CS242347B1

CS242347B1 - A method of continuous cleaning, in particular integrated circuits and equipment for its performance

Info

Publication number: CS242347B1
Application number: CS852758A
Authority: CS
Inventors: Jan Dedik
Original assignee: Jan Dedik
Priority date: 1985-04-15
Filing date: 1985-04-15
Publication date: 1986-04-17
Also published as: CS275885A1

Abstract

Podstata vynálezu spočívá v tom, že na integrované obvody unášané na dopravnom páse nad vanou sa působí kontinuálnou vlnou čistiacej kvapaliny za spoluposobenia ultrazvukovej energie.The essence of the invention lies in the fact that integrated circuits carried on a conveyor belt above a bath are subjected to a continuous wave of cleaning liquid with the co-action of ultrasonic energy.

Description

Podstata vynálezu spočívá v tom, že na integrované obvody unášané na dopravnom páse nad vanou sa posobí kontinuálnou vlnou čistiacej kvapaliny za spoluposobenia ultrazvukovej energie.SUMMARY OF THE INVENTION The invention is based on the fact that for integrated circuits carried on a conveyor belt above a bath, it is equipped with a continuous wave of cleaning liquid with the assistance of ultrasonic energy.

Obr.Fig.

Vynález sa týká spůsobu kontinuálneho čistenia najma integrovaných obvodov a zariádenia k jeho vykonávaniu.The present invention relates to a method for continuously cleaning, in particular integrated circuits, and apparatus for carrying out the same.

Doteraz sa čistenie v ultrazvukových várnách vykonává tak, že sa čištěné súčiastky ponárajú v zvislom smere do vane. Pri tomto čistění předměty musia vykonávat vertikálny aj horizontálny pohyb. Nevýhodou tohoto sposobu čistenia a zariadenia k jeho vykonávaniu je zložitosť pohybových mechanizmov. Je známy aj kontinuálny sposob čistenia s priamočiarym horizontálnym pohybom čištěných súčiastok, na ktoré sa čistiaca kvapalna strieka z čistiacej vane. Nevýhodou tohoto sposobu je, že nie je možné ho kombinovat s působením ultrazvukovej energie.Up to now, cleaning in ultrasonic brewing has been carried out by dipping the cleaned parts vertically into the bath. During this cleaning, the objects must perform both vertical and horizontal movement. The disadvantage of this method of cleaning and the apparatus for carrying it out is the complexity of the movement mechanisms. There is also known a continuous cleaning method with a linear horizontal movement of the cleaned parts onto which the cleaning liquid is sprayed from the cleaning tub. The disadvantage of this method is that it cannot be combined with the action of ultrasonic energy.

Vyššie uvedené nedostatky odstraňuje spůsob kontinuálneho čistenia najma integrovaných obvodov a zariadenie k jeho vykonávaniu podl'a vynálezu, ktorého podstatou je, že na integrované obvody unášané na dopravnom páse sa působí kontinuálnou vlnou čistiacej kvapaliny za spolupňsobenia ultrazvukovej energie. Do podstaty vynálezu patří aj to, že před a za vaňou sú vytvořené přepadové odvádzacie komory. Horný okraj přepadových odvádzacích komůr zasahuje po rovinu dolných hrán vybraní vytvořených v stěnách vane pod dopravným pásom integrovaných obvodov. Přívod čistiacej kvapaliny je umiestnený v střede dna čistiacej vane a vo váni sú pevne umiestnené ultrazvukové žiariče.The aforementioned drawbacks are eliminated by the method of continuous cleaning of the integrated circuits in particular and the apparatus for carrying out the process according to the invention, the principle being that the integrated circuits carried on the conveyor belt are treated with a continuous wave of cleaning fluid with ultrasonic energy. It is a further object of the invention that overflow chambers are provided upstream and downstream of the tub. The upper edge of the overflow discharge chambers extends to the plane of the lower edges of the recesses formed in the walls of the trough below the conveyor belt of the integrated circuits. The cleaning fluid inlet is located in the center of the bottom of the cleaning tub, and ultrasonic radiators are fixed in the tub.

Spůsobom kontinuálneho čistenia najma integrovaných obvodov a zariadením k jeba vykonávaniu sa docieli zjednodušenie mecbanizmov premiestňovania čištěných súčiastok, tieto sa dopravujú len v priamočiarom smere. Dosahuje sa skrátenie čistiacej operácíe a zvýši sa výkon zariadenia.By means of the continuous cleaning of the integrated circuits and the device for its implementation, the mecbanisms of the relocation of the cleaned parts are simplified, which are transported only in a straight line direction. This shortens the cleaning operation and increases the machine's performance.

Na pripojenom výkrese je znázorněné příkladné riešenie zariadenia na kontinuálně čistenie integrovaných obvodov, kde na obr.In the accompanying drawing, an exemplary solution of a device for continuously cleaning integrated circuits is shown.

je schematicky nakreslený nárys a na obr.is a schematic front view and FIG.

je nakreslený bokorys v pohlede.is a side elevation view.

Spůsob kontinuálneho čistenia integrovaných obvodov sa vykonává následovně: Integrované obvody 6 sú upnuté na dopravnom páse 3, ktorý ich unáša v priamočiarom smere nad čistiacou vaňou 1. Kontinuálna vlna čistiacej kvapaliny působí na integrované obvody 6 svojimi čistiacimi účinkami a zároveň sa spolupůsobí na integrované obvody 6 ultrazvukovou energiou cez čistlacu kvapalinu.The method of continuous cleaning of the integrated circuits is performed as follows: The integrated circuits 6 are clamped on the conveyor belt 3, which carries them in a rectilinear direction above the cleaning tub 1. by ultrasonic energy through a cleaning fluid.

Zariadenie k vykonávaniu spůsobu kontinuálneho čistenia integrovaných obvodov pozostáva z čistiacej vane 1, v ktorej v střede dna 7 je vytvořený přívod 8 čistiacej kvapaliny. Na dne čistiacej vane 1 sú pevne uložené ultrazvukové žiariče 5. Před a za čistiacou vaňou 1 sú vytvořené přepadové odvádzacie komory 2. Nad čistiacou vaňou 1 je umiestnený dopravný pás 3, na ktorom sú pevne upnuté integrované obvody 6. V dráhe integrovaných obvodov 6 sú v stěnách čistiacej vane 1 vytvořené vybrania 9, ktorých dolné hrany sú v jednej rovině s koncovými stěnami přepadových odvádzacích komůr 2. Na dne 7 přepadových odvádzacích komor 2 sú vytvořené výtokové otvoryThe device for performing the method of continuous cleaning of integrated circuits consists of a cleaning bath 1 in which a supply 8 of cleaning liquid is formed in the center of the bottom 7. Ultrasonic radiators 5 are fixed at the bottom of the cleaning bath 1. Overflow chambers 2 are formed in front of and behind the cleaning bath 1. Above the cleaning bath 1 is a conveyor belt 3 on which the integrated circuits 6 are firmly clamped. recesses 9 are formed in the walls of the cleaning pan 1, the lower edges of which are flush with the end walls of the overflow discharge chambers 2. Outflow openings are formed on the bottom 7 of the overflow discharge chambers 2.

4. Čistiaca vaňa 1 je naplněná časiacou kvapalinou.4. The cleaning bath 1 is filled with a timing liquid.

Funkcia zariadenia na kontinuálně čistenie integrovaných obvodov je nasledovná: Prívodom 8 sa vháňa prostredníctvom čerpadle (na obr. nezakreslenéj čistiaca kvapalina do čistiacej vane 1, kde sa zvýši hladina o výšku h a začne pretekať cez vybrania 9 do přepadových odvádzacích komor 2. Takto sa vytvořila v hornej časti čistiacej vane 1 kontinuálna vlna 10 čistiacej kvapaliny. Na dopravnom páse 3 sú unášané integrované obvody 6, ktoré prechádzajú cez kontinuálnu vlnu 10 čistiacej kvapaliny za spolupůsobenia ultrazvukovej energie z ultrazvukových žiaričov 5, čím sa integrované obvody 6 vyčistia.The function of the device for continuous cleaning of integrated circuits is as follows: Inlet 8 is pumped through a pump (not shown cleaning liquid into cleaning tank 1), where the level increases by height h and begins to flow through recesses 9 into overflow chambers 2. A continuous cleaning liquid wave 10 is blown on the conveyor belt 3. Integrated circuits 6 are carried on the conveyor belt 3, which pass through the continuous cleaning liquid wave 10 by the action of ultrasonic energy from the ultrasonic radiators 5, thereby cleaning the integrated circuits 6.

Claims

OBJECT

A method for the continuous purification of integrated circuits, characterized in that a continuous wave of cleaning fluid is applied to the integrated circuits on the conveyor belt above the tank, in conjunction with ultrasonic energy.

2. A continuous purification apparatus according to claim 1, characterized in that an overflow drain chamber (2) is provided upstream and downstream of said scrubber tank (2), wherein said top edge of said overflow chambers (2) extends downstream of said lower edge plane ( 9) formed in the walls of the cleaning tub (1) under the conveyor belt (3j of integrated circuits, while the supply of cleaning liquid is located in the middle of the bottom (7J cleaning tub (1) and weighing (lj are ultrasonic emitters (5) fixed). of Drawings 242347

/ n / / / / / / / / / / / / / / / / / / / z- "'10 Fig, 1

FIG. 2