CS244156B1 - Method for producing multiple antireflective layers - Google Patents
Method for producing multiple antireflective layers Download PDFInfo
- Publication number
- CS244156B1 CS244156B1 CS445184A CS445184A CS244156B1 CS 244156 B1 CS244156 B1 CS 244156B1 CS 445184 A CS445184 A CS 445184A CS 445184 A CS445184 A CS 445184A CS 244156 B1 CS244156 B1 CS 244156B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- layer
- recipient
- mpa
- oxygen
- antireflective layers
- Prior art date
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Způsob výroby vícenásobných antiref-< lexních vrstev napařováním v recipientu vakuové napařovací aparatury spočívá v tom, že se recipient před napařováním každé vrstvy vyčerpá na tlak menší než 4 mPa a při napařování vrstvy exidu titaničitého TiOg se do recipientu připouští kyslík do tlaku 26,3 až 53,3 mPa a dalším připouštšním kyslíku ss tento tlak udržuje při rychlosti napařování v intervalu 0,1 až 1,0 nm.s-^ a při napařování vrstvy fluoridu hořečnatého MgPg ee kyslík nepřipouští a napařovací rychlost se pohybuje v intervalu 0,5 až 5,0 nm.s”1.The method of producing multiple anti-reflective layers by evaporation in the recipient of a vacuum evaporation apparatus consists in that the recipient is exhausted to a pressure of less than 4 mPa before evaporation of each layer and when evaporating a layer of titanium oxide TiO2, oxygen is admitted to the recipient to a pressure of 26.3 to 53.3 mPa and by further admitting oxygen, this pressure is maintained at an evaporation rate in the interval 0.1 to 1.0 nm.s-^ and when evaporating a layer of magnesium fluoride MgPg, oxygen is not admitted and the evaporation rate is in the interval 0.5 to 5.0 nm.s-1.
Description
Způsob výroby vícenásobných antireflexních vrstevMethod for producing multiple antireflective layers
Způsob výroby vícenásobných antiref-< lexních vrstev napařováním v recipientu vakuové napařovací aparatury spočívá v tom, že se recipient před napařováním každé vrstvy vyčerpá na tlak menší než 4 mPa a při napařování vrstvy exidu titaničitého TiOg se do recipientu připouští kyslík do tlaku 26,3 až 53,3 mPa a dalším připouštšním kyslíku ss tento tlak udržuje při rychlosti napařování v intervalu 0,1 až 1,0 nm.s-^ a při napařování vrstvy fluoridu hořečnatého MgPg ee kyslík nepřipouští a napařovací rychlost se pohybuje v intervalu 0,5 až 5,0 nm.s”1.The method for producing multiple antireflective layers by vapor deposition in a vacuum vapor recipient comprises depleting the recipient to a pressure of less than 4 mPa prior to each vapor deposition and oxygen is admitted to the recipient when vaporizing the titanium dioxide TiOg layer. 53.3 mPa and the next admission of oxygen maintains this pressure at a vaporization rate in the range of 0.1 to 1.0 nm . 5.0 nm.s- 1 .
244 156 (51) Int a.*244 156 (51) Int *
C 03 c 17/34OJ C 03 C 17/34
- 1 244 156- 1 244 156
Vynález se týká způsobu výroby- vícenásobných antlreflexních vrstev naparováním vrstev fluoridu horečnatého MgPg a oxidu titanlčitého TÍO2 v recipientu vakuové napařovací aparatury na optických sklech*BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a process for the production of multiple antlreflective layers by vapor deposition of magnesium fluoride MgPg and titanium dioxide TiO2 in a recipient of a vacuum steaming apparatus on optical glasses.
Pro zvýšení propustnosti a snížení parazitního světla u optických soustav se využívají antireflexní vrstvy. K tonuto účelu se nejčastěji používá vrstva fluoridu horečnatého, jejíž účinnost je však závislá na použitém podložním skle a dosahuje nižší hodnoty reflexe než 1 % pouze u některých druhů skel v úzkém spektrál ním intervalu* Z tohoto důvodu se ke snižování reflexních ztrát používají vícenásobné antireflexní vrstvy* Nejširšíhe praktického využití dosáhly syntézy připravované ze tří a více druhů napařovacích materiálů, což však velmi komplikuje technologickou přípravu vrstev*Antireflective layers are used to increase transmittance and reduce parasitic light in optical systems. For this purpose, a magnesium fluoride layer is most often used, but its efficiency is dependent on the glass used and achieves a reflection value of less than 1% only for certain types of glass within a narrow spectral range. * The widest practical use has been achieved by syntheses prepared from three or more types of steaming materials, which however complicates the technological preparation of layers *
Další možnost přípravy antlreflexních vrstev spočívá v použití pouze dvou druhů materiálů s nízkým a vysokým indexem lomu* které se periodicky střídají a mají rozdílné optické tlouštky. Teoretická stavba těchto systémů je již známá* avšak velkým problé mem těchto systémů vrstev je jejich praktická realizace* neboť se u nich vyskytují vrstvy s velmi malou optickou tloušťkou* takže roprodukovatelnost výroby je značně nízká a navíc vykazují vysokou zbytkovou absorpci* Například v současné době nejčastěji používaná materiálová báze z oxidů titanu a křemíku* připravovaných reaktivním naparováním v kyslíkové atmosféře podle čs* AO 180 401* se při aplikacích již ve čtyřnásobné antireflexní vrstvě neosvědču je z důvodů úzkého pásma antireflexe a vysoké zbytkové absorpce* Kvalita vrstvy* získaná z této materiálové báze* je závislé do značné míry na druhu podložního skla* což znemožňuje její univerzální použitelnost*A further possibility of preparing the reflective layers is to use only two types of low and high refractive index materials, which alternate periodically and have different optical thicknesses. The theoretical construction of these systems is already known * but the real problem of these layer systems is their practical implementation * because they have very low optical thickness layers * so that the reproducibility of production is very low and moreover they have a high residual absorption * used material base of titanium and silicon oxides * prepared by reactive vapor deposition in oxygen atmosphere according to MS * AO 180 401 * is not suitable for applications already in quadruple antireflection layer because of narrow antireflection zone and high residual absorption * * is largely dependent on the type of backing glass * which makes it impossible to use universally *
Je proto úkolem navrhnout takový způsob výroby vícenásobných antlreflexních systémů* které by umožnily zhotovení účinnýchIt is therefore an object of the present invention to provide a process for the production of multiple anti-reflection systems which would allow efficient production
244 158 antireflexních vrstev složených pouze ze dvou druhů materiálů a které by vykazovaly současně výrazný antlreflexní účinek na všech druzích optických skel při zachování malé absorpce*244 158 antireflective layers composed of only two types of materials and which simultaneously exhibit a significant antlreflective effect on all types of optical glasses while maintaining low absorption *
Tento úkol řeší předmět vynálezu, kterým je způsob výrobyThis object is solved by the object of the invention, which is a production method
Claims (1)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS445184A CS244156B1 (en) | 1984-06-13 | 1984-06-13 | Method for producing multiple antireflective layers |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS445184A CS244156B1 (en) | 1984-06-13 | 1984-06-13 | Method for producing multiple antireflective layers |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS244156B1 true CS244156B1 (en) | 1986-07-17 |
Family
ID=5387276
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS445184A CS244156B1 (en) | 1984-06-13 | 1984-06-13 | Method for producing multiple antireflective layers |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CS (1) | CS244156B1 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CZ304081B6 (en) * | 2012-03-30 | 2013-10-02 | Vysoká skola chemicko-technologická v Praze | Process for preparing anti-reflecting layer on the surface of products of silicate and borosilicate glass and anti-reflecting layer per se |
-
1984
- 1984-06-13 CS CS445184A patent/CS244156B1/en unknown
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CZ304081B6 (en) * | 2012-03-30 | 2013-10-02 | Vysoká skola chemicko-technologická v Praze | Process for preparing anti-reflecting layer on the surface of products of silicate and borosilicate glass and anti-reflecting layer per se |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4188452A (en) | Heat-reflecting glass pane | |
| US3410625A (en) | Multi-layer interference film with outermost layer for suppression of pass-band reflectance | |
| US6180188B1 (en) | Method for preparing a multilayer optical material with crosslinking-densifying by ultraviolet radiation | |
| JPH05254887A (en) | Transparent laminated substrate, its use and laminating method, method and device for laminating on base material, and hafnium oxynitride | |
| US3356523A (en) | Polystyrene film containing an antireflection coating | |
| RU97105847A (en) | GLASS PANEL WITH A FILM THAT IS CONDUCTIVE AND / OR HAS A LOW EMISSION CAPACITY | |
| JPH10509832A (en) | Anti-reflective coating for temperature sensitive substrates | |
| JPS5522704A (en) | Multilayer antireflecting film | |
| GB1526171A (en) | Silicon solar cell construction having two layer anti-reflection coating | |
| CN113151783A (en) | Combined reflective film and preparation method thereof | |
| JPS5860701A (en) | Reflection preventing film | |
| JPS5842003A (en) | Polarizing plate | |
| JPH06184730A (en) | Vapor producing material for producing optical coating having intermediate degree of refractive index | |
| CS244156B1 (en) | Method for producing multiple antireflective layers | |
| JP2566634B2 (en) | Multi-layer antireflection film | |
| GB1328298A (en) | Production of a highly refractive oxide layer permeable to lihgt | |
| JPS6128903A (en) | Reflector | |
| JPH03242319A (en) | Transparent film having intermediate refractive index | |
| JPH02154201A (en) | Anti-reflection film creation method | |
| US3421811A (en) | Coated optical devices | |
| JPS5926704A (en) | Multilayered film reflecting mirror | |
| JPH0553001A (en) | Multilayered antireflection film of optical parts made of synthetic resin | |
| JPS5689701A (en) | Half mirror | |
| US3421810A (en) | Coated optical devices | |
| JPS56162702A (en) | Manufacture of reflecting mirror |