010-06-09 Eastman Kodak Company Gumming compositions with nano-particles for improving scratch sensitivity in image and non-image areas of lithographic printing plates
EP2213690B1 (en) * 2009-01-30 2015-11-11 Agfa Graphics N.V. A new alkali soluble resin
US20100227269A1 (en) 2009-03-04 2010-09-09 Simpson Christopher D Imageable elements with colorants
ATE553920T1 (de) 2009-06-18 2012-05-15 Agfa Graphics Nv Lithographiedruckplattenvorläufer
EP2284005B1 (en) 2009-08-10 2012-05-02 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursors with beta-hydroxy alkylamide crosslinkers
US8383319B2 (en) 2009-08-25 2013-02-26 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursors and stacks
EP2293144B1 (en) 2009-09-04 2012-11-07 Eastman Kodak Company Method of drying lithographic printing plates after single-step-processing
US8298750B2 (en) 2009-09-08 2012-10-30 Eastman Kodak Company Positive-working radiation-sensitive imageable elements
ATE555905T1 (de) 2009-10-27 2012-05-15 Agfa Graphics Nv Neuartige cyaninfarbstoffe und lithografische druckerplattenvorläufer mit den farbstoffen
US8936899B2 (en) 2012-09-04 2015-01-20 Eastman Kodak Company Positive-working lithographic printing plate precursors and use
RU2487882C1 (ru) 2009-10-29 2013-07-20 Майлан Груп Галлотанниновые соединения в композициях для покрытия литографических печатных форм
EP2329951B1 (en) 2009-12-04 2012-06-20 AGFA Graphics NV A lithographic printing plate precursor
ES2395993T3 (es) 2010-03-19 2013-02-18 Agfa Graphics N.V. Precursor de plancha de impresión litográfica
US20110236832A1 (en) * 2010-03-26 2011-09-29 Celin Savariar-Hauck Lithographic processing solutions and methods of use
US8939080B2 (en) 2010-11-18 2015-01-27 Eastman Kodak Company Methods of processing using silicate-free developer compositions
US20120129093A1 (en) 2010-11-18 2012-05-24 Moshe Levanon Silicate-free developer compositions
US20130298792A1 (en) 2011-01-25 2013-11-14 Agfa Graphics Nv Lithographic printing plate precursor
ES2427137T3 (es) 2011-02-18 2013-10-29 Agfa Graphics N.V. Precursor de plancha de impresión litográfica
US8632940B2 (en) 2011-04-19 2014-01-21 Eastman Kodak Company Aluminum substrates and lithographic printing plate precursors
US8722308B2 (en) 2011-08-31 2014-05-13 Eastman Kodak Company Aluminum substrates and lithographic printing plate precursors
EP2753981B1 (en) 2011-09-08 2015-10-14 AGFA Graphics NV Method of making a lithographic printing plate
US9096759B2 (en) * 2011-12-21 2015-08-04 E I Du Pont De Nemours And Company Printing form and process for preparing the printing form with curable composition having solvent-free epoxy resin
US20130255515A1 (en) 2012-03-27 2013-10-03 Celin Savariar-Hauck Positive-working lithographic printing plate precursors
EP2878452B1 (en) 2012-07-27 2018-11-28 Fujifilm Corporation Support for lithographic printing plate and manufacturing method therefor
CN104870193B (zh) 2013-01-01 2017-12-22 爱克发印艺公司 (乙烯、乙烯醇缩醛)共聚物和它们在平版印刷版前体中的用途
EP2775351B1 (en) 2013-03-07 2017-02-22 Agfa Graphics NV Apparatus and method for processing a lithographic printing plate
EP3346332B1 (en) 2013-06-18 2019-11-13 Agfa Nv A lithographic printing plate precursor having a non-contineuous back layer
EP2871057B1 (en) 2013-11-07 2016-09-14 Agfa Graphics Nv Negative working, heat-sensitive lithographic printing plate precursor
EP2933278B1 (en) 2014-04-17 2018-08-22 Agfa Nv (Ethylene, vinyl acetal) copolymers and their use in lithographic printing plate precursors
ES2617557T3 (es) 2014-05-15 2017-06-19 Agfa Graphics Nv Copolímeros (de etileno, vinilacetal) y su uso en precursores de plancha de impresión litográfica
CN104035279B (zh) * 2014-05-23 2017-07-18 浙江康尔达新材料股份有限公司 阳图红外敏感组合物及其可成像元件
EP2955198B8 (en) 2014-06-13 2018-01-03 Agfa Nv Ethylene/vinyl acetal-copolymers and their use in lithographic printing plate precursors
EP2963496B1 (en) 2014-06-30 2017-04-05 Agfa Graphics NV A lithographic printing plate precursor including ( ethylene, vinyl acetal ) copolymers
ES2655798T3 (es) 2014-12-08 2018-02-21 Agfa Nv Sistema para reducir los residuos de ablación
EP3130465B1 (en) 2015-08-12 2020-05-13 Agfa Nv Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US9588429B1 (en) 2015-09-03 2017-03-07 Eastman Kodak Company Lithographic developer composition and method of use
EP3170662B1 (en) 2015-11-20 2019-08-14 Agfa Nv A lithographic printing plate precursor
AU2017235148A1 (en) 2016-03-16 2018-07-12 Agfa Nv Method and apparatus for processing a lithographic printing plate
EP3239184A1 (en) 2016-04-25 2017-11-01 Agfa Graphics NV Thermoplastic polymer particles and a lithographic printing plate precursor
EP3441223B1 (en) 2017-08-07 2024-02-21 Eco3 Bv A lithographic printing plate precursor
CN111051981B (zh) 2017-08-25 2024-04-09 富士胶片株式会社 负型平版印刷版原版及平版印刷版的制版方法
EP3474073B1 (en) 2017-10-17 2022-12-07 Agfa Offset Bv A method for making a printing plate
EP3637188A1 (en) 2018-10-08 2020-04-15 Agfa Nv An effervescent developer precursor for processing a lithographic printing plate precursor
EP3650938A1 (en) 2018-11-09 2020-05-13 Agfa Nv A lithographic printing plate precursor
EP3715140A1 (en) 2019-03-29 2020-09-30 Agfa Nv A method of printing
EP3778253A1 (en) 2019-08-13 2021-02-17 Agfa Nv Method for processing a lithographic printing plate
EP3922462B1 (en) 2020-06-08 2023-03-01 Agfa Offset Bv Lithographic photopolymer printing plate precursor with improved daylight stability
US20240100820A1 (en) 2020-12-16 2024-03-28 Agfa Offset Bv Lithographic Printing Press Make-Ready Method
EP4382306A1 (en) 2022-12-08 2024-06-12 Eco3 Bv Lithographic printing press make-ready method

Family Cites Families (137)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE510563A (cs) 1949-07-23
US3046121A (en) 1949-07-23 1962-07-24 Azoplate Corp Process for the manufacture of printing plates and light-sensitive material suttablefor use therein
US3046119A (en) 1950-08-01 1962-07-24 Azoplate Corp Light sensitive material for printing and process for making printing plates
BE506677A (cs) 1950-10-31
NL166823B (nl) 1951-02-02 Petroles Cie Francaise Electrisch koppelingsorgaan voor koppeling onder water.
US2767092A (en) 1951-12-06 1956-10-16 Azoplate Corp Light sensitive material for lithographic printing
GB742557A (en) 1952-10-01 1955-12-30 Kalle & Co Ag Light-sensitive material for photomechanical reproduction and process for the production of images
GB772517A (en) 1954-02-06 1957-04-17 Kalle & Co Ag Improvements in or relating to photo-mechanical reproduction
BE540225A (cs) 1954-08-20
US2907665A (en) 1956-12-17 1959-10-06 Cons Electrodynamics Corp Vitreous enamel
NL129161C (cs) 1959-01-14
NL130471C (cs) 1959-08-05
US3105465A (en) 1960-05-31 1963-10-01 Oliver O Peters Hot water heater
US3460964A (en) * 1964-11-19 1969-08-12 Eastman Kodak Co Heat-sensitive recording element and composition
NL6608712A (cs) * 1966-06-23 1966-11-25
US3635709A (en) 1966-12-15 1972-01-18 Polychrome Corp Light-sensitive lithographic plate
GB1170495A (en) 1967-03-31 1969-11-12 Agfa Gevaert Nv Radiation-Sensitive Recording Material
GB1231789A (cs) * 1967-09-05 1971-05-12
GB1245924A (en) 1967-09-27 1971-09-15 Agfa Gevaert Improvements relating to thermo-recording
GB1260662A (en) * 1968-03-27 1972-01-19 Agfa Gevaert Improvements relating to the sub-titling of processed photographic materials
US3837860A (en) 1969-06-16 1974-09-24 L Roos PHOTOSENSITIVE MATERIALS COMPRISING POLYMERS HAVING RECURRING PENDENT o-QUINONE DIAZIDE GROUPS
US3647443A (en) 1969-09-12 1972-03-07 Eastman Kodak Co Light-sensitive quinone diazide polymers and polymer compositions
JPS5024641B2 (cs) 1972-10-17 1975-08-18
US3891439A (en) 1972-11-02 1975-06-24 Polychrome Corp Aqueous developing composition for lithographic diazo printing plates
JPS5536518B2 (cs) * 1972-11-21 1980-09-20
US3859099A (en) 1972-12-22 1975-01-07 Eastman Kodak Co Positive plate incorporating diazoquinone
CA1085212A (en) 1975-05-27 1980-09-09 Ronald H. Engebrecht Use of volatile carboxylic acids in improved photoresists containing quinone diazides
DE2529054C2 (de) 1975-06-30 1982-04-29 Ibm Deutschland Gmbh, 7000 Stuttgart Verfahren zur Herstellung eines zur Vorlage negativen Resistbildes
DE2543820C2 (de) * 1975-10-01 1984-10-31 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Verfahren zur Herstellung von Flachdruckformen mittels Laserstrahlen
DE2607207C2 (de) 1976-02-23 1983-07-14 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Verfahren zur Herstellung von Flachdruckformen mit Laserstrahlen
US4486529A (en) 1976-06-10 1984-12-04 American Hoechst Corporation Dialo printing plate made from laser
GB1603920A (en) 1978-05-31 1981-12-02 Vickers Ltd Lithographic printing plates
JPS5560944A (en) 1978-10-31 1980-05-08 Fuji Photo Film Co Ltd Image forming method
US4308368A (en) 1979-03-16 1981-12-29 Daicel Chemical Industries Ltd. Photosensitive compositions with reaction product of novolak co-condensate with o-quinone diazide
JPS561045A (en) 1979-06-16 1981-01-08 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Photosensitive composition
JPS561044A (en) 1979-06-16 1981-01-08 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Photosensitive composition
JPS569740A (en) 1979-07-05 1981-01-31 Fuji Photo Film Co Ltd Image forming method
US4316952A (en) * 1980-05-12 1982-02-23 Minnesota Mining And Manufacturing Company Energy sensitive element having crosslinkable polyester
GB2082339B (en) * 1980-08-05 1985-06-12 Horsell Graphic Ind Ltd Lithographic printing plates and method for processing
US4529682A (en) 1981-06-22 1985-07-16 Philip A. Hunt Chemical Corporation Positive photoresist composition with cresol-formaldehyde novolak resins
JPS58203433A (ja) 1982-05-21 1983-11-26 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPS58224351A (ja) 1982-06-23 1983-12-26 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性印刷版
US4609615A (en) 1983-03-31 1986-09-02 Oki Electric Industry Co., Ltd. Process for forming pattern with negative resist using quinone diazide compound
DE3325023A1 (de) 1983-07-11 1985-01-24 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Verfahren zur herstellung negativer kopien mittels eines materials auf basis von 1,2-chinondiaziden
US4708925A (en) * 1984-12-11 1987-11-24 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photosolubilizable compositions containing novolac phenolic resin
US4693958A (en) 1985-01-28 1987-09-15 Lehigh University Lithographic plates and production process therefor
DE3541534A1 (de) 1985-11-25 1987-05-27 Hoechst Ag Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch
ZA872295B (cs) 1986-03-13 1987-09-22
US4684599A (en) 1986-07-14 1987-08-04 Eastman Kodak Company Photoresist compositions containing quinone sensitizer
US4743528A (en) * 1986-11-21 1988-05-10 Eastman Kodak Company Enhanced imaging composition containing an azinium activator
GB8700599D0 (en) * 1987-01-12 1987-02-18 Vickers Plc Printing plate precursors
DE3716848A1 (de) 1987-05-20 1988-12-01 Hoechst Ag Verfahren zur bebilderung lichtempfindlichen materials
EP0304313A3 (en) 1987-08-21 1990-08-22 Oki Electric Industry Company, Limited Pattern forming material
US4973572A (en) * 1987-12-21 1990-11-27 Eastman Kodak Company Infrared absorbing cyanine dyes for dye-donor element used in laser-induced thermal dye transfer
JPH01201654A (ja) 1988-02-06 1989-08-14 Nippon Oil Co Ltd ポジ型フォトレジスト材料
US4962147A (en) 1988-05-26 1990-10-09 Hoechst Celanese Corporation Process for the suspension polymerization of 4-acetoxystyrene and hydrolysis to 4-hydroxystyrene polymers
DE3820001A1 (de) 1988-06-11 1989-12-14 Basf Ag Optisches aufzeichnungsmedium
JPH0820734B2 (ja) * 1988-08-11 1996-03-04 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物及びそれを用いた光重合性組成物
US4877718A (en) 1988-09-26 1989-10-31 Rennsselaer Polytechnic Institute Positive-working photosensitive polyimide operated by photo induced molecular weight changes
JP2547626B2 (ja) 1988-10-07 1996-10-23 富士写真フイルム株式会社 モノマーの製造方法
EP0366590B2 (en) 1988-10-28 2001-03-21 International Business Machines Corporation Highly sensitive positive photoresist compositions
DE68921146T2 (de) 1988-11-11 1995-06-14 Fuji Photo Film Co Ltd Lichtempfindliche Zusammensetzung.
JP2698789B2 (ja) * 1988-11-11 1998-01-19 富士写真フイルム株式会社 熱転写受像材料
JP2571115B2 (ja) 1989-01-17 1997-01-16 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物の増感方法及び増感された感光性組成物
JP2871710B2 (ja) 1989-03-17 1999-03-17 株式会社きもと 画像形成方法
JPH02251962A (ja) 1989-03-27 1990-10-09 Matsushita Electric Ind Co Ltd 微細パターン形成材料およびパターン形成方法
JPH02299879A (ja) * 1989-04-27 1990-12-12 Ncr Corp 感熱記録媒体
US5200298A (en) 1989-05-10 1993-04-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method of forming images
DE69029104T2 (de) 1989-07-12 1997-03-20 Fuji Photo Film Co Ltd Polysiloxane und positiv arbeitende Resistmasse
EP0424182B1 (en) 1989-10-19 1998-07-08 Fujitsu Limited Process for formation of resist patterns
GB9004337D0 (en) 1990-02-27 1990-04-25 Minnesota Mining & Mfg Preparation and use of dyes
DE4013575C2 (de) 1990-04-27 1994-08-11 Basf Ag Verfahren zur Herstellung negativer Reliefkopien
US5279918A (en) 1990-05-02 1994-01-18 Mitsubishi Kasei Corporation Photoresist composition comprising a quinone diazide sulfonate of a novolac resin
JP2729850B2 (ja) 1990-05-15 1998-03-18 富士写真フイルム株式会社 画像形成層
JP2639853B2 (ja) 1990-05-18 1997-08-13 富士写真フイルム株式会社 新規キノンジアジド化合物及びそれを含有する感光性組成物
JP2645384B2 (ja) 1990-05-21 1997-08-25 日本ペイント株式会社 ポジ型感光性樹脂組成物
US5145763A (en) 1990-06-29 1992-09-08 Ocg Microelectronic Materials, Inc. Positive photoresist composition
JP3244288B2 (ja) * 1990-07-23 2002-01-07 昭和電工株式会社 近赤外光消色型記録材料
US5085972A (en) 1990-11-26 1992-02-04 Minnesota Mining And Manufacturing Company Alkoxyalkyl ester solubility inhibitors for phenolic resins
JPH04359906A (ja) 1991-06-07 1992-12-14 Shin Etsu Chem Co Ltd ポリ(パラ−t−ブトキシカルボニルオキシスチレン)及びその製造方法
CA2066895A1 (en) 1991-06-17 1992-12-18 Thomas P. Klun Aqueous developable imaging systems
US5258257A (en) 1991-09-23 1993-11-02 Shipley Company Inc. Radiation sensitive compositions comprising polymer having acid labile groups
US5437952A (en) 1992-03-06 1995-08-01 Konica Corporation Lithographic photosensitive printing plate comprising a photoconductor and a naphtho-quinone diazide sulfonic acid ester of a phenol resin
US5368977A (en) 1992-03-23 1994-11-29 Nippon Oil Co. Ltd. Positive type photosensitive quinone diazide phenolic resin composition
DE4321607A1 (de) 1992-06-30 1994-01-05 Kanzaki Paper Mfg Co Ltd Aufzeichnungsmaterial
US5268245A (en) 1992-07-09 1993-12-07 Polaroid Corporation Process for forming a filter on a solid state imager
US5351617A (en) 1992-07-20 1994-10-04 Presstek, Inc. Method for laser-discharge imaging a printing plate
CA2091286A1 (en) 1992-07-20 1994-01-21 Macdermid, Inc. Direct imaging process for forming resist pattern on a surface, and use thereof in fabricating printed boards
US5286612A (en) 1992-10-23 1994-02-15 Polaroid Corporation Process for generation of free superacid and for imaging, and imaging medium for use therein
DE69406687T2 (de) 1993-01-25 1998-05-14 At & T Corp Ein Verfahren zum gesteuerten Entschützen von Polymeren und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung welches diese zum Teil entschützten Polymere für Photoresiste benutzt
US5340699A (en) * 1993-05-19 1994-08-23 Eastman Kodak Company Radiation-sensitive composition containing a resole resin and a novolac resin and use thereof in lithographic printing plates
DE69323546T2 (de) * 1993-06-24 1999-08-26 Agfa-Gevaert N.V. Verbesserung der Lagerungsstabilität eines Diazo-Aufzeichnungselementes zur Herstellung einer Druckplatte
DE4426820A1 (de) 1993-07-29 1995-02-02 Fuji Photo Film Co Ltd Bilderzeugungsmaterial und Bilderzeugungsverfahren
GB9322705D0 (en) * 1993-11-04 1993-12-22 Minnesota Mining & Mfg Lithographic printing plates
EP0672954B1 (en) * 1994-03-14 1999-09-15 Kodak Polychrome Graphics LLC Radiation-sensitive composition containing a resole resin, a novolac resin, an infrared absorber and a triazine and use thereof in lithographic printing plates
JP3317574B2 (ja) 1994-03-15 2002-08-26 富士写真フイルム株式会社 ネガ型画像記録材料
JP3461377B2 (ja) 1994-04-18 2003-10-27 富士写真フイルム株式会社 画像記録材料
US5441850A (en) 1994-04-25 1995-08-15 Polaroid Corporation Imaging medium and process for producing an image
EP0691575B1 (en) 1994-07-04 2002-03-20 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positive photosensitive composition
WO1996002021A1 (en) 1994-07-11 1996-01-25 Konica Corporation Original form for lithographic plate and process for preparing lithographic plate
US5466557A (en) * 1994-08-29 1995-11-14 Eastman Kodak Company Radiation-sensitive composition containing a resole resin, a novolac resin, a latent bronsted acid, an infrared absorber and terephthalaldehyde and use thereof in lithographic printing plates
EP0706899A1 (en) 1994-10-13 1996-04-17 Agfa-Gevaert N.V. Thermal imaging element
US5491046A (en) * 1995-02-10 1996-02-13 Eastman Kodak Company Method of imaging a lithographic printing plate
US5658708A (en) 1995-02-17 1997-08-19 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image recording material
JPH0962005A (ja) 1995-06-14 1997-03-07 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型感光性組成物
GB9516694D0 (en) 1995-08-15 1995-10-18 Horsell Plc Water-less lithographic plates
GB9516723D0 (en) * 1995-08-15 1995-10-18 Horsell Plc Water-less lithographic plates
US5641608A (en) 1995-10-23 1997-06-24 Macdermid, Incorporated Direct imaging process for forming resist pattern on a surface and use thereof in fabricating printing plates
JPH09120157A (ja) * 1995-10-25 1997-05-06 Fuji Photo Film Co Ltd 湿し水不要感光性平版印刷版
US6132935A (en) 1995-12-19 2000-10-17 Fuji Photo Film Co., Ltd. Negative-working image recording material
US5814431A (en) * 1996-01-10 1998-09-29 Mitsubishi Chemical Corporation Photosensitive composition and lithographic printing plate
JP3589365B2 (ja) 1996-02-02 2004-11-17 富士写真フイルム株式会社 ポジ画像形成組成物
EP0803771A1 (en) 1996-04-23 1997-10-29 Agfa-Gevaert N.V. A method for making a lithopgrapic printing plate wherein an imaging element is used that comprises a thermosensitive mask
EP0819980B1 (en) 1996-07-19 2000-05-31 Agfa-Gevaert N.V. An IR radiation-sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith
JP3814961B2 (ja) 1996-08-06 2006-08-30 三菱化学株式会社 ポジ型感光性印刷版
US5705309A (en) 1996-09-24 1998-01-06 Eastman Kodak Company Photosensitive composition and element containing polyazide and an infrared absorber in a photocrosslinkable binder
US5759742A (en) 1996-09-25 1998-06-02 Eastman Kodak Company Photosensitive element having integral thermally bleachable mask and method of use
US6117610A (en) * 1997-08-08 2000-09-12 Kodak Polychrome Graphics Llc Infrared-sensitive diazonaphthoquinone imaging composition and element containing non-basic IR absorbing material and methods of use
US5705308A (en) 1996-09-30 1998-01-06 Eastman Kodak Company Infrared-sensitive, negative-working diazonaphthoquinone imaging composition and element
US5705322A (en) 1996-09-30 1998-01-06 Eastman Kodak Company Method of providing an image using a negative-working infrared photosensitive element
US5858626A (en) * 1996-09-30 1999-01-12 Kodak Polychrome Graphics Method of forming a positive image through infrared exposure utilizing diazonaphthoquinone imaging composition
EP0839647B2 (en) 1996-10-29 2014-01-22 Agfa Graphics N.V. Method for making a lithographic printing plate with improved ink-uptake
US6060222A (en) * 1996-11-19 2000-05-09 Kodak Polcyhrome Graphics Llc 1Postitve-working imaging composition and element and method of forming positive image with a laser
DE69804876T2 (de) 1997-01-24 2002-11-14 Fuji Photo Film Co., Ltd. Flachdruckplatte
DE69806986T2 (de) 1997-03-11 2003-05-08 Agfa-Gevaert, Mortsel Verfahren zur Herstellung von positiv arbeitenden lithographischen Druckplatten
US6090532A (en) * 1997-03-21 2000-07-18 Kodak Polychrome Graphics Llc Positive-working infrared radiation sensitive composition and printing plate and imaging method
DE19712323A1 (de) 1997-03-24 1998-10-01 Agfa Gevaert Ag Strahlungsempfindliches Gemisch und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial für Offsetdruckplatten
US6083662A (en) * 1997-05-30 2000-07-04 Kodak Polychrome Graphics Llc Methods of imaging and printing with a positive-working infrared radiation sensitive printing plate
JP3779444B2 (ja) 1997-07-28 2006-05-31 富士写真フイルム株式会社 赤外線レーザ用ポジ型感光性組成物
US6060217A (en) * 1997-09-02 2000-05-09 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal lithographic printing plates
US6060218A (en) * 1997-10-08 2000-05-09 Agfa-Gevaert, N.V. Method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive image element
EP0908306B3 (en) 1997-10-08 2009-08-05 Agfa-Gevaert A method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive imaging element
EP0913253B1 (en) * 1997-10-28 2002-12-18 Mitsubishi Chemical Corporation Positive photosensitive composition, positive photosensitive lithographic printing plate and method for forming an image thereon
DE69925053T2 (de) * 1998-02-04 2006-03-02 Mitsubishi Chemical Corp. Positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung, lichtempfindliche Druckplatte und Verfahren zur Herstellung eines positiven Bildes
US6251559B1 (en) * 1999-08-03 2001-06-26 Kodak Polychrome Graphics Llc Heat treatment method for obtaining imagable coatings and imagable coatings
US6300038B1 (en) * 1999-11-19 2001-10-09 Kodak Polychrome Graphics Llc Articles having imagable coatings
US6294311B1 (en) * 1999-12-22 2001-09-25 Kodak Polychrome Graphics Llc Lithographic printing plate having high chemical resistance

Also Published As

Publication number Publication date
US6280899B1 (en) 2001-08-28
AU2396697A (en) 1997-11-12
CN1196701A (zh) 1998-10-21
EP0887182B1 (en) 2002-07-24
ES2114521T3 (es) 2000-01-16
JP3147908B2 (ja) 2001-03-19
IL122318A0 (en) 1998-04-05
RU2153986C2 (ru) 2000-08-10
BR9702181A (pt) 1999-12-28
ES2181120T3 (es) 2003-02-16
CA2225567C (en) 2003-01-21
AU707872B2 (en) 1999-07-22
EP0887182A1 (en) 1998-12-30
DE69700397T2 (de) 2000-04-13
DE29724584U1 (de) 2002-04-18
ATE220991T1 (de) 2002-08-15
CN1078132C (zh) 2002-01-23
NO976002D0 (no) 1997-12-19
DE69714225T2 (de) 2003-03-27
WO1997039894A1 (en) 1997-10-30
DE69700397D1 (de) 1999-09-16
US20020045124A1 (en) 2002-04-18
CA2225567A1 (en) 1997-10-30
EP0825927B1 (en) 1999-08-11
ES2114521T1 (es) 1998-06-01
CZ400897A3 (cs) 1998-04-15
JPH11506550A (ja) 1999-06-08
US6485890B2 (en) 2002-11-26
EP0825927A1 (en) 1998-03-04
IL122318A (en) 2001-01-28
ATE183136T1 (de) 1999-08-15
PL324248A1 (en) 1998-05-11
DE825927T1 (de) 1998-07-16
NO976002L (no) 1998-02-17
DE69714225D1 (de) 2002-08-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2153986C2 (ru) Термочувствительная композиция и способ ее применения для изготовления литографической печатной формы
EP0969966B1 (en) Positive-working infrared radiation sensitive composition and printing plate and imaging method
US6461795B1 (en) Manufacture of lithographic printing forms
JP3814961B2 (ja) ポジ型感光性印刷版
CN1954007B (zh) 热反应性红外吸收聚合物及其在热敏平版印刷版中的用途
US6083662A (en) Methods of imaging and printing with a positive-working infrared radiation sensitive printing plate
BE1011389A5 (fr) Composition et element formateurs d&#39;image a effet positif et procede de formation d&#39;une image positive par laser.
WO2001045958A2 (en) Thermally imageable element and lithographic printing plate
US6063544A (en) Positive-working printing plate and method of providing a positive image therefrom using laser imaging
EP1101608B1 (en) Articles having imageable coatings
JP3731356B2 (ja) ポジ型感光性組成物、感光性平版印刷版及びポジ画像の形成方法
JP2003536095A (ja) ポリマーならびにその画像形成可能な製品および画像形成方法における使用
US20030113654A1 (en) Imaging element comprising a thermally activated crosslinking agent
JPH11212252A (ja) 平版印刷版
US6352814B1 (en) Method of forming a desired pattern
JPH10186649A (ja) 赤外感光性画像形成組成物、要素及び方法
US6265136B1 (en) Lithographic plate precursor
US6843176B2 (en) Method to remove unwanted, unexposed, radiation-sensitive layer in a lithographic printing plate
KR100277346B1 (ko) 열-감지조성물 및 이를 이용하여석판인쇄인화형을표시하는 방법
JPH10239794A (ja) 発色画像形成材料
MX2007005556A (es) Polìmeros que absorben en el infrarrojo tèrmicamente reactivos y su uso en una plancha de impresiòn litogràfica sensible al calor.

Legal Events

Date Code Title Description
PD00 Pending as of 2000-06-30 in czech republic
MM4A Patent lapsed due to non-payment of fee

Effective date: 20050422