CH638339A5 - Scheibe fuer eine anodenbaueinheit in einer roentgenroehre. - Google Patents
Scheibe fuer eine anodenbaueinheit in einer roentgenroehre. Download PDFInfo
- Publication number
- CH638339A5 CH638339A5 CH405178A CH405178A CH638339A5 CH 638339 A5 CH638339 A5 CH 638339A5 CH 405178 A CH405178 A CH 405178A CH 405178 A CH405178 A CH 405178A CH 638339 A5 CH638339 A5 CH 638339A5
- Authority
- CH
- Switzerland
- Prior art keywords
- substrate
- anode
- metal layer
- platinum
- anode target
- Prior art date
Links
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 41
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 36
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 claims description 26
- 239000010439 graphite Substances 0.000 claims description 26
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 23
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 22
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 15
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 12
- 229910000691 Re alloy Inorganic materials 0.000 claims description 4
- DECCZIUVGMLHKQ-UHFFFAOYSA-N rhenium tungsten Chemical compound [W].[Re] DECCZIUVGMLHKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910000599 Cr alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000788 chromium alloy Substances 0.000 claims description 3
- MMAADVOQRITKKL-UHFFFAOYSA-N chromium platinum Chemical compound [Cr].[Pt] MMAADVOQRITKKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 43
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 19
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 5
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 5
- WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N rhenium atom Chemical compound [Re] WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 4
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001260 Pt alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 description 3
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 3
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 3
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 3
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910001080 W alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSVGQVZAZSZEEX-UHFFFAOYSA-N [C].[Pt] Chemical compound [C].[Pt] DSVGQVZAZSZEEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005275 alloying Methods 0.000 description 1
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 1
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000004320 controlled atmosphere Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 230000002028 premature Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N tungsten carbide Chemical compound [W+]#[C-] UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/02—Details
- H01J35/04—Electrodes ; Mutual position thereof; Constructional adaptations therefor
- H01J35/08—Anodes; Anti cathodes
- H01J35/10—Rotary anodes; Arrangements for rotating anodes; Cooling rotary anodes
- H01J35/108—Substrates for and bonding of emissive target, e.g. composite structures
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2235/00—X-ray tubes
- H01J2235/08—Targets (anodes) and X-ray converters
- H01J2235/083—Bonding or fixing with the support or substrate
- H01J2235/084—Target-substrate interlayers or structures, e.g. to control or prevent diffusion or improve adhesion
Landscapes
- X-Ray Techniques (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Ceramic Products (AREA)
Description
Die Erfindung bezieht sich auf eine Anodenbaueinheit in einer Röntgenröhre mit rotierender Anode, mit einem Graphitsubstrat mit zwei entgegengesetzten Hauptoberflächen, • welche die innere bzw. äussere Oberfläche des Substrates bilden, wobei das Substrat einen Innen- und eine Aussenteil auf- 40 weist, ein Anodentarget, das an einem vorbestimmten Oberflächenbereich der äusseren Oberfläche des Aussenteiles des Substrats befestigt ist, wobei das Material des Anodentargets Wolfram oder eine Wolframrheniumlegierung ist.
Die Langlebigkeit und Wirksamkeit von Röntgenröhren 45 mit rotierender Anode kann durch Verwendung von Anodenscheiben verbessert werden, die eine grosse Wärmeaufnahmekapazität sowie die Eigenschaft haben, die Wärme rasch abzuleiten. Graphit weist eine aussergewöhnlich hohe Wärmekapazität verglichen mit Molybdän und Wolfram, den anderen zum 50 Herstellen des Substrates der Scheibe benutzten Materialien, auf. Bei 1000 °C beträgt die Wärmekapazität in relativen Einheiten für Graphit zu Molybdän 48:7,4 und Graphit zu Wolfram 48:4,1. Das Strahlungsverhältnis bei 1000 °C beträgt in beiden Fällen 0,85:0,15. Die Schwierigkeit beim Verwenden .55 von Graphit als Substratmaterial besteht jedoch in der Verbindung des Anodentargets mit dem Graphitsubstrat.
Bei bekannten Anodenbaueinheiten mit einem Graphitsubstrat sind Zirkonium oder Hafnium als geeignetes Material zum Verbinden des Anodentargets mit dem Graphitsubstrat 60 vorgeschlagen. Diese beiden Materialien sind jedoch Carbid-bildner und erfordern die Lösung des Problems, die Carbidbil-dung sowohl bei der Verbindung von Target mit Substrat als auch während der Gebrauchsdauer der Anode, die üblicherweise mindestens 10000 Bestrahlungen beträgt, möglichst 65 gering zu halten. Während der Lebensdauer wird die Anodenbaueinheit Temperaturzyklen bis zu 1200 °C ausgesetzt, und dabei ist eine fortgesetzte Carbidbildung möglich. Die mechanischen Eigenschaften einer in einer solchen Anodenbaueinheit gebildeten Carbidschicht können den Einsatz der Anodenbaueinheit in Röntgenröhren mit rotierender Anode, die einem thermischen Zyklus mit grosser Amplitude ausgesetzt sind, ausschliessen.
Rhenium ist ebenfalls als Material zum Verbinden des Anodentargets mit einem Graphitsubstrat benutzt worden. Rhenium bildet bei der Verbindungstemperatur oder der Betriebstemperatur der Röntgenröhre kein Carbid. Die Löslichkeit des Kohlenstoffes in Rhenium ist jedoch relativ hoch und gestattet die Diffusion des Kohlenstoffes durch das Rhenium und in das Material des Anodentargets. Durch die Bildung von Wolframcarbid kann das Material des Anodentargets brüchig werden. Die Betriebsdauer und Wirksamkeit einer solchen Anode ist daher etwa die gleiche oder eine geringere als die derzeit vollkommen aus Metall bestehende Anodenbaueinheit.
Die erfindungsgemässe Scheibe für eine Anodenbaueinheit in einer Röntgenröhre mit rotierender Anode ist im Patentanspruch 1 definiert.
Die Erfindung wird beispielsweise im folgenden unter Bezugnahme auf die Zeichnung näher erläutert. Im einzelnen zeigen :
Fig. 1 eine Seitenansicht im Schnitt einer Anodenbaueinheit und
Fig. 2 ein Fliessdiagramm verschiedener Verfahren zum Verbinden eines Anodentargets mit einem Substrat.
In Figur 1 ist eine Anodenbaueinheit 10 gezeigt, die brauchbar ist zum Einsatz in einer Röntgenröhre mit rotierender Anode. Die Anodenbaueinheit 10 schliesst eine Scheibe 12 ein, die mit einem Fuss 14 auf geeignete Weise verbunden ist, z.B. durch Löten, Schweissen oder dergleichen. Die Scheibe 12 umfasst ein Graphitsubstrat 15, das einen zentralen Teil 16 und einen einstückig damit ausgebildeten äusseren Teil 18 umfasst. Das Substrat 15 weist zwei entgegengesetzte Hauptoberflächen 20 und 22 auf, die die innere bzw. äussere Oberfläche des Substrates bilden. An einem ausgewählten Oberflächenbereich der äusseren Oberfläche 22 des äusseren Teiles 18 des Substrates 15 ist mittels einer Metallschicht 26 ein Anodentarget 24 befestigt.
Das Material des Anodentargets 24 ist entweder Wolfram oder eine Wolframrheniumlegierung. Der Rheniumgehalt kann von 1 bis 25 Gew.-% variieren, beträgt jedoch typischerweise 3 bis 10 Gew.-%.
Das Material für die Metallschicht 26 ist kein Carbidbild-ner. Weiter sollte es keine Löslichkeit für den Kohlenstoff im Bereich der Betriebstemperaturen, die in der Grössenordnung von etwa 1000 bis etwa 1300 °C liegen, aufweisen. Eine partielle Löslichkeit des Kohlenstoffes in dem Material der Metallschicht 26 bei sehr viel höheren Temperaturen, d.h. bei der Temperatur, die zum Verbinden des Targets 24 mit dem Substrat 15 angewandt wird, ist zulässig. Eine Löslichkeit von 1 bis 4 Atomprozent Kohlenstoff in dem Material der Metallschicht 26 sollte auch eine gewisse Löslichkeit in Wolfram oder der Wolframlegierung für das Target 24 haben.
Geeignete Materialien für die Metallschicht 26 sind Platin, Palladium, Rhodium, Osmium und Ruthenium. Alle diese Materialien sind keine Carbidbildner. Darüber hinaus ist jedes dieser Materialien in Wolfram und der Wolframlegierung des Targets 24 löslich und weist eine geringe Löslichkeit für Kohlenstoff auf. Bei der maximalen Betriebstemperatur von etwa 1300 °C für die rotierende Anode in einer Röntgenröhre ist die Löslichkeit des Kohlenstoffes praktisch gleich Null in den vorgenannten Materialien für die Metallschicht. Platin, Palladium, Rhodium, Osmium und Ruthenium bilden mit Kohlenstoff jeweils ein einfaches eutektisches System. Für kommerzielle Anwendungen sind jedoch Platin und Palladium die einzig praktisch anwendbaren Materialien für die Metallschicht
3
638 339
26. Rhodium, Osmium und Ruthenium, obwohl sie eine höhere Löttemperatur als Platin und Palladium haben, sind derzeit zu teuer, um sie als Hauptmaterial in der Metallschicht 26 anzuwenden.
Palladium ist geeignet als Material für die Metallschicht 5 26, da es eine minimale Verbindungs- bzw. eine eutektische Temperatur mit Kohlenstoff von 1504 °C und praktisch keine Löslichkeit für Kohlenstoff bei Temperaturen unterhalb von 1300 °C aufweist. Unter Verwendung von Palladium sind ausgezeichnete Bindungen zwischen dem Anodentarget 24 und 10 dem Substrat 15 erhalten worden. Da jedoch die maximale Betriebstemperatur der Anodenbaueinheit 10 etwa 1300 °C beträgt, bleibt nur eine Sicherheitstemperaturgrenze von 200 °C. Die Zuverlässigkeit der Anodenbaueinheit 10 bei Verwendung von Palladium für die Metallschicht 26 ist daher is geringer, als wenn Platin dafür eingesetzt wird.
Das derzeit für die Metallschicht 26 bevorzugte Material ist Platin. Die Temperatur zum Verbinden des Anodentargets 24 mit dem Graphitsubstrat 15 bei Verwendung von Platin beträgt etwa 1800 °C. Die minimale Verbindungstemperatur 20 bzw. die eutektische Temperatur des Platinkohlenstoffsystems beträgt 1705 °C. Dies ergibt eine grössere Sicherheitsgrenze von 400 "C für den Betrieb der Röntgenröhre. Unterhalb von 1500 °C weist die Platinmetallschicht 26 keine Löslichkeit für Kohlenstoff auf. Die Metallschicht 26 aus Platin stellt daher 25 eine ausgezeichnete Sperre gegen die Kohlenstoffdiffusion in das Anodentarget 24 bei den Betriebstemperaturen von etwa 1000 bis etwa 1300 °C dar.
An Stelle von Platin können auch Platinlegierungen eingesetzt werden. Die Platinlegierungen dürfen jedoch nicht hohe 30 Konzentrationen von Elementen enthalten, die zu einer Car-bidbildung bei der Betriebstemperatur oder einer zu grossen Kohlenstoffdiffusion im Betriebstemperaturbereich der Röntgenröhre Anlass geben. Obwohl Chrom ein Carbidbildner ist, kann es in einer Menge bis zu 1 Gew.-% als Legierungselement35 zum Platin hinzugesetzt werden.
Zur Herstellung der Metallschicht 26 aus Platin oder einer Platinlegierung können verschiedene Verfahren angewendet werden. Nach einem Verfahren plattiert man den Graphit.
Hierzu wird vorzugsweise ein elektrochemisches Plattieren 40 angewandt. Die plattierte Schicht weist vorzugsweise eine Dicke von 0,006 bis etwa 0,025 mm auf. Das Platin kann aber auch durch Zerstäuben auf den Graphit aufgebracht werden. Nach dem Aufbringen des Platins erfolgt eine Wärmebehandlung des plattierten Graphits für etwa 3 Stunden bei 1200 ± « 20 °C im Vacuum, um den plattierten Graphit zu entgasen.
Die Metallschicht 26 kann auch in Form einer Folie aus Platin oder einer Platinchromlegierung aufgebracht werden. Die Dicke der Folie hängt allein von der Notwendigkeit ab,
eine gute Verbindung sicherzustellen. Die Folie weist eine 50 Dicke von mindestens etwa 0,012 mm auf. Bei einer geringeren Dicke kann eine unvollständige Verbindung stattfinden, da aufgrund der Unregelmässigkeiten auf jeder Oberfläche kein inniger Kontakt zwischen dem Anodentarget 24 und dem Graphitsubstrat 15 vorhanden gewesen sein könnte. Vorzugsweise 55 weist die Folie eine Dicke von etwa 0,025 mm auf, um sicherzustellen, dass eine zuverlässige Verbindung durch die Metallschicht 26 hergestellt ist.
Die Anodenbaueinheit 10 kann in verschiedener Weise hergestellt werden. Nach einem Verfahren wird das Anoden- &o target 24 auf dem plattierten Graphitsubstrat 15 angeordnet und bei einer Temperatur von etwa 1800 °C mit diesem verbunden. Bei einem zweiten Verfahren setzt man erst eine Sandwichstruktur aus Graphitsubstrat 15, einer Folie aus Platin oder einer Platinchromlegierung und dem Anodentarget 24 65 zusammen und verbindet das Ganze dann bei etwa 1800 °C.
Ein bevorzugtes Verfahren zum Verbinden des Anodentargets 24 aus Wolfram oder Wolframrheniumlegierung mit dem
Graphitsubstrat schliesst das Herstellen einer Sandwichkonfiguration aus platinplattiertem Graphitsubstrat, einer Folie und dem Anodentarget 24 ein. Die Folie wird auf der plattierten Oberfläche des Graphitsubstrates 15 angeordnet, und auf der Folie ordnet man dann das Anodentarget an. Die Bestandteile dieser Sandwichstruktur werden in geeigneter Weise zusammengehalten, so dass sich die miteinander zu verbindenden Oberflächen in engem Kontakt miteinander befinden.
So zusammengesetzt werden die Komponenten der Sandwichstruktur in einem Ofen mit einer kontrollierten Atmosphäre angeordnet. Die bevorzugte Atmosphäre ist Wasserstoff. Der Wasserstoff unterstützt das Benetzen der zu verbindenden Oberflächen durch Platin. Weiter wirkt der Wasserstoff als Reduktionsmittel für auf den zu verbindenden Oberflächen vorhandene Oxide.
Die zusammengesetzten Bestandteile der Sandwichstruktur werden anfänglich im kältesten Teil des Ofens angeordnet und für eine Dauer von bis zu 30 Minuten vorerhitzt, um das Ganze zu akklimatisieren. Eine Minimalzeit von 10 Minuten ist erwünscht. Nach dem Vorerhitzen bewegt man die Bestandteile der Sandwichstruktur in einem Teil des Ofens, in dem die Temperatur etwa 1800 ± 30 °C beträgt. In diesem Bereich hält man die Bestandteile für eine Zeit, die ausreicht, die Bestandteile durch Verlöten unter Bildung der Metallschicht 26 miteinander zu verbinden. Hierfür hat sich diese Zeit von bis zu 10 Minuten als ausreichend erwiesen, wobei etwa 3 Minuten bevorzugt sind. Nach dem Verlöten wird die Sandwichstruktur nun als Scheibe 12 in eine Abkühlzone des Ofens bewegt, wo sie eine ausreichende Zeit verbleibt, damit sich die Bestandteile abkühlen und die Schmelze unter Bildung der Metallschicht 26 erstarren kann. Eine Zeit von etwa einer Stunde hat sich als ausreichend erwiesen, um die Scheibe ausreichend von einer Temperatur von etwa 1000 °C in der Abkühlzone abzukühlen, um die Scheibe anschliessend aus dem Ofen herausnehmen zu können.
Bei einem Beispiel wurde eine 0,025 mm dicke Platinschicht durch elektrochemische Abscheidung auf der Oberfläche eines Graphitblockes mit einer Dicke von etwa 2,5 cm niedergeschlagen. Das plattierte Substrat entgaste man 3 Stunden lang bei 1200 ± 20 °C. Dann stellte man ein Anodentarget aus Wolfram her und polierte die eine Oberfläche davon metallographisch mit einem Schleifpapier mit Teilchen von etwa 20 p. Durchmesser (entsprechend 600 grit paper). Aus einer Platinfolie stellte man ein etwa 0,025 mm dickes Stück her.
Aus diesen Bestandteilen setzte man eine Sandwichstruktur zusammen. Hierfür wurde die Platinfolie auf der platinplattierten Oberfläche des Graphitsubstrates angeordnet, während das Anodentarget mit der polierten Oberfläche in Berührung mit der Platinfolie gebracht wurde. Die so zusammengebauten Bestandteile wurden fest miteinander verklemmt, in einem Molybdäntiegel angeordnet und in das kälteste Ende eines Wasserstoffatmosphäre enthaltenden Rohrofens eingeschoben. Man Hess die Bestandteile sich für 10 Minuten akklimatisieren und bewegte sie dann in den heissesten Teil des Rohrofens, in dem die Temperatur mit einem optischen Pyrometer zu 1800 ± 30 °C gemessen wurde. In diesem heissen Bereich verblieb die Struktur für 3 Minuten, um die Bestandteile miteinander zu verlöten. Dann bewegte man die verbundenen Bestandteile in eine kühlere Zone des Ofens mit einer Temperatur von 1000 ± 20 °C und Hess sie dann von dieser Temperatur weitere 45 Minuten lang im Ofen abkühlen, bevor man sie herausnahm.
Nach dem Herausnehmen aus dem Ofen wurden die verlöteten Bestandteile visuell untersucht. Die Lötverbindung erschien in Ordnung. Dann verschnitt man die verlötete Baueinheit und untersuchte die Wolfram/Platin/Kohlenstoff-Grenzflächen. Die Lötverbindung erwies sich als durch und durch in Ordnung. Man unterwarf verschiedene Abschnitte
638 339
4
Biegebelastungen, bis ein Bruch auftrat. Alle Brüche ereigneten sich im Wolframanodentarget oder im Graphitsubstrat, nie jedoch in der Platin/Wolfram- oder der Platin/Graphit-Grenzfläche.
Mit der erfindungsgemässen Scheibe kann man radiographische Techniken benutzen, die höhere Energieabgaben für kurze oder längere Zeiten erfordern, ohne dass man ein vorzeitiges Versagen während des Gebrauches befürchten muss, wie dies bei den bekannten Scheiben der Fall ist. Dadurch, dass die neue Scheibe höhere Ausgangsleistungen aushält, kann s man Patienten während des Röntgens für eine kürzere Zeit bestrahlen.
G
2 Blatt Zeichnungen
Claims (4)
- 638 3392PATENTANSPRÜCHE1. Scheibe für eine Anodenbaueinheit in einer Röntgenröhre mit rotierender Anode, mit einem Graphitsubstrat mit zwei entgegengesetzten Hauptoberflächen, welche die innere bzw. äussere Oberfläche des Substrates bilden, wobei das Sub- s strat einen Innen- und einen Aussenteil aufweist, ein Anodentarget, das an einem vorbestimmten Oberflächenbereich der äusseren Oberfläche des Aussenteils des Substrates befestigt ist, wobei das Material des Anodentargets Wolfram oder eine Wolframrheniumlegierung ist, dadurch gekennzeichnet, dass 10 sie eine Metallschicht aufweist, welche das Anodentarget mit dem vorbestimmten Oberflächenbereich der äusseren Oberfläche des Aussenteils des Substrates verbindet, wobei die Metallschicht aus einem Material besteht, in welchem Kohlenstoff im Temperaturbereich zwischen 1000 und 1300 °C nicht is löslich ist, wobei jedoch bei der zum Verbinden des Anodentargets mit dem Substrat erforderlichen höheren Temperatur eine Löslichkeit des Kohlenstoffs in diesem Material zwischen1 und 4 Atomprozent vorliegt.
- 2. Scheibe nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass20 die Platinchromlegierung für die Metallschicht bis zu einem Gewichtsprozent Chrom enthält.
- 3. Scheibe nach Anspruch I oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass das Substrat eine schalenförmige Konfiguration aufweist, wobei der einstückig ausgebildete Aussenteil den sich 25 nach oben erstreckenden Teil der Schale ausmacht und die innere Oberfläche des Substrates die innere Oberfläche der Schale bildet.
- 4. Scheibe nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Metallschicht eine Dicke von etwa 3o 0,025 mm aufweist.35
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US05/788,130 US4119879A (en) | 1977-04-18 | 1977-04-18 | Graphite disc assembly for a rotating x-ray anode tube |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CH638339A5 true CH638339A5 (de) | 1983-09-15 |
Family
ID=25143531
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CH405178A CH638339A5 (de) | 1977-04-18 | 1978-04-14 | Scheibe fuer eine anodenbaueinheit in einer roentgenroehre. |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4119879A (de) |
| JP (1) | JPS53144289A (de) |
| AT (1) | AT387104B (de) |
| CH (1) | CH638339A5 (de) |
| DE (1) | DE2816116C2 (de) |
| FR (1) | FR2388401A1 (de) |
| GB (1) | GB1602624A (de) |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| USH547H (en) | 1986-11-13 | 1988-11-01 | General Electric Company | X-ray tube target |
| US4168449A (en) * | 1976-10-29 | 1979-09-18 | Tokyo Shibaura Electric Co., Ltd. | Rotary anode for X-ray tube and a method for manufacturing the same |
| US4145632A (en) * | 1977-04-18 | 1979-03-20 | General Electric Company | Composite substrate for rotating x-ray anode tube |
| JPS5480097A (en) * | 1977-12-09 | 1979-06-26 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Soft x-ray tube anti-cathode and its manufacture |
| EP0037956B1 (de) * | 1980-04-11 | 1984-02-15 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Eine Drehanode für eine Röntgenstrahlröhre und Verfahren zu ihrer Herstellung |
| DE3226858A1 (de) * | 1982-07-17 | 1984-01-19 | Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg | Drehanoden-roentgenroehre |
| FR2535344A1 (fr) * | 1982-10-29 | 1984-05-04 | Thomson Csf | Procede de depot selectif d'une couche de metal refractaire sur une piece en graphite |
| US4597095A (en) * | 1984-04-25 | 1986-06-24 | General Electric Company | Composite structure for rotating anode of an X-ray tube |
| US4802196A (en) * | 1986-12-31 | 1989-01-31 | General Electric Company | X-ray tube target |
| JPH01109647A (ja) * | 1987-10-22 | 1989-04-26 | Tokyo Tungsten Co Ltd | Ｘ線管用回転陽極とその製造方法 |
| US5008918A (en) * | 1989-11-13 | 1991-04-16 | General Electric Company | Bonding materials and process for anode target in an x-ray tube |
| US5495979A (en) * | 1994-06-01 | 1996-03-05 | Surmet Corporation | Metal-bonded, carbon fiber-reinforced composites |
| US7041384B2 (en) * | 2004-03-10 | 2006-05-09 | Honeywell International, Inc. | High bond strength interlayer for rhenium hot gas erosion protective coatings |
| WO2009022292A2 (en) | 2007-08-16 | 2009-02-19 | Philips Intellectual Property & Standards Gmbh | Hybrid design of an anode disk structure for high power x-ray tube configurations of the rotary-anode type |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2482053A (en) * | 1945-11-13 | 1949-09-13 | Gen Electric X Ray Corp | Anode construction |
| US3122424A (en) * | 1961-12-13 | 1964-02-25 | King L D Percival | Graphite bonding method |
| AT281215B (de) * | 1968-04-03 | 1970-05-11 | Plansee Metallwerk | Drehanode für Röntgenröhren |
| AT278983B (de) * | 1968-08-12 | 1970-02-25 | Plansee Metallwerk | Verfahren zur Herstellung von Drehanoden für Röntgenröhren |
| AT284978B (de) * | 1968-12-02 | 1970-10-12 | Plansee Metallwerk | Anode für Röntgenröhren |
| AT289967B (de) * | 1969-07-24 | 1971-05-10 | Plansee Metallwerk | Anode für Röntgenröhren |
| AT331364B (de) * | 1971-04-01 | 1976-08-25 | Philips Nv | Verfahren zur herstellung einer drehanode fur rontgenrohren |
| FR2166625A5 (de) * | 1971-12-31 | 1973-08-17 | Thomson Csf | |
| JPS5412200B2 (de) * | 1973-11-12 | 1979-05-21 |
-
1977
- 1977-04-18 US US05/788,130 patent/US4119879A/en not_active Ceased
-
1978
- 1978-03-07 GB GB8943/78A patent/GB1602624A/en not_active Expired
- 1978-04-14 CH CH405178A patent/CH638339A5/de not_active IP Right Cessation
- 1978-04-14 DE DE2816116A patent/DE2816116C2/de not_active Expired
- 1978-04-17 AT AT0268378A patent/AT387104B/de not_active IP Right Cessation
- 1978-04-17 FR FR7811191A patent/FR2388401A1/fr active Granted
- 1978-04-18 JP JP4488478A patent/JPS53144289A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6258105B2 (de) | 1987-12-04 |
| US4119879A (en) | 1978-10-10 |
| GB1602624A (en) | 1981-11-11 |
| ATA268378A (de) | 1980-07-15 |
| DE2816116C2 (de) | 1986-11-20 |
| AT387104B (de) | 1988-12-12 |
| JPS53144289A (en) | 1978-12-15 |
| FR2388401B1 (de) | 1983-05-06 |
| DE2816116A1 (de) | 1978-10-26 |
| FR2388401A1 (fr) | 1978-11-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CH636478A5 (de) | Rotierende anode fuer eine roentgenroehre. | |
| DE2816120C2 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Drehanode für eine Drehanoden-Röntgenröhre | |
| DE2816116C2 (de) | Drehanode für Röntgenröhren mit einem Graphitsubstrat | |
| DE69212365T2 (de) | Verbundene Teile von Ni-Ti-Legierugen mit verschiedenen Metallen und Verbindungsverfahren dafür | |
| DE69627638T2 (de) | Optisches fenster und verfahren zu dessen herstellung | |
| DE60119695T2 (de) | Verfahren zur herstellung einer verbindung zwischen kupfer und rostfreiem stahl | |
| AT389832B (de) | Loetverbindung | |
| AT393651B (de) | Hochtemperaturbestaendiger verbundkoerper | |
| DE112018001873T5 (de) | Doppelverglasung und verfahren zum herstellen dieser | |
| EP0284818A1 (de) | Verfahren zum Herstellen eines Schichtverbunds sowie Vorrichtung zur Durchführung eines Verfahrens | |
| WO1995007869A1 (de) | Thermisch hoch belastbares bauteil | |
| DE2816119A1 (de) | Traegheitsschweissverfahren zum herstellen einer anodenbaueinheit | |
| DE69913998T2 (de) | Durch heissisostatisches Pressen verbundener Körper und dessen Herstellungsverfahren | |
| CH403450A (de) | Verfahren zur Herstellung einer duktilen Diffusionslötverbindung | |
| DE69209139T2 (de) | Drehanoden-Röntgenröhre und Herstellungsmethode dafür | |
| DE3626470A1 (de) | Verfahren zum herstellen einer titanplattierten stahlplatte durch heisswalzen | |
| DE2725914C2 (de) | Solarkollektor | |
| DE69834298T2 (de) | Verbundwerkstoff aus beryllium, kupferlegierung und rostfreier stahl und verfahren zum verbinden | |
| DE2747087C2 (de) | Elektrischer Kontakt und Verfahren zu dessen Herstellung | |
| DE7112589U (de) | Elektronenauftreffteil (Target), befestigt auf einem Träger aus Graphit für eine Drehanode einer Röntgenröhre | |
| DE2743119A1 (de) | Roentgenroehre fuer feinstrukturuntersuchung | |
| DE3013441A1 (de) | Anodenteller fuer eine drehanoden-roentgenroehre und verfahren zu seiner herstellung | |
| DE2748566C3 (de) | Drehanode für eine Röntgenröhre und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
| DE2001124A1 (de) | Selbstreinigendes Kochgeraet | |
| DE2849606A1 (de) | Basismetallplattenmaterial fuer direkt erhitzte oxidkathoden |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PL | Patent ceased | ||
| PL | Patent ceased |