CN116802485A - 荧光x射线分析装置 - Google Patents

荧光x射线分析装置 Download PDF

Info

Publication number
CN116802485A
CN116802485A CN202180091983.2A CN202180091983A CN116802485A CN 116802485 A CN116802485 A CN 116802485A CN 202180091983 A CN202180091983 A CN 202180091983A CN 116802485 A CN116802485 A CN 116802485A
Authority
CN
China
Prior art keywords
signal
fluorescent
energy
rays
ray
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN202180091983.2A
Other languages
English (en)
Inventor
斋藤佑多
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shimadzu Corp filed Critical Shimadzu Corp
Publication of CN116802485A publication Critical patent/CN116802485A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
    • G01N23/223—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material by irradiating the sample with X-rays or gamma-rays and by measuring X-ray fluorescence
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01T—MEASUREMENT OF NUCLEAR OR X-RADIATION
    • G01T1/00—Measuring X-radiation, gamma radiation, corpuscular radiation, or cosmic radiation
    • G01T1/16—Measuring radiation intensity
    • G01T1/17—Circuit arrangements not adapted to a particular type of detector
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/07—Investigating materials by wave or particle radiation secondary emission
    • G01N2223/076—X-ray fluorescence
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/10—Different kinds of radiation or particles
    • G01N2223/101—Different kinds of radiation or particles electromagnetic radiation
    • G01N2223/1016—X-ray
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/30—Accessories, mechanical or electrical features
    • G01N2223/304—Accessories, mechanical or electrical features electric circuits, signal processing
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01T—MEASUREMENT OF NUCLEAR OR X-RADIATION
    • G01T1/00—Measuring X-radiation, gamma radiation, corpuscular radiation, or cosmic radiation
    • G01T1/16—Measuring radiation intensity
    • G01T1/24—Measuring radiation intensity with semiconductor detectors
    • G01T1/247—Detector read-out circuitry
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01T—MEASUREMENT OF NUCLEAR OR X-RADIATION
    • G01T1/00—Measuring X-radiation, gamma radiation, corpuscular radiation, or cosmic radiation
    • G01T1/36—Measuring spectral distribution of X-rays or of nuclear radiation spectrometry
    • G01T1/366—Measuring spectral distribution of X-rays or of nuclear radiation spectrometry with semi-conductor detectors

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • High Energy & Nuclear Physics (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
  • Measurement Of Radiation (AREA)

Abstract

提供荧光X射线分析装置，能够根据分析对象而在更优选的条件下进行分析。荧光X射线分析装置具备：检测器(30)；前置放大器(41A、41B)，其将检测信号以不同的信号放大率(GA、GB)放大来形成阶梯波信号；微分电路(42)，其将阶梯波信号转换为微分波信号；A/D转换器(43)，其将微分波信号转换为数字信号；信号处理部(160)，其根据数字信号检测波高值，对波高值进行辨别并进行计数，从而制作直方图；以及输入部(51)，其设定用于进行分析的荧光X射线的能量范围，X射线分析装置(1)基于直方图来制作能量谱，基于设定的能量范围中的最大能量来自动地选择前置放大器(41A)和(41B)中的某一方。

Description

荧光X射线分析装置
技术领域
本发明涉及一种能量色散型的荧光X射线分析装置，更详细地涉及一种能够对进行分析的荧光X射线的能量范围进行设定的荧光X射线装置。
背景技术
荧光X射线分析装置向固体试样、粉状试样、液体试样照射激励X射线(一次X射线)，并通过分光器检测被所照射的一次X射线激励而放出的荧光X射线，由此进行该试样中包含的元素的定性、定量分析。这样的荧光X射线分析装置具有波长色散型和能量色散型这两种测定原理不同的装置。
其中，能量色散型的荧光X射线分析装置具有如下结构：通过半导体检测器等直接检测荧光X射线，之后进行按X射线能量E(波长λ)将输出信号进行分离的处理(例如，参照专利文献1、2)。
图4是示出以往的能量色散型的荧光X射线分析装置的结构的概要结构图。荧光X射线分析装置101具备X射线管10；能量色散型分光器30(也称作检测器30)；前置放大器41；由电容器C、电阻R构成的微分电路42；A/D转换器43；由波形转换数字滤波器61、峰检测部62、直方图存储器63构成并进行数字信号处理的X射线分析用的信号处理部160；以及控制X射线管10、能量色散型分光器30、信号处理部160等的CPU 150。在CPU 150连接有用于输入分析所需的设定、命令等的输入部151。
X射线管10向靶材施加高电压，并且向灯丝施加低电压，由此使从灯丝放射出的热电子撞击到靶材的端面，并将由此在靶材的端面产生的一次X射线射出到试样S。
检测器30在壳体的内部配置有检测荧光X射线的检测元件(例如锂漂移型Si半导体检测器)。当被照射一次X射线而从试样S放出的荧光X射线入射于检测元件时，将该荧光X射线转换为与该荧光X射线的能量成比例的电荷量来进行检测。
由检测器30检测出的电荷量被发送到前置放大器41进行放大，并被转换为电压信号后输出。该输出电压信号为阶梯波状，阶梯波的每一级检测出一个荧光X射线(量子)，各级的高度(波高)表示X射线能量E(波长λ)。
由前置放大器41放大后的输出信号被发送到微分电路42。微分电路42将阶梯波转换为下述式(1)所示的微分波。通过像这样从阶梯波转换为微分波，相比于阶梯波，能够取得大的动态范围，能够实现高分辨率。
y＝exp(-nT/τ)＝an···(1)
其中，τ为RC时间常数，T为采样周期，n为样品数，a为时间常数(exp(-T/τ))。
A/D转换器43将作为模拟信号被输入的微分波转换为微分波数字信号，并输入到信号处理部160的波形转换数字滤波器61。
波形转换数字滤波器61针对被输入的微分波数字信号如图5所示的那样利用下述式(2)所示的传递函数进行处理，转换为梯形波数字信号。通过像这样将微分波数字信号转换为梯形波数字信号，能够准确地计算出峰的波高值(峰顶值)。
【数1】
其中，在上述式中，M为梯形波顶时间(上边部分的时间)，N为梯形波上升/下降时间。
图6是示意性地示出输入到波形转换数字滤波器61的微分波数字信号和由波形转换数字滤波器61进行波形转换并输出的梯形波数字信号的波形图。当由检测器30以不规则的时间间隔检测到大小各种各样的信号时，经由前置放大器41、微分电路42、A/D转换器43，以不规则的时间间隔向波形转换数字滤波器61一个接一个地输入大小各种各样的微分波数字信号，并进行利用数字信号的处理，生成具有与各个微分波数字信号相应的波高值的梯形波数字信号。
峰检测部62检测梯形波数字信号的峰并获取峰的波高值(峰顶值)，每当检测到一个峰，就将与峰顶值相应的X射线能量E的计数值递增，并保存于直方图存储器63。
另一方面，预先由输入部151设定用于进行分析的荧光X射线的能量范围。CPU 150基于直方图存储器63中保存的数据，制作将横轴设为由输入部151设定的荧光X射线的能量范围、将纵轴设为根据计数值求出的元素的含有量(强度)的波高分布图(能量谱直方图)，并将其显示于未图示的显示画面。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2015-21957号公报
专利文献2：日本特开2020-51900号公报
发明内容
发明要解决的问题
在荧光X射线分析中，根据分析对象，既有分析小的能量范围的荧光X射线的情况，也有分析大的能量范围的荧光X射线的情况。因此，在能量色散型的荧光X射线分析装置101中，能够在进行分析时设定要进行分析的能量范围(测定范围)。具体地说，通过利用输入部151(例如显示有开关按钮的输入画面)进行的测定范围的切换操作，能够选择并设定0～20eV的能量范围和0～40eV的能量范围中的某一方。
另一方面，关于用于对由检测器30检测出的信号进行处理的从前置放大器41到信号处理部160的各部，无论作为分析对象的X射线能量范围如何，均使用相同的结构，关于前置放大器41的信号放大率G(增益G)，也与作为分析对象的X射线能量范围无关而始终设为相同的值，具体地说是将信号放大率G设定为“1倍”。
由前置放大器41以信号放大率G进行放大后的电压信号通过微分电路42被转换为微分波后被输入到A/D转换器43。此时，如果将前置放大器41的信号放大率G设定得大(例如“2倍”)，则输入到A/D转换器43的电压信号的变化量变大，测定灵敏度提高。
然而，由于A/D转换器43的输入电压具有可取入的上限电压值，因此当输入超过了最大输入电压的电压信号时，A/D转换器43发生饱和而无法取入信号。
图7是示意性地示出荧光X射线一个接一个地入射于检测器30时的前置放大器41的输出电压信号(阶梯波)和输入到A/D转换器43的电压信号(微分波)的波形图。为了使测定灵敏度提高，将前置放大器41的信号放大率G设定为大的值“2倍”，图7的(a)示出入射大量的小的X射线能量的荧光X射线的情况，图7的(b)示出入射大量的大的X射线能量的荧光X射线并发生饱和的情况。
在入射小的X射线能量的荧光X射线的情况下，由于各个阶梯波的波高小，阶梯波整体的电压变化也小，因此输入到A/D转换器43的微分波信号不会超过最大输入电压而发生饱和(图7的(a))。
另一方面，在入射大的X射线能量的荧光X射线的情况下，波高大的阶梯波一个接一个地产生，因此阶梯波整体的电压变化变大，与此相应地微分波信号也急剧地变大。因此，当将前置放大器41的信号放大率G设定得大时，A/D转换器43终究会超过最大输入电压而发生饱和(图7的(b))。
根据这样的理由，关于信号放大率G，设定即使在进行大的X射线能量的荧光X射线分析的情况下A/D转换器43也不会发生饱和这样的稍小的信号放大率G的值(“1倍”)。因而，在小的X射线能量范围的分析中，不能够提高S/N比，难以以足够的分辨率进行分析。
因此，本发明的目的在于提供一种能够根据分析对象而在更优选的条件下进行分析的荧光X射线分析装置。
用于解决问题的方案
为了解决上述问题而完成的本发明的荧光X射线分析装置具备：检测器，其检测从被照射激励X射线的试样放出的荧光X射线；前置放大器，其将来自所述检测器的检测信号放大来形成阶梯波信号；微分电路，其将所述阶梯波信号转换为微分波信号；A/D转换器，其将所述微分波信号转换为数字信号；信号处理部，其根据所述数字信号检测波高值，对该波高值进行辨别并进行计数，从而制作直方图；以及输入部，其设定用于进行分析的荧光X射线的能量范围，其中，所述荧光X射线分析装置基于所述直方图来制作所述设定的能量范围的能量谱，
所述前置放大器被设置为放大率不同的多个前置放大器能够进行切换，基于所述设定的能量范围中的最大能量来自动地选择所述前置放大器中的某一方。
在此，也可以设为，作为设定的荧光X射线的能量范围的最大能量而包括40KeV或20KeV。
发明的效果
根据本发明的荧光X射线分析装置，通过输入部设定用于进行分析的荧光X射线的能量范围。在作为分析对象的荧光X射线的能量范围小时，一个接一个地入射的X射线的能量为几KeV左右，即使将前置放大器的信号放大率(增益)设定得大，发送到A/D转换器的微分波信号也不会超过A/D转换器的最大输入电压，能够稳定地进行测定。
另一方面，在作为分析对象的荧光X射线的能量范围大时，一个接一个地入射的X射线的能量可能大(例如Rh的Kα射线、Sn的Kα射线等)，当将前置放大器的信号放大率设定得大时，微分波信号超过A/D转换器的最大输入电压而成为饱和状态，产生无法进行分析的情况。
因而，预先以能够进行切换的方式设置有信号放大率不同的多个前置放大器，根据在进行分析时所输入设定的荧光X射线的能量范围，读出该设定的能量范围中包括的最大能量，基于该值，在不超过A/D转换器的最大输入电压的范围中所能够使用的信号放大率的前置放大器中自动地选择信号放大率较大的前置放大器。
由此，在进行包括X射线能量大的荧光X射线的分析时，能够防止A/D转换器成为饱和状态，在进行X射线能量小的荧光X射线的分析时，能够在将信号放大率设定得大而提高S/N比从而分辨率改善的条件下进行分析。对于测定者而言，仅通过设定用于进行分析的荧光X射线的能量范围，就能够自动地切换为适于分析的信号放大率的前置放大器，因此设定作业也不会增加。
在此，也可以设为，作为设定的荧光X射线的能量范围的最大能量而包括40KeV或20KeV。具体地说，例如可以设为能够将0～20eV、0～40eV设定为作为分析对象的X射线能量范围的输入部。
附图说明
图1是示出作为本发明的一个实施方式的能量色散型的荧光X射线分析装置的概要结构图。
图2是示出在小的X射线能量的荧光X射线分析中，通过不同的信号放大率GA(×1倍)、GB(×2倍)的两个前置放大器进行信号放大时得到的阶梯波信号、以及向A/D转换器输入的微分信号的波形图。
图3是示出在还包括大的X射线能量的荧光X射线分析中，通过不同的信号放大率GA(×1倍)、GB(×2倍)的两个前置放大器进行信号放大时得到的阶梯波信号、以及向A/D转换器输入的微分信号的波形图。
图4是示出以往的能量色散型荧光X射线分析装置的概要结构图。
图5是说明微分波与从微分波转换后的梯形波的关系的图。
图6是示意性地示出一个接一个地输入到数字滤波器的微分波数字信号和进行波形转换(数字处理)后输出的梯形波数字信号的波形图。
图7是示意性地示出前置放大器(信号放大率G为“2倍”)的输出电压信号(阶梯波)和输入到A/D转换器的电压信号(微分波)的波形图，图7的(a)是入射大量的小的X射线能量的荧光X射线的情况下的波形图，图7的(b)是入射大量的大的X射线能量的荧光X射线并发生饱和的情况下的波形图。
具体实施方式
下面，使用附图对本发明的实施方式进行说明。此外，本发明并不限定于如在下面说明的那样的实施方式，在不脱离本发明的主旨的范围内能够包括各种方式是自不必说的。
图1是示出作为本发明的一个实施方式的能量色散型的荧光X射线分析装置的概要结构的图。
荧光X射线分析装置1具备X射线管10；能量色散型分光器30(也称作检测器30)；开关35；前置放大器41A、41B；由电容器C、电阻R构成的微分电路42；A/D转换器43；由波形转换数字滤波器61、峰检测部62、直方图存储器63构成并进行信号的数字处理的X射线分析用的信号处理部160；以及控制X射线管10、能量色散型分光器30、信号处理部160等的CPU 50。在CPU 50连接有用于输入分析所需的设定、命令等的输入部51。
在该荧光X射线分析装置1中，对与使用图4所说明的以往的能量色散型荧光X射线分析装置101相同的结构部分标注相同的附图标记，由此省略说明的一部分。
在荧光X射线分析装置1中，被设定了不同的信号放大率(增益)的两个前置放大器41A、41B以隔着开关35的方式并联地连接在检测器30的输出侧。
前置放大器41A的信号放大率GA设为即使甚至对荧光X射线分析装置1所能够测定的最大能量(例如40KeV)进行分析的情况下、A/D转换器43也不易成为饱和状态的信号放大率。该信号放大率是与以往的荧光X射线分析装置101(图4)的前置放大器41中设定的信号放大率相同的值，因而如果使用前置放大器41A进行分析，则能够以与以往装置101相同的分辨率进行相同的X射线能量范围的测定。
另一方面，使前置放大器41B的信号放大率GB为比GA大的信号放大率，从而S/N比提高，另一方面，在进行大的X射线能量范围(例如20KeV以上)的荧光X射线分析时，在选择前置放大器41B的情况下，成为A/D转换器43可能成为饱和状态的信号放大率。
此外，关于本实施例中的具体的信号放大率，将前置放大器41A的信号放大率GA设定为“1倍”，将前置放大器41B的信号放大率GB设定为“2倍”。
而且，在分析开始前，由输入部51设定用于进行分析的荧光X射线的能量范围。具体地说，使得能够选择性地设定“0～20eV”和“0～40eV”中的某一方作为能量范围。此外，还使得能够设定任意的能量范围。
CPU 50与以往装置的CPU 150在控制X射线管10、检测器30、信号处理部160等这一点上相同，但还从由输入部51设定的荧光X射线的能量范围读出最大能量，并基于该值选择前置放大器41A和41B中的某一方。
即，在进行分析的最大能量为20KeV、或者20KeV以下的情况下，选择前置放大器41B，在最大能量为40KeV、或者比20KeV大的情况下，选择前置放大器41A。而且，通过CPU50，进行切换开关35的处理，以对所选择的前置放大器41A或前置放大器41B发送来自检测器30的信号。
图2是示出在最大能量为20KeV以下的小的X射线能量的荧光X射线分析中，通过具有不同的信号放大率GA(×1倍)、GB(×2倍)的两个前置放大器进行信号放大时得到的阶梯波信号、以及向A/D转换器输入的微分信号的图。在图中，细的单点划线表示通过信号放大率GA为“1倍”的前置放大器41A放大后的阶梯波信号和微分波信号，粗的实线表示由信号放大率GA为“2倍”的前置放大器41B放大后的阶梯波信号和微分波信号。
在进行0～20KeV的范围的荧光X射线分析时，入射的一个个X射线的能量小。在该情况下，无论使用信号放大率GA(×1倍)的前置放大器41A和信号放大率GA(×2倍)的前置放大器41B中的哪一方进行放大，在分析中输入到A/D转换器43的微分波信号(A/Din)都不会超过A/D转换器43的最大输入电压(Vmax)。而且，得到大的振幅的微分波信号的是前置放大器41B，因此通过进行切换开关35的处理以向前置放大器41B(信号放大率GB为“2倍”)发送来自检测器30的信号，S/N比能够提高，能够实现能量分辨率的改善。
图3是示出在0～40KeV的范围中的还可能入射超过20KeV的大的X射线能量的荧光X射线分析中，通过具有不同的信号放大率GA(×1倍)、GB(×2倍)的两个前置放大器进行信号放大时得到的阶梯波信号、以及向A/D转换器输入的微分信号的图。在图中，粗的单点划线表示通过信号放大率GA为“1倍”的前置放大器41A放大后的阶梯波信号和微分波信号，细的实线表示通过信号放大率GA为“2倍”的前置放大器41B放大后的阶梯波信号和微分波信号。
在以0～40KeV进行荧光X射线分析时、即在进行最大能量超过20KeV的分析时，有时入射的一个个X射线的能量大，当通过信号放大率大的前置放大器41B进行放大时，在分析中输入到A/D转换器43的微分波信号(A/Din)也有时超过A/D转换器的最大输入电压(Vmax)。因而，通过进行切换开关35的处理以向前置放大器41A(信号放大率为“1倍”)发送来自检测器30的信号，能够使得A/D转换器43不易发生饱和地进行分析。
以上对切换两个不同的信号放大率的前置放大器的实施方式进行了说明，但也可以基于进行分析的荧光X射线的最大能量来切换不同的信号放大率的三个以上的前置放大器。
另外，在本实施方式中，通过信号处理部转换为梯形波数字信号来进行峰检测，但也可以通过数字处理将从A/D转换器43发送的微分波数字信号转换为三角波等其它波形来进行峰检测。
产业上的可利用性
本发明能够利用于能量色散型的荧光X射线分析装置。
附图标记说明
10：X射线管；30：能量色散型分光器(检测器)；35：开关；41A、41B：前置放大器；42：微分电路；43：A/D转换器；50：CPU；51：输入部；61：波形转换数字滤波器；62：峰检测部；63：直方图存储器；160：信号处理部。

Claims (2)

1.一种荧光X射线分析装置，其特征在于，具备：
检测器，其检测从被照射激励X射线的试样放出的荧光X射线；
前置放大器，其将来自所述检测器的检测信号放大来形成阶梯波信号；
微分电路，其将所述阶梯波信号转换为微分波信号；
A/D转换器，其将所述微分波信号转换为数字信号；
信号处理部，其根据所述数字信号检测波高值，对该波高值进行辨别并进行计数，从而制作直方图；以及
输入部，其设定用于进行分析的荧光X射线的能量范围，
其中，所述荧光X射线分析装置基于所述直方图来制作所述设定的能量范围的能量谱，
所述前置放大器被设置为放大率不同的多个前置放大器能够进行切换，
基于所述设定的能量范围中的最大能量来自动地选择所述前置放大器中的某一方。
2.根据权利要求1所述的荧光X射线分析装置，其特征在于，
作为所述设定的荧光X射线的能量范围的最大能量而包括40KeV或20KeV。
CN202180091983.2A 2021-01-27 2021-07-29 荧光x射线分析装置 Pending CN116802485A (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021-010813 2021-01-27
JP2021010813 2021-01-27
PCT/JP2021/028103 WO2022162975A1 (ja) 2021-01-27 2021-07-29 蛍光ｘ線分析装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN116802485A true CN116802485A (zh) 2023-09-22

Family

ID=82653078

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202180091983.2A Pending CN116802485A (zh) 2021-01-27 2021-07-29 荧光x射线分析装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US12436121B2 (zh)
EP (1) EP4286837B1 (zh)
JP (1) JP7444294B2 (zh)
CN (1) CN116802485A (zh)
WO (1) WO2022162975A1 (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7444294B2 (ja) * 2021-01-27 2024-03-06 株式会社島津製作所 蛍光ｘ線分析装置

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003215072A (ja) * 2002-01-24 2003-07-30 Rigaku Industrial Co 蛍光ｘ線分析装置
CN108562603A (zh) * 2017-10-27 2018-09-21 钢研纳克检测技术股份有限公司 用于波谱能谱复合型x射线荧光光谱仪的x射线探测系统
JP2019203739A (ja) * 2018-05-22 2019-11-28 株式会社島津製作所 エネルギー分散型蛍光ｘ線分析装置
US20200209408A1 (en) * 2017-09-29 2020-07-02 Rigaku Corporation Signal processing device for x-ray analysis and adjustment method for a signal processing device for x-ray analysis

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001099794A (ja) * 1999-09-28 2001-04-13 Jeol Ltd 試料分析装置
JP2002022846A (ja) * 2000-07-05 2002-01-23 Seiko Instruments Inc エネルギー分散型ｘ線分析装置
JP3832331B2 (ja) * 2001-12-20 2006-10-11 株式会社島津製作所 電子線分析装置
JP2004205488A (ja) * 2002-11-08 2004-07-22 Denso Corp ガス濃度検出装置
JP2005009861A (ja) * 2003-04-23 2005-01-13 Rigaku Industrial Co 波長分散型蛍光ｘ線分析装置
GB0525593D0 (en) * 2005-12-16 2006-01-25 Cxr Ltd X-ray tomography inspection systems
CN101529274B (zh) * 2006-10-25 2012-07-04 皇家飞利浦电子股份有限公司 用于探测x射线辐射的装置、成像设备和方法
JP2011164008A (ja) * 2010-02-12 2011-08-25 Denso Corp 電流検出装置
JP5875790B2 (ja) * 2011-07-07 2016-03-02 株式会社東芝 光子計数型画像検出器、ｘ線診断装置、及びｘ線コンピュータ断層装置
US9128195B2 (en) * 2012-03-28 2015-09-08 Luxen Technologies, Inc. Increasing dynamic range for x-ray image sensor
JP6003836B2 (ja) 2013-07-24 2016-10-05 株式会社島津製作所 Ｘ線分析用信号処理装置
JP6002890B2 (ja) * 2014-09-18 2016-10-05 株式会社リガク Ｘ線分析装置
US10267932B2 (en) * 2016-02-05 2019-04-23 Olympus Scientific Solutions Americas Inc. Method and apparatus for X-ray detection system gain calibration using a pulser
US11415710B2 (en) * 2016-03-28 2022-08-16 Olympus America Inc. XRF analyzer with improved resolution by using micro-reset
JP7020357B2 (ja) * 2018-09-27 2022-02-16 株式会社島津製作所 Ｘ線分析用信号処理装置
JP2021004779A (ja) * 2019-06-26 2021-01-14 株式会社島津製作所 Ｘ線分析装置、ｘ線分析用信号処理装置およびｘ線分析方法
CN110609050B (zh) * 2019-09-25 2021-05-25 成都理工大学 一种x射线荧光光谱峰拖尾消除方法及系统
JP7444294B2 (ja) * 2021-01-27 2024-03-06 株式会社島津製作所 蛍光ｘ線分析装置
JP7844903B2 (ja) * 2022-02-07 2026-04-14 株式会社島津製作所 蛍光ｘ線分析装置、データ処理方法、およびプログラム

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003215072A (ja) * 2002-01-24 2003-07-30 Rigaku Industrial Co 蛍光ｘ線分析装置
US20200209408A1 (en) * 2017-09-29 2020-07-02 Rigaku Corporation Signal processing device for x-ray analysis and adjustment method for a signal processing device for x-ray analysis
CN108562603A (zh) * 2017-10-27 2018-09-21 钢研纳克检测技术股份有限公司 用于波谱能谱复合型x射线荧光光谱仪的x射线探测系统
JP2019203739A (ja) * 2018-05-22 2019-11-28 株式会社島津製作所 エネルギー分散型蛍光ｘ線分析装置

Also Published As

Publication number Publication date
EP4286837A4 (en) 2024-12-04
EP4286837A1 (en) 2023-12-06
US20240085353A1 (en) 2024-03-14
JPWO2022162975A1 (zh) 2022-08-04
JP7444294B2 (ja) 2024-03-06
EP4286837B1 (en) 2026-03-11
WO2022162975A1 (ja) 2022-08-04
US12436121B2 (en) 2025-10-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10168208B2 (en) Light amount detection device, immune analyzing apparatus and charged particle beam apparatus that each use the light amount detection device
US9322711B2 (en) Light signal detecting circuit, light amount detecting device, and charged particle beam device
JP6003836B2 (ja) Ｘ線分析用信号処理装置
US20120214246A1 (en) System and Method for Extending Dynamic Range for a Detector
Knappe et al. Investigation and compensation of the nonlinear response in photomultiplier tubes for quantitative single-shot measurements
CN105637352A (zh) 荧光x射线分析方法及荧光x射线分析装置
US20180348141A1 (en) Photon counting in laser induced breakdown spectroscopy
JP2012508379A (ja) Ｘ線検出器のシェーピング時間の動的変更
US10345249B1 (en) System for detecting and real time processing x-ray pulses from microcalorimeter detectors
JPH10318946A (ja) エネルギー分散型ｘ線分析装置
JP7020357B2 (ja) Ｘ線分析用信号処理装置
CN116802485A (zh) 荧光x射线分析装置
JP2002055171A (ja) 放射線計測装置
CN101101269B (zh) 能量分散型辐射探测系统和测量目标元素的含量的方法
JP2021004779A (ja) Ｘ線分析装置、ｘ線分析用信号処理装置およびｘ線分析方法
JP2006153460A (ja) 蛍光検出方法、検出装置及び蛍光検出プログラム
JP6808693B2 (ja) Ｘ線分析装置および計数率の補正方法
Wicks et al. Characterizing the detection system nonlinearity, internal inelastic background, and transmission function of an electron spectrometer for use in x-ray photoelectron spectroscopy
Attaelmanan Reliability of a new X-ray analytical microscope in archaeological research
CN110044938A (zh) 一种乏燃料萃取液的铀浓度测量装置
CN210665549U (zh) 一种乏燃料萃取液的铀浓度测量装置
JP2023019033A (ja) Ｘ線分析装置およびｘ線分析方法
JP7501680B2 (ja) Ｘ線分析用信号処理装置
JPH09178680A (ja) Ｘ線マイクロアナライザ等におけるスペクトル表示装置
Geller et al. High count rate electron probe microanalysis

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination