CH696225A5 - Halbleitervorrichtung. - Google Patents

Description

  [0001] Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Halbleitervorrichtung und insbesondere auf eine Halbleitervorrichtung, welche eine hohe Durchschlagsspannung erfordert.

[0002] Es ist wichtig, dass eine Halbleitervorrichtung, welche zur Sperrung einer hohen Spannung durch einen pn-Übergang (pn-junction) bestimmt ist, eine elektrische Feldstärke einer Übergangsoberfläche freisetzt, die in Kontakt mit einer Substanz ist, welche eine unterschiedliche dielektrische Konstante aufweist und im Vergleich mit der elektrischen Feldstärke in einem Übergang in einem Siliziumsubstrat in stabiler Weise eine Durchschlagsspannung entsprechend der Konstruktion erzeugt.

[0003] Aus diesem Grund wurden im Allgemeinen feldlimitierende Ringstrukturen, SIPOS(Semi-Insulating Polycrystalline Silicon)-Strukturen und dgl.

   als Übergangsabschlussbearbeitungsstrukturen verwendet.

SlPOS-Struktur

[0004] Fig. 13 zeigt eine Schnittstruktur einer Siliziumdiode 80, welche eine SlPOS-Struktur als übergangsabschliessende Bearbeitungsstruktur besitzt.

[0005] Wie in Fig. 13 dargestellt, enthält die Siliziumdiode 80 eine Störstellenschicht des p-Typs 202, welche in einem Betriebsbereich der Diode angeordnet ist und eine Störstelle des p-Typs in einer relativ hohen Konzentration (p<+>) enthält, und eine Störstellenschicht des p-Typs 208, welche sich zum Teil mit dem Kantenteil der Störstellenschicht 202 des p-Typs überlappt und eine Störstelle des p-Typs aufweist, welche sich in horizontaler Richtung gegen einen peripheren Teil mit einer relativ tiefen Konzentration (p<->) in einer der Hauptoberflächen eines Siliziumsubstrats 201,

   welche eine Störstelle des n-Typs in einer relativ tiefen Konzentration (n<->) besitzt, ausdehnt.

[0006] Die Störstellenschicht des p-Typs 208 besitzt eine Dreistufenform. Die Stufen überlappen einander und besitzen eine Gesamtform, derart, dass die Übergangstiefe und die Konzentration gegen die äussere Peripherie reduziert werden.

   Die Störstellenschicht des p-Typs 208 wird so angeordnet, dass sie die Störstellenschicht des p-Typs 202 auf einer Ebene umfasst.

[0007] Die maximale Tiefe der Störstellenschicht des p-Typs 208 beträgt 20 Microm in einer Vorrichtung, welche eine Durchschlagsspannung von 1,2 kV besitzt und 70 Microm in einer Vorrichtung, welche eine Durchschlagsspannung von 5 kV enthält, zum Beispiel. Überdies besitzt die Störstellenschicht des p-Typs 202 eine Tiefe von 5 bis 40 Microm.

[0008] Eine Anode 204 ist auf der Störstellenschicht des p-Typs 202 angeordnet und ein SIPOS-Film 206 ist am oberen Teil der Störstellenschicht des p-Typs 208 am oberen Teil des äusseren peripheren Teils vorgesehen und ein Siliziumnitridfilm (Si3N4) 207 ist auf dem SIPOS-Film 206 vorgesehen.

[0009] Der SIPOS-Film 206 hat eine Dicke von 500 Microm und enthält 10% Sauerstoff, zum Beispiel.

   Weiter besitzt der Siliziumnitridfilm 207 eine Dicke von 150 nm.

[0010] Eine Störstellenschicht 203 des n-Typs, welche eine Störstelle des n-Typs in einer relativ hohen Konzentration (n<+>) enthält, wird auf der anderen Hauptoberfläche des Siliziumsubstrats 201 vorgesehen und eine Kathode 205 wird auf der Störstellenschicht 203 des n-Typs vorgesehen. Demzufolge wird die Störstellenschicht 208 des p-Typs, welche eine Dreistufenform besitzt, derart angeordnet, dass sie den Betriebsbereich der Diode umgibt. Demzufolge dehnt sich eine Verarmungsschicht DL während dem Betrieb der Vorrichtung derart aus, dass ein elektrisches Feld auf einem pn-Übergangsteil freigesetzt werden kann und eine Durchschlagspannung aufrechterhalten werden kann.

   Im Fall, in welchem eine Rückwärtsspannung an die Siliziumdiode 80 angelegt wird, fliesst ein Strom zum SIPOS-Film 206, derart, dass der SIPOS-Film 206 eine elektrische Feldverteilung des Halbleitersubstrats 201 stabilisieren kann. Überdies funktioniert der Siliziumnitridfilm 207 als Schutzfilm, wobei er dazu beiträgt, die Aufrechterhaltung der Durchschlagsspannung aufrechtzuerhalten.

[0011] Als Nächstes wird ein Verfahren zur Bildung einer Störstellenschicht 208 des p-Typs beschrieben, unter Bezugnahme auf Fig. 14.

   Wie in Fig. 14 gezeigt, wird die Störstellenschicht 202 des p-Typs in einer der Hauptoberflächen des Siliziumsubstrats 201 gebildet und eine Abdeckmaske (resist mask) RM wird dann verwendet, um die Hauptoberfläche des Siliziumsubstrats 201 mit einem Muster zu versehen.

[0012] Die Abdeckmaske RM besitzt ein solches Muster, dass eine Öffnung OP1, welche einen grossen Bereich aufweist, welcher dem Bereich der tiefsten Diffusionsschicht entspricht, auf der gleichen Diffusionsschicht in der Störstellenschicht 208 des p-Typs, welche drei Stufen aufweist, vorgelegt wird, und eine Mehrzahl von Öffnungen OP2 vorgesehen wird auf zwei anderen Diffusionsschichten und die Anzahl der Öffnungen OP2 abnimmt, wenn die Diffusionstiefe reduziert wird.

[0013] Unter Verwendung der Abdeckmaske RM, welche die Struktur einer lonenimplantationsmaske aufweist,

   kann die wirksame Implantationsmenge für jede Diffusionsschicht geändert werden und die Störstellenschicht 208 des p-Typs, welche eine Dreistufenform besitzt, kann durch thermische Diffusion nach der Ionenimplantation erhalten werden.

Feldlimitierende Ringstruktur

[0014] Als Nächstes wird die Schnittstruktur einer Siliziumkarbiddiode 90, welche eine feldlimitierende Ringstruktur als übergangsabschliessende Bearbeitungsstruktur aufweist, unter Bezugnahme auf Fig. 15 beschrieben.

[0015] Da Siliziumkarbid eine grössere Energielücke zwischen den Banden aufweist als Silizium, besitzt es eine hohe thermische Stabilität, derart, dass eine Siliziumkarbidvorrichtung bei einer hohen Temperatur von 1000 K (Kelvin) oder weniger betrieben werden kann. Darüber hinaus besitzt Siliziumkarbid eine hohe thermische Leitfähigkeit.

   Demzufolge kann eine Siliziumkarbidvorrichtung mit einer hohen Dichte zur Verfügung gestellt werden.

[0016] Im Weiteren besitzt Siliziumkarbid ein elektrisches Durchschlagsfeld, welches etwa zehn Mal so gross ist wie dasjenige von Silizium. In einem die Leitfähigkeit sperrenden Zustand ist Siliziumkarbid demzufolge zweckmässig für eine Vorrichtung, welche unter einer Bedingung betrieben werden kann, bei welcher eine hohe Spannung erzeugt wird.

[0017] Andererseits besitzt die SIPOS-Struktur eine grosse Temperaturabhängigkeit. In einer Siliziumkarbiddiode mit einem grossen Betriebstemperaturbereich ist es demzufolge möglich, dass eine Spannungssperrfähigkeit bei tiefen und hohen Temperaturen extrem geändert werden kann. Demzufolge ist es nicht wünschenswert, dass die SIPOS-Struktur auf eine Siliziumkarbiddiode angewandt werden soll.

   Aus diesem Grund wird die feldlimitierende Ringstruktur allgemein auf die Siliziumkarbiddiode angewandt.

[0018] Wie in Fig. 15 gezeigt, wird in der Siliziumkarbiddiode 90 eine epitaxische Schicht des n-Typs 303 vorgesehen, welche eine Störstelle des n-Typs in einer verhältnismässig tiefen Konzentration (n<->) enthält, auf einer der Hauptoberflächen eines Siliziumkarbidsubstrates 301, welche die Störstelle des n-Typs in einer relativ hohen Konzentration (n<+>) aufweist.

[0019] Die epitaxische Schicht des n-Typs 303 hat eine Stufenform, welche einen vorspringenden Teil PP und einen Basisbodenteil BP besitzt und die Störstellenschicht 302 des p-Typs, welche eine Störstelle des p-Typs in einer relativ hohen Konzentration besitzt (p<+>), und als Betriebsbereich der Diode betrieben wird,

   ist in der Oberfläche des Vorsprungs PP vorgesehen.

[0020] Eine seitliche Oberfläche des Vorsprungs PP ist so zusammengesetzt, dass eine seitliche Oberfläche der epitaxischen Schicht 303 des n-Typs eine Neigung bezüglich der pn-Übergangsgrenzfläche der epitaxischen Schicht 303 des n-Typs und der Störstellenschicht 302 des p-Typs aufweist.

   Es wird demzufolge eine abgeschrägte Struktur erhalten.

[0021] Auf der seitlichen Oberfläche des Vorsprungs PP ist ein Siliziumoxidfilm 307 vorgesehen, von welchem ein Randabschluss des pn-Übergangs der Oberfläche des Basisbodenteils BP ausgesetzt ist und der Randabschluss nicht direkt ausgesetzt ist.

[0022] Im Weiteren ist der Basisbodenteil BP selektiv mit einer Störstellenschicht des p-Typs 308 versehen, welche eine Störstelle des p-Typs in einer relativ tiefen Konzentration (p<->) aufweist, wobei der Vorsprung PP umgeben wird, wobei ein feldlimitierender Ring gebildet wird.

   Der feldlimitierende Ring ist in einem schwimmenden Zustand.

[0023] Eine Anode 304 ist auf der Störstellenschicht 302 des p-Typs vorgesehen und eine Kathode 305 ist auf der anderen Hauptoberfläche des Siliziumkarbidsubstrats 301 vorgesehen.

[0024] Da der feldlimitierende Ring 308 so vorgesehen ist, dass der Betriebsbereich der Diode umgeben wird, kann eine hohe Durchschlagsspannung erzielt werden. Spezifischer wird zuerst, wenn eine Rückwärtsvorspannung an die Diode 90 angelegt wird, eine Verarmungsschicht um den Hauptübergang gebildet. Wenn die Rückwärtsvorspannung erhöht wird, wird die Verarmungsschicht in Richtung der äusseren peripheren Seite ausgedehnt und der Hauptübergang und der feldlimitierende Ring stossen durch, bevor ein Lawinendurchschlag des Hauptübergangs verursacht wird.

   Demzufolge kann ein maximaler Feldeffekt eines Kurventeils des Hauptübergangs freigesetzt werden und die Durchschlagsspannung kann aufrechterhalten werden.

[0025] Ein Verfahren zur Herstellung der Siliziumkarbiddiode 90 wird nachstehend unter Bezugnahme auf die Fig. 16 bis 24, welche Schnittzeichnungen darstellen, die den Herstellungsprozess geordnet darstellen, beschrieben.

[0026] In der Stufe, welche in Fig. 16 gezeigt ist, wird zuerst ein Siliziumkarbidsubstrat 301, welches eine Störstelle des n-Typs enthält, mit einer relativ hohen Konzentration (n<+>) hergestellt und das Siliziumkarbid wächst auf einer der Hauptoberflächen durch ein epitaxisches Wachstumsverfahren, unter Bildung einer epitaxischen Schicht 303 des n-Typs, welche eine Störstellenkonzentration von 8X10<14> cm<-3> (Fig. 17) besitzt.

   Die epitaxische Schicht 303 des n-Typs besitzt eine Dicke von etwa 50 Microm.

[0027] In der Stufe, welche in Fig. 18 gezeigt ist, wird als Nächstes ein Störstellenion des p-Typs in die Hauptoberfläche der epitaxischen Schicht 303 des n-Typs implantiert, wobei eine Störstellenschicht 302 des p-Typs, welche eine Störstelle des p-Typs in einer relativ hohen Konzentration (p<+>) enthält, durch thermische Diffusion gebildet wird.

[0028] In einer Stufe in Fig. 19 wird dann eine Störstellenschicht 302 des p-Typs auf der äusseren Peripherie des Betriebsbereiches entfernt, unter Verwendung einer polylithografischen Technik und einer anisotropen Ätztechnik, derart, dass die Störstellenschicht 302 des p-Typs nur in einem Teil erhalten bleibt, welcher den Betriebsbereich darstellt.

   Zu dieser Zeit wird ein Teil der epitaxischen Schicht 303 des n-Typs gemeinsam entfernt, derart, dass eine Stufenform, welche einen Vorsprung PP aufweist, und ein Basisbodenteil BP gebildet werden.

[0029] Der Vorsprung PP hat eine abgeschrägte Struktur, in welcher die seitliche Oberfläche mit einer Abschrägung ausgebildet ist und die seitliche Oberfläche der epitaxischen Schicht des n-Typs 303 eine Abschrägung bezüglich der pn-Übergangsgrenzfläche der epitaxischen Schicht 303 des n-Typs besitzt und die Störstellenschicht 302 des p-Typs im Betriebsbereich bleibt.

[0030] In der Stufe, welche als nächste in Fig. 20 gezeigt wird, wird eine Abdeckmaske RM1 gebildet, über die gesamte Oberfläche und eine Öffnung OP3 ist vorgesehen, um den Vorsprung PP in der Abdeckmaske RM1, welche im Basisbodenteil BP gemäss Fig. 21 vorgesehen ist, zu umgeben.

   Eine Störstelle des p-Typs wird in die Hauptoberfläche der epitaxischen Schicht 303 des n-Typs implantiert, durch die Öffnung OP3, durch Ionenimplantation, wobei eine Störstellenschicht 308 gebildet wird, welche eine Störstelle des p-Typs in einer relativ tiefen Konzentration (p<->) enthält.

[0031] Nachdem die Abdeckmaske RM1 entfernt ist, wird ein Siliziumoxidfilm 307 über der gesamten Oberfläche in einer Stufe gemäss Fig. 22 gebildet.

[0032] In der Stufe gemäss Fig. 23 wird dann der Siliziumoxidfilm 307 entfernt, derart, dass der obere Teil der Störstellenschicht 302 des p-Typs den Bearbeitungsbereich darstellt und als Öffnung OP4 dient.

   Zu dieser Zeit wird der Siliziumoxidfilm 307 selektiv entfernt, derart, dass die Seitenoberfläche des Vorsprungs PP und der Basisbodenteil BP zuverlässig mit einem Siliziumoxydfilm 307 abgedeckt werden.

[0033] In der Stufe gemäss Fig. 24 wird dann eine Anode 304 gebildet, auf der Störstellenschicht 302 des p-Typs, welche durch die Öffnung OP4 ausgesetzt ist. Schliesslich wird eine Kathode 305 auf der anderen Hauptoberfläche des Siliziumkarbidsubstrates 301 gebildet. In der Folge wird die Siliziumkarbiddiode 90 gemäss Fig. 15 erhalten.

[0034] Obschon die Störstellenschicht 308 vom p-Typ den feldlimitierenden Ring bildet, besitzt das Silikoncarbid ein elektrisches Durchschlagsfeld, welches ungefähr zehnmal so gross ist wie dasjenige von Silizium.

   Auf Basis einer einfachen Rechnung ist es demzufolge genügend, dass die Anzahl der feldlimitierenden Ringe ein Zehntel von derjenigen beträgt, im Fall, wo der feldlimitierende Ring in einer Siliziumvorrichtung vorgesehen ist.

[0035] Während die SlPOS-Struktur oder die feldlimitierende Ringstruktur für die Übergangsabschlussbearbeitungsstruktur in konventionellen Halbleitervorrichtungen wie oben beschrieben verwendet wurde, ergaben sich folgende Probleme. Insbesondere besitzt die Leitfähigkeit des SIPOS-Films eine grosse Temperaturabhängigkeit und wird erhöht, wenn die Temperatur ansteigt. Die Leitfähigkeit wird ungefähr um zwei Stellen bei Zimmertemperatur und einer Temperatur von 125 deg. C variiert. Die spannungssperrende Fähigkeit wird bei Zimmertemperatur und der Temperatur von 125 deg. C variiert und der Leckstrom wird bei der Temperatur von 125 deg. C erhöht.

   In der Folge wird die Temperatur weiter erhöht und ein Leckstrom wird weiter zunehmen mit einem Stromverlust, welcher durch den Leckstrom bei hohen Temperaturen gebildet wird. Durch die positive Rückkoppelungsfunktion besteht die Möglichkeit, dass der Betrieb der Halbleitervorrichtung unsteuerbar werden könnte.

[0036] Überdies wird die Leitfähigkeit des SIPOS-Films durch eine Konzentration von enthaltenem Stickstoff bestimmt. Es ist jedoch nicht leicht, die Sauerstoffkonzentration zu steuern mit einem hohen Druck des Herstellungsverfahrens.

[0037] Andererseits sind die Störstellenkonzentration und die Diffusionstiefe des feldlimitierenden Rings normalerweise verschieden von demjenigen des Hauptübergangs im Betriebsbereich. Der feldlimitierende Ring ist separat vorgesehen von einer Stufe, welche den Hauptübergang bildet, derart, dass ein optimaler Zustand erhalten wird.

   Das Herstellungsverfahren wird jedoch kompliziert und eine Reduktion der Herstellungskosten kann nicht erreicht werden.

[0038] Vorliegende Erfindung ist auf eine Halbleitervorrichtung gerichtet, umfassend eine Unterlagshalbleiterschicht, welche einen Bereich aufweist, in welchem ein pn-Übergang zu bilden ist, wobei das Übergangsende des genannten pn-Übergangs eine Hauptoberfläche der genannten Unterlagshalbleiterschicht erreicht;

   und mindestens eine Schottky-Metallschicht, angeordnet ringförmig auf der genannten Hauptoberfläche der genannten Unterlagshalbleiterschicht in Schottky-Kontakt mit der genannten Unterlagshalbleiterschicht, um den genannten Bereich zu umgeben.

[0039] Die Schottky-Metallschicht ist ringförmig angeordnet auf der Hauptoberfläche der Unterlagshalbleiterschicht vorgesehen, in Schottky-Kontakt mit der Unterlagshalbleiterschicht, um den Bereich zu umgeben, in welchem der pn-Übergang gebildet wird. Demzufolge wird eine Verarmungszone gebildet, welche eine sehr kleine Störstellenkonzentration aufweist, in der Hauptoberfläche der Unterlagshalbleiterschicht, um eine solche Tiefe aufzuweisen, welche nahezu gleich oder grösser als die Tiefe des Hauptübergangs ist, entsprechend einem Teil, in welchem die Schottky-Metallschicht gebildet wird.

   Wenn ein Rückwärtsstrom an die Halbleitervorrichtung angelegt wird, wird zuerst eine Verarmungsschicht rund um den Hauptübergang gebildet. Sobald der Rückwärtsstrom erhöht wird, dehnt sich die Verarmungsschicht gegen die äussere periphere Seite und den Hauptübergang aus und der Verarmungsbereich stösst durch, bevor ein Lawinendurchschlag des Hauptübergangs verursacht wird. Demzufolge wird die Verarmungsschicht ausgedehnt, derart, dass sie eine solche Tiefe aufweist, dass sie nahezu gleich oder grösser ist als die Tiefe des Hauptübergangs und gegen die äussere periphere Seite ausgedehnt wird, und ein maximales elektrisches Feld eines gebogenen Teils des Hauptübergangs unterdrückt werden kann und eine hohe Durchschlagsspannung erhalten werden kann.

   Im Unterschied zum Fall, worin ein feldlimitierender Ring als übergangsbeendende Verarbeitungsstruktur verwendet wird, ist es überdies nicht erforderlich, einen so geeigneten pn-Übergang auf der Oberfläche des Halbleitersubstrats zu bilden. Demzufolge kann die Herstellungsmethode vereinfacht werden und die Herstellungskosten können vermindert werden. Im Unterschied zum Fall, in welchem ein SIPOS-Film für die Übergangsendbearbeitungsstruktur verwendet wird, wird keine Komponente verwendet, welche eine grosse Temperaturabhängigkeit aufweist. Sogar wenn eine Temperaturzunahme erzeugt wird, kann ein unsteuerbarer Betrieb vermieden werden.

   Es kann demzufolge eine Halbleitervorrichtung erhalten werden, welche eine hohe Zuverlässigkeit besitzt.

[0040] Diese und andere Ziele, Merkmale, Aspekte und Vorteile der vorliegenden Erfindung werden ersichtlich von der folgenden detaillierten Beschreibung der vorliegenden Erfindung, wenn sie zusammen mit den beiliegenden Zeichnungen betrachtet wird.

Kurze Beschreibung der Zeichnungen

[0041] 
<tb>Fig. 1<sep>ist eine Schnittansicht, welche eine Struktur einer Halbleitervorrichtung gemäss einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt,


  <tb>Fig. 2 bis 12<sep>sind Schnittansichten, welche ein Verfahren zur Herstellung der Halbleitervorrichtung gemäss einer Ausführung der vorliegenden Erfindung zeigen,


  <tb>Fig. 13<sep>ist eine Schnittansicht, welche eine Struktur einer konventionellen Halbleitervorrichtung zeigt, welche einen SIPOS-Film als Übergangsabschlussbearbeitungsstruktur zeigt,


  <tb>Fig. 14<sep>ist eine Schnittansicht, welche ein Verfahren für die Herstellung der konventionellen Halbleitervorrichtung erläutert, welche den SIPOS-Film als Übergangsabschlussbearbeitungsstruktur verwendet,


  <tb>Fig. 15<sep>ist eine Schnittansicht, welche eine Struktur einer konventionellen Halbleitervorrichtung zeigt, welche einen feldlimitierenden Ring als Übergangsabschlussbearbeitungsstruktur verwendet und


  <tb>Fig. 16 bis 24<sep>sind Schnittansichten, welche ein Verfahren zur Herstellung einer konventionellen Halbleitervorrichtung zeigen, wobei ein feldlimitierender Ring verwendet wird.

Beschreibung der bevorzugten Ausführungsformen

A) Struktur der Vorrichtung

[0042] Fig. 1 zeigt eine Schnittstruktur einer Siliziumdiode 100 gemäss einer ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung.

[0043] Wie in Fig.

   1 gezeigt, enthält die Siliziumdiode 100 eine Störstellenschicht des p-Typs 102, welche als Betriebsbereich der Elektrode vorgesehen ist und eine Störstelle (p<+>) in einer relativ hohen Konzentration in einer der Hauptoberflächen des Siliziumsubstrates enthält, welches eine Störstelle des n-Typs besitzt, in einer verhältnismässig tiefen Konzentration (n<->), und eine Mehrzahl von ringförmigen Schottky-Metallschichten 106, die konzentrisch auf der Hauptoberfläche des Siliziumsubstrates 101 um einen Bereich angeordnet sind, in welchem die Störstellenschicht 102 des p-Typs mit einem dazwischenliegenden Zwischenraum gebildet wird, so dass die Störstellenschicht 102 des p-Typs umgeben wird.

[0044] Auf der Hauptoberfläche des Siliziumsubstrates 101 ist rund um die Störstellenschicht des p-Typs 102, einschliesslich der Schottky-Metallschichten 106,

   ein Siliziumoxidfilm 107 vorgesehen und es ist eine Anode 104 auf der Störstellenschicht des p-Typs 102 vorgesehen.

[0045] Überdies ist eine Störstellenschicht 103 des n-Typs vorgesehen, welche eine Störstelle des n-Typs in einer relativ hohen Konzentration (n<+>) enthält, auf der anderen Hauptoberfläche des Siliziumsubstrats 101 und es ist eine Kathode 105 vorgesehen auf der Störstellenschicht 103 des n-Typs.

   Da das Siliziumsubstrat 101, die Störstellenschicht 102 des p-Typs und die Störstellenschicht 103 des n-Typs als Unterlagsschichten der Schottky-Metallschicht 106 dienen, kann die Schicht, welche durch diese Schichten zusammengesetzt ist, als Unterlagshalbleiterschicht bezeichnet werden.

[0046] Mit einer solchen Struktur kommt die Schottky-Metallschicht 106 in Kontakt mit dem Siliziumsubstrat 101, wobei eine Verarmungszone 108 gebildet wird, welche eine sehr tiefe Störstellenkonzentration aufweist, bis zu einer solchen Tiefe, welche nahezu gleich oder grösser als die Tiefe des Hauptübergangs in der Hauptoberfläche des Siliziumsubstrates 101 ist.

[0047] Wenn eine Rückwärtsspannung an die Diode 100 angelegt wird, wird zuerst rund um den Hauptübergang eine Verarmungsschicht gebildet.

   Sobald die Rückwärtsspannung erhöht wird, wird die Verarmungszone gegen die äussere periphere Seite ausgedehnt und der Hauptübergang und die Verarmungszone 108 stossen durch, bevor der Lawinendurchschlag des Hauptübergangs verursacht ist. Wie in Fig. 1 gezeigt, wird demzufolge die Verarmungsschicht DL ausgedehnt, derart, dass sie eine solche Tiefe aufweist, welche nahezu gleich oder grösser als die Tiefe des Hauptübergangs ist und gegen die äussere periphere Seite ausgedehnt ist, derart, dass ein maximales elektrisches Feld auf dem gebogenen Teil des Hauptübergangs unterdrückt wird.

B) Herstellungsverfahren

[0048] Ein Verfahren zur Herstellung der Siliziumdiode 100 wird nachstehend unter Bezugnahme auf die Schnittzeichnungen gemäss Fig.

   2 bis 12 beschrieben, welche aufeinanderfolgend ein Herstellungsverfahren zeigen.

[0049] Zuallererst wird ein Siliziumsubstrat 101 hergestellt, welches eine Störstelle des n-Typs in einer verhältnismässig tiefen Konzentration (n<->) in einer Stufe, welche in Fig. 2 dargestellt ist, enthält, und es wird, wie in Fig. 3 dargestellt, eine Abdeckmaske RM11 insgesamt über einer der Hauptoberflächen des Siliziumsubstrates 101 gebildet.

[0050] In einer Stufe, welche in Fig. 4 dargestellt ist, wird als Nächstes die Abdeckmaske RM11, welche dem Betriebsbereich entspricht, selektiv entfernt, unter Bildung einer Öffnung OP11, welche dem Betriebsbereich entspricht. Wie in Fig. 5 dargestellt, wird eine Störstelle des p-Typs in die Hauptoberfläche des Siliziumsubstrates 101 durch die Öffnung OP11 durch Ionenimplantation eingeführt und dann thermisch diffundiert.

   In der Folge wird im Betriebsbereich eine Störstellenschicht des p-Typs 102 gebildet, welche eine Störstelle des p-Typs in einer verhältnismässig hohen Konzentration (p<+>) enthält. Die Konzentration der Störstellenschicht 102 des p-Typs wird innerhalb des Optimierungsbereichs der dynamischen Charakteristik der Diode 100 bestimmt und kann nicht vorbehaltlos definiert werden. Eine Oberflächenkonzentration reicht von 1 X 10<16 >cm<-3 >bis 1 X10<19> cm<-3>.

[0051] Nach der Entfernung der Abdeckmaske RM11 wird ein Störstellenion des n-Typs in die andere Hauptoberfläche des Siliziumsubstrates 101 implantiert und thermisch diffundiert, um eine Störstellenschicht des n-Typs 103 zu bilden, welche eine Störstelle des n-Typs in einer verhältnismässig hohen Konzentration (n<+>) enthält, wie in Fig. 6 dargestellt.

   Eine Grenzfläche der Störstellenschicht des p-Typs 102 und des Siliziumsubstrats 101 bildet einen pn-Übergang und ein Übergangsende davon erreicht die Hauptoberfläche des Siliziumsubstrates 101.

[0052] In einem Schritt, welcher in Fig. 7 dargestellt wird, wird dann ein Siliziumoxidfilm 107 durch ein CVD-Verfahren (chemical vapor deposition) gebildet, beispielsweise über die gesamte Hauptoberfläche auf der Seite, wo die Störstellenschicht des p-Typs 102 gebildet wird.

[0053] Bei einer Stufe, welche in Fig.

   8 dargestellt ist, wird als Nächstes der Siliziumoxidfilm 107 selektiv entfernt, indem eine fotolithografische Technik und eine anisotrope Ätztechnik verwendet werden, derart, dass eine Öffnung OP12 auf der Störstellenschicht vom p-Typ 102 gebildet wird, welche einen Betriebsbereich darstellt, und eine Mehrzahl von ringförmigen Öffnungen OP13 sind konzentrisch rund um die Öffnung OP12 angeordnet.

[0054] In einer Stufe, welche in Fig. 9 dargestellt wird, wird als Nächstes die Öffnung OP13 aufgefüllt und eine Mehrzahl von ringförmigen Schottky-Metallschichten 106 werden zum Beispiel durch ein Verdampfungsverfahren gebildet, derart, dass sie in Schottky-Kontakt mit dem Siliziumsubstrat 101 geraten.

   Insbesondere wird die Schottky-Metallschicht 106 über die gesamte Oberfläche ausgebildet und wird dann selektiv unter Verwendung einer Fotolithografietechnik und einer anisotropen Ätztechnik entfernt, derart, dass die Schottky-Metallschicht 106 nur auf dem oberen Teil der Öffnung OP13 erhalten bleibt.

   Titan (Ti) oder Platin (Pt) werden als Material für die Schottky-Metallschicht 106 verwendet.

[0055] In einem Schritt, welcher in Fig. 10 dargestellt ist, wird die Öffnung OP12 aufgefüllt und es wird durch ein Verdampfungsverfahren eine Anode 104 über die gesamte Oberfläche gebildet, beispielsweise unter Einbezug eines Bereichs, in welchem die Schottky-Metallschicht 106 gebildet wird.

[0056] In einem Schritt, welcher in Fig. 11 dargestellt ist, wird dann die Anode 104 selektiv entfernt, indem eine Fotolithografietechnik oder eine anisotrope Ätztechnik verwendet wird, derart, dass die Anode 104 nur in der Öffnung OP12 erhalten bleibt und auf dem Siliziumoxid 107 in der Nachbarschaft des Kantenteils der Öffnung OP12.

[0057] Wie in Fig. 12 gezeigt, wird schliesslich eine Kathode 105 auf der Störstellenschicht des n-Typs 103 gebildet, z.B. durch ein Verdampfungsverfahren.

   Die Siliziumdiode 100 ist demzufolge fertig gestellt. Aluminium (Al) oder dgl. wird als Material verwendet für die Anode 104 und eine abgelagerte Mehrfachschicht, welche aus Al, Ti, Nickel (Ni) und Gold (Au) oder dgl. zusammengesetzt ist, wird als Material für die Kathode 105 verwendet.

[0058] Jede der ringförmigen Schottky-Metallschichten 106 hat die Funktion, die Durchschlagsspannung von einigen 100 V im Siliziumsubstrat 101 aufrechtzuerhalten.

   Wenn demzufolge eine Mehrzahl von Schottky-Metallschichten 106 vorgesehen ist, kann eine höhere Sperrkapazität aufrechterhalten werden.

[0059] Überdies sind die Anode 104 und die Schottky-Metallschicht 106 durch einen isolierenden Film, beispielsweise durch eine Siliziumoxidfolie 107, derart elektrisch voneinander isoliert, dass ein Leckstrom zwischen der Kathode und der Anode reduziert werden kann.

[0060] Im Weiteren sind die Schottky-Metallschichten 106 durch einen isolierenden Film, wie durch einen Siliziumoxidfilm 107 elektrisch voneinander isoliert, und die endständige Oberfläche der Verarmungszone 108 wird durch einen isolierenden Film, wie durch einen Siliziumoxidfilm 107, derart abgedeckt, dass sie nicht der Hauptoberfläche des Siliziumsubstrats 101 ausgesetzt ist. Demzufolge kann ein Leckstrom zwischen der Kathode und der Anode reduziert werden.

   Anstelle des Siliziumoxidfilms 107 kann ein halbisolierender Film, wie ein Siliziumnitridfilm (Si3N4) verwendet werden. Durch das Zurverfügungstellen des isolierenden Films oder des halbisolierenden Films wird das Siliziumsubstrat 101 von äusseren Faktoren geschützt.

C) Funktion und Effekt

[0061] Wie oben beschrieben, wird in der Halbleitervorrichtung gemäss der Ausführungsform der vorliegenden Erfindung die Verarmungszone 108 durch den Schottky-Kontakt der Schottky-Metallschicht 106 gebildet, welche ringförmig um den Betriebsbereich angeordnet ist und das Siliziumsubstrat 101 wird als übergangsabschliessende Bearbeitungsstruktur verwendet.

[0062] Demzufolge ist es nicht erforderlich, einen zugeordneten pn-Übergang auf der Oberfläche des Halbleitersubstrates zu bilden, im Unterschied zum Fall,

   in welchem ein feldlimitierender Ring als Übergangsbeendigungsstruktur verwendet wird, so dass das Herstellungsverfahren vereinfacht und die Herstellungskosten reduziert werden können.

[0063] Im Unterschied zum Fall, in welchem ein SIPOS-Film als übergangsabschliessende Bearbeitungsstruktur verwendet wird, wird überdies keine Komponente verwendet, welche eine grosse Temperaturabhängigkeit aufweist. Demzufolge kann, sogar bei einem Temperaturanstieg, ein unsteuerbarer Betrieb vermieden werden.

   Demzufolge kann eine Halbleitervorrichtung mit einer hohen Zuverlässigkeit erhalten werden.

D) Variante

[0064] Während die Siliziumdiode 100 auf dem Siliziumsubstrat 101 gebildet wird, welches in der Ausführungsform gemäss der vorliegenden Erfindung beschrieben wurde, kann eine Diode hergestellt werden, indem ein Siliziumkarbidsubstrat anstelle des Siliziumsubstrates 101 verwendet wird. Es kann das gleiche Herstellungsverfahren wie oben beschrieben verwendet werden.

[0065] Um eine Spannungssperrkapazität mit der Siliziumkarbiddiode aufrechtzuerhalten, wird ein feldlimitierender Ring für die Übergangsbeendigungsbearbeitungsstruktur wie oben beschrieben verwendet.

   Um den feldlimitierenden Ring auf dem Siliziumkarbidsubstrat zu bilden, werden jedoch Ionen in das Siliziumkarbidsubstrat implantiert, wobei ein hoher Temperaturzustand aufrechterhalten wird, im Unterschied zum Siliziumsubstrat, und eine Aktivierung und thermische Diffusion werden bei einer Temperatur von tausend und einigen hundert Graden durchgeführt. Wenn die Struktur gemäss der vorliegenden Erfindung angewandt wird, wird eine Schottky-Metallschicht ringförmig auf der Hauptoberfläche des Siliziumkarbidsubstrats vorgesehen.

   Das Herstellungsverfahren kann demzufolge vereinfacht werden und eine Siliziumkarbiddiode mit einer hohen Spannungssperrkapazität kann leicht erhalten werden.

[0066] Während die Diode als Beispiel einer Halbleitervorrichtung in der oben beschriebenen Beschreibung dargelegt wurde, ist die vorliegende Erfindung nicht auf eine Diode eingeschränkt, kann jedoch auf sämtliche Halbleitervorrichtungen angewandt werden, beispielsweise auf einen MOS-Transistor oder auf einen IGBT (insulated gate bipolar transistor).

   Kurz gesagt kann im Fall, in welchem eine Basisschicht, eine Emitterschicht, eine Kollektorschicht, eine Quell-Drain-Schicht oder dgl. in einer Hauptoberfläche einer Unterlagshalbleiterschicht gebildet wird, eine Verarmungsschicht gebildet werden, indem ein Hauptübergang gegen die äussere periphere Seite ausgedehnt wird, wobei ein maximales elektrisches Feld des gebogenen Teils des Hauptübergangs unterdrückt werden kann und die Durchschlagsspannung erhöht werden kann, wenn die ringförmige Schottky-Metallschicht auf der Hauptoberfläche der Unterlagshalbleiterschicht rund um den Bereich, in welchem die Schichten geformt werden, angeordnet ist.

[0067] Während die Erfindung dargelegt und im Einzelnen beschrieben ist, ist die vorliegende Beschreibung in allen Aspekten erläuternd und nicht restriktiv.

   Es wird demzufolge darauf hingewiesen, dass zahlreiche Modifikationen und Variationen abgeleitet werden können, ohne dass vom Schutzbereich der Erfindung abgewichen wird.

Claims (6)

1. Halbleitervorrichtung, umfassend: eine Unterlagshalbleiterschicht, welche einen Bereich aufweist, in welchem ein pn-Übergang gebildet ist, wobei das Übergangsende des genannten pn-Übergangs eine Hauptoberfläche der genannten Unterlagshalbleiterschicht erreicht; und mindestens eine Schottky-Metallschicht (106), angeordnet ringförmig auf der genannten Hauptoberfläche der genannten Unterlagshalbleiterschicht, in Schottky-Kontakt mit der genannten Unterlagshalbleiterschicht, um den genannten Bereich zu umgeben.

2. Halbleitervorrichtung gemäss Anspruch 1, worin die mindestens eine Schottky-Metallschicht eine Mehrzahl von Schottky-Metallschichten beinhaltet, wobei die genannte Mehrzahl von Schottky-Metallschichten konzentrisch mit einem Zwischenraum dazwischen angeordnet ist.

3. Halbleitervorrichtung gemäss Anspruch 1, worin die genannte Unterlagshalbleiterschicht eine erste Halbleiterschicht (101); und eine zweite Halbleiterschicht mit einem verschiedenen Leitfähigkeitstyp, welche in einer ersten Hauptoberfläche der genannten ersten Halbleiterschicht angeordnet ist, umfasst, der genannte pn-Übergang aus einer Grenzfläche der genannten ersten Halbleiterschicht und der genannten zweiten Halbleiterschicht zusammengesetzt ist, wobei die Halbleitervorrichtung weiter eine Hauptelektrode (104) in Kontakt mit einer Oberfläche der genannten zweiten Halbleiterschicht, ausgesetzt der genannten ersten Hauptoberfläche der genannten ersten Halbleiterschicht, zu welcher der Hauptstrom der genannten Halbleitervorrichtung fliesst;

und einen isolierenden Film (107) oder einen halbisolierenden Film auf der genannten ersten Hauptoberfläche der genannten ersten Halbleiterschicht zwischen der genannten Hauptelektrode und der genannten mindestens einen Schottky-Metallschicht umfasst.

4. Halbleitervorrichtung gemäss Anspruch 3, worin die mindestens eine Schottky-Metallschicht eine Mehrzahl von Schottky-Metallschichten beinhaltet, wobei diese Mehrzahl von Schottky-Metallschichten konzentrisch mit einem Zwischenraum dazwischen angeordnet ist, und der genannte isolierende Film oder der genannte halbisolierende Film ebenfalls auf der genannten ersten Hauptoberfläche der genannten ersten Halbleiterschicht zwischen den genannten Schottky-Metallschichten angeordnet sind.

5. Halbleitervorrichtung gemäss Anspruch 3, worin die genannte erste Halbleiterschicht eine Halbleiterschicht des n-Typs ist, die genannte zweite Halbleiterschicht eine Halbleiterschicht des p-Typs ist, und die genannte Hauptelektrode eine Anode ist, wobei die genannte Halbleitervorrichtung weiter umfasst: eine Kathode (105) auf der zweiten Hauptoberfläche, gegenüber der genannten ersten Hauptoberfläche der genannten ersten Halbleiterschicht.

6. Halbleitervorrichtung gemäss Anspruch 1, worin die genannte Unterlagshalbleiterschicht aus einer Siliziumkarbidschicht zusammengesetzt ist.