CH677366A5 - - Google Patents
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- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 90
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 74
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 68
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 51
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 43
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 42
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 claims description 30
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 claims description 30
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 28
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 28
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 28
- 239000002585 base Substances 0.000 claims description 20
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims description 20
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 16
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 claims description 15
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 13
- -1 nickel amines Chemical class 0.000 claims description 11
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 10
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 9
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 8
- 229910001252 Pd alloy Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 7
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims description 7
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims description 7
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 claims description 7
- 238000007792 addition Methods 0.000 claims description 6
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 6
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910001128 Sn alloy Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims description 5
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 claims description 5
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims description 5
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims description 5
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 239000011133 lead Substances 0.000 claims description 4
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 4
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 3
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 3
- 150000001447 alkali salts Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 claims description 3
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 3
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 3
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 3
- 125000005394 methallyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 3
- 229910021332 silicide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims description 3
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 3
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 claims description 2
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 claims 1
- 239000006259 organic additive Substances 0.000 claims 1
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 33
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910018104 Ni-P Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910018536 Ni—P Inorganic materials 0.000 description 4
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 3
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N acrylonitrile butadiene styrene Chemical compound C=CC=C.C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 3
- 239000004676 acrylonitrile butadiene styrene Substances 0.000 description 3
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 3
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 3
- IEORSVTYLWZQJQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-nonylphenoxy)ethanol Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=CC=C1OCCO IEORSVTYLWZQJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 2
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 description 2
- UXJWUQMJUKSBSL-UHFFFAOYSA-M CCS([O-])(=O)=O.C(C1=CC=CC=C1)[N+]1=CC=CC=C1 Chemical compound CCS([O-])(=O)=O.C(C1=CC=CC=C1)[N+]1=CC=CC=C1 UXJWUQMJUKSBSL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910000792 Monel Inorganic materials 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241001416177 Vicugna pacos Species 0.000 description 2
- GHDLZGOOOLEJKI-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonylurea Chemical compound NC(=O)NS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 GHDLZGOOOLEJKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 2
- 239000010974 bronze Substances 0.000 description 2
- JHRWWRDRBPCWTF-OLQVQODUSA-N captafol Chemical compound C1C=CC[C@H]2C(=O)N(SC(Cl)(Cl)C(Cl)Cl)C(=O)[C@H]21 JHRWWRDRBPCWTF-OLQVQODUSA-N 0.000 description 2
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 2
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 2
- MOFOBJHOKRNACT-UHFFFAOYSA-N nickel silver Chemical compound [Ni].[Ag] MOFOBJHOKRNACT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010956 nickel silver Substances 0.000 description 2
- MWWATHDPGQKSAR-UHFFFAOYSA-N propyne Chemical compound CC#C MWWATHDPGQKSAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N trimethyl(1,1,2,2,2-pentafluoroethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C(F)(F)C(F)(F)F MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AJDIZQLSFPQPEY-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-Trichlorotrifluoroethane Chemical compound FC(F)(Cl)C(F)(Cl)Cl AJDIZQLSFPQPEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHUFGBSGINLPOW-UHFFFAOYSA-N 3-chloro-4-(trifluoromethoxy)benzoyl cyanide Chemical compound FC(F)(F)OC1=CC=C(C(=O)C#N)C=C1Cl JHUFGBSGINLPOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 125000000218 acetic acid group Chemical class C(C)(=O)* 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- UQZIWOQVLUASCR-UHFFFAOYSA-N alumane;titanium Chemical compound [AlH3].[Ti] UQZIWOQVLUASCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000003830 anthracite Substances 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- QDWJUBJKEHXSMT-UHFFFAOYSA-N boranylidynenickel Chemical compound [Ni]#B QDWJUBJKEHXSMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009750 centrifugal casting Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- JZULKTSSLJNBQJ-UHFFFAOYSA-N chromium;sulfuric acid Chemical compound [Cr].OS(O)(=O)=O JZULKTSSLJNBQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000004512 die casting Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- JVPLOXQKFGYFMN-UHFFFAOYSA-N gold tin Chemical compound [Sn].[Au] JVPLOXQKFGYFMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000847 nonoxynol Polymers 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- OFNHPGDEEMZPFG-UHFFFAOYSA-N phosphanylidynenickel Chemical compound [P].[Ni] OFNHPGDEEMZPFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006223 plastic coating Substances 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 229940117986 sulfobetaine Drugs 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052845 zircon Inorganic materials 0.000 description 1
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C25D5/10—Electroplating with more than one layer of the same or of different metals
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
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- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/60—Electroplating characterised by the structure or texture of the layers
- C25D5/605—Surface topography of the layers, e.g. rough, dendritic or nodular layers
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/627—Electroplating characterised by the visual appearance of the layers, e.g. colour, brightness or mat appearance
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- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
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CH 677 366 A5
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Beschreibung
Die Erfindung bezieht sich gemäss dem Patentanspruch 1 auf ein Verfahren zum Aufbringen von Be-schichtungen. Es kann sich dabei sowohl um technische als auch um dekorative Beschichtungen handeln. PVD steht für physical vapour déposition. Übliche Beschichtungswerkstoffe sind dabei Metallboride, -carbide, -nitride, -oxide, -silicide der Elemente der 4. bis 6. Nebengruppe des Periodensystems Titan, Zirkon, Hafnium bzw. Vanadium, Niob, Tantal bzw. Chrom, Molybdän, Wolfram einzeln oder in Kombinationen. Von besonderem Interesse sind dabei die Carbide, Nitride und Oxide der Elemente der 4. Nebengruppe, da hiermit abgesehen von der grossen Härte und Verschleissbestän-digkeit solcher Beschichtungswerkstoffe, die Hartchromüberzüge mehrfach übertreffen können, auch ansprechende dekorative Färbungen wie beispielsweise TiN — goldfarben - oder TiC - anthrazitfarben - erreichbar sind. Solche Beschichtungswerkstoffe können auch entsprechende Beimengungen anderer Elemente wie Aluminium, Cobalt, Gold, Kohlenstoff, Kupfer, Nickel, Palladium enthalten, so dass auch dekorative bläuliche, bräunliche, grünliche, rötliche oder silbrige Färbungen erzielt werden. Darüber hinaus können mit der PVD-Tech-nik aber auch metallische Werkstoffe wie Aluminium, Titan, Zirkon, Platin oder Gold abgeschieden werden, so dass in entsprechenden Anlagen mit mehreren Sputterquellen auch Schichtkombinationen herstellbar sind, Titan lässt sich beispielsweise nachträglich chemisch oder elektrochemisch ober-flächenoxidieren, so dass Färbungen in allen Möglichkeiten des Spektrums erreichbar sind. Es ist aber auch möglich, mittels PVD-Verfahren amorphen und/oder diamantähnlichen Kohlenstoff abzuscheiden, um beispielsweise besonders reibungs-und verschleissarme Oberflächen herzustellen.
Das PVD-Verfahren ist in vielen Bereichen der Technik bewährt (vgl. GB 2 123 039) und führt zu beachtlichen Verbesserungen der Qualität der beschichteten Produkte, Voraussetzung ist, dass das Grundmaterial selber bei korrosiver Beanspruchung der beschichteten Gegenstände ausreichend korrosionsbeständig ist. Das gilt bei nach dem PVD-Verfahren aufgebrachten Beschichtungen wie Ti-tancarbid oder Titannitrid für beispielsweise austen-itische Chrom/Nickelstähle oder Titan selber als Grundmaterial. Sofern das Grundmaterial aber in Abhängigkeit von den jeweiligen Korrosionsbedingungen nichtkorrosionsbeständig oder wenig korrosionsbeständig ist, stören im späteren praktischen Gebrauch Korrosionsphänomene. Dies gilt beispielsweise für metallisches Grundmaterial wie Aluminium, Blei, Kupfer, Magnesium, Nickel, Silber, Stahl, Zink oder vielen darauf basierenden Legierungswerkstoffen wie Messing, Bronze, Neusilber, Monel, Alpaka, Zinkdruckgusslegierung, Bleischleudergusslegierung usw. Korrosionserscheinungen treten ebenfalls ein, wenn solche Grundmaterialien zusätzlich mit einer galvanisch oder stromlos abgeschiedenen matten, glänzenden, halbglänzenden oder mattglänzenden Unterschicht als Chrom-, Kupfer-, Kupferlegierungs-, Nickel-,
Nickellegierungs-, Silber- oder Zinnlegierungsschicht bzw. Schichtsystemen derselben versehen sind. Unter Nickel- bzw. Nickellegierungsschichten sind aus Dispersionsnickel-, Ni-P- und Ni-B-Über-züge zu verstehen. Gleiches gilt auch für galvanisierten Kunststoff wie beispielsweise ABS (Acrylnitril-Butadien-Styrol) oder Mischpolymerisate aus Polycarbonat/ABS (z.B Bayblend - Fa. Bayer, Leverkusen), Polypropylen usw., die üblicherweise nach der stromlosen Metallisierung mittels stromlos abgeschiedenem Kupfer oder Nickel-Phosphor bzw. Nickel-Bor zunächst mit einer Glanzkupfer- und glänzenden bzw. -mattglänzenden Nickelschicht sowie eventuell einem Glanzchromüberzug versehen werden.
Die Korrosionsphänomene beruhen darauf, dass nach dem PVD-Verfahren aufgebrachte Beschichtungen besonders bei niedrigen Beschichtungstem-peraturen und unter Nicht-Reinraumbedingungen im vielfach üblichen Schichtdickenbereich 0,3 ... 1 um porös oder mikrorissig sind sowie eine hohe Pinhole-Dichte aufweisen und ein sehr edles elektrochemisches Potential haben können. Die Ursache der hohen Pinhole-Dichte liegt in einem bevorzugten stengelartigen Wachstum der mittels PVD-Verfahren erzeugten Beschichtung senkrecht zur Substratoberfläche, ohne dass die Stengel gleichzeitig ausreichend in ihrer Dicke wachsen und somit eine geschlossene, homogene Oberfläche ergeben. Diese Schichtfehler können zwar mit wachsender Schichtdicke abnehmen, jedoch wäre ein solches Vorgehen wegen der recht langsamen Abscheidegeschwindigkeit der PVD-Verfahren allein anlagentechnisch schon zu aufwendig. Hinzu kommt, dass in vielen Fällen wie besonders dem galvanisierten Kunststoff nur sehr niedrige PVD-Prozesstem-peraturen im Bereich 100-120°C anzuwenden sind, damit die Vicat-Erweichungstemperatur des Kunststoffes nicht erreicht wird. Bei solchen extrem niedrigen Prozesstemperaturen können deshalb in den meisten Fällen keine in sich geschlossenen Schichten mittels PVD-Verfahren abgeschieden werden.
Man könnte daran denken, den störenden Korrosionsphänomenen durch eine Zwischenschicht aus einem sehr edlen Metall wie Gold oder Platin entgegenzuwirken, die natürlich mit üblichen galvanotechnischen Verfahren zumindest nicht haftfest auf verchromten Oberflächen abscheidbar wäre. Das ist einerseits kostenmässig aufwendig, andererseits sind solche Zwischenschichten wie besonders Gold sehr weich, was sehr leicht zu Beschädigungen im weiteren Ablauf zum Auftragen der Beschichtungen nach dem PVD-Verfahren führt. In vielen Fällen ist ausserdem eine Zwischenschicht geringer Mikrohärte unter einer Hartstoff-Deckschicht besonders nachteilig. Versuche haben weiterhin gezeigt, dass solche Zwischenschichten wie Gold häufig Haftungsprobleme bewirken, wenn die nach dem PVD-Verfahren aufgebrachte Beschichtung mechanisch auf Schub beansprucht wird.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, bei einem Aggregat aus einem nichtkorrosionsbeständigen oder wenig korrosionsbeständigen Grundmaterial und einer nach dem PVD-Verfahren
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aufgebrachten Beschichtung die Korrosionsbeständigkeit sowie die mechanische Haftung der PVD-Beschichtung zu verbessern.
Die Lösung dieser Aufgabe ist Gegenstand des Patentanspruchs 1.
Der Elektrolyt kann Zusätze aliphatischer, ungesättigter und/oder heterocyclischer Sulfonsäure-salze sowie gegebenenfalls Leitsalze, ausgewählte aromatische Sulfonimide als Zugspannungsminderer bzw. Korrosionsschutz-Additiv und ferner nichtionogener und/oder anionenaktiver Netzmittel aufweisen, und zwar mit der Massgabe, dass der Zusatz aliphatischer ungesättigter und/oder heterocyclischer Sulfonsäuresalze aus einem Alkalisalz (insbesondere einem Natriumsalz) der Vinyl-, Allyl-, Propin-, Methallyl-, N-BezyIpyridinium-2-ethyl-sul-fonsäure, N-Pyridiniumpropylsulfobetain, N-Pyrjdi-niummethylsulfobetain oder mehreren dieser Stoffe besteht.
Bei dem metallischen Grundmaterial kann es sich um Aluminium, Blei, Kupfer, Magnesium, Nickel, Silber, Stahl, Zink und darauf basierenden Legierungswerkstoffen wie Messing, Bronze, Neusilber, Monel, Alpaka, Zinkdruckgusslegierung oder Blei-schleudergusslegierung handeln, wie sie in der technischen Praxis üblich sind. Diese können je nach Grundmaterial oder gewünschtem optischen Effekt oder technischer Vorgabe zusätzlich mit einer galvanisch oder stromlos matt, glänzend, halbglänzend oder mattglänzend aussehenden Unterschicht als Kupfer-, Kupferlegierungs-, Nickel-, Nickellegierungs-, Silber- oder Zinnlegierungsschicht bzw. Schichtsystem derselben versehen sein. Die Definition Nickel- und Nickellegierungsschicht soll auch Dispersionsnickel- sowie Ni-P-bzw. Ni-B-Überzüge umfassen. Bei dem metallischen Grundmaterial kann es sich aber auch um eine galvanisch aufgebrachte Oberflächenschicht auf galvanisierfähigen Kunststoffbauteilen, insbesondere um matte, glänzende, halbglänzende oder mattglänzende Kupfer-, Kupferlegierungs-, Nickel-, Nickellegierungs-, Silber- oder Zinnlegierungsschichten, einzeln oder in Schichtkombinationen, handeln. Es versteht sich, dass die Palladium/ Nickel-Legierung mit üblichen galvanotechnischen Verfahren zumindest nicht haftfest auf verchromten Unterschichten abscheidbar ist.
Überraschenderweise nimmt im Rahmen der erfin-dungsgemässen Massnahmen die in der beschriebenen Weise aufgebaute und erzeugte Palladium/ Nickel-Legierungsschicht keinerlei Schaden, und zwar auch dann nicht, wenn diese Zwischenschicht sehr dünn aufgebracht wird. Die weitaus grössere Mikrohärte der Palladium/Nickelschicht widersteht möglichen Beschädigungen bei der nachfolgenden PVD-Beschichtung besser als etwa vergleichbare Reingold-Zwischenschichten. Selbst bei einem Grundmaterial, welches im Einsatz üblicherweise erhebliche Korrosionsprobleme zeigt, verschwinden diese bei Verwirklichung der erfindungsgemässen Massnahmen. Die Palladium/Nickel-Legierungs-schicht, die erfindungsgemäss in besonderer Weise verwendet wird, ist an sich bekannt (DE 3 108 508 sowie DE 3 232 735). Auch treten keine Haftungsprobleme mehr auf, wenn die nach dem
PVD-Verfahren aufgebrachte Beschichtung mechanisch auf Schub beansprucht wird.
Gegenstand der Erfindung ist nach bevorzugter Ausführungsform sowie mit anderen Worten ein Verfahren zum Aufbringen einer PVD-Beschichtung auf ein nichtkorrosionsbeständiges oder wenig korrosionsbeständiges Grundmaterial, wobei auf das Grundmaterial zunächst eine Zwischenschicht aus einer Palladium/Nickel-Legierung aufgebracht wird, die aus einem wässrigen Elektrolyten von Palladium- und Nickelaminen mit einem Palladiumgehalt von 2 bis 20 g/l, einem Nickelgehalt von 5 bis 30 g/l und Zusätzen aliphatischer, ungesättigter und/oder heterocyclischer Sulfonsäuresalze sowie gegebenenfalls Leitsalzen, ausgewählter aromatischer Sulfonimide als Zugspannungsminderer bzw. Korrosionsschutz-Additiv (Benzoesäuresulfonimid bzw. Benzolsulfonylharnstoff) und ferner nichtionogener und/oder anionenaktiver Netzmittel abgeschieden wird, bei welchem Elektrolyten das Palladium/Nickel-Verhältnis so eingestellt ist, dass die galvanisch abgeschiedene Legierung einen Palladiumgehalt von 30 bis 90 Gew.-%, vorzugsweise 60 bis 85 Gew.-% aufweist, und wobei der Zusatz aus einem aliphatischen, ungesättigten und/oder hete-rocyclischen Sulfonsäuresalz als Alkalisalz wie insbesondere Natriumsalz der Vinyl-, Allyl-, Propin-, Methallyl-, N-Benzylpyridinium-2-ethyl-sulfonsäu-re, N-Pyridiniumpropylsulfobetain, N-Pyridiniumme-thylsolfobetain oder mehreren dieser Stoffe besteht.
Eingangs wurden bereits bekannte, nach dem PVD-Verfahren aufbringbare Beschichtungen genannt. Im Rahmen der Erfindung kann es sich bei den nach dem PVD-Verfahren aufgebrachten Beschichtungen um eine solche als Metallboride, -carbide, -nitride, -oxide, -silicide der Elemente der 4. bis 6. Nebengruppe des Periodensystems einzeln oder in Kombination handeln. Insbesondere kann es sich um Carbide, Nitride und Oxide der Elemente der 4. Nebengruppe wie TiN oder TiC oder Mischungen verschiedener Substanzen handeln, die weiterhin Beimengungen von Aluminium, Cobalt, Gold, Kohlenstoff, Kupfer, Nickel, Palladium enthalten können. Die Beschichtungen mittels PVD-Verfahren können aber auch metallischer Natur wie Aluminium, Titan, Zirkon, Gold, Platin usw. sein. Es kann darüber hinaus auch amorpher und/ oder diamantähnlicher Kohlenstoff sein.
Es versteht sich, dass je nach Typ des Grundmaterials vor dem Aufbringen der Palladium/Nickel-Zwischenschicht eine weitere galvanisch aufzubringende Unterschicht erforderlich sein kann, um beispielsweise die Rauhtiefe des Grundmaterials durch eingeebnete Schichten zu verbessern, die einwandfreie Haftung der Palladium/Nickelschicht sicherzustellen, besondere mattglänzende Oberflächeneffekte zu erzielen oder bei Kunststoffen durch eine möglichst dicke Kupferunterschicht die Temperaturwechselbeständigkeit im Verbund Kunststoff-Be-schichtung zu erreichen. Hierzu zählen ebenfalls Dispersionsnickel-, Ni-P- oder Ni-B-Überzüge, um beispielsweise besonders harte Unterschichten zu erzeugen. Es versteht sich weiterhin, dass bei Einsatz von galvanisiertem Kunststoff der Materialtyp
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hinsichtlich seiner Vicat-Erweichungstemperatur der Prozesstemperatur des PVD-Verfahrens anzupassen ist. — Die Palladium/Nickel-Schicht kann mit üblichem galvanotechnischen Verfahren zumindest wegen mangelnder Haftung nicht auf verchromten Unterschichten aufgebracht werden.
Vorzugsweise wird zum Zwecke der Herstellung einer porenfreien oder zumindest weitgehend porenarmen Palladium/Nickel-Zwischenschicht diese in ihrer Schichtdicke der Rauhtiefe des Grundmate-rials und/oder der darauf galvanisch abgeschiedenen Unterschicht angepasst, wobei sie zweckmässig eine Mindestdicke von 0,1 um aufweist. Die Schichtdicke ist der Rauhtiefe des Grundmaterials oder der darauf abgeschiedenen Unterschicht anzupassen, Mit anderen Worten muss die Palladium/Nickel-Zwischenschicht um so dicker abgeschieden werden, je grösser die Rauhtiefe des Grundmaterials ist. Durchschnittliche Schichtdicken liegen im Bereich von 0,5 bis 5 um. Die mittels PVD-Verfahren aufgebrachte Beschichtung soll eine DiGke im Bereich 0,1 bis 5 um, insbesondere 0,3 bis 1 um, besitzen. Es versteht sich, dass die Prozess-Parameter der PVD-Beschichtung vorteilhaft so einzurichten sind, dass die Beschichtung eine möglichst geringe Schichtfehlerdichte (Porosität, Mikrorisse und Pinholes) aufweisen soll.
Im folgenden werden die Erfindung und erreichten Vorteile anhand von Ausführungsbeispielen erläutert.
Beispiel 1
Messingbleche auch Ms 58 werden nach bekannten Regeln der Galvanotechnik vorgereinigt, elektrolytisch entfettet, dekapiert, ca. 1 jtm in cyanidi-schen Kupferelektrolyten verkupfert, anschliessend ca. 7 um glanzvernickelt und ca. 0,3 jim im schwefelsauren Chromelektrolyten glanzverchromt.
Für die nachfolgende PVD-Beschichtung werden diese Bleche in emuigatorhaltigen Freon (Produkt TWD 602 der Fa. Du Pont) mittels Ultraschalleinwirkung vorgereinigt und anschliessend in Freon TF und Ultraschall nachgereinigt, bevor mittels PVD-Verfahren eine ca. 0,5 jim dicke TiN-Schicht aufgebracht wird. Die Reinigung in Freon-Produkten vor der PVD-Beschichtung ist deshalb zu empfehlen, damit jeglicher Schmutz und Fingerflecken bei der Fixierung auf speziellen Transportrahmen zur PVD-Beschichtung entfernt werden.
Derartige Testbleche werden anschliessend verschiedenen Korrosionstesten wie
Schwitzwasser-Wechseiklima mit S02-haltiger Atmosphäre
SFW 2,0 S DIN 50 018 oder Essigsäure-Salzsprühnebelprüfung ESS DIN 50 021
jeweils 72 h unterworfen. Auf den Testblechen ist ein starker Lochfrass mit ca. 2 bis 3 Poren/cm2 sichtbar. Teilweise können solche Testbleche regelrecht durchgefressen werden.
Beispiel 2
Auf Testblechen gemäss Beispiel 1 wird nur der Glanzchromüberzug durch eine erfindungsgemässe Palladium/Nickel-Legierungszwischenschicht von 1 bis 1,5 um Dicke bei sonst unverändertem Schichtaufbau ersetzt. Die angegebenen Korrosionsteste über jeweils 72 h werden nun einwandfrei bestanden.
Die erfindungsgemässen Palladium/Nickel-Elek-trolyte können folgende Zusammensetzungen aufweisen:
6 g Palladium als [Pd(NH3)4] CI2 9 g Nickel als [Ni(NH3)e] SO4 100 g Leitsalz als (NH^SCU 2,5 g Natriumallylsulfonat eventuell zusätzlich:
1 g Benzoesäuresulfonimid, Na-Salz oder
2g BenzolsulfonylharnstOff ferner als Netzmittel
0,5 g Nonylphenolethoxylat (23 EO)
NH4OH zum Einstellen eines pH-Wertes 8-8,5
Wasser für 1 I Bad
Elektrolyttemperatur 25 bis 30°C
leichte Warenbewegung kathodische Stromdichte 1 A/dm2
Expositionszeit 4 bis 6 min
Anoden: platziertes Titan oder Graphit
Anstelle des nichtionogenen Netzmitteis können auch ausgewählte anionenaktive Tenside auf Basis von Alkyl- und Alkylarylethersulfónaten verwendet werden wie:
1 g/l H3C—(CH2) 12/14—O—(CH2—CH2—0)n—OHs— CH2-CH2-SO3 K n = 11
Da solche Netzmittel keinen Trübungspunkt aufweisen, können nun Elektrolyttemperaturen von beispielsweise 40 bis 50ÔG angewendet werden. Gleichzeitig wird der Glanzgrad der Abscheidung noch verbessert.
Beispiel 3
Das Grundmaterial nach Beispielen 1 und 2 wird durch Stahl C 45 WN 1.0503 ersetzt. Man erhält die gleichen Ergebnisse, d.h. eine Pd/Ni-Zwischen-schicht ist aus korrosionstechnischen Gründen erforderlich.
Beispiel 4
Auf die mittels PVD aufgebrachte Titannitridschicht wird zusätzlich 0,1 jim 23 ct-GoId/Nickel
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aufgesplittert. Die Korrosionsempfindlichkeit nach Beispiel 1 wird sogar noch verstärkt, während gemäss Beispiel 2 mit einer Pd/Ni-ZwischensGhicht anstelle des Glanzchromüberzuges keine Korrosionserscheinungen auftreten.
Beispiel 5
Das Titannitrid kann durch Titancarbid, Titan-Alu-minium-Carbonitrid, metallisches Titan usw. ersetzt werden. Es sind wiederum die gleichen Korrosionsunterschiede gemäss den Beispielen 1 und 2 zu sehen.
Beispiel 6
Eine Testplatte aus Bayblend T 45 MN wird nach üblichen galvanotechnischen Massnahmen zunächst stromlos vernickelt, die stromlos abgeschiedene Ni-P-Schicht elektrolytisch in einem Watts'schen Elektrolyten vorverstärkt, dann 20 bis 30 (im in einem schwefelsauren Elektrolyten glanzverkupfert und anschliessend 10 um mattglänzend vernickelt. Wird auf dieser mattglänzenden Nickelschicht unmittelbar eine Deckschicht mittels PVD-Technik aufgebracht, wird keine Korrosionsbeständigkeit gemäss den Testen nach Beispiel 1 erreicht. Die Korrosionsbeständigkeit ist jedoch sofort wieder gegeben, wenn eine Zwischenschicht aus Palladium/Nickel gemäss Beispiel 2 aufgebracht wird.
Beispiel 7
Anstelle des 0,3 (im dicken Glanzchromüberzuges gemäss Beispiel 1 wird nun elektrolytisch 0,1 um Reingold aus handelsüblichen Elektrolyten aufgebracht und hierauf die Deckschicht mittels PVD-Verfahren aufgetragen. Abgesehen von der schlechten Korrosionsbeständigkeit ergibt sich bei der Untersuchung des Abriebverhaltens mittels des Trommelschleifverfahrens und handelsüblichen Schleifkörpern, dass die Hartstoffdeckschicht von der Goldzwischenschicht regelrecht heruntergeschoben wird. Verwendet man die erfindungsgemäs-se Palladium/Nickelzwischenschicht, so haftet die PVD-Deckschicht ausgezeichnet, d.h. die Goldzwischenschicht ist auf Schubbeanspruchung zu empfindlich.
Beispiel 8
Für Anwendungen ohne besondere Ansprüche an einen ausgesprochen hohen dekorativen Glanzgrad der Palladium/Nickel-Zwischenschicht, insbesondere für viele technische Anwendungen, sind auch Pailadium/Nickelelektrolyte ohne aliphatische, ungesättigte und/oder heterocyclischer Sulfonsäuresalze sowie ohne aromatische Sulfonimide ebenfalls anwendbar. Die Palladium/Nickel-Zwischenschicht bewirkt ebenfalls die geforderte Korrosionsbeständigkeit und bewirkt gleichzeitig eine gute Haftung der nachträglich aufzubringenden PVD-Beschichtung, wenn sichergestellt ist, dass bei Mitabscheidung von Schwefel dieser höher als zweiwertig ist. Elektrolytzusammensetzung:
6 g Palladium als [Pd(NH3)4] Cl2 10 g Nickel als [Ni(NH3)6] SO4 oder (H2NS03)2Ni • 4HsO
50-100 g Leitsalz als (NH^SCU oder H2NSO3NH4
eventuell zusätzlich als Netzmittel:
1gH3C-(CH2)i2/i4-0-(CH2-CH2-0)n-CH2-CH2-CH2-S03 K n = 11
NH4 OH zum Einstellen eines pH-Wertes 8- 8,5
Wasser für 1 I Bad
Elektrolyttemperatur 40 - 50°C
leichte Warenbewegung kathodische Stromdichte 1 A/dm2
Expositionszeit 4 bis 6 min
Anoden: platziertes Titan oder Graphit
Versuchsdurchführung wie im Beispiel 2. Die im Beispiel 2 angegebenen Korrosionsteste werden bestanden.
Claims (14)
1. Verfahren zum Aufbringen von Beschichtungen, bei dem eine Palladium/Nickel-Legierungsschicht als Zwischenschicht zwischen einem nichtkorrosionsbeständigen oder wenig korrosionsbeständigen metallischen Grundmaterial und einer nach dem PVD-Verfahren aufgebrachten Beschichtung verwendet wird, wobei die Palladium/Nickel-Legierungsschicht aus einem wässrigen Elektrolyten von Palladium- und Nickelaminen mit einem Palladiumgehalt im Bereich von 2 bis 20 g/l und einem Nickelgehalt im Bereich von 5 bis 30 g/l abgeschieden wird und bei dem Elektrolyten das Palladium/Nickel-Verhältnis so eingestellt wird, dass die galvanisch abgeschiedene Legierung einen Palladiumgehalt von 30 bis 90 Gew.-% aufweist.
2. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem der Elektrolyt Leitsalze und/oder organische Zusätze enthält, die Schwefel aufweisen können, mit der Massgabe, dass die Elektrolytkomponenten so ausgewählt werden, dass bei Mitabscheidung von Schwefel dieser höher als zweiwertig ist.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2 mit der Massgabe, dass bei dem Elektrolyten das Palfadi-um/Nickel-Verhältnis so eingestellt wird, dass die galvanisch abgeschiedene Legierung einen Palladiumgehalt von 60 bis 85 Gew.-% aufweist.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3 mit der Massgabe, dass der Elektrolyt Zusätze aliphatischer, ungesättigter und/oder heterocyclischer Sulfonsäuresalze sowie gegebenenfalls Leitsalze, ausgewählte aromatische Sulfonimide als Zugspannungsminderer bzw. Korrosionsschutz-Additiv und ferner nichtionogener und/oder anionenaktiver Netzmittel aufweist und dass der Zusatz aliphatischer ungesättigter und/oder heterocyclischer Sulfonsäuresalze aus einem Alkalisalz, insbesondere einem Natriumsalz, der Vinyl-, Allyl-,
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Propìn-, Methallyl-, N-Bezylpyridinium-2-ethyl-sul-fonsäure, N-Pyridiniumpropylsulfobetain, N-Pyridi-niummethylsulfobeiain oder mehreren dieser Stoffe besteht.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4 mit der Massgabe, dass es sich bei dem metallischen Grundmaterial um Aluminium, Blei, Kupfer, Magnesium, Nickel, Silber, Stahl, Zink oder darauf basierenden Legierungswerkstoffen handelt, die zusätzlich galvanisch oder stromlos mit einer matten, glänzenden, halbglänzenden oder mattglänzenden Unterschicht als Kupfer-, Kupferlegierungs-, Nickel-, Nickellegierungs-, Silber- oder Zinnlegierungsschicht bzw. Schichtsystemen derselben versehen sein können.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4 mit der Massgabe, dass es sich bei dem metallischen Grundmaterial um eine galvanisch aufgebrachte Oberflächenschrcht auf einem galvanisierfähigen Kunststoffbauteil, insbesondere um matte, glänzende, halbglänzende oder mattglänzende Kupfer-, Kupferlegierungs-, Nickel-, Nickellegierungs-, Silber- oder Zinnlegierungs-Schichten einzeln oder in Schichtkombinationen handelt.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6 mit der Massgabe, dass es sich bei der nach dem PVD-Verfahren aufgebrachten Beschichtung um eine solche aus einem Stoff der Metallboride, -car-bide, -nitride, -oxide, -silicide der Elemente der 4. bis 6. Nebengruppe des Periodensystems einzeln oder in Kombinationen handelt.
8. Verfahren nach Anspruch 7, mit der Massgabe, dass die nach dem PVD-Verfahren aufgebrachte Beschichtung zusätzlich entsprechende Beimengungen von Aluminium, Cobalt, Gold, Kohlenstoff, Kupfer, Nicket, Palladium enthält.
9. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6 mit der Massgabe, dass es sich bei der nach dem PVD-Verfahren aufgebrachten Beschichtung um eine solche aus metallischem Aluminium, Titan, Zirkon oder Tantal handelt, die nachträglich chemisch oder elektrochemisch oberflächenoxidiert werden können.
10. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6 mit der Massgabe, dass es sich bei der nach dem PVD-Verfahren aufgebrachten Beschichtung um eine solche aus amorphem und/oder diamantähnlichem Kohlenstoff handelt.
11. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 10 mit der Massgabe, dass zum Zwecke der Herstellung einer porenfreien oder zumindest weitgehend porenarmen Palladium/Nickel-Zwischenschicht diese in ihrer Schichtdicke der Rauhtiefe des Grundmaterials und/oder der darauf galvanisch abgeschiedenen Unterschicht angepasst wird und eine Mindestdicke von 0,1 um aufweist.
12. Verfahren nach Anspruch 11 mit der Massgabe, dass die durchschnittliche Schichtdicke der Pal-ladium/Nickel-Zwischenschicht im Bereich von 0,5 bis 5 jtm liegt.
13. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 12 mit der Massgabe, dass die nach dem PVD-Verfah-ren aufgebrachte Beschichtung eine Dicke im Bereich 0,1 bis 5 um, insbesondere im Bereich 0,3 bis 1 (im aufweist.
14. Anwendung des Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis 13 zum Aufbringen technisch funktioneller Schichtsysteme zwecks Substituierung von Hartchromüberzügen durch die Kombination aus der Palladium/Nickel-Zwischenschicht und der mittels PVD-Verfahren aufgebrachten Deckschicht.
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Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3809139A DE3809139A1 (de) | 1988-03-18 | 1988-03-18 | Verwendung einer palladium/nickel-legierungsschicht als zwischenschicht zwischen einem nichtkorrosionsbestaendigen oder wenig korrosionsbestaendigen metallischen grundmaterial und einer nach dem pvd-verfahren aufgebrachten beschichtung |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CH677366A5 true CH677366A5 (de) | 1991-05-15 |
Family
ID=6350105
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CH592/89A CH677366A5 (de) | 1988-03-18 | 1989-02-20 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0277585A (de) |
| CH (1) | CH677366A5 (de) |
| DE (1) | DE3809139A1 (de) |
| GB (1) | GB2218111B (de) |
| HK (1) | HK141294A (de) |
Families Citing this family (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4006550C1 (en) * | 1990-02-15 | 1991-06-27 | Anke Gmbh & Co. Kg Oberflaechentechnik, 4300 Essen, De | Textured rolls for processing steel etc. - have electrolytical treated, surface deposited with chromium coated with nitride by PVD or CVD |
| DE4008254A1 (de) * | 1990-03-15 | 1991-09-19 | Huettl & Vester Gmbh | Verfahren zum herstellen von gravierten walzen oder platten |
| US5252360A (en) * | 1990-03-15 | 1993-10-12 | Huettl Wolfgang | Process for the protection of an engraved roll or plate by coating an engraved surface with an interlayer and thereafter applying a wear-resistant layer to the interlayer by PVD |
| US5384201A (en) * | 1991-05-31 | 1995-01-24 | Robert Bosch Gmbh | Tool for treating surfaces of structural parts and carrier material for the same |
| DE4232429A1 (de) * | 1992-09-28 | 1994-03-31 | Bosch Gmbh Robert | Werkzeug zur Behandlung von Oberflächen von Bauteilen und Trägerwerkstoff für dieses Werkzeug |
| AT400040B (de) * | 1993-06-02 | 1995-09-25 | Andritz Patentverwaltung | Verfahren und vorrichtung zur beschichtung von metallsubstraten, insbesondere stahl- oder aluminiumbblechen in bandform |
| US5879532A (en) * | 1997-07-09 | 1999-03-09 | Masco Corporation Of Indiana | Process for applying protective and decorative coating on an article |
| EP1261990A1 (de) * | 2000-02-07 | 2002-12-04 | CIS Solartechnik Gmbh | Flexibles metallisches substrat für cis-solarzellen und verfahren zu seiner herstellung |
| US6489035B1 (en) * | 2000-02-08 | 2002-12-03 | Gould Electronics Inc. | Applying resistive layer onto copper |
| DE10303650A1 (de) * | 2003-01-27 | 2004-07-29 | Hansgrohe Ag | Beschichtungsverfahren |
| DE102004010762B4 (de) * | 2004-03-05 | 2006-06-29 | Daimlerchrysler Ag | Verbundbauteil |
| EP1876268B1 (de) * | 2006-06-13 | 2013-05-15 | Wolf-Dieter Franz | Cr-VI-freie Schwarzverchromung |
| RU2329337C1 (ru) * | 2006-11-27 | 2008-07-20 | Вячеслав Вячеславович Рогожин | Электролит для электрохимического осаждения покрытий никель-бор |
| DE202019104533U1 (de) * | 2019-08-16 | 2019-09-03 | Ec Europ Coating Gmbh | Beschichteter, metallischer Gebrauchsgegenstand oder beschichtete, metallische Komponente eines Gebrauchsgegenstandes |
| CN110885996A (zh) * | 2019-12-25 | 2020-03-17 | 东莞立德精密工业有限公司 | 一种五金件表面处理工艺及五金件 |
| CN114540813A (zh) * | 2022-02-24 | 2022-05-27 | 瑞鼎机电科技（昆山）有限公司 | 一种咖啡机按压板pvd镀膜工艺 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3647643A (en) * | 1969-09-29 | 1972-03-07 | Ibm | Process of fabricating a hybrid magnetic film |
| CH539130A (de) * | 1970-02-27 | 1973-08-31 | Egyesuelt Izzolampa | Verfahren zur Aufdampfung von Schichten durch Vakuumaufdampfen |
| DE2118977C3 (de) * | 1971-04-20 | 1974-06-20 | Vereinigte Flugtechnische Werkefokker Gmbh, 2800 Bremen | Verfahren zum Aufdampfen haftfester Silberschichten auf Titan oder Titanlegierungen |
| DE3108508C2 (de) * | 1981-03-06 | 1983-06-30 | Langbein-Pfanhauser Werke Ag, 4040 Neuss | Bad zur galvanischen Abscheidung einer Palladium/Nickel-Legierung |
| DE3232735C2 (de) * | 1981-09-11 | 1984-04-26 | LPW-Chemie GmbH, 4040 Neuss | Verwendung einer als Glanzbildnerzusatz zu Nickelbädern bekannten Verbindung als Korrosionsschutzadditiv |
| EP0089818A3 (de) * | 1982-03-23 | 1985-04-03 | United Kingdom Atomic Energy Authority | Beschichtung von Schneideklingen |
| JPS60248892A (ja) * | 1984-05-24 | 1985-12-09 | Electroplating Eng Of Japan Co | 高純度パラジウム・ニッケル合金メッキ液及び方法 |
| GB2168381B (en) * | 1984-12-12 | 1988-03-09 | Stc Plc | Gold plated electrical contacts |
| US4628165A (en) * | 1985-09-11 | 1986-12-09 | Learonal, Inc. | Electrical contacts and methods of making contacts by electrodeposition |
-
1988
- 1988-03-18 DE DE3809139A patent/DE3809139A1/de active Granted
-
1989
- 1989-02-20 CH CH592/89A patent/CH677366A5/de not_active IP Right Cessation
- 1989-03-13 GB GB8905734A patent/GB2218111B/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-03-15 JP JP1061083A patent/JPH0277585A/ja active Pending
-
1994
- 1994-12-15 HK HK141294A patent/HK141294A/xx not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3809139A1 (de) | 1989-09-28 |
| GB2218111A (en) | 1989-11-08 |
| HK141294A (en) | 1994-12-23 |
| GB8905734D0 (en) | 1989-04-26 |
| JPH0277585A (ja) | 1990-03-16 |
| DE3809139C2 (de) | 1990-04-05 |
| GB2218111B (en) | 1992-05-06 |
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