CZ300557B6 - Zpusob vytvárení struktury z hydrofilních oblastí a hydrofobních oblastí na povrchu pro tisk tiskarské formy a tiskarská forma - Google Patents
Zpusob vytvárení struktury z hydrofilních oblastí a hydrofobních oblastí na povrchu pro tisk tiskarské formy a tiskarská forma Download PDFInfo
- Publication number
- CZ300557B6 CZ300557B6 CZ20021199A CZ20021199A CZ300557B6 CZ 300557 B6 CZ300557 B6 CZ 300557B6 CZ 20021199 A CZ20021199 A CZ 20021199A CZ 20021199 A CZ20021199 A CZ 20021199A CZ 300557 B6 CZ300557 B6 CZ 300557B6
- Authority
- CZ
- Czechia
- Prior art keywords
- printing
- printing form
- oxidizing agent
- hydrophilic
- polymeric material
- Prior art date
Links
- 238000007639 printing Methods 0.000 title claims abstract description 109
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 69
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 title claims abstract description 32
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 38
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 25
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 claims abstract description 21
- 125000005462 imide group Chemical group 0.000 claims abstract description 15
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 claims abstract description 7
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 30
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims description 20
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical group OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 11
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 8
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 7
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 claims description 7
- 239000012286 potassium permanganate Substances 0.000 claims description 6
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 150000004676 glycans Chemical class 0.000 claims description 5
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229920001282 polysaccharide Polymers 0.000 claims description 5
- 239000005017 polysaccharide Substances 0.000 claims description 5
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hcl hcl Chemical compound Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000002563 ionic surfactant Substances 0.000 claims description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 3
- 238000011835 investigation Methods 0.000 claims description 2
- 238000011068 loading method Methods 0.000 claims description 2
- 238000003854 Surface Print Methods 0.000 claims 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 abstract description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 16
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 16
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 10
- 239000002585 base Substances 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 6
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 4
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 3
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 2
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000003906 humectant Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 2
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 2
- 238000012876 topography Methods 0.000 description 2
- RFSUNEUAIZKAJO-VRPWFDPXSA-N D-Fructose Natural products OC[C@H]1OC(O)(CO)[C@@H](O)[C@@H]1O RFSUNEUAIZKAJO-VRPWFDPXSA-N 0.000 description 1
- RFSUNEUAIZKAJO-ARQDHWQXSA-N Fructose Chemical compound OC[C@H]1O[C@](O)(CO)[C@@H](O)[C@@H]1O RFSUNEUAIZKAJO-ARQDHWQXSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010407 anodic oxide Substances 0.000 description 1
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 description 1
- ISQINHMJILFLAQ-UHFFFAOYSA-N argon hydrofluoride Chemical compound F.[Ar] ISQINHMJILFLAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000003637 basic solution Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 150000001720 carbohydrates Chemical class 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 230000005281 excited state Effects 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 239000006259 organic additive Substances 0.000 description 1
- 239000011224 oxide ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910052574 oxide ceramic Inorganic materials 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 description 1
- 229920003223 poly(pyromellitimide-1,4-diphenyl ether) Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 239000000344 soap Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 238000007704 wet chemistry method Methods 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C1/00—Forme preparation
- B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
- B41C1/1041—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by modification of the lithographic properties without removal or addition of material, e.g. by the mere generation of a lithographic pattern
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
- Rotary Presses (AREA)
- Liquid Developers In Electrophotography (AREA)
Abstract
Pri zpusobu vytvárení struktury z hydrofilních oblastí (34) a hydrofobních oblastí (32) na povrchu pro tisk tiskarské formy (30) obsahujícím v prvním, v podstate nestrukturovaném stavu polymerní materiál s imidovými skupinami, se místne selektivne osvítí povrch tiskarské formy (30) lokálním ozárením elektromagnetickou energií, a po osvetlení je povrch chemicky ošetren oxidacním prostredkem. Zarízení k provádení tohoto zpusobu, zejména pro použití jako tiskarská forme (30) u ofsetového tisku má povrch pro tisk, obsahující v prvním v podstate nestrukturovaném stavu polymerní materiál s imidovými skupinami. Tiskarská forma (30) obsahuje hydrofilní oblasti (34) a hydrofobní oblasti (32), z nichž je vytvoritelná struktura místne selektivním osvícením povrchu tiskarské formy (30) lokálním ozárením elektromagnetickou energií a následujícím chemickým ošetrením povrchu oxidacním prostredkem. Tiskarské ústrojí a tiskarský stroj obsahují tuto tiskarskou formu.
Description
Způsob vytváření struktury z hydrofilních oblastí a hydrofobních oblastí na povrchu pro tisk tiskařské formy a tiskařská forma
Oblast techniky
Vynález se týká způsobu vytváření struktury z hydrofilních oblastí a hydrofobních oblastí na povrchu pro tisk tiskařské formy s povrchem pro tisk, který obsahuje v prvním, v podstatě nestrukturovaném stavu polymerní materiál s imidovými skupinami, podle kterého se struktura vytváří podle ní místně selektivním osvícením povrchu tiskařské formy (30) lokálním ozářením elektromagnetickou energií.
Vynález se také týká tiskařské formy, zejména pro použití jako tiskařská forma u ofsetového tisku, s povrchem pro tisk, který obsahuje v prvním, v podstatě nestrukturovaném stavu polymer15 ní materiál s imidovými skupinami, k provádění výše uvedeného způsobu.
Vynález se rovněž týká tiskařského ústrojí a tiskařského stroje obsahujících tuto tiskařskou formu.
Dosavadní stav techniky
Litografický tisk spočívá, zjednodušeně vyjádřeno, na využití nemísitelnosti oleje a vody na povrchu, tzv. tiskařské formě, přičemž lipofilní (hydrofobní) roztok nebo inkoust nebo barva je zadržována oblastmi tvořícími obraz a voda nebo hydrofilní roztok oblastmi netvořícími obraz tiskařského povrchu. Když je vhodným způsobem připravený tiskařský povrch pokryt hydrofilní a lipofilní látkou nebo roztokem, zejména vodou a inkoustem nebo barvou, tak si podrží oblasti netvořící obraz přednostně hydrofilní látku nebo roztok a odpuzují lipofilní látky, zatímco oblasti tvořící obraz přijímají lipofilní roztok nebo inkoust nebo barvu a odpuzují hydrofilní látky.
Následně se pak lipofilní látka vhodným způsobem přenese na povrch materiálu, na kterém se má fixovat obraz, například na papír, látku, polymery apod,
Radu let se používá hliník jako materiál na tiskařské formy. Obvykle se hliník nejprve podrobí způsobu vytváření jeho zrnitosti a následné způsobu anodizace. Anodizace slouží k tomu, aby se připravila anodická vrstva oxidu, jejíž ulpívání se zlepší zrnitostí. Zrnitostí se zesílí hydrofilní vlastnosti podkladu tiskařské desky. Při anodizaci se obvykle používá silná kyselina, jako je kyselina sírová nebo kyselina fosforečná, aby se následně dalším způsobem, jako například tepelným křemíkováním nebo tzv. elektrokřemíkováním učinil povrch hydrofilní.
K výrobě výše popsané tiskařské formy je znám velký počet materiálů citlivých na záření, které jsou vhodné k vytváření obrazů s použitím litografické tiskařské techniky, do té míry, v jaké po osvětlení a popřípadě potřebném vyvíjení a ustalování dávají k dispozici obrazovou oblast, která se dá použít k tisku. Například se k tomu dají používat fotopolymerovatelné látky.
Výše popsané uspořádání se podrobuje osvětlení, které odpovídá obrazu, tím, že se energie přivádí místně selektivně. Dá se to provést například pomocí osvětlení přes masku ultrafialovým zářením nebo také přímým zápisem laserem,
Litografické tiskařské formy výše popsaného druhu jsou obvykle ošetřeny vývojkou, kterou je zpravidla vodný alkalický nebo zásaditý roztok s organickými přísadami.
Již nějakou dobu se vyvíjejí snahy, vyrábět tiskařské formy, u kterých je možno se obejít bez vytváření obrazu mokrým chemickým vyvíjecím procesem. K tomu se mohou použít oxidové keramiky, které jsou k dispozici například ve formě vrstev na tiskařské desce.
- 1 CZ 300557 B6
V EPO 911 154 A1 se jako materiály na povrch desek navrhuje oxid titaničitý (TiO2) a oxid zirkoničitý (ZnO2), které se mohou vyskytovat v keramické formě jak čisté, tak i s jinými kovovými příměsemi v rozličných směsných poměrech. Tento povrch je v nenabuzeném stavu hydro5 fobní a může být převeden ozářením ultrafialovým světlem do hydrofilního stavu. Nyní nastane opatření obrazem tím, že se celý povrch desky osvítí ultrafialovým světlem a oblastí, které mají při tisku vést barvu, se zakryjí maskou, popřípadě fólií.
Přinejmenším u vrstev z oxidu titaničitého jako substrátu se ukazuje jako zvlášť, nevýhodné, že io se vrstvy z oxidu titaničitého sice dají přepínat pomocí ultrafialového světla, ale vykazují malou stabilitu co se týče časového průběhu přepínání. Kromě toho se u vrstev z oxidu titaničitého stále znovu ukazuje, že se dostačující přepnutí nebo postačující zdvih, tj. dostatečné přepnutí z hydrofilního do hydrofobního stavu dá docílit jen v nedostatečné síle. Dále představuje úplné vyčištění substrátu po provedeném tisku v praxi problém, který se nedá podceňovat.
Z US 4 568 632 je známo strukturování polymemích povrchů nebo polymemích fólií, které vykazují nejméně jednu imidovou skupinu v odpovídajícím monomeru, bud’ v hlavním řetězci, nebo ve vedlejším řetězci z něj vzniklého polymeru. Zveřejňuje se způsob leptání nebo snášení polyimidu bez chemických kroků úpravy. Polyimid se vystaví ultrafialovému světlu s vlnovou délkou, která je kratší než 220 nm, například z argon-fluoridového exc i měrového laseru, takže dochází k fotokatalytickému rozkladu, přičemž se vhodným prostředkem odstraňují těkavé produkty. K podpoře, zejména k urychlení procesu se reakce koná v atmosféře, která má kyslík. Strukturování se dá dosáhnout například použitím velkoplošně osvětlené masky nebo ohmatáním povrchu osvětlujícím paprskem k prostorově selektivní reakci. Toto strukturování může být dosa25 ženo bez podstatného ovlivnění polyimidu, který zůstává na povrchu. Nedá se tedy dosáhnout strukturování povrchu na hydrofobní a hydrofilní oblasti, které umožňuje zejména použití strukturovaného povrchu na tiskařský proces litografickým způsobem nebo ofsetovým způsobem.
Z dokumentu EPO 743 177 Al jsou známy biografická tiskařská forma a způsob strukturování takové litografícké tiskařské formy. Pomocí pulzujícího laserového paprsku s vlnovou délkou v ultrafialové spektrální oblasti, například ArF exc i měrového laseru se místně selektivně osvětluje film termoplastického polymeru, například povrch opatřený polyamidem. Osvětlené oblasti pak barvu odpuzují, zatímco neosvětlené oblasti barvu přijímají.
Podstata vynálezu
S ohledem na tento stav techniky spočívá úkol předmětného vynálezu v tím, navrhnout stabilní ajednoduše přepínatelný povrch pro tiskařské procesy.
Tento úkol se řeší způsobem vytváření struktury z hydrofilních oblastí a hydrofobních oblastí na povrchu pro tisk tiskařské formy, obsahujícím v prvním, v podstatě nestrukturovaném stavu polymerní materiál s imidovými skupinami, místně selektivním osvícením povrchu tiskařské formy lokálním ozářením elektromagnetickou energii, který podle vynálezu spočívá v tom, že po osvět45 lení je povrch chemicky ošetřen oxidačním prostředkem.
U způsobu je s výhodou dále časově před místně selektivním osvícením povrch velkoplošně chemicky ošetřen silnou zásadou.
U způsobu s přídavným, časově následným krokem způsobu převedení povrchu do prvního, v podstatě nestrukturovaného stavu, je dále podle vynálezu povrch s výhodou velkoplošně chemicky ošetřen silnou kyselinou.
U způsobuje elektromagnetická energie s výhodou vytvářena ultrafialovým světelným zdrojem, který vyzařuje světlo s vlnovou délkou mezi 220 a 460 nm.
-2CZ 300557 B6
U způsobu je s výhodou oxidačním prostředkem peroxid vodíku (H2O2) a/nebo kyslík (O2) a/nebo ozon (O3) a/nebo manganistan draselný (ΚΜηΟί).
U způsobu je s výhodou silnou zásadou vodný roztok hydroxidu draselného (KOH) a/nebo hydroxidu sodného (NaOH).
U způsobu je s výhodou silnou kyselinou vodný roztok kyseliny sírové (H2SO4) a/nebo kyseliny solné (HCI) a/nebo kyseliny dusičné (HNO3).
U způsobu je s výhodou vedle oxidačního činidla během časově následného chemického šetření použita kapalina s iontovými tenzidy.
U způsobu je s výhodou polymemím materiálem s imidovými skupinami polybenzendiimid (PBDI) nebo polyamidimid (PAI).
U způsobu je s výhodou časově po chemickém ošetření povrchu oxidačním prostředkem povrch uveden ve styk s póly sacharidem.
Tento úkol je rovněž řešen zařízením k provádění výše uvedeného způsobu podle vynálezu, zejména pro použití jako tiskařská forma u ofsetového tisku, s povrchem pro tisk, který obsahuje v prvním, v podstatě nestrukturovaném stavu polymemí materiál s imidovými skupinami, spočívajícím v tom, že tento povrch obsahuje hydrofilní oblasti a hydrofobní oblasti, z nichž je vytvořitelná struktura místně selektivním osvícením povrchu tiskařské formy lokálním ozářením elektromagnetickou energií a provedením časově po něm následujícího chemického ošetření povrchu oxidačním prostředkem.
U tiskařské formy povrch s výhodou obsahuje polybenzendiimid (PBDI) nebo polyamidimid PAI.
Tento úkol se rovněž řeší tiskařským ústrojím opatřeným tiskařskou formou podle vynálezu a tiskařským strojem s nejméně jedním samonakládačem, jedním tiskařským ústrojím a jedním vykládačem, obsahujícím nejméně jedno takové tiskařské ústrojí,
Podle vynálezu se vyrábí hydrofobní a hydrofilní oblasti na polyimidovém povrchu, potřebné pro litografický tiskařský způsob, tak, že se tyto povrchy popřípadě po chemické inicializaci opatřují obrazem, popřípadě strukturují tím, že se opatření obrazem provádí elektromagnetickým zářením a ukončuje se další chemickou reakcí. Po provedení tisku se může provádět vymazání obrazem opatřené struktury další chemickou reakcí.
Způsobem podle vynálezu se dává k dispozici tiskařská forma, která se dá použít k tisku konvenčním mokrým ofsetovým způsobem. Kromě toho se tiskařská forma podle vynálezu hodí také na tisk s bezpřísadovým zvlhčovadlem, jako je čistá voda, tj. například bez běžně používaného isopropanolu.
Zvláště výhodné je, že se strukturovaný polyimidový povrch dá vymazat dalším chemickým způsobem. Jinými slovy řečeno, způsob podle vynálezu dává k dispozici vratně popisovatelný a opět mazatelný povrch.
V souvislosti se způsobem podle vynálezu a tiskařskou formou podle vynálezu se pod polyímidem rozumí polymemí materiál, jehož příslušný monomer vykazuje níže uvedenou funkční skupinu imidu.
-3CZ 300557 B6
O
Přitom se může tato skupina vyskytovat v hlavním řetězci nebo v některém bočním řetězci polyimidu. V první, upřednostňované formě provedení vynálezu, se používá jako polyimid látka, která se dále zkráceně nazývá polybenzendiimid (PBDI), níže uvedeného strukturního vzorce.
Tato látka je prodávána firmou Dupont pod názvem „Kapton“.
V druhé formě provedení se jako polyimid používá látka, která se dále zkráceně nazývá polyamidimid (PAI), níže uvedeného strukturního vzorce.
Z hlediska vynálezu je fyzikální chování polyimidů v podstatě stejné. Detailně uvedené formy provedení představují jen příklady. Způsob podle vynálezu se dá použít i s jinými látkami, které vykazují imidové skupiny. Použitý polymer je v původním stavu silně hydrofobní a tím také dobře vede barvu.
Způsob podle vynálezu z výrobě struktury z hydrofilních a hydrofobních oblastí na povrchu, který v prvním, v podstatě nestrukturovaném stavu, vykazuje polymerní materiál s imidovými skupinami, je charakteristický tím, že se po místně selektivním osvitu místním ozářením elektromagnetickou energií provádí časově následné chemické ošetření povrchu oxidačním prostředkem. Elektromagnetická energie se s výhodou vytváří zdrojem ultrafialového záření, který vydává světlo s vlnovou délkou v rozmezí 200 a 440 nm, s výhodou 220 až 460 nm. Jako oxidační prostředek se může s výhodou použít peroxid vodíku (H2O2), kyslík (O2), ozon (O3) nebo manganistan draselný (KmnO4) nebo kombinace těchto oxidačních prostředků. Vedle oxidačního prostředku může být použita vedle oxidačního prostředku i v časově následném chemickém ošetření navíc kapalina s iontovými tenzidy. K místně selektivnímu osvětlení se může navíc časově před tím provést velkoplošné chemické ošetření povrchu silným hydroxidem. U silného hydroxidu se jedná s výhodou o vodný roztok hydroxidu draselného (KOH) a/nebo hydroxidu sodného (NaOH).
Pomocí přídavného, časově následného kroku způsobu je možné povrch převést do prvního, v podstatě nestrukturovaného stavu. K tomu se provede velkoplošné chemické ošetření povrchu silnou kyselinou. U silné kyseliny se jedná s výhodou o vodný roztok kyseliny sírové (H2SO4) a/nebo kyseliny solné (HCI) a/nebo kyseliny dusičné (HNO3) a/nebo jim podobných. Velkoploš-4CZ 300557 B6 né chemické ošetření povrchu se může například provést vhodným odpovídajícím čisticím činidlem na desky. Vrácením povrchu do prvního, v podstatě nestrukturovaného stavuje možné opakovat kroky způsobu. Jinými kroky je možné opětovné popsání plochy strukturami se střídající se topografií.
Tiskařská forma podle vynálezu, která se zvlášť hodí pro použití jako tiskařská forma pro ofsetový tisk, zahrnuje povrch k tištění, který má polymerní materiál s imidovými skupinami, s výhodou PBDI nebo PAI. Takový povrch je strukturovatelný způsobem podle vynálezu, zejména jednotlivými výše popsanými možnostmi. Z toho vyplývá, že se pomocí vynálezu vytvoří tiskař10 ská forma která je opakovatelně popisovatelná.
Tiskařská forma podle vynálezu se dá zvláště výhodně použít v tiskařském ústrojí nebo tiskařském stroji. Pro takové tiskařské ústrojí je charakteristické to, že je opatřeno k tisknutí pomocí tiskařské formy podle vynálezu. Tiskařský stroj, zejména ofsetový tiskařský stroj, s nejméně jed15 ním samonakládačem, tiskařským ústrojím a vykládačem vykazuje pak nejméně jedno tiskařské ústrojí, které je opatřeno k tisknutí s tiskařskou formou podle vynálezu.
Přehled obrázků na výkresech
Další výhody a výhodné formy provedení a další zdokonalení vynálezu budou popsána za pomocí následujících výkresů a dále uvedeného popisu. Přitom jednotlivé obrázky znázorňují následující:
obr. 1 schéma průběhu způsobu podle vynálezu s chemickým iniciačním stupněm, který zahrnuje ošetření zásaditou látkou, obr. 2 schéma průběhu způsobu podle vynálezu s přímým strukturováním polyimidového povrchu elektromagnetickým zářením, obr. 3 schematické znázornění strukturování tiskařské formy, jejíž povrch vykazuje polyimid, způsobem podle vynálezu, včetně chemického inicializačního kroku a obr. 4 schematické znázornění strukturování tiskařské formy, jejíž povrch vykazuje polyimid, způsobem podle vynálezu bez chemického inicializačního kroku ošetřením zásaditou látkou.
Příklady provedení vynálezu
Obr. 1 znázorňuje schéma průběhu způsobu podle vynálezu s krokem chemické iniciace, který zahrnuje ošetření zásaditou látkou. Diagram průběhu slouží k objasnění jednotlivých kroků způsobu ajejich pořadí. Polymerní materiál použitý ve způsobu podle vynálezu je látka, která je v prvním, původním stavu silně hydrofobní, tedy současně dobře vede barvu.
Polymerní materiál se podrobuje ošetření 10 zásadou. Například se na určitý časový interval v oblasti minut vystavuje vodnému roztoku silné zásady, jako například hydroxidu draselnému nebo hydroxidu sodnému. Tímto ošetřením se stane polymerní materiál hydrofílní. Pomocí velkoplošného ošetření 10 zásadou se tak stane povrch velkoplošně hydrofílní. V tomto stavu se provádí vlastní strukturalizace: Stanovují se oblasti, které vedou barvu a oblasti které nevedou barvu, tedy oblasti které patří k obrazu a oblasti které nepatří k obrazu. Provádí se místní osvětlení 12 elektromagnetickým zářením, s výhodou v ultrafialové oblasti. Jako další krok následuje oxidace 14. Oxidační prostředek, například peroxid vodíku, manganistan draselný nebo podobné látky, zapíná nebo vyvíjí vlastnost povrchu, který byl vystaven elektromagnetickému záření. Jinými slovy, oblasti, které byly před osvětlením 12 a následné oxidaci 14 hydrofílní, budou nyní hydrofobní. Popřípadě následuje po oxidačním procesu ošetření povrchu polysacharidem nebo
-5CZ 300557 B6 směsí polysacharidů, s výhodou D-arbinózou a/nebo D-fruktózou. Tento přídavný případný krok zlepšuje stabilizaci hydrofobních, respektive hydrofilních oblastí. Takto strukturovaný povrch je nyní připraven k tisknutí. Po tisknutí 16 se může ošetřením 18 kyselinou strukturování povrchu vymazat. K tomu se povrch velkoplošně vystavuje silné kyselině, například vodnému roztoku kyseliny sírové, kyseliny solné, kyseliny dusičné a podobným kyselinám nebo čisticímu prostředku na desky. Pomocí tohoto kroku způsobu se stává povrch znovu hydrofobní. Je možné provádět opakování 110 uvedeného sledu kroků způsobu. V obnoveném místním osvětlení 12 se může na povrchu vytvářet struktura s jinou, obecně odchylnou topografií.
io Obr, 2 je schéma průběhu způsobu podle vynálezu s přímým strukturováním polyimidového povrchu elektromagnetickým zářením. Toto schéma průběhu slouží k vysvětlení jednotlivých kroků způsobu ajejich pořadí. V této formě provedení způsobu podle vynálezu se použitý polymemí materiál, který se vyskytuje v prvním, původně hydrofobním stavu, vystavuje místnímu osvětlení 20. Časově následně uspořádanou oxidací 22 se dosahuje strukturování: Místně omeze15 né osvětlené oblasti jsou nyní hydrofilní. Tímto strukturovaný povrch se může použít k tisknutí 24. Ošetřením 26 kyselinou je možné vymazat strukturu hydrofilních a hydrofobních oblastí. Povrch se převádí ošetřením 26 kyselinou do prvního, hydrofobního stavu. Je tedy opět možné provádět opakování 28 kroků způsobu podle vynálezu.
Obr. 3 představuje schématicky strukturování tiskařské formy, jejíž povrch vykazuje polyimid, způsobem podle vynálezu, včetně chemického inicializačního kroku. Na obr. 3 je znázorněno pět stavů tiskařské formy 30 v časovém sledu vyznačeném šipkami. Nejprve vykazuje tiskařská forma 30 povrch, který představuje velkoplošnou hydrofobní oblast 32. Chemickým inicializačním krokem ošetření povrchu silnou zásadou se povrch velkoplošně mění na hydrofilní oblast 34.
Selektivním osvětlením se na velkoplošně hydrofilní ploše 34 vytvářejí místně ohraničeně inicializované oblasti 36 prvního druhu. Pomocí následně zařazené oxidace vznikají hydrofobní oblasti 32 vedle hydrofilních oblastí 34. Tím se dosahuje strukturování povrchu tiskařské formy 30. Tato struktura se může vymazávat tím, že se tiskařská forma 30 velkoplošně podrobuje ošetření kyselinou. Po tomto kroku se vyskytuje tiskařská forma 30 opět s velkoplošně hydrofobní oblastí 32.
Příkladná forma provedení způsobu podle vynálezu tedy vypadá následovně:
Polymerní materiál, s výhodou PBDI nebo PAI, se umísťuje v tloušťce mezi ještě manipulovatelnou fólii kolem 25 mikrometrů až do tloušťky vrstvy několika milimetrů na vhodném nosiči, například na hliníkové desce. Povrch naneseného polyměmího materiálu se následně podrobuje úpravě zásadou, přičemž se s výhodou používá hydroxid sodný (NaOH) a/nebo hydroxid draselný (KOH). Co se týče koncentrace se například u hydroxidu sodného používají 0,5 až 1-molární roztoky, přičemž zbývá podotknout, že příliš vysoké koncentrace (zhruba od 5-molámího roztoku) mohou polymerní materiál zničit. Polymerní materiál, který je ve svém prvním stavu původ40 ně zcela hydrofobní, se ošetřením zásadou, jehož trvání je v oblasti několika minut, s výhodou jedna minuta, v podstatě stává zcela hydrofilní. Následuje opatřování obrazem, buď přes masku, nebo místně selektivním osvitem světelným paprskem, který se místně směruje na tiskový povrch. Jako zdroj světla se s výhodou používá ultrafialový laser. Místně selektivní osvětlení je třeba považovat za inicializační reakci, na kterou se napojuje chemické ošetření povrchu. Osvět45 lený povrch se následně vystavuje oxidačnímu prostředku, například peroxidu vodíku (N2O2), kyslíku (O2) nebo ozonu (O3). Dále se může používat také manganistan draselný (KMnOzi) v kapalné fázi. Upřednostňovaná koncentrace peroxidu vodíku spočívá v 15% roztoku peroxidu vodíku ve vodě. U manganistanu draselného se s výhodou používá 0,02-molámí roztok ve vodě. Ošetřením oxidačním prostředkem se stávají předtím místně ozářené oblasti hydrofobní, zatímco zbývající oblasti zůstávají hydrofilní. Je výhodné pro zlepšenou stabilizaci hydrofobních, popřípadě hydrofilních oblastí, povrch navíc podrobovat ošetření, kterým je tzv. gumování polysacharidem.
Takto vyrobená polymerní tiskařská forma se používá k tisknutí. Po tisknutí může být tiskařská forma současně vymazávána a čištěna, přičemž se o sobě mohou použít všechny obvyklé, známé
-6CZ 300557 B6 mechanické možnosti čištění: Povrch se vystavuje silné kyselině, například kyselině sírové (H2SO4), kyselině solné nebo kyselině dusičné (HNO3). Kyseliny mají přitom být všechny s výhodou v koncentraci l-molámího roztoku.
Popřípadě se může používat na podporu mechanického čisticího procesu také chemický čisticí prostředek, zejména komerční čisticí prostředek na desky. Následně se může celý způsob opatřování obrazem opakovat pro nový proces tisknutí.
Na obr. 4 je schématicky znázorněno strukturování tiskařské formy, jejíž povrch má polyimid, io pomocí způsobu podle vynálezu bez chemického inicializačního kroku ošetřením zásaditou látkou.
Obr. 4 ukazuje čtyři stavy tiskařské formy 30, jejichž časový sled je naznačen šipkami. Nejprve je k dispozici tiskařská forma 30 s velkoplošně hydrofobní oblastí 32. Pomocí místního osvětlení, zejména zdrojem ultrafialového záření, se vytvářejí na povrchu tiskařské formy 30 inicializované oblasti druhého druhu 38, Oxidací se z toho stanou hydrofilní oblasti 34. Povrch tím vykazuje strukturu z hydrofobních oblastí 32 a hydrofilních oblastí 34, takže se mohou používat k tisknutí. Po velkoplošném ošetření povrchu tiskařské formy 30 nějakou silnou kyselinou se dosahuje toho, že se stane tiskařská forma velkoplošně opět hydrofobní.
Jinými slovy vyjádřeno: Bez ošetření K) zásadou, jak je to uvedeno ve vývojovém schématu podle obr. 1, vede způsob místního selektivního osvitu místním ozářením elektromagnetickou energií, popsaný pomocí obr. 4, k obrácenému hydrofilnímu, respektive hydrofobnímu výsledku, když je tisková forma časově následně vystavována chemickému ošetření oxidačním prostřed25 kem.
Dále je třeba poznamenat, že se jako zvlhčovadlo pro ofsetový tisk s tiskařskou formou podle vynálezu dá zvláště výhodně používat mýdlová voda. Tenzidy ve vodě nechají při potisku silněji vyniknout oblasti opatřené obrazem.
Claims (14)
- PATENTOVÉ NÁROKY1. Způsob vytváření struktury z hydrofilních oblastí (34) a hydrofobních oblastí (32) na povrchu pro tisk tiskařské formy (30), obsahujícím v prvním, v podstatě nestrukturovaném stavu polymemí materiál s imidovými skupinami, místně selektivním osvícením povrchu tiskařské40 formy (30) lokálním ozářením elektromagnetickou energii, vyznačující se tím, že následně po osvětlení je povrch chemicky ošetřen oxidačním prostředkem.
- 2. Způsob podle nároku 1, vyznačující se tím, že časově před místně selektivním osvícením je povrch velkoplošně chemicky ošetřen silnou zásadou.
- 3. Způsob podle nároku 1 nebo 2 s přídavným, časově následným krokem způsobu převedení povrchu do prvního, v podstatě nestrukturovaného stavu, vyznačující se tím, že povrch je velkoplošně chemicky ošetřen silnou kyselinou.50
- 4. Způsob podle některého z předchozích nároků, vyznačující se tím, že elektromagnetická energie je vytvářena ultrafialovým světelným zdrojem, který vyzařuje světlo s vlnovou délkou mezi 220 a 460 nm.-7CZ 300557 B6
- 5. Způsob podle některého z předchozích nároků, vyznačující se tím, že oxidačním prostředkem je peroxid vodíku (H2O2) a/nebo kyslík (O2) a/nebo ozon (O3) a/nebo manganistan draselný (KMnO4).5
- 6, Způsob podle některého z nároků 2 až 5, vyznačující se tím, že silnou zásadou je vodný roztok hydroxidu draselného (K.OH) a/nebo hydroxidu sodného (NaOH).
- 7. Způsob podle některého z nároků 3až 6, vyznačující se tím, že silnou kyselinou je vodný roztok kyseliny sírové (H2SO4) a/nebo kyseliny solné (HCl) a/nebo kyseliny dusičné10 (HNO3).
- 8. Způsob podle některého z předchozích nároků, vyznačující se tím, že vedle oxidačního činidla je během časově následného chemického šetření použita kapalina s iontovými tenzidy.
- 9. Způsob podle některého z předchozích nároků, vyznačující se tím, že polymerním materiálem s imidovými skupinami je polybenzendiimid (PBDI) vzorce
- 10. Způsob podle některého z předchozích nároků, vyznačující se tím, že časově po chemickém ošetření povrchu oxidačním prostředkem je povrch uveden ve styk s polysacharidem.
- 11. Zařízení k provádění způsobu podle nároků 1 až 10, zejména pro použití jako tiskařská for25 ma (30) u ofsetového tisku, s povrchem pro tisk, obsahujícím v prvním, v podstatě nestrukturovaném stavu polymerní materiál s imidovými skupinami, vyznačující se tím, že obsahuje hydrofilní oblasti (34) a hydrofobní oblasti (32), z nichž je vytvořitelná struktura místně selektivním osvícením povrchu tiskařské formy (30) lokálním ozářením elektromagnetickou energii a následným chemickým ošetřením povrchu oxidačním prostředkem.
- 12. Tiskařská forma (30) s povrchem podle nároku 11, vyznačující se tím, že povrch obsahuje polybenzendiimid (PBDI) vzorce uvedeného v nároku 9 nebo polyamidímid (PAI) vzorce uvedeného v nároku 9.35
- 13. Tiskařské ústrojí, vyznačující se tím, že pro tisk je opatřeno tiskařskou formou podle nároku 11 nebo 12.
- 14. Tiskařský stroj s nejméně jedním samonakladačem, jedním tiskařským ústrojím a jedním vykladačem, vyznačující se tím, že obsahuje nejméně jedno tiskařské ústrojí podle40 nároku 13.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE10121561A DE10121561A1 (de) | 2001-05-03 | 2001-05-03 | Bebilderung und Löschung einer Druckform aus Polymermaterial mit Imid-Gruppen |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CZ20021199A3 CZ20021199A3 (cs) | 2003-01-15 |
| CZ300557B6 true CZ300557B6 (cs) | 2009-06-17 |
Family
ID=7683521
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CZ20021199A CZ300557B6 (cs) | 2001-05-03 | 2002-04-05 | Zpusob vytvárení struktury z hydrofilních oblastí a hydrofobních oblastí na povrchu pro tisk tiskarské formy a tiskarská forma |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6919165B2 (cs) |
| EP (1) | EP1254768B1 (cs) |
| JP (1) | JP4657563B2 (cs) |
| CN (1) | CN1264676C (cs) |
| AT (1) | ATE288830T1 (cs) |
| CZ (1) | CZ300557B6 (cs) |
| DE (2) | DE10121561A1 (cs) |
| DK (1) | DK1254768T3 (cs) |
| HK (1) | HK1053087B (cs) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10206938A1 (de) * | 2002-02-19 | 2003-09-04 | Oce Printing Systems Gmbh | Verfahren und Einrichtung zum Drucken, wobei eine hydrophile Schicht erzeugt und diese strukturiert wird |
| US6566039B1 (en) * | 2002-06-04 | 2003-05-20 | Gary Ganghui Teng | Variable data lithographic printing device and method |
| US6789478B1 (en) * | 2003-02-28 | 2004-09-14 | Heidelberger Druckmaschinen Ag | Device and method for controlling fluid delivery |
| US7879535B2 (en) * | 2004-03-26 | 2011-02-01 | Fujifilm Corporation | Pattern forming method, graft pattern material, conductive pattern forming method and conductive pattern material |
| DE102005046863A1 (de) * | 2005-09-30 | 2007-06-14 | Man Roland Druckmaschinen Ag | Druckform |
| US7709185B2 (en) | 2006-03-24 | 2010-05-04 | Heidelberger Druckmaschinen Ag | Method for imaging a lithographic printing form |
| US20100251914A1 (en) * | 2009-04-01 | 2010-10-07 | Xerox Corporation | Imaging member |
| CN112571697A (zh) * | 2020-10-12 | 2021-03-30 | 安徽美阅文化发展股份有限公司 | 一种纸张印刷品深压纹凹凸版的生产工艺 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DD103977A1 (cs) * | 1973-04-11 | 1974-02-12 | ||
| US4634659A (en) * | 1984-12-19 | 1987-01-06 | Lehigh University | Processing-free planographic printing plate |
| JPH04193956A (ja) * | 1990-11-28 | 1992-07-14 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | ポリイミド樹脂のエッチング法 |
| EP0743177A1 (en) * | 1995-05-16 | 1996-11-20 | Nippon Paint Co., Ltd. | Lithographic printing plate for laser direct plate making requiring no liquid developing treatment process and printing method using the same |
| EP0872339A1 (en) * | 1997-04-18 | 1998-10-21 | Eastman Kodak Company | Zirconia alloy cylinders and sleeves for lithographic imaging and printing methods |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE103977C (cs) | ||||
| US4568632A (en) * | 1982-10-07 | 1986-02-04 | International Business Machines Corporation | Patterning of polyimide films with far ultraviolet light |
| US4693958A (en) * | 1985-01-28 | 1987-09-15 | Lehigh University | Lithographic plates and production process therefor |
| US4999251A (en) * | 1989-04-03 | 1991-03-12 | General Electric Company | Method for treating polyetherimide substrates and articles obtained therefrom |
| US5051312A (en) * | 1990-03-29 | 1991-09-24 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Modification of polymer surfaces |
| JPH04356387A (ja) * | 1991-05-30 | 1992-12-10 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | 付着フラグメントの除去方法 |
| US5288519A (en) * | 1992-04-27 | 1994-02-22 | General Electric Company | Method of producing modified polyimide layer having improved adhesion to metal layer thereon |
| JP3405473B2 (ja) * | 1994-03-31 | 2003-05-12 | 日立化成工業株式会社 | 耐熱性樹脂のレ−ザ加工法 |
| DE69805385T2 (de) | 1997-10-24 | 2002-09-12 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Vorrichtung zur Herstellung einer Druckplatte und Drucker und Drucksystem die diese Vorrichtung verwenden |
| DE19826377A1 (de) | 1998-06-12 | 1999-12-16 | Heidelberger Druckmasch Ag | Druckmaschine und Druckverfahren |
| US6162578A (en) * | 1998-12-18 | 2000-12-19 | Eastman Kodak Company | Imaging member containing heat sensitive hyperbranched polymer and methods of use |
| US6410202B1 (en) * | 1999-08-31 | 2002-06-25 | Eastman Kodak Company | Thermal switchable composition and imaging member containing cationic IR dye and methods of imaging and printing |
-
2001
- 2001-05-03 DE DE10121561A patent/DE10121561A1/de not_active Withdrawn
-
2002
- 2002-04-05 EP EP02007336A patent/EP1254768B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2002-04-05 AT AT02007336T patent/ATE288830T1/de not_active IP Right Cessation
- 2002-04-05 DE DE50202196T patent/DE50202196D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2002-04-05 CZ CZ20021199A patent/CZ300557B6/cs not_active IP Right Cessation
- 2002-04-05 DK DK02007336T patent/DK1254768T3/da active
- 2002-04-15 US US10/122,817 patent/US6919165B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2002-04-27 CN CNB02118495XA patent/CN1264676C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2002-04-30 JP JP2002127910A patent/JP4657563B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2003
- 2003-07-02 HK HK03104674.2A patent/HK1053087B/zh not_active IP Right Cessation
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DD103977A1 (cs) * | 1973-04-11 | 1974-02-12 | ||
| US4634659A (en) * | 1984-12-19 | 1987-01-06 | Lehigh University | Processing-free planographic printing plate |
| JPH04193956A (ja) * | 1990-11-28 | 1992-07-14 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | ポリイミド樹脂のエッチング法 |
| EP0743177A1 (en) * | 1995-05-16 | 1996-11-20 | Nippon Paint Co., Ltd. | Lithographic printing plate for laser direct plate making requiring no liquid developing treatment process and printing method using the same |
| EP0872339A1 (en) * | 1997-04-18 | 1998-10-21 | Eastman Kodak Company | Zirconia alloy cylinders and sleeves for lithographic imaging and printing methods |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE10121561A1 (de) | 2002-11-07 |
| JP4657563B2 (ja) | 2011-03-23 |
| EP1254768B1 (de) | 2005-02-09 |
| EP1254768A3 (de) | 2003-09-03 |
| HK1053087B (zh) | 2007-01-12 |
| US20020177053A1 (en) | 2002-11-28 |
| JP2003011316A (ja) | 2003-01-15 |
| HK1053087A1 (en) | 2003-10-10 |
| US6919165B2 (en) | 2005-07-19 |
| CN1387998A (zh) | 2003-01-01 |
| DE50202196D1 (de) | 2005-03-17 |
| EP1254768A2 (de) | 2002-11-06 |
| CZ20021199A3 (cs) | 2003-01-15 |
| ATE288830T1 (de) | 2005-02-15 |
| DK1254768T3 (da) | 2005-04-11 |
| CN1264676C (zh) | 2006-07-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Nishimoto et al. | TiO2-based superhydrophobic–superhydrophilic patterns: fabrication via an ink-jet technique and application in offset printing | |
| JP4679806B2 (ja) | 再使用可能な印刷版 | |
| KR100572950B1 (ko) | 레지스트 패턴 형성 방법 및 반도체 장치의 제조 방법 | |
| US8546067B2 (en) | Material assisted laser ablation | |
| US20050009374A1 (en) | Direct patterning of silicon by photoelectrochemical etching | |
| CZ300557B6 (cs) | Zpusob vytvárení struktury z hydrofilních oblastí a hydrofobních oblastí na povrchu pro tisk tiskarské formy a tiskarská forma | |
| EP0084444B1 (en) | Products and processes for use in planographic printing | |
| US6851366B2 (en) | Reusable printing form | |
| JP2018521886A (ja) | 印刷に関する改良 | |
| Yamazaki et al. | Ultrafast Solid‐State Electrochemical Imprinting Utilizing Polymer Electrolyte Membrane Stamps for Static/Dynamic Structural Coloration and Letter Encryption | |
| KR20240089598A (ko) | 감광성 네거티브 작용성 평판 인쇄판용 이미징이 가능한 조성물 및 그 제판 방법 | |
| CZ2001867A3 (cs) | Tiskařská forma a způsob změny jejích smáčecích vlastností | |
| US7704674B1 (en) | Method for patterning a photo-resist in an immersion lithography process | |
| JP5598829B2 (ja) | オゾン水を用いたパターニング方法 | |
| JP2003011316A5 (cs) | ||
| JP2003236390A (ja) | 光触媒リソグラフィー法 | |
| JP4257431B2 (ja) | 多孔質半導体膜の形成方法 | |
| US20030145749A1 (en) | Method for making a lithographic printing plate | |
| JP3999459B2 (ja) | 光触媒膜の清浄化方法及び清浄化装置 | |
| EP1321309A2 (en) | Method for making a lithographic printing plate | |
| Kim | Micropatterning of self-assembled monolayers using vacuum ultraviolet light | |
| JP3356500B2 (ja) | 印刷用原板の製造方法及びその原板を用いた印刷方法 | |
| JP2001225568A (ja) | 感熱性印刷版前駆体 | |
| JPH11174665A (ja) | オフセット印刷方法 | |
| JP2004262189A (ja) | 平版印刷版の製版方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | Patent lapsed due to non-payment of fee |
Effective date: 20120405 |