CZ294042B6 - Optický lešticí prostředek - Google Patents
Optický lešticí prostředek Download PDFInfo
- Publication number
- CZ294042B6 CZ294042B6 CZ20002969A CZ20002969A CZ294042B6 CZ 294042 B6 CZ294042 B6 CZ 294042B6 CZ 20002969 A CZ20002969 A CZ 20002969A CZ 20002969 A CZ20002969 A CZ 20002969A CZ 294042 B6 CZ294042 B6 CZ 294042B6
- Authority
- CZ
- Czechia
- Prior art keywords
- cerium
- polishing
- particle size
- microns
- suspension
- Prior art date
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 42
- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims abstract description 36
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 15
- 238000009472 formulation Methods 0.000 title description 8
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 43
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 32
- GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce] GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 32
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N Alumina Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 20
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims abstract description 14
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 4
- 239000007900 aqueous suspension Substances 0.000 claims abstract 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 claims description 20
- CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N ceric oxide Chemical group O=[Ce]=O CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910000422 cerium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 18
- 239000000306 component Substances 0.000 description 17
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 4
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 229910001404 rare earth metal oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 3
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 3
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 3
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 description 1
- 230000002902 bimodal effect Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000001311 chemical methods and process Methods 0.000 description 1
- 239000012612 commercial material Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000002596 correlated effect Effects 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000010297 mechanical methods and process Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 1
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001495 poly(sodium acrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N praseodymium atom Chemical compound [Pr] PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N samarium atom Chemical compound [Sm] KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- NNMHYFLPFNGQFZ-UHFFFAOYSA-M sodium polyacrylate Chemical compound [Na+].[O-]C(=O)C=C NNMHYFLPFNGQFZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N tungsten carbide Chemical compound [W+]#[C-] UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09G—POLISHING COMPOSITIONS; SKI WAXES
- C09G1/00—Polishing compositions
- C09G1/02—Polishing compositions containing abrasives or grinding agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
- C09K3/14—Anti-slip materials; Abrasives
- C09K3/1454—Abrasive powders, suspensions and pastes for polishing
- C09K3/1463—Aqueous liquid suspensions
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S977/00—Nanotechnology
- Y10S977/70—Nanostructure
- Y10S977/773—Nanoparticle, i.e. structure having three dimensions of 100 nm or less
- Y10S977/775—Nanosized powder or flake, e.g. nanosized catalyst
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S977/00—Nanotechnology
- Y10S977/70—Nanostructure
- Y10S977/773—Nanoparticle, i.e. structure having three dimensions of 100 nm or less
- Y10S977/775—Nanosized powder or flake, e.g. nanosized catalyst
- Y10S977/776—Ceramic powder or flake
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
Abstract
Optický lešticí prostředek, který obsahuje vodnou suspenzi sestávající v podstatě z 5 až 20 % hmotn. pevných látek, kde 85 až 95 % z obsahu pevných látek představuje složka alfa aluminy s D.sub.50.n. velikostí částic menší než 0,5 mikrometrů, a odpovídajících 15 až 5 % hmotn. z obsahu pevných látek představuje ceria ve formě prášku s D.sub.50.n. velikostí částic od 0,2 do 4 mikrometrů.ŕ
Description
Optický leštící prostředek
Oblast techniky
Předložený vynález se týká prostředku pro leštění optických povrchů. Leštěné povrchy mohou být skleněné nebo z umělé hmoty.
Dosavadní stav techniky
Je velmi dobře známo, že pro výrobu uspokojivého optického povrchu je nutné, aby tento povrch neobsahovat škrábance a aby měl co možná nejnižší Ra. Toto měření Ra znamená průměrnou vzdálenost mezi nejvyšším a nejnižším bodem povrchu kolmo k rovině skleněné desky, která je leštěna. Jestliže tedy přijmeme, že povrch nebude úplně rovný v submikronovém měřítku, tato hodnota je mírou změny mezi nejvyšším a nejnižším bodem povrchu. Je jasné, že čím je tato číslice menší, tím lepší je optická jasnost a tím menší je distorze.
V úvahu je třeba vzít i další skutečnost a tou je rychlost, kterou se dosáhne žádaná úroveň optické dokonalosti. Leštění skla je chemicko-mechanický proces, který probíhá pouze ve vodném prostředí. Pro leštění sloučeniny je nutné, aby reagovala s povrchem skla a vodou a také s povrchem předmětu, kteiý je vystaven obrušování. Některé materiály, jako je ceria, jsou dostatečně reaktivní, ale nejsou velmi brousivými činidly. Jiné materiály, jako je alumia (oxid hlinitý), jsou dostatečnými brusnými činidly, ale nemají velkou reaktivitu s povrchem. Tento předmět je dobře zpracován v článku Lee Clarka nazvaném „Chemical Processes in Glass Polishing“ („Chemické procesy při leštění skla“), publikovaném v Joumal of Non-Crystalline Solids, 1990,120, 152 až 171. Při průmyslové výrobě jsou významnou výhodou při konečné úpravě spíše kratší než delší doby, zvláště jestliže není vyžadováno vzdát se kvality a nebo jestliže může být kvalita zlepšena.
Při způsobech zlepšení existují dva přístupy. Podle prvého způsobu se suspenze brousicích částic ve vodném prostředí (obvykle na bázi deionizované vody) umístí do kontaktu s povrchem, který má být leštěn, a polštářkem se pohybuje přes povrch předem stanoveným způsobem tak, aby brusné činidlo v suspenzi leštilo povrch. Podle druhého způsobu jsou brusné částice obsaženy v pryskyřičné matrici ve formě prostředku a tento prostředek se pak používá pro leštění optického povrchu. Předložený vynález se týká prvního přístupu, podle kterého se používá suspenze.
V oblasti techniky byly navrženy rozmanité prostředky ve formě suspenze. Patentu US 4 576 612 vyrábí suspenzi v regulovaných množstvích tak, že se získává polštářek s povrchovou vrstvou obsahující brusné částice v pryskyřici, která se postupně během použití rozpustí a uvolňuje tak leštící částice. Mezi částice, o nichž se uvádí, že jsou užitečné, patří oxid ceričitý („ceria“), oxid zirkoničitý („zirkonia“) a oxid železitý.
Evropská patentová přihláška EP-A-608 730 popisuje brusnou suspenzi pro leštění povrchu v optickém prvku, která obsahuje brusné činidlo vybrané z aluminy, skla diamantového prášku, karborunda, karbidu wolframu, karbidu křemíku nebo nitridu boru s velikostí částic až jeden mikrometr.
Patent US 5 693 239 popisuje vodou suspenzi pro leštění a planazirování kovových obráběných předmětů, která obsahuje submikronové částice alfa aluminy společně s dalšími měkčími formami aluminy nebo amorfním oxidem křemičitým.
Značné množství odkazů z oblasti techniky existuje také v související oblasti suspenzních prostředků pro chemické mechanické leštění polovodičových substrátů. Tyto prostředky opět obvykle používají stejná brusná činidla s různými složkami disperzního média.
-1 CZ 294042 B6
I
Úspěch při leštění skel ovšem do jisté míry závisí na tvrdosti skla. U velmi tvrdých skel může leštění zabírat velmi dlouhou dobu a zvýšit problémy s dokončovacími pracemi, jestliže existuje snaha o zřejmě účelnější použití tvrdších brusných činidel.
Prostředky ve formě suspenze z oblasti techniky jsou často velmi účinné pro dosažení žádaného výsledku. Zabírají však také dost dlouhou dobu. Byl vyvinut nový prostředek, kde spolu synergickým způsobem pracují dva oxidy, „alumina a ceria“, takže jejich vzájemná interakce poskytuje lepší výsledky než je součet účinků jednotlivých složek samotných. Tento prostředek umožňuje dosažení velmi vysoké úrovně optické dokonalosti za mnohem kratší dobu, než je 10 dosažitelné se suspenzemi z oblasti techniky bez toho, aby bylo potřeba zvýšených teplot, které se někdy používají pro to, aby se reaktivita zvýšila. Navíc tyto prostředky leští velmi účinně dokonce tvrdá skla s malým poškozením nebo bez žádného doprovodného poškození povrchu. Tyto prostředky se mohou používat v čisticích přístrojích typu s „polštářkem“ nebo „pryskyřicí“.
Podstata vynálezu
Předložený vynález poskytuje optický leštící prostředek, který obsahuje disperzní médiu, v němž jsou dispergovány brousicí částice, při čemž brousicí činidlo obsahuje částice alfa aluminy a 20 částice cerie s poměrem aluminy kcerii 95:5 až 85:15, výhodněji od 96:4 do 88:12.
Ve výhodných prostředcích existuje alumina ve formě částic, které v podstatě všechny mají podmikronovou velikost, při čemž střední velikost částic je menší než 0,5 mikrometrů a nejvýhodněji je od 0,15 do 0,25 mikrometrů. V souvislosti s touto přihláškou je tomu třeba rozumět 25 tak, že „střední velikosti částic“, které jsou zde diskutovány jako hodnoty „D5o“, jsou měřeny analyzátorem velikosti částic Horiba L-910. Tyto aluminy jsou získatelné například tak, že se použije způsob popsaný v patentu US 4 657 754.
Komerčně dostupná ceria je obvykle směsí oxidu kovů vzácných zemin s oxidem ceričitým jako 30 největší složkou. Mezi další složky může patřit neodym, samarium, praseodym a lanthan. Mohou být přítomny také další minoritnější složky jiných vzácných zemin. V praxi se zjišťuje, že čistota „cerie“ příliš neovlivňuje provedení brousicích částic v leštícím prostředku, takže vlastnost, o níž bylo v tomto vynálezu zjištěno, že je užitečná, se zdá být sdílena ve větším nebo menším rozsahu všemi oxidy kovů dalších vzácných zemin, které se vyskytují spolu s oxidem ceričitým 35 v komerčních materiálech, které jsou pod tímto názvem prodávány. Pro účely tohoto popisu budou směsi oxidů vzácných zemin, v nichž je oxid ceričitý významnou složkou, pokud jde o hmotnostní procenta tohoto produktu, označovány jako „ceria“. Mezi příklady komerčně dostupných zdrojů „cerie“ patří „50D1“ a „Superox 50“ (obě dostupné do Cercoa PenYan, N.Y.), které obsahují asi 75 %, respektive 34 % oxidu ceričitého a „Rhodox 76“ (od Rhone Poulenc), 40 který obsahuje asi 50 % oxidu ceričitého.
Tak, jak je komerčně dostupná, existuje cerie obvykle ve formě částic s dvojsložkovou distribucí velikosti částic s maximy velikostí částic kolem 0,4 a 4 mikrometrů. Větší velikost poskytuje objemnější částice. To pak dává celkovou hodnotu D50 tohoto prášku menší než 4 a obvykle od 3 45 do 3,5 mikrometrů. Bylo zjištěno, že v případě, kdy se tato distribuce mletím cerie sníží na relativně jednotnou velikost částic kolem 0,2 mikrometrů, a nejvýhodněji kolem 0,4 mikrometrů, provedení prostředku není velmi ovlivněno, pokud sklo není zvláště tvrdé a pokud není vyžadována také vysoká úroveň vizuální dokonalosti. Za těchto podmínek se často zjišťuje, že účinnější je distribuce velikosti nerozemletých částic.
Prostředí, ve kterém jsou brousicí částice dispergovány, je vodné, i když může být přítomno menší množství kapalin mísitelných s vodou, jako jsou alkoholy. Nejobvykleji se používá deionizovaná voda spolu s povrchově aktivním činidlem, které napomáhá tomu, aby se brousicí částice udržovaly dobře dispergované. Obsah pevných částic v suspenzi je typicky od 5 do 15 nebo 55 dokonce od 20 % hmotn., méně nebo více zředěné (v procentech) v pryskyřici. Obecně platí, že
-2CZ 294042 B6 suspenze s nižším obsahem pevných částic bude leštit pomaleji a u suspenze s vyšším obsahem pevných částic mohou nastat problémy s utahováním brousicích částic ze suspenze. Praktické úvahy proto diktují, aby obsah pevných částic byl od 5 do 15, výhodněji od 8 do 12 % hmotn. pevných částic v suspenzi.
Příklady provedení vynálezu
Tento vynálezu je dále popsán pomocí následujících příkladů, které jsou myšleny jako demonstrace užitečnosti vynálezu a účinků různé čistoty a různých velikostí částic ceriové složky. Tyto příklady však nejsou zamýšleny tak, že by zahrnovaly nějaká nutná omezení rozsahu vynálezu.
Příklad 1
V tomto příkladu je srovnáváno provedení brousicích směsí podle vynálezu se suspenzními prostředky, které obsahují samotné složky.
Leštící testy byly prováděny na dvojstranném zařízení AC 500 Peter Wolters s leštícími polštářky „Suba 500“, dostupnými od Rodei, lne. Vzorky leštěného skla byly vyrobeny z taveného křemičitého křemence (Coming) stím, že šlo o dost tvrdé sklo (560 až 640 Knoop).
Vzorky byly leštěny použitím suspenze každého ze tří brousicích činidel s množstvím 10% hmotn. pevných látek v suspenzi. Prvním byla 100 % alumina, druhým 100% ceria a třetím směs 90:10 stejných složek aluminy a cerie. Alumina byla získána od Saint-Gobain Industrie Ceramics, lne., a byla tvořena částicemi alfa aluminy s velikostí mezi asi 20 až 50 nanometry ve formě aglomerátů s průměrem asi 0,15 až 0,25 mikrometrů. V podstatě žádné aglomeráty nebyly větší než jeden mikrometr. Ceriovou složkou byl Rhodox 76, produkt oxidu kovů vzácných zemin obsahující asi 50 % cerie, který byl rozemlet na částice s D50 asi 0,4 mikrometry. Suspenze byly vyrobeny v deionizované vodě, ke které bylo přidáno 0,07 % hmotn. povrchově aktivního činidla (polyakrylát sodný dostupný od R. T. Vanderbilt pod obchodním označením Darvan 811).
Provedení v pojmech konečné úpravy povrchu bylo sledováno v závislosti na čase. Byl nakreslen graf získaných dat. Tento graf se objevuje jako obrázek 1 výkresů. Obrázek 2 ukazuje stejná data se expandovanou osou „konečné provedení“, která jasně ukazují získané zlepšení.
Z obrázků 1 a 2 lze vidět, že i když vzorek leštěný 100% cerií má lepší počáteční jakost povrchů (to znamená, že je před leštěním hladší) než další dva, nevyleštit se tak dobře. Jak lze vidět z obrázku 2, alumina samotná nikdy nedosáhla konečného provedení povrchu (Ra) 20 mm (200 angstromů). Na druhé straně tato úroveň konečného provedení povrchu byla dosažena cerií po asi 19 minutách a směsí podle vynálezu byla tato úroveň dosažena za méně než 10 minut. Z jiného hlediska měl materiál po asi 10 minutách leštění suspenzí cerie konečné provedení povrchu asi 90 mm (900 angstromů), materiál leštěný suspenzí aluminy měl konečné provedení povrchu trochu menší než 60 nm (600 angstromů) podle vynálezu poskytla konečnou úpravu menší než (200 angstromů) 20 nm.
Příklad 2
Tento příklad vysvětluje účinek různých velikostí částic cerie při leštění taveného oxidu křemičitého.
Prostředek podle vynálezu byl v podstatě ten, který byl použit v příkladu 1 s cerií Rhodox 76 získanou od Rhone Poulenx. Rhodox 76 byl však používán se čtyřmi různými velikostmi částic (jak bylo změřeno hodnotou D5o, která byla stanovena analyzátorem velikosti částic Horiba
-3 CZ 294042 B6
LA910) ve čtyřech různých vyhodnoceních leštění. Použité velikosti částic byly 3,17 mikrometrů, 2,14 mikrometrů, 0,992 mikrometrů a 0,435 mikrometrů. Graf uvedený jako obrázek 3 tyto výsledky shrnuje. Z grafu na obrázku 3 lze vyhodnotit, že u tohoto skla existují malé rozdíly v provedení leštění, které lze uvést do vztahu s velikostí částic cerie. podobné výsledky byly 5 získány, jestliže se jako zdroje cerie použily „Superox 50“ a „50D-1“.
Příklad 3 ίο V tomto příkladu byl zkoumán zdroj cerie a specificky to, jestli čistota produktu má nějaký vliv na účinnosti čištění. Byly vyrobeny prostředky podle vynálezu, které obsahovaly asi 10 % hmotn. složky cerie a tomu odpovídajících asi 90 % hmotn. aluminy použitých v prostředcích v příkladu
1. Tyto prostředky byly testovány leštěním taveného křemičitého skla pomocí zařízení a postupů, které jsou stejné jako zařízení a postupy v příkladu 1. Byly získány výsledky, které jsou uvedeny 15 na obrázku 4. První vzorek „S“ znamená „Superox 50“, který obsahuje asi 34 % hmotn. cerie.
Druhý vzorek „R“ byl „Rhodex 76“, který obsahuje asi 50 % hmotn. cerie. Třetím vzorkem „D“ byl „50D1“, který obsahuje asi 75 % cerie. Bylo pozorováno, že mezi těmito třemi vzorky existují malé rozdíly v provedení leštění. Zdá se, že oxidy jiných kovů vzácných zemin se pravděpodobně v prostředcích podle vynálezu chovají podobným způsobem jako cerie.
Příklad 4
Tento příklad zkoumá účinnost leštění a vliv velikosti částic cerie na sklo B270 (tvrdé sklo 530 25 Knoop). Zatímco shora uvedené příklady byly vyhodnocovány za laboratorních podmínek a testovány pouze na „konečnou úpravu povrchu“ měřenou pojmy hodnot Ra, následující hodnocení byla dělána v průmyslovém prostředí pomocí zručného operátora, který vyhodnotil konečný bod v pojmech vizuální dokonalosti. To znamená více než právě hodnota Ra, která nutné neidentifikuje „šedost“ pocházející z nedokonalostí povrchu, které zůstaly po leštící operaci.
Bylo použito dvojstranné leštící zařízení 4800 P. R. Hofman s leštícími polštářky „Suba 10“ od Rodei Corporation. Během leštění byl na kousky aplikován tlak přibližně 1,034.104 Pa (1,5 psi). Konečným bodem leštění bylo to, že byla dosažena předem stanovená úroveň dokonalosti (jasnosti) povrchu.
Byly vyrobeny tři prostředky podle vynálezu. Všechny tři obsahovaly aluminu a povrchově aktivní složky popsány v příkladu 1 ve stejných množstvích a dispergovaných spolu s ceriovou složkou ve stejných relativních poměrech v deionizované vodě. Rozdíly mezi složkami spočívaly ve velikosti části cerie. V prvním prostředku („prostředek A“) byla ceriová složka rozemleta na 40 hodnotu D50 0,4 mikrometry. Ve druhém a v třetím případě („prostředky B a B'“) byla cerie (Superox 50) použita tak, jak byla dodána přímo výrobcem. Jediným rozdílem mezi těmito dvěma prostředky byly vzorky skla, které byly leštěny. V druhém případě ,,B'“ byla velikost leštěného vzorku menší a tedy tlak, který byl stejným zařízením během leštění vykazován na vzorky byl větší. To vedlo rychleji k dosažení konečného bodu. Ve čtvrtém prostředku, 45 „prostředku C“, byla také použita cerie, a to tak, jak byla dodána výrobcem (Rhodox 76). Jak bylo drive uvedeno, získané materiály měly bimodální distribuci s větším objemem částic o maximu částic podle analyzátoru velikosti částic Horiba 910 kolem 4. Výsledky jsou uvedeny níže v tabulce 1.
-4CZ 294042 B6
Tabulka 1
| prostředek | počet vzorků | tloušťka na počátku | tloušťka na konci | doba(min) |
| A | 24 | 4,180 mm | 4,168 mm | 120 |
| B | 10 | 4,186 mm | 4,155 mm | 60 |
| B' | 20 | 4,183 mm | 4,163 mm | 40 |
| C | 10 | 4,180 mm | 4,150 mm | 50 |
Prostředek A (který používal rozemletou cenovou složku) poskytl jednotnou světlešedou barvu po 90 minutách a vyžadoval dalších 30 minut na odstranění této šedosti a získání plochosti pod jednou desetinou vlnové délky. Prostředky B a B' leštily velmi agresivně a stejnoměrně jednotně obráběný kus. Prostředek C také leštil mimořádně dobře a rychle. Produkt ze skla B270 měl vynikající plochost povrchu. Jiné leštící materiály mohly leštit spíše „místně nepravidelně“ než stejnoměrně a jednotně po celém povrchu obráběného kusu než jak tomu bylo u těchto prostředků.
Zdá se tedy, že jestliže je rozhodující jasnost, leštění prostředky, které obsahují nemletou cenovou složku, poskytuje významné výhody. Naproti tomu prostředky, které mají mleté ceriové složky, leští rychle a rychle dosahují plochosti, ale trvá to delší dobu než se dosáhne vizuální dokonalosti.
Claims (4)
- PATENTOVÉ NÁROKY1. Optický leštící prostředek, vyznačující se tím, že obsahuje vodnou suspenzi, která sestává v podstatě z 5 až 20 % hmotn. pevných látek, kde 85 až 95 % z obsahu pevných látek představuje složka alfa aluminy s D50 velikostí částic menší než 0,5 mikrometrů, a odpovídajících 15 až 5 % hmotn. z obsahu pevných látek představuje ceria ve formě prášku s D50 velikostí částic od 0,2 do 4 mikrometrů.
- 2. Optický leštící prostředek podle nároku 1, vyznačující se tím, že obsah pevných látek v suspenzi je od 8 do 12 % hmotn.
- 3. Optický leštící prostředek podle nároku 1, vyznačující se tím, že složka aluminy má D50 velikost částic od 0,15 do 0,25 mikrometrů.
- 4. Optický leštící prostředek podle nároku 1, vyznačující se tím, že složka cerie má distribuci velikosti částic vykazující dvě složky a D50 velikost částic od 3 do 4 mikrometrů.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US09/025,730 US5989301A (en) | 1998-02-18 | 1998-02-18 | Optical polishing formulation |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CZ20002969A3 CZ20002969A3 (cs) | 2001-03-14 |
| CZ294042B6 true CZ294042B6 (cs) | 2004-09-15 |
Family
ID=21827759
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CZ20002969A CZ294042B6 (cs) | 1998-02-18 | 1999-02-16 | Optický lešticí prostředek |
Country Status (28)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5989301A (cs) |
| EP (1) | EP1060221B1 (cs) |
| JP (1) | JP3605036B2 (cs) |
| KR (1) | KR100354202B1 (cs) |
| CN (1) | CN1187426C (cs) |
| AR (1) | AR014959A1 (cs) |
| AT (1) | ATE245180T1 (cs) |
| AU (1) | AU729245B2 (cs) |
| BR (1) | BR9908020B1 (cs) |
| CA (1) | CA2319107C (cs) |
| CO (1) | CO5060536A1 (cs) |
| CZ (1) | CZ294042B6 (cs) |
| DE (1) | DE69909597T2 (cs) |
| DK (1) | DK1060221T3 (cs) |
| ES (1) | ES2204107T3 (cs) |
| FI (1) | FI118180B (cs) |
| HU (1) | HUP0101154A3 (cs) |
| IL (1) | IL137804A0 (cs) |
| MY (1) | MY123257A (cs) |
| NO (1) | NO319039B1 (cs) |
| NZ (1) | NZ505901A (cs) |
| PL (1) | PL186840B1 (cs) |
| PT (1) | PT1060221E (cs) |
| RU (1) | RU2181132C1 (cs) |
| SK (1) | SK285219B6 (cs) |
| TW (1) | TWI239995B (cs) |
| WO (1) | WO1999042537A1 (cs) |
| ZA (1) | ZA991150B (cs) |
Families Citing this family (68)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6839362B2 (en) * | 2001-05-22 | 2005-01-04 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Cobalt-doped saturable absorber Q-switches and laser systems |
| US20030092271A1 (en) * | 2001-09-13 | 2003-05-15 | Nyacol Nano Technologies, Inc. | Shallow trench isolation polishing using mixed abrasive slurries |
| US6896591B2 (en) * | 2003-02-11 | 2005-05-24 | Cabot Microelectronics Corporation | Mixed-abrasive polishing composition and method for using the same |
| US7045223B2 (en) * | 2003-09-23 | 2006-05-16 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Spinel articles and methods for forming same |
| US7326477B2 (en) * | 2003-09-23 | 2008-02-05 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Spinel boules, wafers, and methods for fabricating same |
| US20050061230A1 (en) * | 2003-09-23 | 2005-03-24 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Spinel articles and methods for forming same |
| US7919815B1 (en) | 2005-02-24 | 2011-04-05 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Spinel wafers and methods of preparation |
| RU2275887C1 (ru) * | 2005-03-04 | 2006-05-10 | Уфимский научно-исследовательский институт глазных болезней | Способ полировки жестких газопроницаемых контактных линз |
| US7294044B2 (en) * | 2005-04-08 | 2007-11-13 | Ferro Corporation | Slurry composition and method for polishing organic polymer-based ophthalmic substrates |
| AU2007337145B2 (en) * | 2006-12-19 | 2011-08-11 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Submicron alpha alumina high temperature bonded abrasives |
| JP5539339B2 (ja) | 2008-06-23 | 2014-07-02 | サンーゴバン アブレイシブズ,インコーポレイティド | 高気孔率ビトリファイド超砥粒製品および製造方法 |
| CN102355983B (zh) * | 2009-01-30 | 2014-10-08 | Pcw控股有限责任公司 | 用于修复塑料罩和透镜的组合物和方法 |
| USD603884S1 (en) * | 2009-03-20 | 2009-11-10 | Michalec Ralph J | Pad for grinding or polishing ophthalmic lenses |
| JP5635112B2 (ja) | 2009-10-27 | 2014-12-03 | サンーゴバン アブレイシブズ,インコーポレイティド | ガラス質ボンド砥粒 |
| EP2493660A4 (en) | 2009-10-27 | 2015-08-26 | Saint Gobain Abrasives Inc | RESIN-BONDED GRINDING |
| US20130200039A1 (en) * | 2010-09-08 | 2013-08-08 | Basf Se | Aqueous polishing compositions containing n-substituted diazenium dioxides and/or n'-hydroxy-diazenium oxide salts |
| EP2658680B1 (en) | 2010-12-31 | 2020-12-09 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Abrasive articles comprising abrasive particles having particular shapes and methods of forming such articles |
| TWI605112B (zh) * | 2011-02-21 | 2017-11-11 | 福吉米股份有限公司 | 研磨用組成物 |
| WO2013003830A2 (en) | 2011-06-30 | 2013-01-03 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Abrasive articles including abrasive particles of silicon nitride |
| EP2726248B1 (en) | 2011-06-30 | 2019-06-19 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Liquid phase sintered silicon carbide abrasive particles |
| US9517546B2 (en) | 2011-09-26 | 2016-12-13 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Abrasive articles including abrasive particulate materials, coated abrasives using the abrasive particulate materials and methods of forming |
| KR20140075718A (ko) | 2011-09-29 | 2014-06-19 | 생-고뱅 어브레이시브즈, 인코포레이티드 | 연마 제품 및 경질 표면 마무리 방법 |
| BR112014016159A8 (pt) | 2011-12-30 | 2017-07-04 | Saint Gobain Ceramics | formação de partículas abrasivas moldadas |
| US9266220B2 (en) | 2011-12-30 | 2016-02-23 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Abrasive articles and method of forming same |
| PL2797716T3 (pl) | 2011-12-30 | 2021-07-05 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Kompozytowe ukształtowane cząstki ścierne i sposób ich formowania |
| WO2013102177A1 (en) | 2011-12-30 | 2013-07-04 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Shaped abrasive particle and method of forming same |
| WO2013106602A1 (en) | 2012-01-10 | 2013-07-18 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Abrasive particles having particular shapes and methods of forming such particles |
| US9321947B2 (en) | 2012-01-10 | 2016-04-26 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Abrasive products and methods for finishing coated surfaces |
| EP2802436B1 (en) | 2012-01-10 | 2019-09-25 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Abrasive particles having complex shapes |
| WO2013138765A1 (en) | 2012-03-16 | 2013-09-19 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Abrasive products and methods for finishing surfaces |
| WO2013149209A1 (en) | 2012-03-30 | 2013-10-03 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Abrasive products having fibrillated fibers |
| WO2013149197A1 (en) | 2012-03-30 | 2013-10-03 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Abrasive products and methods for fine polishing of ophthalmic lenses |
| EP2852473B1 (en) | 2012-05-23 | 2020-12-23 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics Inc. | Shaped abrasive particles and methods of forming same |
| EP2866977B8 (en) | 2012-06-29 | 2023-01-18 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Abrasive particles having particular shapes and methods of forming such particles |
| CN108015685B (zh) | 2012-10-15 | 2020-07-14 | 圣戈班磨料磨具有限公司 | 具有特定形状的磨粒 |
| WO2014106173A1 (en) | 2012-12-31 | 2014-07-03 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Particulate materials and methods of forming same |
| PL2978566T3 (pl) | 2013-03-29 | 2024-07-15 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Cząstki ścierne o określonych kształtach i sposoby formowania takich cząstek |
| TW201502263A (zh) | 2013-06-28 | 2015-01-16 | Saint Gobain Ceramics | 包含成形研磨粒子之研磨物品 |
| KR101889698B1 (ko) | 2013-09-30 | 2018-08-21 | 생-고뱅 세라믹스 앤드 플라스틱스, 인코포레이티드 | 형상화 연마입자 및 이의 형성 방법 |
| MX380754B (es) | 2013-12-31 | 2025-03-12 | Saint Gobain Abrasives Inc | Artículo abrasivo que incluye partículas abrasivas perfiladas. |
| US9771507B2 (en) | 2014-01-31 | 2017-09-26 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Shaped abrasive particle including dopant material and method of forming same |
| EP4306610A3 (en) | 2014-04-14 | 2024-04-03 | Saint-Gobain Ceramics and Plastics, Inc. | Abrasive article including shaped abrasive particles |
| JP6484647B2 (ja) | 2014-04-14 | 2019-03-13 | サン−ゴバン セラミックス アンド プラスティクス,インコーポレイティド | 成形研磨粒子を含む研磨物品 |
| US9902045B2 (en) | 2014-05-30 | 2018-02-27 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Method of using an abrasive article including shaped abrasive particles |
| US9914864B2 (en) | 2014-12-23 | 2018-03-13 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Shaped abrasive particles and method of forming same |
| US9707529B2 (en) | 2014-12-23 | 2017-07-18 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Composite shaped abrasive particles and method of forming same |
| US9676981B2 (en) | 2014-12-24 | 2017-06-13 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Shaped abrasive particle fractions and method of forming same |
| TWI634200B (zh) | 2015-03-31 | 2018-09-01 | 聖高拜磨料有限公司 | 固定磨料物品及其形成方法 |
| CN116967949A (zh) | 2015-03-31 | 2023-10-31 | 圣戈班磨料磨具有限公司 | 固定磨料制品和其形成方法 |
| WO2016201104A1 (en) | 2015-06-11 | 2016-12-15 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Abrasive article including shaped abrasive particles |
| WO2017197006A1 (en) | 2016-05-10 | 2017-11-16 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Abrasive particles and methods of forming same |
| KR102313436B1 (ko) | 2016-05-10 | 2021-10-19 | 생-고뱅 세라믹스 앤드 플라스틱스, 인코포레이티드 | 연마 입자들 및 그 형성 방법 |
| EP4349896A3 (en) | 2016-09-29 | 2024-06-12 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Fixed abrasive articles and methods of forming same |
| US10563105B2 (en) | 2017-01-31 | 2020-02-18 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Abrasive article including shaped abrasive particles |
| US10759024B2 (en) | 2017-01-31 | 2020-09-01 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Abrasive article including shaped abrasive particles |
| US10865148B2 (en) | 2017-06-21 | 2020-12-15 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Particulate materials and methods of forming same |
| US11865663B2 (en) * | 2018-05-10 | 2024-01-09 | George Shuai | Optical surface polishing |
| CN109439282A (zh) * | 2018-10-23 | 2019-03-08 | 蓝思科技(长沙)有限公司 | 复合纳米磨料、抛光液及其制备方法、玻璃晶片和电子设备 |
| CN109135580B (zh) * | 2018-10-25 | 2021-04-02 | 蓝思科技(长沙)有限公司 | 一种玻璃用抛光液及其制备方法 |
| CN110724460A (zh) * | 2019-11-13 | 2020-01-24 | 刘通 | 一种铈铝复合氧化物抛光粉的制备方法 |
| EP4081370A4 (en) | 2019-12-27 | 2024-04-24 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics Inc. | ABRASIVE ARTICLES AND THEIR FORMATION PROCESSES |
| CN114867582B (zh) | 2019-12-27 | 2024-10-18 | 圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司 | 磨料制品及其形成方法 |
| KR102877276B1 (ko) | 2019-12-27 | 2025-10-28 | 세인트-고바인 세라믹스 앤드 플라스틱스, 인크. | 연마 물품 및 이의 형성 방법 |
| CN113881348A (zh) * | 2021-11-04 | 2022-01-04 | 青岛福禄泰科表面材料科技有限公司 | 一种复合氧化铝抛光液及其制备方法和应用 |
| CN114213977A (zh) * | 2021-12-23 | 2022-03-22 | 中天科技精密材料有限公司 | 抛光剂及其制备方法 |
| EP4457054A4 (en) | 2021-12-30 | 2026-01-14 | Saint Gobain Abrasives Inc | ABRASIVE ARTICLES AND THEIR FORMATION PROCESSES |
| EP4457055A4 (en) | 2021-12-30 | 2025-12-24 | Saint Gobain Abrasives Inc | ABRASIVE ARTICLES AND THEIR FORMATION PROCESSES |
| CA3241421A1 (en) | 2021-12-30 | 2023-07-06 | Anthony MARTONE | Abrasive articles and methods of forming same |
Family Cites Families (25)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3429080A (en) * | 1966-05-02 | 1969-02-25 | Tizon Chem Corp | Composition for polishing crystalline silicon and germanium and process |
| GB1501570A (en) * | 1975-11-11 | 1978-02-15 | Showa Denko Kk | Abrader for mirror polishing of glass and method for mirror polishing |
| US4161394A (en) * | 1978-06-19 | 1979-07-17 | Regan Glen B | Polishing slurry of xanthan gum and a dispersing agent |
| FR2549846B1 (fr) * | 1983-07-29 | 1986-12-26 | Rhone Poulenc Spec Chim | Nouvelle composition de polissage a base de cerium et son procede de fabrication |
| US4576612A (en) * | 1984-06-01 | 1986-03-18 | Ferro Corporation | Fixed ophthalmic lens polishing pad |
| SU1420933A1 (ru) * | 1986-03-10 | 1991-06-07 | Предприятие П/Я Х-5476 | Способ получени суспензии дл полировани стекл нных пластин |
| US5312789A (en) * | 1987-05-27 | 1994-05-17 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Abrasive grits formed of ceramic, impregnation method of making the same and products made therewith |
| SU1654320A1 (ru) * | 1989-02-08 | 1991-06-07 | Всесоюзный Научно-Исследовательский Институт Химических Реактивов И Особо Чистых Химических Веществ | Полировальна суспензи дл обработки жестких контактных линз из полиметилметакрилата |
| CA2142465A1 (en) * | 1992-09-25 | 1994-04-14 | Henry A. Larmie | Method for making abrasive grain containing alumina and ceria |
| CA2111010A1 (en) * | 1993-01-29 | 1994-07-30 | Robert James Hagerty | Method of finely polishing planar optical elements |
| US5549962A (en) * | 1993-06-30 | 1996-08-27 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Precisely shaped particles and method of making the same |
| US5465314A (en) * | 1993-09-09 | 1995-11-07 | The Furukawa Electronic Co., Ltd. | Method of manufacturing optical connector |
| US5632668A (en) * | 1993-10-29 | 1997-05-27 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Method for the polishing and finishing of optical lenses |
| KR960041316A (ko) * | 1995-05-22 | 1996-12-19 | 고사이 아키오 | 연마용 입상체, 이의 제조방법 및 이의 용도 |
| US5693239A (en) * | 1995-10-10 | 1997-12-02 | Rodel, Inc. | Polishing slurries comprising two abrasive components and methods for their use |
| US5702811A (en) * | 1995-10-20 | 1997-12-30 | Ho; Kwok-Lun | High performance abrasive articles containing abrasive grains and nonabrasive composite grains |
| CN1092095C (zh) * | 1996-05-08 | 2002-10-09 | 明尼苏达矿业和制造公司 | 包括抗填充成分的磨料制品 |
| US5858813A (en) * | 1996-05-10 | 1999-01-12 | Cabot Corporation | Chemical mechanical polishing slurry for metal layers and films |
| KR19980019046A (ko) * | 1996-08-29 | 1998-06-05 | 고사이 아키오 | 연마용 조성물 및 이의 용도(Abrasive composition and use of the same) |
| JP3856513B2 (ja) * | 1996-12-26 | 2006-12-13 | 昭和電工株式会社 | ガラス研磨用研磨材組成物 |
| US5876268A (en) | 1997-01-03 | 1999-03-02 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Method and article for the production of optical quality surfaces on glass |
| US5833724A (en) * | 1997-01-07 | 1998-11-10 | Norton Company | Structured abrasives with adhered functional powders |
| US5851247A (en) * | 1997-02-24 | 1998-12-22 | Minnesota Mining & Manufacturing Company | Structured abrasive article adapted to abrade a mild steel workpiece |
| US5910471A (en) | 1997-03-07 | 1999-06-08 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Abrasive article for providing a clear surface finish on glass |
| US5876470A (en) * | 1997-08-01 | 1999-03-02 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Abrasive articles comprising a blend of abrasive particles |
-
1998
- 1998-02-18 US US09/025,730 patent/US5989301A/en not_active Expired - Lifetime
-
1999
- 1999-02-12 MY MYPI99000512A patent/MY123257A/en unknown
- 1999-02-12 ZA ZA9901150A patent/ZA991150B/xx unknown
- 1999-02-15 CO CO99008983A patent/CO5060536A1/es unknown
- 1999-02-16 IL IL13780499A patent/IL137804A0/xx not_active IP Right Cessation
- 1999-02-16 SK SK1145-2000A patent/SK285219B6/sk not_active IP Right Cessation
- 1999-02-16 CA CA002319107A patent/CA2319107C/en not_active Expired - Fee Related
- 1999-02-16 DE DE69909597T patent/DE69909597T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-02-16 AR ARP990100633A patent/AR014959A1/es unknown
- 1999-02-16 HU HU0101154A patent/HUP0101154A3/hu unknown
- 1999-02-16 CN CNB998028681A patent/CN1187426C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1999-02-16 AU AU26777/99A patent/AU729245B2/en not_active Ceased
- 1999-02-16 WO PCT/US1999/003143 patent/WO1999042537A1/en not_active Ceased
- 1999-02-16 ES ES99907002T patent/ES2204107T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1999-02-16 PT PT99907002T patent/PT1060221E/pt unknown
- 1999-02-16 AT AT99907002T patent/ATE245180T1/de active
- 1999-02-16 PL PL99342392A patent/PL186840B1/pl not_active IP Right Cessation
- 1999-02-16 RU RU2000122964/04A patent/RU2181132C1/ru not_active IP Right Cessation
- 1999-02-16 DK DK99907002T patent/DK1060221T3/da active
- 1999-02-16 KR KR1020007009035A patent/KR100354202B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1999-02-16 EP EP19990907002 patent/EP1060221B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-02-16 NZ NZ505901A patent/NZ505901A/en unknown
- 1999-02-16 BR BRPI9908020-6A patent/BR9908020B1/pt not_active IP Right Cessation
- 1999-02-16 JP JP2000532484A patent/JP3605036B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1999-02-16 CZ CZ20002969A patent/CZ294042B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1999-03-02 TW TW088102220A patent/TWI239995B/zh not_active IP Right Cessation
- 1999-07-26 US US09/361,438 patent/US6258136B1/en not_active Expired - Lifetime
-
2000
- 2000-08-15 FI FI20001800A patent/FI118180B/fi not_active IP Right Cessation
- 2000-08-17 NO NO20004122A patent/NO319039B1/no not_active IP Right Cessation
Also Published As
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CZ294042B6 (cs) | Optický lešticí prostředek | |
| KR100429940B1 (ko) | 개선된 세리아 분말 | |
| US5264010A (en) | Compositions and methods for polishing and planarizing surfaces | |
| JP5281758B2 (ja) | 研磨用組成物 | |
| KR101022982B1 (ko) | 폴리싱 슬러리 및 그 사용 방법 | |
| EP1072666A2 (en) | Colloidal polishing of fused silica | |
| EP1072665A2 (en) | Colloidal silica polishing abrasive | |
| JPH05156238A (ja) | メカノケミカル研摩用研摩剤、および材料片を研摩する方法 | |
| MXPA00008063A (en) | Optical polishing formulation | |
| Babel et al. | Surfactant based alumina slurries for copper CMP | |
| JP5554052B2 (ja) | 研磨用組成物および研磨方法 | |
| JP3599816B2 (ja) | 研磨材 | |
| JP2023141786A (ja) | 研磨スラリー及び研磨方法 | |
| Kulawski et al. | Advances in the CMP process on fixed abrasive pads for the polishing of SOI-substrates with high degree of flatness |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | Patent lapsed due to non-payment of fee |
Effective date: 20120216 |