CS259206B1 - Sp&sob výroby kyseliny dusičnej pre mikroelektroniku - Google Patents

Sp&sob výroby kyseliny dusičnej pre mikroelektroniku Download PDF

Info

Publication number
CS259206B1
CS259206B1 CS85781A CS78185A CS259206B1 CS 259206 B1 CS259206 B1 CS 259206B1 CS 85781 A CS85781 A CS 85781A CS 78185 A CS78185 A CS 78185A CS 259206 B1 CS259206 B1 CS 259206B1
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
ppm
nitric acid
less
sulfuric acid
acid
Prior art date
Application number
CS85781A
Other languages
Czech (cs)
English (en)
Other versions
CS78185A1 (en
Inventor
Ivan Gaspierik
Stefan Husar
Jozef Benza
Original Assignee
Ivan Gaspierik
Stefan Husar
Jozef Benza
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ivan Gaspierik, Stefan Husar, Jozef Benza filed Critical Ivan Gaspierik
Priority to CS85781A priority Critical patent/CS259206B1/sk
Publication of CS78185A1 publication Critical patent/CS78185A1/cs
Publication of CS259206B1 publication Critical patent/CS259206B1/sk

Links

Landscapes

  • Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)

Abstract

Koncentrovaná kyselina sírová sa přidává k vodnému roztoku kyseliny dusičnej, pričom je zo zmesi oddestilovávana a/alebo rektifikovaná kyselina dusičná za súčasného skrápania jej pár koncentrovanou kyselinou sírovou. Destiláciu a/alebo rektifikáciu je možné realizovat za zníženého tlaku. Koncentrovaná kyselina sírová slúži ako činidlo na vazanie kovových katiónov /predovšetkým alkalických kovov/ i ako dehydratačné činidlo. Po filtrácii sa riedi na požadovanú končen- ' tráciu vodou čistoty pre mikroelektroniku. Riešenie je možné použit v elektrotechnickom priemysle.

Description

Vynález sa týká výroby kyseliny dusičnej pre mikroelektroniku, ktorá je vhodná predovšetkým na využitie v planárnej technologii výroby integrovaných obvodoch.
Výroba kyseliny dusičnej je jedna z najrozšírenejších výrob v chemickom priemysle.
V súčasnosti sa kyselina dusičná vyrába z amoniaku termickou oxidáciou cez rozpálený katalyzátor z platiny alebo paládia s rodiom podlá rovnice
NHj + 502—5» 4 NO + 6 H2O + 870 kJ
NO sa 3alej oxiduje vzdušným kyslíkom na NO2, ktorý sa absorbuje za přítomnosti vzdušného kyslíka do vody podlá rovnice
NO2 + 2 H2O + O2 ->· 4 HNO3
Takto vzniká roztok disociovanej kyseliny dusičnej, ktorá však nesplňa požiadavky na čistotu nutnú pre použitie v planárnej technologii výrobě integrovaných obvodov.
Ďalšie čistenie kyseliny dusičnej sa vykonává viacnásobnou destiláciou a filtráciou cez filtračně zariadenie o pórovitosti 0,2 alebo 0,45 mikrometra. Uvedený spósob je velmi pracný a energeticky náročný.
Uvedené poznatky boli čerpané z nasledovných práč a materiálov: H. Remy-Anorganická chémia I-SNTL Praha 1961, J. Gažo a kol. - Všeobecná a anorganická chémia - Alfa Bratislava 1981, E. D. Stepům a kol. - Metody polučenja osobo čistých neorganičeskich veščestv. - Moskva 1969, Katalog fy Sartorius 1984, Katalog fy Millipore 1983, Katalog fy Merck-selectipur MOS 1983 a katalog fy Carlo Erba-Montedison 1963.
Hoře uvedené nedostatky odstraňuje spósob výroby kyseliny dusičnej kvality pre mikroelektroniku, podstata ktorého je v tom, že sa kyselina dusičná destiluje v zmesi s koncentrovanou kyselinou sírovou a/alebo je ňou pri rektifikácii skrápaná čo je možné vykonávat za zníženého tlaku. Koncentrovaná kyselina sírová vystupuje v procese ako dehydratačné činidlo, ale hlavně po absorbčii vody a vylúčení zmiešavacieho tepla pósobí i ako činidlo, ktoré na seba viaže kationy kovov/hlavně alkalických kovov/, ktoré sú obzvlášť nežiaduce v kyselině dusičnej pre mikroelektroniku.
Kyselina dusičná, ktorá je vo vodnom rozotku ionizovaná ako silná kyselina podlá rovnice HNOj + H2O Η+ + NO* je v zmesi s kyselinou sírovou naopak ionizovaná ako zásada. Ióny NO2 v zmesi kyseliny dusičnej a sírovej spósobujú jej silný nitridačný účinok. Uvedené poznatky vysvětluje skutočnosť, že kyselina dusičná oddestilovaná zo zmesi kyseliny dusičnej je takmer stopercentná a přitom obsah kovových kationov /obzvlášť alkalických kovov/ je pod hranicu přípustných hodnót pre kyselinu dusičnú kvality pre mikroelektroniku. Takto připravená kyselina dusičná sa používá ako koncentrovaná a/alebo sa riedi na koncentráciu požadovaná odberatelom vodou čistoty pre mikroelektroniku /s parametrami 18 megaohm.cm 1 a filtrovanej cez filtračně zariadenie s pórmi 0,2 mikrometra/.
Vynález je možné využít na výrobu kyseliny dusičnej pre mikroelektroniku, ktorá najde využitie hlavně pri výrobě integrovaných obvodov a iných mikroelektronických súčiastok v elektrotechnickom priemysle.
Příklad .1
V destilačnej baňke uzavretej sklenenej aparatúry pre jednoduchú destiláciu bola zmiešaná v pomere 1:1 50 % hmot. kyselina dusičná s 96 % hmot. kyselinou sírovou, ktorá bola přidávaná do zmesi postupné cez bočný vstup za pomoci oddelovacieho lieviku. Po premiešaní a ustálení teploty bola zo zmesi oddestilovaná kyselina dusičná, ktorá po přefiltrovaní na filtračnom zariadení o velkosti pórov 0,2 mikrometra a/alebo 0,45 mikrometra mala následovně technické
2arametre: koncentrácia HNOj-99,4 % hmot., zbytok po žíhání 3 ppm, SO^ menej ako 0,5 ppm, O*- menej ako 0,1 ppm, Pb menej ako 0,02 ppm, Cl menej ako 0,5 ppm, Fe 0,07 ppm. As menej .ko 0,01 ppm. Li menej ako 0,02 ppm. Na menej ako 0,1 ppm, K menej ako 0,1 ppm, Ca menej ako 1,1 ppm. Mg menej ako 0,1 ppm
Počet častíc v 1 litri:
velikost počet až 5 mikrometra 17 530 až 25 mikrometra 2 740 nad 25 mikrometra 380
Příklad 2
V rektifikačnej aparatúre s klobúčikovou kolonou o 10-tich poschodiach bola destilovaná 50 % hmot. kyselina dusičná. Na siedme poschodie kolony bola kontinuálně dávkovaná 96 % hmot. kyselina sírová tak, aby v závislosti na zádrži a zpátnom toku bol poměr priepustnosti kolony k dávkovanéj kyselině sírovej 1:1. Odoberaný destilát bol následné filtrovaný na filtračnom zariadení o velkosti pórov 0,2 mikrometra a mal následovně parametre: koncentrácia HNO,-99,6 %
2~ 3- J hmot., zbytok po žíhaná 2 ppm, SO^ menej ako 0,5 ppm, PO^ menej ako 0,1 ppm, Pb menej ako 0,02 ppm, Cl” menej ako 0,05 ppm, Fe 0,08 ppm, As menej ako 0,01 ppm. Li menej ako 0,02 ppm,
Na menej ako 0,1 ppm, K menej ako 0,1 ppm, Ca menej ako 0,1 ppm, Mg menej ako 0,1 ppm,a počet častíc v 1 litri:
velikost počet až 5 mikrometra 13 450 až 25 mikrometra 1 700 nad 25 mikrometra 420
Příklad 3
Postupovalo sa ako v příklade č. 1 ale s tým rozdielom, že po ustálení rovnováhy po zmiešaní kyseliny dusičnéj a sírovej bola destilačná aparatúra evakuovaná na tlak 8,5 Pa a kyselina dusičná mala následovně parametre po odestilovaná: koncentrát HNO, 99,5 % hmot.,
2- 3- J zbytok po žíhaná 1 ppm, SO^ menej ako 0,05 ppm, PO^ menej ako 0,1 ppm, Pb menej ako 0,02 ppm, Cl menej ako 0,05 ppm, Fe 0,04 ppm. As menej ako 0,01 ppm, Li menej ako 0,02 ppm, Na menej ako 0,1 ppm, K menej ako 0,1 ppm, Ca menej ako 0,1 ppm, Mg menej ako 0,1 ppm.a počet častíc v jednom litri:
velkost počet
1 až 5 mikrometra 7 240
5 až 25 mikrometra 870
nad 25 mikrometra 230
Příklad 4
Postupovalo sa podlá příkladu č. 1 s tým rozdielom, že získaná kyselina dusičná bola riedená vodou čistoty pre mikroelektroniku /měrný odpor 18 megaohn. cm 1 a filtrovaná cez filtračně zariadinie o póroch 0,2 mikrometra/ na koncentráciu cca 70 % hmot.
Takto získaná kyselina dusičná mala následovně technické parametre: koncentrácia HNO,
2- 3- 3
69,8 % hmot., zbytok po žíhaní 2 ppm, SO4 menej ako 0,5 ppm, PO^ menej ako 0,1 ppm, Pb menej ako 0,02 ppm, Cl- menej ako 0,05 ppm, Fe 0,06 ppm, As menej ako 0,01 ppm, Li menej ako 0,02 ppm, Na menej ako 0,1 ppm, K menej ako 0,1 ppm, Ca menej ako 0,1 ppm, Mg menej ako 0,1 ppm a počet častíc v jednom litri:

Claims (3)

1. Spdsob výroby kyseliny dusičnej pre mikroelektroniku vyznačujúci sa tým, že sa zmes kyseliny dusičnej a koncentrovanéj kyseliny sírovej destiluje a/alebo rektifikuje za súčasného skrápaňia koncentrovanou kyselinou sírovou, pričom kyselina sírová slúži ako činidlo viažúce kationy kovov přítomné v pdvodnej kyselině dusičnej a súčasne pĎsobí i ako dehydratačné činidlo pri jej zakoncentrovávaní a takto získana koncentrovaná kyselina dusičná sa přefiltruje na filtračnom zariadení o póroch od 0,05 do 5 /um.
2. Spdsob podlá bodu 1 vyznačujúci sa tým, že destilácia a/alebo rektifikácia sa vykonává za zníženého tlaku.
3. Spdsob podlá bodu 1 alebo 2 vyznačujúci sa tým, že získaná koncentrovaná kyselina dusičná sa riedi na požadovanú koncentráciu vodou čistoty pre mikroelektroniku.
CS85781A 1985-02-05 1985-02-05 Sp&sob výroby kyseliny dusičnej pre mikroelektroniku CS259206B1 (sk)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS85781A CS259206B1 (sk) 1985-02-05 1985-02-05 Sp&sob výroby kyseliny dusičnej pre mikroelektroniku

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS85781A CS259206B1 (sk) 1985-02-05 1985-02-05 Sp&sob výroby kyseliny dusičnej pre mikroelektroniku

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CS78185A1 CS78185A1 (en) 1988-02-15
CS259206B1 true CS259206B1 (sk) 1988-10-14

Family

ID=5340568

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS85781A CS259206B1 (sk) 1985-02-05 1985-02-05 Sp&sob výroby kyseliny dusičnej pre mikroelektroniku

Country Status (1)

Country Link
CS (1) CS259206B1 (sk)

Also Published As

Publication number Publication date
CS78185A1 (en) 1988-02-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Weiss et al. The liquid membrane process for the separation of mercury from waste water
Kobayashi et al. Removal of nitrogen oxides with aqueous solutions of inorganic and organic reagents
CS259206B1 (sk) Sp&sob výroby kyseliny dusičnej pre mikroelektroniku
Popov et al. Cupferron and Neocupferron Complexes of Rare Earth Elements
CN100393611C (zh) 冷凝硫酸蒸气生产硫酸的方法
US4001372A (en) Removing oxides of nitrogen from gaseous mixtures with alkali manganate solutions
CN103072962A (zh) 一种制备电子级硝酸的方法
CN119160861A (zh) 一种高纯硫酸的纯化工艺及其装置
WO2021245530A1 (en) Forms of sodium nitrite and impurity profile thereof
Mearns et al. Ammonium nitrate formation in low concentration mixtures of oxides of nitrogen and ammonia
CN115535970B (zh) 以废硫酸溶液制备高纯度电子级硫酸的方法
KR0138070B1 (ko) 무기 수용액의 탈규화 방법
Lefan et al. Removal of NOx from flue gas with iron filings reduction following complex absorption in ferrous chelates aqueous solutions
US3145080A (en) Purification of dilute commercial sulfuric acid
Lawrence et al. The Effect of Inhibitors in the Rate of Oxidation of Copper by Oxygen in Phosphoric Acid Solutions.
Wang et al. Synthesis of polyacrylaminothiourea chelating fiber and properties of concentration and separation of trace noble metal ions from samples
DE2601912C3 (de) Verfahren zur Aufarbeitung von oxydischen Uran/Thorium-Abfällen
TAMAKI et al. Evaluation of 4-stage filter pack method for dry deposition monitoring
CN120483188A (zh) 一种超净高纯氟化铵溶液的制备工艺
JPH054930B2 (sk)
Sears Determination of the effects of sulfur dioxide on recovery systems for CO/sub 2/. Final report, 1977-1980
DE1143793B (de) Verfahren zur Herstellung reiner, konzentrierter Schwefelsaeure
US3390952A (en) Method for extracting selenious oxide from gas mixtures
CS259353B1 (sk) Sposob výroby kyseliny sírovej kvality pre mikroelektroniku
DE50510C (de) Verfahren zur Entfernung der Schwefelsäure aus der gasförmigen Salzsäure der Sulfatöfen