CZ292739B6 - Pozitivně pracující, oleofilní, tepelně citlivá kompozice, litografická výchozí tisková deska obsahující tuto kompozici a způsob výroby litografické výchozí tiskové desky - Google Patents
Pozitivně pracující, oleofilní, tepelně citlivá kompozice, litografická výchozí tisková deska obsahující tuto kompozici a způsob výroby litografické výchozí tiskové desky Download PDFInfo
- Publication number
- CZ292739B6 CZ292739B6 CZ19974008A CZ400897A CZ292739B6 CZ 292739 B6 CZ292739 B6 CZ 292739B6 CZ 19974008 A CZ19974008 A CZ 19974008A CZ 400897 A CZ400897 A CZ 400897A CZ 292739 B6 CZ292739 B6 CZ 292739B6
- Authority
- CZ
- Czechia
- Prior art keywords
- composition
- compound
- printing plate
- lithographic printing
- solubility
- Prior art date
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
- B41M5/36—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using a polymeric layer, which may be particulate and which is deformed or structurally changed with modification of its' properties, e.g. of its' optical hydrophobic-hydrophilic, solubility or permeability properties
- B41M5/368—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using a polymeric layer, which may be particulate and which is deformed or structurally changed with modification of its' properties, e.g. of its' optical hydrophobic-hydrophilic, solubility or permeability properties involving the creation of a soluble/insoluble or hydrophilic/hydrophobic permeability pattern; Peel development
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C1/00—Forme preparation
- B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
- B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C1/00—Forme preparation
- B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
- B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
- B41C1/1016—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials characterised by structural details, e.g. protective layers, backcoat layers or several imaging layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/02—Positive working, i.e. the exposed (imaged) areas are removed
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/06—Developable by an alkaline solution
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/14—Multiple imaging layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/22—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by organic non-macromolecular additives, e.g. dyes, UV-absorbers, plasticisers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/24—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. acrylics, vinyl polymers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/26—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions not involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
- B41C2210/262—Phenolic condensation polymers, e.g. novolacs, resols
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/145—Infrared
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/146—Laser beam
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/165—Thermal imaging composition
Landscapes
- Optics & Photonics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Heat Sensitive Colour Forming Recording (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Developing Agents For Electrophotography (AREA)
- Liquid Developers In Electrophotography (AREA)
- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
Abstract
Pozitivně pracující, oleofilní, tepelně citlivá kompozice, obsahuje ve vodné alkalické vývojce rozpustnou polymerní substanci a sloučeninu, snižující rozpustnost polymerní látky ve vodné vývojce. Jako polymerní substance je použita látka vykazující zvýšenou rozpustnost ve vodné alkalické vývojce při zahřátí avšak stálost ve vodné alkalické vývojce při působení UV záření. Litografická výchozí tisková deska obsahuje tuto kompozici. Způsob výroby takové výchozí litografické tiskové desky spočívá v tom, že obraz se přenese pomocí záření, ozářením laserovým paprskem o vlnové délce nad 600 nm nebo tepelným ozářením.ŕ
Description
Pozitivně pracující, oleofílní, tepelně citlivá kompozice, litografická výchozí tisková deska obsahující tuto kompozici a způsob výroby litografické výchozí tiskové desky
Oblast techniky
Vynález se týká pozitivně pracující, oleofílní, tepelně citlivé kompozice, litografické výchozí tiskové desky obsahující tuto kompozici a způsobu její výroby.
Dosavadní stav techniky
Technika litografického tisku je založena na nesmísitelnosti vody a oleje, kdy olejový materiál nebo tiskařská barva je přednostně zachycena v místech kresby a voda nebo roztok vodní nádrže je přednostně zachycen v místech bez kresby. Je-li vhodně připravená plocha zvlhčena vodou a na ni je nanesena barva, pak pozadí, nebo plocha bez kresby, zachytí vodu a plocha kresby přijme barvu, ale vodu odpudí. Barva v místech kresby je pak přenesena na plochu materiálu, na níž má být obraz reprodukován, např. a papír, látku a pod. Obvykle je tiskařská barva přenesena na mezilehlý materiál, nazývaný potahem, který barvu přenese na povrch materiálu na němž má být obraz vytvořen.
Obvykle používaný typ litografické výchozí tiskové desky má na světlo citlivou polevu, nanesenou na hliníkovité podložce. Negativně působící litografické výchozí tiskové desky mají polevu citlivou na záření, která, je-li pod kresbou vystavena světlu, tvrdne v exponovaných místech. Neexponovaná místa polevové kompozice jsou při vyvolání odstraněna, ale kresba zůstává. Naopak pozitivně působící litografické výchozí tiskové desky mají kompozici opatřenou polevou, která po osvícení pod kresbou světlem příslušné vlnové délky je v exponovaných oblastech více rozpustní ve vývojce než v neexponovaných místech. Tato světlem vyvolaná rozdílná rozpustnost se nazývá fotorozpustitelností. U velkého počtu komerčně dostupných, pozitivně působících výchozích litografických tiskových desek, s polevou chinon diazidu spolu s fenolovou pryskyřicí, je obraz vytvářen fotorozpustitelností. V obou případech je oblast kresby na vlastní tiskařské formě barvo-pohlcující, tj. oleofílní a část bez kresby nebo pozadí je vodo-pohlcující neboli hydrofilní.
K odlišení oblasti s kresbou od oblasti bez kresby dochází během expozice, kdy je za vakua, které zaručuje dobrý kontakt, k výchozí tiskové desce přiložen film. Výchozí tisková deska je pak vystavena expozici světelným zdrojem, vydávajícím částečně UV záření. V případě užití pozitivně pracující výchozí tiskové desky je oblast, která na výchozí tiskové desce odpovídá kresbě, neprůhledná, takže na výchozí tiskovou desku nedopadne žádné světlo, zatímco oblast filmu, která odpovídá místům bez kresby, je jasná a dovoluje dopad světla na polevu, která se tak stane rozpustnější a je odstraněna.
Spis EP 631 189 popisuje výchozí tiskové desky, které mají na UV záření citlivou vrstvu obsahující diazovou pryskyřici a diazoniovou sůl.
Nejnovější výzkumy na poli výchozích tiskových desek přinesly kompozice citlivé na záření, které jsou vhodné pro tiskové desky připravované pomocí přímého ozáření laserem. Pro vytvoření obrazu na výchozí tiskové desce lze použít digitální zobrazovací informace, aniž by bylo třeba obrazového originálu, jako je fotografický diapozitiv.
Příkladem pozitivně pracující, výchozí tiskové desky, kterou je možno zpracovat přímým ozářením laserem, je deska popsaná ve spise US 4 708 925 z roku 1987. Tento patent popisuje litografíckou výchozí tiskovou desku, kde zobrazovací vrstva obsahuje fenolovou pryskyřici a na ozáření citlivou kationtovou sůl. Jak je v tomto patentu popsáno, interakcí mezi fenolovou pryskyřicí a kationtovou solí vzniká alkalicky nerozpustná kompozice, jíž je alkalická rozpust
-1 CZ 292739 B6 nost vrácená fotólitičkým rozkladem kationtovou soli. Výchozí tisková deska může pracovat jako pozitivně nebo negativně působící deska, s využitím dalších technologických kroků mezi expozicí a vyvoláním, které jsou podrobně popsány v britském patentu GB 2 082 339. Výchozí tisková deska, popsaná ve spise US 4 709 925, je ze své podstaty citlivá na UV záření a lze ji 5 navíc učinit citlivou na viditelné a infračervené záření. Obdobné řešení, jaké popisuje spis US 4
709 925, je uvedené rovněž v německém spise DE 1 915 273.
Další příklad výchozí tiskové desky, na niž lze podlohu přenést laserem, a jíž lze použít jako přímo pozitivně pracujícího systému, je popsán ve spise US 5 372 907, a US 5 491 046. Oba ío spisy popisují zářením vyvolaný rozklad latentní Bronstedovy kyseliny pro zvýšení rozpustnosti piyskyřicové matrice při expozici pod kresbou. Tak jako u výchozí tiskové desky, popsané v US 4 708 925, tyto systémy mohou být navíc užity jako negativně pracující systém, který je po osvícení pod kresbou a předvyvolání dále zpracováván. U negativně účinkujícího procesu jsou vedlejší produkty rozkladu následně užity jako katalyzátory reakcí meziřetězcových vazeb 15 použitých pryskyřic pro dosažení nerozpustnosti míst kresby před vyvoláním. Jak je uvedeno ve spise US 4 708 925, jsou tyto výchozí tiskové desky ve své podstatě citlivé na UV záření díky použitým kyselinotvomým materiálům. Všechny tyto výše popsané, dosud známé výchozí tiskové desky, které lze použít jako desky pro přímé pozitivní vytvoření kresby, postrádají jednu nebo více vlastností. Žádnou z popsaných výchozích tiskových desek nelze použít, aniž by byly 20 patřičně vyhodnoceny světelné podmínky v pracovní oblasti. Aby bylo možno pracovat s výchozími tiskovými deskami po neomezenou dobu, je třeba dodržet určité podmínky bezpečného osvětlení, které nedovolí nežádoucí působení UV záření. Výchozí tiskové desky mohou být použity při působení bílého pracovního světla pouze po omezenou dobu, v závislosti na výstupním spektru zdroje tohoto světla. Pro zefektivnění příslušného procesuje žádoucí používat 25 zařízení pracující s digitálním přenosem obrazu a výchozí tiskové desky v prostředí neomezovaným typem zdroje bílého světla. Citlivost na UV záření by byla nevýhodou. Navíc práce za bílého světla by znamenala zlepšení pracovního prostředí v místech, kde probíhají veškeré operace před vlastním tiskem a kde je dosud třeba dodržovat omezující podmínky bezpečného osvětlení.
Dále, oba systémy výchozí tiskové desky obsahují komponenty mající vlastnosti, způsobující obtíže při optimalizaci vlastnosti desek vzhledem k optimálním účinkům v širokém pásku požadovaných parametrů litografických desek, včetně rozpustnosti vývojky, a pohltivosti, rozplývavosti a přilnavosti barvy.
Systém popsaný v US 4 708 925 nedovoluje přítomnost funkčních skupin, vázajících fenolovou pryskyřici v přítomnosti kationtové soli, ať jako modifikaci alkalicky rozpustné pryskyřice nebo jako přídavných komponentů, neboť by snížily rozpustnost při expozici.
Zásadním požadavkem kompozice, popsané v US 5 491 046, je přítomnost jak rosolové, tak novolakové pryskyřice, dovolující použití systému v negativně pracujícím režimu. To je výhodný režim pro tento systém, jak dokládají příklady negativně působícího systému v patentu popsané a první komerční produkt odvozený od této technologie, výrobky firmy Kodak. Optimalizace pro podmínky negativního působení omezují optimalizaci pro pozitivně pracující režim, který takové 45 požadavky nemá. Celá řada za tepla se rozpouštějících kompozicí, které lze použít jako termografické záznamové materiály, je popsána v patentovém spise GB 1 245 924 z roku 1971. U těchto materiálů může být rozpustnost kterékoliv oblasti vrstvy, na níž lze vytvořit obraz, pro dané rozpustidlo zvýšena zahřátím vrstvy nepřímým vystavením krátkodobému působení vysoce intenzivního viditelného světla a/nebo infračerveného záření, vysílaného nebo odráženého 50 z oblasti pozadí grafického originálu, který je v kontaktu ze záznamovým materiálem. Popsané systémy jsou proměnné a mohou být provozovány pomocí různých mechanizmů a mohou používat různé vývojkové materiály, od vody po chlomatá organická rozpouštědla. Křadě popsaných kompozicí, které je možno vyvolávat ve vodném přípravku, patří ty, které obsahují fenolové pryskyřice typu novolaku. Podle uvedeného patentu, filmy, opatřené polevou obsahující takové pryskyřice, budou při zahřátí vykazovat zvýšenou rozpustnost. Kompozice mohou
-2CZ 292739 B6 obsahovat teplo absorbující sloučeniny, jako je uhelná čerň nebo Milori modrá, označovaná jako C.I. pigmentová modř 27. Tyto materiály dobarvují kresby pro použití jako záznamové médium.
Úroveň rozdílu v rozpustitelnosti je u kompozice, popsané v GB 1 145 924, ve srovnání s komerčními pozitivně pracujícími kompozicemi litografických výchozích tiskových desek, nicméně velmi nízká. Standardní litografické výchozí tiskové desky jsou schopny skvěle snášet silné vývojkové roztoky, rozdíly při uživatelském zpracování a mohou být optimalizovány pro použití silných vývojkových roztoků a velké počty vytištěných vyobrazení. Pro velmi nízkou expoziční pružnost vývojky, již vykazuje kompozice podle spisu GB 1 245 924, nejsou vhodné jako komerčně použitelné, litografické výchozí tiskové desky.
Účelem tohoto vynálezu je řešení tepelně citlivé kompozice, vhodné pro tepelně citlivé, pozitivně pracující, výchozí tiskové desky, určené pro tepelný způsob vytváření obrazu, nevykazující nevýhody současných, výše popsaných řešení.
Podstata vynálezu
Výše uvedeného účelu je dosaženo a danou problematiku řeší pozitivně pracující, oleofilní, tepelně citlivá kompozice, obsahující ve vodné alkalické vývojce rozpustnou polymemí substanci, v provedení podle vynálezu, jehož podstata spočívá v tom, že polymemí substancí je látka se zvýšenou rozpustností ve vodné alkalické vývojce při zahřátí a stálostí ve vodné alkalické vývojce při působení UV záření. Kromě polymemí substance rozpustné ve vodné vývojce, v dalším označované jako „aktivní polymer“, předmětná kompozice obsahuje sloučeninu snižující rozpustnost této polymemí substance ve vodné vývojce. Tato sloučenina, která je v dalším označována jako „vratně znerozpustňující sloučenina“, působí tak, že rozpustnost kompozice ve vodném roztoku vývojky se zahřátím zvyšuje, zatímco rozpustnost této kompozice ve vodné vývojce se nezvyšuje působením UV záření. Rovněž podle tohoto vynálezu je řešena pozitivně pracující litografická výchozí tisková deska, která má polevu obsahující předmětný aktivní polymer a předmětnou vratně znerozpustňující sloučeninu, nanesenými na podložce s hydrofilním povrchem, kde rozpustnost kompozice ve vodné vývojce zahřátím vzrůstá, ale při ozáření UV zářením neroste.
Pro zvýšení citlivosti tepelně citlivé kompozice podle předmětného vynálezu je použito pomocné složky, která je v dalším označována jako „záření pohlcující sloučenina“, která je schopná absorbovat záření a měnit je na teplo.
Dalším význakem předmětného vynálezu je litografická výchozí tisková deska, kde poleva je vhodně upravená tak, že absorbuje záření a mění toto záření na teplo. Dle předmětného vynálezu je upřednostněno provedení tepelně pracující, litografické výchozí tiskové desky, která na podložce s hydrofilním povrchem má oleofilní, tepelně citlivou kompozici, obsahující aktivní polymer, vratně znerozpustňující sloučeninu a záření absorbující sloučeninu, kde rozpustnost kompozice ve vodné vývojce zahřátím vzrůstá, ale neroste ozářením UV paprsky. Podle předmětného vynálezu je dále upřednostněno provedení tepelně pracující litografické výchozí tiskové desky, kde předmětná poleva obsahuje pomocnou vrstvu, nanesenou pod oleofilní, tepelně citlivou kompozicí, kterážto přídavná vrstva obsahuje záření absorbující sloučeninu.
Podle předmětného vynálezu je dále upřednostněno provedení tepelně pracující litografické výchozí tiskové desky, která na podložce s hydrofilním povrchem má oleofilní, tepelně citlivou kompozici, obsahující aktivní polymer, vratně znerozpustňující sloučeninu, která je rovněž záření absorbující sloučeninou, kde rozpustnost kompozice ve vodné vývojce zahřátím vzrůstá, ale při ozáření UV paprsky neroste.
Pokud se zde v popise hovoří o tom, že rozpustnost kompozice ve vodné vývojce zahřátím vzrůstá, rozumí se tím, že vzrůstá podstatně, tj. natolik, že tento nárůst je možno využít
-3CZ 292739 B6 v technice litografíckého tisku. Pokud se zde v popise hovoří o tom, že rozpustnost kompozice ve vodní vývojce neroste ozářením UV paprsky, rozumí se tím, že neroste podstatně, tedy natolik, že by bylo nezbytné používat bezpečné osvětlení. Bezvýznamný nárůst rozpustnosti při ozáření UV paprsky je tak možno v rámci tohoto vynálezu tolerovat.
Jako tisková deska je upřednostňována litografická deska, o níž bude pojednáno dále.
U všech výhodných provedení předmětného vynálezu výsledkem tepelného přenosu kresby a následného zpracování je pozitivně pracující litografická tisková deska. Rozpustnost nanesené kompozice ve vodné vývojce je vzhledem k rozpustnosti samotného aktivního polymeru hodně snížena. Následným ozářením vhodným zářením se zahřátá místa kompozice stávají v roztoku vývojky lépe rozpustnými. Při expozici pod kresbou se tak rozpustnost neexponované a exponované kompozice mění rozdílně. V exponovaných místech je kompozice rozpuštěna a odkrývá podkladní hydrofilní povrch desky.
Na desky s povlakem podle vynálezu lze kresbu tepelným způsobem přenést nepřímo, vystavením krátkodobému, vysoce intenzivnímu ozáření, vysílanému nebo odráženému z oblastí pozadí grafického originálu, jenž je v dotyku se záznamovým materiálem.
Podle dalšího přínosu vynálezu může být obraz na desky tepelně přenesen s výhodou pomocí zahřátého tělesa. Např. může být deska, ať ze zadní strany, nebo ještě lépe ze strany tepelně citlivé kompozice, v dotyku s tepelným záznamovým hrotem.
Podle vynálezu může být dále deska s výhodou exponována přímo pomocí laseru a tak na polevě kresba tepelně vytvořena. Nejlépe laserem, vydávajícím záření o vlnové délce nad 600 nm.
Vynález není nijak omezen teoretickým výkladem principů na nichž pracuje. Považuje se za skutečnost, že aktivní polymer a vratně znerozpustňující sloučenina vytvářejí tepelně křehký komplex. Tento komplex je vytvářet vratně a může být rozložen pomocí působení tepla a tak obnovena rozpustnost kompozice ve vodné vývojce. Předpokládá se, že polymemí substance, vhodné pro použití u tohoto vynálezu, po rozložení obsahují funkční skupiny s volnými elektronovými vazbami, tj. skupiny bohaté na elektrony, a dále, že vhodné sloučeniny, redukující rozpustnost polymemích substancí ve vodné vývojce, jsou chudé na elektrony. Není třeba rozkladu složek kompozice, alespoň u dosud testovaných příkladů k jakémukoliv podstatnému rozkladu nedošlo.
Příklady funkčních skupin předmětných aktivních polymerů, vhodných pro vynález zahrnují hydroxy, karboxylové kyseliny, amino, amido a maleinimido funkční skupiny. Vhodný je široký rozsah polymemích materiálů zahrnující fenolové pryskyřice, kopolymery 4-hydroxystyrenu, např. s 3-methyl-4-hydroxystyrenem, kopolymery (meth)akrylové kyseliny, např. se styrenem, kopolymery maleinimidů, např. se styrenem, hydroxycelulózy nebo karboxycelulózy, kopolymery anhydridu kyseliny maleinové, např. se styrenem, částečně hydrolyzované polymery anhydridu kyseliny maleinové.
Výhodným řešením je použití fenolové pryskyřice ve funkci aktivního polymeru. Zvláště vhodnými fenolovými pryskyřicemi pro řešení podle tohoto vynálezu jsou kondenzační produkty reakce mezi fenolem, C-alkyl substituovanými fenoly, jako jsou kresoly a p-terc-butyl-fenol), difenoly, jako je bisfenol-A a aldehydy, jako je formaldehyd. V závislosti na způsobu průběhu kondenzace je možno vytvořit celou řadu fenolových materiálů odlišné struktury a vlastností. Zvláště výhodné jsou novolakové pryskyřice, reselové pryskyřice a směsi novolakových a rosolových pryskyřic.
-4CZ 292739 B6
Příklady vhodných novolakových pryskyřic mají obecně následující strukturu
Jako vratné znerozpustňující sloučeniny lze užít velký počet sloučenin, redukujících vodorozpustnost vhodných polymemích substancí.
Vhodnými, vratně znerozpustňujícími sloučeninami, jsou dusíkaté sloučeniny, kde alespoň jeden atom dusíku je kvarterizován, začleněn do heterocyklického kruhu nebo kvarterizován a začleněn do heterocyklického kruhu.
Příklady vhodné sloučeniny s obsahem kvartémího dusíku jsou triaiyl metanové sloučeniny, barviva, jako je Crystal Violet, označovaná též jako Cl basic violet 3, Ethyl violet a tetraalkyl amoniové sloučeniny jako je Cetrimid.
Ještě výhodnější, vratně znerozpustňující sloučeninou je dusík obsahující heterocyklická sloučenina.
Příkladem vhodné dusík obsahující heterocyklické sloučeniny jsou chinolin a triazoly, jako 1,2,4-triazol.
Ještě dále výhodnější vratně znerozpustňující sloučeninou je kvartemizovaná heterocyklická sloučenina.
Příklady vhodné kvarterizované heterocyklické sloučeniny jsou imidiazolinové sloučeniny, jako jsou sloučeniny vyráběné firmou Mona Industries pod označením Monazolin C, Monazolin O, Monazolin CY a Monazolin T. Vhodnými sloučeninami tohoto typu jsou též chinolinové sloučeniny, jako l-ethyl-2-methyl chinolinium jodid a l-ethyl-4-methyl chinolinium jodid, a dále benzotiazolové sloučeniny, jako benzotiazol jodid a dále pyridiniové sloučeniny, jako jsou cetyl pyridinium bromid, ethyl viologen dibromid a fluoropyridinium tetrafluoroborát.
Vhodnou chinolinovou nebo benzotiazolovou sloučeninou jsou kationická kyaninová barviva, jako je Dye A, Quinoldine Blue a 3-ethyl-2[3-(3-ethyl-2(3H)-benzothiazolydin)-2-methyl-lpropenyljbenzothiazolium j odid.
Barvivo označené jako Dye A má tento vzorec
Další vhodnou skupinou vratně znerozpustňujících sloučenin jsou sloučeniny obsahující karbonylové funkční skupiny.
-5CZ 292739 B6
K vhodným sloučeninám obsahujícím karbonylové funkční skupiny patří alfa-nafitoflavon, beta-naftoflavon, 2,3-difenyl-l-inden, flavon, flavanon, xanthon, benzofenon, N-(4-bromobutyl)phtalimid a fenantrenechinon.
Vratně znerozpustňující sloučeninou může být sloučenina s obecným vzorcem
Qi-S(O)n-Q2 kde Qi představuje volitelně substituovaný fenyl nebo alkylovou skupinu, n je celé číslo z řady 0,1, 2, a Q2 představuje halogenový atom či alkoxylovou skupinu. S výhodou Qi představuje CM alkylofenolovou skupinu, např. tolylovou skupinu, či skupinu Ci4 alkylovou. Index n má s výhodou hodnotu 1, nejlépe 2. S výhodou Q2 představuje atom chloru či C!4 alkoxylovou skupinu, zejména pak ethoxylovou skupinu. Jinou vhodnou vratně znerozpustňující sloučeninou je akridinové zásadité oranžové barvivo, označované jako „Cl solvent orange 15“.
Další vhodnou vratně znerozpustňující sloučeninou jsou feroceniové sloučeniny, jako je ferocenium hexafluorfosfát.
Kromě aktivních polymerů, jež reagují se sloučeninou vratně znerozpustňující způsobem zde popsaným, může kompozice obsahovat polymemí substanci, která takto nereaguje. V takové kompozici, kde je směs polymemích substancí, může být aktivní polymer obsažen v menším výhodném množství, než zaujímá pomocná(é) polymemí látka, λ/hodný obsah aktivního polymeru je nejméně 10 %, výhodný je alespoň 25 %, ještě výhodnější je alespoň 50 % hmota. Nicméně nejvýhodnější je obsah aktivního polymeru do výše, která vylučuje jakoukoliv polymemí substanci, která uvedeným způsobem nereaguje.
Majoritní podíl kompozice je tvořen jednou nebo více polymemími substancemi, včetně aktivního polymeru a, pokud je, pomocnou polymemí substancí, která nereaguje. S výhodou je minoritní podíl kompozice tvořen vratně znerozpustňující sloučeninou.
Majoritní podíl kompozice, zde definovaný, dosahuje hodnoty s výhodou alespoň 50 %, s výhodou alespoň 65 %, nejlépe alespoň 80 % celkové hmotnosti kompozice.
Minoritní podíl kompozice, zde definovaný, dosahuje hodnoty s výhodou méně než 50%, s výhodou do 20 %, nejlépe do 15 % celkové hmotnosti kompozice.
Podíl vratně znerozpustňující sloučeniny v kompozici činí alespoň 1 %, s výhodou alespoň 2 %, s výhodou do 5 %, ještě lépe do 15 % celkové hmotnosti kompozice. Celkově lze říci, že výhodný podíl vratně znerozpustňující sloučeniny se pohybuje v rozmezí 2 až 15 % celkové hmotnosti kompozice.
Může existovat více než jedna polymemí substance reagující s předmětnou kompozicí. Uváděné hmotnostní podíly takové či takových substancí se vztahují k jejich celkovému obsahu. Obdobně může existovat více než jedna polymemí substance, která takto nereaguje. Uváděné podíly takové či takových substancí se vztahují k jejich celkovému obsahu. Může být obdobně i více než jedna vratně znerozpustňující sloučenina. Uváděné podíly takové látky či látek se vztahují k jejich celkovému obsahu.
Složení vodného roztoku vývojky závisí na povaze polymemí látky. Běžnými složkami vodného roztoku litografické vývojky jsou surfaktanty, chelátová činidla jako soli ethylendiamin tetraoctové kyseliny, organická rozpouštědla jako benzylalkohol a zásadité složky, jako anorganické metasilikáty, organické metasilikáty, hydroxidy nebo bikarbonáty.
Je-li polymemí látkou fenolová piyskyřice, je vodnou vývojkou s výhodou zásaditá vývojka, obsahující anorganické nebo organické metasilikáty.
-6CZ 292739 B6
Kompozice podle předmětného vynálezu je tepelně citlivá tak, že lokální ohřev kompozice, s výhodou vhodným zářením, způsobí zvýšenou rozpustnost exponovaných míst ve vodné vývojce.
Pro stanovení, zda sloučenina, obsahující aktivní polymer a vratně znerozpustňující sloučeninu a vhodná vodná vývojka jsou vhodné pro předmětný vynález, slouží šest jednoduchých testů, v dalším označených číslicemi 1 až 6.
TEST 1. Kompozice, obsahující aktivní polymer v nepřítomnosti vratně znerozpustňující sloučeniny, je nanesena na hydrofílní podložku a vysušena. Poté je na povrch naneseno barvivo. Je-li tak získán jednolitý barevný povlak, pak je kompozice oleofilní, je-li položena jako vrstva.
TEST 2. Hydrofílní podložka, pokrytá kompozicí s aktivním polymerem v nepřítomnosti vratně znerozpustňující sloučeniny, je za pokojové teploty podrobena působení vhodné vodné vývojky po vhodnou dobu, která může být určena pokusně, ale obvykle se pohybuje mezi 30 až 60 sekundami, pak opláchnuta, osušena a naneseno barvivo. Pokud barvivo na ploše neulpí, pak se kompozice ve vývojce rozpustila.
TEST 3. Kompozice, obsahující aktivní polymer a vratně znerozpustňující sloučeninu je nanesena na hydrofílní podložku a vysušena. Poté je na povrch naneseno barvivo. Je-li tak získán jednolitý barevný povlak, pak je kompozice oleofilní, je-li položena jako vrstva.
TEST 4. Hydrofílní podložka, pokrytá kompozicí s aktivním polymerem a vratně znerozpustňující sloučeninou, je za pokojové teploty podrobena působení vhodné vodné vývojky po vhodnou dobu, již lze určit pokusně, ale obvykle se pohybuje mezi 30 až 60 sekundami, pak je opláchnuta, osušena a naneseno barvivo. Je-li tak získán jednolitý barevný povlak, pak je kompozice v podstatě v roztoku vývojky nerozpustná.
TEST 5. Hydrofílní podložka, pokrytá kompozicí s aktivním polymerem a vratně znerozpustňující sloučeninou, je zahřáta v peci tak, že kompozice dosáhne za vhodnou dobu vhodné teploty. Pak na ni při pokojové teplotě, po přiměřenou dobu, působí vhodná vodná vývojka.
Povrch je pak vysušen a pokryt barvivém. Pokud barvivo na ploše neulpí, pak se zahřátá kompozice ve vývojce rozpustila.
Teplota a doba závisejí na složkách kompozice a jejich poměru. Metodou zkoušek lze dospět ke stanovení vhodných podmínek. Pokud zkouškami nelze podmínky pro provedení testu stanovit, znamená to, že kompozice testu nevyhověla.
Lze říci, že při typickém složení je kompozice, obsahující aktivní polymer a vratně znerozpustňující sloučeninu, zahřívána v peci po dobu 5 až 20 sekund, až dosáhne teploty 50 až 120 °C. Pak je za pokojové teploty podrobena působení vhodné vodné vývojky po vhodnou, pokusně stanovenou dobu, která typicky činí od 30 do 120 sekund.
Výhodnějším postupem je zahřátí kompozice, obsahující aktivní polymer a vratně znerozpustňující sloučeninu, v peci na teplotu 50 až 120 °C, po dobu 10 až 15 sekund. Pak je za pokojové teploty podrobena působení vhodné vodné vývojky po vhodnou, pokusně stanovenou dobu, která obvykle činí od 30 do 90 sekund.
TEST 6. Hydrofílní podložka, pokrytá kompozicí s aktivním polymerem a vratně znerozpustňující sloučeninou, je po vhodnou, pokusně stanovenou dobu, obvykle se rovnající 30 sekundám, vystavena působení UV záření. Pak je při pokojové teplotě, po přiměřenou dobu, jež obvykle činí 30 až 60 sekund, podrobena působení vhodné vodné vývojky. Povrch je pak vysušen a pokryt barvivém. Pokud barvivo na ploše ulpí, pak
-7CZ 292739 B6 nedošlo k rozpuštění kompozice vlivem UV záření a kompozice je dostatečně odolná běžným pracovním, světelným podmínkám.
Pokud kompozice vyhoví všem šesti testům, je vhodná pro použití v rámci tohoto vynálezu.
Pro výhodné provedení předmětného vynálezu lze jako záření absorbující sloučeninu použít celou řadu sloučenin nebo jejich kombinací.
Ve výhodném provedení je jako záření absorbující sloučenina použita taková, která absorbuje infračervené záření. Nicméně, i jiné materiály, absorbující záření jiných vlnových délek, vyjma UV záření, např. záření Ar-ion zdroje laserového záření o vlnové délce 488 nm, mohou být pro přeměnu záření na teplo použity.
Jako sloučeninu pohlcující záření je vhodné použít uhlíku, jako je uhelná čerň nebo grafit. Může jí být i komerčně dostupný pigment, jako Heliogen Green, dodávaný firmou BASF nebo Nigrosine Base NG1, dodávaný firmou Aldrich.
Způsob podle tohoto vynálezu je s výhodou prováděn tak, že podložka s polevou je pod kresbou přímo exponována laserem. Nejvýhodnější je použít laser, vydávající záření o vlnové délce nad 600 nm a jako záření absorbující sloučenina je vhodné barvivo pohlcující infračervené záření.
Infračervené záření pohlcující sloučeninou je s výhodou ta, jejíž absorpční spektrum leží okolo vlnové délky záření laseru, použitého v rámci předmětného způsobu. Vhodné je použít organický pigment nebo barvivo, jako je ftalokyaninový pigment. Může to být též barvivo či pigment ze tříd squarylium, merokyanin, indolizin, pyrylium nebo metal ditiolin.
Příkladem takových sloučenin je
aDye B
-8CZ 292739 B6 a barvivo Dye C, KF654b ΡΙΝΑ, dodávané firmou Riedel de Haen, UK, které má mít vzorec
Sloučenina absorbující záření, tvoří alespoň 1 %, s výhodou alespoň 2 %, celkově s výhodou do 25 %, lépe do 15 % celkové hmotnosti kompozice. Výhodný hmotnostní podíl záření absorbující sloučeniny činí 2 až 15 % celkové hmotnosti kompozice. Může být též použito více než jedné záření absorbující sloučeniny. Údaje, týkající se podílu takové sloučeniny nebo sloučenin, se proto vztahuj í na j ej ich celkový obsah.
S výhodou lze též použít pomocnou vrstvu, která obsahuje záření absorbující sloučeninu. Takové vícevrstvé provedení nabízí cestu k vyšší citlivosti, neboť lze použít větší množství záření absorbující sloučeniny, bez vlivu na funkci obrazotvomé vrstvy. Zásadně platí, že jakýkoliv záření pohlcující materiál, který je v daném vlnovém rozmezí dostatečně účinný, může být vpraven do nebo vyroben jako jednolitá poleva. Barviva, kovy a pigmenty, včetně oxidů kovů, mohou být použity ve formě vrstev, nanesených srážením par. Způsoby nanášení a užití takových filmů je známo, např. ze spisu EP 0 652 483. Přednost v předmětném vynálezu mají komponenty, které jsou ve formě jednolitého povlaku hydrofilní, nebo z nichž lze vytvořit hydrofilní plochu, např. použitím hydrofilní vrstvy.
Sloučeninami, které snižují rozpustnost polymemí substance ve vodné vývojce a jsou též záření absorbujícími sloučeninami, vhodnými pro tento vynález, jsou s výhodou kyaninová barviva, nejlépe chinolino-kyaninová barviva, absorbující záření o vlnové délce nad 600 nm. Příklady takovýchto sloučenin jsou:
2-[3-chlor-5-(l-ethyl-2(lH)-chmolinyliden)-l,3-pentadienyl]-l-ethylchmolin bromid
—Ethyl—2—[5—ζ l-ethyl-2( lH)-chinolinyliden)-l ,3-pentadienyl]chinolin jodid
-9CZ 292739 B6
4—[3-chlor-5-( l-ethyl-4( 1 H)-chinolinyliden}-l ,3-pentadienyl)-l-ethylchinolin jodid
Cl
H-CH~C=CH-CH
Γ
Dye D, l-Ethyl-4—[5-(l-ethyl-4(lH)-chinolmyliden)-l,3-pentadienyl]chinolin jodid
Vratně znerozpustňující sloučenina, která je současně záření pohlcující sloučeninou, tvoří alespoň 1 %, s výhodou alespoň 2 %, s výhodou do 25 %, lépe do 15 % celkové hmotnosti kompozice. Výhodný hmotnostní podíl záření absorbující sloučeniny tak činí 2 až 15 % celkové hmotnosti kompozice.
Jako podložku lze s výhodou použít hliníkovou desku, která byla v litografii obvyklými způsoby podrobena elektrolytickému okysličování, úpravě povrchu a post-anodickému ošetření, aby bylo možno na její povrch nanést polevu kompozice citlivé na záření, a povrch podložky tak mohly plnit svou funkci.
Dalším podkladovým materiálem použitelným pro předmětný vynález je podložka z plastu nebo upraveného papíru, jejichž užití je známé ve fotografickém průmyslu. Zvláště vhodným plastovým materiálem je polyethylen tereftalát, který byl opatřen spodní vrstvou filmu a jeho povrch se tak stal hydrofilním. Také lze použít tzv. piyskyřicí potažený papír, ošetřený koránovým výbojem.
Příkladem laserů, které lze použít pro předmětný vynález, je polovodičový laser, nanometr vysílající záření v rozmezí 600 až 1100 nm. Takovým typem je např. Nd YAG laser vydávající záření 1064 nm. Je však možno použít jakýkoliv laser s dostatečnou schopností vytvářet obraz, tj. laser vydávající záření, které kompozice absorbuje. Kompozice podle vynálezu může obsahovat další přísady, jako stabilizační aditiva, inertní barviva, pomocná polymemí pojivá, která jsou součástí mnoha kompozicí litografických desek.
Je výhodné, když tepelně citlivé kompozice dle předmětného vynálezu neobsahují složky citlivé na UV záření. Komponenty, jež jsou sice citlivé na UV záření, ale nejsou aktivovány vzhledem k přítomnosti jiných komponentů, jako inertní barviva pohlcující UV záření, nebo nejhořejší, UV záření pohlcující vrstva, však nicméně mohou být přítomny.
Kterýkoliv význak nebo vlastnost předmětného vynálezu nebo zde popsaného provedení, může být kombinován skteiýmkoliv dalším aspektem kteréhokoliv zde popsaného vynálezu nebo provedení.
Příklad provedení
Následující příklady podrobněji popisují různé aspekty výše popsaného vynálezu. Pro komerční produkty uvedené v příkladech byla použita následná označení, výraz RESIN znamená pryskyřici:
-10CZ 292739 B6
| RESINA | LB6564 | -fenol/kresol-novolaková pryskyřice, prodávaná firmou Bakelite, |
| RESINB | R17620 | -fenol/formaldehyd-resolová pryskyřice, výrobek firmy B.P. Chemicals Ltd., UK |
| RESINC | SMD995 | -alkyl fenol/formaldehyd-resolová piyskyřice, uvedená na trh Schenectady Midland Ltd, UK. |
| RESIND | Maruka Lyncur M(S-2) | - polyhydroxystyrenová pryskyřice, prodávaná Maruzen Petrochemical Co. Ltd, JP. |
| RESINE | Ronacoat 300 | - polymer na bázi dimethylmaleimidu, prodávaný firmou Rohner, Ltd, CH. |
| RESINF | Gantrez Ani 19 | - methylvinylether-co-maleinový anhydrid kopolymer firmy Gaf Chemicals Co., UK |
| RESING | SMA 2625P | - styren-maleinový poloester, prodávaný firmou, Elf Atochem UK Ltd. |
| RESINH | celulóz-acetátový propionát (mol. váha 75 000), |
o obsahu 2,5 % acetátu, 45 až 49 % propionátu, prodávaný firmou Eastman Fine Chemicals, USA,
Metody zkoušky expozice:
Z polevou opatřeného substrátu, na němž měla být vytvořena kresba, byly nařezány kotouče o průměru 105 mm a umístěny na disku, který mohl rotovat stálou rychlostí 100 až 2500 ot/min. Vedle otáčejícího se disku byl umístěn postupně se pohybující stůl s laserovým zdrojem, nasměrovaným tak, že laserový paprsek dopadal kolmo na substrát, přičemž při pohybu stolu se paprsek pohyboval přímočaře, v radiálním směru rotujícího kotouče.
Použit byl laser vybavený v jednovidovém režimu pracujícím polovodičovým zdrojem o výkonu 200 mV, dávajícím záření o vlnové délce 830 nm. Laser byl zaostřen na rozlišení 10 mikronů. Napájen byl stabilizovaným zdrojem stejnosměrného proudu.
Exponovaný obraz měl tvar spirály, kde kresba ve středu spirály představovala nízkou snímací rychlost laseru a dlouhou expoziční dobu a vnější okraj spirály znamenal velkou snímací rychlost a krátkou dobu expozice. Velikost energie zobrazovací vycházela z měření průměru místa, kde byla kresba vytvářena. Minimální energie, kterou je možno při tomto způsobu expozice dodat je 150 mJ/cm2, při otáčkách 2500 ot/min.
Porovnávací příklady Cl až C5, příklady 1 až 9
Polevy u všech následujících příkladů byly připraveny jako roztoky v l-methoxypropan-2-olu, vyjma příkladů 4, 5, 8, kde byly připraveny jako roztoky v l-methoxypropan-2-ol/DMF 40:60 (v:v), a vyjma příkladu 7, kde byl použit roztok v l-methoxypropan-2-ol/DMF 35:65 (v:v). Použitým substrátem byla 0,3 mm tlustá hliníková fólie, jejíž povrch byl elektrometodou upraven na zrnitý, elektrolyticky okysličen a pak následně upraven vodným roztokem anorganického fosfátu. Polevové roztoky byly na substrát naneseny pomocí z drátu vinuté mřížky (wirewound bar). Koncentrace roztoků byly zvoleny tak, že vznikl suchý film určeného složení a vytvořená vrstva měla po vysušení v peci, při 100 °C po dobu 3 minut, plošnou hmotnost 1,3 g/m2.
-11 CZ 292739 B6
| Srovnávací vzorek | |||||
| Cl | C2 | C3 | C4 | C5 | |
| složka | počet vá | tových dílů | |||
| Resin A | 100 | 95,7 | 90 | 90 | 90 |
| DyeB | 4,25 | 4 | 4 | 4 | |
| kyselina benzoová | 6 | ||||
| p-nitrofenol | 6 | ||||
| 3',3 , 5', 5 -tetrabromofenylftalein | 6 |
V další tabulce uvedené látky mají následující složení
Benzotiazolium A:
3-ethyI-2-/3-ethyl-2(3H)-benzotiazolidyn-2-methyl-l-propenyl/benzotiazolium bromid.
Benzotiazolium B:
3-ethyl-2-methyl benzotiazolium jodid.
| Příklad | |||||||||
| 1 | 2 | 3 | 4 | 5 | 6 | 7 | 8 | 9 | |
| složka | počet vá | íovýc | i dílů | ||||||
| Resin A | 86 | 90 | 90 | 90 | 90 | 90 | 90 | 90 | 90 |
| DyeB | 4 | 4 | 4 | 4 | 4 | 4 | 4 | 4 | 4 |
| Dye A | 10 | ||||||||
| l-ethyl-4-methyl bromid quinolinia | 6 | ||||||||
| Monazoline C | 6 | ||||||||
| Benzothiazolium A | 6 | ||||||||
| Benzothiazolium B | 6 | ||||||||
| Cetyl pyridium bromid | 6 | ||||||||
| Ethyl viologen dibromid | 6 | ||||||||
| Cetrimid | 6 | ||||||||
| Crystal Violet | 6 |
Desky byly zkoušeny na chování v procesu vyvolávání, ponořením na 30 sekund do vodného roztoku, níže definovaného:
Vývojka A: 14% vodní roztok sodium matasilikát pentahydrátu.
Vývojka B: 7% vodní roztok sodium matasilikát pentahydrátu.
Následující tabulka ukazuje výsledky chování kompozic ve vývojce.
| Vývojka B | |
| srovnávací vzorky 1 až 5 | povlak úplně odstraněn |
| vzorky 1 až 9 | žádné patrné změny |
Kompozice uvedené jako srovnávací vzorky nevykazují odolnost proti účinkům vývojky. Kompozice uvedené jako příklady 1 až 9, dokreslují účinek snížené rozpustnosti polymeru ve vývojce pomocí sloučenin popsaných ve vynálezu.
Další vzorky desek byly opatřeny obrazem pomocí popsaného laseru o záření vlnové délky 830 nm. Exponované kotouče byly poté zpracovány ponořením na 30 sekund do vodného roztoku vývojky, jejíž složení je uvedeno výše. Pak byly stanoveny citlivosti desek, uvedené v následující tabulce.
-12CZ 292739 B6
| srovnávací vzorek | vývojka A | vývojka B |
| 1 | poleva oc | straněna |
| 2 | poleva odstraněna | |
| 3 | poleva odstraněna | |
| 4 | poleva odstraněna | |
| 5 | poleva odstraněna | |
| Příklad | ||
| 1 | < 150 mJ/cm3 | |
| 2 | < 150 mJ/cm3 | |
| 3 | <150 mJ/cm3 | |
| 4 | <150 mJ/cm3 | |
| 5 | <150 mJ/cm3 | |
| 6 | <150 mJ/cm3 | |
| 7 | <150 mJ/cm3 | |
| 8 | < 150 mJ/cm3 | |
| 9 | <150 mJ/cm3 |
Na tiskovou desku zhotovenou postupem podle příkladu 1 byl též pomocí přenosového zařízení Trendsetter, od firmy Creo Products of Vancouver, CDN, přenesen obraz. Touto deskou bylo na litografickém tiskařském lisu zhotoveno nejméně 10 000 dobrých výtisků.
Příklad 10
Postupem dle příkladů 1 až 9, byl připraven roztok obsahující 8,15 g l-methoxypropan-2-olu, 2,40 g vodného roztoku pryskyřice RESIN A v l-methoxypropan-2-olu, 0,12 g barviva Dye A a 0,24 g 50% hmota, vodní disperze uhelné černě a nanesen na podložku.
| složka | počet váhových dílů |
| Resin A | 80 |
| Dye A | 10 |
| uhelná čerň | 10 |
Na výslednou desku byla laserem o výkonu 200 mW a záření o vlnové délce 830 nm a pomocí dříve popsaného zařízení přenesena kresba. Deska byla pak po 30 sekund podrobena působení vývojky B. Hustota zobrazovací energie požadovaná pro získání vhodného obrazu byla <150mJ7m3.
Na tiskovou desku, zhotovenou podle příkladu 10, byl dále pomocí komerčního přenosového zařízení Trendsetter přenesen obraz. S touto deskou bylo na litografickém tiskařském lisu zhotoveno nejméně 10 000 dobrých výtisků.
Přikladli
Výchozí tiskařská deska s kompozicí popsanou v předcházející tabulce byla zhotovena postupem uvedeným v příkladu 4
| složka | počet váhových dílů |
| Resin A | 90 |
| Dye A | 10 |
-13CZ 292739 B6
Na výslednou desku byla laserem o výkonu 200 mW a záření o vlnové délce 830 nm a pomocí dříve popsaného zařízení přenesena kresba. Deska byla pak po 30 sekund podrobena působení vývojky B. Hustota zobrazovací energie požadovaná pro získání vhodného obrazu byla <150 mJ/m1.
Na tiskovou desku zhotovenou podle příkladu 11, byl též pomocí komerčního přenosového zařízení Trendsetter, vyráběného firmou Creo Products of Vancouver, CDN, přenesen obraz. S touto deskou bylo na litografickém tiskařském lisu zhotoveno nejméně 10 000 dobrých výtisků.
Příklady 12 až 18
Výše popsaným postupem byly připraveny polevové hmoty jako roztoky v l-methoxypropan-2olu s výjimkou příkladu 16, kde byly sloučeniny rozpuštěny v l-methoxypropan-2-ol/DMF 80:20 (v:v).
Tyto polevové hmoty byly naneseny na podložku tak, jak je popsáno v příkladech 1 až 9, čímž byly získány kompozice ve formě suchého filmu a složení uvedeného v následující tabulce.
| Příklad | |||||||
| 12 | 13 | 14 | 15 | 16 | 17 | 18 | |
| složka | počet váhových | dílů | |||||
| Crystal violet | 6 | 6 | 6 | 6 | 6 | 6 | 6 |
| Dye C | 4 | 4 | 4 | 4 | 4 | 4 | 4 |
| Resin A | 45 | ||||||
| ResinB | 90 | ||||||
| Resin C | 45 | ||||||
| Resin D | 90 | ||||||
| Resin E | 90 | ||||||
| Resin F | 90 | ||||||
| Resin G | 90 | ||||||
| Resin H | 90 |
Na vzorky desek byly pak pomocí výše popsaného laserového zařízení, které dávalo záření o vlnové délce 830 nm, přeneseny kresby. Exponované kotouče byly poté po vhodnou dobu podrobeny působení vhodného vodného roztoku vývojky, jak je popsáno dříve a dále. Pak byly stanoveny citlivosti desek. Výsledky jsou uvedeny v následující tabulce.
| Příklad | Vývojka | Doba (sec) | Citlivost (mJ/cm3) |
| 12 | B | 90 | 248 |
| 13 | A | 90 | 277 |
| 14 | C | 45 | 277 |
| 15 | D | 5 | 253 |
| 16 | E | 60 | 461 |
| 17 | D | 90 | 300 |
| 18 | A | 120 | 700 |
Další použité vývojky měly tato složení
Vývojka C: 15 % betar-naftylethoxylát, 5 % benzylalkohol, 2 % trisodium soli nitrilotrioctové kyseliny, 78 % vody.
Vývojka D: 3 % beta-naftylethoxylát, 1 % benzylalkohol, 2 % trisodium soli nitrilotrioctové kyseliny, 94 % vody.
-14CZ 292739 B6
Vývojka E: 1,5 % beta-naftylethoxylát, 0,5 % benzylalkohol, 2 % trisodium soli nitrilo-trioctové kyseliny, 94 % vody
Příklady 19-30
Výše popsaným postupem byly připraveny polevové hmoty jako roztoky v l-methoxypropan-2olu, s výjimkou příkladu 26, kde byly sloučeniny rozpuštěny v l-methoxypropan-2-ol/DMF 50:50 (v:v).
Tyto polevové hmoty byly naneseny na podložku tak, jak je popsáno v příkladech 1 až 9, čímž byly získány kompozice ve formě suchého filmu a složení uvedeného v následující tabulce.
| Příklad | ||||||||||||
| 19 | 20 | 21 | 22 | 23 | 24 | 25 | 26 | 27 | 28 | 29 | 30 | |
| složka | počet váhovýc | li dílů | ||||||||||
| Resin A | 90 | 90 | 90 | 90 | 90 | 90 | 90 | 90 | 90 | 90 | 90 | 90 |
| Dye B | 4 | 4 | 4 | 4 | 4 | 4 | 4 | 4 | ||||
| DyeC | 4 | 4 | 4 | 4 | ||||||||
| a-Naftoflavon | 6 | |||||||||||
| β-Naftoflavon | 6 | |||||||||||
| Flavon | 6 | |||||||||||
| Xanton | 6 | |||||||||||
| Flavanon | 6 | |||||||||||
| Benzofenon | 6 | |||||||||||
| 2,3 Difenyl-I-indeneon | 6 | |||||||||||
| N-(4-bromobutyl)ftalimid | 6 | |||||||||||
| Fenanthren chinon | 6 | |||||||||||
| Cl solvent orange 15 | 6 | |||||||||||
| p-toluen sulfonyl chlorid | 6 | |||||||||||
| Ethyl-p-toluen sulfonát | 6 |
Na vzorky desek byly pak pomocí výše popsaného laserového zařízení, které dávalo záření o vlnové délce 830 nm, přeneseny kresby. Exponované kotouče byly poté po vhodnou dobu podrobeny působení vhodného vodného roztoku vývojky. Pak byly stanoveny citlivosti desek.
Výsledky jsou uvedeny v následující tabulce.
| Příklad | Vývojka | Doba (sec) | Citlivost (mJ/cmj) |
| 19 | A | 30 | < 150 |
| 20 | A | 30 | íS 150 |
| 21 | A | 30 | 290 |
| 22 | A | 30 | < 150 |
| 23 | A | 30 | <150 |
| 24 | B | 30 | 220 |
| 25 | B | 30 | < 150 |
| 26 | B | 15 | < 150 |
| 27 | B | 60 | 250 |
| 28 | A | 90 | 250 |
| 29 | B | 10 | 400 |
| 30 | B | 60 | 250 |
-15CZ 292739 B6
Příklad 31
Výše popsaným postupem byly připraveny polevové hmoty jako roztoky v l-methoxypropan-2olu. Tyto polevové hmoty byly naneseny na podložku tak, jak je popsáno v příkladech 1 až 9, čímž byly získány kompozice ve formě suchého filmu a složení uvedeného v následující tabulce.
| složka | počet váhových dílů |
| Resin A | 90 |
| Dye A | 4 |
| uhelná čerň | 6 |
Vzorky desek byly pak vystaveny teplu vyzařovanému páječkou typu Weller Soldering Iron EC2100M o teplotě 311 °C. Rychlost pohybu páječky nad povrchem desky je uvedena v následující tabulce. Exponované vzorky desek byly poté ponořením na 60 sekund podrobeny působení vývojky A.
Výsledky jsou uvedeny v následující tabulce:
| Rychlost pohybu páječky (cm/sec) | Místo působení tepla | výsledek testu rozpustitelnosti |
| 1 | poleva desky | poleva v místě ohřevu zcela odstraněna |
| 10 | poleva desky | poleva v místě ohřevu zcela odstraněna |
| 20 | poleva desky | poleva v místě ohřevu zcela odstraněna |
| 50 | poleva desky | poleva v místě ohřevu zcela odstraněna |
| 1 | opačná strana desky, přímo na A - odložku | poleva v místě ohřevu zcela odstraněna |
| 10 | opačná strana desky, přímo na A - odložku | poleva v místě ohřevu zcela odstraněna |
V popise je v mnoha případech uváděno UV záření. Pokud by nebylo jasné, co je míněno pojmem typická vlnová délka UV záření, rozumí se tímto pojmem záření o vlnovém rozsahu 190 až 400 nm.
Všechny význaky uvedené v popise, včetně kteréhokoliv patentového nároku, anotace a obrázku, a/nebo všechny kroky kteréhokoliv popsaného postupu nebo způsobu, mohou být jakkoliv kombinovány, vyjma kombinací a/nebo kroků, kde alespoň některé z takových význaků a/nebo kroků se vzájemně vylučují.
Kterýkoliv význak uvedený v tomto popise, vč. kteréhokoliv patentového nároku, anotace a obrázku, může být nahrazen alternativními význaky stejného nebo ekvivalentního či obdobného účelu, pokud není výslovně uvedeno jinak. Pokud tak není výslovně uveden opak, každý popsaný význak je pouze jedním příkladem generické řady ekvivalentních nebo obdobných význaků.
Vynález není omezen na podrobnosti výše uvedených provedení. Vynález se vztahuje též na kterýkoliv nový význak nebo novou kombinaci význaků uvedených v tomto popise, včetně kteréhokoliv patentového nároku, anotace a obrázku, nebo na kterýkoliv nový krok jakéhokoliv zde uvedeného postupu či metody nebo na novou kombinaci postupů či metod zde popsaných.
Claims (39)
- PATENTOVÉ NÁROKY1. Pozitivně pracující, oleofilní, tepelně citlivá kompozice, obsahující ve vodné alkalické vývojce rozpustnou polymemí substanci a sloučeninu, snižující rozpustnost polymemí látky ve vodné vývojce, vyznačující se tím, že polymemí substancí je látka se zvýšenou rozpustností ve vodné alkalické vývojce při zahřátí a stálostí ve vodné alkalické vývojce při působení UV záření.
- 2. Kompozice podle nároku 1, vyznačující se tím, že ve vodné alkalické vývojce rozpustná polymemí substance obsahuje funkční skupinu nebo funkční skupiny ze skupin hydroxy, karboxy, amino, amid a maleinimid.
- 3. Kompozice podle nároku 1, vyznačující se tím, že ve vodné alkalické vývojce rozpustnou polymemí substancí je látka zvolená ze skupiny polymer nebo kopolymer hydroxystyrenu, polymer či kopolymer kyseliny akrylové, polymer nebo kopolymer kyseliny metakrylové, polymer či kopolymer maleinimidu, polymer nebo kopolymer anhydridu kyseliny maleinové, hydroxycelulóza, karboxycelulóza, fenolová pryskyřice.
- 4. Kompozice podle nároku 1, vyznačující se tím, že ve vodné alkalické vývojce rozpustnou polymemí látkou je fenolová pryskyřice.
- 5. Kompozice podle nároku 1,vyznačující se tím, že sloučenina, snižující rozpustnost polymemí substance ve vodné alkalické vývojce, obsahuje alespoň jeden kvartémí atom dusíku.
- 6. Kompozice podle nároku 1,vyznačující se tím, že sloučenina, snižující rozpustnost polymemí substance ve vodné alkalické vývojce, obsahuje alespoň jeden atom dusíku v heterocyklickém řetězci.
- 7. Kompozice podle nároku 6, vyznačující se tím, že sloučenina, snižující rozpustnost polymemí substance ve vodné alkalické vývojce je chinolin nebo triazol.
- 8. Kompozice podle nároku 1,vyznačující se tím, že sloučenina, snižující rozpustnost polymemí substance ve vodné alkalické vývojce, obsahuje alespoň jeden kvartémí atom dusíku, patřící do heterocyklického řetězce.
- 9. Kompozice podle nároku 8, vyznačující se tím, že sloučenina, snižující rozpustnost polymemí substance ve vodné alkalické vývojce, je zvolena ze sloučenin imidazolinu, chinolinu, benzothiazolu a pyridinia.
- 10. Kompozice podle nároku 9, vyznačující se tím, že chinolinovou sloučeninou je kyaninové barvivo.
- 11. Kompozice podle nároku 9, vyznaču j í cí se tí m , žebenzothiazolovou sloučeninou je kyaninové barvivo.
- 12. Kompozice podle nároku 1, vyznačující se tím, že sloučeninou snižující rozpustnost polymemí substance ve vodné alkalické vývojce, je triarylmethanová sloučenina.
- 13. Kompozice podle nároku 1, vyznačující se tím, že sloučenina snižující rozpustnost polymemí substance ve vodné alkalické vývojce obsahuje karbonylovou funkční skupinu.-17CZ 292739 Β6
- 14. Kompozice podle nároku 13, vyznačující se tím, že sloučenina snižující rozpustnost polymemí substance ve vodné alkalické vývojce, je některou ze sloučenin flavonových.
- 15. Kompozice podle nároku 13, vyznačující se tím, že sloučeninou snižující rozpustnost polymemí substance ve vodné alkalické vývojce, je buď N-4(4-bromobutyl)ftalimid, nebo flavanon nebo benzofenon nebo 2,3-difenyl-l-indeneon nebo xanton nebo fenantrenechinon.
- 16. Kompozice podle nároku 1,vyznačující se tím, že sloučenina snižující rozpustnost polymemí substance ve vodné alkalické vývojce, má obecný vzorecQi-SÍO^-Qz kde Q! představuje volitelně substituovanou fenylovou nebo alkylovou skupinu, n je celé číslo z řady 0, 1, 2 a Q2 představuje halogenový atom či alkoxylovou skupinu.
- 17. Kompozice podle nároku 1,vyznačující se tím, že sloučeninou snižující rozpustnost polymemí substance ve vodné alkalické vývojce, je sloučenina ethyl-p-toluen sulfonát a ptoluensulfonyl chloridu.
- 18. Kompozice podle nároku 1,vyznačující se tím, že sloučeninou, snižující rozpustnost polymemí substance ve vodné alkalické vývojce, je oranžové akridinové zásadité barvivo.
- 19. Kompozice podle nároku 1,vyznačující se tím, že sloučeninou, snižující rozpustnost polymemí substance ve vodné vývojce, je sloučenina feroceniová.
- 20. Pozitivně pracující litografická výchozí tisková deska, opatřená polevou obsahující kompozici podle kteréhokoliv z předcházejících nároků, vyznačující se tím, že poleva je nesena podložkou s hydrofílním povrchem.
- 21. Litografická výchozí tisková deska podle nároku 20, vyznačující se tím, že kompozice polevy je upravena pro absorpci záření a jeho přeměnu na teplo.
- 22. Litografická výchozí tisková deska podle nároku 21, vyznačující se tím, že kompozice obsahuje látku schopnou absorbovat dopadající záření a měnit je na teplo.
- 23. Litografická výchozí tisková deska podle nároku 21, vyznačující se tím, že poleva obsahuje pomocnou vrstvu, uspořádanou pod vrstvou kompozice, přičemž pomocná vrstva obsahuje látku schopnou absorbovat dopadající záření a měnit je na teplo.
- 24. Litografická výchozí tisková deska podle nároku 21, vyznačující se tím, že sloučenina, snižující rozpustnost polymemí látky ve vodné alkalické vývojce, je současně látkou schopnou absorbovat dopadající záření a měnit je na teplo.
- 25. Litografická výchozí tisková deska podle nároku 22 nebo 23,vyznačující se tím, že záření absorbující sloučeninou je uhelná čerň.
- 26. Litografická výchozí tisková deska podle nároku 22 nebo 23,vyznačující se tím, že záření absorbující sloučeninou je pigment.
- 27. Litografická výchozí tisková deska podle nároku 26, vyznačující se tím, že záření absorbující sloučeninou je organický pigment.
- 28. Litografická výchozí tisková deska podle nároku 27, vyznačující se tím, že organickým pigmentem je ftalocyaninový pigment.-18CZ 292739 B6
- 29. Litografícká výchozí tisková deska podle nároku 26, vyznačující se tím, že záření absorbující sloučeninou je anorganický pigment.
- 30. Litografícká výchozí tisková deska podle nároku 26, vyznačující se tím, že pigmentem je Pruská modř, Heliogen zelená či Nigrosin.
- 31. Litografícká výchozí tisková deska podle nároku 22 nebo 23, vyznačující se tím, že záření absorbující sloučeninou je barvivo, a to buď squarylium nebo merokyanin nebo indolizin nebo pyrylium nebo metal ditiolin.
- 32. Litografícká výchozí tisková deska podle nároku 23, vyznačující se tím pomocnou vrstvou je tenká vrstva barviva nebo pigmentu.
- 33. Litografícká výchozí tisková deska podle nároku 23, vyznačující se tím pomocnou vrstvou je tenká vrstva kovu nebo oxidu kovu.že že
- 34. Litografícká výchozí tisková deska podle nároku 24, vyznačující se tím, že sloučeninou, která snižuje rozpustnost polymemí látky ve vodné vývojce a současně absorbuje záření, je kyaninové barvivo s obsahem chinolinu.
- 35. Litografícká výchozí tisková deska podle nároku 26, 31 nebo 34, vyznačující se t í m, že záření absorbující sloučeninou je látka pohlcující záření o vlnové délce nad 600 nm.
- 36. Způsob výroby litografícké výchozí tiskové desky podle kteréhokoliv z nároků 20 až 35, vyznačující se tím, že na výchozí tiskovou desku se pomocí záření přenese obraz.
- 37. Způsob výroby podle nároku 36, vyznačující se tím, že na výchozí tiskovou desku se obraz přenese ozářením laserovým paprskem.
- 38. Způsob výroby podle nároku 37, vyznačující se tím,že výchozí tisková deska se ozáří laserovým paprskem o vlnové délce nad 600 nm.
- 39. Způsob výroby podle nároku 36, vyznačující se tím, že na výchozí tiskovou desku se obraz přenese tepelným ozářením.
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GBGB9608394.4A GB9608394D0 (en) | 1996-04-23 | 1996-04-23 | Lithgraphic plates |
| GBGB9614693.1A GB9614693D0 (en) | 1996-07-12 | 1996-07-12 | Lithographic plates |
| PCT/GB1996/001973 WO1997007986A2 (en) | 1995-08-15 | 1996-08-13 | Water-less lithographic plates |
| GBGB9700884.1A GB9700884D0 (en) | 1997-01-17 | 1997-01-17 | Lithographic plates |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CZ400897A3 CZ400897A3 (cs) | 1998-04-15 |
| CZ292739B6 true CZ292739B6 (cs) | 2003-12-17 |
Family
ID=27268256
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CZ19974008A CZ292739B6 (cs) | 1996-04-23 | 1997-04-22 | Pozitivně pracující, oleofilní, tepelně citlivá kompozice, litografická výchozí tisková deska obsahující tuto kompozici a způsob výroby litografické výchozí tiskové desky |
Country Status (16)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US6280899B1 (cs) |
| EP (2) | EP0825927B1 (cs) |
| JP (1) | JP3147908B2 (cs) |
| CN (1) | CN1078132C (cs) |
| AT (2) | ATE183136T1 (cs) |
| AU (1) | AU707872B2 (cs) |
| BR (1) | BR9702181A (cs) |
| CA (1) | CA2225567C (cs) |
| CZ (1) | CZ292739B6 (cs) |
| DE (4) | DE69714225T2 (cs) |
| ES (2) | ES2181120T3 (cs) |
| IL (1) | IL122318A (cs) |
| NO (1) | NO976002L (cs) |
| PL (1) | PL324248A1 (cs) |
| RU (1) | RU2153986C2 (cs) |
| WO (1) | WO1997039894A1 (cs) |
Families Citing this family (227)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB9516723D0 (en) | 1995-08-15 | 1995-10-18 | Horsell Plc | Water-less lithographic plates |
| JP3814961B2 (ja) | 1996-08-06 | 2006-08-30 | 三菱化学株式会社 | ポジ型感光性印刷版 |
| US5858626A (en) | 1996-09-30 | 1999-01-12 | Kodak Polychrome Graphics | Method of forming a positive image through infrared exposure utilizing diazonaphthoquinone imaging composition |
| GB9622657D0 (en) | 1996-10-31 | 1997-01-08 | Horsell Graphic Ind Ltd | Direct positive lithographic plate |
| US6060222A (en) | 1996-11-19 | 2000-05-09 | Kodak Polcyhrome Graphics Llc | 1Postitve-working imaging composition and element and method of forming positive image with a laser |
| EP0864420B2 (en) † | 1997-03-11 | 2005-11-16 | Agfa-Gevaert | Heat-sensitive imaging element for making positive working printing plates |
| US6090532A (en) * | 1997-03-21 | 2000-07-18 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Positive-working infrared radiation sensitive composition and printing plate and imaging method |
| US6083662A (en) * | 1997-05-30 | 2000-07-04 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Methods of imaging and printing with a positive-working infrared radiation sensitive printing plate |
| BR9810545A (pt) * | 1997-07-05 | 2000-09-05 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Métodos para a formação de configuração |
| GB9714526D0 (en) * | 1997-07-11 | 1997-09-17 | Horsell Graphic Ind Ltd | Pattern Formation |
| DE69827882T2 (de) * | 1997-08-13 | 2005-11-03 | Mitsubishi Chemical Corp. | Positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung, lichtempfindliche Druckplatte und Verfahren zur Herstellung eines positiven Bildes |
| JP2003533707A (ja) | 1997-08-14 | 2003-11-11 | コダック ポリクロム グラフィックス カンパニーリミテッド | マスク及び電子パーツの製造方法 |
| GB9722861D0 (en) | 1997-10-29 | 1997-12-24 | Horsell Graphic Ind Ltd | Improvements in relation to the manufacture of lithographic printing forms |
| US6060217A (en) * | 1997-09-02 | 2000-05-09 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Thermal lithographic printing plates |
| US6117613A (en) * | 1997-09-12 | 2000-09-12 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Positive photosensitive composition for use with an infrared laser |
| EP0908306B3 (en) | 1997-10-08 | 2009-08-05 | Agfa-Gevaert | A method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive imaging element |
| EP0908305B2 (en) † | 1997-10-08 | 2006-07-19 | Agfa-Gevaert | A method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive imaging element |
| EP1258369B1 (en) | 1997-10-17 | 2005-03-30 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | A positive type photosensitive image-forming material for an infrared laser and a positive type photosensitive composition for an infrared laser |
| EP0913253B1 (en) * | 1997-10-28 | 2002-12-18 | Mitsubishi Chemical Corporation | Positive photosensitive composition, positive photosensitive lithographic printing plate and method for forming an image thereon |
| GB9722862D0 (en) * | 1997-10-29 | 1997-12-24 | Horsell Graphic Ind Ltd | Pattern formation |
| EP0914942B1 (en) * | 1997-11-07 | 2005-05-25 | Toray Industries, Inc. | Directly imageable waterless planographic printing plate precursor and a method of producing planographic printing plates |
| JP3810538B2 (ja) | 1997-11-28 | 2006-08-16 | 富士写真フイルム株式会社 | ポジ型画像形成材料 |
| US6399279B1 (en) | 1998-01-16 | 2002-06-04 | Mitsubishi Chemical Corporation | Method for forming a positive image |
| US5922512A (en) * | 1998-01-29 | 1999-07-13 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Processless direct write printing plate having heat sensitive polymer and methods of imaging and printing |
| DE69925053T2 (de) | 1998-02-04 | 2006-03-02 | Mitsubishi Chemical Corp. | Positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung, lichtempfindliche Druckplatte und Verfahren zur Herstellung eines positiven Bildes |
| US6143471A (en) * | 1998-03-10 | 2000-11-07 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Positive type photosensitive composition |
| GB2335283B (en) | 1998-03-13 | 2002-05-08 | Horsell Graphic Ind Ltd | Improvements in relation to pattern-forming methods |
| GB2335282B (en) | 1998-03-13 | 2002-05-08 | Horsell Graphic Ind Ltd | Improvements in relation to pattern-forming methods |
| US6444393B2 (en) * | 1998-03-26 | 2002-09-03 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Anionic infrared-ray absorbing agent, photosensitive composition and planographic printing plate precursor using same |
| US6447977B2 (en) * | 1998-04-15 | 2002-09-10 | Agfa-Gevaert | Heat mode sensitive imaging element for making positive working printing plates |
| IT1299220B1 (it) | 1998-05-12 | 2000-02-29 | Lastra Spa | Composizione sensibile sia a radiazioni ir che a radiazioni uv e lastra litografica |
| GB9811813D0 (en) * | 1998-06-03 | 1998-07-29 | Horsell Graphic Ind Ltd | Polymeric compounds |
| US6352811B1 (en) * | 1998-06-23 | 2002-03-05 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Thermal digital lithographic printing plate |
| US6358669B1 (en) | 1998-06-23 | 2002-03-19 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Thermal digital lithographic printing plate |
| US6534238B1 (en) * | 1998-06-23 | 2003-03-18 | Kodak Polychrome Graphics, Llc | Thermal digital lithographic printing plate |
| DE19834746A1 (de) | 1998-08-01 | 2000-02-03 | Agfa Gevaert Ag | Strahlungsempfindliches Gemisch mit IR-absorbierenden, betainischen oder betainisch-anionischen Cyaninfarbstoffen und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial |
| DE19834745A1 (de) | 1998-08-01 | 2000-02-03 | Agfa Gevaert Ag | Strahlungsempfindliches Gemisch mit IR-absorbierenden, anionischen Cyaninfarbstoffen und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial |
| US6190831B1 (en) * | 1998-09-29 | 2001-02-20 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Processless direct write printing plate having heat sensitive positively-charged polymers and methods of imaging and printing |
| JP3635203B2 (ja) * | 1998-10-06 | 2005-04-06 | 富士写真フイルム株式会社 | 平版印刷版用原版 |
| GB2342460A (en) * | 1998-10-07 | 2000-04-12 | Horsell Graphic Ind Ltd | Method of making an electronic part |
| GB2342459B (en) * | 1998-10-07 | 2003-01-15 | Horsell Graphic Ind Ltd | Improvements in relation to electronic parts |
| IL143158A0 (en) | 1998-11-16 | 2002-04-21 | Mitsubishi Chem Corp | Positive-working photosensitive lithographic printing plate and method for producing the same |
| US6344306B1 (en) | 1999-03-16 | 2002-02-05 | Toray Industries, Inc. | Directly imageable waterless planographic printing plate precursor, and directly imageable waterless planographic printing plate |
| US6124425A (en) * | 1999-03-18 | 2000-09-26 | American Dye Source, Inc. | Thermally reactive near infrared absorption polymer coatings, method of preparing and methods of use |
| JP2000275828A (ja) | 1999-03-25 | 2000-10-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版 |
| DE60037951T2 (de) * | 1999-05-21 | 2009-02-05 | Fujifilm Corp. | Fotoempfindliche Zusammensetzung und Flachdruckplatte, die diese Zusammensetzung verwendet |
| CA2314520A1 (en) | 1999-07-30 | 2001-01-30 | Domenico Tiefenthaler | Composition sensitive to ir radiation and to heat and lithographic plate coated therewith |
| EP1072404B1 (en) * | 1999-07-30 | 2003-05-21 | Lastra S.P.A. | Composition sensitive to IR radiation and to heat and lithographic plate coated with this composition |
| ATE240833T1 (de) | 1999-07-30 | 2003-06-15 | Lastra Spa | Infrarotstrahlungs- und wärme-empfindliche zusammensetzung, und lithographische druckplatte, die mit dieser zusammensetzung beschichtet ist |
| US6255033B1 (en) | 1999-07-30 | 2001-07-03 | Creo, Ltd. | Positive acting photoresist compositions and imageable element |
| EP1072405B1 (en) * | 1999-07-30 | 2003-06-04 | Lastra S.P.A. | Composition sensitive to IR radiation and to heat and lithographic plate coated therewith |
| US6706466B1 (en) | 1999-08-03 | 2004-03-16 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Articles having imagable coatings |
| US6251559B1 (en) | 1999-08-03 | 2001-06-26 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Heat treatment method for obtaining imagable coatings and imagable coatings |
| US6461794B1 (en) | 1999-08-11 | 2002-10-08 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Lithographic printing forms |
| US6550989B1 (en) | 1999-10-15 | 2003-04-22 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Apparatus and methods for development of resist patterns |
| ATE314204T1 (de) | 1999-10-19 | 2006-01-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | Fotoempfindliche zusammensetzung und flachdruckplatte, die diese zusammensetzung verwendet |
| US6232031B1 (en) | 1999-11-08 | 2001-05-15 | Ano-Coil Corporation | Positive-working, infrared-sensitive lithographic printing plate and method of imaging |
| US6300038B1 (en) | 1999-11-19 | 2001-10-09 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Articles having imagable coatings |
| US6391524B2 (en) * | 1999-11-19 | 2002-05-21 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Article having imagable coatings |
| US6294311B1 (en) * | 1999-12-22 | 2001-09-25 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Lithographic printing plate having high chemical resistance |
| US6558787B1 (en) | 1999-12-27 | 2003-05-06 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Relation to manufacture of masks and electronic parts |
| US6787291B2 (en) | 2000-04-06 | 2004-09-07 | Toray Industries, Inc. | Directly imageable planographic printing plate and production method thereof |
| JP2001305722A (ja) * | 2000-04-18 | 2001-11-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版 |
| US6506533B1 (en) | 2000-06-07 | 2003-01-14 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Polymers and their use in imagable products and image-forming methods |
| US6458511B1 (en) | 2000-06-07 | 2002-10-01 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Thermally imageable positive-working lithographic printing plate precursor and method for imaging |
| AU2001273085A1 (en) | 2000-07-06 | 2002-01-21 | Cabot Corporation | Modified pigment products, dispersions thereof, and compositions comprising the same |
| DE60127684T2 (de) | 2000-08-04 | 2007-09-06 | Kodak Polychrome Graphics Co. Ltd., Norwalk | Lithographische druckform, herstellungsverfahren und verwendung davon |
| US6555291B1 (en) | 2000-08-14 | 2003-04-29 | Kodak Polychrome Graphics, Llc | Thermal digital lithographic printing plate |
| US6649324B1 (en) * | 2000-08-14 | 2003-11-18 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Aqueous developer for lithographic printing plates |
| US6558872B1 (en) | 2000-09-09 | 2003-05-06 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Relation to the manufacture of masks and electronic parts |
| US6451502B1 (en) | 2000-10-10 | 2002-09-17 | Kodak Polychrome Graphics Llc | manufacture of electronic parts |
| US6864040B2 (en) | 2001-04-11 | 2005-03-08 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Thermal initiator system using leuco dyes and polyhalogene compounds |
| EP1333977A1 (en) | 2000-10-26 | 2003-08-13 | Kodak Polychrome Graphics LLC | Compositions comprising a pigment |
| US6596460B2 (en) | 2000-12-29 | 2003-07-22 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Polyvinyl acetals having azido groups and use thereof in radiation-sensitive compositions |
| US6548215B2 (en) | 2001-02-09 | 2003-04-15 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Method for the production of a printing plate using the dual-feed technology |
| US6613494B2 (en) | 2001-03-13 | 2003-09-02 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Imageable element having a protective overlayer |
| US6899994B2 (en) | 2001-04-04 | 2005-05-31 | Kodak Polychrome Graphics Llc | On-press developable IR sensitive printing plates using binder resins having polyethylene oxide segments |
| US7049046B2 (en) * | 2004-03-30 | 2006-05-23 | Eastman Kodak Company | Infrared absorbing compounds and their use in imageable elements |
| US7592128B2 (en) | 2001-04-04 | 2009-09-22 | Eastman Kodak Company | On-press developable negative-working imageable elements |
| US6777164B2 (en) | 2001-04-06 | 2004-08-17 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Lithographic printing forms |
| EP1256444B1 (en) | 2001-04-09 | 2004-06-30 | Agfa-Gevaert | Positive-working lithographic printing plate precursor |
| EP1258349B1 (en) * | 2001-05-17 | 2005-04-20 | Agfa-Gevaert | Method for the preparation of a negative working printing plate |
| US6739260B2 (en) | 2001-05-17 | 2004-05-25 | Agfa-Gevaert | Method for the preparation of a negative working printing plate |
| BR0102218B1 (pt) | 2001-05-31 | 2012-10-16 | produto sensìvel à radiação, e processo de impressão ou revelação de imagem utilizando o referido produto. | |
| US6706454B2 (en) | 2001-07-05 | 2004-03-16 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Method for the production of a printing plate using particle growing acceleration by an additive polymer |
| JP3917422B2 (ja) | 2001-07-26 | 2007-05-23 | 富士フイルム株式会社 | 画像形成材料 |
| US7056639B2 (en) | 2001-08-21 | 2006-06-06 | Eastman Kodak Company | Imageable composition containing an infrared absorber with counter anion derived from a non-volatile acid |
| US6593055B2 (en) | 2001-09-05 | 2003-07-15 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Multi-layer thermally imageable element |
| US7294447B2 (en) | 2001-09-24 | 2007-11-13 | Agfa Graphics Nv | Positive-working lithographic printing plate precursor |
| EP1295717B1 (en) | 2001-09-24 | 2007-07-25 | Agfa Graphics N.V. | Heat-sensitive positive-working lithographic printing plate precursor |
| KR100406460B1 (ko) * | 2001-09-29 | 2003-11-19 | 한국과학기술연구원 | 커플링된 스티릴시아닌 색소 및 그의 제조 방법 |
| US6723490B2 (en) | 2001-11-15 | 2004-04-20 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Minimization of ablation in thermally imageable elements |
| US6699636B2 (en) | 2001-12-12 | 2004-03-02 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Imaging element comprising a thermally activated crosslinking agent |
| US6960423B2 (en) | 2001-12-26 | 2005-11-01 | Creo Inc. | Preparation of gravure and intaglio printing elements using direct thermally imageable media |
| US6723489B2 (en) | 2002-01-30 | 2004-04-20 | Kodak Polychrome Graphics Llp | Printing form precursors |
| US6830862B2 (en) | 2002-02-28 | 2004-12-14 | Kodak Polychrome Graphics, Llc | Multi-layer imageable element with a crosslinked top layer |
| US20050003296A1 (en) * | 2002-03-15 | 2005-01-06 | Memetea Livia T. | Development enhancement of radiation-sensitive elements |
| US6732653B2 (en) | 2002-04-26 | 2004-05-11 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Method to remove unwanted, unexposed, positive-working, radiation-sensitive layer |
| US6843176B2 (en) * | 2002-04-26 | 2005-01-18 | Kodak Polychrome Graphics, Llc | Method to remove unwanted, unexposed, radiation-sensitive layer in a lithographic printing plate |
| DE60213236T2 (de) | 2002-09-04 | 2007-06-21 | Agfa-Gevaert | Wärmeempfindlicher Flachdruckplattenvorläufer |
| US20040067435A1 (en) | 2002-09-17 | 2004-04-08 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image forming material |
| US6858359B2 (en) | 2002-10-04 | 2005-02-22 | Kodak Polychrome Graphics, Llp | Thermally sensitive, multilayer imageable element |
| JP2006501505A (ja) | 2002-10-04 | 2006-01-12 | アグフア−ゲヴエルト | リトグラフ印刷版前駆物質の製法 |
| EP1551642B1 (en) | 2002-10-04 | 2007-10-10 | Agfa Graphics N.V. | Method of making a lithographic printing plate precursor |
| US20060234161A1 (en) | 2002-10-04 | 2006-10-19 | Eric Verschueren | Method of making a lithographic printing plate precursor |
| US7455949B2 (en) | 2002-10-15 | 2008-11-25 | Agfa Graphics, N.V. | Polymer for heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| US7458320B2 (en) | 2002-10-15 | 2008-12-02 | Agfa Graphics, N.V. | Polymer for heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| US7198877B2 (en) | 2002-10-15 | 2007-04-03 | Agfa-Gevaert | Heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| US6794107B2 (en) | 2002-10-28 | 2004-09-21 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Thermal generation of a mask for flexography |
| CN1332809C (zh) * | 2002-12-26 | 2007-08-22 | 富士胶片株式会社 | 平版印刷版前体 |
| EP1433594B1 (en) | 2002-12-27 | 2008-04-09 | FUJIFILM Corporation | Heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| JP4163964B2 (ja) | 2003-01-07 | 2008-10-08 | 岡本化学工業株式会社 | 画像形成組成物およびそれを用いた感光性平版印刷版 |
| US7160667B2 (en) * | 2003-01-24 | 2007-01-09 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image forming material |
| US7087359B2 (en) | 2003-01-27 | 2006-08-08 | Agfa-Gevaert | Heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| US6790590B2 (en) * | 2003-01-27 | 2004-09-14 | Kodak Polychrome Graphics, Llp | Infrared absorbing compounds and their use in imageable elements |
| US6953652B2 (en) | 2003-01-27 | 2005-10-11 | Agfa-Gevaert | Heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| DE602004008224T2 (de) * | 2003-02-11 | 2008-05-15 | Agfa Graphics N.V. | Wärmeempfindlicher lithographischer druckplattenvorläufer |
| US7229744B2 (en) * | 2003-03-21 | 2007-06-12 | Eastman Kodak Company | Method for preparing lithographic printing plates |
| US6908726B2 (en) * | 2003-04-07 | 2005-06-21 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Thermally imageable elements imageable at several wavelengths |
| US20040214108A1 (en) * | 2003-04-25 | 2004-10-28 | Ray Kevin B. | Ionic liquids as dissolution inhibitors in imageable elements |
| JP4703104B2 (ja) * | 2003-06-06 | 2011-06-15 | 株式会社東芝 | 通信端末装置 |
| DE602004015778D1 (de) * | 2003-06-30 | 2008-09-25 | Think Labs Kk | Positive lichtempfindliche zusammensetzung |
| JP4657276B2 (ja) * | 2003-07-03 | 2011-03-23 | 株式会社シンク・ラボラトリー | ポジ型感光性組成物 |
| US7371454B2 (en) * | 2003-12-15 | 2008-05-13 | Eastman Kodak Company | Imageable element comprising sulfated polymers |
| DE602004003700T2 (de) | 2003-07-08 | 2007-10-04 | Eastman Kodak Co. | Bebilderbares Element mit sulfatierten Polymeren |
| US6942957B2 (en) * | 2003-07-17 | 2005-09-13 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Ionic liquids as developability enhancing agents in multilayer imageable elements |
| US6844141B1 (en) | 2003-07-23 | 2005-01-18 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Method for developing multilayer imageable elements |
| US6992688B2 (en) * | 2004-01-28 | 2006-01-31 | Eastman Kodak Company | Method for developing multilayer imageable elements |
| JP2005047181A (ja) * | 2003-07-30 | 2005-02-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版の製版方法、平版印刷方法および平版印刷原版 |
| US7226724B2 (en) | 2003-11-10 | 2007-06-05 | Think Laboratory Co., Ltd. | Positive-type photosensitive composition |
| BR0318606A (pt) | 2003-12-04 | 2006-10-24 | Ibf Ind Brasileira De Filmes L | Conjunto de formação de imagem térmica de funcionamento positivo, método para a sua fabricação e placa de impressão litográfica |
| US7297465B2 (en) | 2003-12-18 | 2007-11-20 | Agfa Graphics Nv | Heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| US7205084B2 (en) | 2003-12-18 | 2007-04-17 | Agfa-Gevaert | Heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| EP1697144A1 (en) | 2003-12-18 | 2006-09-06 | Agfa-Gevaert N.V. | Positive-working lithographic printing plate precursor |
| US7467587B2 (en) | 2004-04-21 | 2008-12-23 | Agfa Graphics, N.V. | Method for accurate exposure of small dots on a heat-sensitive positive-working lithographic printing plate material |
| US7348126B2 (en) | 2004-04-27 | 2008-03-25 | Agfa Graphics N.V. | Negative working, heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| EP1604818B1 (en) | 2004-06-11 | 2007-04-25 | Agfa Graphics N.V. | Negative working, heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| DE602004015513D1 (de) * | 2004-05-27 | 2008-09-11 | Think Labs Kk | Positive lichtempfindliche zusammensetzung |
| DE102004029501A1 (de) * | 2004-06-18 | 2006-01-12 | Kodak Polychrome Graphics Gmbh | Modifizierte Polymere und ihre Verwendung bei der Herstellung von Lithographie-Druckplattenvorläufern |
| US7279263B2 (en) * | 2004-06-24 | 2007-10-09 | Kodak Graphic Communications Canada Company | Dual-wavelength positive-working radiation-sensitive elements |
| US7195861B2 (en) | 2004-07-08 | 2007-03-27 | Agfa-Gevaert | Method for making a negative working, heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| US7425405B2 (en) | 2004-07-08 | 2008-09-16 | Agfa Graphics, N.V. | Method for making a lithographic printing plate |
| US7354696B2 (en) | 2004-07-08 | 2008-04-08 | Agfa Graphics Nv | Method for making a lithographic printing plate |
| JP4152928B2 (ja) * | 2004-08-02 | 2008-09-17 | 株式会社シンク・ラボラトリー | ポジ型感光性組成物 |
| JP4242815B2 (ja) * | 2004-08-27 | 2009-03-25 | 株式会社シンク・ラボラトリー | ポジ型感光性組成物 |
| US7198883B2 (en) | 2004-09-24 | 2007-04-03 | Agfa-Gevaert | Processless lithographic printing plate |
| EP1640175B1 (en) | 2004-09-24 | 2007-08-15 | Agfa Graphics N.V. | Processless lithographic printing plate |
| JP2006154477A (ja) * | 2004-11-30 | 2006-06-15 | Think Laboratory Co Ltd | ポジ型感光性組成物 |
| JP4474296B2 (ja) | 2005-02-09 | 2010-06-02 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
| EP1705003B1 (en) | 2005-03-21 | 2007-10-24 | Agfa Graphics N.V. | Processless lithographic printing plates |
| JP2006293162A (ja) | 2005-04-13 | 2006-10-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版 |
| KR100693357B1 (ko) * | 2005-04-19 | 2007-03-12 | 가부시키가이샤 씽크. 라보라토리 | 포지티브형 감광성 조성물 |
| BRPI0611018B1 (pt) | 2005-06-03 | 2017-03-07 | American Dye Source Inc | copolímeros de acetal de absorção próxima do infravermelho termicamente reativos, métodos de preparo e métodos de uso |
| US7678533B2 (en) | 2005-06-30 | 2010-03-16 | Agfa Graphics, N.V. | Heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| US20070292802A1 (en) * | 2005-07-12 | 2007-12-20 | Think Laboratiory Co., Ltd. | Positive Photosenstive Composition |
| US8313885B2 (en) | 2005-11-10 | 2012-11-20 | Agfa Graphics Nv | Lithographic printing plate precursor comprising bi-functional compounds |
| US7338745B2 (en) * | 2006-01-23 | 2008-03-04 | Eastman Kodak Company | Multilayer imageable element with improved chemical resistance |
| DE602006004839D1 (de) | 2006-02-28 | 2009-03-05 | Agfa Graphics Nv | Positiv arbeitende Lithografiedruckformen |
| WO2007099053A1 (en) | 2006-02-28 | 2007-09-07 | Agfa Graphics Nv | Method for making a lithographic printing plate |
| EP1834764B1 (en) | 2006-03-17 | 2009-05-27 | Agfa Graphics N.V. | Negative working, heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| DE602006010342D1 (de) | 2006-05-24 | 2009-12-24 | Agfa Graphics Nv | Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform |
| ATE449683T1 (de) | 2006-05-24 | 2009-12-15 | Agfa Graphics Nv | Negativ arbeitender hitzeempfindlicher lithographiedruckformvorläufer |
| GB2439734A (en) * | 2006-06-30 | 2008-01-09 | Peter Andrew Reath Bennett | Coating for a lithographic precursor and use thereof |
| JP5038434B2 (ja) * | 2006-11-28 | 2012-10-03 | イーストマン コダック カンパニー | 良好な耐溶剤性を有する多層画像形成性要素 |
| JPWO2008126722A1 (ja) * | 2007-04-05 | 2010-07-22 | 株式会社シンク・ラボラトリー | ポジ型感光性組成物 |
| EP1985445B1 (en) | 2007-04-27 | 2011-07-20 | Agfa Graphics N.V. | A lithographic printing plate precursor |
| EP2002987B1 (en) | 2007-06-13 | 2014-04-23 | Agfa Graphics N.V. | A method for treating a lithographic printing plate |
| US7582407B2 (en) * | 2007-07-09 | 2009-09-01 | Eastman Kodak Company | Imageable elements with low pH developer solubility |
| EP2025512B1 (en) | 2007-08-14 | 2011-05-18 | Agfa Graphics N.V. | Method for making a lithographic printing plate |
| WO2009030279A1 (en) | 2007-09-07 | 2009-03-12 | Agfa Graphics Nv | A heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| US7989146B2 (en) | 2007-10-09 | 2011-08-02 | Eastman Kodak Company | Component fabrication using thermal resist materials |
| EP2062728B1 (en) | 2007-11-13 | 2011-08-31 | Agfa Graphics N.V. | Method for making a lithographic printing plate |
| DE602007006822D1 (de) | 2007-11-30 | 2010-07-08 | Agfa Graphics Nv | Verfahren zur Behandlung einer Lithografiedruckplatte |
| JP2009132974A (ja) | 2007-11-30 | 2009-06-18 | Fujifilm Corp | 微細構造体 |
| ATE481240T1 (de) | 2008-02-28 | 2010-10-15 | Agfa Graphics Nv | Verfahren zur herstellung einer lithografiedruckplatte |
| EP2098376B1 (en) | 2008-03-04 | 2013-09-18 | Agfa Graphics N.V. | A method for making a lithographic printing plate support |
| ES2365885T3 (es) | 2008-03-31 | 2011-10-13 | Agfa Graphics N.V. | Un método para tratar una plancha de impresión litográfica. |
| EP2159049B1 (en) | 2008-09-02 | 2012-04-04 | Agfa Graphics N.V. | A heat-sensitive positive-working lithographic printing plate precursor |
| EP2194429A1 (en) | 2008-12-02 | 2010-06-09 | Eastman Kodak Company | Gumming compositions with nano-particles for improving scratch sensitivity in image and non-image areas of lithographic printing plates |
| EP2213690B1 (en) * | 2009-01-30 | 2015-11-11 | Agfa Graphics N.V. | A new alkali soluble resin |
| US20100227269A1 (en) | 2009-03-04 | 2010-09-09 | Simpson Christopher D | Imageable elements with colorants |
| ATE553920T1 (de) | 2009-06-18 | 2012-05-15 | Agfa Graphics Nv | Lithographiedruckplattenvorläufer |
| EP2284005B1 (en) | 2009-08-10 | 2012-05-02 | Eastman Kodak Company | Lithographic printing plate precursors with beta-hydroxy alkylamide crosslinkers |
| US8383319B2 (en) | 2009-08-25 | 2013-02-26 | Eastman Kodak Company | Lithographic printing plate precursors and stacks |
| EP2293144B1 (en) | 2009-09-04 | 2012-11-07 | Eastman Kodak Company | Method of drying lithographic printing plates after single-step-processing |
| US8298750B2 (en) | 2009-09-08 | 2012-10-30 | Eastman Kodak Company | Positive-working radiation-sensitive imageable elements |
| ATE555905T1 (de) | 2009-10-27 | 2012-05-15 | Agfa Graphics Nv | Neuartige cyaninfarbstoffe und lithografische druckerplattenvorläufer mit den farbstoffen |
| US8936899B2 (en) | 2012-09-04 | 2015-01-20 | Eastman Kodak Company | Positive-working lithographic printing plate precursors and use |
| RU2487882C1 (ru) | 2009-10-29 | 2013-07-20 | Майлан Груп | Галлотанниновые соединения в композициях для покрытия литографических печатных форм |
| EP2329951B1 (en) | 2009-12-04 | 2012-06-20 | AGFA Graphics NV | A lithographic printing plate precursor |
| ES2395993T3 (es) | 2010-03-19 | 2013-02-18 | Agfa Graphics N.V. | Precursor de plancha de impresión litográfica |
| US20110236832A1 (en) * | 2010-03-26 | 2011-09-29 | Celin Savariar-Hauck | Lithographic processing solutions and methods of use |
| US8939080B2 (en) | 2010-11-18 | 2015-01-27 | Eastman Kodak Company | Methods of processing using silicate-free developer compositions |
| US20120129093A1 (en) | 2010-11-18 | 2012-05-24 | Moshe Levanon | Silicate-free developer compositions |
| US20130298792A1 (en) | 2011-01-25 | 2013-11-14 | Agfa Graphics Nv | Lithographic printing plate precursor |
| ES2427137T3 (es) | 2011-02-18 | 2013-10-29 | Agfa Graphics N.V. | Precursor de plancha de impresión litográfica |
| US8632940B2 (en) | 2011-04-19 | 2014-01-21 | Eastman Kodak Company | Aluminum substrates and lithographic printing plate precursors |
| US8722308B2 (en) | 2011-08-31 | 2014-05-13 | Eastman Kodak Company | Aluminum substrates and lithographic printing plate precursors |
| EP2753981B1 (en) | 2011-09-08 | 2015-10-14 | AGFA Graphics NV | Method of making a lithographic printing plate |
| US9096759B2 (en) * | 2011-12-21 | 2015-08-04 | E I Du Pont De Nemours And Company | Printing form and process for preparing the printing form with curable composition having solvent-free epoxy resin |
| US20130255515A1 (en) | 2012-03-27 | 2013-10-03 | Celin Savariar-Hauck | Positive-working lithographic printing plate precursors |
| EP2878452B1 (en) | 2012-07-27 | 2018-11-28 | Fujifilm Corporation | Support for lithographic printing plate and manufacturing method therefor |
| CN104870193B (zh) | 2013-01-01 | 2017-12-22 | 爱克发印艺公司 | (乙烯、乙烯醇缩醛)共聚物和它们在平版印刷版前体中的用途 |
| EP2775351B1 (en) | 2013-03-07 | 2017-02-22 | Agfa Graphics NV | Apparatus and method for processing a lithographic printing plate |
| EP3346332B1 (en) | 2013-06-18 | 2019-11-13 | Agfa Nv | A lithographic printing plate precursor having a non-contineuous back layer |
| EP2871057B1 (en) | 2013-11-07 | 2016-09-14 | Agfa Graphics Nv | Negative working, heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| EP2933278B1 (en) | 2014-04-17 | 2018-08-22 | Agfa Nv | (Ethylene, vinyl acetal) copolymers and their use in lithographic printing plate precursors |
| ES2617557T3 (es) | 2014-05-15 | 2017-06-19 | Agfa Graphics Nv | Copolímeros (de etileno, vinilacetal) y su uso en precursores de plancha de impresión litográfica |
| CN104035279B (zh) * | 2014-05-23 | 2017-07-18 | 浙江康尔达新材料股份有限公司 | 阳图红外敏感组合物及其可成像元件 |
| EP2955198B8 (en) | 2014-06-13 | 2018-01-03 | Agfa Nv | Ethylene/vinyl acetal-copolymers and their use in lithographic printing plate precursors |
| EP2963496B1 (en) | 2014-06-30 | 2017-04-05 | Agfa Graphics NV | A lithographic printing plate precursor including ( ethylene, vinyl acetal ) copolymers |
| ES2655798T3 (es) | 2014-12-08 | 2018-02-21 | Agfa Nv | Sistema para reducir los residuos de ablación |
| EP3130465B1 (en) | 2015-08-12 | 2020-05-13 | Agfa Nv | Heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| US9588429B1 (en) | 2015-09-03 | 2017-03-07 | Eastman Kodak Company | Lithographic developer composition and method of use |
| EP3170662B1 (en) | 2015-11-20 | 2019-08-14 | Agfa Nv | A lithographic printing plate precursor |
| AU2017235148A1 (en) | 2016-03-16 | 2018-07-12 | Agfa Nv | Method and apparatus for processing a lithographic printing plate |
| EP3239184A1 (en) | 2016-04-25 | 2017-11-01 | Agfa Graphics NV | Thermoplastic polymer particles and a lithographic printing plate precursor |
| EP3441223B1 (en) | 2017-08-07 | 2024-02-21 | Eco3 Bv | A lithographic printing plate precursor |
| CN111051981B (zh) | 2017-08-25 | 2024-04-09 | 富士胶片株式会社 | 负型平版印刷版原版及平版印刷版的制版方法 |
| EP3474073B1 (en) | 2017-10-17 | 2022-12-07 | Agfa Offset Bv | A method for making a printing plate |
| EP3637188A1 (en) | 2018-10-08 | 2020-04-15 | Agfa Nv | An effervescent developer precursor for processing a lithographic printing plate precursor |
| EP3650938A1 (en) | 2018-11-09 | 2020-05-13 | Agfa Nv | A lithographic printing plate precursor |
| EP3715140A1 (en) | 2019-03-29 | 2020-09-30 | Agfa Nv | A method of printing |
| EP3778253A1 (en) | 2019-08-13 | 2021-02-17 | Agfa Nv | Method for processing a lithographic printing plate |
| EP3922462B1 (en) | 2020-06-08 | 2023-03-01 | Agfa Offset Bv | Lithographic photopolymer printing plate precursor with improved daylight stability |
| US20240100820A1 (en) | 2020-12-16 | 2024-03-28 | Agfa Offset Bv | Lithographic Printing Press Make-Ready Method |
| EP4382306A1 (en) | 2022-12-08 | 2024-06-12 | Eco3 Bv | Lithographic printing press make-ready method |
Family Cites Families (137)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE510563A (cs) | 1949-07-23 | |||
| US3046121A (en) | 1949-07-23 | 1962-07-24 | Azoplate Corp | Process for the manufacture of printing plates and light-sensitive material suttablefor use therein |
| US3046119A (en) | 1950-08-01 | 1962-07-24 | Azoplate Corp | Light sensitive material for printing and process for making printing plates |
| BE506677A (cs) | 1950-10-31 | |||
| NL166823B (nl) | 1951-02-02 | Petroles Cie Francaise | Electrisch koppelingsorgaan voor koppeling onder water. | |
| US2767092A (en) | 1951-12-06 | 1956-10-16 | Azoplate Corp | Light sensitive material for lithographic printing |
| GB742557A (en) | 1952-10-01 | 1955-12-30 | Kalle & Co Ag | Light-sensitive material for photomechanical reproduction and process for the production of images |
| GB772517A (en) | 1954-02-06 | 1957-04-17 | Kalle & Co Ag | Improvements in or relating to photo-mechanical reproduction |
| BE540225A (cs) | 1954-08-20 | |||
| US2907665A (en) | 1956-12-17 | 1959-10-06 | Cons Electrodynamics Corp | Vitreous enamel |
| NL129161C (cs) | 1959-01-14 | |||
| NL130471C (cs) | 1959-08-05 | |||
| US3105465A (en) | 1960-05-31 | 1963-10-01 | Oliver O Peters | Hot water heater |
| US3460964A (en) * | 1964-11-19 | 1969-08-12 | Eastman Kodak Co | Heat-sensitive recording element and composition |
| NL6608712A (cs) * | 1966-06-23 | 1966-11-25 | ||
| US3635709A (en) | 1966-12-15 | 1972-01-18 | Polychrome Corp | Light-sensitive lithographic plate |
| GB1170495A (en) | 1967-03-31 | 1969-11-12 | Agfa Gevaert Nv | Radiation-Sensitive Recording Material |
| GB1231789A (cs) * | 1967-09-05 | 1971-05-12 | ||
| GB1245924A (en) | 1967-09-27 | 1971-09-15 | Agfa Gevaert | Improvements relating to thermo-recording |
| GB1260662A (en) * | 1968-03-27 | 1972-01-19 | Agfa Gevaert | Improvements relating to the sub-titling of processed photographic materials |
| US3837860A (en) | 1969-06-16 | 1974-09-24 | L Roos | PHOTOSENSITIVE MATERIALS COMPRISING POLYMERS HAVING RECURRING PENDENT o-QUINONE DIAZIDE GROUPS |
| US3647443A (en) | 1969-09-12 | 1972-03-07 | Eastman Kodak Co | Light-sensitive quinone diazide polymers and polymer compositions |
| JPS5024641B2 (cs) | 1972-10-17 | 1975-08-18 | ||
| US3891439A (en) | 1972-11-02 | 1975-06-24 | Polychrome Corp | Aqueous developing composition for lithographic diazo printing plates |
| JPS5536518B2 (cs) * | 1972-11-21 | 1980-09-20 | ||
| US3859099A (en) | 1972-12-22 | 1975-01-07 | Eastman Kodak Co | Positive plate incorporating diazoquinone |
| CA1085212A (en) | 1975-05-27 | 1980-09-09 | Ronald H. Engebrecht | Use of volatile carboxylic acids in improved photoresists containing quinone diazides |
| DE2529054C2 (de) | 1975-06-30 | 1982-04-29 | Ibm Deutschland Gmbh, 7000 Stuttgart | Verfahren zur Herstellung eines zur Vorlage negativen Resistbildes |
| DE2543820C2 (de) * | 1975-10-01 | 1984-10-31 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Verfahren zur Herstellung von Flachdruckformen mittels Laserstrahlen |
| DE2607207C2 (de) | 1976-02-23 | 1983-07-14 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Verfahren zur Herstellung von Flachdruckformen mit Laserstrahlen |
| US4486529A (en) | 1976-06-10 | 1984-12-04 | American Hoechst Corporation | Dialo printing plate made from laser |
| GB1603920A (en) | 1978-05-31 | 1981-12-02 | Vickers Ltd | Lithographic printing plates |
| JPS5560944A (en) | 1978-10-31 | 1980-05-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | Image forming method |
| US4308368A (en) | 1979-03-16 | 1981-12-29 | Daicel Chemical Industries Ltd. | Photosensitive compositions with reaction product of novolak co-condensate with o-quinone diazide |
| JPS561045A (en) | 1979-06-16 | 1981-01-08 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Photosensitive composition |
| JPS561044A (en) | 1979-06-16 | 1981-01-08 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Photosensitive composition |
| JPS569740A (en) | 1979-07-05 | 1981-01-31 | Fuji Photo Film Co Ltd | Image forming method |
| US4316952A (en) * | 1980-05-12 | 1982-02-23 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Energy sensitive element having crosslinkable polyester |
| GB2082339B (en) * | 1980-08-05 | 1985-06-12 | Horsell Graphic Ind Ltd | Lithographic printing plates and method for processing |
| US4529682A (en) | 1981-06-22 | 1985-07-16 | Philip A. Hunt Chemical Corporation | Positive photoresist composition with cresol-formaldehyde novolak resins |
| JPS58203433A (ja) | 1982-05-21 | 1983-11-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
| JPS58224351A (ja) | 1982-06-23 | 1983-12-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性印刷版 |
| US4609615A (en) | 1983-03-31 | 1986-09-02 | Oki Electric Industry Co., Ltd. | Process for forming pattern with negative resist using quinone diazide compound |
| DE3325023A1 (de) | 1983-07-11 | 1985-01-24 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Verfahren zur herstellung negativer kopien mittels eines materials auf basis von 1,2-chinondiaziden |
| US4708925A (en) * | 1984-12-11 | 1987-11-24 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photosolubilizable compositions containing novolac phenolic resin |
| US4693958A (en) | 1985-01-28 | 1987-09-15 | Lehigh University | Lithographic plates and production process therefor |
| DE3541534A1 (de) | 1985-11-25 | 1987-05-27 | Hoechst Ag | Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch |
| ZA872295B (cs) | 1986-03-13 | 1987-09-22 | ||
| US4684599A (en) | 1986-07-14 | 1987-08-04 | Eastman Kodak Company | Photoresist compositions containing quinone sensitizer |
| US4743528A (en) * | 1986-11-21 | 1988-05-10 | Eastman Kodak Company | Enhanced imaging composition containing an azinium activator |
| GB8700599D0 (en) * | 1987-01-12 | 1987-02-18 | Vickers Plc | Printing plate precursors |
| DE3716848A1 (de) | 1987-05-20 | 1988-12-01 | Hoechst Ag | Verfahren zur bebilderung lichtempfindlichen materials |
| EP0304313A3 (en) | 1987-08-21 | 1990-08-22 | Oki Electric Industry Company, Limited | Pattern forming material |
| US4973572A (en) * | 1987-12-21 | 1990-11-27 | Eastman Kodak Company | Infrared absorbing cyanine dyes for dye-donor element used in laser-induced thermal dye transfer |
| JPH01201654A (ja) | 1988-02-06 | 1989-08-14 | Nippon Oil Co Ltd | ポジ型フォトレジスト材料 |
| US4962147A (en) | 1988-05-26 | 1990-10-09 | Hoechst Celanese Corporation | Process for the suspension polymerization of 4-acetoxystyrene and hydrolysis to 4-hydroxystyrene polymers |
| DE3820001A1 (de) | 1988-06-11 | 1989-12-14 | Basf Ag | Optisches aufzeichnungsmedium |
| JPH0820734B2 (ja) * | 1988-08-11 | 1996-03-04 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物及びそれを用いた光重合性組成物 |
| US4877718A (en) | 1988-09-26 | 1989-10-31 | Rennsselaer Polytechnic Institute | Positive-working photosensitive polyimide operated by photo induced molecular weight changes |
| JP2547626B2 (ja) | 1988-10-07 | 1996-10-23 | 富士写真フイルム株式会社 | モノマーの製造方法 |
| EP0366590B2 (en) | 1988-10-28 | 2001-03-21 | International Business Machines Corporation | Highly sensitive positive photoresist compositions |
| DE68921146T2 (de) | 1988-11-11 | 1995-06-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | Lichtempfindliche Zusammensetzung. |
| JP2698789B2 (ja) * | 1988-11-11 | 1998-01-19 | 富士写真フイルム株式会社 | 熱転写受像材料 |
| JP2571115B2 (ja) | 1989-01-17 | 1997-01-16 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物の増感方法及び増感された感光性組成物 |
| JP2871710B2 (ja) | 1989-03-17 | 1999-03-17 | 株式会社きもと | 画像形成方法 |
| JPH02251962A (ja) | 1989-03-27 | 1990-10-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 微細パターン形成材料およびパターン形成方法 |
| JPH02299879A (ja) * | 1989-04-27 | 1990-12-12 | Ncr Corp | 感熱記録媒体 |
| US5200298A (en) | 1989-05-10 | 1993-04-06 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of forming images |
| DE69029104T2 (de) | 1989-07-12 | 1997-03-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | Polysiloxane und positiv arbeitende Resistmasse |
| EP0424182B1 (en) | 1989-10-19 | 1998-07-08 | Fujitsu Limited | Process for formation of resist patterns |
| GB9004337D0 (en) | 1990-02-27 | 1990-04-25 | Minnesota Mining & Mfg | Preparation and use of dyes |
| DE4013575C2 (de) | 1990-04-27 | 1994-08-11 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung negativer Reliefkopien |
| US5279918A (en) | 1990-05-02 | 1994-01-18 | Mitsubishi Kasei Corporation | Photoresist composition comprising a quinone diazide sulfonate of a novolac resin |
| JP2729850B2 (ja) | 1990-05-15 | 1998-03-18 | 富士写真フイルム株式会社 | 画像形成層 |
| JP2639853B2 (ja) | 1990-05-18 | 1997-08-13 | 富士写真フイルム株式会社 | 新規キノンジアジド化合物及びそれを含有する感光性組成物 |
| JP2645384B2 (ja) | 1990-05-21 | 1997-08-25 | 日本ペイント株式会社 | ポジ型感光性樹脂組成物 |
| US5145763A (en) | 1990-06-29 | 1992-09-08 | Ocg Microelectronic Materials, Inc. | Positive photoresist composition |
| JP3244288B2 (ja) * | 1990-07-23 | 2002-01-07 | 昭和電工株式会社 | 近赤外光消色型記録材料 |
| US5085972A (en) | 1990-11-26 | 1992-02-04 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Alkoxyalkyl ester solubility inhibitors for phenolic resins |
| JPH04359906A (ja) | 1991-06-07 | 1992-12-14 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ポリ(パラ−t−ブトキシカルボニルオキシスチレン)及びその製造方法 |
| CA2066895A1 (en) | 1991-06-17 | 1992-12-18 | Thomas P. Klun | Aqueous developable imaging systems |
| US5258257A (en) | 1991-09-23 | 1993-11-02 | Shipley Company Inc. | Radiation sensitive compositions comprising polymer having acid labile groups |
| US5437952A (en) | 1992-03-06 | 1995-08-01 | Konica Corporation | Lithographic photosensitive printing plate comprising a photoconductor and a naphtho-quinone diazide sulfonic acid ester of a phenol resin |
| US5368977A (en) | 1992-03-23 | 1994-11-29 | Nippon Oil Co. Ltd. | Positive type photosensitive quinone diazide phenolic resin composition |
| DE4321607A1 (de) | 1992-06-30 | 1994-01-05 | Kanzaki Paper Mfg Co Ltd | Aufzeichnungsmaterial |
| US5268245A (en) | 1992-07-09 | 1993-12-07 | Polaroid Corporation | Process for forming a filter on a solid state imager |
| US5351617A (en) | 1992-07-20 | 1994-10-04 | Presstek, Inc. | Method for laser-discharge imaging a printing plate |
| CA2091286A1 (en) | 1992-07-20 | 1994-01-21 | Macdermid, Inc. | Direct imaging process for forming resist pattern on a surface, and use thereof in fabricating printed boards |
| US5286612A (en) | 1992-10-23 | 1994-02-15 | Polaroid Corporation | Process for generation of free superacid and for imaging, and imaging medium for use therein |
| DE69406687T2 (de) | 1993-01-25 | 1998-05-14 | At & T Corp | Ein Verfahren zum gesteuerten Entschützen von Polymeren und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung welches diese zum Teil entschützten Polymere für Photoresiste benutzt |
| US5340699A (en) * | 1993-05-19 | 1994-08-23 | Eastman Kodak Company | Radiation-sensitive composition containing a resole resin and a novolac resin and use thereof in lithographic printing plates |
| DE69323546T2 (de) * | 1993-06-24 | 1999-08-26 | Agfa-Gevaert N.V. | Verbesserung der Lagerungsstabilität eines Diazo-Aufzeichnungselementes zur Herstellung einer Druckplatte |
| DE4426820A1 (de) | 1993-07-29 | 1995-02-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | Bilderzeugungsmaterial und Bilderzeugungsverfahren |
| GB9322705D0 (en) * | 1993-11-04 | 1993-12-22 | Minnesota Mining & Mfg | Lithographic printing plates |
| EP0672954B1 (en) * | 1994-03-14 | 1999-09-15 | Kodak Polychrome Graphics LLC | Radiation-sensitive composition containing a resole resin, a novolac resin, an infrared absorber and a triazine and use thereof in lithographic printing plates |
| JP3317574B2 (ja) | 1994-03-15 | 2002-08-26 | 富士写真フイルム株式会社 | ネガ型画像記録材料 |
| JP3461377B2 (ja) | 1994-04-18 | 2003-10-27 | 富士写真フイルム株式会社 | 画像記録材料 |
| US5441850A (en) | 1994-04-25 | 1995-08-15 | Polaroid Corporation | Imaging medium and process for producing an image |
| EP0691575B1 (en) | 1994-07-04 | 2002-03-20 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Positive photosensitive composition |
| WO1996002021A1 (en) | 1994-07-11 | 1996-01-25 | Konica Corporation | Original form for lithographic plate and process for preparing lithographic plate |
| US5466557A (en) * | 1994-08-29 | 1995-11-14 | Eastman Kodak Company | Radiation-sensitive composition containing a resole resin, a novolac resin, a latent bronsted acid, an infrared absorber and terephthalaldehyde and use thereof in lithographic printing plates |
| EP0706899A1 (en) | 1994-10-13 | 1996-04-17 | Agfa-Gevaert N.V. | Thermal imaging element |
| US5491046A (en) * | 1995-02-10 | 1996-02-13 | Eastman Kodak Company | Method of imaging a lithographic printing plate |
| US5658708A (en) | 1995-02-17 | 1997-08-19 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image recording material |
| JPH0962005A (ja) | 1995-06-14 | 1997-03-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | ネガ型感光性組成物 |
| GB9516694D0 (en) | 1995-08-15 | 1995-10-18 | Horsell Plc | Water-less lithographic plates |
| GB9516723D0 (en) * | 1995-08-15 | 1995-10-18 | Horsell Plc | Water-less lithographic plates |
| US5641608A (en) | 1995-10-23 | 1997-06-24 | Macdermid, Incorporated | Direct imaging process for forming resist pattern on a surface and use thereof in fabricating printing plates |
| JPH09120157A (ja) * | 1995-10-25 | 1997-05-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | 湿し水不要感光性平版印刷版 |
| US6132935A (en) | 1995-12-19 | 2000-10-17 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Negative-working image recording material |
| US5814431A (en) * | 1996-01-10 | 1998-09-29 | Mitsubishi Chemical Corporation | Photosensitive composition and lithographic printing plate |
| JP3589365B2 (ja) | 1996-02-02 | 2004-11-17 | 富士写真フイルム株式会社 | ポジ画像形成組成物 |
| EP0803771A1 (en) | 1996-04-23 | 1997-10-29 | Agfa-Gevaert N.V. | A method for making a lithopgrapic printing plate wherein an imaging element is used that comprises a thermosensitive mask |
| EP0819980B1 (en) | 1996-07-19 | 2000-05-31 | Agfa-Gevaert N.V. | An IR radiation-sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith |
| JP3814961B2 (ja) | 1996-08-06 | 2006-08-30 | 三菱化学株式会社 | ポジ型感光性印刷版 |
| US5705309A (en) | 1996-09-24 | 1998-01-06 | Eastman Kodak Company | Photosensitive composition and element containing polyazide and an infrared absorber in a photocrosslinkable binder |
| US5759742A (en) | 1996-09-25 | 1998-06-02 | Eastman Kodak Company | Photosensitive element having integral thermally bleachable mask and method of use |
| US6117610A (en) * | 1997-08-08 | 2000-09-12 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Infrared-sensitive diazonaphthoquinone imaging composition and element containing non-basic IR absorbing material and methods of use |
| US5705308A (en) | 1996-09-30 | 1998-01-06 | Eastman Kodak Company | Infrared-sensitive, negative-working diazonaphthoquinone imaging composition and element |
| US5705322A (en) | 1996-09-30 | 1998-01-06 | Eastman Kodak Company | Method of providing an image using a negative-working infrared photosensitive element |
| US5858626A (en) * | 1996-09-30 | 1999-01-12 | Kodak Polychrome Graphics | Method of forming a positive image through infrared exposure utilizing diazonaphthoquinone imaging composition |
| EP0839647B2 (en) | 1996-10-29 | 2014-01-22 | Agfa Graphics N.V. | Method for making a lithographic printing plate with improved ink-uptake |
| US6060222A (en) * | 1996-11-19 | 2000-05-09 | Kodak Polcyhrome Graphics Llc | 1Postitve-working imaging composition and element and method of forming positive image with a laser |
| DE69804876T2 (de) | 1997-01-24 | 2002-11-14 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Flachdruckplatte |
| DE69806986T2 (de) | 1997-03-11 | 2003-05-08 | Agfa-Gevaert, Mortsel | Verfahren zur Herstellung von positiv arbeitenden lithographischen Druckplatten |
| US6090532A (en) * | 1997-03-21 | 2000-07-18 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Positive-working infrared radiation sensitive composition and printing plate and imaging method |
| DE19712323A1 (de) | 1997-03-24 | 1998-10-01 | Agfa Gevaert Ag | Strahlungsempfindliches Gemisch und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial für Offsetdruckplatten |
| US6083662A (en) * | 1997-05-30 | 2000-07-04 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Methods of imaging and printing with a positive-working infrared radiation sensitive printing plate |
| JP3779444B2 (ja) | 1997-07-28 | 2006-05-31 | 富士写真フイルム株式会社 | 赤外線レーザ用ポジ型感光性組成物 |
| US6060217A (en) * | 1997-09-02 | 2000-05-09 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Thermal lithographic printing plates |
| US6060218A (en) * | 1997-10-08 | 2000-05-09 | Agfa-Gevaert, N.V. | Method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive image element |
| EP0908306B3 (en) | 1997-10-08 | 2009-08-05 | Agfa-Gevaert | A method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive imaging element |
| EP0913253B1 (en) * | 1997-10-28 | 2002-12-18 | Mitsubishi Chemical Corporation | Positive photosensitive composition, positive photosensitive lithographic printing plate and method for forming an image thereon |
| DE69925053T2 (de) * | 1998-02-04 | 2006-03-02 | Mitsubishi Chemical Corp. | Positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung, lichtempfindliche Druckplatte und Verfahren zur Herstellung eines positiven Bildes |
| US6251559B1 (en) * | 1999-08-03 | 2001-06-26 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Heat treatment method for obtaining imagable coatings and imagable coatings |
| US6300038B1 (en) * | 1999-11-19 | 2001-10-09 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Articles having imagable coatings |
| US6294311B1 (en) * | 1999-12-22 | 2001-09-25 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Lithographic printing plate having high chemical resistance |
-
1997
- 1997-04-22 CZ CZ19974008A patent/CZ292739B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1997-04-22 AT AT97919526T patent/ATE183136T1/de not_active IP Right Cessation
- 1997-04-22 CN CN97190751A patent/CN1078132C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1997-04-22 DE DE69714225T patent/DE69714225T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1997-04-22 RU RU98101117/12A patent/RU2153986C2/ru not_active IP Right Cessation
- 1997-04-22 AU AU23966/97A patent/AU707872B2/en not_active Ceased
- 1997-04-22 BR BR9702181-4A patent/BR9702181A/pt not_active IP Right Cessation
- 1997-04-22 CA CA002225567A patent/CA2225567C/en not_active Expired - Fee Related
- 1997-04-22 JP JP53785097A patent/JP3147908B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1997-04-22 EP EP97919526A patent/EP0825927B1/en not_active Revoked
- 1997-04-22 DE DE0825927T patent/DE825927T1/de active Pending
- 1997-04-22 ES ES98203153T patent/ES2181120T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1997-04-22 PL PL97324248A patent/PL324248A1/xx unknown
- 1997-04-22 DE DE29724584U patent/DE29724584U1/de not_active Expired - Lifetime
- 1997-04-22 EP EP98203153A patent/EP0887182B1/en not_active Revoked
- 1997-04-22 AT AT98203153T patent/ATE220991T1/de active
- 1997-04-22 IL IL12231897A patent/IL122318A/xx not_active IP Right Cessation
- 1997-04-22 DE DE69700397T patent/DE69700397T2/de not_active Revoked
- 1997-04-22 ES ES97919526T patent/ES2114521T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1997-04-22 WO PCT/GB1997/001117 patent/WO1997039894A1/en not_active Ceased
- 1997-12-19 NO NO976002A patent/NO976002L/no not_active Application Discontinuation
-
2000
- 2000-01-18 US US09/483,990 patent/US6280899B1/en not_active Expired - Lifetime
-
2001
- 2001-05-18 US US09/860,943 patent/US6485890B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2153986C2 (ru) | Термочувствительная композиция и способ ее применения для изготовления литографической печатной формы | |
| EP0969966B1 (en) | Positive-working infrared radiation sensitive composition and printing plate and imaging method | |
| US6461795B1 (en) | Manufacture of lithographic printing forms | |
| JP3814961B2 (ja) | ポジ型感光性印刷版 | |
| CN1954007B (zh) | 热反应性红外吸收聚合物及其在热敏平版印刷版中的用途 | |
| US6083662A (en) | Methods of imaging and printing with a positive-working infrared radiation sensitive printing plate | |
| BE1011389A5 (fr) | Composition et element formateurs d'image a effet positif et procede de formation d'une image positive par laser. | |
| WO2001045958A2 (en) | Thermally imageable element and lithographic printing plate | |
| US6063544A (en) | Positive-working printing plate and method of providing a positive image therefrom using laser imaging | |
| EP1101608B1 (en) | Articles having imageable coatings | |
| JP3731356B2 (ja) | ポジ型感光性組成物、感光性平版印刷版及びポジ画像の形成方法 | |
| JP2003536095A (ja) | ポリマーならびにその画像形成可能な製品および画像形成方法における使用 | |
| US20030113654A1 (en) | Imaging element comprising a thermally activated crosslinking agent | |
| JPH11212252A (ja) | 平版印刷版 | |
| US6352814B1 (en) | Method of forming a desired pattern | |
| JPH10186649A (ja) | 赤外感光性画像形成組成物、要素及び方法 | |
| US6265136B1 (en) | Lithographic plate precursor | |
| US6843176B2 (en) | Method to remove unwanted, unexposed, radiation-sensitive layer in a lithographic printing plate | |
| KR100277346B1 (ko) | 열-감지조성물 및 이를 이용하여석판인쇄인화형을표시하는 방법 | |
| JPH10239794A (ja) | 発色画像形成材料 | |
| MX2007005556A (es) | Polìmeros que absorben en el infrarrojo tèrmicamente reactivos y su uso en una plancha de impresiòn litogràfica sensible al calor. |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PD00 | Pending as of 2000-06-30 in czech republic | ||
| MM4A | Patent lapsed due to non-payment of fee |
Effective date: 20050422 |