CH674809A5 - - Google Patents
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Description
1
CH 674 809 A5
2
Beschreibung
Die Erfindung betrifft einen Sublimator für eine Vakuumanlage, welcher an eine Vakuumkammer an-schliessbar ist, insbesondere zur Aufbereitung von Schichten und als Vakuumanlage zur Oberflächenbehandlung mittels lonenbindungen.
In der Gegenwart ist der Gebrauch von flüchtigen und sublimierenden Stoffen bei direkter Be-schichtung im Vakuum bzw. bei der Oberflächenbehandlung von Feststoffen mit lonenbindung relativ wenig verbreitet. Bei Verwendung von flüchtigen Stoffen zur Beschichtung im Vakuum werden Anlagen gebraucht, bei denen der Stoff aus einem Reservoir mit einem flüchtigen oder sublimierenden Stoff von einem sogenannten Trägergas getragen und über ein Einlassventil in eine Vakuumkammer eingelassen wird.
Ein Nachteil dieses Verfahrens liegt darin, dass zusammen mit dem flüchtigen oder sublimierenden Stoff auch das Trägergas in die Vakuumkammer gelangt, das in den meisten Fällen für die Herstellung der Schichten nicht nötig ist und manchmal die vorbereiteten Schichten und auch die Vakuumkammer verschmutzt. In den Fällen, dass man zur Vorbereitung der Schichten solche Stoffe verwendet, die bereits bei kleiner Temperatur einen hohen Druck von Sattdämpfen erreichen, handelt es sich vor allem um organometallische Stoffe und Metallkar-bonyle. Diese werden meistens direkt in die Verdampfer der Vakuumkammern eingelegt. In solchen Fällen entsteht eine Verdampfung der Stoffe schon während des Pumpens der Vakuumkammer, wodurch die Oberfläche des Untersatzes und die Vakuumkammer wieder verschmutzt werden, und zwar bereits vor dem Beginn des technologischen Prozesses.
Die obengenannten Nachteile werden erfindungs-gemäss mit einem Sublimator nach dem kennzeichnenden Teil des Patentanspruchs 1 beseitigt.
Der Sublimator (einzige Figur) nach der Erfindung funktioniert folgendermassen: Bei geschlossenem Vakuum-Drosselventil 4 ist unabhängig von der Vakuumkammer 1 ein Nachfüllen oder ein Stoffwechsel in der Sublimatquelle 5 möglich. Die Sublimationskammer 3 wird dann mit dem Vakuum-Pumpensystem 7 über das Ventil 6 entleert, so dass sie einen Druck aufweist, der gleich oder grösser als der Druck in der Vakuumkammer ist. Bei einer Beschichtung in der Kammer 1 z.B. bei der Nutzung der Methode der reaktiven Eindämpfung, lonplattie-rung, oder durch CVD-Plasmenmethoden wird das Vakuum-Drosselventil 4 nach Bedarf geöffnet und der Erhitzer mit der Stoffquelle 5 in Abhängigkeit vom gebrauchten Stoff in Betrieb gesetzt und reguliert.
Der Sublimator nach der Erfindung erweitert die Möglichkeiten bei der Vorbereitung von Schichten nach den Methoden der reaktiven Eindämpfung und der Ionenimplantation und nach den CVD-Plasmenmethoden sowie beim Stoffeintragen in die lonen-quellen bei der Oberflächenbehandlung mittels Ionenbindungen.
Claims (2)
1. Sublimator für eine Vakuumanlage, welcher an eine Vakuumkammer (1) anschliessbar ist, dadurch gekennzeichnet, dass eine Sublimationskammer (3) über ein Vakuum-Drosselventil (4) an die Vakuumkammer (1 ) anschliessbar ist, dass sich in einem Unterteil der Sublimationskammer (3) ein Erhitzer mit einer Subiimatquelle (5) befindet, und dass die Sublimationskammer (3) über ein Vakuumventil (6) mit einer Vakuumpumpe (7) verbunden ist.
2. Sublimator nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das Vakuum-Drossel-Ventil (4) über einen Flansch (2) an die Vakuumkammer (3) anschliessbar ist.
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Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
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Family
ID=5448609
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| CH502187A CH674809A5 (de) | 1986-12-31 | 1987-12-23 |
Country Status (5)
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Also Published As
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PL | Patent ceased | ||
| PL | Patent ceased |