CS244156B1 - Method for producing multiple antireflective layers - Google Patents

Method for producing multiple antireflective layers Download PDF

Info

Publication number
CS244156B1
CS244156B1 CS445184A CS445184A CS244156B1 CS 244156 B1 CS244156 B1 CS 244156B1 CS 445184 A CS445184 A CS 445184A CS 445184 A CS445184 A CS 445184A CS 244156 B1 CS244156 B1 CS 244156B1
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
layer
recipient
mpa
oxygen
antireflective layers
Prior art date
Application number
CS445184A
Other languages
Czech (cs)
Inventor
Jiri Jankuj
Petr Mlcoch
Original Assignee
Jiri Jankuj
Petr Mlcoch
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jiri Jankuj, Petr Mlcoch filed Critical Jiri Jankuj
Priority to CS445184A priority Critical patent/CS244156B1/en
Publication of CS244156B1 publication Critical patent/CS244156B1/en

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

Způsob výroby vícenásobných antiref-< lexních vrstev napařováním v recipientu vakuové napařovací aparatury spočívá v tom, že se recipient před napařováním každé vrstvy vyčerpá na tlak menší než 4 mPa a při napařování vrstvy exidu titaničitého TiOg se do recipientu připouští kyslík do tlaku 26,3 až 53,3 mPa a dalším připouštšním kyslíku ss tento tlak udržuje při rychlosti napařování v intervalu 0,1 až 1,0 nm.s-^ a při napařování vrstvy fluoridu hořečnatého MgPg ee kyslík nepřipouští a napařovací rychlost se pohybuje v intervalu 0,5 až 5,0 nm.s”1.The method of producing multiple anti-reflective layers by evaporation in the recipient of a vacuum evaporation apparatus consists in that the recipient is exhausted to a pressure of less than 4 mPa before evaporation of each layer and when evaporating a layer of titanium oxide TiO2, oxygen is admitted to the recipient to a pressure of 26.3 to 53.3 mPa and by further admitting oxygen, this pressure is maintained at an evaporation rate in the interval 0.1 to 1.0 nm.s-^ and when evaporating a layer of magnesium fluoride MgPg, oxygen is not admitted and the evaporation rate is in the interval 0.5 to 5.0 nm.s-1.

Description

Způsob výroby vícenásobných antireflexních vrstevMethod for producing multiple antireflective layers

Způsob výroby vícenásobných antiref-< lexních vrstev napařováním v recipientu vakuové napařovací aparatury spočívá v tom, že se recipient před napařováním každé vrstvy vyčerpá na tlak menší než 4 mPa a při napařování vrstvy exidu titaničitého TiOg se do recipientu připouští kyslík do tlaku 26,3 až 53,3 mPa a dalším připouštšním kyslíku ss tento tlak udržuje při rychlosti napařování v intervalu 0,1 až 1,0 nm.s-^ a při napařování vrstvy fluoridu hořečnatého MgPg ee kyslík nepřipouští a napařovací rychlost se pohybuje v intervalu 0,5 až 5,0 nm.s”1.The method for producing multiple antireflective layers by vapor deposition in a vacuum vapor recipient comprises depleting the recipient to a pressure of less than 4 mPa prior to each vapor deposition and oxygen is admitted to the recipient when vaporizing the titanium dioxide TiOg layer. 53.3 mPa and the next admission of oxygen maintains this pressure at a vaporization rate in the range of 0.1 to 1.0 nm . 5.0 nm.s- 1 .

244 156 (51) Int a.*244 156 (51) Int *

C 03 c 17/34OJ C 03 C 17/34

- 1 244 156- 1 244 156

Vynález se týká způsobu výroby- vícenásobných antlreflexních vrstev naparováním vrstev fluoridu horečnatého MgPg a oxidu titanlčitého TÍO2 v recipientu vakuové napařovací aparatury na optických sklech*BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a process for the production of multiple antlreflective layers by vapor deposition of magnesium fluoride MgPg and titanium dioxide TiO2 in a recipient of a vacuum steaming apparatus on optical glasses.

Pro zvýšení propustnosti a snížení parazitního světla u optických soustav se využívají antireflexní vrstvy. K tonuto účelu se nejčastěji používá vrstva fluoridu horečnatého, jejíž účinnost je však závislá na použitém podložním skle a dosahuje nižší hodnoty reflexe než 1 % pouze u některých druhů skel v úzkém spektrál ním intervalu* Z tohoto důvodu se ke snižování reflexních ztrát používají vícenásobné antireflexní vrstvy* Nejširšíhe praktického využití dosáhly syntézy připravované ze tří a více druhů napařovacích materiálů, což však velmi komplikuje technologickou přípravu vrstev*Antireflective layers are used to increase transmittance and reduce parasitic light in optical systems. For this purpose, a magnesium fluoride layer is most often used, but its efficiency is dependent on the glass used and achieves a reflection value of less than 1% only for certain types of glass within a narrow spectral range. * The widest practical use has been achieved by syntheses prepared from three or more types of steaming materials, which however complicates the technological preparation of layers *

Další možnost přípravy antlreflexních vrstev spočívá v použití pouze dvou druhů materiálů s nízkým a vysokým indexem lomu* které se periodicky střídají a mají rozdílné optické tlouštky. Teoretická stavba těchto systémů je již známá* avšak velkým problé mem těchto systémů vrstev je jejich praktická realizace* neboť se u nich vyskytují vrstvy s velmi malou optickou tloušťkou* takže roprodukovatelnost výroby je značně nízká a navíc vykazují vysokou zbytkovou absorpci* Například v současné době nejčastěji používaná materiálová báze z oxidů titanu a křemíku* připravovaných reaktivním naparováním v kyslíkové atmosféře podle čs* AO 180 401* se při aplikacích již ve čtyřnásobné antireflexní vrstvě neosvědču je z důvodů úzkého pásma antireflexe a vysoké zbytkové absorpce* Kvalita vrstvy* získaná z této materiálové báze* je závislé do značné míry na druhu podložního skla* což znemožňuje její univerzální použitelnost*A further possibility of preparing the reflective layers is to use only two types of low and high refractive index materials, which alternate periodically and have different optical thicknesses. The theoretical construction of these systems is already known * but the real problem of these layer systems is their practical implementation * because they have very low optical thickness layers * so that the reproducibility of production is very low and moreover they have a high residual absorption * used material base of titanium and silicon oxides * prepared by reactive vapor deposition in oxygen atmosphere according to MS * AO 180 401 * is not suitable for applications already in quadruple antireflection layer because of narrow antireflection zone and high residual absorption * * is largely dependent on the type of backing glass * which makes it impossible to use universally *

Je proto úkolem navrhnout takový způsob výroby vícenásobných antlreflexních systémů* které by umožnily zhotovení účinnýchIt is therefore an object of the present invention to provide a process for the production of multiple anti-reflection systems which would allow efficient production

244 158 antireflexních vrstev složených pouze ze dvou druhů materiálů a které by vykazovaly současně výrazný antlreflexní účinek na všech druzích optických skel při zachování malé absorpce*244 158 antireflective layers composed of only two types of materials and which simultaneously exhibit a significant antlreflective effect on all types of optical glasses while maintaining low absorption *

Tento úkol řeší předmět vynálezu, kterým je způsob výrobyThis object is solved by the object of the invention, which is a production method

Claims (1)

vícenásobných antireflexních vrstev naparováním vrstev fluoridu horečnatého MgPg a oxidu titaničitého T102 v recipientu vakuové napařovací aparatury na optických skel*of multiple antireflective layers by vapor deposition of magnesium fluoride MgPg and titanium dioxide T10 2 in a recipient of a vacuum steaming apparatus on optical glasses * Podstata vynálezu spočívá v tom, že se recipient před napa*· řeváním každé vrstvy vyčerpá na tlak menší než 4 mPa a při naparování vrstvy oxidu titaničitého TiOg se do recipientu připouští kyslík do tlaku 26,3 až 33,3 mPa a na této hodnotě se neustálým připouštěním kyslíku udržuje při rychlosti napařování v intervalu 0,1 až 1,0 nm·®^ a při napařování vrstvy fluoridu hořečnatéhoThe principle of the invention is that the recipient is depleted to a pressure of less than 4 mPa prior to the steaming of each layer and oxygen is admitted to the recipient at a pressure of 26.3 to 33.3 mPa. Continuous admission of oxygen at a vaporization rate of 0.1 to 1.0 nm · ® ^ and vaporization of the magnesium fluoride layer MgPo se kyslík nepřipouští a napařovací rychlost se pohybuje < —i v intervalu 0,3 až 3,0 nm,s .MGP taking of oxygen and steam velocity is <-i in the interval from 0.3 to 3.0 nm with. Výroba vícenásobných antireflexních vrstev spočívá tedy v použití netradiční kombinace materiálů s nízkým a vysokým indexem lomu pro vakuové napařování· Při jejich aplikaci na výrobu antireflexních vrstev z materiálů o dvou indexech lomu dochází vlivem menších tlouštěk a rozladěnosti použitých konstrukčních sestav ke kompenzaci vnitřních pnutí ve vrstvách, což zamezuje popraskání připravené antlreflexní vrstvy. Současně js zaručena časová stabilita a použitelnost při běžných provozních podmínkách u všech optických skel.The production of multiple antireflective layers is based on the use of an unconventional combination of low and high refractive index materials for vacuum vapor deposition. · When applied to the production of antireflective layers from two refractive index materials, the internal stresses in the layers are compensated which prevents cracking of the prepared anti-reflective layer. At the same time, time stability and usability under normal operating conditions are guaranteed for all optical glasses. Tuto skutečnost dokumentují přiložené výkresy, kde je znázorněno na obr, 1 grafický průběh výsledného antireflexního účinku na vyznačených druzích optických skel j obr· 2 výsledný antlreflexní účinek šestinásobné antlreflexní vrstvy jednotkové optické tloušiky 160 nm·This is illustrated by the accompanying drawings, in which: FIG. 1 is a graphical representation of the resulting antireflection effect on the indicated types of optical glasses; Postup při výrobě vícenásobných antireflexních vrstev podle vynálezu je následující.The process for producing multiple antireflective layers according to the invention is as follows. i sIik . Recipient se vyčerpá na tlak 2 mPa a připouští se do něj kyt “že se hodnota tlaku zvýší na 33 mPa· Při této hodnotě se naparuje vrstva oxidu titaničitého TiOg napařovací rychlostí 0,3 nm.»1 po dobu potřebnou pro vytvoření optické tloušKky vrstvy, kterái sIik. Recipient runs at 2 MPa, and is admitted into it -alkyl "the pressure value is increased to 33 mPa · At this value, the titanium dioxide layer steamed Tioga vapor deposition rate of 0.3 nm.» 1 the time required to form the optical tloušKky layer which 244 156 vyplývá z konstrukční sestavy systému vrstev* Pote se proces přeruší a naparuje se vrstva fluoridu hořečnatého MgFg napařovací rychlostí 2 rinue1 opět po dobu, která je potřebná k vytvořeni požadované optické tloušťky* Opakuje-li se tento postup dvakrát za sebou při přípravě konstrukční sestavy systému vrstev typu244 156 results from the Layer System Assembly * The process is then interrupted and the MgFg layer is vaporized at a rate of 2 rinue 1 at the steaming rate for the time required to produce the desired optical thickness * Layer system assembly type 1/1*0021 0.318H 0*3371 O.257H/n1/1 * 0021 0.318H * 3371 O.257H / n S kde 1 značí vrstvu fluoridu hořečnatého MgFg 0 optické tloušťce 160 nmWherein S 1 represents a layer of magnesium fluoride 0 MgFg optical thickness of 160 nm H značí vrstvu oxidu titaničitého TiOg o optické tlouštce 160 nm n& index lomu podložního skla, dosáhne se antireflexního účinku, vyjádřeného na obr* 1*H denotes a titanium dioxide layer of TiOg with an optical thickness of 160 nm n & refractive index of the backing, the antireflection effect shown in FIG. Na něm křivka, vyznačená plnou Čarou, platí pro lehká koruntováOn it, the curve, marked with a solid line, applies to the light crown
CS445184A 1984-06-13 1984-06-13 Method for producing multiple antireflective layers CS244156B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS445184A CS244156B1 (en) 1984-06-13 1984-06-13 Method for producing multiple antireflective layers

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS445184A CS244156B1 (en) 1984-06-13 1984-06-13 Method for producing multiple antireflective layers

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CS244156B1 true CS244156B1 (en) 1986-07-17

Family

ID=5387276

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS445184A CS244156B1 (en) 1984-06-13 1984-06-13 Method for producing multiple antireflective layers

Country Status (1)

Country Link
CS (1) CS244156B1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CZ304081B6 (en) * 2012-03-30 2013-10-02 Vysoká skola chemicko-technologická v Praze Process for preparing anti-reflecting layer on the surface of products of silicate and borosilicate glass and anti-reflecting layer per se

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CZ304081B6 (en) * 2012-03-30 2013-10-02 Vysoká skola chemicko-technologická v Praze Process for preparing anti-reflecting layer on the surface of products of silicate and borosilicate glass and anti-reflecting layer per se

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4188452A (en) Heat-reflecting glass pane
US3410625A (en) Multi-layer interference film with outermost layer for suppression of pass-band reflectance
US6180188B1 (en) Method for preparing a multilayer optical material with crosslinking-densifying by ultraviolet radiation
JPH05254887A (en) Transparent laminated substrate, its use and laminating method, method and device for laminating on base material, and hafnium oxynitride
US3356523A (en) Polystyrene film containing an antireflection coating
RU97105847A (en) GLASS PANEL WITH A FILM THAT IS CONDUCTIVE AND / OR HAS A LOW EMISSION CAPACITY
JPH10509832A (en) Anti-reflective coating for temperature sensitive substrates
JPS5522704A (en) Multilayer antireflecting film
GB1526171A (en) Silicon solar cell construction having two layer anti-reflection coating
CN113151783A (en) Combined reflective film and preparation method thereof
JPS5860701A (en) Reflection preventing film
JPS5842003A (en) Polarizing plate
JPH06184730A (en) Vapor producing material for producing optical coating having intermediate degree of refractive index
CS244156B1 (en) Method for producing multiple antireflective layers
JP2566634B2 (en) Multi-layer antireflection film
GB1328298A (en) Production of a highly refractive oxide layer permeable to lihgt
JPS6128903A (en) Reflector
JPH03242319A (en) Transparent film having intermediate refractive index
JPH02154201A (en) Anti-reflection film creation method
US3421811A (en) Coated optical devices
JPS5926704A (en) Multilayered film reflecting mirror
JPH0553001A (en) Multilayered antireflection film of optical parts made of synthetic resin
JPS5689701A (en) Half mirror
US3421810A (en) Coated optical devices
JPS56162702A (en) Manufacture of reflecting mirror