CN1069435C - 颗粒膜巨磁电阻效应传感器材料 - Google Patents

颗粒膜巨磁电阻效应传感器材料 Download PDF

Info

Publication number
CN1069435C
CN1069435C CN96117043A CN96117043A CN1069435C CN 1069435 C CN1069435 C CN 1069435C CN 96117043 A CN96117043 A CN 96117043A CN 96117043 A CN96117043 A CN 96117043A CN 1069435 C CN1069435 C CN 1069435C
Authority
CN
China
Prior art keywords
sensor material
sputtering
film
effect sensor
sio
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN96117043A
Other languages
English (en)
Other versions
CN1172332A (zh
Inventor
都有为
张世远
桑海
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nanjing University
Original Assignee
Nanjing University
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nanjing University filed Critical Nanjing University
Priority to CN96117043A priority Critical patent/CN1069435C/zh
Publication of CN1172332A publication Critical patent/CN1172332A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN1069435C publication Critical patent/CN1069435C/zh
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Hall/Mr Elements (AREA)
  • Thin Magnetic Films (AREA)

Abstract

一种磁传感器材料,其特征是采用磁控溅射,离子束溅射、快淬等工艺将铁磁性颗粒镶嵌在不相固溶的非磁性介质之中,形式非均匀相组成体系,其化学通式为:FxA(1-x)其中F代表Fe,Ni,Co,Mn,FeSi,FeCo,FeNi,MnAl,MnBi等铁磁性金属及其合金。A代表Au,Ag,Cu等与Fe,Ni,Co不相固溶的金属,以及SiO2,Al2O3,BN等绝缘体以及Si,Ge等半导体元素,X为体积百分数,取X为10<X<50%。本发明的特点是采用溅射、快淬工艺一次生成颗粒膜,其工艺较多层膜简便、成品率高、价格低廉。

Description

颗粒膜巨磁电阻效应传感器材料
本发明涉及金属-金属,金属-绝缘体(含半导体)磁性颗粒膜巨磁电阻材料及其工艺。
目前探测磁场的传感器多数采用霍尔效应,其缺点是半导体霍尔元件易损坏,测量时具有方向性,灵敏度亦不够高。80年代末期各向异性磁电阻效应的FeNi等磁性合金薄膜开始作为磁传感器而被研制。1988年人们首先在Fe/Cr、Co/Cu等多层膜中发现了比FeNi合金大得多的负磁电阻效应,称之为巨电阻效应,1992年报导了Co-Cu颗粒膜中同样存在各向同性的巨磁电阻效应,该效应的发现为磁传感器提供了一类新型的人工功能材料,其电阻率约为10-5-10-6Ωcm,为了实用化通常需光刻成栅就以提高电阻值。
本发明的解决方案是:采用磁控溅射,离子束溅射、快淬等工艺将铁磁性颗粒镶嵌在不相固溶的非磁性介质之中,形成非均匀相组成体系,其化学通式为:FxA(1-x)其中F代表Fe,Ni,Co,Mn,FeSi,FeCo,FeNi,MnAl,MnBi等铁磁性金属及其合金。A代表Au,Ag,Cu等与Fe,Ni,Co不相固溶的金属,以及SiO2,Al2O3,BN等绝缘体以及Si,Ge等半导体元素,X为体积百分数,取X为10<X<50%。
本发明的特点是采用溅射、快淬工艺一次生成颗粒膜,其工艺较多层膜简便、成品率高、价格低廉。
本发明采用的磁性金属--绝缘体颗粒膜,具有制备方便,重复性好,化学稳定性高,电阻值较高的优点,可以成为磁传感器的新型功能材料。以下结合附图和通过实施例对本发明作进一步说明:
图1为CoAg颗粒膜的室温巨磁电阻率Δρ/ρ与外磁场关系曲线
图2为CoCu颗粒膜的室温巨磁电阻率Δρ/ρ与外磁场关系曲线
图3为CoNiCu颗粒膜的室温巨磁电阻率Δρ/ρ与外磁场关系曲线
图4为FeSiO2颗粒膜的室温巨磁电阻率Δρ/ρ与外磁场关系曲线
实施例1.Co22Ag78颗粒膜,采用离子束共溅射工艺,Co-Ag复合靶材,真空度-10-4Pa,基片为盖玻片或Al2O3陶瓷片,溅射成膜后500K真空处理半小时,室温巨磁电阻率Δρ/ρ。与外磁场的关系曲线见图1。
实施例2.Co20Cu80颗粒膜,采用直流磁控溅射工艺,真空度为10-3Pa,工作气体Ar(99.99%)气压0.8Pa,基片为盖玻片或Si(100)单晶片,溅射成膜后400℃真空热处理,离子束共溅射亦得到相似的结果,室温巨磁电阻率Δρ/ρ。与外磁场的关系曲线,见图2。
实施例3.Co15Ni10Cu75颗粒膜,制备工艺如实施例2,巨磁电阻率Δρ/ρo与外磁场在此测定的磁场范围内具有较佳的可逆、线性关系。见图3。该材料具有失稳分解的相结构特征。
实施例4.Fe28SiO72颗粒膜,采用离子束溅射工艺,Fe-SiO2复合靶材,实验条件如实例1,室温Δρ/ρ-H见曲线图4。

Claims (2)

1.一种磁传感器材料,铁磁性颗粒镶嵌在不相固溶的非磁性介质之中,采用磁控溅射,离子束测射工艺使之形成非均匀相组成体系,其化学通式为:FxA(1-x)其中F代表Fe、Ni、Co等铁磁性金属及其合金,A代表SiO2,X为体积百分数,取X为10<X<50%。
2.根据权利要求1所述的FxA(1-x)颗粒膜材料,其特征是成分配比为Fe28SiO272
CN96117043A 1996-07-31 1996-07-31 颗粒膜巨磁电阻效应传感器材料 Expired - Fee Related CN1069435C (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN96117043A CN1069435C (zh) 1996-07-31 1996-07-31 颗粒膜巨磁电阻效应传感器材料

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN96117043A CN1069435C (zh) 1996-07-31 1996-07-31 颗粒膜巨磁电阻效应传感器材料

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN1172332A CN1172332A (zh) 1998-02-04
CN1069435C true CN1069435C (zh) 2001-08-08

Family

ID=5123986

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN96117043A Expired - Fee Related CN1069435C (zh) 1996-07-31 1996-07-31 颗粒膜巨磁电阻效应传感器材料

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN1069435C (zh)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100369200C (zh) * 2005-06-24 2008-02-13 中国科学院半导体研究所 在硅衬底上磁控溅射制备铁磁性锰硅薄膜的方法
CN100392775C (zh) * 2006-01-16 2008-06-04 南开大学 磁性颗粒薄膜材料及其制备方法和应用
CN101202144B (zh) * 2007-11-12 2011-07-06 上海工程技术大学 一种制备Fe-Mn-Si磁性形状记忆合金薄膜的方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0867966A (ja) * 1994-08-26 1996-03-12 Nec Corp 磁気抵抗効果膜
JPH0883939A (ja) * 1994-09-09 1996-03-26 Sanyo Electric Co Ltd 磁気抵抗素子

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0867966A (ja) * 1994-08-26 1996-03-12 Nec Corp 磁気抵抗効果膜
JPH0883939A (ja) * 1994-09-09 1996-03-26 Sanyo Electric Co Ltd 磁気抵抗素子

Also Published As

Publication number Publication date
CN1172332A (zh) 1998-02-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5585196A (en) Magnetoresistance effect element
CN102867645B (zh) 一种提高各向异性磁电阻坡莫合金薄膜热稳定性的方法
CN105866715A (zh) 一种线性各向异性磁阻传感器的制备方法
WO2011072498A1 (zh) 一种超高灵敏磁电阻薄膜材料及其制备方法
CN1069435C (zh) 颗粒膜巨磁电阻效应传感器材料
CN107887103A (zh) 一种磁电阻薄膜材料及其制备方法
CN108914080B (zh) 一种制备具有室温交换偏置效应锰铋合金薄膜的方法
CN101409134B (zh) 一种可提高交换偏置场大小和增强交换偏置稳定性的合金薄膜及其制备方法
JP4939683B2 (ja) 高電気比抵抗磁気抵抗膜
JP3497573B2 (ja) 交換結合膜および磁気抵抗効果素子
JPH07254510A (ja) 磁気抵抗材料
JP3247535B2 (ja) 磁気抵抗効果素子
CN101944365B (zh) 一种提高交换偏置薄膜磁性和热稳定性的方法
CN103194727A (zh) 一种磁电阻薄膜的制备及平面霍尔效应提高的方法
JP2002289947A (ja) 交換結合素子及び交換結合素子の製造方法
JP3226254B2 (ja) 交換結合膜、磁気抵抗効果素子および磁気抵抗効果ヘッド
CN100387751C (zh) 纳米晶铁锗颗粒薄膜磁敏材料的制备方法
JPH05234754A (ja) 積層膜
CN100352076C (zh) 一种各向异性磁电阻坡莫合金薄膜的制备方法
JP2871990B2 (ja) 磁気抵抗効果素子薄膜
JP4079607B2 (ja) 高電気抵抗を有する磁気抵抗膜
JPH1074658A (ja) スピンバルブ磁気抵抗効果素子の製造方法
JP2002344042A5 (zh)
JP3322916B2 (ja) 磁気抵抗効果素子ならびに磁気抵抗効果型ヘッドおよびセンサー
JP3532607B2 (ja) 磁気抵抗効果素子

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
C57 Notification of unclear or unknown address
DD01 Delivery of document by public notice

Addressee: Nanjing University

Document name: payment instructions

C19 Lapse of patent right due to non-payment of the annual fee
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee